JP2020142180A - 高酸素ガスの供給装置および方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[第2頁右下欄第6〜17行]
酸素吸着塔24内の粒状吸着剤が飽和状態あるいはそれに近い状態になるまで酸素を吸着したのち、電磁切換弁28が切換移動されて、圧縮空気が他方の酸素吸着塔25に送られ、その酸素吸着塔25内の粒状吸着剤に空気中の酸素が吸着され、酸素吸着塔25から排出された窒素ガスはクッションタンク37に送られる。
この場合、酸素吸着に使用していない方の酸素吸着塔24に対応する排気用開閉弁45が開放され、その酸素吸着塔24内が大気圧になるので、その酸素吸着塔24内の粒状吸着剤に加圧吸着されていた酸素が脱着される。
[0042]
まず、加圧吸着工程は、原料空気圧縮機2によって加圧された原料空気を第1吸着槽4A内に導入して、第1吸着槽4A内を所定の圧力にし、原料空気中の吸着しやすい酸素や二酸化炭素等の不要成分を吸着剤6に優先的に吸着させて、吸着しにくい窒素富化ガスを製品槽5に導出する。
次に、減圧均圧工程では、第1吸着槽4A内に残留する相対的に高圧なガスを第2吸着槽4B内に導入する。
[0043]
次に、減圧再生工程では、第1吸着槽4Aを大気に解放して圧力を下げ、吸着剤6に吸着していた酸素や二酸化炭素等の不要成分を脱離させて吸着剤6を再生する。この際、加圧吸着工程を実施している第2吸着槽4Bの下流側より取り出した窒素富化ガスを、第1吸着槽4Aの下流側を通して第1吸着槽4A内に導入することで、不要成分の脱離を促進させることが好ましい。
そして、加圧均圧工程では、第2吸着槽4B内に残留する相対的に高圧なガスを第1吸着槽4A内へ導入する。
[0032]
<(iii)の段階>
(iii)の段階は、吸着塔510aが脱着工程に付され、吸着塔510bが吸着工程に付される段階である。・・・窒素分離装置500に供給される原料ガスは、吸着塔510bに供給される。吸着塔510bでは、供給された原料ガスのうち、酸素ガスが吸着され、分離された窒素ガスが製品槽520に送られる。・・・一方、吸着塔510aに吸着された酸素ガスは、真空ポンプ600により吸引され、吸着塔510aから脱着して窒素分離装置500の外部(通常は大気中)に放出される。・・・
酸素吸着方式のPSA法によって、高酸素ガスの純度を安定化できる高酸素ガスの供給装置および方法を提供する。
空気を圧縮する圧縮機と、
上記圧縮機から空気が供給される吸着部と、
上記吸着部に充填され、供給された空気中の酸素を高圧力下で吸着し、その吸着された酸素を開放圧力化で離脱する吸着剤と、
上記吸着部を高圧に保って上記吸着剤に酸素を吸着させる吸着工程と、上記吸着部の圧力を開放して上記吸着剤に吸着された酸素を離脱させる離脱工程とを切換える切換手段と、
上記吸着工程で得られた低酸素ガスを吐出する低酸素ガス吐出路と、
上記離脱工程で得られた高酸素ガスを吐出する高酸素ガス吐出路と、
上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスを排気する排気手段とを備え、
上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスを、高酸素ガスの利用設備に供給する。
上記酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記離脱工程の初期の所定期間を含む。
上記酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記離脱工程の終期の所定期間を含む。
上記排気手段が、サイレンサを備えている。
上記低酸素ガス吐出路に設けられたバッファタンクを備え、上記バッファタンクから所定流量以上の低酸素ガスを常に排出する。
上記低酸素ガス吐出路から吐出される低酸素ガスを、低酸素ガスの利用設備に供給する。
空気を圧縮する圧縮機と、
上記圧縮機から空気が供給される吸着部と、
上記吸着部に充填され、供給された空気中の酸素を高圧力下で吸着し、その吸着された酸素を開放圧力化で離脱する吸着剤と、
上記吸着部を高圧に保って上記吸着剤に酸素を吸着させる吸着工程と、上記吸着部の圧力を開放して上記吸着剤に吸着された酸素を離脱させる離脱工程とを切換える切換手段とを準備し、
上記吸着工程で得られた低酸素ガスを低酸素ガス吐出路から吐出し、
上記離脱工程で得られた高酸素ガスを高酸素ガス吐出路から吐出し、
上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスを排気手段により排気し、
上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスを、高酸素ガスの利用設備に供給する。
上記切換手段は、吸着工程と離脱工程を切換える。上記吸着工程では、上記吸着部を高圧に保って上記吸着剤に酸素を吸着させる。上記離脱工程では、上記吸着部の圧力を開放して上記吸着剤に吸着された酸素を離脱させる。
上記吸着工程で得られた低酸素ガスは、低酸素ガス吐出路から吐出される。
上記離脱工程で得られた高酸素ガスは、高酸素ガス吐出路から吐出される。
排気手段は、上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスを排気する。そして、上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスを、高酸素ガスの利用設備に供給する。
請求項1記載の高酸素ガスの供給装置は、所定濃度に達しない高酸素ガスを排気し、排気されなかった高酸素ガスを高酸素ガスの利用設備に供給する。したがって、目的とする高酸素ガスよりも純度の低いガスが利用設備に混入して高酸素ガスの純度が不安定になるという不都合が起こらない。また、純度の低下を回復するために、動力をかけて製造した高純度酸素ガスを、利用設備に導入する必要がなくなる。このような運用ではエネルギーが無駄に消費されることがない。また、吸着工程で酸素を吸着する吸着剤を用いるため、たとえば窒素吸着方式にくらべて吸着工程の圧力が高く、吸着部が小型化し、設備を小型化できる。
これにより、圧力を開放した離脱工程の初期に、それまで吸着部内にあった高濃度の窒素が排出されることにより所定の酸素濃度に達しない低純度のガスを排出する。
これにより、離脱の終期に吸着部の洗浄ガスにより純度が低下し、所定の酸素濃度に達しない低純度のガスを排出する。
これにより、上記吸着部の圧力を開放する離脱工程の初期に発生する爆発音のような騒音を軽減することができる。
これにより、離脱工程において吸着部から吐出される高酸素ガスの純度が確保される。また、低酸素ガス吐出路にバッファタンクを備えることで、一定量、一定圧力で低酸素ガスを供給できる。
これにより、高酸素ガスの利用設備への高酸素ガスの供給と、低酸素ガスの利用設備への低酸素ガスの供給を、同時に実現できる。
上記切換手段は、吸着工程と離脱工程を切換える。上記吸着工程では、上記吸着部を高圧に保って上記吸着剤に酸素を吸着させる。上記離脱工程では、上記吸着部の圧力を開放して上記吸着剤に吸着された酸素を離脱させる。
上記吸着工程で得られた低酸素ガスは、低酸素ガス吐出路から吐出される。
上記離脱工程で得られた高酸素ガスは、高酸素ガス吐出路から吐出される。
排気手段は、上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスを排気する。そして、上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスを、高酸素ガスの利用設備に供給する。
請求項7記載の高酸素ガスの供給方法は、所定濃度に達しない高酸素ガスを排気し、排気されなかった高酸素ガスを高酸素ガスの利用設備で利用する。したがって、目的とする高酸素ガスよりも純度の低いガスが利用設備に混入して高酸素ガスの純度が不安定になるという不都合が起こらない。また、純度の低下を回復するために、動力をかけて製造した高純度酸素ガスを、利用設備に導入する必要がなくなる。このような運用ではエネルギーが無駄に消費されることがない。また、吸着工程で酸素を吸着する吸着剤を用いるため、たとえば窒素吸着方式にくらべて吸着工程の圧力が高く、吸着部が小型化し、設備を小型化できる。
図1は、本発明の高酸素ガスの供給装置の第1実施形態を示す構成図である。この装置により、本発明の高酸素ガスの供給方法を行うことができる。
上記高酸素ガスの供給装置は、圧縮機1、PSA機構部30、高酸素ガス利用設備10、および低酸素ガス利用設備20を備えている。
上記圧縮機1は、上記PSA機構部30に送り込む空気を圧縮する。
上記PSA機構部30は、上記圧縮機1から送り込まれた空気を原料として、高酸素ガスおよび低酸素ガスをつくる。
上記高酸素ガス利用設備10は、上記PSA機構部30で得られた高酸素ガスが導入されて高酸素ガスが利用に供される。
上記低酸素ガス利用設備20は、上記PSA機構部30で得られた低酸素ガスが導入されて低酸素ガスが利用に供される。
図2は、上記PSA機構部30の詳細を説明する図である。
上記PSA機構部30は、複数(この例では「第1」と「第2」の2つ)の吸着部31A,31Bを備えている。上記第1吸着部31Aと第2吸着部31Bには、上記圧縮機1から空気が供給される。
上記第2吸着部31Bには、入口側(図の下側)に、上記原料空気路3から分岐する第2入口路33Bが接続されている。上記第2吸着部31Bの出口側(図の上側)には、上記低酸素ガス吐出路21に合流する第2出口路34Bが接続されている。
同様に、上記第2入口路33Bには、上記高酸素ガス吐出路11に合流する第2離脱ガス路35Bが分岐している。
第1吸着部31Aでは、吸着工程において、第1入口路33Aの弁をあけて圧縮された原料空気が導入され、原料空気中の酸素が吸着剤32に吸着され、それにより得られた低酸素ガスが第1出口路34Aから吐出される。離脱工程では、第1入口路33Aおよび第1出口路34Aの弁を閉じ、第1離脱ガス路35Aの弁をあけて第1吸着部31A内の圧力を開放し、吸着剤32に吸着されていた酸素を離脱させ、それにより得られた高酸素ガスが第1離脱ガス路35Aから吐出される。
第2吸着部31Bでも同様の吸着工程と離脱工程が行われる。
上記離脱工程で得られた高酸素ガスは、高酸素ガス吐出路11から吐出される。上記高酸素ガス吐出路11から吐出された高酸素ガスは、高酸素ガス利用設備10において利用される。
符号38は、第1吸着部31Aと第2吸着部31Bの入口側を連通する下部均圧路38である。
本実施形態の高酸素ガスの供給装置は、排気手段を備えている。
上記排気手段は、上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期に、上記高酸素ガス吐出路11に吐出される高酸素ガスを排気する。具体的には、高酸素ガス吐出路11の開閉弁15を閉じて上記高酸素ガス吐出路11に吐出される高酸素ガスが高酸素ガス利用設備10に導入されるのを止める。このとき、上記高酸素ガス吐出路11に吐出される高酸素ガスは、排気路13から排出される。これにより、上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスが高酸素ガス利用設備10に導入されて利用される。
これにより、離脱工程において吸着部から吐出される高酸素ガスの純度が確保される。また、低酸素ガス吐出路21にバッファタンク23を備えることで、一定量、一定圧力で低酸素ガスを供給できる。
上記実施形態の高酸素ガスの供給装置および方法では、所定濃度に達しない高酸素ガスを排気し、排気されなかった高酸素ガスを高酸素ガスの利用設備に供給する。したがって、目的とする高酸素ガスよりも純度の低いガスが利用設備に混入して高酸素ガスの純度が不安定になるという不都合が起こらない。また、純度の低下を回復するために、動力をかけて製造した高純度酸素ガスを、利用設備に導入する必要がなくなる。このような運用ではエネルギーが無駄に消費されることがない。また、吸着工程で酸素を吸着する吸着剤32を用いるため、たとえば窒素吸着方式にくらべて吸着工程の圧力が高く、吸着部31A,31Bが小型化し、設備を小型化できる。
これにより、圧力を開放した離脱工程の初期に、それまで吸着部31A,31B内にあった高濃度の窒素が排出されることにより所定の酸素濃度に達しない低純度のガスを排出する。
これにより、離脱の終期に吸着部31A,31Bの洗浄ガスにより純度が低下し、所定の酸素濃度に達しない低純度のガスを排出する。
これにより、適切なタイミングで排気手段を動作させ、所定濃度に達しない高酸素ガスを確実に排気し、低純度のガスが高酸素ガス利用設備10に入ってしまうのを確実に防ぐ。
これにより、上記吸着部31A,31Bの圧力を開放する離脱工程の初期に発生する爆発音のような騒音を軽減することができる。
これにより、離脱工程において吸着部31A,31Bから吐出される高酸素ガスの純度が確保される。また、低酸素ガス吐出路21にバッファタンク23を備えることで、一定量、一定圧力で低酸素ガスを供給できる。
これにより、高酸素ガスの利用設備10への高酸素ガスの供給と、低酸素ガスの利用設備20への低酸素ガスの供給を、同時に実現できる。
図4は、本発明の高酸素ガスの供給装置および方法の第2実施形態を示す構成図である。
この例は、第1空気混入路12が高酸素ガス吐出路11に合流するのではなく、高酸素ガス利用設備10に直接接続されている。同様に、第2空気混入路22も低酸素ガス吐出路21に合流するのではなく、低酸素ガス利用設備20に直接接続されている。
また、高酸素ガス吐出路11にバッファタンク51とブロア52が設けられており、上記PSA機構部30からの高酸素ガスの流量変化によらず、一定流量の高酸素ガスを上記高酸素ガス利用設備10に導入することができる。排気路13は、上記バッファタンク51の上流で分岐している。上記排気路13にはサイレンサ14が設けられている。上記高酸素ガス吐出路11には、上記バッファタンク51と上記排気路13の分岐点のあいだに、開閉弁53が設けられている。開閉弁53の開閉操作により、上記PSA機構部30から上記高酸素ガス吐出路11に吐出される高酸素ガスを、高酸素ガス利用設備10に導入しないで排気路13から排気することができる。
図5は、本発明の高酸素ガスの供給および方法の第3実施形態を示す構成図である。
この例は、高酸素ガス利用設備を高酸素環境を実現する高酸素室70とし、低酸素ガス利用設備を低酸素環境を実現する低酸素室80とした例である。この例では、高酸素環境や低酸素環境を、医療用途等に用いることができる。
以上は本発明の特に好ましい実施形態について説明したが、本発明は図示した実施形態に限定する趣旨ではなく、各種の態様に変形して実施することができ、本発明は各種の変形例を包含する趣旨である。
たとえば、第1実施形態において、第1空気混入路12を高酸素ガス利用設備10に直接接続し、第2空気混入路22を低酸素ガス利用設備20に直接接続するようにしてもよい。
2:原料空気タンク
3:原料空気路
10:高酸素ガス利用設備
11:高酸素ガス吐出路
12:第1空気混入路
13:排気路
14:サイレンサ
15:開閉弁
20:低酸素ガス利用設備
21:低酸素ガス吐出路
22:第2空気混入路
23:バッファタンク
30:PSA機構部
31A:第1吸着部
31B:第2吸着部
32:吸着剤
33A:第1入口路
33B:第2入口路
34A:第1出口路
34B:第2出口路
35A:第1離脱ガス路
35B:第2離脱ガス路
36:浄化路
36A:オリフィス
37:上部均圧路
38:下部均圧路
42:流量計
51:バッファタンク
52:ブロア
53:開閉弁
60:酸素濃度計
61:酸素濃度計
70:高酸素室
80:低酸素室
Claims (7)
- 空気を圧縮する圧縮機と、
上記圧縮機から空気が供給される吸着部と、
上記吸着部に充填され、供給された空気中の酸素を高圧力下で吸着し、その吸着された酸素を開放圧力化で離脱する吸着剤と、
上記吸着部を高圧に保って上記吸着剤に酸素を吸着させる吸着工程と、上記吸着部の圧力を開放して上記吸着剤に吸着された酸素を離脱させる離脱工程とを切換える切換手段と、
上記吸着工程で得られた低酸素ガスを吐出する低酸素ガス吐出路と、
上記離脱工程で得られた高酸素ガスを吐出する高酸素ガス吐出路と、
上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスを排気する排気手段とを備え、
上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスを、高酸素ガスの利用設備に供給する
ことを特徴とする高酸素ガスの供給装置。 - 上記酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記離脱工程の初期の所定期間を含む
請求項1記載の高酸素ガスの供給装置。 - 上記酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記離脱工程の終期の所定期間を含む
請求項1または2記載の高酸素ガスの供給装置。 - 上記排気手段が、サイレンサを備えている
請求項1〜3のいずれか一項に記載の高酸素ガスの供給装置。 - 上記低酸素ガス吐出路に設けれたバッファタンクを備え、上記バッファタンクから所定流量以上の低酸素ガスを常に排出する
請求項1〜4のいずれか一項に記載の高酸素ガスの供給装置。 - 上記低酸素ガス吐出路から吐出される低酸素ガスを、低酸素ガスの利用設備に供給する
請求項1〜5のいずれか一項に記載の高酸素ガスの供給装置。 - 空気を圧縮する圧縮機と、
上記圧縮機から空気が供給される吸着部と、
上記吸着部に充填され、供給された空気中の酸素を高圧力下で吸着し、その吸着された酸素を開放圧力化で離脱する吸着剤と、
上記吸着部を高圧に保って上記吸着剤に酸素を吸着させる吸着工程と、上記吸着部の圧力を開放して上記吸着剤に吸着された酸素を離脱させる離脱工程とを切換える切換手段とを準備し、
上記吸着工程で得られた低酸素ガスを低酸素ガス吐出路から吐出し、
上記離脱工程で得られた高酸素ガスを高酸素ガス吐出路から吐出し、
上記離脱工程において、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスの酸素濃度が所定濃度に達しない時期は、上記高酸素ガス吐出路に吐出される高酸素ガスを排気手段により排気し、
上記排気手段で排気されなかった高酸素ガスを、高酸素ガスの利用設備に供給する
ことを特徴とする高酸素ガスの供給方法。
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JP2005144261A (ja) * | 2003-11-12 | 2005-06-09 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 異なる種類の高濃度ガスの併産方法および併産システム |
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2019
- 2019-03-06 JP JP2019040089A patent/JP7262250B2/ja active Active
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