JP2020155896A - 圧電薄膜共振器、弾性波デバイス、フィルタおよびマルチプレクサ - Google Patents
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Abstract
Description
図3は、比較例1に係る圧電薄膜共振器のB−B断面に相当する断面図である。図3に示すように、比較例1では、吸着膜が設けられていない。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。
基板10:シリコン基板
下部電極12の下層12a:厚さが70nmのクロム膜
下部電極12の上層12b:厚さが250nmのルテニウム膜
圧電膜14:厚さが970nmの窒化アルミニウム膜
上部電極16の下層16a:厚さが120nmのルテニウム膜
上部電極16の上層16b:厚さが5nmのクロム膜
質量負荷膜20:厚さが15nmのチタン膜
保護膜24:厚さが70nmの酸化シリコン膜
図4(a)は、実施例1の変形例1に係る圧電薄膜共振器の断面図である。図4(a)に示すように、基板10の上面に窪みが形成されている。下部電極12は、基板10上に平坦に形成されている。これにより、空隙30が、基板10の窪みに形成されている。吸着膜25は、空隙30を形成する凹部の底面に設けられている。吸着膜25は、空隙30を形成する凹部の側面に設けられていてもよい。その他の構成は実施例1と同じであり説明を省略する。空隙30は、基板10を貫通するように形成されていてもよい。この場合、吸着膜25は、空隙30を形成する貫通する孔の側面に設ければよい。
図4(b)は、実施例1の変形例2に係る圧電薄膜共振器の断面図である。圧電膜14は、下部圧電膜14aと下部圧電膜14a上に設けられた上部圧電膜14bとを有する。下部圧電膜14aと上部圧電膜14bとの間に挿入膜28が設けられている。挿入膜28は共振領域50の中央領域に設けられておらず、共振領域50を囲む少なくとも一部の領域であって共振領域50の外周を含む領域に設けられている。共振領域50から下部電極12が引き出される領域では、下部圧電膜14aの端面は上部圧電膜14bの端面の外側に位置する。その他の構成は、実施例1と同じであり説明を省略する。実施例1の変形例2のように、挿入膜28が設けられていてもよい。
12 下部電極
14 圧電膜
16 上部電極
18 積層膜
24 保護膜
25 吸着膜
30 空隙
34 孔
35 導入路
40 送信フィルタ
42 受信フィルタ
44 封止部
Claims (9)
- 基板と、
前記基板との間に空隙を挟み設けられた下部電極と、
前記下部電極上に設けられた圧電膜と、
前記圧電膜上に設けられ、前記空隙と重なり、前記圧電膜の少なくとも一部を挟み前記下部電極と対向する共振領域を形成するように設けられた上部電極と、
前記空隙内に設けられ、前記下部電極と間隔を空けて設けられ、水素を吸着または貯蔵する吸着膜と、
を備える圧電薄膜共振器。 - 前記吸着膜は、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、ニッケルおよびパラジウムの少なくとも1つを主成分とする請求項1に記載の圧電薄膜共振器。
- 前記圧電膜は窒化アルミニウムを主成分とし、前記下部電極および前記上部電極の少なくとも一方の前記圧電膜に接する金属膜はルテニウムを主成分とする請求項1または2に記載の圧電薄膜共振器。
- 前記圧電膜は窒化アルミニウムを主成分とし、前記下部電極の前記圧電膜に接する金属膜はルテニウムを主成分とする請求項1または2に記載の圧電薄膜共振器。
- 前記下部電極には外部から前記空隙に通ずる孔が設けられている請求項1から4のいずれか一項に記載の圧電薄膜共振器。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の圧電薄膜共振器と、
前記圧電薄膜共振器を閉じた空間である空隙内に封止する封止部と、
を備える弾性波デバイス。 - 前記基板は、基体上に前記上部電極が前記基体に前記閉じた空間である空隙を挟み対向するように実装され、前記封止部は前記基板を囲むように設けられ、前記封止部は金属からなる請求項6に記載の弾性波デバイス。
- 請求項1から5のいずれか一項に記載の圧電薄膜共振器を含むフィルタ。
- 請求項8に記載のフィルタを含むマルチプレクサ。
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