JP2008105319A - Multi-layer release film - Google Patents

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JP2008105319A
JP2008105319A JP2006291653A JP2006291653A JP2008105319A JP 2008105319 A JP2008105319 A JP 2008105319A JP 2006291653 A JP2006291653 A JP 2006291653A JP 2006291653 A JP2006291653 A JP 2006291653A JP 2008105319 A JP2008105319 A JP 2008105319A
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release film
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Masahiro Tsuchiya
雅弘 土谷
Yasushi Goto
靖志 五藤
Hirotake Matsumoto
弘丈 松本
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a multi-layer release film which has heat resistance to such an extent that the film does not generate creases by heat during thermal press molding, and can restrain the run-off of an adhesive during thermal press molding and the oozing of a cushioning layer from the edge face of the film while retaining releasability and follow-up properties to the surface of a substrate, and can suppress such a phenomenon that the cushioning layer oozing out of the film sticks to a press hotplate and is retained there, when the cushioning layer oozes out from the edge face of the film. <P>SOLUTION: The multi-layer release film has at least a release layer and the cushioning layer. The cushioning layer contains a polyolefin-based resin A with a melting point of 70 to 130°C measured by a differential scanning calorimeter and a polyolefin-based resin B with a melting point of 150 to 180°C measured by the differential scanning calorimeter. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、熱プレス成形時における熱によってもシワを生じない程の耐熱性を有する多層離型フィルムに関する。更には、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時における接着剤の流れ出し、及び、フィルム端面でのクッション層の染み出しを抑制することが可能であり、フィルム端面でクッション層が染み出した場合には、フィルムから染み出したクッション層がプレス熱板に付着し残留することがない多層離型フィルムに関する。 The present invention relates to a multilayer release film having heat resistance that does not cause wrinkles due to heat during hot press molding. Furthermore, while having releasability and followability to the substrate surface, it is possible to suppress the flow of the adhesive during hot press molding and the bleeding of the cushion layer at the film end surface. When the cushion layer oozes out, it relates to a multilayer release film in which the cushion layer oozed out from the film does not adhere and remain on the hot press plate.

プリント基板、フレキシブルプリント配線基板、多層プリント配線板等の製造工程において、プリプレグ又は耐熱フィルムを介して銅張積層板又は銅箔を熱プレスする際に離型フィルムが使用されている。また、フレキシブルプリント基板の製造工程において、電気回路を形成したフレキシブルプリント基板本体に、熱硬化型接着剤又は熱硬化性接着シートによってカバーレイフィルム又は補強板を熱プレス接着する際に、カバーレイフィルムとプレス熱板とが接着するのを防止するために、離型フィルムが広く使用されている。 In the manufacturing process of a printed board, a flexible printed wiring board, a multilayer printed wiring board, etc., a release film is used when a copper-clad laminate or a copper foil is hot-pressed through a prepreg or a heat-resistant film. Further, in the manufacturing process of the flexible printed circuit board, when the cover lay film or the reinforcing plate is hot press bonded to the flexible printed circuit board body on which the electric circuit is formed by the thermosetting adhesive or the thermosetting adhesive sheet, the cover lay film is used. In order to prevent the hot plate and the press plate from adhering to each other, a release film is widely used.

従来、離型フィルムとしては、特許文献1や特許文献2に開示されているような、フッ素系フィルム、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム等が用いられてきた。 Conventionally, as a release film, a fluorine-based film, a silicone-coated polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, or the like as disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2 has been used.

しかし、フッ素系フィルムは、耐熱性、離型性、非汚染性には優れているが、高価であるうえ、使用後の廃棄焼却処理において燃焼しにくく、かつ、有毒ガスを発生するという問題があった。
また、シリコーン塗布ポリエチレンテレフタレートフィルムは、シリコーンに含まれる低分子量体の移行によってプリント配線基板、とりわけ銅回路の汚染を引き起こし、品質を損なうおそれがあった。
また、ポリプロピレンフィルムは、耐熱性に劣り、離型性が不充分であるという問題があった。
However, although the fluorine-based film is excellent in heat resistance, releasability and non-contamination, it is expensive and has a problem that it is difficult to burn in waste incineration after use and generates toxic gas. there were.
In addition, the silicone-coated polyethylene terephthalate film may cause contamination of a printed wiring board, particularly a copper circuit, due to the migration of a low molecular weight substance contained in silicone, and may impair quality.
In addition, the polypropylene film has a problem that it has poor heat resistance and insufficient releasability.

このような問題に対し近年は、例えば特許文献3に開示されているような、離型層とクッション層とからなる多層離型フィルムが用いられている。このような多層離型フィルムは、耐熱性、離型性、追従性がよいとされている。
更に、耐熱性、離型性、追従性の機能に加え、熱プレス成形時における接着剤の流れ出しを抑制するとともに、フィルム端面でクッション層が染み出した場合には、染み出したクッション層を容易に除去することができる離型フィルムも用いられつつある。
In recent years, a multilayer release film composed of a release layer and a cushion layer as disclosed in Patent Document 3, for example, has been used for such a problem. Such a multilayer release film is said to have good heat resistance, release properties and followability.
In addition to heat resistance, releasability, and follow-up functions, it suppresses the flow of adhesive during hot press molding, and if the cushion layer oozes out from the film end face, the oozed cushion layer can be easily removed Release films that can be removed are also being used.

更に近年、電子機器の小型化に伴い、フレキシブルプリント基板等はより軽量化、薄膜化されたものが求められている。これに伴いフレキシブルプリント基板等に用いられるカバーレイも薄膜化されたものが主流となり、また、プレス温度はより高温になってきている。
このような現状に対して、現在の(多層)離型フィルムを用いて熱プレス成形を行うと、(多層)離型フィルムに生じる、従来は問題にならなかったような小さなシワであっても薄膜化されたカバーレイにシワが転写され、これによりフレキシブルプリント基板の不留まりが悪くなるという問題が生じてきた。
従って、離型性、追従性等の機能に加え、熱プレス成形時における熱によっても全くシワを生じない程の耐熱性が求められているのが現状である。
特開平2−175247号公報 特開平5−283862号公報 特開2003−246019号公報
Furthermore, in recent years, with the miniaturization of electronic devices, flexible printed circuit boards and the like that have been made lighter and thinner have been demanded. Along with this, the coverlay used for flexible printed boards and the like has become the mainstream, and the press temperature has become higher.
In contrast to the current situation, when hot press molding is performed using the current (multilayer) release film, even a small wrinkle that has not been a problem in the past occurs in the (multilayer) release film. There has been a problem that wrinkles are transferred to the cover lay that has been made thin, and this makes the yield of the flexible printed circuit board worse.
Therefore, in addition to functions such as releasability and followability, there is currently a demand for heat resistance that does not cause any wrinkles due to heat during hot press molding.
JP-A-2-175247 Japanese Patent Laid-Open No. 5-283862 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-246019

本発明は、上記現状に鑑み、熱プレス成形時における熱によってもシワを生じない程の耐熱性を有する多層離型フィルムを提供することを目的とする。更には、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時における接着剤の流れ出し、及び、フィルム端面でのクッション層の染み出しを抑制することが可能であり、フィルム端面でクッション層が染み出した場合には、フィルムから染み出したクッション層がプレス熱板に付着し残留することがない多層離型フィルムを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the multilayer release film which has the heat resistance which does not produce a wrinkle by the heat | fever at the time of hot press molding in view of the said present condition. Furthermore, while having releasability and followability to the substrate surface, it is possible to suppress the flow of the adhesive during hot press molding and the bleeding of the cushion layer at the film end surface. It is an object of the present invention to provide a multilayer release film in which when the cushion layer oozes out, the cushion layer oozing out from the film does not adhere to the press hot plate and remains.

本発明は、少なくとも離型層とクッション層とを有する多層離型フィルムであって、上記クッション層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃のポリオレフィン系樹脂Aと、示差走査熱量計を用いて測定した融点が150〜180℃のポリオレフィン系樹脂Bとを含有する多層離型フィルムである。
以下に本発明を詳述する。
The present invention is a multilayer release film having at least a release layer and a cushion layer, wherein the cushion layer has a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter, and a differential resin. It is a multilayer release film containing polyolefin resin B having a melting point of 150 to 180 ° C. measured using a scanning calorimeter.
The present invention is described in detail below.

本発明者らは、鋭意検討の結果、少なくとも離型層とクッション層とを有する多層離型フィルムにおいて、クッション層を構成する樹脂として融点の低い樹脂と融点の高い樹脂とを併用することにより、離型性、基板表面への追従性等の従来多層離型フィルムに求められる効果に加え、熱プレス成形時における熱によってもシワを生じない程の耐熱性を有する多層離型フィルムを得ることができるということを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies, the present inventors have made use of a resin having a low melting point and a resin having a high melting point as a resin constituting the cushion layer in a multilayer release film having at least a release layer and a cushion layer. In addition to the effects required of conventional multilayer release films such as releasability and followability to the substrate surface, it is possible to obtain a multilayer release film having heat resistance that does not cause wrinkles due to heat during hot press molding The inventors have found that this is possible and have completed the present invention.

本発明の多層離型フィルムは、少なくとも離型層とクッション層とを有する。
上記クッション層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃のポリオレフィン系樹脂Aと、示差走査熱量計を用いて測定した融点が150〜180℃のポリオレフィン系樹脂Bとを含有する。
本発明においては、クッション層が上記ポリオレフィン系樹脂Aを含有することにより本発明の多層離型フィルムが基板表面への追従性を有するものとなり、クッション層が上記ポリオレフィン系樹脂Bを含有することにより本発明の多層離型フィルムが熱プレス成形時における熱によってもシワを生じないものとなる。
The multilayer release film of the present invention has at least a release layer and a cushion layer.
The cushion layer contains a polyolefin resin A having a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter and a polyolefin resin B having a melting point of 150 to 180 ° C. measured using a differential scanning calorimeter. To do.
In the present invention, when the cushion layer contains the polyolefin resin A, the multilayer release film of the invention has followability to the substrate surface, and the cushion layer contains the polyolefin resin B. The multilayer release film of the present invention will not be wrinkled even by heat during hot press molding.

上記ポリオレフィン系樹脂Aの示差走査熱量計を用いて測定した融点の下限は70℃、上限は130℃である。70℃未満であると、保管場所の温度が高い場合に、フィルム端面からクッション層が染み出したりし、130℃を超えると、基板表面への追従性が悪くなり、また、熱プレス成型時に保護する回路基板とカバーレイを貼り合せる接着剤が流れ出しやすくなる。好ましい下限は80℃、好ましい上限は120℃である。
なお、上記示差走査熱量計としては特に限定されず、例えば、DSC 2920(TAインスツルメント社製)等を用いることができる。
The minimum of melting | fusing point measured using the differential scanning calorimeter of the said polyolefin resin A is 70 degreeC, and an upper limit is 130 degreeC. If the temperature is lower than 70 ° C, the cushion layer oozes out from the film end face when the temperature of the storage place is high, and if it exceeds 130 ° C, the followability to the substrate surface is deteriorated, and also protected during hot press molding. The adhesive that bonds the circuit board to the coverlay easily flows out. A preferred lower limit is 80 ° C and a preferred upper limit is 120 ° C.
In addition, it does not specifically limit as said differential scanning calorimeter, For example, DSC 2920 (made by TA Instruments) etc. can be used.

上記ポリオレフィン系樹脂Aとしては特に限定されず、例えば、低密度ポリエチレン系樹脂、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、エチレン共重合体、ポリプロピレン系樹脂等が挙げられる。なかでも、ある程度低い温度で溶融して離型フィルムの追従性を得られやすく、また、保護する回路基板とカバーレイを貼り合せる接着剤が流れ出し難く、かつ、溶融時においても高い溶融張力を有するためクッション層が染み出し難い等の理由から、低密度ポリエチレン系樹脂又はエチレン共重合体が好適に用いられる。 The polyolefin resin A is not particularly limited, and examples thereof include a low density polyethylene resin, a linear low density polyethylene, a high density polyethylene, an ethylene copolymer, and a polypropylene resin. Among them, it is easy to obtain release film followability by melting at a certain low temperature, the adhesive that bonds the circuit board to be protected and the coverlay is difficult to flow out, and has high melt tension even at the time of melting. For this reason, a low-density polyethylene resin or an ethylene copolymer is preferably used for the reason that the cushion layer hardly oozes out.

上記低密度ポリエチレン系樹脂として市販されている具体的なものとしては、例えば、ノバテックLD:LC720(日本ポリエチレン社製、融点110℃)、ノバテックLD:LF547(日本ポリエチレン社製、融点114℃)等が挙げられる。
また、上記エチレン共重合体としては、例えば、エチレン−α−オレフィン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−エチルアクリレート共重合体、エチレンメチルメタアクリレート共重合体等が挙げられる。上記α−オレフィンとしては、例えば、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
また、上記ポリプロピレン系樹脂としては、クッション層に要求される追従性の観点からランダムタイプが特に好ましい。また、プロピレン−α−オレフィン共重合体等も使用することが可能である。上記α−オレフィンとしては、例えば、エチレン、1−ブテン、1−ペンテン等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
Specific examples of commercially available low-density polyethylene resins include Novatec LD: LC720 (manufactured by Nippon Polyethylene, melting point 110 ° C.), Novatec LD: LF547 (manufactured by Nippon Polyethylene, melting point 114 ° C.), and the like. Is mentioned.
Examples of the ethylene copolymer include an ethylene-α-olefin copolymer, an ethylene-vinyl acetate copolymer, an ethylene-ethyl acrylate copolymer, and an ethylene methyl methacrylate copolymer. Examples of the α-olefin include propylene, 1-butene, 1-pentene and the like. These may be used independently and 2 or more types may be used together.
Moreover, as said polypropylene resin, a random type is especially preferable from a viewpoint of the followable | trackability requested | required of a cushion layer. Propylene-α-olefin copolymers and the like can also be used. As said alpha olefin, ethylene, 1-butene, 1-pentene etc. are mentioned, for example. These may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記ポリオレフィン系樹脂Bの示差走査熱量計を用いて測定した融点の下限は150℃、上限は180℃である。150℃未満であると、多層離型フィルム全体としての耐熱性が充分に得られず、熱プレス成形時における熱によりシワが発生し、180℃を超えると、基板表面への追従性が悪くなりボイドが発生しやすくなる。また、保護する回路基板とカバーレイを貼り合せる接着剤が流れ出しやすくなる。好ましい上限は170℃である。 The minimum of melting | fusing point measured using the differential scanning calorimeter of the said polyolefin resin B is 150 degreeC, and an upper limit is 180 degreeC. If the temperature is less than 150 ° C, the heat resistance of the multilayer release film as a whole cannot be obtained sufficiently, wrinkles occur due to heat during hot press molding, and if it exceeds 180 ° C, the followability to the substrate surface becomes worse. Voids are likely to occur. In addition, the adhesive that bonds the circuit board to be protected and the coverlay easily flows out. A preferred upper limit is 170 ° C.

上記ポリオレフィン系樹脂Bとしては特に限定されず、例えば、ポリプロピレンが挙げられる。市販されている具体的なものとしては、例えば、PF724S(サンアロマー社製、融点150℃)、PC412A(サンアロマー社製、融点158℃)、PC600S(サンアロマー社製、融点162℃)、PHA03A(サンアロマー社製、融点164℃)等が挙げられる。 The polyolefin resin B is not particularly limited, and examples thereof include polypropylene. Specific examples of commercially available products include PF724S (manufactured by Sun Allomer, melting point 150 ° C.), PC412A (manufactured by Sun Allomer, melting point 158 ° C.), PC600S (manufactured by Sun Allomer, melting point 162 ° C.), PHA03A (Sun Allomer) Manufactured, melting point 164 ° C.) and the like.

上記クッション層における上記ポリオレフィン系樹脂Aの含有量としては特に限定されないが、好ましい下限は10重量%、好ましい上限は50重量%である。10重量%未満であると、基板表面への追従性が悪くなりボイドが発生することがあり、50重量%を超えると、熱プレス成形時に接着剤が流れ出したり、フィルム端面からクッション層が染み出したりすることがある。より好ましい下限は20重量%である。 Although it does not specifically limit as content of the said polyolefin-type resin A in the said cushion layer, A preferable minimum is 10 weight% and a preferable upper limit is 50 weight%. If it is less than 10% by weight, followability to the substrate surface may be deteriorated and voids may be generated. If it exceeds 50% by weight, the adhesive flows out during hot press molding or the cushion layer oozes out from the film end face. Sometimes. A more preferred lower limit is 20% by weight.

上記クッション層における上記ポリオレフィン系樹脂Bの含有量としては特に限定されないが、好ましい下限は10重量%、好ましい上限は50重量%である。10重量%未満であると、多層離型フィルム全体としての耐熱性が充分に得られず、熱プレス成形時における熱によりシワが発生することがあり、50重量%を超えると、基板表面への追従性が悪くなりボイドが発生することがある。より好ましい下限は20重量%である。 Although it does not specifically limit as content of the said polyolefin resin B in the said cushion layer, A preferable minimum is 10 weight% and a preferable upper limit is 50 weight%. If it is less than 10% by weight, the heat resistance of the multilayer release film as a whole cannot be obtained sufficiently, and wrinkles may occur due to heat during hot press molding. If it exceeds 50% by weight, The followability becomes poor and voids may occur. A more preferred lower limit is 20% by weight.

また、上記クッション層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂を含有することが好ましい。これにより、本発明の多層離型フィルムに対して、より耐熱性を付与することができる。
なお、上記クッション層に上記結晶性芳香族ポリエステル樹脂を含有させる際には、得られる多層離型フィルムの基板表面への追従性を低下させないようにするために、含有量としては50重量%以下であることが好ましい。
Moreover, it is preferable that the said cushion layer contains crystalline aromatic polyester resin whose melting | fusing point measured using the differential scanning calorimeter is 200 degreeC or more. Thereby, more heat resistance can be imparted to the multilayer release film of the present invention.
In addition, when the crystalline aromatic polyester resin is contained in the cushion layer, the content is 50% by weight or less so as not to lower the followability to the substrate surface of the obtained multilayer release film. It is preferable that

上記示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリヘキサメチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、テレフタル酸ブタンジオールポリテトラメチレングリコール共重合体等が挙げられる。これらは単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
なかでも、非汚染性及び結晶性に優れることから、ポリブチレンテレフタレートが好適に用いられ、市販されている具体的なものとしては、例えば、ノバデュラン5010R5(三菱エンジニアリングプラスチック社製、融点224℃)等が挙げられる。
The crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using the differential scanning calorimeter is not particularly limited. For example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyhexamethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene. Naphthalate, butanediol terephthalate polytetramethylene glycol copolymer, and the like. These may be used independently and 2 or more types may be used together.
Among them, polybutylene terephthalate is preferably used because it is excellent in non-contamination and crystallinity. Examples of commercially available products include Novaduran 5010R5 (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, melting point 224 ° C.) and the like. Is mentioned.

上記クッション層は、185℃、歪み量100%、10rad/sにおける貯蔵弾性率の好ましい下限が5.0×10Pa、好ましい上限が1.0×10Paである。5.0×10Pa未満であると、多層離型フィルム端面でクッション層が染み出した場合に、多層離型フィルムをプレス板から剥離する際に、剥離による高歪みに耐えきれずに凝集破壊を起こし、多層離型フィルムから染み出したクッション層がプレス熱板に付着し残留することがあり、1.0×10Paを超えると、クッション層の成形性が悪くなることがある。より好ましい下限は1.0×10Pa、より好ましい上限は8.0×10Paである。 In the cushion layer, a preferable lower limit of the storage elastic modulus at 185 ° C., a strain amount of 100%, and 10 rad / s is 5.0 × 10 3 Pa, and a preferable upper limit is 1.0 × 10 5 Pa. If it is less than 5.0 × 10 3 Pa, the cushion layer oozes out from the end face of the multilayer release film, and when the multilayer release film is peeled off from the press plate, it cannot aggregate with high strain caused by peeling. The cushion layer that breaks down and oozes out from the multilayer release film may adhere to the press hot plate and remain, and if it exceeds 1.0 × 10 5 Pa, the formability of the cushion layer may deteriorate. A more preferable lower limit is 1.0 × 10 4 Pa, and a more preferable upper limit is 8.0 × 10 4 Pa.

従来、基板表面への追従性をよくするために、上記クッション層のメルトフローレートは0.3g/10分を超えるものであったが、本発明の多層離型フィルムにおいては、後述するような30μm以下の厚さの離型層とクッション層とを組み合わせることにより、メルトフローレートを従来不可能であった0.3g/10分以下としても充分な追従性を保ちつつ、クッション層の染み出しを抑制することが可能となる。 Conventionally, in order to improve the followability to the substrate surface, the melt flow rate of the cushion layer has exceeded 0.3 g / 10 min. However, in the multilayer release film of the present invention, as described later. Combining a release layer with a thickness of 30 μm or less and a cushion layer allows the cushion layer to bleed out while maintaining sufficient followability even when the melt flow rate is 0.3 g / 10 min or less, which was impossible in the past. Can be suppressed.

上記クッション層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は30μm、好ましい上限は150μmである。30μm未満であると、厚さが薄すぎ、熱プレス成形時においてクッション層を構成する樹脂が軟化した場合に、部分的にクッション層が存在しない箇所が発生し、プレス圧力をフレキシブルプリント基板に均一に荷重することができないことがある。150μmを超えると、多層離型フィルムのコシが強くなりすぎ、柔軟性が損なわれるため、追従性が低下することがある。更には必要以上に厚いため、余分な部分がフィルム端面から染み出してしまい不具合を生じることがある。より好ましい下限は60μm、より好ましい上限は100μmである。
上記クッション層は、市販の離型フィルムと組み合わせて使用されてもよい。
Although it does not specifically limit as thickness of the said cushion layer, A preferable minimum is 30 micrometers and a preferable upper limit is 150 micrometers. When the thickness is less than 30 μm, the thickness is too thin, and when the resin constituting the cushion layer is softened during hot press molding, a portion where the cushion layer does not exist partially occurs, and the press pressure is uniformly applied to the flexible printed circuit board. May not be able to load. If it exceeds 150 μm, the stiffness of the multilayer release film becomes too strong and the flexibility is impaired, and the followability may be lowered. Furthermore, since it is thicker than necessary, the excess part may ooze out from the end face of the film, causing problems. A more preferable lower limit is 60 μm, and a more preferable upper limit is 100 μm.
The cushion layer may be used in combination with a commercially available release film.

また、上記クッション層は、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等のポリオレフィン系樹脂以外の樹脂や、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 In addition, the cushion layer is within a range that does not impair the effects of the present invention, and resins other than polyolefin resins such as polystyrene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, and polyester, fibers, inorganic fillers, You may contain additives, such as a flame retardant, a ultraviolet absorber, an antistatic agent, an inorganic substance, and a higher fatty acid salt.

上記繊維としては特に限定されず、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、ボロン繊維、炭化珪素繊維、アルミナ繊維、アモルファス繊維、シリコン・チタン・炭素系繊維等の無機繊維;アラミド繊維等の有機繊維等が挙げられる。 The fibers are not particularly limited, and examples thereof include glass fibers, carbon fibers, boron fibers, silicon carbide fibers, alumina fibers, amorphous fibers, inorganic fibers such as silicon / titanium / carbon fibers, and organic fibers such as aramid fibers. Can be mentioned.

上記無機充填剤としては特に限定されず、例えば、炭酸カルシウム、酸化チタン、マイカ、タルク等が挙げられる。
上記難燃剤としては特に限定されず、例えば、ヘキサブロモシクロドデカン、トリス−(2,3−ジクロロプロピル)ホスフェート、ペンタブロモフェニルアリルエーテル等が挙げられる。
The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include calcium carbonate, titanium oxide, mica and talc.
The flame retardant is not particularly limited, and examples thereof include hexabromocyclododecane, tris- (2,3-dichloropropyl) phosphate, pentabromophenyl allyl ether, and the like.

上記紫外線吸収剤としては特に限定されず、例えば、p−t−ブチルフェニルサリシレート、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2,4,5−トリヒドロキシブチロフェノン等が挙げられる。
上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、N,N−ビス(ヒドロキシエチル)アルキルアミン、アルキルアリルスルホネート、アルキルスルファネート等が挙げられる。
The ultraviolet absorber is not particularly limited, and examples thereof include pt-butylphenyl salicylate, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2,4,5- And trihydroxybutyrophenone.
The antistatic agent is not particularly limited, and examples thereof include N, N-bis (hydroxyethyl) alkylamine, alkylallyl sulfonate, and alkyl sulfonate.

上記無機物としては特に限定されず、例えば、硫酸バリウム、アルミナ、酸化珪素等が挙げられる。
上記高級脂肪酸塩としては特に限定されず、例えば、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸バリウム、パルミチン酸ナトリウム等が挙げられる。
It does not specifically limit as said inorganic substance, For example, barium sulfate, an alumina, a silicon oxide etc. are mentioned.
The higher fatty acid salt is not particularly limited, and examples thereof include sodium stearate, barium stearate, and sodium palmitate.

本発明においては、上記クッション層を上記構成とすることにより、本発明の多層離型フィルムに対して基板表面への追従性、熱プレス成形時における熱によってもシワを生じない程の耐熱性等を付与することができる。 In the present invention, the cushion layer having the above-described configuration allows the multilayer release film of the present invention to follow the substrate surface, has heat resistance that does not cause wrinkles due to heat during hot press molding, etc. Can be granted.

本発明の多層離型フィルムは離型層を有する。
上記離型層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂からなることが好ましい。
熱プレス成形工程は、通常200℃未満で行われることから、融点が200℃未満であると、上記熱プレス成形工程において、離型層が溶融し、多層離型フィルムの耐熱性が低下することがある。より好ましくは220℃以上である。また、融点の好ましい上限は特に限定されないが、溶融成型する場合は加熱設備のコストの理由から、より好ましい上限は400℃である。
The multilayer release film of the present invention has a release layer.
The release layer is preferably made of a crystalline aromatic polyester resin having a melting point of 200 ° C. or higher measured using a differential scanning calorimeter.
Since the hot press molding process is usually performed at less than 200 ° C., if the melting point is less than 200 ° C., the release layer is melted and the heat resistance of the multilayer release film is lowered in the hot press molding process. There is. More preferably, it is 220 ° C. or higher. Moreover, although the preferable upper limit of melting | fusing point is not specifically limited, In the case of melt-molding, a more preferable upper limit is 400 degreeC from the reason of the cost of heating equipment.

上記離型層にこのような融点の高い樹脂を用いることにより、上記離型層は、熱プレス成形工程においても、溶融することなく離型性を有するとともに、上記離型層が破壊されるのを防止することができる。
なお、上記離型層に用いる結晶性芳香族ポリエステル樹脂としては特に限定されず、上記クッション層に用いることのできる結晶性芳香族ポリエステル樹脂と同様のものを用いることができる。
By using such a resin having a high melting point for the release layer, the release layer has a release property without melting even in the hot press molding step, and the release layer is destroyed. Can be prevented.
In addition, it does not specifically limit as a crystalline aromatic polyester resin used for the said mold release layer, The thing similar to the crystalline aromatic polyester resin which can be used for the said cushion layer can be used.

上記離型層には、安定剤を含有させてもよい。上記安定剤としては特に限定されず、例えば、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、3,9−ビス{2−〔3−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−プロピオニロキシ〕−1,1−ジメチルエチル}−2,4,8,10−テトラオキサスピロ〔5,5〕ウンデカン等のヒンダードフェノール系酸化防止剤;トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、2−t−ブチル−α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−p−クメニルビス(p−ノニルフェニル)ホスファイト、ジミリスチル3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル3,3’−チオジプロピオネート、ペンタエリスチリルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル3,3’−チオジプロピオネート等の熱安定剤等が挙げられる。 The release layer may contain a stabilizer. The stabilizer is not particularly limited, and examples thereof include 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, 3,9-bis. {2- [3- (3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -propionyloxy] -1,1-dimethylethyl} -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5 5] hindered phenol antioxidants such as undecane; tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, trilauryl phosphite, 2-t-butyl-α- (3-t-butyl-4 -Hydroxyphenyl) -p-cumenylbis (p-nonylphenyl) phosphite, dimyristyl 3,3'-thiodipropionate, distearyl 3,3'-thiodipropionate, pentaerythryl Tetrakis (3-laurylthiopropionate), thermal stabilizers such as ditridecyl 3,3'-thiodipropionate and the like.

上記離型層は、その性質を改質するために、熱可塑性樹脂、ゴム成分を含有してもよい。上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエステル等が挙げられる。
上記ゴム成分としては特に限定されず、例えば、天然ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体、エチレン−プロピレン共重合体(EPM、EPDM)、ポリクロロプレン、ブチルゴム、アクリルゴム、シリコンゴム、ウレタンゴム、オレフィン系熱可塑性エラストマー、スチレン系熱可塑性エラストマー、塩ビ系熱可塑性エラストマー、エステル系熱可塑性エラストマー、アミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
The release layer may contain a thermoplastic resin and a rubber component in order to modify its properties. The thermoplastic resin is not particularly limited, and examples thereof include polyolefin, modified polyolefin, polystyrene, polyvinyl chloride, polyamide, polycarbonate, polysulfone, and polyester.
The rubber component is not particularly limited. For example, natural rubber, styrene-butadiene copolymer, polybutadiene, polyisoprene, acrylonitrile-butadiene copolymer, ethylene-propylene copolymer (EPM, EPDM), polychloroprene, Examples include butyl rubber, acrylic rubber, silicon rubber, urethane rubber, olefin-based thermoplastic elastomer, styrene-based thermoplastic elastomer, vinyl chloride-based thermoplastic elastomer, ester-based thermoplastic elastomer, and amide-based thermoplastic elastomer.

また、上記離型層は、アスペクト比の大きい無機化合物を含有してもよい。アスペクト比の大きい無機化合物を含有することにより、得られる本発明の多層離型フィルムは、高温での離型性が向上し、更にフィルムに含まれる添加剤や低分子量物がフィルム表面へブリードアウトすることを抑制することができ、熱プレス成形時のクリーン性が向上する。
上記アスペクト比の大きい無機化合物としては特に限定されず、例えば、クレイ等の層状ケイ酸塩;ハイドロタルサイト等の層状複水和物等が挙げられる。
The release layer may contain an inorganic compound having a large aspect ratio. By including an inorganic compound having a large aspect ratio, the resulting multilayer release film of the present invention has improved release properties at high temperatures, and additives and low molecular weight substances contained in the film bleed out to the film surface. That can be suppressed, and cleanliness during hot press molding is improved.
The inorganic compound having a large aspect ratio is not particularly limited, and examples thereof include layered silicates such as clay; layered double hydrates such as hydrotalcite.

また、上記離型層は、上記クッション層と同様に、繊維、無機充填剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、無機物、高級脂肪酸塩等の添加剤を含有してもよい。 Moreover, the said release layer may contain additives, such as a fiber, an inorganic filler, a flame retardant, an ultraviolet absorber, an antistatic agent, an inorganic substance, a higher fatty acid salt similarly to the said cushion layer.

上記離型層の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は5μm、好ましい上限は50μmである。5μm未満であると、厚さが薄すぎ、離型層の強度が損なわれることから、熱プレス成形工程や多層離型フィルムの剥離工程において、離型層が破壊されることがあり、50μmを超えると、多層離型フィルムのコシが強くなりすぎ、柔軟性が損なわれるため、追従性が低下することがある。
更に、本発明においては、離型層の厚さを30μm以下とすることにより、上述した0.3g/10分未満というメルトフローレートの低いクッション層と離型層とを組み合わせても、充分な追従性を保ちつつ、クッション層の染み出しを抑制することが可能となる。
Although it does not specifically limit as thickness of the said mold release layer, A preferable minimum is 5 micrometers and a preferable upper limit is 50 micrometers. If the thickness is less than 5 μm, the thickness is too thin and the strength of the release layer is impaired. Therefore, the release layer may be destroyed in the hot press molding step or the release step of the multilayer release film. If it exceeds, the stiffness of the multilayer release film becomes too strong and the flexibility is impaired, and the followability may be lowered.
Furthermore, in the present invention, by setting the thickness of the release layer to 30 μm or less, it is sufficient to combine the above-described cushion layer having a low melt flow rate of less than 0.3 g / 10 minutes and the release layer. It is possible to suppress the seepage of the cushion layer while maintaining the followability.

上記離型層の表面は、平滑性を有することが好ましいが、ハンドリングに必要なスリップ性、アンチブロッキング性、熱プレス成形時の空気抜けを目的として、少なくとも片面に適度のエンボス模様や微細な凹凸が設けられてもよい。
上記処理の方法としては特に限定されず、例えば、エンボス模様が施された金属ロール等やガーゼ等の布やブラシ等を用いて上記離型層の表面を摩擦する方法が挙げられる。
The surface of the release layer preferably has smoothness, but for the purpose of slipping necessary for handling, anti-blocking properties, and air release during hot press molding, at least one side has an appropriate embossed pattern and fine irregularities. May be provided.
The method of the treatment is not particularly limited, and examples thereof include a method of rubbing the surface of the release layer using a metal roll or the like having an embossed pattern, a cloth such as gauze, a brush, or the like.

上記離型層は、耐熱性、寸法安定性、離型性を向上させるために、熱処理や摩擦処理を行ってもよい。
上記熱処理の方法としては特に限定されないが、例えば、一定の処理温度に加熱したロールの間を通過させる方法やヒーターによる加熱等が好ましい。
上記熱処理の温度としては、上記離型層を構成する樹脂のガラス転移温度以上かつ融点以下であれば特に限定されないが、好ましい下限は120℃、好ましい上限は200℃である。120℃未満であると、熱処理による離型性の向上効果がほとんど得られないことがあり、200℃を超えると、熱処理時に離型層が変形しやすくなり、製造できないことがある。より好ましい下限は170℃、より好ましい上限は190℃である。
The release layer may be subjected to heat treatment or friction treatment in order to improve heat resistance, dimensional stability, and release properties.
Although it does not specifically limit as the method of the said heat processing, For example, the method of passing between the rolls heated to the fixed process temperature, the heating with a heater, etc. are preferable.
The temperature of the heat treatment is not particularly limited as long as it is not lower than the glass transition temperature of the resin constituting the release layer and not higher than the melting point, but a preferable lower limit is 120 ° C. and a preferable upper limit is 200 ° C. When the temperature is lower than 120 ° C., the effect of improving the releasability by heat treatment may be hardly obtained. When the temperature exceeds 200 ° C., the release layer is likely to be deformed during the heat treatment and may not be manufactured. A more preferable lower limit is 170 ° C., and a more preferable upper limit is 190 ° C.

上記摩擦処理の方法としては特に限定されず、例えば、金属ロール等やガーゼ等の布やブラシ等を用いて上記離型層の表面を摩擦する方法が挙げられる。 The friction treatment method is not particularly limited, and examples thereof include a method of rubbing the surface of the release layer using a cloth such as a metal roll or gauze, a brush, or the like.

本発明の多層離型フィルムの全体の厚さとしては特に限定されないが、好ましい下限は50μm、好ましい上限は200μmである。50μm未満であると、多層離型フィルムの強度が不足し、200μmを超えると、柔軟性が損なわれ、ハンドリング性が低下する。また、製造コストが上昇してしまう。 Although it does not specifically limit as the whole thickness of the multilayer release film of this invention, A preferable minimum is 50 micrometers and a preferable upper limit is 200 micrometers. When it is less than 50 μm, the strength of the multilayer release film is insufficient, and when it exceeds 200 μm, flexibility is impaired and handling properties are deteriorated. In addition, the manufacturing cost increases.

本発明の多層離型フィルムは、170℃において荷重3MPaで60分間加圧した場合の寸法変化率が1.5%以下であることが好ましい。1.5%を超えると、熱プレス成形時に回路パターンを損なうおそれがある。より好ましくは1.0%以下である。更には、フィルムの巾方向(以下、TDともいう)と長さ方向(以下、MDともいう)との寸法変化率が同方向・同等程度であることが好ましい。一方(例えば、MD)が収縮、他方(例えば、TD)が伸長という縦横の寸法変化が異なるような場合、熱プレス成形時に回路パターンを損なうおそれがある。 The multilayer release film of the present invention preferably has a dimensional change rate of 1.5% or less when pressed at 170 ° C. with a load of 3 MPa for 60 minutes. If it exceeds 1.5%, the circuit pattern may be damaged during hot press molding. More preferably, it is 1.0% or less. Furthermore, it is preferable that the dimensional change rate in the width direction (hereinafter also referred to as TD) and the length direction (hereinafter also referred to as MD) of the film is in the same direction and in the same order. When the vertical and horizontal dimensional changes such that one (for example, MD) contracts and the other (for example, TD) expands are different, the circuit pattern may be damaged during hot press molding.

本発明の多層離型フィルムを製造する方法としては特に限定されず、例えば、水冷式又は空冷式共押出インフレーション法、共押出Tダイ法で製膜する方法、離型層となるフィルムを作製した後、このフィルムにクッション層を押出ラミネート法にて積層する方法、離型層となるフィルムとクッション層となるフィルムとをドライラミネーションする方法、溶剤キャスティング法、熱プレス成形法等が挙げられる。なかでも、共押出Tダイ法で製膜する方法が各層の厚み制御に優れる点から好適である。 The method for producing the multilayer release film of the present invention is not particularly limited. For example, a water-cooled or air-cooled coextrusion inflation method, a method of forming a film by a coextrusion T-die method, and a film to be a release layer were produced. Thereafter, a method of laminating a cushion layer on this film by an extrusion laminating method, a method of dry lamination of a film to be a release layer and a film to be a cushion layer, a solvent casting method, a hot press molding method and the like can be mentioned. Especially, the method of forming into a film by the coextrusion T die method is suitable from the point which is excellent in the thickness control of each layer.

上記溶剤キャスティング法では、例えば、クッション層となるフィルム上にアンカー層を下塗り処理した後、アンカー層上に溶剤に溶解した上記樹脂組成物を塗工し、塗膜を均一に加熱し乾燥させて離型層を形成させることにより、多層離型フィルムを製造する。
また、上記熱プレス成形では、例えば、離型層となるフィルムとクッション層となるフィルムとを重ね合わせて熱プレス成形する。
In the solvent casting method, for example, after the anchor layer is undercoated on the film to be the cushion layer, the resin composition dissolved in the solvent is applied on the anchor layer, and the coating film is uniformly heated and dried. A multilayer release film is produced by forming a release layer.
Moreover, in the said hot press molding, the film used as a mold release layer and the film used as a cushion layer are overlap | superposed and hot press molded, for example.

本発明によれば、熱プレス成形時における熱によってもシワを生じない程の耐熱性を有する多層離型フィルムを提供することができる。更には、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時における接着剤の流れ出し、及び、フィルム端面でのクッション層の染み出しを抑制することが可能であり、フィルム端面でクッション層が染み出した場合には、フィルムから染み出したクッション層がプレス熱板に付着し残留することがない多層離型フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the multilayer release film which has heat resistance which does not produce a wrinkle with the heat | fever at the time of hot press molding can be provided. Furthermore, while having releasability and followability to the substrate surface, it is possible to suppress the flow of the adhesive during hot press molding and the bleeding of the cushion layer at the film end surface. When the cushion layer oozes out, it is possible to provide a multilayer release film in which the cushion layer oozed from the film does not adhere to the press hot plate and remain.

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(1)離型層に用いる樹脂材料
離型層には、結晶性芳香族ポリエステル樹脂としてポリブチレンテレフタレート(三菱エンジニアリングプラスチック社製、ノバデユラン5010R5)を用いた。
(1) Resin material used for release layer Polybutylene terephthalate (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, Novadejuran 5010R5) was used as the crystalline aromatic polyester resin for the release layer.

(2)クッション層1に用いる樹脂材料
クッション層1には、ポリオレフィン系樹脂としてノバテックLD:LF547(日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)114℃)とPF724S(サンアロマー社製、融点(DSC法)150℃)とを50:50の重量比率で混合したものを用いた。
なお、融点測定におけるDSC法とは、示差走査熱量計としてDSC 2920(TAインスツルメント社製)を用いたことを意味する。以下同様である。
(2) Resin material used for cushion layer 1 For cushion layer 1, Novatec LD: LF547 (manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd., melting point (DSC method) 114 ° C.) and PF724S (manufactured by Sun Allomer Co., melting point (DSC method)) 150 ° C.) at a weight ratio of 50:50 was used.
The DSC method in the melting point measurement means that DSC 2920 (manufactured by TA Instruments) was used as a differential scanning calorimeter. The same applies hereinafter.

(3)クッション層2に用いる樹脂材料
クッション層2には、ノバテックLD:LF547(ポリオレフィン系樹脂、日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)114℃)と、PF724S(ポリオレフィン系樹脂、サンアロマー社製、融点(DSC法)150℃)と、結晶性芳香族ポリエステル樹脂としてポリブチレンテレフタレート:ノバデュラン5010R5(三菱エンジニアリングプラスチック社製、融点(DSC法)224℃)とをそれぞれ47.5:47.5:5.0の重量比率で混合したものを用いた。
(3) Resin material used for cushion layer 2 The cushion layer 2 includes Novatec LD: LF547 (polyolefin resin, manufactured by Nippon Polyethylene, melting point (DSC method) 114 ° C.) and PF724S (polyolefin resin, manufactured by Sun Allomer, Melting point (DSC method) 150 ° C.) and polybutylene terephthalate: Novaduran 5010R5 (Mitsubishi Engineering Plastics, melting point (DSC method) 224 ° C.) as crystalline aromatic polyester resin, respectively, 47.5: 47.5: 5 What was mixed by the weight ratio of 0.0 was used.

(4)クッション層3に用いる樹脂材料
クッション層3には、ポリオレフィン系樹脂としてノバテックLD:LC720(日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)110℃)とノバテックHD:HF562(日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)132℃)とを50:50の重量比率で混合したものを用いた。
(4) Resin Material Used for Cushion Layer 3 For the cushion layer 3, Novatec LD: LC720 (manufactured by Nippon Polyethylene, melting point (DSC method) 110 ° C.) and Novatec HD: HF562 (manufactured by Nippon Polyethylene, melting point) are used as polyolefin resins. (DSC method) 132 ° C.) at a weight ratio of 50:50 was used.

(5)クッション層4に用いる樹脂材料
クッション層4には、ポリオレフィン系樹脂としてノバテックLD:LC720(日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)110℃)とPC630A(サンアロマー社製、融点(DSC法)142℃)とを50:50の重量比率で混合したものを用いた。
(5) Resin material used for cushion layer 4 For the cushion layer 4, Novatec LD: LC720 (manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd., melting point (DSC method) 110 ° C.) and PC630A (manufactured by Sun Allomer Co., Ltd., melting point (DSC method)) 142 ° C.) at a weight ratio of 50:50 was used.

(6)クッション層5に用いる樹脂材料
クッション層5には、ノバテックLD:LC720(ポリオレフィン系樹脂、日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)110℃)と、UF840(ポリオレフィン系樹脂、日本ポリエチレン社製、融点(DSC法)125℃)と、結晶性芳香族ポリエステル樹脂としてポリブチレンテレフタレート:ノバデュラン5010R5(三菱エンジニアリングプラスチック社製、融点(DSC法)224℃)とをそれぞれ47.5:47.5:5.0の重量比率で混合したものを用いた。
(6) Resin material used for cushion layer 5 Cushion layer 5 includes Novatec LD: LC720 (polyolefin resin, manufactured by Nippon Polyethylene, melting point (DSC method) 110 ° C.) and UF840 (polyolefin resin, manufactured by Nippon Polyethylene). , Melting point (DSC method) 125 ° C.) and polybutylene terephthalate: Novaduran 5010R5 (manufactured by Mitsubishi Engineering Plastics, melting point (DSC method) 224 ° C.) as crystalline aromatic polyester resins, respectively, 47.5: 47.5: What was mixed by the weight ratio of 5.0 was used.

(実施例1)
(1)多層離型フィルムの作製
離型層用の樹脂材料と、クッション層1用の樹脂材料とを、各々の押出機(ジーエムエンジニアリング社製押出機GM30−28(スクリュー径30mm、L/D28))に投入して溶融し、Tダイ幅400mmの多層Tダイにて共押出することにより多層離型フィルムを作製した。その際、離型層とクッション層1との膜厚がそれぞれ20μm、80μmとなるように2層離型フィルムを作製し、200mm×200mmに裁断した。
(Example 1)
(1) Production of multi-layer release film A resin material for a release layer and a resin material for a cushion layer 1 were prepared by using an extruder (GM Engineering Extruder GM30-28 (screw diameter 30 mm, L / D28). )) And melted, and co-extruded with a multilayer T die having a T die width of 400 mm to produce a multilayer release film. At that time, a two-layer release film was prepared so that the film thicknesses of the release layer and the cushion layer 1 were 20 μm and 80 μm, respectively, and cut into 200 mm × 200 mm.

(2)フレキシブルプリント基板の作製
150mm×150mmに切断した銅張積層板、150mm×150mmに切断したカバーレイフィルム、250mm×250mmに切断した得られた多層離型フィルムをこの順に重ね合わせたものを1セットとして、32セットを熱プレスに載置し、プレス温度185℃、プレス圧35kg/cm、プレス時間30分間の条件で熱プレス成形した後、プレス圧を開放し、多層離型フィルムを引き剥がして、フレキシブルプリント基板を得た。
なお、カバーレイフィルムはエポキシ接着剤側を銅張積層板側にし、多層離型フィルムは離型層側をカバーレイフィルム側にして設置した。
銅張積層板としては、厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製、カプトン)をベースフィルムとし、その上に硬化後に20μm相当のエポキシ系接着剤を塗布し、厚さ35μm、幅50μmの銅箔が50μm間隔で接着されたものを用いた。
カバーレイフィルムとしては、厚さ25μmのポリイミドフィルム(デュポン社製、カプトン)上に、流動開始温度80℃のエポキシ系接着剤を厚さ35μmで塗布したものを用いた。
また、銅張積層板には、評価用として接着剤流れ出し用の穴を作製しておいた。
(2) Production of flexible printed circuit board A laminate of copper-clad laminate cut to 150 mm x 150 mm, coverlay film cut to 150 mm x 150 mm, and multilayer release film obtained by cutting to 250 mm x 250 mm in this order As one set, 32 sets were placed on a hot press, subjected to hot press molding under conditions of a press temperature of 185 ° C., a press pressure of 35 kg / cm 2 , and a press time of 30 minutes, then the press pressure was released, and a multilayer release film was formed. The flexible printed circuit board was obtained by peeling off.
The coverlay film was installed with the epoxy adhesive side on the copper clad laminate side, and the multilayer release film was installed with the release layer side on the coverlay film side.
As a copper-clad laminate, a 25 μm thick polyimide film (manufactured by DuPont, Kapton) is used as a base film, and after curing, an epoxy adhesive equivalent to 20 μm is applied to a copper foil having a thickness of 35 μm and a width of 50 μm. Used were bonded at intervals of 50 μm.
As the coverlay film, a film obtained by applying an epoxy adhesive having a flow start temperature of 80 ° C. to a thickness of 35 μm on a 25 μm-thick polyimide film (manufactured by DuPont, Kapton) was used.
Moreover, the hole for an adhesive flow-out was produced for the copper clad laminated board for evaluation.

(実施例2)
離型層用の樹脂材料とクッション層2用の樹脂材料とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Example 2)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin material for the release layer and the resin material for the cushion layer 2 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例1)
離型層用の樹脂材料とクッション層3用の樹脂材料とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 1)
A multilayer release film was prepared by co-extruding the resin material for the release layer and the resin material for the cushion layer 3 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例2)
離型層用の樹脂材料とクッション層4用の樹脂材料とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 2)
A multilayer release film was produced by coextruding the resin material for the release layer and the resin material for the cushion layer 4 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

(比較例3)
離型層用の樹脂材料とクッション層5用の樹脂材料とを実施例1と同様に共押出することにより多層離型フィルムを作製した。
得られた多層離型フィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様にしてフレキシブルプリント基板を作製した。
(Comparative Example 3)
A multilayer release film was prepared by coextruding the resin material for the release layer and the resin material for the cushion layer 5 in the same manner as in Example 1.
A flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained multilayer release film was used.

<評価>
実施例1〜2及び比較例1〜3で得られた多層離型フィルム、及び、フレキシブルプリント基板について以下の評価を行った。結果を表1に示した。
<Evaluation>
The following evaluation was performed about the multilayer release film obtained in Examples 1-2 and Comparative Examples 1-3, and the flexible printed circuit board. The results are shown in Table 1.

(1)シワの有無
CCL(銅箔付きフレキシブル基板、ニッカン工業社製:F−30VC1−25RC11(H))(20cm×20cm、ポリイミド厚25μm、銅箔35μm)に、公知の方法により、長さ30mmで、L/S200μmのパターンを平行に20本形成した。また、接着剤流れ出し評価用に2mm×5mmの貫通孔を形成した。
このCCL、カバーレイ(ニッカン工業社製:CISV−2535(DF))(20cm×20cm、ポリイミド厚15μm、エポキシ系樹脂接着剤層25μm)、及び、得られた多層離型フィルムを下からこの順番に積み上げ、スライド式真空ヒータプレス(MKP−3000V−WH−ST、ミカドテクノス社製)を用いて予め180℃で加熱したプレス金型間に置いて位置合わせをした後、プレスを開始し(設置から実際に圧力がかかるまでに約10秒)、50kg/cmで2分間プレスした。
その後、CCL、カバーレイ及び多層離型フィルムを取り出し、多層離型フィルムを剥がした後、カバーレイ表面上に転写されたシワの個数を測定した。
(1) Wrinkle presence / absence CCL (Flexible board with copper foil, manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd .: F-30VC1-25RC11 (H)) (20 cm × 20 cm, polyimide thickness 25 μm, copper foil 35 μm) Twenty parallel patterns of L / S 200 μm were formed at 30 mm. In addition, a 2 mm × 5 mm through hole was formed for evaluation of adhesive flow.
This CCL, coverlay (manufactured by Nikkan Kogyo Co., Ltd .: CISV-2535 (DF)) (20 cm × 20 cm, polyimide thickness 15 μm, epoxy resin adhesive layer 25 μm), and the obtained multilayer release film from the bottom in this order And placed between press dies preheated at 180 ° C. using a slide-type vacuum heater press (MKP-3000V-WH-ST, manufactured by Mikado Technos Co., Ltd.), and then the press was started (installation) To about 10 seconds from when the pressure was actually applied) to 50 kg / cm 2 for 2 minutes.
Then, after taking out CCL, a coverlay, and a multilayer release film and peeling off a multilayer release film, the number of wrinkles transcribe | transferred on the coverlay surface was measured.

(2)追従性の評価(ボイド発生の有無)
得られたフレキシブルプリント基板のカバーレイフィルム面に光を当て、ボイドの発生の有無を目視(顕微鏡観察)にて確認し、以下の基準により評価した。
○:ボイドが見られなかった。
×:ボイドが見られた。
(2) Follow-up evaluation (presence / absence of voids)
Light was applied to the coverlay film surface of the obtained flexible printed circuit board, and the presence or absence of voids was confirmed visually (microscopic observation), and evaluated according to the following criteria.
○: No void was seen.
X: A void was observed.

(3)接着剤の流れ出し量
得られたフレキシブルプリント基板の接着剤流れ出し用の穴の端部を目視(顕微鏡観察)にて確認し、以下の基準により評価した。
○:100μm以上
△:125μm以上
×:150μm以上
(3) Adhesive flow-out amount The end portion of the adhesive flow-out hole of the obtained flexible printed circuit board was visually confirmed (microscopic observation) and evaluated according to the following criteria.
○: 100 μm or more Δ: 125 μm or more ×: 150 μm or more

(4)フィルム端面の染み出し量
フレキシブルプリント基板作製時におけるフィルム端面からの樹脂の染み出しの長さを測定し、以下の基準により評価した。
○:2mm未満
△:2mm以上5mm未満
×:5mm以上
(4) Exuding amount of film end face The length of resin exuding from the film end face during the production of the flexible printed circuit board was measured and evaluated according to the following criteria.
○: Less than 2 mm Δ: 2 mm or more and less than 5 mm x: 5 mm or more

Figure 2008105319
Figure 2008105319

本発明によれば、熱プレス成形時における熱によってもシワを生じない程の耐熱性を有する多層離型フィルムを提供することができる。更には、離型性、基板表面への追従性を有しつつ、熱プレス成形時における接着剤の流れ出し、及び、フィルム端面でのクッション層の染み出しを抑制することが可能であり、フィルム端面でクッション層が染み出した場合には、フィルムから染み出したクッション層がプレス熱板に付着し残留することがない多層離型フィルムを提供することができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the multilayer release film which has heat resistance which does not produce a wrinkle with the heat | fever at the time of hot press molding can be provided. Furthermore, while having releasability and followability to the substrate surface, it is possible to suppress the flow of the adhesive during hot press molding and the bleeding of the cushion layer at the film end surface. When the cushion layer oozes out, it is possible to provide a multilayer release film in which the cushion layer oozed from the film does not adhere to the press hot plate and remain.

Claims (4)

少なくとも離型層とクッション層とを有する多層離型フィルムであって、前記クッション層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃のポリオレフィン系樹脂Aと、示差走査熱量計を用いて測定した融点が150〜180℃のポリオレフィン系樹脂Bとを含有することを特徴とする多層離型フィルム。 A multilayer release film having at least a release layer and a cushion layer, wherein the cushion layer comprises a polyolefin resin A having a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter, and a differential scanning calorimeter. A multilayer release film comprising a polyolefin resin B having a melting point of 150 to 180 ° C. measured using the same. 示差走査熱量計を用いて測定した融点が70〜130℃のポリオレフィン系樹脂Aの少なくとも1種は、低密度ポリエチレン系樹脂又はエチレン共重合体であることを特徴とする請求項1記載の多層離型フィルム。 2. The multilayer separation according to claim 1, wherein at least one of the polyolefin resins A having a melting point of 70 to 130 ° C. measured using a differential scanning calorimeter is a low density polyethylene resin or an ethylene copolymer. Mold film. 示差走査熱量計を用いて測定した融点が150〜180℃のポリオレフィン系樹脂Bの少なくとも1種は、ポリプロピレンであることを特徴とする請求項1又は2記載の多層離型フィルム。 The multilayer release film according to claim 1 or 2, wherein at least one of the polyolefin resins B having a melting point of 150 to 180 ° C measured using a differential scanning calorimeter is polypropylene. 更に、クッション層は、示差走査熱量計を用いて測定した融点が200℃以上である結晶性芳香族ポリエステル樹脂を含有することを特徴とする請求項1、2又は3記載の多層離型フィルム。 Furthermore, a cushion layer contains crystalline aromatic polyester resin whose melting | fusing point measured using the differential scanning calorimeter is 200 degreeC or more, The multilayer release film of Claim 1, 2 or 3 characterized by the above-mentioned.
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