JP2020186145A - シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 - Google Patents

シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】シリコン単結晶の引き上げ工程中にルツボの外面全体を確実に結晶化させるだけでなく結晶層の発泡剥離を防止し、これによりルツボの強度を高める。【解決手段】石英ガラスルツボ1は、気泡を含まないシリカガラスからなる透明層11と、透明層11の外側に設けられ多数の気泡を含むシリカガラスからなる気泡層12と、気泡層12の外側に設けられ原料シリカ粉が半溶融状態で焼結した外面半溶融層13とを含む。気泡層12は、アルミニウムが添加されていないシリカガラスからなる内側気泡層12aと、内側気泡層12aの外側に設けられアルミニウムが添加されたシリカガラスからなるAl添加外側気泡層12bとを含み、Al添加外側気泡層12bに接する外面半溶融層13の少なくとも一部はアルミニウムが添加されたAl添加半溶融層13aである。Al添加半溶融層13aに含まれるアルミニウムの平均濃度が30ppm以上95ppm以下である。【選択図】図1

Description

本発明は、チョクラルスキー法(CZ法)によるシリコン単結晶の引き上げに用いられる石英ガラスルツボ及びその製造方法に関する。
CZ法によるシリコン単結晶の引き上げには石英ガラスルツボが用いられる。CZ法では、石英ガラスルツボ内で多結晶シリコン原料を加熱してシリコン融液を生成し、シリコン融液に種結晶を浸漬し、ルツボを回転させながら種結晶を徐々に引き上げることにより、種結晶の下端に大きな単結晶を成長させる。CZ法によれば、大口径の単結晶を育成することができ、シリコン単結晶の生産性を向上させることが可能である。
石英ガラスルツボに関し、例えば特許文献1には、ルツボの外層がAl添加石英層、中間層が天然又は合成石英層、内層が透明石英層からなる3層構造の石英ガラスルツボが記載されている。また特許文献2には、少なくともコーナー部の内層が透明合成層、中間層が透明又は不透明の天然層又は天然合成混合層、外層が不透明天然層からなり、ルツボの下部から上部に向かって内層の厚さが薄くなるルツボ構造が記載されている。
また特許文献3には、外面層の表面に半溶融石英層を有し、該半溶融石英層の中心線平均粗さ(Ra)が50〜200μmであり、半溶融石英層の好ましい層厚が0.5〜2.0mmである石英ガラスルツボが記載されている。さらに特許文献4には、未溶融ないし半溶融のシリカ粉が偏在する最外層を有する石英ガラスルツボを製造し、その外表面に固体シリカ粉を吹付け圧0.1〜5MPaで吹き付けたのち、高圧水を吹付け圧24〜40MPaで吹き付け、次いでフッ酸水溶液処理を施こすことにより、ルツボの最外層から離脱するシリカ粉を研削なしで最適に制御する方法が記載されている。
特開2000−247778号公報 国際公開2004/106247パンフレット 特開2009−84114号公報 特開2010−202515号公報
ルツボ外層にAl添加層が設けられた従来の石英ガラスルツボによれば、ルツボの外面を結晶化させてルツボの強度を向上させることが可能である。しかしながら、アルミニウム濃度が高いと結晶層が発泡剥離してルツボの強度が低下するという問題があり、またアルミニウム濃度が低いと結晶化に時間がかかり、十分な強度が得られなという問題がある。
したがって、本発明の目的は、ルツボの外面を早期に結晶化させてルツボの強度を高めることができ、結晶層の発泡剥離を抑制することが可能な石英ガラスルツボ及びその製造方法を提供することにある。
上記課題を解決するため、本発明によるシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボは、気泡を含まないシリカガラスからなる透明層と、前記透明層の外側に設けられ、多数の気泡を含むシリカガラスからなる気泡層と、前記気泡層の外側に設けられ、原料シリカ粉が半溶融状態で焼結した外面半溶融層とを備え、前記気泡層は、アルミニウムが添加されていないシリカガラスからなる内側気泡層と、前記内側気泡層の外側に設けられ、アルミニウムが添加されたシリカガラスからなるAl添加外側気泡層とを含み、前記Al添加外側気泡層に接する前記外面半溶融層の少なくとも一部は、アルミニウムが添加されたAl添加半溶融層であり、前記Al添加半溶融層に含まれるアルミニウムの平均濃度が30ppm以上95ppm以下であることを特徴とする。
本発明によれば、シリコン単結晶の引き上げ工程中にルツボの外面全体を確実に結晶化させてルツボの強度を高めることができる。特に、アルミニウムが添加された外面半溶融層が存在することによってルツボ外面の初期の結晶化を速くすることができるので、ルツボが軟化してカーボンサセプタに馴染む前にルツボの強度を確保して自立させることができる。これにより、ルツボとカーボンサセプタとの間に僅かな隙間を形成することができ、ルツボの結晶化に伴って発生する石英ガラス中のガスをこの隙間から排出することができ、ルツボ外面の結晶層の発泡剥離によるルツボの強度の低下やパーティクルの発生を防止することができる。
本発明において、前記Al添加半溶融層の厚さは5μm以上500μm以下であることが好ましい。Al添加半溶融層の厚さが5μmよりも小さい場合、結晶核としての効果が弱いので、初期の結晶化が遅く、ルツボが自立できない。そのため、結晶層の発泡・剥離につながる。一方、Al添加半溶融層の厚さが500μmより大きい場合、過剰に厚いAl添加半溶融層とガラス層の熱膨張率差を起因とした外面剥離がシリコン単結晶の引き上げ工程中に発生し、ルツボが変形することにより、結晶引き上げ工程を継続できないおそれがある。しかし、Al添加半溶融層の厚さが5μm以上500μm以下であれば、ルツボの外面を早期に結晶化させることができ、結晶化したルツボの外面の発泡剥離を防止することができる。
本発明による石英ガラスルツボは、円筒状の側壁部と、湾曲した底部と、前記側壁部と前記底部との間に位置し、前記底部よりも大きな曲率を有するコーナー部とを有し、前記Al添加外側気泡層及び前記Al添加半溶融層は、少なくとも前記側壁部に設けられていることが好ましい。このように、Al添加外側気泡層及びAl添加半溶融層が少なくともルツボの側壁部に設けられている場合には、ルツボの側壁部の強度を高めて自立させることができ、ルツボの内倒れ等の側壁部の変形を抑制することができる。
前記側壁部における前記気泡層は、前記内側気泡層及び前記Al添加外側気泡層の二層構造であり、前記底部における前記気泡層は、前記内側気泡層の単層構造であることが好ましい。この場合において、前記Al添加外側気泡層の下端部はテーパー形状を有し、前記下端部の厚さの減少率は0.5mm/mm以下であることが好ましく、0.2mm/mmであることがさらに好ましい。Al添加外側気泡層の下端部の厚さの減少率が緩やかであれば、Al添加層とAl無添加層との境界部に応力が集中してクラックが発生することを防止することができる。
前記側壁部における前記Al添加外側気泡層の気泡含有率は、前記内側気泡層の気泡含有率よりも高いことが好ましい。これによれば、ルツボの強度と共に断熱性を高めることができ、ルツボの内面の高温化を抑制することができる。
本発明において、前記Al添加半溶融層の表層部のアルミニウムの濃度は100ppm以上であり、前記表層部よりも深い前記Al添加半溶融層の深層部のアルミニウム濃度は、前記表層部のアルミニウム濃度よりも低いことが好ましい。Al添加半溶融層の表層部のアルミニウムの濃度が深層部よりも高い場合には、Al添加半溶融層による結晶化促進効果を高めることができる。Al添加半溶融層は、Alが添加された原料シリカ粉を半溶融状態で冷却することによって形成されるため、原形を維持している表面に近いほどAl濃度が高くなる。一方、Al添加半溶融層の表面に付着する余分な原料シリカ粉は高圧水で洗浄して除去され、この時の洗浄の程度によってAl添加半溶融層の表面のアルミニウム濃度は変化する。なお、Al添加半溶融層中のアルミニウム濃度分布は微視的には不均一であり、特に、Al添加半溶融層中の1mmの領域内にAl濃度が高い部分が網目状に偏在していることが好ましく、Al濃度が60ppmよりも高い高濃度領域と25ppmよりも低い低濃度領域とが混在していることが好ましい。
従来の石英ガラスルツボには外面半溶融層が形成されないか、あるいは形成されたとしてもその厚さが非常に薄かったため、ルツボの外面の初期結晶化には至らなかった。これに対し、本発明では、例えばアーク溶融工程の後半でアーク電極に流す電流を弱めるなどして、原料シリカ粉を加熱する際の温度勾配を緩やかにし、ガラス化の進行速度を遅くする。そして、その低電流状態でアークを続ける。アーク溶融時間は通常よりも長時間となる。これにより、石英ガラスの肉厚形状等は通常の場合とほとんど変わらないが、外面半溶融層は通常よりも厚く形成される。特に、本発明ではアルミニウム濃度が高い外面半溶融層を形成することで、結晶層の発泡剥離を防止しながらルツボの外面の結晶化を促進させることができる。
また、本発明によるシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボの製造方法は、回転するモールドの内面に、Al添加シリカ粉及びAl無添加シリカ粉を順に充填してシリカ粉の堆積層を形成する工程と、前記シリカ粉の堆積層を前記モールドの内側から加熱して溶融すると共に、前記モールドの前記内面側から前記堆積層の減圧力を調整することにより、気泡を含まないシリカガラスからなる透明層と、前記透明層の外側に設けられ、多数の気泡を含むシリカガラスからなる気泡層と、前記気泡層の外側に設けられ、原料シリカ粉が半溶融状態で焼結した外面半溶融層とを備える石英ガラスルツボを形成する工程と、前記モールドから取り出した前記石英ガラスルツボの前記外面半溶融層の厚さを5μm以上500μm以下に調整する工程とを備え、前記Al添加シリカ粉に含まれるアルミニウムの平均濃度が30ppm以上95ppm以下であることを特徴とする。
本発明によれば、シリコン単結晶の引き上げ工程中にルツボの外面全体を確実に結晶化させるだけでなく結晶層の発泡剥離を防止し、これによりルツボの強度を高めることが可能な石英ガラスルツボを製造することができる。
本発明において、前記シリカ粉の堆積層は、前記Al添加天然シリカ粉、Al無添加天然シリカ粉及び合成シリカ粉を順に堆積させたものであることが好ましい。これにより、ルツボの内面に高純度な透明層を形成することができ、ルツボ内のシリコン融液の汚染を防止することができる。
本発明によれば、結晶層の発泡剥離を防止しながらルツボの外面を結晶化させてルツボの強度を高めることが可能な石英ガラスルツボ及びその製造方法を提供することができる。
図1は、本発明の実施の形態による石英ガラスルツボの構造を示す略側面断面図である。 図2は、図1の石英ガラスルツボの側壁部の一部(X部)の構造を拡大して示す略断面図である。 図3は、結晶引き上げ中の石英ガラスルツボの状態を説明するための模式図である。 図4は、本実施形態による石英ガラスルツボの製造方法を説明するための模式図である。 図5は、図4と共に本実施形態による石英ガラスルツボの製造方法を説明するための模式図である。 図6は、図4及び図5と共に本実施形態による石英ガラスルツボの製造方法を説明するための模式図である。
以下、添付図面を参照しながら本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明の実施の形態による石英ガラスルツボの構造を示す略側面断面図である。また図2は、図1の石英ガラスルツボの側壁部の一部(X部)の構造を拡大して示す略断面図である。
図1及び図2に示すように、この石英ガラスルツボ1は、シリコン融液を支持するためのシリカガラス製の容器であって、円筒状の側壁部10aと、緩やかに湾曲した底部10bと、側壁部10aと底部10bとの間に位置し、底部10bよりも大きな曲率を有するコーナー部10cとを有している。
石英ガラスルツボ1の直径(口径)は24インチ(約600mm)以上であり、32インチ(約800mm)以上であることが好ましい。このような大口径のルツボは直径200mm以上の半導体用シリコン単結晶インゴットの引き上げに用いられ、長時間使用しても変形しにくいことが求められるからである。
ルツボの肉厚はその部位によって多少異なるが、24インチ以上のルツボの側壁部10aの肉厚は8mm以上、32インチ以上の大型ルツボの側壁部10aの肉厚は10mm以上、40インチ(約1000mm)以上の大型ルツボの側壁部10aの肉厚は13mm以上であることが好ましい。大容量のルツボには多量のシリコン融液からの圧力によって変形することがない十分な厚さが必要だからである。
本実施形態による石英ガラスルツボ1は、気泡を含まないシリカガラスからなる透明層11(無気泡層)と、透明層11の外側に設けられ、多数の微小な気泡を含むシリカガラスからなる気泡層12(不透明層)と、気泡層12の外側に設けられ、原料シリカ粉が未溶融又は半溶融の状態で冷却されることによって形成された外面半溶融層13とを有している。
透明層11は、シリコン融液と接触するルツボの内面10iを構成する層であって、石英ガラス中の気泡が原因で単結晶化率が低下することを防止するために設けられている。透明層11の厚さは0.5〜10mmであることが好ましく、単結晶の引き上げ工程中の溶損によって完全に消失して気泡層12が露出することがないよう、ルツボの部位ごとに適切な厚さに設定される。気泡層12と同様、透明層11はルツボの側壁部10aから底部10bまでのルツボ全体に設けられていることが好ましいが、シリコン融液と接触しないルツボの上端部(リム部)において透明層11の形成を省略することも可能である。
透明層11が「気泡を含まない」とは、気泡が原因で単結晶化率が低下しない程度の気泡含有率及び気泡サイズを有することを意味する。ルツボの内面近傍に気泡が存在すると、ルツボの内面の溶損によってルツボ内面近傍の気泡を石英ガラス中に閉じ込めておくことができなくなり、結晶引き上げの際に石英ガラス中の気泡が熱膨張によって破裂することによってルツボ破片(石英片)が剥離するおそれがあるからである。融液中に放出されたルツボ破片が融液対流に乗って単結晶の成長界面まで運ばれて単結晶中に取り込まれた場合には、単結晶の有転位化の原因となる。またルツボ内面の溶損によって融液中に放出された気泡が固液界面まで浮上して単結晶中に取り込まれた場合にはピンホールの原因となる。透明層11の気泡含有率は0.1vol%以下であることが好ましく、気泡の平均直径は100μm以下であることが好ましい。
透明層11の気泡含有率及び気泡の直径は、光学的検出手段を用いて非破壊で測定することができる。光学的検出手段は、ルツボに照射した光の透過光又は反射光を受光する受光装置を備える。照射光の発光手段は受光装置に内蔵されたものでもよく、外部の発光手段を利用してもよい。また光学的検出手段はルツボの内面に沿って回動操作できるものが好ましく用いられる。照射光としては、可視光、紫外線及び赤外線のほか、X線もしくはレーザ光などを利用することができる。受光装置は、光学レンズ及び撮像素子を含むデジタルカメラを用いることができる。光学的検出手段による測定結果は画像処理装置に取り込まれ、単位体積当たりの気泡含有率が算出される。
ルツボ表面から一定深さに存在する気泡を検出するには、光学レンズの焦点を表面から深さ方向に走査すればよい。詳細には、デジタルカメラを用いてルツボ内表面の画像を撮影し、ルツボ内表面を一定面積ごとに区分して基準面積S1とし、この基準面積S1ごとに気泡の占有面積S2を求め、面積気泡含有率Ps=(S2/S1)×100(%)が算出される。
体積比による気泡含有率の算出では、画像を撮影した深さと基準面積S1から基準体積V1を求める。さらに気泡を球状とみなして、気泡の直径から気泡の体積V2を算出する。そしてV1,V2から、体積気泡含有率Pv=(V2/V1)×100(%)を算出する。本発明においては、この体積気泡含有率Pvを「気泡含有率」として定義する。また、気泡を球状とみなして算出した気泡の直径から求めた相加平均値を「気泡の平均直径」として定義する。
なお、基準体積は5mm×5mm×奥行(深さ)0.45mmであり、測定する最小の気泡の直径は5μm(直径が5μm未満のものは無視)、直径5μmの気泡を測定できる分解能があればよい。また、光学レンズの焦点距離を基準体積V1の深さ方向にずらして、基準体積の内部に含まれる気泡を捉えて、気泡の直径を測定する。
気泡層12は、ルツボ壁を構成する主要な層である。気泡層12は、ルツボ内のシリコン融液の保温性を高めると共に、ルツボを取り囲むヒーターからの輻射熱を分散させてルツボ内のシリコン融液をできるだけ均一に加熱するために設けられている。そのため、気泡層12はルツボの側壁部10aから底部10bまでのルツボ全体に設けられている。気泡層12の厚さは、ルツボ壁の厚さから透明層11及び外面半溶融層13の厚さを差し引いた値であり、ルツボの部位によって異なる。気泡層12の気泡含有率は、例えばルツボから切り出した不透明石英ガラス片の比重測定(アルキメデス法)により求めることができる。
気泡層12の気泡含有率は、透明層11よりも高く、0.5〜5vol%であることが好ましく、0.5〜4vol%であることがさらに好ましい。気泡層12の気泡含有率が0.5vol%以下では気泡層12の機能を発揮できず、保温性が不十分となるからである。また、気泡層12の気泡含有率が5vol%を超える場合には気泡の膨張によりルツボが大きく変形して単結晶歩留まりが低下するおそれがあり、さらに伝熱性が不十分となるからである。特に、気泡層12の気泡含有率が0.5〜4vol%であれば、ルツボの変形をさらに防止することができ、また伝熱性をさらに高めることができる。
本実施形態において、ルツボの底部10bの気泡層12は、アルミニウムが添加されていないシリカガラスからなる内側気泡層12aの単層構造である。一方、ルツボの側壁部10aの気泡層12は、アルミニウムが添加されていないシリカガラスからなる内側気泡層12aと、内側気泡層12aの外側に設けられ、アルミニウムが添加されたシリカガラスからなるAl添加外側気泡層12bの二層構造を有している。ルツボの側壁部10aにおける外層がアルミニウムを含む場合にはルツボの側壁部10aの外面10oの結晶化を促進させてルツボの強度を高めることができる。
Al添加外側気泡層12bに含まれるアルミニウムの濃度は30ppm以上95ppm以下である好ましく、50ppm以上90ppm以下であることが特に好ましい。アルミニウム濃度が30ppmよりも低い場合にはルツボの外面が斑状に結晶化し、全面を均一に結晶化させることができない。またアルミニウム濃度が95ppmよりも高い場合には、ルツボの外面を結晶化させて厚い結晶層を形成することができるが、結晶層が厚くなりすぎてクラックが発生するか、結晶層が厚くなる前に結晶層とガラス層との界面で発泡剥離が生じ、ルツボが結晶層によって支持されず、変形を引き起こすおそれがある。しかし、アルミニウム濃度が上記範囲内であれば、ルツボの外面全体を結晶化させて適度な厚さの結晶層を均一に形成することができるので、発泡剥離やクラックの発生を防止してルツボの強度を高めることができる。石英ガラスに含まれるアルミニウムの濃度は、二次イオン質量分析法により測定することができる。
Al添加外側気泡層12bの気泡含有率は、内側気泡層12aの気泡含有率よりも高いことが好ましい。これによれば、ルツボの強度と共に断熱性を高めることができ、ルツボの内面の高温化を抑制することができる。Al添加外側気泡層12bは、アルミニウム化合物が添加された原料シリカ粉を用いて形成することができるが、そのような原料シリカ粉に対して脱ガス処理等を施さない場合には、アルミニウムの濃度と共にAl添加外側気泡層12bの気泡含有率を高めることができる。
ルツボの側壁部10aに設けられたAl添加外側気泡層12bの下端部12bはテーパー形状を有し、下端部12bの厚さの減少率は0.5mm/mm以下であることが好ましい。ここで、Al添加外側気泡層の下端部の厚さの減少率とは、ルツボの底部中心とリム上端とを結ぶルツボ外面に沿った線上におけるAl添加外側気泡層のテーパー形状の厚さの変化量のことを言う。このように、Al添加外側気泡層の下端部12bの厚さの減少率が緩やかであれば、Al添加外側気泡層12bと内側気泡層12aとの境界部に応力が集中してクラックが発生することを防止することができる。
外面半溶融層13は、ルツボの原料であるシリカ粉が不完全に溶融した状態で冷却されることによって形成された層である。外面半溶融層13は起伏に富む表面状態を有しているため、ルツボの外面側から入射した光の散乱や反射が大きく、未使用状態のルツボの赤外線透過率に一定の影響を与えている。
外面半溶融層13は、ルツボの底部10bの中心から側壁部10aのリム上端までのルツボの外面全体に設けられている。このうち、Al添加外側気泡層12bに接する外面半溶融層13の一部は、Al添加外側気泡層12bと同じ原料シリカ粉で形成されたAl添加半溶融層13aである。一方、Al添加外側気泡層12bよりも下方にある外面半溶融層13は、Alが添加されていない通常の原料シリカ粉(Al無添加シリカ粉)で形成されたAl無添加半溶融層13bである。
ルツボの外面に外面半溶融層13が形成されているか否かは、ルツボの外面をX線回折法で測定したとき、アモルファス特有の回折像がぼやけたハローパターンと結晶性を示すピークが混在しているか否かによって判断することができる。例えば、測定対象が結晶層の場合、結晶性を示すピークが検出されるが、回折像がぼやけたハローパターンは検出されない。逆に測定対象が非結晶層(アモルファス層)の場合、回折像がぼやけたハローパターンが検出され、結晶性を示すピークは検出されない。ルツボの外面に形成されている外面半溶融層13を除去すると、ガラスの表面がむき出しになるため、X線回折法でピークは検出されなくなる。このように、半溶融層は、X線回折法で測定したとき回折像がぼやけたハローパターンと結晶性を示すピークが混在する層であるということができる。また、結晶層は、X線回折法でピークが検出される層であり、非結晶層は、回折像がぼやけたハローパターンが検出される層であるということができる。
外面半溶融層13は未溶融又は半溶融のシリカ粉の焼結体からなるため、外面半溶融層13内には多数の結晶の核が存在している。またシリカ粉が溶けきっていないので、Al添加半溶融層13aに含まれるアルミニウムは、シリカ粉の表面に高濃度に存在しており、外面半溶融層13の表面に近いほどアルミニウムの偏在の傾向が強い。そのため、Al添加半溶融層13aが形成されている場合には、Al添加外側気泡層12bのアルミニウム濃度が多少低くてもルツボ外面の結晶化を促進させてルツボの強度を高めることができる。特に、Al添加半溶融層13a内の多数の結晶を核とした結晶化はルツボの外表面から深さ方向だけでなく、外表面に沿った方向にも速く進むので、最初は斑状に失透化したとしても最終的には全面が失透化する。
Al添加半溶融層13aを含めた外面半溶融層13の厚さは10〜500μmであることが好ましい。外面半溶融層13の厚さが5μmよりも小さい場合、結晶核としての効果が弱いので、初期の結晶化が遅く、ルツボが自立できない。そのため、結晶層の発泡・剥離につながる。一方、外面半溶融層13の厚さが500μmより大きい場合、過剰に厚い外面半溶融層とガラス層の熱膨張率差を起因とした外面剥離がシリコン単結晶の引き上げ工程中に発生し、ルツボが変形することにより、結晶引き上げ工程を継続できないおそれがある。外面半溶融層13の厚さは、例えばルツボサンプルの断面から測定することができる。
ルツボ内のシリコン融液の汚染を防止するため、透明層11を構成する石英ガラスは高純度であることが望ましい。そのため、本実施形態による石英ガラスルツボ1は、合成シリカ粉から形成される合成層14aと、Alが添加されてない通常の天然シリカ粉から形成される天然層14bと、Alが添加された天然シリカ粉から形成されるAl添加天然層14cとを有している。合成シリカ粉は、四塩化珪素(SiCl)の気相酸化(乾燥合成法)やシリコンアルコキシドの加水分解(ゾル・ゲル法)によって製造することができる。また天然シリカ粉は、α−石英を主成分とする天然鉱物を粉砕して粒状にすることによって製造されるシリカ粉である。さらにAlが添加された天然シリカ粉とは、Alが添加された天然シリカ粉である。
Al添加半溶融層13aの表層部のアルミニウムの濃度は100ppm以上であり、表層部よりも深いAl添加半溶融層13aの深層部のアルミニウム濃度は、表層部のアルミニウム濃度よりも低いことが好ましい。すなわち、Al添加半溶融層13aにおいてアルミニウムは表面付近に偏在していることが好ましい。Al添加半溶融層13aの表層部のアルミニウムの濃度が深層部よりも高い場合には、Al添加半溶融層13aによる結晶化促進効果を高めることができる。
図3は、結晶引き上げ中の石英ガラスルツボの状態を説明するための模式図である。
図3に示すように、石英ガラスルツボ1はカーボンサセプタ20に収容された状態で使用され、石英ガラスルツボ1は多量のシリコン融液5を支持している。そのため、ルツボの内面はシリコン融液からの大きな液圧を受けている。シリコンの融点以上の高温下に置かれた石英ガラスルツボ1は軟化するため、ルツボの外面はカーボンサセプタ20の内面に馴染んで密着する。
一方、本実施形態による石英ガラスルツボ1は、結晶引き上げの初期からルツボの外面10oの結晶化が進み、またその結晶化速度が速いので、ルツボの外面10oの全面を確実に結晶化させてルツボの強度を高めることができる。これにより、ルツボの側壁部10aがカーボンサセプタ20に馴染む前に強度を確保して自立させることができる。こうして自立したルツボの側壁部10aとカーボンサセプタ20との間に小さな隙間20gを形成することができ、ルツボの結晶化に伴って発生する石英ガラス中のガスをこの隙間20gから逃がすことができ、ルツボの外面10oの結晶層19の発泡剥離を防止することができる。
なお結晶層の発泡剥離とは、石英ガラスが結晶化した際に石英ガラス中に溶け込んでいたガス成分が排出され、結晶層とガラス層との界面にガスがたまり込むことにより、結晶層とガラス層が剥離する現象である。結晶層がカーボンサセプタ20に密着している場合には、結晶層を通って外側にガスを拡散させることができないが、ルツボとサセプタとの間に隙間20gがある場合には、結晶層を通って拡散したガスをこの隙間20gから逃がすことができる。結晶層が厚い場合には、ガスの発生に対して結晶層を通じたガスの拡散が追い付かず、発泡剥離につながる。しかし、結晶層が薄い場合には、結晶層を通じたガスの排出が可能である。
図4〜図6は、本実施形態による石英ガラスルツボの製造方法を説明するための模式図である。
本実施形態による石英ガラスルツボ1は、いわゆる回転モールド法により製造することができる。回転モールド法では、まず図4に示すように、回転するモールド30の内面30iに、アルミニウムが添加されたAl添加天然シリカ粉15、アルミニウムが添加されていない通常の天然シリカ粉であるAl無添加天然シリカ粉16、合成シリカ粉17を順に投入してこれらのシリカ粉の堆積層18を形成する。これらの原料シリカ粉は、遠心力によってモールド30の内面30iに張り付いたまま一定の位置に留まり、ルツボの形状に維持されている。
次に、図5に示すように、モールド30内にアーク電極31を設置し、モールド30の内側から原料シリカ粉の堆積層18をアーク溶融する。加熱時間、加熱温度等の具体的条件はルツボの原料やサイズなどの条件を考慮して適宜決定する必要がある。このとき、モールド30の内面30iに設けられた多数の通気孔32から原料シリカ粉の堆積層18を真空引きすることにより、溶融石英ガラス中の気泡量を制御する。具体的には、アーク溶融の開始時にモールド30の内面30iに設けられた多数の通気孔32からの吸引力を強めて透明層11を形成し、透明層11の形成後に吸引力を弱めて気泡層12を形成する。
アーク熱は原料シリカ粉の堆積層18の内側から外側に向かって徐々に伝わり原料シリカ粉を融解していくので、原料シリカ粉が融解し始めるタイミングで減圧条件を変えることにより、透明層11と気泡層12とを作り分けることができる。シリカ粉が融解するタイミングで減圧力を強める減圧溶融を行えば、アーク雰囲気ガスがガラス中に閉じ込められず、気泡を含まない石英ガラスが形成される。また、シリカ粉が融解するタイミングで減圧力を弱める通常溶融(大気圧溶融)を行えば、アーク雰囲気ガスがガラス中に閉じ込められ、多くの気泡を含む石英ガラスが形成される。
シリカ粉の堆積層18の内側はガラス溶融温度を超える温度でアーク加熱されて溶融するが、モールド30の内側はガラス溶融温度を超えないため、未溶融粉が残る。さらに、ガラス溶融温度の境界付近には、シリカ粉が未溶融又は半溶融の状態で焼結した外面半溶融層13が形成される。ここで、ルツボの側壁部10aの外面半溶融層13は、アルミニウムが添加された天然シリカ粉(Al添加シリカ粉)が半溶融状態で焼結したAl添加半溶融層13aとなり、またルツボのコーナー部10c及び底部10bの外面半溶融層13は、アルミニウムが添加されてない天然シリカ粉(Al無添加シリカ粉)が半溶融状態で焼結したAl無添加半溶融層13bとなる。外面半溶融層13の厚さは、アーク溶融時の温度勾配によって調整することが可能であり、温度勾配を緩やかにした場合には外面半溶融層13を厚くすることができ、温度勾配を急にした場合には外面半溶融層13を薄くすることができる。
その後、アーク加熱を終了し、ルツボを冷却する。以上により、ルツボ壁の内面側から外面側に向かって透明層11、内側気泡層12a、Al添加外側気泡層12b、外面半溶融層13が順に設けられた石英ガラスルツボ1が完成する。
次に、図6に示すように、モールド30から石英ガラスルツボ1を取り出した後、石英ガラスルツボ1の外面を高圧洗浄(ホーニング)して外面半溶融層13の厚さを5μm以上500μm以下に調整する。このことは、外面半溶融層13を多く除去せずなるべく残すことを意味する。Al添加半溶融層13aは、Alが添加された未溶融又は半溶融の原料シリカ粉を急冷することによって形成されるため、Al添加半溶融層13aの表面近くの原料シリカ粉ほどその原形を維持しており、表面のアルミニウムの濃度が高くなる傾向がある。一方、Al添加半溶融層13aの表面に付着する余分な原料シリカ粉は高圧水で洗浄して除去され、このときの洗浄の程度によってAl添加半溶融層13aの表面のアルミニウム濃度は変化する。
従来、ルツボの外面のAl添加半溶融層は十分に除去され、アルミニウムが高濃度なAl添加半溶融層の表層部はほとんど残っていなかった。ルツボの外面層に付着したアルミニウムの濃度が高いシリカ粉がルツボの内側に回り込むとシリコンの有転位化のみならず汚染の原因となることから、これまではAl添加シリカ粉をできるだけ除去したほうがよいと考えられていた。一方、本発明では、ルツボの外面の結晶化を優先し、シリコンの汚染や有転位化の問題がない範囲でAl添加半溶融層をできるだけ残すことにより、結晶層の発泡剥離を防止しながらルツボの外面を結晶化させてルツボの強度を高めることができる。
以上説明したように、本実施形態による石英ガラスルツボは、アルミニウムが添加されたシリカガラスからなるAl添加外側気泡層と、Al添加外側気泡層の外側に設けられ、Alが添加されたシリカ粉が半溶融状態で焼結したAl添加半溶融層とを有し、Al添加外側気泡層及びAl添加半溶融層に含まれるアルミニウムの平均濃度が30ppm以上95ppm以下であるので、ルツボの外面を早期に結晶化させて厚い結晶層を形成することができるだけでなく、結晶層の発泡剥離によるルツボの変形を抑制することができる。したがって、ルツボの強度を高めることができ、単結晶の引き上げ工程中に変形しにくい石英ガラスルツボを提供することができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
例えば、上記実施形態においては、ルツボの側壁部10aにのみAl添加外側気泡層及びAl添加半溶融層を設けているが、ルツボの底部10b及びコーナー部10cを含む全体にAl添加外側気泡層及びAl添加半溶融層を設けてもよい。ただし、ルツボの底部10bにAl添加外側気泡層及びAl添加半溶融層を設けた場合にはクラックが発生して湯漏れの心配があることから、ルツボの底部10bにはAl添加外側気泡層及びAl添加半溶融層を設けないことが好ましい。
<ルツボ外層のAl濃度についての考察>
Al添加外側気泡層中のAl濃度が異なる種々の石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。Al添加外側気泡層のAl濃度は、TOF−SIMS(Time-Of-Flight Secondary Mass Spectrometry:飛行時間型二次イオン質量分析法)により測定した。なおAl濃度及び外面半溶融層の厚さは同一条件下で製造した別のサンプルから破壊測定により求めた値である。その後、ルツボの自立状態、結晶化状態及び発泡剥離の有無を評価した。その結果を表1に示す。
Figure 2020186145
(実施例1)
外面半溶融層を有し、Al添加外側気泡層のAl濃度が30ppmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着せず自立状態となっていた。またルツボの外面は全面が結晶化しており、結晶層の発泡剥離は生じていなかった。
(実施例2)
外面半溶融層を有し、Al添加外側気泡層のAl濃度が70ppmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着せず自立状態となっていた。またルツボの外面は全面が結晶化しており、結晶層の発泡剥離は生じていなかった。
(実施例3)
外面半溶融層を有し、Al添加外側気泡層のAl濃度が95ppmである石英ガラスルツボを用意した。このルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着せず自立状態となっていた。またルツボの外面は全面が結晶化しており、結晶層の発泡剥離は生じていなかった。
(比較例1)
外面半溶融層を有し、Al添加外側気泡層のAl濃度が25ppmである石英ガラスルツボを用意した。このルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの外面は斑状に結晶化していた。またルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着せず自立状態となっていたが、少し内側に倒れ込んでいた。
(比較例2)
外面半溶融層を有し、Al添加外側気泡層のAl濃度が120ppmである石英ガラスルツボを用意した。このルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの外面は全面的に結晶化していたが、結晶層は発泡剥離しており、内面側のガラス層から分離していた。内面側のガラス層は変形していた。
以上の結果から、Al添加外側気泡層のAl濃度が低すぎるとルツボ外面の結晶化が不十分となるためルツボの強度が不足して変形が生じやすくなり、またAl濃度が高すぎると結晶層の発泡剥離によりルツボが変形することが分かった。しかし、ルツボ外層のAl濃度が32〜94ppmであれば、ルツボの強度を高めて変形を抑制できることが分かった。
<外面半溶融層の厚さについての検討>
外面半溶融層の厚さが異なる種々の石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、ルツボの自立状態、結晶化状態及び発泡剥離の有無を評価した。その結果を表2に示す。
Figure 2020186145
(実施例4)
Al添加外側気泡層のAl濃度が70ppmであり、外面半溶融層の厚さが10μmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着せず自立状態となっていた。またルツボの外面は全面が結晶化しており、結晶層の発泡剥離は生じていなかった。
(実施例5)
Al添加外側気泡層のAl濃度が70ppmであり、外面半溶融層の厚さが500μmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着せず自立状態となっていた。またルツボの外面は全面が結晶化しており、結晶層の発泡剥離は生じていなかった。
(比較例3)
Al添加外側気泡層のAl濃度が72ppmであり、外面半溶融層の厚さが8μmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、ルツボの側壁部はカーボンサセプタに密着しており、自立していなかった。またルツボの外面は斑状に結晶化しており、結晶層の発泡剥離が発生していた。
(比較例4)
Al添加外側気泡層のAl濃度が73ppmであり、外面半溶融層の厚さが620μmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、カーボンサセプタ内のルツボの状態を評価したところ、過剰に厚い外面半溶融層とガラス層の熱膨張率差を起因とした外面剥離がほとんどの部分で起きており、ルツボが変形していた。
以上の結果から、外面半溶融層が薄すぎるとルツボの外面の結晶化が進まないためルツボがカーボンサセプタに馴染んで自立できず、結晶層の発泡剥離が発生することが分かった。また、外面半溶融層が厚すぎると、外面半溶融層とガラス層の熱膨張率差を起因とした外面剥離がほとんどの部分で起き、ルツボが変形することが分かった。
<Al添加外側気泡層の下端テーパー形状の考察>
ルツボの側壁部に形成されたAl添加外側気泡層の下端部のテーパー形状の変化率が異なる種々の石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、ルツボの状態を評価した。その結果を表3に示す。
Figure 2020186145
(実施例6)
Al添加外側気泡層の下端部のテーパー形状の変化率が0.07mm/mmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、ルツボの状態を評価したところ、クラックは発生していなかった。
(実施例7)
Al添加外側気泡層の下端部のテーパー形状の変化率が0.1mm/mmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、ルツボの状態を評価したところ、クラックは発生していなかった。
(実施例8)
Al添加外側気泡層の下端部のテーパー形状の変化率が0.5mm/mmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、ルツボの状態を評価したところ、クラックは発生していなかった。
(比較例5)
Al添加外側気泡層の下端部のテーパー形状の変化率が0.7mm/mmである石英ガラスルツボを用いてシリコン単結晶の引き上げを行った。その後、ルツボの状態を評価したところ、側壁部の下端部付近にクラックが発生していた。
以上の結果から、Al添加外側気泡層の下端部のテーパー形状の変化率が大きい場合にはAl添加層とAl無添加層との境界部の応力集中によりクラックが発生しやすくなることが分かった。
1 石英ガラスルツボ
5 シリコン融液
10a 側壁部
10b 底部
10c コーナー部
10i ルツボ内面
10o ルツボ外面
11 透明層
12 気泡層
12a 内側気泡層
12b Al添加外側気泡層
12b Al添加外側気泡層の下端部
13 外面半溶融層
13a Al添加半溶融層
13b Al無添加半溶融層
14a 合成層
14b 天然層
14c Al添加天然層
15 Al添加天然シリカ粉
16 Al無添加天然シリカ粉
17 合成シリカ粉
18 シリカ粉堆積層
19 結晶層
20 カーボンサセプタ
20g 隙間
30 モールド
30i モールド内面
31 アーク電極
32 通気孔

Claims (9)

  1. 気泡を含まないシリカガラスからなる透明層と、
    前記透明層の外側に設けられ、多数の気泡を含むシリカガラスからなる気泡層と、
    前記気泡層の外側に設けられ、原料シリカ粉が半溶融状態で焼結した外面半溶融層とを備え、
    前記気泡層は、アルミニウムが添加されていないシリカガラスからなる内側気泡層と、前記内側気泡層の外側に設けられ、アルミニウムが添加されたシリカガラスからなるAl添加外側気泡層とを含み、
    前記Al添加外側気泡層に接する前記外面半溶融層の少なくとも一部は、アルミニウムが添加されたAl添加半溶融層であり、
    前記Al添加半溶融層に含まれるアルミニウムの平均濃度が30ppm以上95ppm以下であることを特徴とするシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ。
  2. 前記Al添加半溶融層の厚さが5μm以上500μm以下である、請求項1に記載の石英ガラスルツボ。
  3. 円筒状の側壁部と、湾曲した底部と、前記側壁部と前記底部との間に位置し、前記底部よりも大きな曲率を有するコーナー部とを有し、
    前記Al添加外側気泡層及び前記Al添加半溶融層は、少なくとも前記側壁部に設けられている、請求項1又は2に記載の石英ガラスルツボ。
  4. 前記側壁部における前記気泡層は、前記内側気泡層及び前記Al添加外側気泡層の二層構造であり、
    前記底部における前記気泡層は、前記内側気泡層の単層構造である、請求項3に記載の石英ガラスルツボ。
  5. 前記Al添加外側気泡層の下端部がテーパー形状を有し、
    前記下端部の厚さの減少率は0.5mm/mm以下である、請求項4に記載の石英ガラスルツボ。
  6. 前記側壁部における前記Al添加外側気泡層の気泡含有率は、前記内側気泡層の気泡含有率よりも高い、請求項4又は5に記載の石英ガラスルツボ。
  7. 前記Al添加半溶融層の表層部のアルミニウムの濃度は100ppm以上であり、
    前記表層部よりも深い前記Al添加半溶融層の深層部のアルミニウム濃度は、前記表層部のアルミニウム濃度よりも低い、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の石英ガラスルツボ。
  8. モールドの内面に、Al添加シリカ粉及びAl無添加シリカ粉を順に充填してシリカ粉の堆積層を形成する工程と、
    前記シリカ粉の堆積層を前記モールドの内側から加熱して溶融すると共に、前記モールドの前記内面側から前記堆積層の減圧力を調整することにより、気泡を含まないシリカガラスからなる透明層と、前記透明層の外側に設けられ、多数の気泡を含むシリカガラスからなる気泡層と、前記気泡層の外側に設けられ、原料シリカ粉が半溶融状態で焼結した外面半溶融層とを備える石英ガラスルツボを形成する工程と、
    前記モールドから取り出した前記石英ガラスルツボの前記外面半溶融層の厚さを5μm以上500μm以下に調整する工程とを備え、
    前記Al添加シリカ粉に含まれるアルミニウムの平均濃度が30ppm以上95ppm以下であることを特徴とするシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボの製造方法。
  9. 前記シリカ粉の堆積層は、前記Al添加天然シリカ粉、Al無添加天然シリカ粉及び合成シリカ粉を順に堆積させたものである、請求項8に記載のシリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボの製造方法。
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000247778A (ja) * 1999-02-25 2000-09-12 Toshiba Ceramics Co Ltd 石英ガラスルツボおよびその製造方法ならびにこれを用いたシリコン単結晶の引上げ方法
WO2009041685A1 (ja) * 2007-09-28 2009-04-02 Japan Super Quartz Corporation シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボとその製造方法
JP2012006805A (ja) * 2010-06-25 2012-01-12 Japan Siper Quarts Corp シリカガラスルツボ及びその製造方法、シリコンインゴットの製造方法
WO2018051714A1 (ja) * 2016-09-13 2018-03-22 株式会社Sumco 石英ガラスルツボ及びその製造方法
JP2018104248A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 クアーズテック株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ
JP2019048730A (ja) * 2017-09-08 2019-03-28 クアーズテック株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ
JP2019059652A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 クアーズテック株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1655270B1 (en) 2003-05-30 2010-09-08 Shin-Etsu Quartz Products Co.,Ltd. Quartz glass crucible for pulling up silicon single crystal
TW200730672A (en) * 2005-11-29 2007-08-16 Japan Super Quartz Corp Quartz glass crucible, method of producing the same, and application thereof
JP5344767B2 (ja) 2010-06-21 2013-11-20 信越石英株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボの製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000247778A (ja) * 1999-02-25 2000-09-12 Toshiba Ceramics Co Ltd 石英ガラスルツボおよびその製造方法ならびにこれを用いたシリコン単結晶の引上げ方法
WO2009041685A1 (ja) * 2007-09-28 2009-04-02 Japan Super Quartz Corporation シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボとその製造方法
JP2012006805A (ja) * 2010-06-25 2012-01-12 Japan Siper Quarts Corp シリカガラスルツボ及びその製造方法、シリコンインゴットの製造方法
WO2018051714A1 (ja) * 2016-09-13 2018-03-22 株式会社Sumco 石英ガラスルツボ及びその製造方法
JP2018104248A (ja) * 2016-12-28 2018-07-05 クアーズテック株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ
JP2019048730A (ja) * 2017-09-08 2019-03-28 クアーズテック株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ
JP2019059652A (ja) * 2017-09-27 2019-04-18 クアーズテック株式会社 シリコン単結晶引上げ用石英ガラスルツボ

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