JP2011252094A - Release film - Google Patents

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Yosuke Nakao
洋祐 中尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a release film excellent in a mold releasability, and excellent in non-staining properties to a copper circuit.SOLUTION: In the release film having a surface that contains an engineering plastic, the engineering plastic has a storage modulus of 100-2,000 MPa which is measured by the dynamic viscoelastic measurement device at a hot pressing molding temperature.

Description

本発明は、離型性に優れ、かつ、銅回路に対する非汚染性に優れた離型フィルムに関する。 The present invention relates to a release film having excellent releasability and excellent non-contamination for copper circuits.

プリント配線基板、フレキシブルプリント基板、多層プリント配線板等の製造工程においては、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレスする際に離型フィルムが使用されている。また、フレキシブルプリント基板の製造工程においては、銅回路を形成したフレキシブルプリント基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化型接着シートによってカバーレイフィルムを熱プレス接着する際にも、カバーレイフィルムと熱プレス板とが接着するのを防止するために離型フィルムが広く使用されている。 In the manufacturing process of a printed wiring board, a flexible printed board, a multilayer printed wiring board, etc., a release film is used when a copper-clad laminate or a copper foil is hot-pressed through a prepreg or a heat-resistant film. In the manufacturing process of the flexible printed circuit board, when the cover lay film is hot-press bonded to the flexible printed circuit board body on which the copper circuit is formed with a thermosetting adhesive or a thermosetting adhesive sheet, Release films are widely used to prevent the hot press plate from adhering.

離型フィルムに対しては、例えば、熱プレス成形に耐え得る耐熱性、プリント配線基板及び熱プレス板に対する離型性、廃棄処理の容易性等の性能が求められる。また、熱プレス成形時の製品歩留り向上のため、銅回路に対する非汚染性も重要である。 For the release film, for example, heat resistance that can withstand hot press molding, release properties for printed wiring boards and hot press plates, ease of disposal, and the like are required. In addition, non-contamination to the copper circuit is also important for improving the product yield during hot press molding.

従来、離型フィルムとしては、フッ素系フィルム、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリプロピレンフィルム等が用いられてきた(例えば、特許文献1)。
しかしながら、フッ素系フィルムは、耐熱性、離型性、非汚染性に優れているが、高価であるうえ、廃棄処理において焼却する際に燃焼しにくく、有毒ガスを発生する。また、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム及びポリメチルペンテンフィルムは、シリコーン又は構成成分中の低分子量体が移行することによってプリント配線基板とりわけ銅回路の汚染を引き起こし、品質を損なうおそれがある。また、ポリプロピレンフィルムは耐熱性に劣り、離型性も不充分である。
Conventionally, as a release film, a fluorine-based film, a silicone-coated polyethylene terephthalate film, a polymethylpentene film, a polypropylene film, and the like have been used (for example, Patent Document 1).
However, the fluorine-based film is excellent in heat resistance, releasability, and non-contamination, but is expensive and hardly burns when incinerated in the disposal process, and generates toxic gas. In addition, the silicone-coated polyethylene terephthalate film and the polymethylpentene film may cause contamination of a printed wiring board, particularly a copper circuit, due to migration of a low molecular weight substance in silicone or a constituent component, and may impair quality. Moreover, a polypropylene film is inferior in heat resistance, and its mold release property is also insufficient.

また、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂からなる離型フィルムも検討されているが、このような離型フィルムは、耐熱性、廃棄処理の容易性、非汚染性には優れているが離型性の面では改善の余地がある。
離型性を向上させるためには、離型フィルムに熱処理又は摩擦処理を施すことが検討されている。しかしながら、熱処理は高温で行われ、また、長時間を必要とすることから、製造工程が煩雑となることが問題である。また、摩擦処理は摩擦処理ロールを高速で回転させながら高圧で行われることから、離型フィルムの表面にシワ、傷等の損傷を生じさせ、例えば、プリント配線基板等の表面の凹凸に対する離型フィルムの追従性が低下する等の不具合が生じる。従って、このような処理を施さなくても離型性に優れ、かつ、銅回路に対する非汚染性等の他の性能にも優れた離型フィルムが求められている。
In addition, release films made of polyester resins such as polybutylene terephthalate have been studied. Such release films are excellent in heat resistance, ease of disposal, and non-contamination, but release. There is room for improvement in terms of sex.
In order to improve releasability, it has been studied to subject the release film to heat treatment or friction treatment. However, the heat treatment is performed at a high temperature and requires a long time, so that the manufacturing process becomes complicated. In addition, since the friction treatment is performed at a high pressure while rotating the friction treatment roll at a high speed, it causes damage such as wrinkles and scratches on the surface of the release film. Inconveniences such as a decrease in followability of the film occur. Therefore, there is a need for a release film that is excellent in releasability even without such treatment, and that is excellent in other properties such as non-contamination for copper circuits.

特開平5−283862号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-283862

本発明は、離型性に優れ、かつ、銅回路に対する非汚染性に優れた離型フィルムを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the release film excellent in the mold release property and excellent in the non-contamination property with respect to a copper circuit.

本発明は、エンジニアリングプラスチックを含有する表層を有する離型フィルムであって、前記エンジニアリングプラスチックは、動的粘弾性測定装置で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率が100〜2000MPaである離型フィルムである。以下、本発明を詳述する。 The present invention is a release film having a surface layer containing an engineering plastic, wherein the engineering plastic has a storage elastic modulus of 100 to 2000 MPa measured at a hot press molding temperature with a dynamic viscoelasticity measuring device. It is. The present invention is described in detail below.

本発明者らは、エンジニアリングプラスチックを含有する表層を有する離型フィルムであって、該エンジニアリングプラスチックの所定条件で測定した貯蔵弾性率が所定範囲を満たす離型フィルムは、プリント配線基板、熱プレス板等に対する離型フィルムの離型性に優れ、かつ、銅回路に対する非汚染性にも優れることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The inventors of the present invention provide a release film having a surface layer containing an engineering plastic, wherein the release film satisfying a predetermined range of storage elastic modulus measured under a predetermined condition of the engineering plastic is a printed wiring board, a hot press plate It has been found that the release film is excellent in releasability with respect to, and the like, and is excellent in non-contamination on the copper circuit, and has completed the present invention.

本発明の離型フィルムは、エンジニアリングプラスチックを含有する表層を有する。本明細書中、エンジニアリングプラスチックとは、プラスチック素材、熱可塑性樹脂等の合成樹脂のなかでも、主に耐熱性等の、所定の目的に沿った機能が強化された合成樹脂を意味する。
上記エンジニアリングプラスチックは、動的粘弾性測定装置で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率の下限が100MPa、上限が2000MPaである。
上記範囲の貯蔵弾性率を満たすエンジニアリングプラスチックを用いることにより、本発明の離型フィルムは、プリント配線基板、熱プレス板等に対する離型性に優れる。また、上記範囲の貯蔵弾性率を満たすエンジニアリングプラスチックを用いることにより、離型フィルムの構成成分が銅回路に移行して付着することが軽減され、本発明の離型フィルムは、銅回路に対する非汚染性にも優れる。
The release film of the present invention has a surface layer containing an engineering plastic. In the present specification, the engineering plastic means a synthetic resin whose functions according to a predetermined purpose such as heat resistance are reinforced, among synthetic resins such as plastic materials and thermoplastic resins.
The engineering plastic has a lower limit of storage elastic modulus of 100 MPa and an upper limit of 2000 MPa measured at a hot press molding temperature with a dynamic viscoelasticity measuring apparatus.
By using an engineering plastic satisfying the storage elastic modulus in the above range, the release film of the present invention is excellent in releasability from a printed wiring board, a hot press plate, and the like. Further, by using an engineering plastic that satisfies the storage elastic modulus in the above range, the component of the release film is mitigated to migrate to and adhere to the copper circuit, and the release film of the present invention is non-polluting to the copper circuit. Excellent in properties.

上記貯蔵弾性率が100MPa未満であると、得られる離型フィルムは、プリント配線基板等の表面の凹凸に対する追従性が高すぎて、離型性が低下する。上記貯蔵弾性率が2000MPaを超えると、得られる離型フィルムは、硬すぎて離型フィルムとして機能することができない。上記貯蔵弾性率の好ましい下限は120MPa、好ましい上限は1300MPaである。 When the storage elastic modulus is less than 100 MPa, the obtained release film has too high followability to surface irregularities of a printed wiring board or the like, and the release property is lowered. When the storage elastic modulus exceeds 2000 MPa, the obtained release film is too hard to function as a release film. The preferable lower limit of the storage elastic modulus is 120 MPa, and the preferable upper limit is 1300 MPa.

なお、本明細書中、熱プレス成形温度とは、離型フィルムを用いてプリント配線基板等を熱プレス成形する場合に通常用いられる温度であり、具体的には、130〜200℃の範囲の温度を意味する。また、貯蔵弾性率は、例えばアイティー計測制御社製の型式DVA―225等の動的粘弾性測定装置を用いて測定することによって得られる。 In the present specification, the hot press molding temperature is a temperature usually used when a printed wiring board or the like is hot press molded using a release film, and specifically, in the range of 130 to 200 ° C. It means temperature. The storage elastic modulus can be obtained, for example, by measuring using a dynamic viscoelasticity measuring device such as Model DVA-225 manufactured by IT Measurement Control Co., Ltd.

上記エンジニアリングプラスチックは、上記範囲の貯蔵弾性率を満たせば特に限定されないが、具体的には、例えば、ポリフェニレンエーテル、液晶ポリマー、ポリブチレンテレフタレート等が好ましい。なかでも、ポリフェニレンエーテル又は液晶ポリマーがより好ましい。
本明細書中、液晶ポリマーとは、溶融状態で分子の直鎖が規則正しく並んだ液晶様性質を示す、熱可塑性樹脂に属する合成樹脂を意味し、具体的には、例えば、エコノール(住友化学社製)等が挙げられる。
The engineering plastic is not particularly limited as long as the storage elastic modulus in the above range is satisfied. Specifically, for example, polyphenylene ether, liquid crystal polymer, polybutylene terephthalate, and the like are preferable. Of these, polyphenylene ether or liquid crystal polymer is more preferable.
In the present specification, the liquid crystal polymer means a synthetic resin belonging to a thermoplastic resin that exhibits liquid crystal-like properties in which a linear chain of molecules is regularly arranged in a molten state, and specifically, for example, Econol (Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Manufactured) and the like.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層は、安定剤を含有してもよい。上記安定剤は特に限定されず、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、熱安定剤等が挙げられる。
上記ヒンダードフェノール系酸化防止剤は特に限定されず、例えば、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等が挙げられる。
上記熱安定剤は特に限定されず、例えば、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2−t−ブチル−α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルビス(p−ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’−チオジプロピオネート等が挙げられる。
The surface layer containing the engineering plastic may contain a stabilizer. The said stabilizer is not specifically limited, For example, a hindered phenolic antioxidant, a heat stabilizer, etc. are mentioned.
The hindered phenol antioxidant is not particularly limited. For example, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3 , 9-bis {2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxa Examples include spiro [5,5] undecane.
The heat stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, 2-t-butyl-α- (3-t-butyl-4- Hydroxyphenyl) -p-cumenylbis (p-nonylphenyl) phosphite, dimyristyl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, pentaerythryltetrakis (3-laurylthiopropio) Nate), ditridecyl 3,3′-thiodipropionate and the like.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層はまた、本発明の効果を損なわない範囲で、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 The surface layer containing the engineering plastic also contains additives such as fibers, inorganic fillers, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, inorganic substances, higher fatty acid salts, and the like within a range not impairing the effects of the present invention. Also good.

上記繊維は、無機繊維であってもよく、有機繊維であってもよい。上記無機繊維は特に限定されず、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、炭化珪素繊維、アルミナ繊維、アモルファス繊維、シリコン−チタン−炭素系繊維等が挙げられる。上記有機繊維は特に限定されず、例えば、アラミド繊維等が挙げられる。 The fiber may be an inorganic fiber or an organic fiber. The inorganic fiber is not particularly limited, and examples thereof include glass fiber, carbon fiber, boron fiber, silicon carbide fiber, alumina fiber, amorphous fiber, and silicon-titanium-carbon fiber. The said organic fiber is not specifically limited, For example, an aramid fiber etc. are mentioned.

上記無機充填剤は特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルク等が挙げられる。
上記難燃剤は特に限定されず、例えば、ヘキサブロモシクロドデカン、トリス−(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include calcium carbonate, titanium oxide, mica and talc.
The flame retardant is not particularly limited, and examples thereof include hexabromocyclododecane, tris- (2,3-dichloropropyl) phosphate, pentabromophenyl allyl ether, and the like.

上記紫外線吸収剤は特に限定されず、例えば、p−t−ブチルフェニルサリシレート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2,4,5−トリヒドロキシブチロフェノン等が挙げられる。
上記帯電防止剤は特に限定されず、例えば、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、アルキルスルファネート等が挙げられる。
The ultraviolet absorber is not particularly limited. For example, pt-butylphenyl salicylate, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2,4,5-tri And hydroxybutyrophenone.
The antistatic agent is not particularly limited, and examples thereof include N, N-bis (hydroxyethyl) alkylamine, alkylallyl sulfonate, and alkyl sulfonate.

上記無機物は特に限定されず、例えば、硫酸バリウム、アルミナ、酸化珪素等が挙げられる。
上記高級脂肪酸塩は特に限定されず、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸バリウム、パルミチン酸ナトリウム等が挙げられる。
The inorganic material is not particularly limited, and examples thereof include barium sulfate, alumina, and silicon oxide.
The higher fatty acid salt is not particularly limited, and examples thereof include sodium stearate, barium stearate, and sodium palmitate.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層は、該表層の性質を改質するために、熱可塑性樹脂及びゴム成分を含有してもよい。
上記熱可塑性樹脂は特に限定されず、例えば、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等が挙げられる。
上記ゴム成分は特に限定されず、例えば、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ポリクロロプレン、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
The surface layer containing the engineering plastic may contain a thermoplastic resin and a rubber component in order to modify the properties of the surface layer.
The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyolefin, modified polyolefin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, and polyester.
The rubber component is not particularly limited. For example, natural rubber, styrene-butadiene copolymer, polybutadiene, polyisoprene, acrylonitrile-butadiene copolymer, ethylene-propylene copolymer (EPM, EPDM), polychloroprene, butyl rubber. Acrylic rubber, silicone rubber, urethane rubber, olefin thermoplastic elastomer, styrene thermoplastic elastomer, vinyl chloride thermoplastic elastomer, ester thermoplastic elastomer, amide thermoplastic elastomer, and the like.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層は、アスペクト比の大きい無機化合物を含有してもよい。
上記アスペクト比の大きい無機化合物を含有することにより、得られる離型フィルムは高温での離型性が向上し、更に、離型フィルムに含まれる添加剤、低分子量物等が離型フィルム表面へブリードアウトすることを抑制することができ、熱プレス成形時のクリーン性が向上する。
上記アスペクト比の大きい無機化合物は特に限定されず、例えば、クレイ等の層状ケイ酸塩、ハイドロタルサイト等の層状複水和物等が挙げられる。
The surface layer containing the engineering plastic may contain an inorganic compound having a large aspect ratio.
By including an inorganic compound having a large aspect ratio, the release film obtained has improved release properties at high temperatures, and further, additives, low molecular weight substances, etc. contained in the release film are brought to the release film surface. Bleed-out can be suppressed, and cleanliness during hot press molding is improved.
The inorganic compound having a large aspect ratio is not particularly limited, and examples thereof include layered silicates such as clay and layered double hydrates such as hydrotalcite.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層の表面は、平滑性を有することが好ましいが、ハンドリングに必要なスリップ性、アンチブロッキング性等が付与されていてもよい。また、上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層の表面は、熱プレス成形時の空気抜けを目的として、適度のエンボス模様又は微細な凹凸が設けられていてもよい。このような処理の方法は特に限定されず、例えば、エンボス模様が施された金属ロール、ガーゼ等の布、ブラシ等を用いて上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層の表面を摩擦する方法が挙げられる。 The surface of the surface layer containing the engineering plastic preferably has smoothness, but may be provided with slip properties, anti-blocking properties and the like necessary for handling. Moreover, the surface of the surface layer containing the engineering plastic may be provided with an appropriate embossed pattern or fine irregularities for the purpose of air removal during hot press molding. The method of such treatment is not particularly limited, and examples thereof include a method of rubbing the surface of the surface layer containing the engineering plastic using a metal roll provided with an embossed pattern, a cloth such as gauze, a brush or the like.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層は、得られる離型フィルムの耐熱性、寸法安定性、離型性を更に向上させるために、熱処理が施されていてもよく、摩擦処理が施されていてもよく、熱処理及び摩擦処理が施されていてもよい。
上記熱処理の方法は特に限定されないが、例えば、一定の温度に加熱したロールの間にフィルム通す方法、ヒーターによりフィルムを加熱する方法等が好ましい。
また、上記熱処理の温度は、上記エンジニアリングプラスチックのガラス転移温度以上かつ融点以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は120℃、好ましい上限は200℃である。上記熱処理の温度が120℃未満であると、熱処理による離型性の向上効果がほとんど得られないことがある。上記熱処理の温度が200℃を超えると、熱処理時に上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層が変形しやすくなり、離型フィルムを製造できないことがある。上記熱処理の温度のより好ましい下限は170℃、より好ましい上限は190℃である。
The surface layer containing the engineering plastic may be subjected to heat treatment or friction treatment in order to further improve the heat resistance, dimensional stability and releasability of the obtained release film. Further, heat treatment and friction treatment may be performed.
Although the method of the said heat processing is not specifically limited, For example, the method of passing a film between the rolls heated to fixed temperature, the method of heating a film with a heater, etc. are preferable.
Moreover, the temperature of the said heat processing will not be specifically limited if it is more than the glass transition temperature and below melting | fusing point of the said engineering plastic, However, a preferable minimum is 120 degreeC and a preferable upper limit is 200 degreeC. If the temperature of the heat treatment is less than 120 ° C., the effect of improving the releasability by the heat treatment may be hardly obtained. When the temperature of the heat treatment exceeds 200 ° C., the surface layer containing the engineering plastic is easily deformed during the heat treatment, and a release film may not be produced. The more preferable lower limit of the heat treatment temperature is 170 ° C., and the more preferable upper limit is 190 ° C.

上記摩擦処理の方法は特に限定されず、例えば、金属ロール、ガーゼ等の布、ブラシ等を用いて上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層の表面を摩擦する方法等が挙げられる。 The method of the said friction process is not specifically limited, For example, the method etc. which rub the surface of the surface layer containing the said engineering plastic using cloth, brushes, etc., such as a metal roll and gauze, etc. are mentioned.

上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は5μm、好ましい上限は20μmである。上記表層の厚さが5μm未満であると、上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層は、強度が損なわれ、熱プレス成形時又は離型フィルムの剥離時に破壊することがある。上記表層の厚さが20μmを超えると、得られる離型フィルムは、プリント配線基板等の表面の凹凸に対する追従性が低下することがある。上記表層の厚さのより好ましい下限は10μm、より好ましい上限は15μmである。 The thickness of the surface layer containing the engineering plastic is not particularly limited, but a preferable lower limit is 5 μm and a preferable upper limit is 20 μm. When the thickness of the surface layer is less than 5 μm, the surface layer containing the engineering plastic is impaired in strength and may be destroyed at the time of hot press molding or peeling of the release film. When the thickness of the surface layer exceeds 20 μm, the resulting release film may have a poor followability to surface irregularities such as a printed wiring board. The more preferable lower limit of the thickness of the surface layer is 10 μm, and the more preferable upper limit is 15 μm.

本発明の離型フィルムは、上記エンジニアリングプラスチックを含有する表層を有していれば、単層フィルムであってもよく、2層以上の複数層のフィルムであってもよい。
本発明の離型フィルムは、複数層のフィルムである場合、中間層を有していてもよい。上記中間層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が60℃以上130℃未満であるポリオレフィン系樹脂を含有することが好ましい。
The release film of the present invention may be a single layer film or a multi-layer film of two or more layers as long as it has a surface layer containing the engineering plastic.
When the release film of the present invention is a multilayer film, it may have an intermediate layer. The intermediate layer preferably contains a polyolefin resin having a melting point of 60 ° C. or higher and lower than 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter.

離型フィルムには、プリント配線基板等の表面の凹凸に対する追従性も必要とされている。対形状追従性の低い離型フィルムを用いると、熱プレス成形時にボイドが発生したり、フレキシブルプリント基板の電極部にカバーレイフィルムの接着剤が流れ出し、電極部のめっき処理の障害となったりする。これに対し、上記ポリオレフィン系樹脂を用いることで、得られる中間層は接着剤が溶融を開始する温度付近で軟化を開始することから、このような中間層を有する離型フィルムは、例えば100μm以下等の微細な銅回路ピッチを有するフレキシブルプリント基板に対しても充分な追従性を有する。 The release film is also required to follow the unevenness of the surface of a printed wiring board or the like. If a release film with low conformability is used, voids may occur during hot press molding, or the adhesive of the coverlay film will flow out to the electrode part of the flexible printed circuit board, which may hinder the plating process of the electrode part. . On the other hand, since the intermediate layer obtained by using the polyolefin-based resin starts to soften near the temperature at which the adhesive starts to melt, the release film having such an intermediate layer is, for example, 100 μm or less. Even a flexible printed circuit board having a fine copper circuit pitch such as a sufficient followability.

上記ポリオレフィン系樹脂の示差走査熱量計を用いて測定した融点が60℃未満であると、離型フィルムの保管中、雰囲気温度が50〜60℃となる場合に上記中間層樹脂が溶融して染み出し、ブロッキングを起こすことがある。上記ポリオレフィン系樹脂の示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上であると、得られる離型フィルムは、プリント配線基板等の表面の凹凸に対する追従性が低下することがある。上記ポリオレフィン系樹脂の示差走査熱量計を用いて測定した融点は、80℃以上100℃以下であることが好ましい。 When the melting point of the polyolefin resin measured using a differential scanning calorimeter is less than 60 ° C., the interlayer resin melts and stains when the ambient temperature is 50 to 60 ° C. during storage of the release film. May cause blocking. When the melting point of the polyolefin resin measured using a differential scanning calorimeter is 130 ° C. or higher, the obtained release film may have a low followability to surface irregularities such as a printed wiring board. The melting point of the polyolefin-based resin measured using a differential scanning calorimeter is preferably 80 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

上記ポリオレフィン系樹脂として、具体的には、例えば、ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよく、2種類以上が併用されてもよい。なかでも、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、エチレン−メチルメタクリレート共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体が好ましい。 Specific examples of the polyolefin resin include polyethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-methyl methacrylate copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-ethyl acrylate copolymer. Examples thereof include ethylene and acrylic acid copolymer. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, low density polyethylene, linear low density polyethylene, ethylene-methyl methacrylate copolymer, and ethylene-vinyl acetate copolymer are preferable.

上記中間層は、更に、示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上である樹脂を含有することが好ましい。
上記中間層に上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が60℃以上130℃未満であるポリオレフィン系樹脂のような軟化温度の低い樹脂を用いる場合には、熱プレス成形時の圧力によって、離型フィルムの端部で上記中間層から樹脂が染み出し、プリント配線基板、熱プレス板等を汚染してしまうことがある。これに対し、更に上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上である樹脂を併用することで、熱プレス成形時に離型フィルムの端部で生じる上記中間層からの樹脂の染み出しを抑制することができる。
上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上である樹脂は特に限定されず、例えば、ポリプロピレン、結晶性芳香族ポリエステル樹脂等が挙げられる。
The intermediate layer preferably further contains a resin having a melting point of 130 ° C. or higher measured using a differential scanning calorimeter.
When a resin having a low softening temperature such as a polyolefin resin having a melting point of 60 ° C. or higher and lower than 130 ° C. measured using the above differential scanning calorimeter is used for the intermediate layer, the release temperature depends on the pressure during hot press molding. The resin may ooze out from the intermediate layer at the end of the mold film and may contaminate the printed wiring board, the hot press plate, and the like. On the other hand, by using a resin having a melting point of 130 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter, the resin oozes out from the intermediate layer generated at the end of the release film during hot press molding. Can be suppressed.
The resin having a melting point of 130 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter is not particularly limited, and examples thereof include polypropylene and crystalline aromatic polyester resin.

上記中間層が上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上である樹脂を含有する場合、このような樹脂の配合量は特に限定されないが、中間層中の好ましい下限が5重量%、好ましい上限が50重量%である。上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上である樹脂の配合量が5重量%未満であると、熱プレス成形時に離型フィルムの端部で生じる上記中間層からの樹脂の染み出しを抑制する効果が充分に得られないことがある。上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が130℃以上である樹脂の配合量が50重量%を超えると、得られる離型フィルムは、プリント配線基板等の表面の凹凸に対する追従性が低下することがある。 When the intermediate layer contains a resin having a melting point of 130 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter, the amount of such a resin is not particularly limited, but a preferred lower limit in the intermediate layer is 5% by weight. The preferred upper limit is 50% by weight. When the blending amount of the resin having a melting point of 130 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter is less than 5% by weight, the resin stain from the intermediate layer generated at the end of the release film during hot press molding The effect of suppressing the ejection may not be sufficiently obtained. When the blending amount of the resin having a melting point measured using the differential scanning calorimeter of 130 ° C. or higher exceeds 50% by weight, the obtained release film has a poor followability to surface irregularities of a printed wiring board or the like. Sometimes.

上記中間層は、本発明の離型フィルムと同様に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 The said intermediate | middle layer may contain additives, such as a fiber, an inorganic filler, a flame retardant, a ultraviolet absorber, an antistatic agent, an inorganic substance, and a higher fatty acid salt similarly to the release film of this invention.

上記中間層の厚さは特に限定されないが、好ましい下限は10μm、好ましい上限は200μmである。上記中間層の厚さが10μm未満であると、上記中間層が薄すぎ、熱プレス成形時において中間層が軟化すると、部分的に中間層が存在しない箇所が発生し、プレス圧力を基板に均一に荷重することができないことがある。上記中間層の厚さが200μmを超えると、上記中間層が必要以上に厚いため、熱プレス成形時におけるフィルム端部で生じる上記中間層からの樹脂の染み出しを抑制できないことがある。上記中間層の厚さのより好ましい下限は20μm、より好ましい上限は100μmである。 Although the thickness of the said intermediate | middle layer is not specifically limited, A preferable minimum is 10 micrometers and a preferable upper limit is 200 micrometers. When the thickness of the intermediate layer is less than 10 μm, the intermediate layer is too thin, and when the intermediate layer is softened during hot press molding, a portion where the intermediate layer does not exist partially occurs, and the press pressure is uniformly applied to the substrate. May not be able to load. If the thickness of the intermediate layer exceeds 200 μm, the intermediate layer is unnecessarily thick, so that the resin exudation from the intermediate layer that occurs at the end of the film during hot press molding may not be suppressed. A more preferable lower limit of the thickness of the intermediate layer is 20 μm, and a more preferable upper limit is 100 μm.

本発明の離型フィルムを製造する方法は特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、上記エンジニアリングプラスチック樹脂を含有する表層を作製した後、この表層に中間層を押出ラミネーション法にて積層する方法、上記エンジニアリングプラスチック樹脂を含有する表層となるフィルムと、中間層となるフィルムとをドライラミネーションする方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。なかでも、本発明の離型フィルムが複数層のフィルムである場合には、各層の厚み制御に優れることから、共押出Tダイ法で製膜する方法が好ましい。 The method for producing the release film of the present invention is not particularly limited. For example, a water-cooled or air-cooled coextrusion inflation method, a method of forming a film by a coextrusion T-die method, and a surface layer containing the engineering plastic resin were prepared. Thereafter, a method of laminating an intermediate layer on this surface layer by an extrusion lamination method, a method of dry laminating a film to be a surface layer containing the engineering plastic resin and a film to be an intermediate layer, a solvent casting method, a hot press molding method Etc. In particular, when the release film of the present invention is a film having a plurality of layers, a method of forming a film by a coextrusion T-die method is preferable because of excellent thickness control of each layer.

上記溶剤キャスティング法では、例えば、中間層となるフィルム上にアンカー層を下塗り処理した後、このアンカー層上に、上記エンジニアリングプラスチック樹脂等を溶剤に溶解した表層となる樹脂組成物を塗工し、塗膜を均一に加熱し乾燥させて表層を形成する。
また、上記熱プレス成形法では、例えば、上記エンジニアリングプラスチック樹脂を含有する表層となるフィルムと中間層となるフィルムとを重ね合わせて熱プレス成形する。
In the solvent casting method, for example, after an undercoat treatment of an anchor layer on a film to be an intermediate layer, a resin composition to be a surface layer in which the engineering plastic resin or the like is dissolved in a solvent is applied on the anchor layer, The coating film is uniformly heated and dried to form a surface layer.
In the hot press molding method, for example, a film serving as a surface layer containing the engineering plastic resin and a film serving as an intermediate layer are superposed and hot press molded.

本発明の離型フィルムにおいては、離型フィルムを用いてプリント配線基板等を熱プレス成形し、離型フィルムを剥離した後、銅回路の水接触角は好ましい上限が80°である。上記銅回路の水接触角が80°を超えると、プリント配線基板等に電極を形成する際に電極部のめっき不良が生じることがあり、製品歩留りの低下につながる。上記銅回路の水接触角のより好ましい上限は70°である。 In the release film of the present invention, after the printed wiring board or the like is hot press molded using the release film and the release film is peeled off, the upper limit of the water contact angle of the copper circuit is preferably 80 °. If the water contact angle of the copper circuit is more than 80 °, plating failure of the electrode portion may occur when forming an electrode on a printed wiring board or the like, leading to a decrease in product yield. A more preferable upper limit of the water contact angle of the copper circuit is 70 °.

本発明の離型フィルムは、170℃において荷重3MPaで60分間加圧した場合の寸法変化率が1.5%以下であることが好ましい。上記寸法変化率が1.5%を超えると、熱プレス成形時にフレキシブルプリント基板の回路パターンを損なうことがある。上記寸法変化率は、1.0%以下であることがより好ましい。
また、本発明の離型フィルムは、離型フィルムの巾方向(以下、TDという)と長さ方向(以下、MDという)の寸法変化率が同方向かつ同等程度であることが好ましい。一方(例えば、MD)が収縮し、他方(例えば、TD)が伸長するというように、縦横の寸法変化が異なる場合には、離型フィルムにより、熱プレス成形時にフレキシブルプリント基板の回路パターンを損なうことがある。
The release film of the present invention preferably has a dimensional change rate of 1.5% or less when pressed at 170 ° C. with a load of 3 MPa for 60 minutes. If the dimensional change rate exceeds 1.5%, the circuit pattern of the flexible printed circuit board may be damaged during hot press molding. The dimensional change rate is more preferably 1.0% or less.
Moreover, it is preferable that the dimensional change rate of the width direction (henceforth TD) and length direction (henceforth MD) of the release film of this invention is the same direction and is equivalent grade. When the vertical and horizontal dimensional changes are different such that one (for example, MD) contracts and the other (for example, TD) expands, the release film damages the circuit pattern of the flexible printed circuit board during hot press molding. Sometimes.

本発明によれば、離型性に優れ、かつ、銅回路に対する非汚染性に優れた離型フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the mold release film excellent in the mold release property and excellent in the non-contamination property with respect to a copper circuit can be provided.

以下に実施例を掲げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されない。 Examples of the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
エンジニアリングプラスチックとしてポリフェニレンエーテル(商品名AH40、三菱エンジニアリングプラスチックス社製)と、中間層用のポリオレフィン系樹脂として直鎖状低密度ポリエチレン(エクセレンFX(CX5501)、住友化学社製、融点66℃)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(アクリフト(WH401)、住友化学社製、融点86℃)とポリプロピレン(PS207A、サンアロマー社製、融点160℃)とを、共押出成形機に投入し、Tダイスより共押出成形して、表層の厚さ10μm、中間層の厚さ80μmの離型フィルムを得た。融点は、示差走査熱量計(DSC 2920、TAインスツルメント社製)を用いて測定した。
Example 1
Polyphenylene ether (trade name AH40, manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics) as an engineering plastic, and linear low density polyethylene (Excellen FX (CX5501), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 66 ° C.) as a polyolefin resin for an intermediate layer An ethylene-methyl methacrylate copolymer (Aklift (WH401), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 86 ° C.) and polypropylene (PS207A, manufactured by Sun Allomer Co., Ltd., melting point 160 ° C.) were put into a co-extrusion molding machine, Extrusion molding was performed to obtain a release film having a surface layer thickness of 10 μm and an intermediate layer thickness of 80 μm. The melting point was measured using a differential scanning calorimeter (DSC 2920, manufactured by TA Instruments).

なお、使用したエンジニアリングプラスチックについて、動的粘弾性測定装置(型式DVA―225、アイティー計測制御社製)で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率は240MPaであった。 In addition, about the used engineering plastic, the storage elastic modulus measured in the hot press molding temperature with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (model DVA-225, the IT measurement control company make) was 240 Mpa.

(実施例2)
エンジニアリングプラスチックとして液晶ポリマー(商品名A950、ポリプラスチックス社製)と、中間層用のポリオレフィン系樹脂として直鎖状低密度ポリエチレン(エクセレンFX(CX5501)、住友化学社製、融点66℃)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(アクリフト(WH401)、住友化学社製、融点86℃)とポリプロピレン(PS207A、サンアロマー社製、融点160℃)とを、共押出成形機に投入し、Tダイスより共押出成形して、表層の厚さ10μm、中間層の厚さ80μmの離型フィルムを得た。融点は、示差走査熱量計(DSC 2920、TAインスツルメント社製)を用いて測定した。
(Example 2)
Liquid crystalline polymer (trade name A950, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) as engineering plastic, and linear low density polyethylene (Excellen FX (CX5501), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 66 ° C.) and ethylene as polyolefin resin for intermediate layer -Methyl methacrylate copolymer (Aklift (WH401), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 86 ° C) and polypropylene (PS207A, manufactured by Sun Allomer Co., Ltd., melting point 160 ° C) are put into a coextrusion molding machine and coextruded from a T die. Molding was performed to obtain a release film having a surface layer thickness of 10 μm and an intermediate layer thickness of 80 μm. The melting point was measured using a differential scanning calorimeter (DSC 2920, manufactured by TA Instruments).

なお、使用したエンジニアリングプラスチックについて、動的粘弾性測定装置(型式DVA―225、アイティー計測制御社製)で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率は1210MPaであった。 In addition, about the used engineering plastic, the storage elastic modulus measured in the hot press molding temperature with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (model DVA-225, the IT measurement control company make) was 1210 MPa.

(比較例1)
エンジニアリングプラスチックとしてポリフェニレンサルファイド(商品名HF2000、ポリプラスチックス社製)と、中間層用のポリオレフィン系樹脂として直鎖状低密度ポリエチレン(エクセレンFX(CX5501)、住友化学社製、融点66℃)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(アクリフト(WH401)、住友化学社製、融点86℃)とポリプロピレン(PS207A、サンアロマー社製、融点160℃)とを、共押出成形機に投入し、Tダイスより共押出成形して、表層の厚さ10μm、中間層の厚さ80μmの離型フィルムを得た。融点は、示差走査熱量計(DSC 2920、TAインスツルメント社製)を用いて測定した。
(Comparative Example 1)
Polyphenylene sulfide (trade name HF2000, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) as an engineering plastic, and linear low density polyethylene (Excellen FX (CX5501), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 66 ° C.) and ethylene as a polyolefin resin for an intermediate layer -Methyl methacrylate copolymer (Aklift (WH401), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 86 ° C) and polypropylene (PS207A, manufactured by Sun Allomer Co., Ltd., melting point 160 ° C) are put into a coextrusion molding machine and coextruded from a T die. Molding was performed to obtain a release film having a surface layer thickness of 10 μm and an intermediate layer thickness of 80 μm. The melting point was measured using a differential scanning calorimeter (DSC 2920, manufactured by TA Instruments).

なお、使用したエンジニアリングプラスチックについて、動的粘弾性測定装置(型式DVA―225、アイティー計測制御社製)で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率は73MPaであった。 In addition, about the used engineering plastic, the storage elastic modulus measured in the hot press molding temperature with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (model DVA-225, the IT measurement control company make) was 73 Mpa.

(比較例2)
エンジニアリングプラスチックとして液晶ポリマー(商品名A330S、ポリプラスチックス社製)と、中間層用のポリオレフィン系樹脂として直鎖状低密度ポリエチレン(エクセレンFX(CX5501)、住友化学社製、融点66℃)とエチレン−メチルメタクリレート共重合体(アクリフト(WH401)、住友化学社製、融点86℃)とポリプロピレン(PS207A、サンアロマー社製、融点160℃)とを、共押出成形機に投入し、Tダイスより共押出成形して、表層の厚さ10μm、中間層の厚さ80μmの離型フィルムを得た。融点は、示差走査熱量計(DSC 2920、TAインスツルメント社製)を用いて測定した。
(Comparative Example 2)
Liquid crystal polymer (trade name A330S, manufactured by Polyplastics Co., Ltd.) as engineering plastic, and linear low density polyethylene (Excellen FX (CX5501), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 66 ° C.) and ethylene as polyolefin resin for intermediate layer -Methyl methacrylate copolymer (Aklift (WH401), manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., melting point 86 ° C) and polypropylene (PS207A, manufactured by Sun Allomer Co., Ltd., melting point 160 ° C) are put into a coextrusion molding machine and coextruded from a T die. Molding was performed to obtain a release film having a surface layer thickness of 10 μm and an intermediate layer thickness of 80 μm. The melting point was measured using a differential scanning calorimeter (DSC 2920, manufactured by TA Instruments).

なお、使用したエンジニアリングプラスチックについて、動的粘弾性測定装置(型式DVA―225、アイティー計測制御社製)で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率は2020MPaであった。 In addition, about the used engineering plastic, the storage elastic modulus measured in the hot press molding temperature with the dynamic viscoelasticity measuring apparatus (model DVA-225, the IT measurement control company make) was 2020 Mpa.

<評価>
実施例、比較例で得られた離型フィルムについて、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the release film obtained by the Example and the comparative example. The results are shown in Table 1.

(1)離型性(剥離力)
得られた離型フィルムと、200mm角に切り抜いたカバーレイフィルム(CISV−2535、ニッカン工業社製)のエポキシ接着剤面とを重ね、スライド式真空ヒータープレス(MKP−3000v−MH−ST、ミカドテクノス社製)を使って圧力30kgfで180℃、6分間プレスを行った後、23℃、50%RHの条件で1日養生した。その後、得られたフィルムを巾30mm、長さ150mmに切り出し、テンシロン(STA−1150、エーアンドデー社製)を使い、剥離速度500mm/分、剥離角度180°で離型性(剥離力)(N/30mm)を評価した。
なお、比較例2で得られた離型フィルムは、プレス時にフィルム破壊を生じたため、離型性(剥離力)(N/30mm)を評価することはできなかった。
(1) Releasability (peeling force)
The obtained release film and the epoxy adhesive surface of a cover lay film (CISV-2535, manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.) cut out to 200 mm square were stacked, and a slide type vacuum heater press (MKP-3000v-MH-ST, Mikado). After pressing at 180 ° C. for 6 minutes at a pressure of 30 kgf, the material was cured for 1 day under the conditions of 23 ° C. and 50% RH. Thereafter, the obtained film was cut into a width of 30 mm and a length of 150 mm, and using Tensilon (STA-1150, manufactured by A & D), a release rate of 500 mm / min and a release angle of 180 ° (release force) ( N / 30 mm).
In addition, since the mold release film obtained by the comparative example 2 produced the film destruction at the time of a press, it was not able to evaluate mold release property (peeling force) (N / 30mm).

(2)銅回路に対する非汚染性
得られた離型フィルムと、200mm角に切り抜いた銅張積層板(L6504―C1、ニッカン工業社製)の銅箔面とを重ね、スライド式真空ヒータープレス(MKP−3000v−MH−ST、ミカドテクノス社製)を使って圧力30kgfで180℃、6分間プレスを行った後、23℃、50%RHの条件で1日養生した。その後、銅張積層板から離型フィルムを剥離した後、接触角測定器(M1040S―IGM、シロ産業社製)を用いて銅箔面の水接触角(°)を測定することにより、銅回路に対する非汚染性を評価した。
なお、比較例2で得られた離型フィルムは、プレス時にフィルム破壊を生じたため、銅回路に対する非汚染性を評価することはできなかった。
(2) Non-contaminating property against copper circuit The obtained release film and the copper foil surface of a copper-clad laminate (L6504-C1, manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd.) cut into a 200 mm square are stacked, and a slide type vacuum heater press ( MKP-3000v-MH-ST (manufactured by Mikado Technos) was pressed at 180 ° C. for 6 minutes at a pressure of 30 kgf, and then cured for one day under the conditions of 23 ° C. and 50% RH. Then, after peeling off the release film from the copper-clad laminate, the water contact angle (°) of the copper foil surface was measured using a contact angle measuring device (M1040S-IGM, manufactured by Shiro Sangyo Co., Ltd.), thereby producing a copper circuit. The non-contaminating property against was evaluated.
In addition, since the release film obtained in Comparative Example 2 caused film breakage at the time of pressing, it was not possible to evaluate the non-contamination property with respect to the copper circuit.

Figure 2011252094
Figure 2011252094

本発明によれば、離型性に優れ、かつ、銅回路に対する非汚染性に優れた離型フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the mold release film excellent in the mold release property and excellent in the non-contamination property with respect to a copper circuit can be provided.

Claims (2)

エンジニアリングプラスチックを含有する表層を有する離型フィルムであって、
前記エンジニアリングプラスチックは、動的粘弾性測定装置で熱プレス成形温度において測定した貯蔵弾性率が100〜2000MPaである
ことを特徴とする離型フィルム。
A release film having a surface layer containing engineering plastic,
The engineering plastic has a storage elastic modulus of 100 to 2000 MPa measured at a hot press molding temperature with a dynamic viscoelasticity measuring device.
エンジニアリングプラスチックが、ポリフェニレンエーテル又は液晶ポリマーであることを特徴とする請求項1記載の離型フィルム。 2. The release film according to claim 1, wherein the engineering plastic is polyphenylene ether or liquid crystal polymer.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014157440A1 (en) * 2013-03-27 2014-10-02 富士フイルム株式会社 Laminate for temporary bonding in semiconductor device manufacture, and semiconductor device manufacturing method
JP2019151014A (en) * 2018-03-02 2019-09-12 古河電気工業株式会社 Release film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014157440A1 (en) * 2013-03-27 2014-10-02 富士フイルム株式会社 Laminate for temporary bonding in semiconductor device manufacture, and semiconductor device manufacturing method
JP2014192350A (en) * 2013-03-27 2014-10-06 Fujifilm Corp Laminate for temporary bonding in semiconductor device manufacture, and method for manufacturing semiconductor device
JP2019151014A (en) * 2018-03-02 2019-09-12 古河電気工業株式会社 Release film

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