JP2020129690A - Manufacturing method of light source device - Google Patents

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Abstract

To provide a manufacturing method of a light source device capable of preventing a light-emitting device from being joined while inclining to a support substrate.SOLUTION: A manufacturing method of a light source device includes steps of: preparing a light-emitting device comprising a backing material having a front face, a back face, a top face, an undersurface, and multiple recesses opening to the back face and the undersurface, first wiring placed on the front face, and second wiring placed in the multiple recesses, and a light-emitting element placed on the first wiring; preparing a support substrate including a first wiring pattern having a junction region on the top face of the support substrate, and an insulation region surrounding the junction region; placing solder so that the maximum width of solder on the insulation region becomes wider than the maximum width of solder on the junction region; placing the light-emitting device on the support substrate while separating the solder and the second wiring near the undersurface in the top view; and joining the second wiring and the junction region.SELECTED DRAWING: Figure 9A

Description

本発明は、光源装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a light source device.

開口部が設けられるベース部及びベース部上に開口部を塞ぐようにして配置される実装
部からなる基板と、開口部から露出する電極と、を備え、電極と、マザーボードとが、を
ハンダによって電気的接合される発光ダイオードが知られている(例えば、特許文献1参
照)。
A substrate including a base portion provided with the opening portion and a mounting portion arranged so as to close the opening portion on the base portion, and an electrode exposed from the opening portion, and the electrode and the mother board are soldered together. A light emitting diode electrically connected is known (for example, refer to Patent Document 1).

特開2013−041865号公報JP, 2013-041865, A

本発明は、マザーボード(支持基板)に対して発光装置が傾いて接合されることを抑制
できる光源装置の製造方法を提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a light source device that can prevent the light emitting device from being inclined and joined to a mother board (support substrate).

本発明の一態様に係る光源装置の製造方法は、長手方向と前記長手方向と直交する短手
方向に延長する正面と、前記正面の反対側に位置する背面と、前記正面と隣接し、前記正
面と直交する上面と、前記上面の反対側に位置する下面と、前記背面と前記下面とに開口
する複数の窪み、を有する基材と、前記正面に配置される第1配線と、前記第1配線と電
気的に接続され前記複数の窪みのそれぞれに配置される第2配線と、を有する基板と、前
記第1配線と電気的に接続され、前記第1配線上に載置される少なくとも1つの発光素子
と、を備える発光装置を準備する工程と、支持基材と、前記支持基材の上面に接合領域を
含む配線パターンと、前記接合領域を囲む絶縁領域と、を備える支持基板を準備する工程
と、前記絶縁領域上に位置する前記半田の体積が前記接合領域上に位置する前記半田の体
積よりも大きくなるように前記接合領域及び前記絶縁領域上に半田を配置する工程と、上
面視において、前記半田と前記底面近傍に位置する前記第2配線とを離間させて前記発光
装置を前記支持基板に載置する工程と、前記半田を加熱溶融し、前記発光装置の第2配線
と前記支持基板の前記接合領域とを接合する工程と、を含む。
A method of manufacturing a light source device according to an aspect of the present invention includes a front surface extending in a lateral direction orthogonal to the longitudinal direction and a longitudinal direction, a back surface located on the opposite side of the front surface, adjacent to the front surface, and A base having an upper surface orthogonal to the front surface, a lower surface located on the opposite side of the upper surface, a plurality of recesses opening to the back surface and the lower surface; a first wiring arranged on the front surface; A substrate having a second wiring electrically connected to one wiring and arranged in each of the plurality of depressions, and at least electrically connected to the first wiring and placed on the first wiring. A supporting substrate comprising: a step of preparing a light emitting device including one light emitting element; a supporting base material; a wiring pattern including a bonding area on an upper surface of the supporting base material; and an insulating area surrounding the bonding area. A step of preparing, and a step of arranging solder on the bonding area and the insulating area so that the volume of the solder positioned on the insulating area is larger than the volume of the solder positioned on the bonding area, A step of placing the light emitting device on the support substrate while separating the solder from the second wiring located near the bottom surface in a top view; and heating and melting the solder to form a second wiring of the light emitting device. And a step of joining the joining region of the support substrate.

本発明に係る光源装置の製造方法によれば、支持基板に対して発光装置が傾いて接合さ
れることを抑制できる光源装置を提供することができる。
According to the method for manufacturing a light source device according to the present invention, it is possible to provide a light source device that can prevent the light emitting device from being inclined and joined to the support substrate.

図1Aは、実施形態1に係る発光装置の概略斜視図である。FIG. 1A is a schematic perspective view of the light emitting device according to the first embodiment. 図1Bは、実施形態1に係る発光装置の概略斜視図である。FIG. 1B is a schematic perspective view of the light emitting device according to the first embodiment. 図2Aは、実施形態1に係る発光装置の概略正面図である。FIG. 2A is a schematic front view of the light emitting device according to the first embodiment. 図2Bは、図2AのI−I線における概略断面図である。2B is a schematic cross-sectional view taken along the line I-I of FIG. 2A. 図2Cは、図2AのII−II線における概略断面図である。FIG. 2C is a schematic sectional view taken along line II-II of FIG. 2A. 図3は、実施形態1に係る発光装置の概略下面図である。FIG. 3 is a schematic bottom view of the light emitting device according to the first embodiment. 図4Aは、実施形態1に係る発光装置の概略背面図である。FIG. 4A is a schematic rear view of the light emitting device according to the first embodiment. 図4Bは、実施形態1に係る発光装置の変形例の概略背面図である。FIG. 4B is a schematic rear view of a modification of the light emitting device according to the first embodiment. 図5は、実施形態1に係る基板の概略正面図である。FIG. 5 is a schematic front view of the substrate according to the first embodiment. 図6は、実施形態1に係る発光装置の概略側面図である。FIG. 6 is a schematic side view of the light emitting device according to the first embodiment. 図7Aは、実施形態1に係る支持基板の概略上面図である。FIG. 7A is a schematic top view of the support substrate according to the first embodiment. 図7Bは、図7AのIII−III線における概略断面図である。7B is a schematic cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. 7A. 図8Aは、実施形態1に係る支持基板の変形例の概略上面図である。FIG. 8A is a schematic top view of a modified example of the support substrate according to the first embodiment. 図8Bは、図8AのIV−IV線における概略断面図である。FIG. 8B is a schematic cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 8A. 図9Aは、実施形態1に係る光源装置の製造方法を説明する概略上面図である。FIG. 9A is a schematic top view illustrating the method for manufacturing the light source device according to the first embodiment. 図9Bは、図9AのV−V線における概略断面図である。9B is a schematic cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 9A. 図9Cは、実施形態1に係る光源装置の変形例の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 9C is a schematic sectional view illustrating the method for manufacturing the modification of the light source device according to the first embodiment. 図9Dは、実施形態1に係る光源装置の製造方法の変形例を説明する概略上面図である。FIG. 9D is a schematic top view illustrating a modified example of the method for manufacturing the light source device according to the first embodiment. 図9Eは、実施形態1に係る光源装置の製造方法の変形例を説明する概略上面図である。FIG. 9E is a schematic top view illustrating a modified example of the method for manufacturing the light source device according to the first embodiment. 図9Fは、実施形態1に係る光源装置の製造方法の変形例を説明する概略上面図である。FIG. 9F is a schematic top view illustrating a modified example of the method for manufacturing the light source device according to the first embodiment. 図10Aは、実施形態1に係る光源装置の製造方法を説明する概略上面図である。FIG. 10A is a schematic top view illustrating the method for manufacturing the light source device according to the first embodiment. 図10Bは、図10AのVI−VI線における概略断面図である。FIG. 10B is a schematic cross-sectional view taken along line VI-VI of FIG. 10A. 図10Cは、実施形態1に係る光源装置の変形例の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 10C is a schematic cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the modification of the light source device according to the first embodiment. 図11Cは、実施形態1に係る光源装置の製造方法を説明する概略断面図である。FIG. 11C is a schematic cross-sectional view illustrating the method for manufacturing the light source device according to the first embodiment. 図12Aは、実施形態2に係る発光装置の概略斜視図である。FIG. 12A is a schematic perspective view of the light emitting device according to the second embodiment. 図12Bは、実施形態2に係る発光装置の概略斜視図である。FIG. 12B is a schematic perspective view of the light emitting device according to the second embodiment. 図13Aは、実施形態2に係る発光装置の概略正面図である。FIG. 13A is a schematic front view of the light emitting device according to the second embodiment. 図13Bは、図13AのVII−VII線における概略断面図である。FIG. 13B is a schematic cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG. 13A. 図14は、実施形態2に係る発光装置の変形例の概略断面図である。FIG. 14 is a schematic cross-sectional view of a modified example of the light emitting device according to the second embodiment.

以下、発明の実施形態について適宜図面を参照して説明する。但し、以下に説明する発
光装置は、本発明の技術思想を具体化するためのものであって、特定的な記載がない限り
、本発明を以下のものに限定しない。また、一つの実施形態において説明する内容は、他
の実施形態及び変形例にも適用可能である。さらに、図面が示す部材の大きさや位置関係
等は、説明を明確にするため、誇張していることがある。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings as appropriate. However, the light emitting device described below is for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention is not limited to the following unless specified otherwise. Further, the contents described in one embodiment can be applied to other embodiments and modified examples. Further, the size and positional relationship of members shown in the drawings may be exaggerated for clarity of explanation.

<実施形態1>
本発明の実施形態1に係る光源装置の製造方法を図1Aから図11に基づいて説明する。
<Embodiment 1>
A method of manufacturing the light source device according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1A to 11.

実施形態1の発光装置の製造方法は、
(1)長手方向と長手方向と直交する短手方向に延長する正面と、正面の反対側に位置す
る背面と、正面と隣接し、正面と直交する上面と、上面の反対側に位置する下面と、背面
と下面とに開口する複数の窪み、を有する基材と、正面に配置される第1配線と、第1配
線と電気的に接続され複数の窪みのそれぞれに配置される第2配線と、を有する基板と、
第1配線と電気的に接続され、第1配線上に載置される少なくとも1つの発光素子と、を
備える発光装置を準備する工程と、
(2)支持基材と、支持基材の上面に接合領域を含む配線パターンと、接合領域を囲む絶
縁領域と、を備える支持基板を準備する工程と、
(3)絶縁領域上に位置する半田の体積が接合領域上に位置する半田の体積よりも大きく
なるように接合領域及び絶縁領域上に半田を配置する工程と、
(4)上面視において、半田と下面近傍に位置する第2配線とを離間させて発光装置を支
持基板に載置する工程と、
(5)半田を加熱溶融し、発光装置の第2配線と支持基板の接合領域とを接合する工程と
、を含む
The method for manufacturing the light emitting device according to the first embodiment is
(1) A front surface extending in the longitudinal direction and a lateral direction orthogonal to the longitudinal direction, a back surface located on the opposite side of the front surface, an upper surface adjacent to the front surface and orthogonal to the front surface, and a lower surface located on the opposite side of the upper surface. And a base material having a plurality of recesses opening to the back surface and the lower surface, a first wiring arranged on the front surface, and a second wiring arranged in each of the plurality of recesses electrically connected to the first wiring. And a substrate having
A step of preparing a light emitting device including at least one light emitting element electrically connected to the first wiring and mounted on the first wiring;
(2) a step of preparing a supporting substrate including a supporting base material, a wiring pattern including a bonding area on an upper surface of the supporting base material, and an insulating area surrounding the bonding area;
(3) a step of arranging the solder on the bonding area and the insulating area such that the volume of the solder positioned on the insulating area is larger than the volume of the solder positioned on the bonding area,
(4) a step of mounting the light emitting device on the support substrate with the solder and the second wiring located near the lower surface separated from each other in a top view,
(5) a step of heating and melting the solder to join the second wiring of the light emitting device and the joining region of the supporting substrate.

以上のように構成された実施の形態の光源装置の製造方法によれば、基材の下面と、支
持基板の上面と、の間に加熱溶融後の半田が形成されることを抑制することができる。こ
れにより、発光装置が支持基板に対して傾いて接合されることを抑制できる。
According to the manufacturing method of the light source device of the embodiment configured as described above, it is possible to suppress the formation of solder after heating and melting between the lower surface of the base material and the upper surface of the support substrate. it can. This can prevent the light emitting device from being inclined and joined to the support substrate.

(発光装置を準備する工程)
図2Bに示すように、基板10と少なくとも1つの発光素子20と、を備えた発光装置
1000を準備する。基板10は、基材11と、第1配線12と、第2配線13と、を備
える。基材11は、長手方向と長手方向と直交する短手方向に延長する正面111と、正
面の反対側に位置する背面112と、正面と隣接し、正面と直交する上面113と、上面
の反対側に位置する下面114と、を有する。また、基材11は、背面112と下面11
4とに開口する複数の窪み16、を有する。第1配線12は基材11の正面111に配置
される。第2配線13は、第1配線12と電気的に接続され複数の窪み16内にそれぞれ
配置される。尚、本明細書において直交とは、90±3°程度の変動は許容されるものと
する。また、本明細書において長手方向をX方向と呼び、短手方向をY方向と呼び、背面
112から正面111方向をZ方向と呼ぶことがある。
(Process of preparing light emitting device)
As shown in FIG. 2B, a light emitting device 1000 including a substrate 10 and at least one light emitting element 20 is prepared. The substrate 10 includes a base material 11, a first wiring 12, and a second wiring 13. The base material 11 includes a front surface 111 extending in the longitudinal direction and a lateral direction orthogonal to the longitudinal direction, a back surface 112 located on the opposite side of the front surface, an upper surface 113 adjacent to the front surface and orthogonal to the front surface, and an opposite upper surface. And a lower surface 114 located on the side. Further, the base material 11 includes a back surface 112 and a bottom surface 11
4 and a plurality of recesses 16 that are open to each other. The first wiring 12 is arranged on the front surface 111 of the base material 11. The second wiring 13 is electrically connected to the first wiring 12 and is arranged in each of the plurality of recesses 16. In this specification, the term “perpendicular” means that a fluctuation of about 90±3° is allowed. In this specification, the longitudinal direction may be referred to as the X direction, the lateral direction may be referred to as the Y direction, and the rear surface 112 to the front surface 111 direction may be referred to as the Z direction.

基板10の第2配線13と、支持基板の配線パターンの一部である接合領域と、は半田に
よって接合される。第2配線が複数の窪み内にそれぞれ配置されることで、発光装置は複
数の第2配線13を有する。発光装置が複数の第2配線を有することで第2配線が1つの
場合よりも発光装置と支持基板との接合強度を向上させることができる。
The second wiring 13 of the substrate 10 and the joining region, which is a part of the wiring pattern of the support substrate, are joined by solder. The light emitting device has a plurality of second wirings 13 by disposing the second wirings in the plurality of recesses, respectively. Since the light emitting device has a plurality of second wirings, the bonding strength between the light emitting device and the support substrate can be improved more than in the case where the second wiring is one.

複数の窪み16のそれぞれの深さは特に限定されないが、図2Cに示すように、Z方向に
おける複数の窪み16のそれぞれの深さは、上面113側の窪みの深さW2よりも下面1
14側の窪みの深さW1が深いことが好ましい。このようにすることで、Z方向において
、窪みの上面113側に位置する基材11の厚みW5を窪みの下面側に位置する基材の厚
みW6よりも厚くすることができる。これにより、基材の強度低下を抑制することができ
る。また、Z方向における窪み16の深さが上面113側よりも下面114側で深いこと
で、基材11の下面114における窪み16の開口部の面積を大きくすることができる。
基材11の下面114と支持基板の上面と、が対向して、発光装置と支持基板とが半田に
より接合される。支持基板と対向する基材の下面における窪みの開口部の面積が大きくな
ることで、基材11の下面114側に位置する半田の面積を大きくすることができる。こ
れにより、発光装置と支持基板との接合強度を向上させることができる。
The depth of each of the plurality of depressions 16 is not particularly limited, but as shown in FIG. 2C, the depth of each of the plurality of depressions 16 in the Z direction is lower than the depth W2 of the depression on the upper surface 113 side in the lower surface 1.
The depth W1 of the depression on the 14 side is preferably deep. By doing so, the thickness W5 of the base material 11 located on the upper surface 113 side of the depression can be made larger than the thickness W6 of the base material located on the lower surface side of the depression in the Z direction. This makes it possible to prevent the strength of the base material from decreasing. Further, since the depth of the depression 16 in the Z direction is deeper on the lower surface 114 side than on the upper surface 113 side, the area of the opening of the depression 16 on the lower surface 114 of the base material 11 can be increased.
The lower surface 114 of the base material 11 and the upper surface of the support substrate face each other, and the light emitting device and the support substrate are joined by solder. By increasing the area of the opening of the depression on the lower surface of the base material facing the support substrate, the area of the solder located on the lower surface 114 side of the base material 11 can be increased. Thereby, the bonding strength between the light emitting device and the support substrate can be improved.

窪み16は、基材を貫通していてもよく、図2B及び図2Cに示すように、基材11を
貫通していなくてもよい。窪み16が基材を貫通していないことで、基材を貫通する窪み
を備える場合よりも基材の強度を向上させることができる。窪み16が基材を貫通してい
ない場合には、Z方向における複数の窪みのそれぞれの深さの最大は、基材の厚みW3の
0.4倍から0.8倍であることで好ましい。窪みの深さが基材の厚みの0.4倍よりも
深いことで、窪み内に形成される半田の体積が増加させることができるので発光装置と支
持基板の接合強度を向上させることができる。窪みの深さが基材の厚みの0.8倍よりも
浅いことで、基材の強度を向上させることができる。
The recess 16 may penetrate the base material, and may not penetrate the base material 11 as shown in FIGS. 2B and 2C. Since the recess 16 does not penetrate the base material, the strength of the base material can be improved as compared with the case where the recess 16 penetrates the base material. When the recess 16 does not penetrate the base material, the maximum depth of each of the plurality of recesses in the Z direction is preferably 0.4 to 0.8 times the thickness W3 of the base material. When the depth of the recess is deeper than 0.4 times the thickness of the base material, the volume of solder formed in the recess can be increased, and thus the bonding strength between the light emitting device and the support substrate can be improved. .. Since the depth of the depression is shallower than 0.8 times the thickness of the base material, the strength of the base material can be improved.

断面視において、窪み16は、Z方向に延びる平行部161を備えていることが好まし
い。平行部161を備えることで、背面112における窪み16の開口部の面積が同じで
も基材における窪み16の体積を大きくすることができる。窪み16の体積を大きくする
ことで、窪み内に形成できる半田の量を増やすことができるので、発光装置1000と支
持基板との接合強度を向上させることができる。尚、本明細書において平行とは、±3°
程度の変動は許容されるものとする。また、断面視において窪み16は、基材の下面11
4から基材の厚みが厚くなる方向に傾斜する傾斜部162を備えていてもよい。傾斜部1
62は直線でも、湾曲していてもよい。傾斜部162が直線であることで、先端が尖った
ドリルにより形成が容易になる。尚、傾斜部162における直線とは、±3μm程度の変
動は許容されるものとする。
In a cross-sectional view, the recess 16 preferably includes a parallel portion 161 extending in the Z direction. By providing the parallel portion 161, the volume of the recess 16 in the base material can be increased even if the area of the opening of the recess 16 on the back surface 112 is the same. By increasing the volume of the dent 16, the amount of solder that can be formed in the dent 16 can be increased, so that the bonding strength between the light emitting device 1000 and the support substrate can be improved. In this specification, parallel is ±3°.
Variation in the degree is allowed. Further, the recess 16 in the cross-sectional view is the lower surface 11 of the base material.
4 may be provided with an inclined portion 162 that inclines in the direction in which the thickness of the base material increases. Slope 1
62 may be straight or curved. Since the inclined portion 162 is straight, it can be easily formed by a drill having a sharp tip. The straight line in the inclined portion 162 is allowed to vary by about ±3 μm.

図3に示すように、基材の下面において、複数の窪み16のそれぞれにおいて中央での
深さR1が、Z方向における窪みの深さの最大であることが好ましい。このようにするこ
とで、下面において、X方向の窪みの端部で、Z方向における基材の厚みR2を厚くする
ことができるので基材の強度を向上させることができる。尚、本明細書で中央とは、±5
μm程度の変動は許容されるものとする。窪み16は、ドリルや、レーザー等の公知の方
法で形成することができる。下面において、中央の深さが最大である窪みは、先端が尖っ
たドリルにより容易に形成することができる。また、ドリルを用いることで、最深部が略
円錐形状であり、略円錐形状の底面の円形状から連続する略円柱形状を有する窪みを形成
することができる。窪みの一部をダイシング等により切断することで、最深部が略半円柱
形状であり、略半円形状から連続する略半円柱形状を有する窪みを形成することができる
。このようにすることで、図4Aに示すように、背面において、窪み16の開口形状を略
半円形状にすることができる。窪みの開口形状が角部のない略半円形状であることで窪み
に係る応力が集中することを抑制できるので、基材が割れることを抑制することができる
As shown in FIG. 3, on the lower surface of the base material, the depth R1 at the center of each of the plurality of recesses 16 is preferably the maximum depth of the recesses in the Z direction. By doing so, the thickness R2 of the base material in the Z direction can be increased at the end of the depression in the X direction on the lower surface, so that the strength of the base material can be improved. In this specification, the center is ±5
A variation of about μm is allowed. The depression 16 can be formed by a known method such as a drill or a laser. The depression having the maximum central depth on the lower surface can be easily formed by a drill having a sharp tip. Further, by using a drill, it is possible to form a recess having a substantially conical shape at the deepest portion and having a substantially cylindrical shape that is continuous from the circular shape of the bottom surface of the substantially conical shape. By cutting a part of the depression by dicing or the like, it is possible to form a depression having a substantially semi-cylindrical shape at the deepest portion and having a substantially semi-cylindrical shape continuous from the substantially semicircular shape. By doing so, as shown in FIG. 4A, the opening shape of the recess 16 can be made substantially semicircular on the back surface. Since the opening shape of the depression is a substantially semicircular shape without corners, the stress related to the depression can be prevented from being concentrated, so that the base material can be prevented from cracking.

背面において、複数の窪み16のそれぞれの形状は異なっていてもよく、図4Aに示す
ように、背面において、複数の窪み16のそれぞれの形状が同一であってもよい。複数の
窪みのそれぞれの形状が同一であることで、窪みの形状がそれぞれ異なる場合よりも窪み
の形成が容易になる。例えば、窪みをドリル工法により形成する場合では、複数の窪みの
それぞれの形状が同一であれば、1つのドリルにより窪みを形成することができる。尚、
本明細書で同一とは、±5μm程度の変動は許容されるものとする。
On the back surface, each of the plurality of depressions 16 may have different shapes, and on the back surface, each of the plurality of depressions 16 may have the same shape, as shown in FIG. 4A. Since the shapes of the plurality of depressions are the same, the formation of the depressions is easier than when the shapes of the depressions are different from each other. For example, in the case of forming the depression by the drilling method, if the plurality of depressions have the same shape, the depression can be formed by one drill. still,
In the present specification, “identical” means that a fluctuation of about ±5 μm is allowed.

図4Aに示すように、背面において複数の窪み16のそれぞれがY方向に平行な基材の
中心線C1に対して左右対称に位置することが好ましい。このようにすることで、発光装
置を支持基板に半田を介して接合される際にセルフアライメントが効果的に働き、発光装
置を支持基板に精度よく実装することができる。
As shown in FIG. 4A, it is preferable that each of the plurality of recesses 16 on the back surface be located symmetrically with respect to the center line C1 of the base material parallel to the Y direction. By doing so, self-alignment effectively works when the light emitting device is bonded to the supporting substrate via the solder, and the light emitting device can be mounted on the supporting substrate with high accuracy.

図2Bに示すように、基板10は基材11の背面112に配置される第3配線14を備
えていてもよい。また、基板10は、第1配線12と第3配線14とを電気的に接続する
ビア15を備えていてもよい。ビア15は基材11の正面111と背面112とを貫通す
る孔内に設けられる。ビア15は基材の貫通孔の表面を被覆する第4配線151と第4配
線151の内側に充填された充填部材152とを備える。充填部材152は、導電性でも
絶縁性でもよい。充填部材152には、樹脂材料を使用することが好ましい。一般的に硬
化前の樹脂材料は、硬化前の金属材料よりも流動性が高いので第4配線151の内側に充
填しやすい。このため、充填部材に樹脂材料を使用することで基板の製造が容易になる。
充填しやすい樹脂材料としては、例えばエポキシ樹脂が挙げられる。充填部材として樹脂
材料を用いる場合は、線膨張係数を下げるために添加部材を含有することが好ましい。こ
のようにすることで、第4配線の線膨張係数と充填部材の線膨張係数との差異が小さくな
るので、発光素子からの熱によって第4配線と充填部材との間に隙間ができることを抑制
できる。添加部材としては、例えば酸化ケイ素が挙げられる。また、充填部材152に金
属材料を使用した場合には、放熱性を向上させることができる。
As shown in FIG. 2B, the substrate 10 may include the third wiring 14 arranged on the back surface 112 of the base material 11. In addition, the substrate 10 may include a via 15 that electrically connects the first wiring 12 and the third wiring 14. The via 15 is provided in a hole penetrating the front surface 111 and the back surface 112 of the base material 11. The via 15 includes a fourth wiring 151 that covers the surface of the through hole of the base material and a filling member 152 that is filled inside the fourth wiring 151. The filling member 152 may be conductive or insulating. It is preferable to use a resin material for the filling member 152. In general, the resin material before curing has higher fluidity than the metal material before curing, and thus it is easy to fill the inside of the fourth wiring 151. Therefore, the use of the resin material for the filling member facilitates the manufacture of the substrate.
Examples of the resin material that can be easily filled include epoxy resin. When a resin material is used as the filling member, it is preferable to contain an addition member in order to reduce the linear expansion coefficient. By doing so, the difference between the linear expansion coefficient of the fourth wiring and the linear expansion coefficient of the filling member becomes small, so that it is possible to suppress the formation of a gap between the fourth wiring and the filling member due to heat from the light emitting element. it can. Examples of the addition member include silicon oxide. Further, when a metal material is used for the filling member 152, heat dissipation can be improved.

図2B及び図4Aに示すように、ビア15と窪み16とは接していてもよく、図4Bに
示す発光装置1001のように、ビア15と窪み16とは離間していてもよい。ビア15
と窪み16とが接することで、第4配線151と第2配線とが接することができるので発
光装置の放熱性を向上させることができる。ビア15と窪み16とが離間することで、ビ
ア15と窪み16とが接する場合よりも基材の強度を向上させることができる。
As shown in FIGS. 2B and 4A, the via 15 and the recess 16 may be in contact with each other, and as in the light emitting device 1001 shown in FIG. 4B, the via 15 and the recess 16 may be separated from each other. Beer 15
Since the fourth wiring 151 and the second wiring can be brought into contact with each other by contacting the recess 16 with each other, heat dissipation of the light emitting device can be improved. By separating the via 15 and the dent 16 from each other, the strength of the base material can be improved more than when the via 15 and the dent 16 are in contact with each other.

図2Bに示すように、発光素子20は、第1配線12上に配置される。発光装置100
0は、少なくとも1つの発光素子20を備えていればよい。発光素子20は、基板10と
対向する載置面と、載置面の反対側に位置する光取り出し面201を備える。発光素子2
0は少なくとも半導体積層体23を含み、半導体積層体23には素子電極21、22が設
けられている。発光素子20は、基板10にフリップチップ実装されていてもよい。これ
により、発光素子の素子電極に電気を供給するワイヤが不要になるので発光装置を小型化
することができる。発光素子20がフリップチップ実装されている場合は、発光素子20
の素子電極21、22が位置する電極形成面203と、反対側の面を光取り出し面201
とする。なお、本実施形態では発光素子20は素子基板24を有するが、素子基板24を
備えていなくてもよい。発光素子20が基板10にフリップチップ実装されている場合は
、発光素子の素子電極21、22が導電性接着部材60を介して第1配線12と電気的に
接続される。
As shown in FIG. 2B, the light emitting element 20 is arranged on the first wiring 12. Light emitting device 100
0 may include at least one light emitting element 20. The light emitting element 20 includes a mounting surface facing the substrate 10, and a light extraction surface 201 located on the opposite side of the mounting surface. Light emitting element 2
0 includes at least the semiconductor laminated body 23, and the semiconductor laminated body 23 is provided with the device electrodes 21 and 22. The light emitting element 20 may be flip-chip mounted on the substrate 10. As a result, a wire for supplying electricity to the element electrode of the light emitting element is not needed, so that the light emitting device can be downsized. When the light emitting element 20 is flip-chip mounted, the light emitting element 20
Of the electrode forming surface 203 on which the device electrodes 21 and 22 of FIG.
And Although the light emitting element 20 has the element substrate 24 in the present embodiment, the element substrate 24 may not be provided. When the light emitting element 20 is flip-chip mounted on the substrate 10, the element electrodes 21 and 22 of the light emitting element are electrically connected to the first wiring 12 via the conductive adhesive member 60.

発光素子20は、素子電極が位置する電極形成面と、反対側の面が基板に対向して配置
されてもよい。このようにする場合は、電極形成面が光取り出し面となる。発光装置は、
発光素子に電気を供給するために発光素子の素子電極と第1配線とを電気的に接合するワ
イヤを備えていてもよい。
The light emitting element 20 may be arranged such that the surface opposite to the electrode formation surface on which the element electrode is located faces the substrate. In this case, the electrode formation surface becomes the light extraction surface. The light emitting device is
A wire may be provided to electrically connect the element electrode of the light emitting element and the first wiring in order to supply electricity to the light emitting element.

発光素子20が基板10にフリップチップ実装されている場合は、図2B、図5に示す
ように、第1配線12が凸部121を備えていることが好ましい。上面視において、第1
配線12の凸部121は、発光素子20の素子電極21、22と重なる位置に位置する。
このようにすることで、導電性接着部材60として溶融性の接着剤を用いた場合に、第1
配線の凸部121と発光素子の素子電極21、22を接続する時に、セルフアライメント
効果により発光素子と基板との位置合わせを容易に行うことができる。
When the light emitting element 20 is flip-chip mounted on the substrate 10, it is preferable that the first wiring 12 includes the convex portion 121 as shown in FIGS. 2B and 5. In top view, the first
The convex portion 121 of the wiring 12 is located at a position overlapping the device electrodes 21 and 22 of the light emitting device 20.
By doing so, when a meltable adhesive is used as the conductive adhesive member 60,
When connecting the convex portion 121 of the wiring and the element electrodes 21 and 22 of the light emitting element, the light emitting element and the substrate can be easily aligned due to the self-alignment effect.

図2Bに示すように、発光装置1000は、発光素子20の素子側面202及び基材の
正面111を被覆する反射部材40を備えていてもよい。発光素子20の素子側面202
が反射部材に被覆されることで発光領域と非発光領域とのコントラストが高くなり、「見
切り性」の良好な発光装置とすることができる。
As shown in FIG. 2B, the light emitting device 1000 may include a reflection member 40 that covers the element side surface 202 of the light emitting element 20 and the front surface 111 of the base material. Element side surface 202 of light emitting element 20
By covering the reflective member with a light-emitting region, the contrast between the light-emitting region and the non-light-emitting region becomes high, and a light-emitting device having a good “partition property” can be obtained.

反射部材40の材料としては、例えば、母材中に白色顔料を含有させた部材を用いるこ
とができる。反射部材40の母材としては、樹脂を用いることが好ましく、例えば、シリ
コーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、又
はこれらの変性樹脂、などを用いることが好ましい。特に、反射部材40の母材として、
耐熱性及び耐光性に優れているシリコーン樹脂を用いることが好ましい。また、反射部材
40の母材として、シリコーン樹脂よりも硬度が高いエポキシ樹脂を用いてもよい。この
ようにすることで、発光装置の強度を向上させることができる。
As a material of the reflecting member 40, for example, a member in which a base material contains a white pigment can be used. As the base material of the reflecting member 40, it is preferable to use a resin, and for example, it is preferable to use a silicone resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polycarbonate resin, an acrylic resin, or a modified resin thereof. In particular, as the base material of the reflecting member 40,
It is preferable to use a silicone resin having excellent heat resistance and light resistance. Further, as the base material of the reflecting member 40, an epoxy resin having higher hardness than a silicone resin may be used. By doing so, the strength of the light emitting device can be improved.

反射部材40の白色顔料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム
、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カ
ルシウム、珪酸マグネシウム、チタン酸バリウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、
酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、などのうちの1種を単独で、又はこ
れらのうちの2種以上を組み合わせて用いることができる。白色顔料の形状は、適宜選択
でき、不定形若しくは破砕状でもよいが、流動性の観点からは、球形状であることが好ま
しい。また、白色顔料の粒径は、例えば、0.1μm以上0.5μm以下程度であること
が好ましいが、光反射性や被覆性の効果を高めるためには、白色顔料の粒径は、小さい程
好ましい。白色顔料の含有量は、適宜選択できるが、光反射性及び液状時における粘度な
どの観点から、例えば10wt%以上80wt%以下が好ましく、20wt%以上70w
t%以下がより好ましく、30wt%以上60wt%以下が更に好ましい。なお、「wt
%」とは、重量パーセントであり、反射部材の全重量に対する当該材料の重量の比率を表
す。
Examples of the white pigment of the reflecting member 40 include titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, magnesium carbonate, magnesium hydroxide, calcium carbonate, calcium hydroxide, calcium silicate, magnesium silicate, barium titanate, barium sulfate, and aluminum hydroxide. ,
One of aluminum oxide, zirconium oxide, silicon oxide, or the like can be used alone, or two or more of these can be used in combination. The shape of the white pigment can be appropriately selected and may be indefinite or crushed, but from the viewpoint of fluidity, it is preferably spherical. Further, the particle size of the white pigment is preferably, for example, about 0.1 μm or more and 0.5 μm or less. However, in order to enhance the effect of light reflectivity and covering property, the smaller the particle size of the white pigment, preferable. The content of the white pigment can be appropriately selected, but from the viewpoint of light reflectivity and viscosity in a liquid state, for example, 10 wt% to 80 wt% is preferable, and 20 wt% to 70 w.
t% or less is more preferable, and 30 wt% or more and 60 wt% or less is further preferable. In addition, "wt
"%" is a weight percentage and represents a ratio of the weight of the material to the total weight of the reflecting member.

図6に示すように、基材の下面114側に位置する反射部材40の長手方向の側面40
4は、Z方向において発光装置1000の内側に傾斜していることが好ましい。このよう
にすることで、発光装置1000を支持基板に実装する時に、反射部材40の側面404
と支持基板との接触が抑えられ、発光装置1000の実装姿勢が安定しやすい。基材の上
面113側に位置する反射部材40の長手方向の側面403は、Z方向において発光装置
1000の内側に傾斜していることが好ましい。このようにすることで、反射部材40の
側面と吸着ノズル(コレット)との接触が抑えられ、発光装置1000の吸着時の反射部
材40の損傷を抑制することができる。このように、下面114側に位置する反射部材4
0の長手方向の側面404及び上面113側に位置する反射部材40の長手方向の側面4
03は、Z方向において発光装置1000の内側に傾斜していることが好ましい。反射部
材40の傾斜角度θは、適宜選択できるが、このような効果の奏しやすさ及び反射部材4
0の強度の観点から、0.3°以上3°以下であることが好ましく、0.5°以上2°以
下であることがより好ましく、0.7°以上1.5°以下であることがよりいっそう好ま
しい。
As shown in FIG. 6, the longitudinal side surface 40 of the reflecting member 40 located on the lower surface 114 side of the base material.
4 is preferably inclined inward of the light emitting device 1000 in the Z direction. By doing so, when the light emitting device 1000 is mounted on the supporting substrate, the side surface 404 of the reflecting member 40 is mounted.
The contact between the light emitting device 1000 and the supporting substrate is suppressed, and the mounting posture of the light emitting device 1000 is easily stabilized. The longitudinal side surface 403 of the reflecting member 40 located on the upper surface 113 side of the base material is preferably inclined inward of the light emitting device 1000 in the Z direction. By doing so, the contact between the side surface of the reflecting member 40 and the suction nozzle (collet) is suppressed, and damage to the reflecting member 40 when the light emitting device 1000 is sucked can be suppressed. Thus, the reflecting member 4 located on the lower surface 114 side
0 in the longitudinal direction and side surface 4 in the longitudinal direction of the reflecting member 40 located on the upper surface 113 side.
03 is preferably inclined inward of the light emitting device 1000 in the Z direction. The inclination angle θ of the reflecting member 40 can be appropriately selected, but it is easy to achieve such effects and the reflecting member 4
From the viewpoint of strength of 0, it is preferably 0.3° or more and 3° or less, more preferably 0.5° or more and 2° or less, and 0.7° or more and 1.5° or less. Even more preferable.

図2Bに示すように、発光装置1000は、透光性部材30を備えていてもよい。透光
性部材30は、発光素子20上に位置することが好ましい。発光素子20上に透光性部材
30が位置することで、発光素子を外部応力から保護することができる。反射部材40は
、透光性部材30の側面を被覆することが好ましい。このようにすることで、発光領域と
非発光領域とのコントラストが高くなり、「見切り性」の良好な発光装置とすることがで
きる。
As shown in FIG. 2B, the light emitting device 1000 may include the translucent member 30. The transparent member 30 is preferably located on the light emitting element 20. Positioning the translucent member 30 on the light emitting element 20 can protect the light emitting element from external stress. The reflective member 40 preferably covers the side surface of the translucent member 30. By doing so, the contrast between the light emitting region and the non-light emitting region is increased, and a light emitting device having a good "partition property" can be obtained.

透光性部材30は、光取り出し面201に接していてもよく、図2Bに示すように、導
光部材50を介して光取り出し面201を被覆していてもよい。導光部材50は発光素子
の光取り出し面201と、透光性部材30の間のみに位置して発光素子20と透光性部材
30を固定してもよいし、発光素子の光取り出し面201から発光素子の素子側面202
まで被覆して発光素子20と透光性部材30を固定してもよい。導光部材50は、反射部
材40よりも発光素子からの光の透過率が高い。このため、導光部材が発光素子の側面ま
で被覆することで、発光素子の素子側面から出射される光が導光部材を通して発光装置の
外側に取り出しやすくなるので光取り出し効率を高めることができる。
The translucent member 30 may be in contact with the light extraction surface 201, or may cover the light extraction surface 201 via the light guide member 50 as shown in FIG. 2B. The light guide member 50 may be positioned only between the light extraction surface 201 of the light emitting element and the light transmissive member 30 to fix the light emitting element 20 and the light transmissive member 30, or the light extraction surface 201 of the light emitting element. From the element side surface 202 of the light emitting element
Alternatively, the light emitting element 20 and the translucent member 30 may be fixed by covering them. The light guide member 50 has a higher transmittance of light from the light emitting element than the reflection member 40. Therefore, by covering the side surface of the light emitting element with the light guide member, the light emitted from the side surface of the light emitting element can be easily extracted to the outside of the light emitting device through the light guide member, and thus the light extraction efficiency can be improved.

透光性部材30は、波長変換粒子を含有していてもよい。このようにすることで、発光
装置の色調整が容易になる。波長変換粒子は、発光素子20が発する一次光の少なくとも
一部を吸収して、一次光とは異なる波長の二次光を発する部材である。透光性部材30に
波長変換粒子を含有させることにより、発光素子が発する一次光と、波長変換粒子が発す
る二次光とが混色された混色光を出力することができる。例えば、発光素子20に青色L
EDを、波長変換粒子にYAG等の蛍光体を用いれば、青色LEDの青色光と、この青色
光で励起されて蛍光体が発する黄色光とを混合させて得られる白色光を出力する発光装置
を構成することができる。また、発光素子20に青色LEDを、波長変換粒子に緑色蛍光
体であるβサイアロン系蛍光体と、赤色蛍光体であるマンガン賦活フッ化物系蛍光体を用
いて白色光を出力する発光装置を構成してもよい。
The translucent member 30 may contain wavelength conversion particles. By doing so, color adjustment of the light emitting device becomes easy. The wavelength conversion particles are members that absorb at least a part of the primary light emitted by the light emitting element 20 and emit secondary light having a wavelength different from that of the primary light. By containing the wavelength conversion particles in the translucent member 30, it is possible to output mixed color light in which the primary light emitted by the light emitting element and the secondary light emitted by the wavelength conversion particles are mixed. For example, the light emitting element 20 has a blue L
If a fluorescent material such as YAG is used as the wavelength conversion particles for the ED, a light emitting device that outputs white light obtained by mixing the blue light of the blue LED with the yellow light emitted by the fluorescent material when excited by the blue light Can be configured. In addition, a blue LED is used for the light emitting element 20, a β-sialon-based fluorescent material that is a green fluorescent material, and a manganese-activated fluoride-based fluorescent material that is a red fluorescent material are used as wavelength conversion particles to configure a light emitting device that outputs white light. You may.

波長変換粒子は透光性部材中に均一に分散させてもよいし、透光性部材30の上面より
も発光素子の近傍に波長変換粒子を偏在させてもよい。透光性部材30の上面よりも発光
素子の近傍に波長変換粒子を偏在させることで、水分に弱い波長変換粒子を使用しても透
光性部材30の母材が保護層の機能を果たすので波長変換粒子の劣化を抑制できる。また
、図2Bに示すように、透光性部材30が波長変換粒子を含有する層31、32と、波長
変換粒子を実質的に含有しない層33と、を備えていてもよい。Z方向において、波長変
換粒子を実質的に含有しない層33は、波長変換粒子を含有する層31、32よりも上側
に位置する。このようにすることで、波長変換粒子を実質的に含有しない層33が保護層
の機能を果たすので波長変換粒子の劣化を抑制できる。水分に弱い波長変換粒子としては
、例えばマンガン賦活フッ化物蛍光体が挙げられる。マンガン賦活フッ化物系蛍光体は、
スペクトル線幅の比較的狭い発光が得られ色再現性の観点において好ましい部材である。
「波長変換粒子を実質的に含有しない」とは、不可避的に混入する波長変換粒子を排除し
ないことを意味し、波長変換粒子の含有率が0.05重量%以下であることが好ましい。
The wavelength conversion particles may be uniformly dispersed in the translucent member, or the wavelength conversion particles may be unevenly distributed in the vicinity of the light emitting element rather than the upper surface of the translucent member 30. Since the wavelength conversion particles are unevenly distributed in the vicinity of the light emitting element rather than the upper surface of the light transmissive member 30, the base material of the light transmissive member 30 functions as a protective layer even when the wavelength conversion particles weak in moisture are used. The deterioration of the wavelength conversion particles can be suppressed. Further, as shown in FIG. 2B, the translucent member 30 may include layers 31 and 32 containing wavelength conversion particles, and a layer 33 containing substantially no wavelength conversion particles. In the Z direction, the layer 33 that does not substantially contain the wavelength conversion particles is located above the layers 31 and 32 that contain the wavelength conversion particles. By doing so, since the layer 33 that does not substantially contain the wavelength conversion particles functions as a protective layer, deterioration of the wavelength conversion particles can be suppressed. Examples of the wavelength conversion particles that are weak against water include manganese-activated fluoride phosphor. The manganese-activated fluoride-based phosphor is
It is a preferable member from the viewpoint of color reproducibility, since light emission having a relatively narrow spectral line width is obtained.
“Substantially containing no wavelength conversion particles” means that wavelength conversion particles inevitably mixed are not excluded, and the content of the wavelength conversion particles is preferably 0.05% by weight or less.

透光性部材30の波長変換粒子を含有する層は単層でもよく、複数の層でもよい。例え
ば、図2Bに示すように透光性部材30が、第1波長変換層31と、第1波長変換層31
を被覆する第2波長変換層32と、を備えていてもよい。第2波長変換層32は、第1波
長変換層31を直接被覆してもよく、透光性の別の層を介して第1波長変換層31を被覆
してもよい。尚、第1波長変換層31は、第2波長変換層32よりも発光素子20の光取
り出し面201から近い位置に配置される。第1波長変換層31に含有される波長変換粒
子の発光ピーク波長は、第2波長変換層32に含有される波長変換粒子の発光ピーク波長
よりも短いことが好ましい。このようにすることで、発光素子に励起された第1波長変換
層31からの光によって、第2波長変換層32の波長変換粒子を励起することができる。
これにより、第2波長変換層32の波長変換粒子からの光を増加させることができる。
The layer containing the wavelength conversion particles of the translucent member 30 may be a single layer or a plurality of layers. For example, as shown in FIG. 2B, the translucent member 30 includes a first wavelength conversion layer 31 and a first wavelength conversion layer 31.
And a second wavelength conversion layer 32 that covers The second wavelength conversion layer 32 may directly cover the first wavelength conversion layer 31, or may cover the first wavelength conversion layer 31 via another transparent layer. The first wavelength conversion layer 31 is arranged closer to the light extraction surface 201 of the light emitting element 20 than the second wavelength conversion layer 32. The emission peak wavelength of the wavelength conversion particles contained in the first wavelength conversion layer 31 is preferably shorter than the emission peak wavelength of the wavelength conversion particles contained in the second wavelength conversion layer 32. By doing so, the wavelength conversion particles of the second wavelength conversion layer 32 can be excited by the light from the first wavelength conversion layer 31 excited by the light emitting element.
Thereby, the light from the wavelength conversion particles of the second wavelength conversion layer 32 can be increased.

第1波長変換層31に含有される波長変換粒子の発光ピーク波長は、500nm以上5
70nm以下であり、第2波長変換層32に含有される波長変換粒子の発光ピーク波長は
、610nm以上750nm以下であることが好ましい。このようにすることで、色再現
性の高い発光装置とすることができる。例えば、第1波長変換層31に含有される波長変
換粒子としてβサイアロン系蛍光体が挙げられ、第2波長変換層32に含有される波長変
換粒子としてマンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体が挙げられる。第2波長変換層3
2に含有される波長変換粒子としてマンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体を用いる場
合には、特に、透光性部材30が、第1波長変換層31と、第2波長変換層32と、備え
ることが好ましい。マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体は輝度飽和を起こしやすい
が、第2波長変換層32と発光素子20との間に第1波長変換層31が位置することで発
光素子からの光が過度にマンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体に照射されることを抑
制することができる。これにより、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体の劣化を抑
制することができる。
The emission peak wavelength of the wavelength conversion particles contained in the first wavelength conversion layer 31 is 500 nm or more and 5
It is preferably 70 nm or less, and the emission peak wavelength of the wavelength conversion particles contained in the second wavelength conversion layer 32 is preferably 610 nm or more and 750 nm or less. By doing so, a light emitting device with high color reproducibility can be obtained. For example, the wavelength conversion particles contained in the first wavelength conversion layer 31 may be a β-sialon-based phosphor, and the wavelength conversion particles contained in the second wavelength conversion layer 32 may be a phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate. To be Second wavelength conversion layer 3
When a phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate is used as the wavelength conversion particles contained in 2, the translucent member 30 particularly includes the first wavelength conversion layer 31 and the second wavelength conversion layer 32. It is preferable. Although the phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate easily causes luminance saturation, since the first wavelength conversion layer 31 is located between the second wavelength conversion layer 32 and the light emitting element 20, light from the light emitting element becomes excessive. Irradiation of the phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate can be suppressed. Thereby, the deterioration of the phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate can be suppressed.

透光性部材は、発光素子が発する一次光の少なくとも一部を吸収して、禁制遷移により
二次光を発する第1波長変換粒子と、発光素子が発する一次光の少なくとも一部を吸収し
て、許容遷移により二次光を発する第2波長変換粒子と、を備えていてもよい。一般的に
、禁制遷移により二次光を発する第1波長変換粒子は、許容遷移により二次光を発する第
2波長変換粒子より残光時間が長い。このため、透光性部材が第1波長変換粒子と、第2
波長変換粒子と、を備えることで、透光性部材が第1波長変換粒子のみを備えている場合
よりも残光時間を短くすることができる。例えば、第1波長変換粒子としては、マンガン
賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体(例えばKSiF:Mn)が挙げられ、第2波長変
換粒子としては、CASN系蛍光体が挙げられる。透光性部材がCASN系蛍光体と、マ
ンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体と、を含有することで、透光性部材がマンガン賦
活フッ化珪酸カリウムの蛍光体のみを含有する場合よりも残光時間を短くすることができ
る。また、一般的にマンガン賦活フッ化珪酸カリウムは、CASN系蛍光体よりも半値幅
が狭い発光ピークを有するので、色純度が高くなり色再現性が良好となる。このため、透
光性部材がCASN系蛍光体と、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体と、を含有す
ることで、透光性部材がCASN系蛍光体のみを含有する場合よりも色再現性が良好とな
る。
The translucent member absorbs at least a part of the primary light emitted by the light emitting element, absorbs at least a part of the primary light emitted by the light emitting element, and the first wavelength conversion particles that emit a secondary light by the forbidden transition. , A second wavelength conversion particle that emits secondary light due to the allowed transition. Generally, the first wavelength conversion particles that emit secondary light due to forbidden transition have a longer afterglow time than the second wavelength conversion particles that emit secondary light due to allowed transition. Therefore, the translucent member includes the first wavelength conversion particles and the second wavelength conversion particles.
By including the wavelength conversion particles, the afterglow time can be shortened as compared with the case where the translucent member includes only the first wavelength conversion particles. For example, as the first wavelength conversion particles, a phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate (for example, K 2 SiF 6 :Mn) can be used, and as the second wavelength conversion particles, a CASN-based phosphor can be used. Since the translucent member contains the CASN-based phosphor and the phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate, the translucent member has more residual than when the translucent member contains only the phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate. The light time can be shortened. In addition, manganese-activated potassium fluorosilicate generally has an emission peak having a narrower half-value width than that of the CASN-based phosphor, and therefore has high color purity and good color reproducibility. Therefore, when the translucent member contains the CASN-based phosphor and the phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate, the color reproducibility is higher than that when the translucent member contains only the CASN-based phosphor. Will be good.

例えば、透光性部材に含まれるマンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体の重量は、C
ASN系蛍光体の蛍光体の重量の0.5倍以上6倍以下が好ましく、1倍以上5倍以下が
より好ましく、2倍以上4倍以下が更に好ましい。マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍
光体の重量が増えることで発光装置の色再現性が良好となる。CASN系蛍光体の蛍光体
の重量が増えることで残光時間を短くすることができる。
For example, the weight of the phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate contained in the translucent member is C
The weight of the phosphor of the ASN-based phosphor is preferably 0.5 times or more and 6 times or less, more preferably 1 time or more and 5 times or less, still more preferably 2 times or more and 4 times or less. By increasing the weight of the phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate, the color reproducibility of the light emitting device is improved. The afterglow time can be shortened by increasing the weight of the phosphor of the CASN-based phosphor.

マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体の平均粒径は、5μm以上30μm以下であ
ることが好ましい。また、CASN系蛍光体の平均粒径は、5μm以上30μm以下であ
ることが好ましい。マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体及び/又はCASN系蛍光
体の平均粒径が30μm以下であることにより、発光素子からの光が波長変換粒子に拡散
されやすくなるので、発光装置の配光色度ムラを抑制することができる。マンガン賦活フ
ッ化珪酸カリウムの蛍光体及び/又はCASN系蛍光体の平均粒径が5μm以上であるこ
とにより、発光素子からの光を取り出しやすくなるので発光装置の光取り出し効率が向上
する。
The average particle size of the phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate is preferably 5 μm or more and 30 μm or less. The average particle size of the CASN-based phosphor is preferably 5 μm or more and 30 μm or less. When the average particle diameter of the manganese-activated potassium fluorosilicate phosphor and/or the CASN-based phosphor is 30 μm or less, the light from the light emitting element is easily diffused into the wavelength conversion particles. It is possible to suppress unevenness. When the average particle diameter of the phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate and/or the CASN-based phosphor is 5 μm or more, the light from the light emitting element can be easily extracted, so that the light extraction efficiency of the light emitting device is improved.

CASN系蛍光体と、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体とは、透光性部材の同
じ波長変換層に含有されていてもよく、透光性部材が複数の波長変換層を備える場合には
、異なる波長変換層に含有されていてもよい。マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体
とCASN系蛍光体とが異なる波長変換層に含有されている場合には、マンガン賦活フッ
化珪酸カリウムの蛍光体と、CASN系蛍光体と、で光のピーク波長が短い波長変換粒子
が発光素子に近くに位置することが好ましい。このようにすることで、光のピーク波長が
短い波長変換粒子からの光によって、光のピーク波長が長い波長変換粒子を励起すること
ができる。例えば、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体の光のピーク波長が631
nm付近でCASN系蛍光体の光のピーク波長が650nm付近である場合には、マンガ
ン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体が発光素子に近いことが好ましい。
The CASN-based phosphor and the manganese-activated potassium fluorosilicate phosphor may be contained in the same wavelength conversion layer of the translucent member, and when the translucent member includes a plurality of wavelength conversion layers. , May be contained in different wavelength conversion layers. When the manganese-activated potassium fluorosilicate phosphor and the CASN-based phosphor are contained in different wavelength conversion layers, the light peaks of the manganese-activated potassium fluorosilicate phosphor and the CASN-based phosphor are obtained. It is preferable that the wavelength conversion particles having a short wavelength are located near the light emitting device. By doing so, the wavelength conversion particles having a long light peak wavelength can be excited by the light from the wavelength conversion particles having a short light peak wavelength. For example, the peak wavelength of light of the phosphor of manganese activated potassium fluorosilicate is 631.
When the peak wavelength of light of the CASN-based phosphor is around 650 nm in the vicinity of nm, the phosphor of manganese-activated potassium fluorosilicate is preferably close to the light emitting element.

第2波長変換粒子としては、他にもSCASN系蛍光体、SLAN蛍光体(SrLiA
:Eu)等が挙げられる。例えば、透光性部材は、SLAN蛍光体と、マンガン
賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体と、を含有していてもよい。また、透光性部材が赤色蛍
光体である第1波長変換粒子及び第2波長変換粒子と、緑色蛍光体であるβサイアロン系
蛍光体と、を含有していてもよい。このようにすることで、発光装置の色再現性が良好に
なる。
As the second wavelength conversion particles, other SCASN-based phosphors, SLAN phosphors (SrLiA) are also used.
l 3 N 4 :Eu) and the like. For example, the translucent member may contain an SLAN phosphor and a manganese-activated potassium fluorosilicate phosphor. Further, the translucent member may contain first wavelength conversion particles and second wavelength conversion particles that are red phosphors, and β-sialon-based phosphors that are green phosphors. By doing so, the color reproducibility of the light emitting device is improved.

(支持基板を準備する)
図7A、図7Bに示すように、支持基材70と、支持基材70の上面701に接合領域
810を含む第1配線パターン81と、接合領域810を囲む絶縁領域811と、を備え
る支持基板5000を準備する。支持基材70とは、絶縁性の部材である。支持基板の接
合領域810とは、第1配線パターン81の一部であり、半田によって発光装置の第2配
線と接合される部分である。接合領域810を囲む絶縁領域811とは、図7Aに示すよ
うに支持基材70の上面701が外部に露出される場合には、支持基材70が上面701
に絶縁領域811を備えている。接合領域810が絶縁領域811に囲まれることで溶融
した半田が濡れ広がりを制御しやすくなる。これにより、セルフアライメント効果が大き
くなり、発光装置の実装性が向上する。一般的に溶融した半田は、支持基材上よりも第1
配線パターン上を濡れ広がりやすい。支持基材及び第1配線パターンは、公知の材料を用
いることができる。
(Preparing the support substrate)
As shown in FIGS. 7A and 7B, a support substrate including a supporting base material 70, a first wiring pattern 81 including a bonding area 810 on an upper surface 701 of the supporting base material 70, and an insulating area 811 surrounding the bonding area 810. Prepare 5000. The supporting base material 70 is an insulating member. The joining region 810 of the support substrate is a part of the first wiring pattern 81, and is a portion joined to the second wiring of the light emitting device by soldering. The insulating region 811 surrounding the bonding region 810 means that when the upper surface 701 of the supporting base material 70 is exposed to the outside as shown in FIG. 7A, the supporting base material 70 is the upper surface 701.
And an insulating region 811. By surrounding the bonding region 810 with the insulating region 811, it becomes easier to control the spread of the melted solder. This increases the self-alignment effect and improves the mountability of the light emitting device. Generally, molten solder is first
Easy to spread on the wiring pattern. Known materials can be used for the supporting base material and the first wiring pattern.

図7Bに示すように支持基板5000に示すように支持基材の下面に位置する第2配線パ
ターン82を備えていてもよい。支持基材の上面に位置する第1配線パターン81と、支
持基材の下面に位置する第2配線パターン82と、はビアによって電気的に接続されてい
てもよい。また、基板の上面に電気を給電する給電部85を備えている場合には、給電部
85と、第2配線パターン82と、がビアによって電気的に接続されていてもよい。
As shown in FIG. 7B, a second wiring pattern 82 may be provided on the lower surface of the supporting base material as shown in the supporting substrate 5000. The first wiring pattern 81 located on the upper surface of the supporting base material and the second wiring pattern 82 located on the lower surface of the supporting base material may be electrically connected by vias. Further, when the power supply portion 85 for supplying electricity is provided on the upper surface of the substrate, the power supply portion 85 and the second wiring pattern 82 may be electrically connected by vias.

図8A、図8Bに示すように、支持基板5001は、支持基材70の上面701及び第
1配線パターン81を被覆する絶縁層72を備えていてもよい。絶縁層72が第1配線パ
ターン81の接合領域810を囲んでいる場合には、絶縁層72が絶縁領域811を備え
ている。一般的に溶融した半田は、絶縁層上よりも第1配線パターン上を濡れ広がりやす
い。尚、第1配線パターンの接合領域を支持基材及び絶縁層で囲んでいる場合には、絶縁
領域を支持基材及び絶縁層が備えていてもよい。
As shown in FIGS. 8A and 8B, the support substrate 5001 may include an insulating layer 72 that covers the upper surface 701 of the support base 70 and the first wiring pattern 81. When the insulating layer 72 surrounds the bonding area 810 of the first wiring pattern 81, the insulating layer 72 includes the insulating area 811. Generally, the melted solder is more likely to wet and spread on the first wiring pattern than on the insulating layer. When the bonding region of the first wiring pattern is surrounded by the supporting base material and the insulating layer, the supporting base material and the insulating layer may include the insulating region.

(接合領域及び絶縁領域上に半田を配置する)
図9A、図9Bに示すように、絶縁領域811上に位置する半田90の体積が接合領域
810上に位置する半田90の体積よりも大きくなるように接合領域810及び絶縁領域
811上に半田90を配置する。このようにすることで、接合領域810上に位置する半
田90の体積を減少させることができる。これにより、後述する発光装置と支持基板とを
半田により接合する時に、溶融した半田が基材の下面と支持基板の上面との間に侵入する
ことを抑制することができる。このため、発光装置と、支持基板と、を接合した際に、基
材の下面と支持基板との上面との間に加熱溶融後の半田が形成されることを抑制できるの
で、支持基板に対して発光装置が傾くことを抑制することができる。
(Place solder on the bonding area and insulating area)
As shown in FIGS. 9A and 9B, the solder 90 on the bonding area 810 and the insulating area 811 is adjusted so that the volume of the solder 90 located on the insulating area 811 is larger than the volume of the solder 90 located on the bonding area 810. To place. By doing so, the volume of the solder 90 located on the bonding region 810 can be reduced. This can prevent molten solder from entering between the lower surface of the base material and the upper surface of the support substrate when the light emitting device and the support substrate to be described later are joined by solder. Therefore, when the light emitting device and the supporting substrate are joined, it is possible to suppress the formation of solder after heating and melting between the lower surface of the base material and the upper surface of the supporting substrate. It is possible to prevent the light emitting device from tilting.

図9Aに示すように、上面視における絶縁領域上811に位置する半田90の最大幅D
2が接合領域810上に位置する半田90の最大幅D1よりも広いことが好ましい。この
ようにすることで、絶縁領域811上に位置する半田90の体積が接合領域810上に位
置する半田90の体積よりも大きくしやすくなる。尚、本明細書において半田90の最大
幅とはX方向における半田の幅の最大値とする。
As shown in FIG. 9A, the maximum width D of the solder 90 located on the insulating region 811 in a top view.
2 is preferably wider than the maximum width D1 of the solder 90 located on the bonding area 810. By doing so, the volume of the solder 90 located on the insulating region 811 can be easily made larger than the volume of the solder 90 located on the bonding region 810. In this specification, the maximum width of the solder 90 is the maximum width of the solder in the X direction.

図9Bに示すように、断面視における絶縁領域上811に位置する半田90の上面と接
合領域810上に位置する半田90の上面とが面一でもよい。例えば、支持基板上に開口
部を有するメタルマスクを配置し、スクリーン印刷法により、メタルマスクの開口部に半
田を形成することで、絶縁領域上に位置する半田の上面と接合領域上に位置する半田の上
面とを面一にすることができる。尚、本明細書において面一とは、±5μm程度の変動は
許容されるものとする。
As shown in FIG. 9B, the upper surface of the solder 90 located on the insulating area 811 and the upper surface of the solder 90 located on the bonding area 810 may be flush with each other in a sectional view. For example, by arranging a metal mask having an opening on a support substrate and forming solder on the opening of the metal mask by a screen printing method, it is possible to position the upper surface of the solder on the insulating area and the solder on the bonding area. The upper surface of the solder can be flush with the upper surface. In the present specification, “flat” means that a variation of about ±5 μm is allowed.

断面視における絶縁領域上に位置する半田の最大厚みは、接合領域上に位置する半田の
最大厚みと同じでもよく、断面視における絶縁領域上に位置する半田の最大厚みは、接合
領域上に位置する半田の最大厚みよりも薄くてもよく、図9B、図9Cに示すように、断
面視における絶縁領域上811に位置する半田90の最大厚みD4が接合領域810上に
位置する半田90の最大の厚みD3よりも厚くてもよい。断面視における絶縁領域上81
1に位置する半田90の最大厚みD4が接合領域810上に位置する半田90の最大の厚
みD3よりも厚いことにより、絶縁領域811上に位置する半田90の体積が接合領域8
10上に位置する半田90の体積よりも大きくしやすくなる。例えば、上面視において、
絶縁領域上に位置する半田の面積が、接合領域上に位置する半田の面積よりも小さい場合
でも、断面視における絶縁領域上に位置する半田の最大厚みが接合領域上に位置する半田
の最大の厚みよりも厚くすることで、絶縁領域上に位置する半田の体積を接合領域810
上に位置する半田90の体積よりも大きくすることができる。尚、本明細書において半田
の最大厚みとはY方向における半田の厚みの最大値とする。
The maximum thickness of the solder located on the insulating region in the cross-sectional view may be the same as the maximum thickness of the solder located on the joining region, and the maximum thickness of the solder located on the insulating region in the cross-sectional view is located on the joining region. 9B and 9C, the maximum thickness D4 of the solder 90 located on the insulating area 811 in the cross-sectional view is the maximum of the solder 90 located on the bonding area 810, as shown in FIGS. 9B and 9C. May be thicker than the thickness D3. 81 on the insulating region in cross section
Since the maximum thickness D4 of the solder 90 located on 1 is thicker than the maximum thickness D3 of the solder 90 located on the bonding area 810, the volume of the solder 90 located on the insulating area 811 is increased.
It is easy to make the volume larger than the volume of the solder 90 located on 10. For example, in top view,
Even if the area of the solder located on the insulating area is smaller than the area of the solder located on the bonding area, the maximum thickness of the solder located on the insulating area in cross-sectional view is the maximum of the solder located on the bonding area. By making the solder thicker than the thickness, the volume of the solder located on the insulating region is increased.
It can be larger than the volume of the solder 90 located above. In this specification, the maximum thickness of the solder is the maximum value of the thickness of the solder in the Y direction.

図9Aに示すように、支持基板上に硬化前の接着樹脂92を形成してもよい。接着樹脂
92は発光装置と支持基板とを接着する部材と用いることができる。接着樹脂を備えるこ
とで発光装置と支持基板の接合強度を向上させることができる。Y方向における接着樹脂
の厚みは、発光素子と接すために後述する発光装置を支持基板に載置する時に基材の下面
と支持基材の上面までの距離よりも厚い。接着樹脂には、熱硬化性樹脂及び/又は熱可塑
性樹脂等の公知の樹脂を用いることができる。エポキシ樹脂やシリコーン樹脂等の熱硬化
性樹脂は、耐熱性および耐光性に優れているので接着樹脂に用いることが好ましい。接着
樹脂は接合領域から離間していてもよく、接合領域の一部と接していてもよい。接合領域
上には半田が形成されるので上面視において接着樹脂は接合領域から離間することが好ま
しい。接着樹脂が接合領域から離間することで、発光装置と支持基板とを半田により接合
する時に、溶融した半田が接合領域上を濡れ広がりやすくなる。図9Aに示すように、X
方向において1つの発光装置の第2配線と接合される一対の接合領域810の間に接着樹
脂92が位置していることが好ましい。発光装置の第2配線と、支持基板の接合領域と、
が半田によって接合されるので、X方向において発光装置の第2配線と接合される一対の
接合領域810の間に接着樹脂が位置していることで、発光装置の基材に係る応力を抑え
ることができる。
As shown in FIG. 9A, the adhesive resin 92 before curing may be formed on the supporting substrate. The adhesive resin 92 can be used as a member for adhering the light emitting device and the supporting substrate. By providing the adhesive resin, the bonding strength between the light emitting device and the supporting substrate can be improved. The thickness of the adhesive resin in the Y direction is thicker than the distance between the lower surface of the base material and the upper surface of the supporting base material when a light emitting device to be described later is mounted on the support substrate so as to be in contact with the light emitting element. A known resin such as a thermosetting resin and/or a thermoplastic resin can be used as the adhesive resin. Thermosetting resins such as epoxy resins and silicone resins have excellent heat resistance and light resistance and are therefore preferably used as the adhesive resin. The adhesive resin may be separated from the bonding area or may be in contact with part of the bonding area. Since solder is formed on the bonding area, it is preferable that the adhesive resin be separated from the bonding area in a top view. When the adhesive resin is separated from the bonding area, when the light emitting device and the support substrate are bonded by solder, the melted solder easily spreads over the bonding area. As shown in FIG. 9A, X
It is preferable that the adhesive resin 92 is located between the pair of joint regions 810 joined to the second wiring of one light emitting device in the direction. A second wiring of the light emitting device and a bonding region of the supporting substrate;
Are bonded by solder, the adhesive resin is located between the pair of bonding regions 810 to be bonded to the second wiring of the light emitting device in the X direction, thereby suppressing the stress related to the base material of the light emitting device. You can

支持基板上に硬化前の接着樹脂を形成する方法としては、例えば、ディスペンス又はピン
転写による塗布、インクジェット又はスプレーによる吹き付けなどが挙げられる。ディス
ペンス等で接着樹脂を形成する場合は、図9Aに示すように、接着樹脂92が1点塗布さ
れていてもよく、図9D、図9Eに示すように、接着樹脂92が複数点塗布されていても
よい。また、図9Fに示すように複数点塗布された接着樹脂が繋がっていてもよい。また
、接着樹脂92が複数点塗布されている場合には、Z方向に複数の接着樹脂が並ぶように
形成してもよく、図9Dに示すようにX方向に複数の接着樹脂が並ぶように形成してもよ
い。
Examples of the method for forming the adhesive resin before curing on the supporting substrate include application by dispensing or pin transfer, spraying by inkjet or spray, and the like. When the adhesive resin is formed by dispensing or the like, one point of the adhesive resin 92 may be applied as shown in FIG. 9A, or a plurality of points of the adhesive resin 92 may be applied as shown in FIGS. 9D and 9E. May be. Further, as shown in FIG. 9F, adhesive resin applied at a plurality of points may be connected. Further, when the adhesive resin 92 is applied at a plurality of points, it may be formed so that the plurality of adhesive resins are arranged in the Z direction, and as shown in FIG. 9D, the plurality of adhesive resins are arranged in the X direction. You may form.

(発光装置を支持基板に載置する)
図10A、図10Bに示すように、上面視において、半田90と、基材の下面114近
傍に位置する第2配線13と、を離間させて発光装置1000を支持基板5000に載置
する。本明細書において、基材の下面近傍に位置する第2配線とは、基材の下面114と
面一である第2配線13の部分を意味する。半田90と、基材の下面114近傍に位置す
る第2配線13と、を離間させて発光装置を支持基板に載置することで、発光装置と支持
基板とを半田により接合する時に、溶融した半田が基材の下面と支持基板の上面との間に
侵入することを抑制することができる。これにより、後述する発光装置と、支持基板と、
を接合した際に、基材の下面と支持基板との上面との間に加熱溶融後の半田が形成される
ことを抑制できるので、支持基板に対して発光装置が傾くことを抑制することができる。
また、半田90と、基材の下面114近傍に位置する第2配線13と、を離間させて発光
装置1000を支持基板5000に載置する時に、基材の下面114と支持基板の上面と
の間に加熱溶融前の半田は位置していない。
(Place the light emitting device on the support substrate)
As shown in FIGS. 10A and 10B, in a top view, the solder 90 and the second wiring 13 located near the lower surface 114 of the base material are separated from each other, and the light emitting device 1000 is mounted on the support substrate 5000. In this specification, the second wiring located near the lower surface of the base material means a portion of the second wiring 13 that is flush with the lower surface 114 of the base material. By mounting the light emitting device on the supporting substrate with the solder 90 and the second wiring 13 located near the lower surface 114 of the base material separated from each other, the light emitting device and the supporting substrate are melted when they are joined by solder. It is possible to prevent the solder from entering between the lower surface of the base material and the upper surface of the support substrate. Thereby, the light emitting device described later, the support substrate,
Since it is possible to suppress the formation of solder after heating and melting between the lower surface of the base material and the upper surface of the support substrate when the are joined, it is possible to prevent the light emitting device from tilting with respect to the support substrate. it can.
Further, when the light emitting device 1000 is mounted on the supporting substrate 5000 with the solder 90 and the second wiring 13 located near the lower surface 114 of the substrate being separated from each other, the lower surface 114 of the substrate and the upper surface of the supporting substrate are separated from each other. There is no solder before heating and melting.

図10Bに示すように、断面視において半田90と、第2配線13と、は離間していても
よく、図10Cに示すように、断面視において半田90と、基材の下面114近傍以外に
位置する第2配線13の少なくとも一部と、は接していてもよい。基材の下面114近傍
以外に位置する第2配線13とは、基材の下面114と面一でない第2配線13の部分の
ことである。つまり、半田90と、基材の下面114と面一でない第2配線13の少なく
とも一部と、が接していてもよい。
As shown in FIG. 10B, the solder 90 and the second wiring 13 may be separated from each other in a sectional view, and as shown in FIG. 10C, the solder 90 and the second wiring 13 may be apart from the vicinity of the bottom surface 114 of the base material. At least a part of the second wiring 13 located may be in contact with each other. The second wiring 13 located outside the lower surface 114 of the base material is a portion of the second wiring 13 that is not flush with the lower surface 114 of the base material. That is, the solder 90 may be in contact with at least a part of the second wiring 13 that is not flush with the lower surface 114 of the base material.

図9Aに示すように、支持基板上に硬化前の接着樹脂92を形成している場合には、硬
化前の接着樹脂と発光装置の一部とが接するように発光装置を支持基板に載置する。この
ようにすることで、発光装置と支持基板を硬化後の接着樹脂でも固定できるので発光装置
と支持基板の接合強度が向上する。接着樹脂の位置は特に限定されない。例えば、図10
Aに示すように基材の複数の窪み16の間に接着樹脂92が位置していてもよい。基板1
0の複数の窪みにそれぞれ配置される第2配線13と、支持基板の配線パターンの接合領
域と、が半田によって接合されるので、基材の複数の窪み16の間に接着樹脂92が位置
することで、発光装置の基材に係る応力を抑えることができる。また、図10Aに示すよ
うに、上面視において、基材の正面111と接着樹脂92の外縁の最短距離が、基材の正
面111と半田90の外縁の最短距離よりも短いことが好ましい。このようにすることで
、接着樹脂92によって基材の正面111側と支持基板とを接合することができるので、
発光装置と支持基板の接合強度が向上する。尚、硬化前の接着樹脂を付けた発光装置を支
持基板に載置してもよい。
As shown in FIG. 9A, when the uncured adhesive resin 92 is formed on the support substrate, the light emitting device is placed on the support substrate so that the uncured adhesive resin 92 and a part of the light emitting device are in contact with each other. To do. By doing so, the light emitting device and the supporting substrate can be fixed with the adhesive resin after curing, so that the bonding strength between the light emitting device and the supporting substrate is improved. The position of the adhesive resin is not particularly limited. For example, in FIG.
As shown in A, the adhesive resin 92 may be located between the plurality of depressions 16 of the base material. Board 1
Since the second wiring 13 arranged in each of the plurality of dents 0 and the joining region of the wiring pattern of the support substrate are joined by solder, the adhesive resin 92 is located between the plurality of dents 16 of the base material. As a result, the stress applied to the base material of the light emitting device can be suppressed. Further, as shown in FIG. 10A, it is preferable that the shortest distance between the front surface 111 of the base material and the outer edge of the adhesive resin 92 is shorter than the shortest distance between the front surface 111 of the base material and the outer edge of the solder 90 in a top view. By doing so, since the front surface 111 side of the base material and the supporting substrate can be bonded by the adhesive resin 92,
The bonding strength between the light emitting device and the support substrate is improved. The light emitting device to which the adhesive resin before curing is attached may be mounted on the supporting substrate.

上面視における接着樹脂の大きさは特に限定されないが、上面視においてZ方向におけ
る接着樹脂の最大の幅D5が、Z方向における発光装置の最大の幅D6の0.2倍から0
.7倍であることが好ましい。上面視においてZ方向における接着樹脂の最大の幅D5が
、Z方向における発光装置の最大の幅D6の0.2倍以上であることで接着樹脂の体積が
増えるので発光装置と支持基板との接合強度が向上する。上面視においてZ方向における
接着樹脂の最大の幅D5が、Z方向における発光装置の最大の幅D6の0.7倍以下であ
ることで接着樹脂が接合領域上に形成されにくくすることができる。
The size of the adhesive resin in the top view is not particularly limited, but the maximum width D5 of the adhesive resin in the Z direction in the top view is 0.2 to 0 times the maximum width D6 of the light emitting device in the Z direction.
. It is preferably 7 times. Since the maximum width D5 of the adhesive resin in the Z direction in the top view is 0.2 times or more the maximum width D6 of the light emitting device in the Z direction, the volume of the adhesive resin increases, so that the light emitting device and the support substrate are bonded together. Strength is improved. When the maximum width D5 of the adhesive resin in the Z direction in the top view is 0.7 times or less than the maximum width D6 of the light emitting device in the Z direction, the adhesive resin can be less likely to be formed on the bonding region.

上面視において、窪みの最大幅が接合領域の最大幅よりも狭いことが好ましい。このよ
うにすることで、上面視において、接合領域上に位置する第2配線の面積を大きくしやす
くなる。尚、窪みの最大幅とはX方向における窪みの幅の最大値であり、接合領域の最大
幅とはX方向における接合領域の幅の最大値である。
It is preferable that the maximum width of the recess is narrower than the maximum width of the bonding region in a top view. By doing so, it becomes easy to increase the area of the second wiring located on the bonding region in a top view. The maximum width of the depression is the maximum width of the depression in the X direction, and the maximum width of the bonding area is the maximum width of the bonding area in the X direction.

(発光装置の第2配線と支持基板の接合部とを接合する)
図11に示すように、半田90を加熱溶融し、発光装置の第2配線13と、支持基板50
00の接合領域810と、を接合する。溶融された半田は、濡れ広がりやすい接合領域8
10上に集まる。これにより、接合領域上に位置する加熱溶融後の半田の体積は、絶縁領
域上に位置する加熱溶融後の半田の体積よりも大きくすることができる。接合領域上に位
置する加熱溶融後の半田の体積が大きいことで、第2配線13と、接合領域810と、が
半田によって接合されやすくなる。これにより、発光装置と支持基板の接合強度が向上す
る。加熱溶融後の半田は、基材の下面と、支持基板の上面と、の間に形成されにくいので
、支持基板に対して発光装置が傾いて接合されることを抑制できる。図11に示すように
、加熱溶融後の半田の全てが接合領域上に位置することが好ましい。
(Joining the second wiring of the light emitting device and the joining portion of the supporting substrate)
As shown in FIG. 11, the solder 90 is heated and melted, and the second wiring 13 of the light emitting device and the support substrate 50 are formed.
No. 00 bonding region 810 is bonded. The melted solder is likely to spread in the bonding area 8
Gather on top 10. Thereby, the volume of the solder after heating and melting located on the joining region can be made larger than the volume of the solder after heating and melting located on the insulating region. Since the volume of the solder after heating and melting located on the bonding region is large, the second wiring 13 and the bonding region 810 are easily bonded by the solder. This improves the bonding strength between the light emitting device and the support substrate. Since the solder after heating and melting is less likely to be formed between the lower surface of the base material and the upper surface of the support substrate, it is possible to prevent the light emitting device from being inclined and joined to the support substrate. As shown in FIG. 11, it is preferable that all of the solder after heating and melting be located on the joint region.

支持基板上に硬化前の接着樹脂を形成している場合には、発光装置の第2配線と、支持
基板5000の接合領域810と、を接合するために半田を加熱溶融する時に接着樹脂を
硬化してもよい。このようにすることで、光源装置を製造する時間を短縮することができ
る。
When the adhesive resin before being cured is formed on the support substrate, the adhesive resin is cured when the solder is heated and melted to join the second wiring of the light emitting device and the joining region 810 of the support substrate 5000. You may. By doing so, the time for manufacturing the light source device can be shortened.

以上、説明したように上述の各工程を行うことにより、光源装置1000Aを製造する
ことができる。
As described above, the light source device 1000A can be manufactured by performing the above-described steps.

<実施形態2>
実施形態2に係る光源装置の製造方法について説明する。実施形態2の光源装置の製造
方法は、実施形態1の光源装置の製造方法とは、発光装置を準備する工程が異なる点以外
は同様である。
<Embodiment 2>
A method of manufacturing the light source device according to the second embodiment will be described. The method of manufacturing the light source device of the second embodiment is the same as the method of manufacturing the light source device of the first embodiment except that the steps of preparing the light emitting device are different.

図13B示すように、基板10と、複数の発光素子と、を備える発光装置2000を準
備する。実施形態1の発光装置と同様に基板10は、基材11と、第1配線12と、第2
配線13と、を備える。実施形態1の発光装置は発光素子が1つであったが、実施形態2
の発光装置2000は、第1発光素子20Aと、第2発光素子20Bの複数の発光素子を
備える。尚、第1発光素子及び/又は第2発光素子を発光素子と呼ぶことがある。第1発
光素子と、第2発光素子の発光ピーク波長は同じでもよく、異なっていてもよい。例えば
、第1発光素子と、第2発光素子の発光ピーク波長が同じ場合は、第1発光素子と第2発
光素子の発光のピーク波長が430nm以上490nm未満の範囲(青色領域の波長範囲
)であってもよい。また、第1発光素子と、第2発光素子の発光ピーク波長が異なる場合
は、発光のピーク波長が430nm以上490nm未満の範囲(青色領域の波長範囲)に
ある第1発光素子と、発光のピーク波長が490nm以上570nm以下の範囲(緑色領
域の波長範囲)にある第2発光素子と、であってもよい。このようにすることで発光装置
の色再現性を向上させることができる。尚、発光ピーク波長が同じとは±10nm程度の
変動は許容されるものとする。
As shown in FIG. 13B, a light emitting device 2000 including the substrate 10 and a plurality of light emitting elements is prepared. Like the light emitting device of the first embodiment, the substrate 10 includes a base material 11, a first wiring 12, and a second wiring.
The wiring 13 is provided. The light emitting device of Embodiment 1 has one light emitting element, but Embodiment 2
The light emitting device 2000 includes a plurality of light emitting elements, a first light emitting element 20A and a second light emitting element 20B. The first light emitting element and/or the second light emitting element may be referred to as a light emitting element. The emission peak wavelengths of the first light emitting element and the second light emitting element may be the same or different. For example, when the emission peak wavelengths of the first light emitting element and the second light emitting element are the same, the peak emission wavelengths of the first light emitting element and the second light emitting element are in the range of 430 nm or more and less than 490 nm (wavelength range of blue region). It may be. When the emission peak wavelengths of the first light emitting element and the second light emitting element are different, the first light emitting element whose emission peak wavelength is in the range of 430 nm or more and less than 490 nm (wavelength range of blue region) and the emission peak wavelength The second light emitting element may have a wavelength in the range of 490 nm or more and 570 nm or less (the wavelength range of the green region). By doing so, the color reproducibility of the light emitting device can be improved. In addition, if the emission peak wavelength is the same, a fluctuation of about ±10 nm is allowed.

図13Bに示すように、第1発光素子20A及び第2発光素子20Bを被覆する透光性
部材30を備えていてもよい。発光装置2000が、第1発光素子20Aの第1光取り出
し面201A及び第2発光素子20Bの第2光取り出し面201Bを被覆する透光性部材
30を備えることにより、第1発光素子と第2発光素子の間の輝度ムラを抑制することが
できる。また、第1発光素子及び第2発光素子の発光ピーク波長が異なる場合には、第1
発光素子からの光と、第2発光素子からの光が導光部材に導光されることで、発光装置の
混色性を向上させることができる。
As shown in FIG. 13B, a translucent member 30 that covers the first light emitting element 20A and the second light emitting element 20B may be provided. Since the light emitting device 2000 includes the translucent member 30 that covers the first light extraction surface 201A of the first light emitting element 20A and the second light extraction surface 201B of the second light emitting element 20B, the first light emitting element and the second light emitting element 20 are provided. It is possible to suppress uneven brightness between the light emitting elements. If the emission peak wavelengths of the first light emitting element and the second light emitting element are different,
By guiding the light from the light emitting element and the light from the second light emitting element to the light guide member, the color mixing property of the light emitting device can be improved.

図13Bに示すように、導光部材50が第1発光素子20Aの第1素子側面202A及
び第2発光素子20Bの第2素子側面202Bを連続して被覆してもよい。このようにす
ることで、第1発光素子と第2発光素子の間の輝度ムラを抑制することができる。
As shown in FIG. 13B, the light guide member 50 may continuously cover the first element side surface 202A of the first light emitting element 20A and the second element side surface 202B of the second light emitting element 20B. By doing so, it is possible to suppress uneven brightness between the first light emitting element and the second light emitting element.

図12B、図13Bに示すように、発光装置2000は、第3配線14の一部を被覆す
る絶縁膜18を備えてもよい。絶縁膜18を備えることで、背面における絶縁性の確保及
び短絡の防止を図ることができる。また、絶縁膜18を備えることにより、基材から第3
配線が剥がれることを防止することができる。
As shown in FIGS. 12B and 13B, the light emitting device 2000 may include an insulating film 18 that covers a part of the third wiring 14. By providing the insulating film 18, it is possible to secure insulation on the back surface and prevent short circuits. In addition, since the insulating film 18 is provided,
It is possible to prevent the wiring from coming off.

図14に示す発光装置2001のように第1発光素子20Aを被覆する第1透光性部材3
0Aと、第2発光素子20Bを被覆する第2透光性部材30Bとを、備えていてもよい。
第1透光性部材と、第2透光性部材に含まれている波長変換粒子は同じでもよく、異なっ
ていてもよい。発光のピーク波長が430nm以上490nm未満の範囲(青色領域の波
長範囲)にある第1発光素子と、発光のピーク波長が490nm以上570nm以下の範
囲(緑色領域の波長範囲)にある第2発光素子と、を備える場合には、第1透光性部材3
0Aに赤色蛍光体を含有し、第2透光性部材30Bには波長変換粒子を実質的に含有させ
なくてもよい。このようにすることで、発光装置の色再現性を向上させることができる。
また、第2発光素子からの光は波長変換粒子に遮られないので発光装置の光取り出し効率
が向上する。第1透光性部材に含有させる赤色蛍光体としてはマンガン賦活フッ化物系蛍
光体等が挙げられる。
A first light-transmissive member 3 that covers the first light emitting element 20A as in the light emitting device 2001 shown in FIG.
0A and the 2nd translucent member 30B which coat|covers the 2nd light emitting element 20B may be provided.
The wavelength conversion particles contained in the first translucent member and the second translucent member may be the same or different. A first light emitting element having an emission peak wavelength in the range of 430 nm to less than 490 nm (blue wavelength range) and a second light emitting element having an emission peak wavelength of 490 nm to 570 nm inclusive (green wavelength range) And, the first translucent member 3
0A may contain a red fluorescent substance, and the 2nd translucent member 30B does not need to contain a wavelength conversion particle substantially. By doing so, the color reproducibility of the light emitting device can be improved.
Further, since the light from the second light emitting element is not blocked by the wavelength conversion particles, the light extraction efficiency of the light emitting device is improved. Examples of the red phosphor contained in the first translucent member include manganese activated fluoride phosphor.

以下、本発明の一実施形態に係る発光装置における各構成要素について説明する。 Hereinafter, each component of the light emitting device according to the embodiment of the present invention will be described.

(基板10)
基板10は、発光素子を載置する部材である。基板10は、少なくとも、基材11と、
第1配線12と、第2配線13と、を備えている。
(Substrate 10)
The substrate 10 is a member on which the light emitting element is placed. The substrate 10 includes at least the base material 11,
The first wiring 12 and the second wiring 13 are provided.

(基材11)
基材11は、樹脂若しくは繊維強化樹脂、セラミックス、ガラスなどの絶縁性部材を用
いて構成することができる。樹脂若しくは繊維強化樹脂としては、エポキシ、ガラスエポ
キシ、ビスマレイミドトリアジン(BT)、ポリイミドなどが挙げられる。セラミックス
としては、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ジルコニウム
、酸化チタン、窒化チタン、若しくはこれらの混合物などが挙げられる。これらの基材の
うち、特に発光素子の線膨張係数に近い物性を有する基材を使用することが好ましい。基
材の厚さの下限値は、適宜選択できるが、基材の強度の観点から、0.05mm以上であ
ることが好ましく、0.2mm以上であることがより好ましい。また、基材の厚さの上限
値は、発光装置の厚さ(奥行き)の観点から、0.5mm以下であることが好ましく、0
.4mm以下であることがより好ましい。
(Base material 11)
The base material 11 can be configured using an insulating member such as resin or fiber reinforced resin, ceramics, or glass. Examples of the resin or fiber reinforced resin include epoxy, glass epoxy, bismaleimide triazine (BT), and polyimide. Examples of ceramics include aluminum oxide, aluminum nitride, zirconium oxide, zirconium nitride, titanium oxide, titanium nitride, and mixtures thereof. Among these base materials, it is preferable to use a base material having physical properties close to the linear expansion coefficient of the light emitting element. The lower limit of the thickness of the base material can be appropriately selected, but from the viewpoint of the strength of the base material, it is preferably 0.05 mm or more, and more preferably 0.2 mm or more. Further, the upper limit of the thickness of the base material is preferably 0.5 mm or less from the viewpoint of the thickness (depth) of the light emitting device, and 0
. It is more preferably 4 mm or less.

(第1配線12)
第1配線は、基材の正面に配置され、発光素子と電気的に接続される。第1配線は、銅
、鉄、ニッケル、タングステン、クロム、アルミニウム、銀、金、チタン、パラジウム、
ロジウム、又はこれらの合金で形成することができる。これらの金属又は合金の単層でも
多層でもよい。特に、放熱性の観点においては銅又は銅合金が好ましい。また、第1配線
の表層には、溶融性の導電性接着部材の濡れ性及び/若しくは光反射性などの観点から、
銀、白金、アルミニウム、ロジウム、金若しくはこれらの合金などの層が設けられていて
もよい。
(First wiring 12)
The first wiring is arranged in front of the base material and electrically connected to the light emitting element. The first wiring is copper, iron, nickel, tungsten, chromium, aluminum, silver, gold, titanium, palladium,
It can be formed of rhodium or an alloy thereof. The metal or alloy may be a single layer or a multilayer. In particular, copper or copper alloy is preferable from the viewpoint of heat dissipation. Further, the surface layer of the first wiring, from the viewpoint of wettability and/or light reflectivity of the fusible conductive adhesive member,
A layer of silver, platinum, aluminum, rhodium, gold, or an alloy thereof may be provided.

(第2配線13)
第2配線は、第1配線と電気的に接続され、基材の窪みの内壁を被覆する部材である。
第2配線は、第1配線と同様の導電性部材を用いることができる。
(Second wiring 13)
The second wiring is a member that is electrically connected to the first wiring and covers the inner wall of the recess of the base material.
The same conductive member as the first wiring can be used for the second wiring.

(発光素子20(第1発光素子、第2発光素子))
発光素子は、電圧を印加することで自ら発光する半導体素子であり、窒化物半導体等か
ら構成される既知の半導体素子を適用できる。発光素子としては、例えばLEDチップが
挙げられる。発光素子は、少なくとも半導体層を備え、多くの場合に素子基板をさらに備
える。発光素子は、素子電極を有する。素子電極は、金、銀、錫、白金、ロジウム、チタ
ン、アルミニウム、タングステン、パラジウム、ニッケル又はこれらの合金で構成するこ
とができる。半導体材料としては、窒化物半導体を用いることが好ましい。窒化物半導体
は、主として一般式InAlGa1−x−yN(0≦x、0≦y、x+y≦1)で表
される。このほか、InAlGaAs系半導体、InAlGaP系半導体、硫化亜鉛、セ
レン化亜鉛、炭化珪素などを用いることもできる。発光素子の素子基板は、主として半導
体積層体を構成する半導体の結晶を成長可能な結晶成長用基板であるが、結晶成長用基板
から分離した半導体素子構造に接合させる接合用基板であってもよい。素子基板が透光性
を有することで、フリップチップ実装を採用しやすく、また光の取り出し効率を高めやす
い。素子基板の母材としては、サファイア、窒化ガリウム、窒化アルミニウム、シリコン
、炭化珪素、ガリウム砒素、ガリウム燐、インジウム燐、硫化亜鉛、酸化亜鉛、セレン化
亜鉛、ダイヤモンドなどが挙げられる。なかでも、サファイアが好ましい。素子基板の厚
さは、適宜選択でき、例えば0.02mm以上1mm以下であり、素子基板の強度及び/
若しくは発光装置の厚さの観点において、0.05mm以上0.3mm以下であることが
好ましい。
(Light emitting element 20 (first light emitting element, second light emitting element))
The light emitting element is a semiconductor element that emits light by applying a voltage, and a known semiconductor element made of a nitride semiconductor or the like can be applied. Examples of the light emitting element include an LED chip. The light emitting device includes at least a semiconductor layer and often further includes a device substrate. The light emitting element has an element electrode. The device electrode can be made of gold, silver, tin, platinum, rhodium, titanium, aluminum, tungsten, palladium, nickel, or an alloy thereof. A nitride semiconductor is preferably used as the semiconductor material. Nitride semiconductor is represented by mainly general formula In x Al y Ga 1-x -y N (0 ≦ x, 0 ≦ y, x + y ≦ 1). In addition, InAlGaAs based semiconductors, InAlGaP based semiconductors, zinc sulfide, zinc selenide, silicon carbide and the like can be used. The element substrate of the light emitting element is mainly a crystal growth substrate capable of growing semiconductor crystals that form a semiconductor laminated body, but may be a bonding substrate for bonding to a semiconductor element structure separated from the crystal growth substrate. .. Since the element substrate has a light-transmitting property, flip-chip mounting can be easily adopted and light extraction efficiency can be easily improved. Examples of the base material of the element substrate include sapphire, gallium nitride, aluminum nitride, silicon, silicon carbide, gallium arsenide, gallium phosphide, indium phosphide, zinc sulfide, zinc oxide, zinc selenide, diamond and the like. Of these, sapphire is preferred. The thickness of the element substrate can be appropriately selected, and is, for example, 0.02 mm or more and 1 mm or less, and the strength and//
Alternatively, from the viewpoint of the thickness of the light emitting device, it is preferably 0.05 mm or more and 0.3 mm or less.

(反射部材40)
反射部材は、発光素子20の素子側面202及び基材の正面111を被覆し、「見切り
性」の良好な発光装置とする部材である。発光素子の発光ピーク波長における反射部材の
光反射率は、70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、
90%以上であることがよりいっそう好ましい。例えば、反射部材は、樹脂に白色顔料を
含有させた部材を用いることができる。
(Reflecting member 40)
The reflecting member is a member that covers the element side surface 202 of the light emitting element 20 and the front surface 111 of the base material to form a light emitting device having a good “partition property”. The light reflectance of the reflecting member at the light emission peak wavelength of the light emitting element is preferably 70% or more, more preferably 80% or more,
It is even more preferably 90% or more. For example, as the reflecting member, a member in which a resin contains a white pigment can be used.

(透光性部材30)
透光性部材は発光素子の光取り出し面を被覆し、発光素子を保護する透光性の部材であ
る。透光性部材の材料として、例えば、樹脂を用いることができる。透光性部材に用いる
ことができる樹脂としては、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂、又はこれらの変性樹脂が挙げられる。透光性部材の材料と
して、エポキシ樹脂を用いることでシリコーン樹脂を用いた場合より発光装置の強度を向
上させることができるので好ましい。また、シリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂は、
耐熱性及び耐光性に優れているので好ましい。透光性部材は、波長変換粒子及び/又は拡
散粒子を含有していてもよい。
(Translucent member 30)
The translucent member is a translucent member that covers the light extraction surface of the light emitting element and protects the light emitting element. As the material of the translucent member, for example, resin can be used. Examples of the resin that can be used for the translucent member include silicone resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, acrylic resin, and modified resins thereof. It is preferable to use an epoxy resin as the material of the translucent member because the strength of the light emitting device can be improved as compared with the case of using a silicone resin. Further, the silicone resin and the modified silicone resin are
It is preferable because it has excellent heat resistance and light resistance. The translucent member may contain wavelength conversion particles and/or diffusion particles.

(波長変換粒子)
波長変換粒子は、発光素子が発する一次光の少なくとも一部を吸収して、一次光とは異
なる波長の二次光を発する。波長変換粒子は、以下に示す具体例のうちの1種を単独で、
又は2種以上を組み合わせて用いることができる。透光性部材が複数の波長変換層を備え
る場合には、各波長変換層に含有される波長変換粒子は同じでもよく、異なっていてもよ
い。
(Wavelength conversion particles)
The wavelength conversion particles absorb at least a part of the primary light emitted by the light emitting element and emit secondary light having a wavelength different from that of the primary light. The wavelength conversion particle is one of the following specific examples,
Alternatively, two or more kinds can be used in combination. When the translucent member includes a plurality of wavelength conversion layers, the wavelength conversion particles contained in each wavelength conversion layer may be the same or different.

緑色発光する波長変換粒子としては、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光
体(例えばY(Al,Ga)12:Ce)、ルテチウム・アルミニウム・ガーネッ
ト系蛍光体(例えばLu(Al,Ga)12:Ce)、テルビウム・アルミニウム
・ガーネット系蛍光体(例えばTb(Al,Ga)12:Ce)系蛍光体、シリケ
ート系蛍光体(例えば(Ba,Sr)SiO:Eu)、クロロシリケート系蛍光体(
例えばCaMg(SiOCl:Eu)、βサイアロン系蛍光体(例えばSi
−zAl8−z:Eu(0<z<4.2))、SGS系蛍光体(例えばSrGa
:Eu)、アルカリ土類アルミネート系蛍光体(例えば(Ba,Sr,Ca)Mg
Al1016+x:Eu,Mn(但し、0≦X≦1))などが挙げられる。黄色発光の波
長変換粒子としては、αサイアロン系蛍光体(例えばM(Si,Al)12(O,N)
16(但し、0<z≦2であり、MはLi、Mg、Ca、Y、及びLaとCeを除くラン
タニド元素)などが挙げられる。このほか、上記緑色発光する波長変換粒子の中には黄色
発光の波長変換粒子もある。また例えば、イットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍
光体は、Yの一部をGdで置換することで発光ピーク波長を長波長側にシフトさせること
ができ、黄色発光が可能である。また、これらの中には、橙色発光が可能な波長変換粒子
もある。赤色発光する波長変換粒子としては、窒素含有アルミノ珪酸カルシウム(CAS
N又はSCASN)系蛍光体(例えば(Sr,Ca)AlSiN:Eu)、SLAN蛍
光体(SrLiAl:Eu)などが挙げられる。このほか、マンガン賦活フッ化物
系蛍光体(一般式(I)A[M1−aMn]で表される蛍光体である(但し、上
記一般式(I)中、Aは、K、Li、Na、Rb、Cs及びNHからなる群から選ばれ
る少なくとも1種であり、Mは、第4族元素及び第14族元素からなる群から選ばれる少
なくとも1種の元素であり、aは0<a<0.2を満たす))が挙げられる。このマンガ
ン賦活フッ化物系蛍光体の代表例としては、マンガン賦活フッ化珪酸カリウムの蛍光体(
例えばKSiF:Mn)がある。
Examples of wavelength conversion particles that emit green light include yttrium-aluminum-garnet-based phosphors (for example, Y 3 (Al,Ga) 5 O 12 :Ce) and lutetium-aluminum-garnet-based phosphors (for example, Lu 3 (Al,Ga)). 5 O 12 :Ce), a terbium aluminum garnet-based phosphor (for example, Tb 3 (Al, Ga) 5 O 12 :Ce)-based phosphor, and a silicate-based phosphor (for example (Ba, Sr) 2 SiO 4 :Eu). ), chlorosilicate-based phosphor (
For example, Ca 8 Mg(SiO 4 ) 4 Cl 2 :Eu), β-sialon-based phosphor (eg, Si 6 ).
-Z Al z O z N 8- z: Eu (0 <z <4.2)), SGS phosphor (e.g. SrGa
2 S 4 :Eu), an alkaline earth aluminate-based phosphor (eg (Ba,Sr,Ca)Mg x
Al 10 O 16+x :Eu,Mn (where 0≦X≦1)) and the like. The wavelength conversion particles for yellow emission include α-sialon-based phosphors (for example, M z (Si,Al) 12 (O,N)).
16 (where 0<z≦2, M is Li, Mg, Ca, Y, and a lanthanide element excluding La and Ce) and the like. In addition to the above, wavelength conversion particles that emit green light include wavelength conversion particles that emit yellow light. Further, for example, in the yttrium-aluminum-garnet-based phosphor, the emission peak wavelength can be shifted to the long wavelength side by substituting part of Y with Gd, and yellow emission is possible. Further, among these, there are wavelength conversion particles capable of emitting orange light. The wavelength conversion particles that emit red light include nitrogen-containing calcium aluminosilicate (CAS).
N or SCASN) type phosphors (for example, (Sr,Ca)AlSiN 3 :Eu), SLAN phosphors (SrLiAl 3 N 4 :Eu), and the like. In addition, in the manganese-activated fluoride phosphor (a phosphor represented by general formula (I) A 2 [M 1 -a Mn a F 6] ( where the general formula (I), A is K, Li, Na, Rb, Cs, and at least one selected from the group consisting of NH 4 , M is at least one element selected from the group consisting of Group 4 elements and Group 14 elements, a satisfies 0<a<0.2)). As a typical example of the manganese-activated fluoride-based phosphor, a manganese-activated potassium fluorosilicate phosphor (
For example, there is K 2 SiF 6 :Mn).

(拡散粒子)
拡散粒子としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛などが
挙げられる。拡散粒子は、これらのうちの1種を単独で、又はこれらのうちの2種以上を
組み合わせて用いることができる。特に、熱膨張係数の小さい酸化珪素が好ましい。また
、拡散粒子として、ナノ粒子を用いることで、発光素子が発する光の散乱を増大させ、波
長変換粒子の使用量を低減することもできる。なお、ナノ粒子とは、粒径が1nm以上1
00nm以下の粒子とする。また、本明細書における「粒径」は、例えば、D50で定義
される。
(Diffused particles)
Examples of the diffusing particles include silicon oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, zinc oxide and the like. As the diffusing particles, one of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination. In particular, silicon oxide having a small coefficient of thermal expansion is preferable. Further, by using nanoparticles as the diffusing particles, it is possible to increase the scattering of light emitted from the light emitting element and reduce the amount of wavelength conversion particles used. In addition, the nanoparticles have a particle size of 1 nm or more and 1
The particle size is 00 nm or less. Further, the “particle size” in the present specification is defined by, for example, D 50 .

(導光部材50)
導光部材は、発光素子と透光性部材を固定し、発光素子からの光を透光性部材に導光す
る部材である。導光部材の母材は、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポ
リカーボネート樹脂、アクリル樹脂、又はこれらの変性樹脂が挙げられる。導光部材の材
料として、エポキシ樹脂を用いることでシリコーン樹脂を用いた場合より発光装置の強度
を向上させることができるので好ましい。また、シリコーン樹脂及び変性シリコーン樹脂
は、耐熱性及び耐光性に優れているので好ましい。導光部材は、上述の透光性部材と同様
の波長変換粒子及び/又は拡散粒子を含有していてもよい。
(Light guide member 50)
The light guide member is a member that fixes the light emitting element and the translucent member and guides light from the light emitting element to the translucent member. Examples of the base material of the light guide member include silicone resin, epoxy resin, phenol resin, polycarbonate resin, acrylic resin, and modified resins thereof. It is preferable to use epoxy resin as the material of the light guide member because the strength of the light emitting device can be improved as compared with the case of using silicone resin. Further, the silicone resin and the modified silicone resin are preferable because they are excellent in heat resistance and light resistance. The light guide member may contain the same wavelength conversion particles and/or diffusing particles as those of the above-mentioned translucent member.

(導電性接着部材60)
導電性接着部材とは、発光素子の素子電極と第1配線とを電気的に接続する部材である
。導電性接着部材としては、金、銀、銅などのバンプ、銀、金、銅、プラチナ、アルミニ
ウム、パラジウムなどの金属粉末と樹脂バインダを含む金属ペースト、錫−ビスマス系、
錫−銅系、錫−銀系、金−錫系などの半田、低融点金属などのろう材のうちのいずれか1
つを用いることができる。
(Conductive adhesive member 60)
The conductive adhesive member is a member that electrically connects the element electrode of the light emitting element and the first wiring. As the conductive adhesive member, bumps such as gold, silver and copper, silver, gold, copper, platinum, aluminum, metal paste containing metal powder such as palladium and resin binder, tin-bismuth-based,
Any one of tin-copper based solder, tin-silver based solder, gold-tin based solder, and brazing material such as low melting point metal 1
One can be used.

本発明の一実施形態に係る発光装置は、液晶ディスプレイのバックライト装置、各種照
明器具、大型ディスプレイ、広告や行き先案内等の各種表示装置、プロジェクタ装置、さ
らには、デジタルビデオカメラ、ファクシミリ、コピー機、スキャナ等における画像読取
装置などに利用することができる。
A light emitting device according to an embodiment of the present invention includes a backlight device for a liquid crystal display, various lighting devices, a large display, various display devices such as advertisements and destination guides, a projector device, a digital video camera, a facsimile, and a copying machine. It can be used for an image reading device in a scanner or the like.

1000A 光源装置
1000、1001、2000、2001 発光装置
5000、5001 支持基板
10 基板
11 基材
12 第1配線
13 第2配線
14 第3配線
15 ビア
151 第4配線
152 充填部材
16 窪み
18 絶縁膜
20 発光素子
30 透光性部材
40 反射部材
50 導光部材
60 導電性接着部材
1000A Light source device 1000, 1001, 2000, 2001 Light emitting device 5000, 5001 Support substrate 10 Substrate 11 Base material 12 First wiring 13 Second wiring 14 Third wiring 15 Via
151 Fourth wiring
152 Filling Member 16 Dimple 18 Insulating Film 20 Light Emitting Element 30 Translucent Member 40 Reflecting Member 50 Light Guide Member 60 Conductive Adhesive Member

Claims (6)

長手方向と前記長手方向と直交する短手方向に延長する正面と、前記正面の反対側に位置する背面と、前記正面と隣接し、前記正面と直交する上面と、前記上面の反対側に位置する下面と、前記背面と前記下面とに開口する複数の窪み、を有する基材と、前記正面に配置される第1配線と、前記第1配線と電気的に接続され前記複数の窪みのそれぞれに配置される第2配線と、を有する基板と、前記第1配線と電気的に接続され、前記第1配線上に載置される少なくとも1つの発光素子と、を備える発光装置を準備する工程と、
支持基材と、前記支持基材の上面に接合領域を含む第1配線パターンと、前記接合領域を囲む絶縁領域と、を備える支持基板を準備する工程と、
上面視において、前記絶縁領域上に位置する半田の最大幅が前記接合領域上に位置する半田の最大幅よりも大きくなるように前記接合領域及び前記絶縁領域上に半田を配置する工程と、
上面視において、前記半田と前記下面近傍に位置する前記第2配線とを離間させて前記発光装置を前記支持基板に載置する工程と、
前記半田を加熱溶融し、前記発光装置の第2配線と前記支持基板の前記接合領域とを接合する工程と、
を含む光源装置の製造方法。
A front surface extending in the longitudinal direction and a lateral direction orthogonal to the longitudinal direction, a back surface located on the opposite side of the front surface, an upper surface adjacent to the front surface, orthogonal to the front surface, and located on the opposite side of the upper surface. A base having a lower surface to be formed, a plurality of recesses opening to the back surface and the lower surface, a first wiring arranged on the front surface, and each of the plurality of recesses electrically connected to the first wiring Preparing a light emitting device comprising: a substrate having a second wiring disposed on the first wiring; and at least one light emitting element electrically connected to the first wiring and mounted on the first wiring. When,
A step of preparing a supporting substrate including a supporting base material, a first wiring pattern including a bonding area on an upper surface of the supporting base material, and an insulating area surrounding the bonding area;
In a top view, a step of arranging the solder on the bonding area and the insulating area so that the maximum width of the solder positioned on the insulating area is larger than the maximum width of the solder positioned on the bonding area,
Placing the light emitting device on the support substrate with the solder and the second wiring located near the lower surface separated from each other in a top view;
Heating and melting the solder to bond the second wiring of the light emitting device and the bonding region of the support substrate;
A method for manufacturing a light source device including:
前記基板と前記支持基板を接着する接着樹脂を有する請求項1に記載の光源装置の製造方法。 The method for manufacturing a light source device according to claim 1, further comprising an adhesive resin that bonds the substrate and the support substrate. 前記発光装置の前記第2配線と前記支持基板の前記接合領域とを接合する工程において、前記接着樹脂を硬化する請求項2に記載の光源装置の製造方法。 The method for manufacturing a light source device according to claim 2, wherein in the step of joining the second wiring of the light emitting device and the joining region of the support substrate, the adhesive resin is cured. 前記接着樹脂は前記複数の窪みの間に位置する請求項2または3に記載の光源装置の製造方法。 The method for manufacturing a light source device according to claim 2, wherein the adhesive resin is located between the plurality of depressions. 上面視において、前記窪みの最大幅が前記接合領域の最大幅よりも狭い請求項1から4のいずれか1項に記載の光源装置の製造方法。 The method for manufacturing a light source device according to claim 1, wherein a maximum width of the recess is narrower than a maximum width of the bonding region in a top view. 前記複数の窪みのそれぞれに関する、前記下面側の深さは、前記上面側の深さよりも大きい請求項1から5のいずれか1項に記載の光源装置の製造方法。 The method for manufacturing a light source device according to claim 1, wherein a depth on the lower surface side of each of the plurality of depressions is larger than a depth on the upper surface side.
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