JP2010253854A - Multilayered release film - Google Patents

Multilayered release film Download PDF

Info

Publication number
JP2010253854A
JP2010253854A JP2009108403A JP2009108403A JP2010253854A JP 2010253854 A JP2010253854 A JP 2010253854A JP 2009108403 A JP2009108403 A JP 2009108403A JP 2009108403 A JP2009108403 A JP 2009108403A JP 2010253854 A JP2010253854 A JP 2010253854A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
release film
surface layer
thickness
film
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009108403A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5438367B2 (en
Inventor
Masahiro Tsuchiya
雅弘 土谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP2009108403A priority Critical patent/JP5438367B2/en
Publication of JP2010253854A publication Critical patent/JP2010253854A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5438367B2 publication Critical patent/JP5438367B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multilayered release film which is excellent in wrinkle prevention and can control flowing out of an adhesive agent from a coverlay film or the like, and to provide a method of manufacturing a print board using the multilayered release film. <P>SOLUTION: The multilayered release film includes an intermediate layer and two surface layers laminated on both surfaces of the intermediate layer wherein the thickness of one of two surface layers is ≥5 μm and <25 μm, and the thickness of another one is ≥25 μm and <50 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、防シワ性に優れ、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制することができる多層離型フィルムに関する。また、本発明は、該多層離型フィルムを用いたプリント基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a multilayer release film that has excellent wrinkle resistance and can suppress the flow of an adhesive from a coverlay film or the like. The present invention also relates to a method for producing a printed circuit board using the multilayer release film.

フレキシブルプリント基板等のプリント基板の製造においては、表面に回路を有するプリント基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化性接着シートを介してカバーレイフィルム又は補強板を熱プレスにより接着し、基板本体の回路面を保護することが広く行われている。このような熱プレス成形においては、カバーレイフィルム又は補強板と熱プレス板とが接着するのを防止するためにその中間に離型フィルムが用いられる。このような離型フィルムには、例えば、熱プレス成形に耐え得る耐熱性、プリント基板や熱プレス板に対する離型性等の性能が求められる。 In the production of a printed circuit board such as a flexible printed circuit board, a cover lay film or a reinforcing plate is bonded to a printed circuit board main body having a circuit on its surface via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet by hot pressing. It is widely practiced to protect the circuit surface of the body. In such hot press molding, a release film is used in the middle to prevent the cover lay film or the reinforcing plate and the hot press plate from adhering to each other. Such a release film is required to have, for example, heat resistance capable of withstanding hot press molding and performance such as release properties with respect to a printed board or a hot press plate.

近年、より薄いカバーレイフィルムを用いることが主流となってきていることから、離型フィルムに発生したシワがカバーレイフィルムに転写しやすくなり、熱プレス成形におけるプリント基板の歩留まりの悪化を招いている。 In recent years, since the use of thinner coverlay films has become the mainstream, the wrinkles generated in the release film are likely to be transferred to the coverlay film, leading to deterioration in the yield of printed circuit boards in hot press molding. Yes.

離型フィルムのシワの発生を抑制する方法として、例えば、特許文献1〜4には、離型フィルムの表面に凹凸形状を付与する方法が開示されている。例えば、特許文献1には、トップ平坦部の表面粗度(Ra)が0.25〜15μmであり、かつ表面に平均深さが10〜70μm及び平均幅が0.1〜3mmの溝が平均ピッチ0.5〜30mmで設けられている表面を少なくとも片面に有しており、その全厚みが30〜200μmであり、当該溝の平均深さが全厚みの10〜70%の範囲にある熱可塑性樹脂からなる表面粗化フィルムが開示されている。 For example, Patent Documents 1 to 4 disclose a method for imparting a concavo-convex shape to the surface of a release film as a method for suppressing generation of wrinkles in the release film. For example, Patent Document 1 discloses that grooves having a surface roughness (Ra) of the top flat portion of 0.25 to 15 μm and an average depth of 10 to 70 μm and an average width of 0.1 to 3 mm on the surface are averaged. Heat having at least one surface provided with a pitch of 0.5 to 30 mm, a total thickness of 30 to 200 μm, and an average depth of the groove in a range of 10 to 70% of the total thickness A surface-roughened film made of a plastic resin is disclosed.

一方、熱プレス成形においては、カバーレイフィルム等の接着剤がプリント基板の電極部に流れ出すことも問題である。電極部を汚染した接着剤は、例えば、めっき処理等の障害となることがある。更に、近年、フレキシブルプリント基板等のプリント基板の回路パターンがより微細化していることから、流れ出した接着剤が電極部に与える影響は大きくなっており、熱プレス成形における歩留まりを向上させるうえで接着剤の流れ出しを抑制することはますます重要な課題となっている。 On the other hand, in hot press molding, it is also a problem that an adhesive such as a coverlay film flows out to the electrode part of the printed board. The adhesive that contaminates the electrode part may be an obstacle such as plating. Furthermore, in recent years, circuit patterns of printed circuit boards such as flexible printed circuit boards have become finer, so the influence of the adhesive that has flowed out on the electrodes has increased, and it has been necessary to improve the yield in hot press molding. Controlling the flow of the agent is an increasingly important issue.

特開2007−83459号公報JP 2007-83459 A 特開平6−23840号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-23840 特開平3−61011号公報JP-A-3-61011 特開平2−238911号公報JP-A-2-238911

しかしながら、離型フィルムのシワの発生を抑制するためには、上述のように表面に凹凸形状を付与することに加えて離型フィルムを厚くすることが好ましいと考えられるのに対し、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制するためには、離型フィルムを薄くして回路面に対する追従性を向上させることが好ましいと考えられる。従って、微細な回路パターンを有するフレキシブルプリント基板等のプリント基板の場合でも、シワの発生を抑制するとともにカバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制しながら良好に熱プレス成形を行うことのできる離型フィルムを得ることは困難であった。 However, in order to suppress the generation of wrinkles in the release film, it is considered preferable to increase the thickness of the release film in addition to providing the surface with irregularities as described above, whereas the coverlay film In order to suppress the flow-out of the adhesive from the like, it is considered preferable to improve the followability to the circuit surface by thinning the release film. Therefore, even in the case of a printed circuit board such as a flexible printed circuit board having a fine circuit pattern, it is possible to perform hot press molding well while suppressing the generation of wrinkles and suppressing the flow of the adhesive from the coverlay film or the like. It was difficult to obtain a release film.

本発明は、防シワ性に優れ、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制することができる多層離型フィルムを提供することを目的とする。また、本発明は、該多層離型フィルムを用いたプリント基板の製造方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the multilayer release film which is excellent in wrinkle resistance and can suppress the flow-out of the adhesive from a coverlay film or the like. Another object of the present invention is to provide a method for producing a printed circuit board using the multilayer release film.

本発明は、中間層と、該中間層の両面に積層された2つの表層とを有する多層離型フィルムであって、前記2つの表層は、一方の厚さが5μm以上25μm未満であり、かつ、他方の厚さが25μm以上50μm未満である多層離型フィルムである。
以下、本発明を詳述する。
The present invention is a multilayer release film having an intermediate layer and two surface layers laminated on both sides of the intermediate layer, the two surface layers having a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm, and The other is a multilayer release film having a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、中間層と、該中間層の両面に積層された2つの表層とを有し、かつ、2つの表層がそれぞれ所定の範囲内の厚さを有する多層離型フィルムを用いることにより、フレキシブルプリント基板等のプリント基板の製造において、シワの発生を抑制するとともにカバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制しながら、良好に熱プレス成形を行うことができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The inventors use a multilayer release film having an intermediate layer and two surface layers laminated on both sides of the intermediate layer, and each of the two surface layers having a thickness within a predetermined range. Thus, in the production of a printed circuit board such as a flexible printed circuit board, it has been found that hot press molding can be performed satisfactorily while suppressing the generation of wrinkles and suppressing the flow of adhesive from a coverlay film or the like. It came to complete.

本発明の多層離型フィルムは、中間層と、該中間層の両面に積層された2つの表層とを有する。
上記2つの表層は、一方の厚さが5μm以上25μm未満であり、かつ、他方の厚さが25μm以上50μm未満である。なお、本明細書中、上記厚さが5μm以上25μm未満である表層を「表層1」ともいい、上記厚さが25μm以上50μm未満である表層を「表層2」ともいう。
The multilayer release film of the present invention has an intermediate layer and two surface layers laminated on both surfaces of the intermediate layer.
One of the two surface layers has a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm, and the other has a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm. In the present specification, the surface layer having a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm is also referred to as “surface layer 1”, and the surface layer having a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm is also referred to as “surface layer 2”.

フレキシブルプリント基板等のプリント基板を製造する際の熱プレス成形において、離型フィルムのシワの発生を抑制し、カバーレイフィルムへのシワの転写を抑制するためには、離型フィルムを厚くすることが好ましいと考えられる。一方、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制するためには、離型フィルムを薄くして回路面に対する追従性を向上させることが好ましいと考えられる。従って、シワ発生の抑制と接着剤流れ出しの抑制とを両立することは困難であった。
これに対し、本発明の多層離型フィルムは、厚さが5μm以上25μm未満である表層1と、中間層と、厚さが25μm以上50μm未満である表層2とを有しており、中間層を介した2つの表層の厚さが異なっている。このような構造を有することにより、本発明の多層離型フィルムを用いてフレキシブルプリント基板等のプリント基板を製造する際、上記表層1がプリント基板本体の回路面側に、上記表層2が熱プレス板側になるようにして熱プレス成形を行うことにより、シワの発生を抑制するとともにカバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制し、熱プレス成形における歩留りを向上させることができる。
In hot press molding when manufacturing a printed circuit board such as a flexible printed circuit board, in order to suppress the generation of wrinkles in the release film and to suppress the transfer of wrinkles to the coverlay film, the release film must be thickened. Is considered preferable. On the other hand, in order to suppress the flow of the adhesive from the coverlay film or the like, it is preferable to improve the followability to the circuit surface by thinning the release film. Therefore, it has been difficult to achieve both suppression of wrinkle generation and suppression of adhesive flow-out.
In contrast, the multilayer release film of the present invention has a surface layer 1 having a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm, an intermediate layer, and a surface layer 2 having a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm. The thicknesses of the two surface layers via are different. By having such a structure, when manufacturing a printed circuit board such as a flexible printed circuit board using the multilayer release film of the present invention, the surface layer 1 is on the circuit surface side of the printed circuit board body, and the surface layer 2 is hot-pressed. By performing the hot press molding so as to be on the plate side, it is possible to suppress the generation of wrinkles and suppress the flow of the adhesive from the coverlay film or the like, thereby improving the yield in the hot press molding.

上記表層1は、厚さが5μm以上25μm未満である。上記表層1の厚さが5μm未満であると、厚さが薄すぎて強度が損なわれることから、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形や多層離型フィルムの剥離工程において、上記表層1の破壊等の不具合が生じる。上記表層1の厚さが25μm以上であると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、回路面に対する多層離型フィルムの追従性が低下し、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制することが困難となる。上記表層1の厚さは、10μm以上20μm以下であることが好ましい。 The surface layer 1 has a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm. When the thickness of the surface layer 1 is less than 5 μm, the thickness is too thin and the strength is impaired. Therefore, in the hot press molding using the obtained multilayer release film or the peeling process of the multilayer release film, the surface layer Problems such as destruction of 1 occur. When the thickness of the surface layer 1 is 25 μm or more, in the hot press molding using the obtained multilayer release film, the followability of the multilayer release film to the circuit surface is reduced, and the adhesive from the coverlay film or the like It becomes difficult to suppress the outflow. The thickness of the surface layer 1 is preferably 10 μm or more and 20 μm or less.

上記表層2は、厚さが25μm以上50μm未満である。上記表層2の厚さが25μm未満であると、得られる多層離型フィルムの防シワ性が低下する。上記表層2の厚さが50μm以上であると、必要以上の性能向上のためにコストをかけることになってしまう。上記表層2の厚さは、25μm以上40μm以下であることが好ましい。 The surface layer 2 has a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm. When the thickness of the surface layer 2 is less than 25 μm, the wrinkle resistance of the obtained multilayer release film is lowered. If the thickness of the surface layer 2 is 50 μm or more, the cost will be increased to improve performance more than necessary. The thickness of the surface layer 2 is preferably 25 μm or more and 40 μm or less.

上記表層1及び上記表層2を構成する樹脂は特に限定されず、例えば、結晶性芳香族ポリエステル樹脂が挙げられる。
上記結晶性芳香族ポリエステル樹脂は、示差走査熱量計を用いて測定した融点の好ましい下限が200℃である。熱プレス成形は通常200℃未満で行われることから、このような融点の高い樹脂を用いることにより、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において上記表層1及び/又は上記表層2が溶融することなく離型性を有することができるとともに、上記表層1及び/又は上記表層2が破壊されるのを防止することができる。上記融点が200℃未満であると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において上記表層1及び/又は上記表層2が溶融し、多層離型フィルムの耐熱性が低下することがある。上記結晶性芳香族ポリエステル樹脂の示差走査熱量計を用いて測定した融点のより好ましい下限は220℃である。
The resin which comprises the said surface layer 1 and the said surface layer 2 is not specifically limited, For example, crystalline aromatic polyester resin is mentioned.
The crystalline aromatic polyester resin has a preferred lower limit of the melting point measured using a differential scanning calorimeter of 200 ° C. Since the hot press molding is usually performed at less than 200 ° C., the surface layer 1 and / or the surface layer 2 are melted in the hot press molding using the resulting multilayer release film by using a resin having a high melting point. It can have releasability without doing and can prevent the surface layer 1 and / or the surface layer 2 from being destroyed. When the melting point is less than 200 ° C., the surface layer 1 and / or the surface layer 2 may melt in the hot press molding using the resulting multilayer release film, and the heat resistance of the multilayer release film may be lowered. A more preferable lower limit of the melting point of the crystalline aromatic polyester resin measured using a differential scanning calorimeter is 220 ° C.

また、上記結晶性芳香族ポリエステル樹脂の示差走査熱量計を用いて測定した融点の上限は特に限定されないが、該結晶性芳香族ポリエステル樹脂を溶融成型して上記表層1及び/又は上記表層2を得る場合には、加熱設備のコストの観点から、好ましい上限は400℃である。
なお、上記示差走査熱量計は特に限定されず、例えば、DSC 2920(TAインスツルメント社製)等が挙げられる。
Further, the upper limit of the melting point of the crystalline aromatic polyester resin measured using a differential scanning calorimeter is not particularly limited, but the crystalline aromatic polyester resin is melt-molded to form the surface layer 1 and / or the surface layer 2. When obtaining, a preferable upper limit is 400 ° C. from the viewpoint of the cost of the heating equipment.
In addition, the said differential scanning calorimeter is not specifically limited, For example, DSC 2920 (made by TA Instruments) etc. are mentioned.

上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂は特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。なかでも、非汚染性及び結晶性に優れることから、ポリブチレンテレフタレートが好適に用いられる。 The crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyhexamethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene Examples thereof include phthalate and butanediol terephthalate polytetramethylene glycol copolymers. These may be used independently and 2 or more types may be used together. Of these, polybutylene terephthalate is preferably used because it is excellent in non-contamination and crystallinity.

上記表層1及び上記表層2は、安定剤を含有してもよい。
上記安定剤は特に限定されず、例えば、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等のヒンダードフェノール系酸化防止剤や、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2−t−ブチル−α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルビス(p−ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’−チオジプロピオネート等の熱安定剤等が挙げられる。
The surface layer 1 and the surface layer 2 may contain a stabilizer.
The stabilizer is not particularly limited. For example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis { 2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5 Hindered phenolic antioxidants such as undecane, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, 2-t-butyl-α- (3-t-butyl-4) -Hydroxyphenyl) -p-cumenylbis (p-nonylphenyl) phosphite, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3'-thiodipropionate, pentaerythryl tetrakis And heat stabilizers such as ditridecyl 3,3′-thiodipropionate.

上記表層1及び上記表層2は、本発明の効果を損なわない範囲で、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 The surface layer 1 and the surface layer 2 may contain additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, higher fatty acid salts, and the like as long as the effects of the present invention are not impaired. Good.

上記繊維は特に限定されず、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、炭化珪素繊維、アルミナ繊維、アモルファス繊維、シリコン−チタン−炭素系繊維等の無機繊維や、アラミド繊維等の有機繊維等が挙げられる。 The fibers are not particularly limited, and examples thereof include glass fibers, carbon fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, alumina fibers, amorphous fibers, inorganic fibers such as silicon-titanium-carbon fibers, and organic fibers such as aramid fibers. Can be mentioned.

上記無機充填剤は特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルク等が挙げられる。
上記難燃剤は特に限定されず、例えば、ヘキサブロモシクロドデカン、トリス−(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include calcium carbonate, titanium oxide, mica and talc.
The flame retardant is not particularly limited, and examples thereof include hexabromocyclododecane, tris- (2,3-dichloropropyl) phosphate, pentabromophenyl allyl ether, and the like.

上記紫外線吸収剤は特に限定されず、例えば、p−t−ブチルフェニルサリシレート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2,4,5−トリヒドロキシブチロフェノン等が挙げられる。
上記帯電防止剤は特に限定されず、例えば、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、アルキルスルファネート等が挙げられる。
The ultraviolet absorber is not particularly limited. For example, pt-butylphenyl salicylate, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2,4,5-tri And hydroxybutyrophenone.
The antistatic agent is not particularly limited, and examples thereof include N, N-bis (hydroxyethyl) alkylamine, alkylallyl sulfonate, and alkyl sulfonate.

上記無機物は特に限定されず、例えば、硫酸バリウム、アルミナ、酸化珪素等が挙げられる。
上記高級脂肪酸塩は特に限定されず、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸バリウム、パルミチン酸ナトリウム等が挙げられる。
The inorganic material is not particularly limited, and examples thereof include barium sulfate, alumina, and silicon oxide.
The higher fatty acid salt is not particularly limited, and examples thereof include sodium stearate, barium stearate, and sodium palmitate.

上記表層1及び上記表層2は、その性質を改質するために、熱可塑性樹脂、ゴム成分を含有してもよい。
上記熱可塑性樹脂は特に限定されず、例えば、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等が挙げられる。
The surface layer 1 and the surface layer 2 may contain a thermoplastic resin and a rubber component in order to modify the properties.
The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyolefin, modified polyolefin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, and polyester.

上記ゴム成分は特に限定されず、例えば、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ポリクロロプレン、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。 The rubber component is not particularly limited. For example, natural rubber, styrene-butadiene copolymer, polybutadiene, polyisoprene, acrylonitrile-butadiene copolymer, ethylene-propylene copolymer (EPM, EPDM), polychloroprene, butyl rubber. Acrylic rubber, silicone rubber, urethane rubber, olefin thermoplastic elastomer, styrene thermoplastic elastomer, vinyl chloride thermoplastic elastomer, ester thermoplastic elastomer, amide thermoplastic elastomer, and the like.

上記表層1及び上記表層2は、アスペクト比の大きい無機化合物を含有してもよい。このようなアスペクト比の大きい無機化合物を含有することにより、得られる多層離型フィルムの高温での離型性が向上するとともに、多層離型フィルムに含まれる添加剤や低分子量物がフィルム表面へブリードアウトすることを抑制することができ、熱プレス成形時のクリーン性が向上する。
上記アスペクト比の大きい無機化合物は特に限定されず、例えば、クレイ等の層状ケイ酸塩や、ハイドロタルサイト等の層状複水和物等が挙げられる。
The surface layer 1 and the surface layer 2 may contain an inorganic compound having a large aspect ratio. By including such an inorganic compound having a large aspect ratio, the release property at a high temperature of the obtained multilayer release film is improved, and additives and low molecular weight substances contained in the multilayer release film are transferred to the film surface. Bleed-out can be suppressed, and cleanliness during hot press molding is improved.
The inorganic compound having a large aspect ratio is not particularly limited, and examples thereof include layered silicates such as clay and layered double hydrates such as hydrotalcite.

上記表層1及び上記表層2は、上述した厚さを満たしていれば、主成分である樹脂や上述した他の添加成分に関しては同じ構成成分を含有していてもよく、異なる構成成分を含有していてもよい。 As long as the surface layer 1 and the surface layer 2 satisfy the above-described thickness, the resin that is the main component and the other additive components described above may contain the same constituent components, and may contain different constituent components. It may be.

上記表層1は、JIS B0601:2001に準拠する方法で、先端半径2μm、円錐のテーパ角60°の触針を用い、測定力0.75mN、カットオフ値λs=2.5μm、λc=0.8mmの条件にて測定される粗さ曲線要素の平均長さRSmが300μm以下であることが好ましい。上記表層1の粗さ曲線要素の平均長さRSmが上記範囲を満たすことにより、得られる多層離型フィルムは、表層1がプリント基板本体の回路面側になるようにして熱プレス成形を行うことで更に優れた防シワ性を発揮することができる。
上記表層1は、JIS B0601:2001に準拠する方法で、先端半径2μm、円錐のテーパ角60°の触針を用い、測定力0.75mN、カットオフ値λs=2.5μm、λc=0.8mmの条件にて測定される粗さ曲線要素の平均長さRSmが200μm以下であることがより好ましい。
The surface layer 1 is a method according to JIS B0601: 2001, using a stylus having a tip radius of 2 μm and a conical taper angle of 60 °, a measuring force of 0.75 mN, a cutoff value λs = 2.5 μm, λc = 0. The average length RSm of the roughness curve element measured under the condition of 8 mm is preferably 300 μm or less. When the average length RSm of the roughness curve element of the surface layer 1 satisfies the above range, the obtained multilayer release film is subjected to hot press molding so that the surface layer 1 is on the circuit surface side of the printed circuit board body. In addition, excellent wrinkle resistance can be exhibited.
The surface layer 1 is a method according to JIS B0601: 2001, using a stylus having a tip radius of 2 μm and a conical taper angle of 60 °, a measuring force of 0.75 mN, a cutoff value λs = 2.5 μm, λc = 0. The average length RSm of the roughness curve element measured under the condition of 8 mm is more preferably 200 μm or less.

なお、上記表層1の粗さ曲線要素の平均長さRSmは小さいほど多層離型フィルムの防シワ性を高めることができるが、小さすぎると多層離型フィルムの離型性が低下することがあることから、得られる多層離型フィルムの離型性を確保するためには、上記表層1の粗さ曲線要素の平均長さRSmは、10μm以上であることが好ましい。 In addition, the smaller the average length RSm of the roughness curve element of the surface layer 1, the higher the anti-wrinkle property of the multilayer release film, but if it is too small, the release property of the multilayer release film may be lowered. Therefore, in order to ensure the releasability of the obtained multilayer release film, the average length RSm of the roughness curve element of the surface layer 1 is preferably 10 μm or more.

上記表層2においては、JIS B0601:2001に準拠する方法で、先端半径2μm、円錐のテーパ角60°の触針を用い、測定力0.75mN、カットオフ値λs=2.5μm、λc=0.8mmの条件にて測定される粗さ曲線要素の平均長さRSmは特に限定されないが、上記表層1の粗さ曲線要素の平均長さRSmとの差が100μm以上であることが好ましい。また、上記表層1の粗さ曲線要素の平均長さRSmのほうが、上記表層2の粗さ曲線要素の平均長さRSmよりも小さいことが好ましい。このような差を有することにより、得られる多層離型フィルムにおいて上記表層1と上記表層2とは異なる表面形状を有し、表面の光沢に差が生じることから、上記表層1と上記表層2とを目視にて容易に区別することができる。
なお、上記粗さ曲線要素の平均長さRSmは、多層離型フィルム表面の凹凸形状の粗さ曲線における横方向のパラメーターであり、大きいほど表面の光沢が増し、小さいほど表面の光沢が低下したマット形状面となる。
In the surface layer 2, a stylus having a tip radius of 2 μm and a conical taper angle of 60 ° is used in accordance with JIS B0601: 2001, a measuring force of 0.75 mN, a cutoff value λs = 2.5 μm, and λc = 0. The average length RSm of the roughness curve element measured under the condition of 0.8 mm is not particularly limited, but the difference from the average length RSm of the roughness curve element of the surface layer 1 is preferably 100 μm or more. Moreover, it is preferable that the average length RSm of the roughness curve element of the surface layer 1 is smaller than the average length RSm of the roughness curve element of the surface layer 2. By having such a difference, in the obtained multilayer release film, the surface layer 1 and the surface layer 2 have different surface shapes and a difference in surface gloss occurs. Therefore, the surface layer 1 and the surface layer 2 Can be easily distinguished visually.
The average length RSm of the roughness curve element is a lateral parameter in the roughness curve of the uneven shape on the surface of the multilayer release film, and the larger the surface gloss, the smaller the surface gloss. It becomes a mat-shaped surface.

上記表層1及び上記表層2が上述した粗さ曲線要素の平均長さRSmを有するように上記表層1及び上記表層2に凹凸形状を付与する方法は特に限定されず、例えば、上記表層1、後述する中間層及び上記表層2を構成する樹脂を押出機(例えば、ジーエムエンジニアリング社製、GM30−28(スクリュー径30mm、L/D28))を用いてTダイより押出して成形した樹脂フィルムの表面に対して、表面に模様が加工された冷却ロールを押し当て、冷却ロール表面に加工された模様を樹脂フィルム表面に転写させる方法等が挙げられる。 The method for providing the surface layer 1 and the surface layer 2 with an uneven shape so that the surface layer 1 and the surface layer 2 have the average length RSm of the roughness curve element described above is not particularly limited. On the surface of the resin film formed by extruding the intermediate layer and the resin constituting the surface layer 2 from a T-die using an extruder (for example, GM30-28 (screw diameter 30 mm, L / D28), manufactured by GM Engineering). On the other hand, the method of pressing the cooling roll by which the pattern was processed on the surface, and transferring the pattern processed by the surface of the cooling roll to the resin film surface etc. are mentioned.

上記表面に模様が加工された冷却ロールは、例えば、平滑なロールの表面に凹模様を形成した後に、該ロールの平滑部分の粗さを調整することにより製造することができる。
上記冷却ロールの表面に加工された模様は特に限定されず、例えば、単一な形状の凹凸模様や、大きなブラスト材による凹凸模様に細かな凹凸を重畳した複数の形状の凹凸模様等が挙げられる。
The cooling roll whose pattern is processed on the surface can be produced, for example, by adjusting the roughness of the smooth portion of the roll after forming a concave pattern on the surface of the smooth roll.
The pattern processed on the surface of the cooling roll is not particularly limited, and examples thereof include a concavo-convex pattern having a single shape, and a concavo-convex pattern having a plurality of shapes in which fine concavo-convex patterns are superimposed on a concavo-convex pattern made of a large blast material. .

上記中間層を構成する樹脂は特に限定されず、例えば、ポリオレフィン系樹脂が挙げられる。
上記ポリオレフィン系樹脂は特に限定されず、例えば、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体等のエチレン−アクリル系モノマーの共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
The resin which comprises the said intermediate | middle layer is not specifically limited, For example, polyolefin resin is mentioned.
The polyolefin resin is not particularly limited. For example, ethylene-acrylic such as polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, etc. And copolymers of monomer based monomers. These may be used independently and 2 or more types may be used together.

また、上記中間層は、本発明の目的を阻害しない範囲で、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等の樹脂を含有してもよい。 Moreover, the said intermediate | middle layer may contain resin, such as a polystyrene, a polypropylene, a polyvinyl chloride, polyamide, a polycarbonate, a polysulfone, polyester, in the range which does not inhibit the objective of this invention.

また、上記中間層は、上記表層1及び上記表層2と同様に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 Moreover, the said intermediate | middle layer may contain additives, such as a fiber, an inorganic filler, a flame retardant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, an inorganic substance, a higher fatty acid salt similarly to the said surface layer 1 and the said surface layer 2. .

上記中間層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点の好ましい下限が70℃、好ましい上限が140℃である。上記融点が70℃未満であると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、圧力をプリント基板本体に均一に荷重するという中間層の機能を充分に果たせなくなることがある。また、上記融点が70℃未満であると、得られる多層離型フィルムを保管中、雰囲気温度が50〜60℃となった場合、中間層が溶融して染み出し、ブロッキングを起こしてしまうことがある。上記融点が140℃を超えると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、カバーレイフィルム等から接着剤が溶融する温度領域において上記中間層が充分に軟化せず、接着剤の流れ出しを充分に抑制することができないことがある。上記中間層の示差走査熱量計を用いて測定した融点のより好ましい上限は120℃である。 The intermediate layer has a preferred lower limit of the melting point measured using a differential scanning calorimeter of 70 ° C. and a preferred upper limit of 140 ° C. When the melting point is less than 70 ° C., in the hot press molding using the resulting multilayer release film, the function of the intermediate layer, in which the pressure is uniformly applied to the printed circuit board body, may not be sufficiently achieved. Moreover, when the said melting | fusing point is less than 70 degreeC, when an atmospheric temperature will be 50-60 degreeC during storage of the multilayer release film obtained, an intermediate | middle layer may melt | dissolve and it may cause blocking. is there. When the melting point exceeds 140 ° C., in the hot press molding using the resulting multilayer release film, the intermediate layer is not sufficiently softened in the temperature region where the adhesive melts from the coverlay film or the like, and the adhesive flows out. May not be sufficiently suppressed. The upper limit with a more preferable melting | fusing point measured using the differential scanning calorimeter of the said intermediate | middle layer is 120 degreeC.

また、上記中間層を構成する樹脂が2種以上である場合も、上記中間層の示差走査熱量計を用いて測定した融点の好ましい下限は70℃、好ましい上限は140℃であるが、特に、上記中間層を構成する少なくとも2種の樹脂の融点差が15℃以上である場合、上記中間層を構成する樹脂のうち比較的低融点を有する樹脂によりフィルムの追従性を確保し、上記中間層を構成する樹脂のうち比較的高融点を有する樹脂によりフィルムの樹脂流れを防止することができる。
また、上記中間層を2種以上の樹脂で構成することにより、該中間層に、上記範囲の融点や後述する範囲の貯蔵弾性率に加えて更にその他の物性を付与することができる。
Further, even when there are two or more kinds of resins constituting the intermediate layer, the preferable lower limit of the melting point measured using the differential scanning calorimeter of the intermediate layer is 70 ° C, and the preferable upper limit is 140 ° C. When the difference between the melting points of at least two kinds of resins constituting the intermediate layer is 15 ° C. or more, the followability of the film is secured by a resin having a relatively low melting point among the resins constituting the intermediate layer, and the intermediate layer The resin flow of the film can be prevented by a resin having a relatively high melting point among the resins constituting the film.
Further, by constituting the intermediate layer with two or more kinds of resins, other physical properties can be imparted to the intermediate layer in addition to the melting point in the above range and the storage elastic modulus in the range described later.

上記中間層は、185℃、歪み量100%、10rad/sにおける貯蔵弾性率の好ましい下限が5.0×10Pa、好ましい上限が1.0×10Paである。上記貯蔵弾性率が5.0×10Pa未満であると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、フィルム端面で中間層が染み出した場合、フィルムを熱プレス板から剥離する際に剥離による高歪みに耐えきれずに中間層が凝集破壊を起こし、フィルムから染み出した中間層が熱プレス板に付着し残留することがある。上記貯蔵弾性率が1.0×10Paを超えると、中間層の成形性が低下することがある。上記中間層の185℃、歪み量100%、10rad/sにおける貯蔵弾性率のより好ましい下限は1.0×10Pa、より好ましい上限は8.0×10Paである。 The said intermediate | middle layer has a preferable minimum of 5.0 * 10 < 3 > Pa and a preferable upper limit of 1.0 * 10 < 5 > Pa at a storage elastic modulus in 185 degreeC, 100% of strain amount, and 10 rad / s. When the storage elastic modulus is less than 5.0 × 10 3 Pa, in the case of hot press molding using the resulting multilayer release film, when the intermediate layer exudes at the film end face, the film is peeled off from the hot press plate. In some cases, the intermediate layer cannot withstand high strain due to peeling, causing the cohesive failure, and the intermediate layer exuded from the film may adhere to the hot press plate and remain. When the storage elastic modulus exceeds 1.0 × 10 5 Pa, the formability of the intermediate layer may be lowered. A more preferable lower limit of the storage elastic modulus at 185 ° C., a strain amount of 100%, and 10 rad / s of the intermediate layer is 1.0 × 10 4 Pa, and a more preferable upper limit is 8.0 × 10 4 Pa.

上記中間層は、メルトフローレートが0.3g/10分未満であることが好ましい。上記メルトフローレートが0.3g/10分以上であると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、フィルム端面からの樹脂の染み出しが多くなり作業性が低下することがある。
上記中間層のメルトフローレートの下限は特に限定されないが、現在一般的に入手可能な樹脂のメルトフローレートの下限として0.1g/10分を挙げることができる。
The intermediate layer preferably has a melt flow rate of less than 0.3 g / 10 minutes. When the melt flow rate is 0.3 g / 10 min or more, in the hot press molding using the obtained multilayer release film, the resin oozes out from the film end face, and workability may be lowered.
Although the minimum of the melt flow rate of the said intermediate | middle layer is not specifically limited, 0.1 g / 10min can be mentioned as a minimum of the melt flow rate of the resin now generally available.

上記中間層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は30μm、好ましい上限は150μmである。上記中間層の厚さが30μm未満であると、厚さが薄すぎ、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において中間層を構成する樹脂が軟化した場合、部分的に中間層が存在しない箇所が発生し、圧力をプリント基板本体に均一に荷重することができないことがある。上記中間層の厚さが150μmを超えると、多層離型フィルムはコシが強くなりすぎ、柔軟性が損なわれるため、追従性が低下することがある。また、上記中間層の厚さが150μmを超えると、必要以上に厚いため、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、中間層の余分な部分がフィルム端面から染み出し不具合を生じることがある。上記中間層の厚さのより好ましい下限は60μm、より好ましい上限は100μmである。 Although the thickness of the said intermediate | middle layer is not specifically limited, A preferable minimum is 30 micrometers and a preferable upper limit is 150 micrometers. When the thickness of the intermediate layer is less than 30 μm, the thickness is too thin, and when the resin constituting the intermediate layer softens in the hot press molding using the resulting multilayer release film, the intermediate layer partially exists In some cases, the pressure is not uniformly applied to the printed circuit board body. When the thickness of the intermediate layer exceeds 150 μm, the multilayer release film becomes too strong and the flexibility is impaired, so that the followability may be lowered. In addition, when the thickness of the intermediate layer exceeds 150 μm, it is unnecessarily thick, so in the hot press molding using the resulting multilayer release film, excess portions of the intermediate layer may ooze out from the film end face. There is. The more preferable lower limit of the thickness of the intermediate layer is 60 μm, and the more preferable upper limit is 100 μm.

本発明の多層離型フィルムは、170℃において荷重3MPaで60分間加圧した場合の寸法変化率が1.5%以下であることが好ましい。上記寸法変化率が1.5%を超えると、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、プリント基板本体の回路パターンを損なうことがある。本発明の多層離型フィルムの170℃において荷重3MPaで60分間加圧した場合の寸法変化率は、1.0%以下であることがより好ましい。
更には、本発明の多層離型フィルムの巾方向(以下、TDともいう)と長さ方向(以下、MDともいう)との寸法変化率が同方向かつ同等程度であることが好ましい。一方(例えば、MD)が収縮、他方(例えば、TD)が伸長という縦横の寸法変化が異なるような場合、得られる多層離型フィルムを用いた熱プレス成形において、プリント基板本体の回路パターンを損なうことがある。
The multilayer release film of the present invention preferably has a dimensional change rate of 1.5% or less when pressed at 170 ° C. with a load of 3 MPa for 60 minutes. When the dimensional change rate exceeds 1.5%, the circuit pattern of the printed circuit board body may be impaired in hot press molding using the resulting multilayer release film. The dimensional change rate when the multilayer release film of the present invention is pressurized at 170 ° C. with a load of 3 MPa for 60 minutes is more preferably 1.0% or less.
Furthermore, it is preferable that the dimensional change rate in the width direction (hereinafter also referred to as TD) and the length direction (hereinafter also referred to as MD) of the multilayer release film of the present invention is in the same direction and is approximately equivalent. When the vertical and horizontal dimensional changes such that one (for example, MD) contracts and the other (for example, TD) extends are different, the circuit pattern of the printed circuit board main body is damaged in the hot press molding using the resulting multilayer release film. Sometimes.

本発明の多層離型フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、上記表層1、上記中間層及び上記表層2を構成する樹脂からなる3層樹脂フィルムを作製した後、得られた樹脂フィルムの表面に、上述した冷却ロールを用いた方法等によって凹凸形状を付与する方法等が挙げられる。
上記3層樹脂フィルムを作製する方法は特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、表層1となるフィルムを作製した後、このフィルムに中間層を押出ラミネート法にて積層し、次いで表層2をドライラミネーションする方法、表層1となるフィルム、中間層となるフィルム及び表層2となるフィルムをドライラミネーションする方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。なかでも、各層の厚み制御に優れる点から、共押出Tダイ法で製膜する方法が好適である。
The method for producing the multilayer release film of the present invention is not particularly limited. For example, the resin film obtained after producing a three-layer resin film comprising the resin constituting the surface layer 1, the intermediate layer, and the surface layer 2 is obtained. The method of giving uneven | corrugated shape to the surface of this by the method using the cooling roll mentioned above, etc. are mentioned.
The method for producing the three-layer resin film is not particularly limited. For example, the film is formed by a water-cooled or air-cooled co-extrusion inflation method, a co-extrusion T-die method, a film to be the surface layer 1, and then the film. An intermediate layer is laminated by extrusion laminating method, then surface layer 2 is dry laminated, surface layer 1 film, intermediate layer film and surface layer 2 film are dry laminated, solvent casting method, heat press Examples include molding methods. Especially, the method of forming into a film by the coextrusion T-die method is suitable from the point which is excellent in thickness control of each layer.

上記溶剤キャスティング法では、例えば、中間層となるフィルム上にアンカー層を下塗り処理した後、溶剤に溶解した表層1又は表層2を構成する樹脂組成物をアンカー層上に塗工し、塗膜を均一に加熱し乾燥させて表層1又は表層2を形成させることにより、多層離型フィルムを製造する。
また、上記熱プレス成形では、例えば、表層1となるフィルム、中間層となるフィルム及び表層2となるフィルムを重ね合わせて熱プレス成形することにより、多層離型フィルムを製造する。
In the solvent casting method, for example, after an anchor layer is undercoated on a film serving as an intermediate layer, a resin composition constituting surface layer 1 or surface layer 2 dissolved in a solvent is applied on the anchor layer, and a coating film is formed. A multilayer release film is produced by uniformly heating and drying to form surface layer 1 or surface layer 2.
Moreover, in the said hot press molding, a multilayer release film is manufactured by superposing | stacking the film used as the surface layer 1, the film used as an intermediate | middle layer, and the film used as the surface layer 2, for example.

本発明の多層離型フィルムは、離型性を向上させる目的で、表面に離型処理が施されていることが好ましい。
上記離型処理の方法は特に限定されず、例えば、多層離型フィルムの表面にシリコーン系やフッ素系等の離型剤を塗布又は散布する方法や、熱処理や摩擦処理等を行う方法等の公知の方法を用いることができる。これらの離型処理は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The multilayer release film of the present invention is preferably subjected to a release treatment on the surface for the purpose of improving the release property.
The release treatment method is not particularly limited. For example, a known method such as a method of applying or spraying a release agent such as silicone or fluorine on the surface of a multilayer release film, a method of performing heat treatment, friction treatment, or the like. This method can be used. These mold release processes may be used independently and may use 2 or more types together.

上記熱処理の方法は特に限定されず、例えば、一定の処理温度に加熱したロールの間を通過させる方法や加熱オーブン中に投入する方法等が挙げられる。上記熱処理の温度は、上記表層1、上記表層2及び上記中間層を構成する樹脂のガラス転移温度以上かつ融点以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は120℃、好ましい上限は200℃である。上記熱処理温度が120℃未満であると、熱処理による離型性の向上効果がほとんど得られないことがある。上記熱処理温度が200℃を超えると、熱処理時に上記表層1、上記表層2又は上記中間層が変形しやすくなり、製造できないことがある。上記熱処理温度のより好ましい下限は170℃、より好ましい上限は190℃である。 The method of the heat treatment is not particularly limited, and examples thereof include a method of passing between rolls heated to a constant treatment temperature and a method of putting in a heating oven. The temperature of the heat treatment is not particularly limited as long as it is not lower than the glass transition temperature and not higher than the melting point of the resin constituting the surface layer 1, the surface layer 2, and the intermediate layer, but the preferable lower limit is 120 ° C and the preferable upper limit is 200 ° C. . If the heat treatment temperature is less than 120 ° C., the effect of improving the releasability by the heat treatment may be hardly obtained. When the heat treatment temperature exceeds 200 ° C., the surface layer 1, the surface layer 2, or the intermediate layer is likely to be deformed during heat treatment and may not be manufactured. A more preferable lower limit of the heat treatment temperature is 170 ° C., and a more preferable upper limit is 190 ° C.

上記摩擦処理の方法は特に限定されず、例えば、金属ロール等の回転物、ブラシ、ガーゼ等の布を用いて上記表層1又は上記表層2を摩擦する方法が挙げられる。上記摩擦の際の速度は特に限定されないが、上記表層1又は上記表層2に対する速度の好ましい下限は30m/分である。 The method of the said friction process is not specifically limited, For example, the method of rubbing the said surface layer 1 or the said surface layer 2 using cloths, such as rotating materials, such as a metal roll, a brush, and a gauze, is mentioned. Although the speed at the time of the friction is not particularly limited, a preferable lower limit of the speed with respect to the surface layer 1 or the surface layer 2 is 30 m / min.

本発明の多層離型フィルムの用途は特に限定されないが、例えば、フレキシブルプリント基板等のプリント基板の製造において、カバーレイフィルム又は補強板を熱硬化型接着剤又は熱硬化性接着シートを介して熱プレス成形によりプリント基板に接着する際に、好適に用いることができる。本発明の多層離型フィルムは、中間層を介して厚さが5μm以上25μm未満である表層1と厚さが25μm以上50μm未満である表層2とを有することから、上記表層1がプリント基板本体の回路面側に、上記表層2が熱プレス板側になるようにして熱プレス成形を行うことにより、シワの発生を抑制するとともにカバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制し、熱プレス成形における歩留りを向上させることができる。
本発明の多層離型フィルムを用いたプリント基板の製造方法であって、熱プレス成形において、厚さが5μm以上25μm未満である表層(表層1)がプリント基板本体の回路面側に、厚さが25μm以上50μm未満である表層(表層2)が熱プレス板側になるように多層離型フィルムを配置するプリント基板の製造方法もまた、本発明の1つである。
The use of the multilayer release film of the present invention is not particularly limited. For example, in the production of a printed circuit board such as a flexible printed circuit board, a coverlay film or a reinforcing plate is heated via a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet. It can be suitably used when adhering to a printed circuit board by press molding. The multilayer release film of the present invention has a surface layer 1 having a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm and a surface layer 2 having a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm via an intermediate layer. By performing hot press molding so that the surface layer 2 is on the hot press plate side, the generation of wrinkles is suppressed and the flow of the adhesive from the coverlay film or the like is suppressed. Yield in molding can be improved.
In the method for producing a printed board using the multilayer release film of the present invention, in hot press molding, a surface layer (surface layer 1) having a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm has a thickness on the circuit surface side of the printed board body. A method for producing a printed circuit board in which a multilayer release film is disposed so that a surface layer (surface layer 2) having a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm is on the hot press plate side is also one aspect of the present invention.

本発明によれば、防シワ性に優れ、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制することができる多層離型フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、該多層離型フィルムを用いたプリント基板の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in wrinkle resistance and can provide the multilayer release film which can suppress the outflow of the adhesive agent from a coverlay film etc. Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the printed circuit board using this multilayer release film can be provided.

図1は、実施例1〜9及び比較例1〜27で得られた多層離型フィルムの総合評価の結果を、横軸を多層離型フィルムの表層1の厚さ、縦軸を多層離型フィルムの表層2の厚さとしたグラフ上に示した図である。FIG. 1 shows the results of comprehensive evaluation of the multilayer release films obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 27, the horizontal axis indicates the thickness of the surface layer 1 of the multilayer release film, and the vertical axis indicates the multilayer release. It is the figure shown on the graph made into the thickness of the surface layer 2 of a film.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1〜9、比較例1〜27)
3層共押出が可能な金型と3機の押出機からなる成形装置に、結晶性芳香族ポリエステル樹脂(ポリブチレンテレフタレート、三菱エンジニアリングプラスチック社製、ノバデユラン5010R5)とポリオレフィン系樹脂(日本ポリエチレン社製、LDPE、商品名「ノバテック」)とを押出機(ジーエムエンジニアリング社製、GM30−28(スクリュー径30mm、L/D28))を用いてTダイ幅400mmにて共押出して成形することにより、厚さ70μmのポリオレフィン系樹脂層(中間層)の表裏を、それぞれ表1に示す厚さを有する2つのポリエステル樹脂(表層1及び表層2)で挟持した構造の乳白色の3層樹脂フィルムを得た。
(Examples 1-9, Comparative Examples 1-27)
In a molding apparatus consisting of a three-layer coextrusion mold and three extruders, a crystalline aromatic polyester resin (polybutylene terephthalate, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novade Juran 5010R5) and a polyolefin resin (manufactured by Nippon Polyethylene) , LDPE, trade name “NOVATEC”) by using a extruder (GM30-28, GM30-28 (screw diameter 30 mm, L / D28)) and co-extrusion with a T die width of 400 mm. A milky white three-layer resin film having a structure in which the front and back surfaces of a polyolefin-based resin layer (intermediate layer) having a thickness of 70 μm were sandwiched between two polyester resins (surface layer 1 and surface layer 2) each having a thickness shown in Table 1 was obtained.

次いで、得られた3層樹脂フィルムの表面に対して、冷却ロール表面に加工された模様を転写させることにより3層樹脂フィルムの表面に凹凸を形成し、表層1のRSm=50μm、表層2のRSm=200μmの3層離型フィルムを得た。 Next, the pattern processed on the surface of the cooling roll is transferred to the surface of the obtained three-layer resin film to form irregularities on the surface of the three-layer resin film, and RSm = 50 μm of surface layer 1 and surface layer 2 A three-layer release film with RSm = 200 μm was obtained.

<評価1>
実施例1〜9及び比較例1〜27で得られた多層離型フィルムについて以下の評価を行った。結果を表1に示した。
<Evaluation 1>
The following evaluation was performed about the multilayer release film obtained in Examples 1-9 and Comparative Examples 1-27. The results are shown in Table 1.

(1)シワ性能評価
CCL(20cm×20cm、ポリイミド厚25μm、銅箔35μm)、カバーレイ(20cm×20cm、ポリイミド厚15μm、エポキシ系樹脂接着剤層25μm)、及び、得られた多層離型フィルムを下からこの順番に積み上げ、スライド式真空ヒータプレス(MKP−3000V−WH−ST、ミカドテクノス社製)を用いて予め180℃で加熱したプレス金型間に置いて位置合わせをした後、プレスを開始し(設置から実際に圧力がかかるまでに約10秒)、真空条件下、50kg/cmで2分間プレスすることにより、CCLとカバーレイとからなるフレキシブルプリント基板(FPC)評価サンプルを作製した。
(1) Wrinkle performance evaluation CCL (20 cm × 20 cm, polyimide thickness 25 μm, copper foil 35 μm), coverlay (20 cm × 20 cm, polyimide thickness 15 μm, epoxy resin adhesive layer 25 μm), and obtained multilayer release film Are stacked in this order from the bottom, placed between press dies heated at 180 ° C. in advance using a slide-type vacuum heater press (MKP-3000V-WH-ST, manufactured by Mikado Technos), and then aligned. (Approximately 10 seconds from the installation until the actual pressure is applied), and press for 2 minutes at 50 kg / cm 2 under vacuum conditions, and a flexible printed circuit board (FPC) evaluation sample consisting of CCL and coverlay Produced.

その後、FPC評価サンプル及び多層離型フィルムを取り出し、多層離型フィルムを剥がした後、カバーレイ表面上に転写されたシワの個数を測定した。カバーレイ表面上に転写されたシワの個数が0個であった場合を「○」と、1〜9個であった場合を「△」と、10個以上であった場合を「×」と評価した。
なお、シワの個数が30個以内の場合には、プリント基板を製造する際の離型フィルムとして充分な防シワ性を有するといえる。より好ましくは、シワの個数が5個以内である。一方、シワの個数が30個を超える場合には、プリント基板を製造する際の離型フィルムとして防シワ性が不充分である。
Thereafter, the FPC evaluation sample and the multilayer release film were taken out, peeled off the multilayer release film, and then the number of wrinkles transferred onto the coverlay surface was measured. When the number of wrinkles transferred on the coverlay surface was 0, “◯”, when it was 1-9, “△”, and when it was 10 or more, “x” evaluated.
In addition, when the number of wrinkles is 30 or less, it can be said that it has sufficient wrinkle resistance as a release film at the time of manufacturing a printed circuit board. More preferably, the number of wrinkles is 5 or less. On the other hand, when the number of wrinkles exceeds 30, the wrinkle resistance is insufficient as a release film for producing a printed circuit board.

(2)接着剤流れ出し量評価
CCL(20cm×20cm、ポリイミド厚25μm、銅箔35μm)、カバーレイ(20cm×20cm、ポリイミド厚25μm、エポキシ系樹脂接着剤層35μm)、及び、得られた多層離型フィルムを下からこの順番に積み上げ、スライド式真空ヒータプレス(MKP−3000V−WH−ST、ミカドテクノス社製)を用いて予め180℃で加熱したプレス金型間に置いて位置合わせをした後、プレスを開始し(設置から実際に圧力がかかるまでに約10秒)、50kg/cmで2分間プレスすることにより、CCLとカバーレイとからなるFPC評価サンプルを作製した。なお、カバーレイには、予め接着剤流れ出し量評価用の穴(Φ1mm)を作製しておいた。
(2) Adhesive flow rate evaluation CCL (20 cm × 20 cm, polyimide thickness 25 μm, copper foil 35 μm), coverlay (20 cm × 20 cm, polyimide thickness 25 μm, epoxy resin adhesive layer 35 μm), and the obtained multilayer separation After stacking the mold films in this order from the bottom, the slide film was placed between press dies preheated at 180 ° C. using a slide-type vacuum heater press (MKP-3000V-WH-ST, manufactured by Mikado Technos) and aligned. Then, pressing was started (about 10 seconds from when the pressure was actually applied to setting), and pressing was performed at 50 kg / cm 2 for 2 minutes to prepare an FPC evaluation sample composed of CCL and a coverlay. In addition, the hole ((PHI) 1mm) for adhesive flow out amount evaluation was produced previously in the coverlay.

その後、FPC評価サンプル及び多層離型フィルムを取り出し、カバーレイ上の接着剤流れ出し量評価用の穴を顕微鏡で観察することにより、流れ出した接着剤の長さを測定した。流れ出した接着剤の長さが100μm未満であった場合を「○」と、100μm以上、120μm未満であった場合を「△」と、120μm以上であった場合を「×」と評価した。 Thereafter, the FPC evaluation sample and the multilayer release film were taken out, and the length of the adhesive that flowed out was measured by observing the hole for evaluating the adhesive flow-out amount on the coverlay with a microscope. The case where the length of the flowed-out adhesive was less than 100 μm was evaluated as “◯”, the case where it was 100 μm or more and less than 120 μm, “Δ”, and the case where it was 120 μm or more was evaluated as “x”.

(3)総合評価
上述した(1)シワ性能評価と(2)接着剤流れ出し量評価とにおいて、両評価が「○」であった場合を「○」と、どちらか一方の評価が「○」でありかつ他方の評価が「△」であった場合を「△」と、少なくともどちらか一方の評価が「×」であった場合、又は、両評価が「△」であった場合を「×」と評価した。
総合評価の結果を、横軸を多層離型フィルムの表層1の厚さ、縦軸を多層離型フィルムの表層2の厚さとしたグラフ上に示した(図1)。
(3) Comprehensive evaluation In (1) Wrinkle performance evaluation and (2) Adhesive flow-out amount evaluation described above, when both evaluations are “◯”, “○” indicates that either evaluation is “○”. And when the other evaluation is “△”, at least one evaluation is “×”, or when both evaluations are “△” ".
The results of the comprehensive evaluation are shown on a graph in which the horizontal axis is the thickness of the surface layer 1 of the multilayer release film and the vertical axis is the thickness of the surface layer 2 of the multilayer release film (FIG. 1).

Figure 2010253854
Figure 2010253854

(実施例10〜11)
3層樹脂フィルムの表面に凹凸を形成する際に使用する冷却ロールを変えたこと以外は実施例9と同様にして、表2に示す粗さ曲線要素の平均長さRSmを有する3層離型フィルムを作製した。
(Examples 10 to 11)
Three-layer mold release having an average length RSm of roughness curve elements shown in Table 2 in the same manner as in Example 9 except that the cooling roll used when forming irregularities on the surface of the three-layer resin film was changed. A film was prepared.

<評価2>
実施例9、10及び11で得られた多層離型フィルムについて以下の評価を行った。結果を表2に示した。
<Evaluation 2>
The following evaluation was performed on the multilayer release films obtained in Examples 9, 10 and 11. The results are shown in Table 2.

(1)シワ性能評価
真空条件下、50kg/cmで2分間プレスしたことに変えて、常圧条件下、50kg/cmで2分間プレスしたこと以外は上述の<評価1>における(1)シワ性能評価と同様にして、CCLとカバーレイとからなるFPC評価サンプルを作製した。
なお、真空条件下でプレスするよりも、常圧条件下でプレスするほうが多層離型フィルムへのシワは生じやすい。
(1) Wrinkle performance evaluation In the above <Evaluation 1> except that it was pressed at 50 kg / cm 2 for 2 minutes under vacuum conditions, except that it was pressed at 50 kg / cm 2 for 2 minutes under normal pressure conditions (1 ) An FPC evaluation sample composed of CCL and coverlay was prepared in the same manner as the wrinkle performance evaluation.
In addition, it is easy to produce the wrinkle to a multilayer release film to press on normal pressure conditions rather than pressing on vacuum conditions.

その後、FPC評価サンプル及び多層離型フィルムを取り出し、多層離型フィルムを剥がした後、カバーレイ表面上に転写されたシワの個数を測定した。カバーレイ表面上に転写されたシワの個数が0個であった場合を「◎」と、1〜5個であった場合を「○」と、6〜10個であった場合を「△」と、11個以上であった場合を「×」と評価した。 Thereafter, the FPC evaluation sample and the multilayer release film were taken out, peeled off the multilayer release film, and then the number of wrinkles transferred onto the coverlay surface was measured. When the number of wrinkles transferred on the coverlay surface is 0, “「 ”, when it is 1-5,“ ◯ ”, when it is 6-10,“ △ ”. The case of 11 or more was evaluated as “x”.

(2)接着剤流れ出し量評価
上述の<評価2>における(2)接着剤流れ出し量評価と同様にして、接着剤流れ出し量を評価した。
(2) Adhesive flow-out amount evaluation The adhesive flow-out amount was evaluated in the same manner as (2) Adhesive flow-out amount evaluation in <Evaluation 2> described above.

Figure 2010253854
Figure 2010253854

本発明によれば、防シワ性に優れ、カバーレイフィルム等からの接着剤の流れ出しを抑制することができる多層離型フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、該多層離型フィルムを用いたプリント基板の製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in wrinkle resistance and can provide the multilayer release film which can suppress the outflow of the adhesive agent from a coverlay film etc. Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the printed circuit board using this multilayer release film can be provided.

Claims (3)

中間層と、該中間層の両面に積層された2つの表層とを有する多層離型フィルムであって、
前記2つの表層は、一方の厚さが5μm以上25μm未満であり、かつ、他方の厚さが25μm以上50μm未満である
ことを特徴とする多層離型フィルム。
A multilayer release film having an intermediate layer and two surface layers laminated on both sides of the intermediate layer,
One of the two surface layers has a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm, and the other has a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm.
厚さが5μm以上25μm未満である表層は、JIS B0601:2001に準拠する方法で、先端半径2μm、円錐のテーパ角60°の触針を用い、測定力0.75mN、カットオフ値λs=2.5μm、λc=0.8mmの条件にて測定される粗さ曲線要素の平均長さRSmが300μm以下であることを特徴とする請求項1記載の多層離型フィルム。 A surface layer having a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm is a method according to JIS B0601: 2001, using a stylus having a tip radius of 2 μm and a conical taper angle of 60 °, a measuring force of 0.75 mN, and a cutoff value λs = 2. The multilayer release film according to claim 1, wherein the average length RSm of the roughness curve element measured under the conditions of 0.5 µm and λc = 0.8 mm is 300 µm or less. 請求項1又は2記載の多層離型フィルムを用いたプリント基板の製造方法であって、
熱プレス成形において、厚さが5μm以上25μm未満である表層がプリント基板本体の回路面側に、厚さが25μm以上50μm未満である表層が熱プレス板側になるように多層離型フィルムを配置する
ことを特徴とするプリント基板の製造方法。
A method for producing a printed circuit board using the multilayer release film according to claim 1,
In hot press molding, a multilayer release film is placed so that the surface layer with a thickness of 5 μm or more and less than 25 μm is on the circuit surface side of the printed circuit board body, and the surface layer with a thickness of 25 μm or more and less than 50 μm is on the heat press plate side. A printed circuit board manufacturing method comprising:
JP2009108403A 2009-04-27 2009-04-27 Multi-layer release film Active JP5438367B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009108403A JP5438367B2 (en) 2009-04-27 2009-04-27 Multi-layer release film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009108403A JP5438367B2 (en) 2009-04-27 2009-04-27 Multi-layer release film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010253854A true JP2010253854A (en) 2010-11-11
JP5438367B2 JP5438367B2 (en) 2014-03-12

Family

ID=43315343

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009108403A Active JP5438367B2 (en) 2009-04-27 2009-04-27 Multi-layer release film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5438367B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014231593A (en) * 2013-04-30 2014-12-11 住友ベークライト株式会社 Release film and method of using release film
JP2015013465A (en) * 2013-06-06 2015-01-22 住友ベークライト株式会社 Release film and usage of release film
JP2016175229A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 東レ株式会社 Biaxially oriented polyester film for mold release

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002067240A (en) * 2000-08-30 2002-03-05 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Laminated film for release
JP2002079630A (en) * 2000-06-28 2002-03-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mold release multilayered film and cover lay molding method
JP2003276140A (en) * 2002-03-25 2003-09-30 Sumitomo Bakelite Co Ltd Method for molding release multilayered film and cover lay
JP2005262556A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd Multi-layer release film and circuit board
JP2006148081A (en) * 2004-10-19 2006-06-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mold release film and method of manufacturing circuit board
JP2007083459A (en) * 2005-09-20 2007-04-05 Tohcello Co Ltd Surface-roughened film and its application
JP2007098816A (en) * 2005-10-05 2007-04-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Releasing film and method for manufacturing circuit board
JP2008246882A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd Release film and manufacturing method of circuit substrate
WO2009038118A1 (en) * 2007-09-21 2009-03-26 Sekisui Chemical Co., Ltd. Mold release film

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002079630A (en) * 2000-06-28 2002-03-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mold release multilayered film and cover lay molding method
JP2002067240A (en) * 2000-08-30 2002-03-05 Mitsubishi Plastics Ind Ltd Laminated film for release
JP2003276140A (en) * 2002-03-25 2003-09-30 Sumitomo Bakelite Co Ltd Method for molding release multilayered film and cover lay
JP2005262556A (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd Multi-layer release film and circuit board
JP2006148081A (en) * 2004-10-19 2006-06-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mold release film and method of manufacturing circuit board
JP2007083459A (en) * 2005-09-20 2007-04-05 Tohcello Co Ltd Surface-roughened film and its application
JP2007098816A (en) * 2005-10-05 2007-04-19 Sumitomo Bakelite Co Ltd Releasing film and method for manufacturing circuit board
JP2008246882A (en) * 2007-03-30 2008-10-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd Release film and manufacturing method of circuit substrate
WO2009038118A1 (en) * 2007-09-21 2009-03-26 Sekisui Chemical Co., Ltd. Mold release film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014231593A (en) * 2013-04-30 2014-12-11 住友ベークライト株式会社 Release film and method of using release film
JP2015013465A (en) * 2013-06-06 2015-01-22 住友ベークライト株式会社 Release film and usage of release film
JP2016175229A (en) * 2015-03-19 2016-10-06 東レ株式会社 Biaxially oriented polyester film for mold release

Also Published As

Publication number Publication date
JP5438367B2 (en) 2014-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4332204B2 (en) Release film
JP5837976B2 (en) Release film and method for producing release film
JP5245497B2 (en) Release film
JP7277092B2 (en) release film
JP2007175885A (en) Mold release film
JP2018187934A (en) Mold release film and method for producing flexible printed circuit board
JP4598644B2 (en) Multilayer release film and method for producing multilayer release film
JP5645382B2 (en) Multi-layer release film
KR102301255B1 (en) Mold release film
JP6908658B2 (en) Release film
JP4436803B2 (en) Release film
JP5438367B2 (en) Multi-layer release film
JP2023164538A (en) release film
JP2008105319A (en) Multi-layer release film
JP2015202662A (en) Production method of release film
JP2010194841A (en) Release film and method for manufacturing the same
JP6223913B2 (en) Release film
JP2005212453A (en) Release film and manufacturing process of release film
JP2007276336A (en) Multi-layer release film
JP2006321112A (en) Multilayered mold release film
JP5492542B2 (en) Release film production method
JP2006321114A (en) Multilayered mold release film
JP2020167212A (en) Mold release film for printed wiring board manufacturing process and application thereof
JP2011252094A (en) Release film
JP2006321113A (en) Multilayered mold release film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120207

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130109

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130507

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130704

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131119

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131213

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5438367

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151