JP2020174225A - インピーダンス整合装置、異常診断方法及び異常診断プログラム - Google Patents
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Abstract
Description
(前提技術に係るプラズマ処理装置の構成)
図1は、前提技術に係るプラズマ処理装置1を示す図である。図1に示すプラズマ処理装置1は、チャンバ(処理容器)12、及び、マイクロ波出力装置16を備えている。プラズマ処理装置1は、マイクロ波によってガスを励起するマイクロ波プラズマ処理装置として構成されている。プラズマ処理装置1は、ステージ14、アンテナ18、及び、誘電体窓20を有する。
以下、第1実施形態に係るインピーダンス整合装置110の構成について説明する。図2は、第1実施形態に係るインピーダンス整合装置110の構成の一例を示す図である。図1に示すインピーダンス整合装置110の構造は、例えば、図1に示す前提技術のプラズマ処理装置1が有するマッチングユニット60に適用され得る。図1に示すインピーダンス整合装置110は、高周波電源に接続される入力端110aと、負荷に接続される出力端110bとを有する。高周波電源は、例えば、図1に示す高周波電源58であり、負荷は、例えば、図1に示すチャンバ12等である。入力端110aは、高周波電源から高周波が入力される端子であり、出力端110bは、負荷へ高周波を出力する端子である。以下では、入力端110aへ高周波電源から入力される高周波を適宜「入力高周波」と呼び、出力端110bから負荷へ出力される高周波を適宜「出力高周波」と呼ぶ。
Pout=Pin−Ploss(C1,C2) ・・・(1)
次に、第1実施形態に係るインピーダンス整合装置110の処理動作について説明する。図3は、第1実施形態に係るインピーダンス整合装置110の処理動作の一例を示すフローチャートである。インピーダンス整合装置110が図1に示す前提技術のプラズマ処理装置1が有するマッチングユニット60に適用される場合、図3に示す処理動作は、例えば、プラズマ処理装置1においてウエハWに対するプラズマ処理が開始されるタイミングで実行される。
次に、第2実施形態について説明する。
図4は、第2実施形態に係るインピーダンス整合装置110の構成の一例を示す図である。第2実施形態に係るインピーダンス整合装置110は、図2に示す第1実施形態に係るインピーダンス整合装置110と略同様の構成であるため、同一の部分については同一の符号を付して説明を省略し、主に異なる部分について説明する。図4に示すインピーダンス整合装置110の構造は、例えば、図1に示す前提技術のプラズマ処理装置1が有するマッチングユニット60に適用され得る。
次に、第2実施形態に係るインピーダンス整合装置110の処理動作について説明する。図5は、第2実施形態に係るインピーダンス整合装置110の処理動作の一例を示すフローチャートである。インピーダンス整合装置110が図1に示す前提技術のプラズマ処理装置1が有するマッチングユニット60に適用される場合、図5に示す処理動作は、例えば、プラズマ処理装置1においてウエハWに対するプラズマ処理が開始されるタイミングで実行される。
次に、第3実施形態について説明する。
図6は、第3実施形態に係るインピーダンス整合装置110の構成の一例を示す図である。第3実施形態に係るインピーダンス整合装置110は、図2に示す第1実施形態に係るインピーダンス整合装置110と略同様の構成であるため、同一の部分については同一の符号を付して説明を省略し、主に異なる部分について説明する。図6に示すインピーダンス整合装置110の構造は、例えば、図1に示す前提技術のプラズマ処理装置1が有するマッチングユニット60に適用され得る。
次に、第3実施形態に係るインピーダンス整合装置110の処理動作について説明する。図7は、第3実施形態に係るインピーダンス整合装置110の処理動作の一例を示すフローチャートである。インピーダンス整合装置110が図1に示す前提技術のプラズマ処理装置1が有するマッチングユニット60に適用される場合、図7に示す処理動作は、例えば、プラズマ処理装置1においてウエハWに対するプラズマ処理が開始されるタイミングで実行される。
124、125 可変コンデンサ
130、131 入力検出器
140、141 出力検出器
161、164 調整部
162、163、165 診断部
Claims (7)
- 高周波電源と負荷との間に接続された可変容量素子と、
前記高周波電源と前記負荷との間のインピーダンス整合を判定するための指標値と、前記高周波電源から入力される高周波の状態を示す第1状態値とを検出する第1検出器と、
前記負荷へ出力される高周波の状態を示す第2状態値を検出する第2検出器と、
前記第1検出器により検出される指標値が前記インピーダンス整合の完了を示す目標範囲に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整する調整部と、
前記調整部により調整された容量値と、前記第1検出器により検出される第1状態値と、前記第2検出器により検出される第2状態値とに基づいて、前記可変容量素子、前記第1検出器又は前記第2検出器の異常を診断する診断部と、
を有する、インピーダンス整合装置。 - 前記第1検出器は、前記指標値として、前記高周波電源から入力される高周波の電圧と電流との間の位相差を検出し、前記第1状態値として、前記高周波電源から入力される高周波の電力値を検出し、
前記第2検出器は、前記第2状態値として、前記負荷へ出力される高周波の電力値を検出し、
前記調整部は、前記第1検出器により検出される前記位相差が前記目標範囲内に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整し、
前記診断部は、前記調整部により調整された容量値と、前記第1検出器により検出される電力値とに基づいて、前記負荷へ出力される高周波の電力値の理論値を算出し、算出した前記電力値の理論値と前記第2検出器により検出される電力値との差が所定の閾値以上である場合に、前記異常が発生したと判定する、請求項1に記載のインピーダンス整合装置。 - 前記第1検出器は、前記指標値として、前記高周波電源から入力される高周波の電圧と電流との間の位相差を検出し、前記第1状態値として、前記高周波電源から入力される高周波の電力値を検出し、
前記第2検出器は、前記第2状態値として、前記負荷へ出力される高周波のVpp値と、前記負荷側のインピーダンス値とを検出し、
前記調整部は、前記第1検出器により検出される前記位相差が前記目標範囲内に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整し、
前記診断部は、前記調整部により調整された前記可変容量素子の容量値と、前記第1検出器により検出される電力値と、前記第2検出器により検出される前記負荷側のインピーダンス値とに基づいて、前記Vpp値の理論値を算出し、算出した前記Vpp値の理論値と前記第2検出器により検出されるVpp値との差が所定の閾値以上である場合に、前記異常が発生したと判定する、請求項1に記載のインピーダンス整合装置。 - 高周波電源と負荷との間に接続された可変容量素子と、
前記高周波電源と前記負荷との間のインピーダンス整合を判定するための指標値を検出する検出器と、
前記検出器により検出される指標値が前記インピーダンス整合の完了を示す目標範囲に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整する調整部と、
前記調整部により前記可変容量素子の容量値が調整された回数である容量値調整回数を監視し、当該容量値調整回数と、前記検出器により検出される指標値とに基づいて、前記可変容量素子又は前記検出器の異常を診断する診断部と、
を有するインピーダンス整合装置。 - 前記検出器は、前記指標値として、前記高周波電源から入力される高周波の電圧と電流との間の位相差を検出し、
前記調整部は、前記検出器により検出される前記位相差が前記目標範囲内に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整し、
前記診断部は、前記容量値調整回数が所定回数に到達し、且つ前記検出器により検出される前記位相差が前記目標範囲内に収まらない場合に、前記異常が発生したと判定する、請求項4に記載のインピーダンス整合装置。 - 高周波電源と負荷との間に接続された可変容量素子と、
前記高周波電源と前記負荷との間のインピーダンス整合を判定するための指標値と、前記高周波電源から入力される高周波の状態を示す第1状態値とを検出する第1検出器と、
前記負荷へ出力される高周波の状態を示す第2状態値を検出する第2検出器と、
を有するインピーダンス整合装置において、
前記第1検出器により検出される指標値が前記インピーダンス整合の完了を示す目標範囲に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整する工程と、
調整された前記可変容量素子の容量値と、前記第1検出器により検出される第1状態値と、前記第2検出器により検出される第2状態値とに基づいて、前記可変容量素子、前記第1検出器又は前記第2検出器の異常を診断する工程と、
を含む、異常診断方法。 - 高周波電源と負荷との間に接続された可変容量素子と、
前記高周波電源と前記負荷との間のインピーダンス整合を判定するための指標値と、前記高周波電源から入力される高周波の状態を示す第1状態値とを検出する第1検出器と、
前記負荷へ出力される高周波の状態を示す第2状態値を検出する第2検出器と、
を有するインピーダンス整合装置において、
前記第1検出器により検出される指標値が前記インピーダンス整合の完了を示す目標範囲に収まるように、前記可変容量素子の容量値を段階的に調整するステップと、
調整された前記可変容量素子の容量値と、前記第1検出器により検出される第1状態値と、前記第2検出器により検出される第2状態値とに基づいて、前記可変容量素子、前記第1検出器又は前記第2検出器の異常を診断するステップと、
をコンピュータに実行させる、異常診断プログラム。
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Families Citing this family (2)
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---|---|---|---|---|
US11476091B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-10-18 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network for diagnosing plasma chamber |
CN117713733B (zh) * | 2024-02-04 | 2024-04-16 | 深圳市广能达半导体科技有限公司 | 基于半自动射频匹配器的匹配方法、装置、设备及介质 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003268557A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-09-25 | Canon Inc | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
JP2007273419A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2007295447A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2008181846A (ja) * | 2006-12-29 | 2008-08-07 | Daihen Corp | 高周波装置 |
JP2008300322A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Canon Anelva Corp | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、整合器、及び整合器の動作方法 |
JP2009290865A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-12-10 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合装置用可変インピーダンス素子の検査装置 |
US20150200079A1 (en) * | 2014-01-10 | 2015-07-16 | Reno Technologies, Inc. | Rf impedance matching network |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002059933A2 (en) * | 2001-01-22 | 2002-08-01 | Tokyo Electron Limited | Vertically translatable chuck assembly and method for a plasma reactor system |
JP4137419B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2008-08-20 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
TW200300649A (en) * | 2001-11-27 | 2003-06-01 | Alps Electric Co Ltd | Plasma processing apparatus, its driving method, matching circuit design system, and plasma processing method |
CN101437353B (zh) * | 2007-11-15 | 2012-01-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种匹配器及其匹配方法 |
JP5319150B2 (ja) * | 2008-03-31 | 2013-10-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 |
CN201387563Y (zh) * | 2009-04-10 | 2010-01-20 | 中国地质大学(武汉) | 射频阻抗匹配装置 |
JP5632626B2 (ja) * | 2010-03-04 | 2014-11-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 自動整合装置及びプラズマ処理装置 |
WO2012169014A1 (ja) * | 2011-06-07 | 2012-12-13 | パイオニア株式会社 | インピーダンス整合装置、制御方法 |
JP6084417B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2017-02-22 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス調整装置 |
JP6177012B2 (ja) * | 2013-06-04 | 2017-08-09 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス整合装置 |
JP6424024B2 (ja) * | 2014-06-24 | 2018-11-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003268557A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-09-25 | Canon Inc | プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 |
JP2007273419A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2007295447A (ja) * | 2006-04-27 | 2007-11-08 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置 |
JP2008181846A (ja) * | 2006-12-29 | 2008-08-07 | Daihen Corp | 高周波装置 |
JP2008300322A (ja) * | 2007-06-04 | 2008-12-11 | Canon Anelva Corp | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、整合器、及び整合器の動作方法 |
JP2009290865A (ja) * | 2008-04-28 | 2009-12-10 | Daihen Corp | インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合装置用可変インピーダンス素子の検査装置 |
US20150200079A1 (en) * | 2014-01-10 | 2015-07-16 | Reno Technologies, Inc. | Rf impedance matching network |
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