JP2020131461A - Release film - Google Patents

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JP2020131461A JP2019024246A JP2019024246A JP2020131461A JP 2020131461 A JP2020131461 A JP 2020131461A JP 2019024246 A JP2019024246 A JP 2019024246A JP 2019024246 A JP2019024246 A JP 2019024246A JP 2020131461 A JP2020131461 A JP 2020131461A
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Abstract

To provide a release film which can suppress occurrence of wrinkles while maintaining releasability, suppresses sticking to a hot press plate, and is suitable for manufacture of a flexible circuit board.SOLUTION: A release film includes an intermediate layer, a first release layer laminated on one surface of the intermediate layer and a second release layer laminated on the other surface of the intermediate layer, in which the first release layer contains a first thermoplastic resin and first inorganic particles, an unevenness average interval Sm of the outer surface of the first release layer is 100 μm or more and 350 μm or less, the second release layer contains a second thermoplastic resin and second inorganic particles, and a ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer is 6.5 μm or more and 15 μm or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、離型フィルムに関する。より詳細には、本発明は、フレキシブルプリント配線基板の製造に用いられる離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film. More specifically, the present invention relates to a release film used in the manufacture of flexible printed wiring boards.

フレキシブル回路基板の製造工程においては、銅回路を形成したフレキシブル回路基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化型接着シートによってカバーレイフィルムが熱プレス接着される。このとき、カバーレイフィルムと熱プレス板とが接着するのを防止するために離型フィルムが広く使用されている。 In the process of manufacturing a flexible circuit board, a coverlay film is hot-press-bonded to a flexible circuit board body on which a copper circuit is formed by a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet. At this time, a release film is widely used to prevent the coverlay film and the hot press plate from adhering to each other.

これまで、ポリメチルペンテン樹脂等の様々な樹脂からなる離型フィルムが提案されている(特許文献1)。たとえば、特許文献1には、表面塗装、接着層およびクッション層を含み、表面層がポリ4−メチル−1−メチルペンテン樹脂を含む離型フィルムが記載されている。 So far, release films made of various resins such as polymethylpentene resin have been proposed (Patent Document 1). For example, Patent Document 1 describes a release film containing a surface coating, an adhesive layer and a cushion layer, and the surface layer contains a poly4-methyl-1-methylpentene resin.

近年、スマートフォン、タブレットPC等の普及に伴い、フレキシブル回路基板は高機能化し、薄膜化が進んでいる。また、ロールツーロール(RtoR)方法等の製造方法の自動化も進んでおり、このような製造方法の自動化に伴って、フレキシブル回路基板の製造工程で離型フィルムに生じたシワがフレキシブル回路基板へ転写する場合があった。また、熱プレス接着の後、離型フィルムが熱プレス板に張り付き、作業性が低下したり、フレキシブル回路基板が折れたりする場合があった。 In recent years, with the spread of smartphones, tablet PCs, etc., flexible circuit boards have become more sophisticated and thinner. In addition, automation of manufacturing methods such as the roll-to-roll (RtoR) method is also progressing, and with the automation of such manufacturing methods, wrinkles generated on the release film in the manufacturing process of the flexible circuit board are transferred to the flexible circuit board. It was sometimes transferred. Further, after the heat press bonding, the release film may stick to the heat press plate, which may reduce workability or break the flexible circuit board.

国際公開第06/120983号International Publication No. 06/120983

本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、離型性を維持したまま、シワの発生を抑制でき、熱プレス板に対する張り付きが抑制された、フレキシブル回路基板の製造に適した離型フィルムを提供する。 The present invention has been made in view of the above problems, and is suitable for the production of a flexible circuit board, which can suppress the generation of wrinkles and suppress the sticking to a hot press plate while maintaining the releasability. Providing a film.

本発明によれば、
中間層と、
前記中間層の一方の面に積層された第1の離型層と、
前記中間層の他方の面に積層された第2の離型層と、を含み、
前記第1の離型層は、第1の熱可塑性樹脂と第1の無機粒子とを含み、
前記第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smは、100μm以上350μm以下であり、
前記第2の離型層は、第2の熱可塑性樹脂と第2の無機粒子とを含み、
前記第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzは、6.5μm以上15μm以下である、離型フィルムが提供される。
According to the present invention
With the mesosphere
The first release layer laminated on one surface of the intermediate layer and
Includes a second release layer laminated on the other surface of the mesosphere.
The first release layer contains a first thermoplastic resin and a first inorganic particle.
The average unevenness interval Sm on the outer surface of the first release layer is 100 μm or more and 350 μm or less.
The second release layer contains a second thermoplastic resin and a second inorganic particle.
A release film having a ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer of 6.5 μm or more and 15 μm or less is provided.

また本発明によれば、
対象物上に上記離型フィルムを、前記第1の離型層が前記対象物側となるように配置する工程と、
前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、熱プレス板を用いて加熱プレスを行う工程と、を含む成形品の製造方法が提供される。
Further, according to the present invention.
A step of arranging the release film on the object so that the first release layer is on the object side.
Provided is a method for producing a molded product, which comprises a step of heat-pressing the object on which the release film is arranged using a heat-pressed plate.

本発明によれば、離型性を維持したまま、シワの発生を抑制でき、熱プレス板に対する張り付きが抑制された、フレキシブル回路基板の製造に適した離型フィルムが提供される。 According to the present invention, there is provided a release film suitable for manufacturing a flexible circuit board, which can suppress the occurrence of wrinkles while maintaining the releasability and suppress the sticking to a hot press plate.

離型フィルムの熱プレス板への張り付きおよびエア残りを評価するために使用した熱プレス処理の様式を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the mode of the heat press process used for evaluating the sticking of a release film to a heat press plate, and the air residue.

以下、本発明の実施の形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.

本実施形態の離型フィルムは、中間層と、中間層の一方の面に積層された第1の離型層と、中間層の他方の面に積層された第2の離型層とを含む。換言すると、第1の離型層、中間層、および第2の離型層が、この順で積層された構造を有する。本実施形態の離型フィルムにおいて第1の離型層は、第1の熱可塑性樹脂と第1の無機粒子とを含み、第一の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smは、100μm以上350μm以下である。また、第
2の離型層は、第2の熱可塑性樹脂と第2の無機粒子とを含み、第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzは、6.5μm以上15μm以下である。
The release film of the present embodiment includes an intermediate layer, a first release layer laminated on one surface of the intermediate layer, and a second release layer laminated on the other surface of the intermediate layer. .. In other words, the first release layer, the intermediate layer, and the second release layer have a structure in which they are laminated in this order. In the release film of the present embodiment, the first release layer contains the first thermoplastic resin and the first inorganic particles, and the unevenness average spacing Sm of the outer surface of the first release layer is 100 μm or more. It is 350 μm or less. Further, the second release layer contains the second thermoplastic resin and the second inorganic particles, and the ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer is 6.5 μm or more. It is 15 μm or less.

本実施形態の離型フィルムは、フレキシブルプリント回路基板等の成形品の製造において、第1の離型層がフレキシブル回路基板側に、第2の離型層が熱プレス板側になるように配置されて使用される。本発明者は、第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smと、第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzとの両方が所定の範囲内である離型フィルムであれば、離型性を維持したまま、エア残りによるシワの発生を抑制できるとともに、熱プレス板への張り付きが抑制できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The release film of the present embodiment is arranged so that the first release layer is on the flexible circuit board side and the second release layer is on the hot press plate side in the production of a molded product such as a flexible printed circuit board. Will be used. According to the present inventor, both the average unevenness interval Sm of the outer surface of the first release layer and the ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer are within a predetermined range. We have found that the mold film can suppress the generation of wrinkles due to the residual air and the sticking to the hot press plate while maintaining the releasability, and have completed the present invention.

本実施形態の離型フィルムにおいて、第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smは、100μm以上350μm以下である。一実施形態において、第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smは、好ましくは、150μm以上310μm以下であり、より好ましくは、180μm以上300μm以下である。第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smが上記範囲内であることにより、エア抜けが良好であるため、エア残りによるボイドやシワの発生が抑制される。凹凸平均間隔Smは、JIS−B0601−1994に準じて測定することができる。Smの値が小さいほど、離型フィルムのエア抜けが良好となるものの、このような小さいSmを達成するためには、無機粒子の配合量を増量する必要がある。しかし無機粒子の配合量が多いほど、その離型フィルムの強度は低下する傾向にある。本実施形態の離型フィルムは、Smの値を上記範囲とすることにより、離型フィルムの強度とエア抜け性とを良好なバランスで改善することができる。 In the release film of the present embodiment, the unevenness average interval Sm of the outer surface of the first release layer is 100 μm or more and 350 μm or less. In one embodiment, the average unevenness spacing Sm on the outer surface of the first release layer is preferably 150 μm or more and 310 μm or less, and more preferably 180 μm or more and 300 μm or less. When the average interval Sm of the unevenness on the outer surface of the first release layer is within the above range, air bleeding is good, so that the generation of voids and wrinkles due to the remaining air is suppressed. The unevenness average interval Sm can be measured according to JIS-B0601-1994. The smaller the value of Sm, the better the air bleeding of the release film, but in order to achieve such a small Sm, it is necessary to increase the blending amount of the inorganic particles. However, the larger the amount of the inorganic particles, the lower the strength of the release film tends to be. By setting the Sm value in the above range, the release film of the present embodiment can improve the strength of the release film and the air bleeding property in a good balance.

本実施形態の離型フィルムにおいて、第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzは、6.5μm以上15μm以下である。一実施形態において、十点平均高さ粗さRzは、好ましくは、7μm以上14μm以下であり、より好ましくは、8μm以上13μm以下である。第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzが上記範囲内であることにより、熱プレス板への張り付きが全くかまたはほとんど生じない。そのため、フレキシブルプリント回路基板の製造における作業性が改善され、フレキシブルプリント回路基板の破損が防止される。上記Rzの値が大きいほど、熱プレス板へ張り付きにくくなるもの、Rzの値を大きくするためには無機粒子の配合量を増量する必要がある。しかし無機粒子の配合量が多いほど、その離型フィルム強度は低下する傾向にある。本実施形態の離型フィルムは、Rzの値を上記範囲とすることにより、離型フィルムの強度と熱プレス板への張り付き性をバランスよく改善することができる。 In the release film of the present embodiment, the ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer is 6.5 μm or more and 15 μm or less. In one embodiment, the ten-point average height roughness Rz is preferably 7 μm or more and 14 μm or less, and more preferably 8 μm or more and 13 μm or less. When the ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer is within the above range, there is little or no sticking to the heat press plate. Therefore, workability in manufacturing the flexible printed circuit board is improved, and damage to the flexible printed circuit board is prevented. The larger the value of Rz, the more difficult it is to stick to the hot press plate. In order to increase the value of Rz, it is necessary to increase the amount of the inorganic particles blended. However, the larger the amount of the inorganic particles, the lower the strength of the release film tends to be. By setting the Rz value in the above range, the release film of the present embodiment can improve the strength of the release film and the stickiness to the heat press plate in a well-balanced manner.

ここで、「十点平均高さ粗さRz」とは、基準長さLにおいて最も高い山頂から高さが5番目までの山頂の標高をそれぞれYp1、Yp2、Yp3、Yp4及びYp5、最も深い谷底から深さが5番目までの谷底の標高をそれぞれYv1、Yv2、Yv3、Yv4及びYv5としたとき、下記式(1)によって求められる値を意味する。「十点平均高さ粗さRz」は、触針式表面粗さ測定機(例えば、Mitsutoyo社製のサーフテストSJ−210等)を用い、JIS B0601:1994に準拠する方法で、先端半径2μm、円錐のテーパ角60°の触針を用い、測定力0.75mN、カットオフ値λs=2.5μm(なお、測定しようとする対象の表面粗さがカットオフ値未満である場合はカットオフ値を調整してもよい)、λc=0.8mmの条件にて測定することができる。
Rz=(|Yp1+Yp2+Yp3+Yp4+Yp5|+|Yv1+Yv2+Yv3+Yv4+Yv5|)/5 ・・・式(1)
Here, the "ten-point average height roughness Rz" means that the elevations of the highest peaks to the fifth highest peaks in the reference length L are Yp1, Yp2, Yp3, Yp4 and Yp5, respectively, and the deepest valley bottom. When the elevations of the valley bottoms from to the fifth depth are Yv1, Yv2, Yv3, Yv4 and Yv5, respectively, it means the value obtained by the following equation (1). "Ten-point average height roughness Rz" is a method based on JIS B0601: 1994 using a stylus type surface roughness measuring machine (for example, surf test SJ-210 manufactured by Mitutoyo), and has a tip radius of 2 μm. , Using a stylus with a conical taper angle of 60 °, measuring force 0.75 mN, cutoff value λs = 2.5 μm (Note that if the surface roughness of the object to be measured is less than the cutoff value, cutoff The value may be adjusted), and the measurement can be performed under the condition of λc = 0.8 mm.
Rz = (| Yp1 + Yp2 + Yp3 + Yp4 + Yp5 | + | Yv1 + Yv2 + Yv3 + Yv4 + Yv5 |) / 5 ... Equation (1)

第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Sm、および第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzは、各離型層に用いられる熱可塑性樹脂の種類、無機粒子の種類、無機粒子の粒径および粒径分布、それらの配合量等を調整することにより、所望の範囲に制御することができる。 The uneven average spacing Sm of the outer surface of the first release layer and the ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer are the types of thermoplastic resins used for each release layer and inorganic. It can be controlled within a desired range by adjusting the type of particles, the particle size and particle size distribution of the inorganic particles, the blending amount thereof, and the like.

本実施形態の離型フィルムにおいて、第1の離型層は、第1の熱可塑性樹脂と第1の無機粒子とを含む。第1の熱可塑性樹脂としては、ポリメチルペンテン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等が挙げられるがこれらに限定されない。これらは1種単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、離型性と追従性が良好な離型層が得られることから、第1の熱可塑性樹脂として、ポリメチルペンテン樹脂を用いることが好ましい。 In the release film of the present embodiment, the first release layer contains a first thermoplastic resin and a first inorganic particle. Examples of the first thermoplastic resin include, but are not limited to, polymethylpentene resin, polyester resin, polystyrene resin, polypropylene resin, polyethylene resin and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Above all, it is preferable to use a polymethylpentene resin as the first thermoplastic resin because a release layer having good releasability and followability can be obtained.

ポリメチルペンテン樹脂としては、ポリ4−メチル−1−ペンテン樹脂、または4−メチル−1−ペンテンと4−メチル−1−ペンテン以外の炭素数2〜20のオレフィンとの共重合体が挙げられる。 Examples of the polymethylpentene resin include a poly4-methyl-1-pentene resin or a copolymer of 4-methyl-1-pentene and an olefin having 2 to 20 carbon atoms other than 4-methyl-1-pentene. ..

ポリエステル樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート樹脂(PET)、ポリブチレンテレフタレート樹脂(PBT)、ポリトリメチレンテレフタレート樹脂(PTT)、ポリヘキサメチレンテレフタレート樹脂(PHT)等のポリアルキレンテレフタレート樹脂、及び他の成分を共重合したポリエステル系共重合体樹脂が挙げられる。これらは、1種または2種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも、離型性と追従性のバランスを向上させる観点から、ポリブチレンテレフタレート樹脂を用いることが好ましい。なお、上記ポリエステル樹脂は、結晶性のポリエステル樹脂であっても、非晶性のポリエステル樹脂であってもよい。 As the polyester resin, a polyalkylene terephthalate resin such as polyethylene terephthalate resin (PET), polybutylene terephthalate resin (PBT), polytrimethylene terephthalate resin (PTT), polyhexamethylene terephthalate resin (PHT), and other components are used together. Examples thereof include a polymerized polyester-based copolymer resin. These may be used alone or in combination of two or more. Above all, it is preferable to use polybutylene terephthalate resin from the viewpoint of improving the balance between releasability and followability. The polyester resin may be a crystalline polyester resin or an amorphous polyester resin.

第1の無機粒子としては、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、アルミナ、シリカおよびゼオライト等が挙げられるがこれらに限定されない。これらは1種単独で用いても、2種以上を混合して用いてもよい。 Examples of the first inorganic particles include, but are not limited to, calcium carbonate, zinc oxide, alumina, silica, zeolite and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

本実施形態の離型フィルムにおいて、第2の離型層は、第2の熱可塑性樹脂と第2の無機粒子とを含む。第2の熱可塑性樹脂および第2の無機粒子は、第1の熱可塑性樹脂および第1の無機粒子と同じまたは異なるものを使用することができる。 In the release film of the present embodiment, the second release layer contains a second thermoplastic resin and a second inorganic particle. As the second thermoplastic resin and the second inorganic particles, the same or different ones as those of the first thermoplastic resin and the first inorganic particles can be used.

第1および第2の離型層は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに、酸化防止剤、結晶核材、繊維、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等の添加剤を含有してもよい。 The first and second release layers further contain additives such as antioxidants, crystal nuclei, fibers, flame retardants, ultraviolet absorbers, and antistatic agents, as long as the effects of the present invention are not impaired. You may.

一実施形態において、第1の離型層は、平均粒径D50が10μm以上40μm以下の第1の無機粒子を含み、第1の無機粒子は、第1の離型層全体に対して、10質量%以上30質量%以下の量であることが好ましい。上記構成により、第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smを所望の値に調整することができ、よってエア抜け性が改善された離型フィルムが得られる。 In one embodiment, the first release layer, the average particle diameter D 50 includes the following first inorganic particles 40μm or 10 [mu] m, the first inorganic particles, for the entire first release layer, The amount is preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less. With the above configuration, the average unevenness interval Sm on the outer surface of the first release layer can be adjusted to a desired value, and thus a release film with improved air bleeding property can be obtained.

一実施形態において、第1の離型層の外表面の最大高さ粗さRzは、5μm以上15μm以下とすることができ、より好ましくは、7μm以上10μm以下とすることができる。上記範囲とすることにより、エア抜け性がより改善された離型フィルムが得られる。 In one embodiment, the maximum height roughness Rz of the outer surface of the first release layer can be 5 μm or more and 15 μm or less, and more preferably 7 μm or more and 10 μm or less. By setting the above range, a release film having further improved air release property can be obtained.

第1の離型層の厚みは、好ましくは、20μm以上40μm以下である。第2の離型層の厚みが上記範囲であることにより、離型性を維持したままでシワの発生を抑制することができる。 The thickness of the first release layer is preferably 20 μm or more and 40 μm or less. When the thickness of the second release layer is within the above range, it is possible to suppress the occurrence of wrinkles while maintaining the release property.

一実施形態において、第2の離型層は、平均粒径D50が10μm以上40μm以下の第2の無機粒子を含み、第2の無機粒子は、第2の離型層全体に対して、10質量%以上30質量%以下の量であることが好ましい。上記構成により、第2の離型層の外表面の十点平均粗さRzを所望の値に調整することができ、よって熱プレス板への張り付きが生じないかまたは低減された離型フィルムが得られる。 In one embodiment, the second release layer, the average particle diameter D 50 includes the following second inorganic particles 40μm or 10 [mu] m, the second inorganic particles, for the entire second release layer, The amount is preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less. With the above configuration, the ten-point average roughness Rz of the outer surface of the second release layer can be adjusted to a desired value, so that the release film with no or reduced sticking to the heat press plate can be obtained. can get.

一実施形態において、第2の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smは、50μm以上400μm以下とすることができ、より好ましくは、100μm以上350μm以下とすることができる。上記範囲とすることにより、熱プレス板への張り付きが低減された離型フィルムが得られる。 In one embodiment, the average unevenness spacing Sm on the outer surface of the second release layer can be 50 μm or more and 400 μm or less, and more preferably 100 μm or more and 350 μm or less. By setting the above range, a release film with reduced sticking to the heat press plate can be obtained.

第2の離型層の厚みは、好ましくは、20μm以上40μm以下である。第2の離型層の厚みが上記範囲であることにより、離型性を維持したままでシワの発生を抑制することができる。 The thickness of the second release layer is preferably 20 μm or more and 40 μm or less. When the thickness of the second release layer is within the above range, it is possible to suppress the occurrence of wrinkles while maintaining the release property.

本実施形態の離型フィルムが備える中間層を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロプレン等のα−オレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を重合体成分として有するα−オレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂が挙げられる。これらは、単独であるいは複数併用しても構わない。中でも、良好なクッション機能を有することから、α−オレフィン系共重合体が好ましい。このα−オレフィン系共重合体としては、エチレン等のα−オレフィンと(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体、およびそれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。さらに、良好なクッション機能を得る観点から、エチレン等のα−オレフィン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体を単独で用いたもの、または、ポリブチレンテレフタレートと1,4シクロヘキサンジメタノール共重合ポリエチレンテレフタレートとの混合物、α−オレフィン系重合体とエチレン等のα−オレフィン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体との混合物が好ましい。たとえば、エチレンとエチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)との混合物、ポリプロピレン(PP)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)との混合物、ポリブチレンテレフタレート(PBT)とポリプロピレン(PP)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(EMMA)との混合物、などがより好ましい。 As the resin constituting the intermediate layer included in the release film of the present embodiment, α-olefin-based polymers such as polyethylene and polypropylene, ethylene, propylene, butene, penten, hexene, methylpentene and the like are contained as polymer components. Examples thereof include engineering plastics-based resins such as α-olefin copolymers, polyether sulfones, and polypropylene sulfides. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, α-olefin copolymers are preferable because they have a good cushioning function. Examples of the α-olefin copolymer include a copolymer of α-olefin such as ethylene and (meth) acrylic acid ester, a copolymer of ethylene and vinyl acetate, and a copolymer of ethylene and (meth) acrylic acid. Examples thereof include polymers and partially ionic crosslinked products thereof. Further, from the viewpoint of obtaining a good cushioning function, an α-olefin- (meth) acrylic acid ester copolymer such as ethylene is used alone, or a polybutylene terephthalate and a 1,4 cyclohexanedimethanol copolymerized polyethylene terephthalate. , And a mixture of an α-olefin polymer and an α-olefin- (meth) acrylic acid ester copolymer such as ethylene are preferable. For example, a mixture of ethylene and ethylene-methylmethacrylate copolymer (EMMA), a mixture of polypropylene (PP) and ethylene-methylmethacrylate copolymer (EMMA), polybutylene terephthalate (PBT), polypropylene (PP) and ethylene. -A mixture with methyl methacrylate copolymer (EMMA), etc. is more preferable.

一実施形態において、中間層はさらにゴム成分を含んでもよい。ゴム成分としては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体等のスチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、アミド系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等の熱可塑性エラストマー材料、天然ゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコンゴム等のゴム材料等が挙げられる。 In one embodiment, the intermediate layer may further contain a rubber component. Examples of the rubber component include styrene-based thermoplastic elastomers such as styrene-butadiene copolymers and styrene-isoprene copolymers, olefin-based thermoplastic elastomers, amide-based elastomers, and thermoplastic elastomer materials such as polyester-based elastomers, and natural rubber. , Isoprene rubber, chloroprene rubber, rubber materials such as silicon rubber and the like.

中間層は、本発明の効果を損なわない範囲で、さらに、酸化防止剤、結晶核材、繊維、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等の添加剤を含有してもよい。 The intermediate layer may further contain additives such as antioxidants, crystal nuclei, fibers, flame retardants, ultraviolet absorbers, and antistatic agents as long as the effects of the present invention are not impaired.

中間層の厚みは、30μm以上70μm以下とすることができる。中間層の厚みが30μm未満であると、離型フィルムを用いた熱プレス接着において、これを備える離型フィルムのクッション性が低下し、カバーレイ接着剤の流れ出しが生じる場合がある。中間層の厚みが70μmを超えると、離型フィルムにシワが発生する場合がある。 The thickness of the intermediate layer can be 30 μm or more and 70 μm or less. If the thickness of the intermediate layer is less than 30 μm, the cushioning property of the release film provided with the release film may be lowered in the hot press bonding using the release film, and the coverlay adhesive may flow out. If the thickness of the intermediate layer exceeds 70 μm, wrinkles may occur on the release film.

一実施形態において、離型フィルムの厚みは、特に限定されないが、好ましくは、70μm以上150μm以下であり、より好ましくは、90μm以上130μm以下である。また、第1の離型層と第2の離型層の合計厚みは、離型フィルムの厚みのうち半分を超える厚みを占めることが好ましい。このような離型フィルムにおいて、シワの発生が効果的に抑制され、かつ熱プレス板に対する張り付きが抑制される。 In one embodiment, the thickness of the release film is not particularly limited, but is preferably 70 μm or more and 150 μm or less, and more preferably 90 μm or more and 130 μm or less. Further, the total thickness of the first release layer and the second release layer preferably occupies more than half of the thickness of the release film. In such a release film, the generation of wrinkles is effectively suppressed, and the sticking to the hot press plate is suppressed.

本実施形態の離型フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、一方の離型層となるフィルムを作製した後、このフィルムに中間層を押出ラミネート法にて積層し、次いで他方の離型層をドライラミネーションする方法、一方の離型層となるフィルム、中間層となるフィルム及び他方の離型層となるフィルムをドライラミネーションする方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。 The method for producing the release film of the present embodiment is not particularly limited, and for example, a water-cooled or air-cooled coextrusion inflation method, a coextrusion T-die method, or a film serving as one of the release layers is produced. After that, an intermediate layer is laminated on this film by an extrusion laminating method, and then the other release layer is dry-laminated, one release layer film, an intermediate layer film, and the other release layer. Examples thereof include a dry lamination method, a solvent casting method, and a hot press molding method.

本実施形態の離型フィルムは、フレキシブル回路基板等の成形品の製造に用いられる。
本実施形態の成形品の製造方法は、以下の工程を含む。
(工程1)対象物上に、本実施形態の離型フィルムを、第1の離型層が対象物側となるように配置する工程。
(工程2)離型フィルムが配置された対象物に対し、熱プレス板を用いて加熱プレスを行う工程。
工程1は、離型フィルムの第1の離型層が対象物側になるよう配置する。工程2では、対象物に対して、離型フィルムを介して、熱プレス板で加熱プレスを行う。また、加熱プレスを行う前に、離型フィルムの第2の離型層の上に板材を配置してもよい。これにより、対象物の表面に凹凸がある場合であっても、離型フィルムと対象物との密着性を良好なものとでき、また対象物に対して均等に加圧することができる。
板材としては、クッション性を有する材料が好ましく、例えば、紙、ゴム、フッ素樹脂シート、ガラスペーパー等が挙げられる。
The release film of this embodiment is used for manufacturing a molded product such as a flexible circuit board.
The method for producing a molded product of the present embodiment includes the following steps.
(Step 1) A step of arranging the release film of the present embodiment on an object so that the first release layer is on the object side.
(Step 2) A step of performing a heat press on an object on which a release film is placed using a heat press plate.
In step 1, the first release layer of the release film is arranged so as to be on the object side. In step 2, the object is heat-pressed with a heat-pressed plate via a release film. Further, the plate material may be arranged on the second release layer of the release film before the heat press is performed. As a result, even when the surface of the object is uneven, the adhesion between the release film and the object can be improved, and the object can be evenly pressurized.
As the plate material, a material having a cushioning property is preferable, and examples thereof include paper, rubber, a fluororesin sheet, and glass paper.

一実施形態において、対象物の離型フィルムが配置される面は、熱硬化性樹脂を含む層を備えていてもよい。本実施形態の離型フィルムは、このような対象物の熱硬化性樹脂層上に配置された場合であっても、シワの発生がなく、得られる成形品は良好な外観を有する。 In one embodiment, the surface on which the release film of the object is placed may include a layer containing a thermosetting resin. The release film of the present embodiment does not cause wrinkles even when it is placed on the thermosetting resin layer of such an object, and the obtained molded product has a good appearance.

成形品としては、例として、フレキシブル回路基板が挙げられる。成形品がフレキシブル回路基板である場合、本実施形態の離型フィルムは、カバーレイプレスラミネート工程に用いられる。 Examples of the molded product include a flexible circuit board. When the molded product is a flexible circuit board, the release film of this embodiment is used in the coverlay press laminating step.

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。 Although the embodiments of the present invention have been described above, these are examples of the present invention, and various configurations other than the above can be adopted.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.

(実施例1〜5、比較例1〜3)
(樹脂組成物の調製)
第1の離型層を形成するための熱可塑性樹脂組成物を、表1に示す配合量の熱可塑性樹脂および無機充填材を混合して調製した。
第2の離型層を形成するための熱可塑性樹脂組成物を、表1に示す配合量の熱可塑性樹脂および無機充填材を混合して調製した。
中間層(クッション層)を形成するための樹脂組成物を、変性ポリエチレン樹脂(エチレン―メチルメタクリレート共重合体(EMMA)樹脂)(住友化学社製、WD106)40重量部、ポリプロピレン樹脂(プライムポリマー社製、E−105GM)20重量部、ポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、RT18)40重量部を混合して調製した。
(Examples 1 to 5, Comparative Examples 1 to 3)
(Preparation of resin composition)
The thermoplastic resin composition for forming the first release layer was prepared by mixing the thermoplastic resin and the inorganic filler in the blending amounts shown in Table 1.
The thermoplastic resin composition for forming the second release layer was prepared by mixing the thermoplastic resin and the inorganic filler in the blending amounts shown in Table 1.
The resin composition for forming the intermediate layer (cushion layer) is 40 parts by weight of a modified polyethylene resin (ethylene-methylmethacrylate copolymer (EMMA) resin) (Sumitomo Chemical Co., Ltd., WD106), polypropylene resin (Prime Polymer Co., Ltd.). , E-105GM) and 40 parts by weight of polymethylpentene resin (TPX®) (Mitsui Chemicals, Inc., RT18) were mixed and prepared.

実施例および比較例で使用した材料は以下のとおりである。
(熱可塑性樹脂)
・熱可塑性樹脂1:ポリメチルペンテン樹脂(TPX(登録商標))(三井化学社製、商品名「RT18」)
(無機充填材)
・無機充填材1:溶融シリカ(デンカ社製、商品名「FB−105FD」、平均粒径(D50)11.1μm、球状)
・無機充填材2:溶融シリカ(デンカ社製、商品名「FB−907FD」、平均粒径(D50)16.7μm、球状)
・無機充填材3:溶融シリカ(デンカ社製、商品名「FB−875FD」、平均粒径(D50)23.0μm、球状)
・無機充填材4:溶融シリカ(日鉄ケミカル&マテリアルズ社製、商品名「SC−30F」、平均粒径(D50)35.6μm、球状)
The materials used in the examples and comparative examples are as follows.
(Thermoplastic resin)
-Thermoplastic resin 1: Polymethylpentene resin (TPX (registered trademark)) (manufactured by Mitsui Chemicals, trade name "RT18")
(Inorganic filler)
-Inorganic filler 1: Fused silica (manufactured by Denka, trade name "FB-105FD", average particle size (D 50 ) 11.1 μm, spherical)
-Inorganic filler 2: fused silica (manufactured by Denka, trade name "FB-907FD", average particle size (D 50 ) 16.7 μm, spherical)
-Inorganic filler 3: fused silica (manufactured by Denka, trade name "FB-875FD", average particle size (D 50 ) 23.0 μm, spherical)
-Inorganic filler 4: Fused silica (manufactured by Nippon Steel Chemical & Materials Co., Ltd., trade name "SC-30F", average particle size (D 50 ) 35.6 μm, spherical)

(離型フィルムの作製)
得られた第1の離型層用の樹脂組成物、中間層用の樹脂組成物、および第2の離型層用の樹脂組成物をそれぞれ別個の押出機により共押出しして、第1の離型層/中間層/第2の離型層の構造の、厚み110μmの3層積層フィルムを作製した。各層の厚みは、表1に示す。
(表面粗さの測定)
得られた積層シートの第1の離型層の外表面および第2の離型層の外表面の表面粗さと特性(RzおよびSm)を、触針式表面粗さ測定機(Mitsutoyo社製のサーフテストSJ−210)を用いて測定した。結果を表1に示す。
(Making a release film)
The obtained resin composition for the first release layer, the resin composition for the intermediate layer, and the resin composition for the second release layer are co-extruded by separate extruders, and the first A three-layer laminated film having a structure of a release layer / an intermediate layer / a second release layer and having a thickness of 110 μm was produced. The thickness of each layer is shown in Table 1.
(Measurement of surface roughness)
The surface roughness and characteristics (Rz and Sm) of the outer surface of the first release layer and the outer surface of the second release layer of the obtained laminated sheet were measured by a stylus type surface roughness measuring machine (manufactured by Mitutoyo). It was measured using the surf test SJ-210). The results are shown in Table 1.

(離型フィルムの性能評価)
得られた離型フィルムを、以下の項目について評価した。評価結果は表1に示す。
<熱プレス板への張り付き>
回路を形成し、カバーレイを張り合わせたフレキシブル回路基板の表面に対して、電磁波シールドフィルム(タツタ電線製SF−PC5000)の接着剤がコーティングされている側の面が接触するように電磁波シールドフィルムを仮止めした試験片を作製した。
次いで、離型フィルムにおける第1の離型層の離型面が、上記試験片の電磁波シールドフィルムを有する側の面と対向するように、上記離型フィルムと、上記試験片とを重ねあわせた後、図1のプレス構成で、真空条件下180℃、2MPa、真空引き20秒、3分間の熱プレス処理を施した。プレス直後の上部熱プレス板を観察し、離型フィルムおよび
FPCの張り付き有無を確認した。
○:プレス直後に、離型フィルムおよびFPCが上部熱プレス板に張り付いていない。
×:プレス直後に、離型フィルムおよびFPCが上部熱プレス板に張り付いている。
(Performance evaluation of release film)
The obtained release film was evaluated for the following items. The evaluation results are shown in Table 1.
<Attachment to heat press plate>
The electromagnetic wave shield film is applied so that the surface of the flexible circuit board on which the circuit is formed and the coverlay is attached is in contact with the surface of the electromagnetic wave shield film (SF-PC5000 manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) coated with the adhesive. A temporarily fixed test piece was prepared.
Next, the release film and the test piece were superposed so that the release surface of the first release layer of the release film was opposed to the surface of the test piece on the side having the electromagnetic wave shield film. After that, in the press configuration of FIG. 1, a hot press treatment was performed under vacuum conditions at 180 ° C., 2 MPa, vacuuming for 20 seconds, and 3 minutes. The upper heat press plate immediately after pressing was observed, and the presence or absence of sticking of the release film and FPC was confirmed.
◯: Immediately after pressing, the release film and FPC are not attached to the upper heat press plate.
X: Immediately after pressing, the release film and FPC are attached to the upper heat press plate.

<エア残り>
回路を形成し、カバーレイを張り合わせたフレキシブル回路基板の表面に対して、電磁波シールドフィルム(タツタ電線製SF−PC5000)の接着剤がコーティングされている側の面が接触するように電磁波シールドフィルムを仮止めした試験片を作製した。
次いで、離型フィルムにおける第1の離型層の離型面が、上記試験片の電磁波シールドフィルムを有する側の面と対向するように、上記離型フィルムと、上記試験片とを重ねあわせた後、図1のプレス構成で、真空条件下180℃、2MPa、真空引き20秒、3分間の熱プレス処理を施し、成型品を得た。このようにして得られた成型品、離型フィルムについて外観を観察し、以下の基準に基づいてエア残り性を評価した。
○:離型フィルムおよびFPCにエア残りがなく、外観にボイドやシワがない。
×:離型フィルムおよびFPCにエア残りがあり、ボイドやシワが発生する。
<Air remaining>
The electromagnetic wave shield film is applied so that the surface of the flexible circuit board on which the circuit is formed and the coverlay is attached is in contact with the surface of the electromagnetic wave shield film (SF-PC5000 manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) coated with the adhesive. A temporarily fixed test piece was prepared.
Next, the release film and the test piece were superposed so that the release surface of the first release layer of the release film was opposed to the surface of the test piece on the side having the electromagnetic wave shield film. After that, in the press configuration of FIG. 1, a hot press treatment was performed under vacuum conditions at 180 ° C., 2 MPa, vacuuming for 20 seconds, and 3 minutes to obtain a molded product. The appearance of the molded product and the release film thus obtained was observed, and the air residue was evaluated based on the following criteria.
◯: There is no air residue on the release film and FPC, and there are no voids or wrinkles on the appearance.
X: There is air residue on the release film and FPC, and voids and wrinkles occur.

<埋込性(接着剤流れ出し)>
まず、有沢製作所製のカバーレイ(CMタイプ)に1mm角の開口部を作成した。次に、フレキシブル配線板用銅張積板の表面に対して、接着剤がコーティングされている側の面が接触するように上記開口部を有するカバーレイを仮止めした試験片を作製した。次いで、離型フィルムにおける第1の離型層の第1の離型面が、上記試験片のカバーレイを有する側の面と対向するように、上記離型フィルムと、上記試験片とを重ねあわせた後、真空条件下180℃、2MPa、真空引き20秒、3分間の熱プレス処理を施し、成型品を得た。このようにして得られた成型品について、カバーレイに形成した開口部内に、該カバーテープの表面にコーティングされている接着剤が上記開口部の外縁部からしみ出した形状(接着剤のしみだし形状)を観察し、以下の基準に基づいて追従性を評価した。
○:接着剤のしみだし形状の凹凸差が、100μm未満であった。
×:接着剤のしみだし形状の凹凸差が、100μm以上であった。
<Embedability (adhesive outflow)>
First, a 1 mm square opening was made in a coverlay (CM type) manufactured by Arisawa Mfg. Co., Ltd. Next, a test piece was prepared in which a coverlay having the above-mentioned opening was temporarily fixed so that the surface on the side coated with the adhesive was in contact with the surface of the copper-clad plate for the flexible wiring board. Next, the release film and the test piece are overlapped so that the first release surface of the first release layer in the release film faces the surface of the test piece on the side having the coverlay. After the combination, heat pressing was performed under vacuum conditions at 180 ° C., 2 MPa, vacuuming for 20 seconds, and 3 minutes to obtain a molded product. With respect to the molded product thus obtained, the adhesive coated on the surface of the cover tape exudes from the outer edge of the opening in the opening formed in the cover lay (adhesive exudation). The shape) was observed, and the followability was evaluated based on the following criteria.
◯: The difference in unevenness of the exuded shape of the adhesive was less than 100 μm.
X: The difference in unevenness of the exuded shape of the adhesive was 100 μm or more.

<スリット性>
上記離型フィルムを回転レザー刃を用い、巻取張力200N、ライン速度50m/minでスリットし、長さ500Mのフィルムを巻き取った。スリット断面を顕微鏡で観察し、毛羽立ちの有無を観察し、以下の基準に基づいてスリット性を評価した。
○:スリット断面を観察し、毛羽立ちがない。
×:スリット断面を観察し、毛羽立ちがない。
<Slit property>
The release film was slit using a rotating leather blade at a winding tension of 200 N and a line speed of 50 m / min, and a film having a length of 500 M was wound. The cross section of the slit was observed with a microscope, the presence or absence of fluff was observed, and the slit property was evaluated based on the following criteria.
◯: Observe the slit cross section and there is no fluffing.
X: Observe the slit cross section and there is no fluffing.

Figure 2020131461
Figure 2020131461

実施例の離型フィルムは、良好な離型性を有し、シワの発生や熱プレス板に対する張り付きがなく、フレキシブル回路基板の製造に好適に利用できるものであった。 The release film of the example had good releasability, did not generate wrinkles and did not stick to the heat press plate, and could be suitably used for manufacturing a flexible circuit board.

Claims (15)

中間層と、
前記中間層の一方の面に積層された第1の離型層と、
前記中間層の他方の面に積層された第2の離型層と、を含み、
前記第1の離型層は、第1の熱可塑性樹脂と第1の無機粒子とを含み、
前記第1の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smは、100μm以上350μm以下であり、
前記第2の離型層は、第2の熱可塑性樹脂と第2の無機粒子とを含み、
前記第2の離型層の外表面の十点平均高さ粗さRzは、6.5μm以上15μm以下である、
離型フィルム。
With the mesosphere
The first release layer laminated on one surface of the intermediate layer and
Includes a second release layer laminated on the other surface of the mesosphere.
The first release layer contains a first thermoplastic resin and a first inorganic particle.
The average unevenness interval Sm on the outer surface of the first release layer is 100 μm or more and 350 μm or less.
The second release layer contains a second thermoplastic resin and a second inorganic particle.
The ten-point average height roughness Rz of the outer surface of the second release layer is 6.5 μm or more and 15 μm or less.
Release film.
前記第1の無機粒子の平均粒径D50が、10μm以上40μm以下であり、
前記第1の無機粒子が、前記第1の離型層全体に対し、10質量%以上30質量%以下の量である、請求項1に記載の離型フィルム。
The average particle size D 50 of the first inorganic particles is 10 μm or more and 40 μm or less.
The release film according to claim 1, wherein the amount of the first inorganic particles is 10% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the entire release layer.
前記第2の無機粒子の平均粒径D50が、10μm以上40μm以下であり、
前記第2の無機粒子が、前記第2の離型層全体に対し、10質量%以上30質量%以下の量である、請求項1に記載の離型フィルム。
The average particle size D 50 of the second inorganic particles is 10 μm or more and 40 μm or less.
The release film according to claim 1, wherein the amount of the second inorganic particles is 10% by mass or more and 30% by mass or less with respect to the entire release layer.
前記第1の無機粒子が、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、アルミナ、シリカおよびゼオライトからなる群から選択される少なくとも1つである、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the first inorganic particle is at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, zinc oxide, alumina, silica and zeolite. 前記第2の無機粒子が、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、アルミナ、シリカおよびゼオライトからなる群から選択される少なくとも1つである、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the second inorganic particle is at least one selected from the group consisting of calcium carbonate, zinc oxide, alumina, silica and zeolite. 前記第1の熱可塑性樹脂が、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂を含む、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the first thermoplastic resin contains a poly4-methyl1-pentene resin. 前記第2の熱可塑性樹脂が、ポリ4−メチル1−ペンテン樹脂を含む、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the second thermoplastic resin contains a poly4-methyl1-pentene resin. 前記第1の離型層の外表面の最大高さ粗さRzが、5μm以上15μm以下である、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the maximum height roughness Rz of the outer surface of the first release layer is 5 μm or more and 15 μm or less. 前記第2の離型層の外表面の凹凸平均間隔Smが、50μm以上400μm以下である、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the uneven average spacing Sm on the outer surface of the second release layer is 50 μm or more and 400 μm or less. 前記第1の離型層が、20μm以上40μm以下の厚みを有する、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the first release layer has a thickness of 20 μm or more and 40 μm or less. 前記第2の離型層が、20μm以上40μm以下の厚みを有する、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the second release layer has a thickness of 20 μm or more and 40 μm or less. 前記中間層が、30μm以上70μm以下の厚みを有する、請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the intermediate layer has a thickness of 30 μm or more and 70 μm or less. 対象物上に、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の離型フィルムを、前記第1の離型層が前記対象物側となるように配置する工程と、
前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、熱プレス板を用いて加熱プレスを行う工程と、を含む成形品の製造方法。
A step of arranging the release film according to any one of claims 1 to 12 on an object so that the first release layer is on the object side.
A method for producing a molded product, which comprises a step of heat-pressing the object on which the release film is arranged using a heat-pressed plate.
対象物上に離型フィルムを配置する前記工程の後、前記第2離型層上に板材を配置する工程をさらに含む、請求項13に記載の成形品の製造方法。 The method for producing a molded product according to claim 13, further comprising a step of arranging a plate material on the second release layer after the step of arranging a release film on an object. 前記成形品が、フレキシブル回路基板である、請求項13または14に記載の製造方法。 The manufacturing method according to claim 13 or 14, wherein the molded product is a flexible circuit board.
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