JP2020121571A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2020121571A5
JP2020121571A5 JP2020081822A JP2020081822A JP2020121571A5 JP 2020121571 A5 JP2020121571 A5 JP 2020121571A5 JP 2020081822 A JP2020081822 A JP 2020081822A JP 2020081822 A JP2020081822 A JP 2020081822A JP 2020121571 A5 JP2020121571 A5 JP 2020121571A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dimensional
release agent
polymer layer
support structure
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020081822A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2020121571A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Publication of JP2020121571A publication Critical patent/JP2020121571A/ja
Publication of JP2020121571A5 publication Critical patent/JP2020121571A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Claims (22)

  1. ロセッサを使用して、次元物体のための支持構造体を仮想的に生成する工程;
    ロセッサを使用して、該支持構造体および/または該三次元物体を含むシーンを層へ仮想的にスライスする工程;
    ロセッサを使用して、該支持構造体が該三次元物体に隣接している該シーン内のいずれかの層の領域を特定する工程;
    プロセッサを使用して、前記仮想的にスライスされたいずれかの層の特定された領域で、前記支持構造体と前記三次元物体との間に空間を仮想的に生成する工程;
    第一の印刷装置によって、支持構造体および/または三次元物体のうちの一つの少なくとも一つの第一のポリマー層を形成するポリマーフィラメントを堆積させる工程;
    第二の印刷装置によって、剥離剤を含む層を、前記仮想的に生成されたいずれかの空間の位置で、第一のポリマー層の少なくとも一部分の上に堆積させる工程;ならびに
    前記第一の印刷装置によって、該三次元物体および/または該支持構造体のうちの他の少なくとも1つの第二のポリマー層を形成するポリマーフィラメントを、該剥離剤を含む該層の上に堆積させる工程
    を含み、
    前記空間の厚さが、前記三次元物体の曲率に基づいて調節される、
    三次元製造方法。
  2. 剥離剤が、シリコーン油、油および炭化水素、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エステル、界面活性剤、水溶性ゴム、可塑剤中または揮発性溶媒中の固体剥離物質、低粘着性接着剤、ならびにこれらの組み合わせからなる群より選択される材料により製剤化されている、請求項1記載の三次元製造方法。
  3. 仮想的にスライスされた層の前記特定された領域が、公称ポリマー層の高さプラス空間の厚さと等しい高さを有し、残りの仮想的にスライスされた層は、該公称ポリマー層の高さと等しい高さを有する、請求項1に記載の三次元製造方法。
  4. 前記剥離剤が、非反応性化学作用基づく、請求項1記載の三次元製造方法。
  5. 前記剥離剤が、混合されたときに互いに反応するように設定された2種以上のインクの組合せを含む反応性化学剥離剤に基づく、請求項1記載の三次元製造方法
  6. 前記2種以上のインクのうちの第1のインクが、該2種以上のインクが接触するときに第2のインクの重合が生じる触媒を含む、請求項5記載の三次元製造方法。
  7. 前記剥離剤が、堆積されたときに第一相を有し、堆積後に第二相に転移するように設定された相変化剥離剤に基づく、請求項1記載の三次元製造方法。
  8. 前記空間の厚さが、前記第一のポリマー層の厚さの0.1%〜100%である、請求項1記載の三次元製造方法。
  9. 前記空間の厚さが、前記第一のポリマー層の厚さの50%である、請求項1記載の三次元製造方法。
  10. 前記支持構造体または前記三次元物体の少なくとも一つにおけるフィラメント密度が、三次元製造プロセス中に公称フィラメント密度の0.1〜2.0倍の範囲内で変動し、該フィラメント密度は所定の層体積に対する前記堆積した材料の体積の割合である、請求項1に記載の三次元製造方法。
  11. 三次元物体が、熱溶解積層法を使用して形成される、請求項1記載の三次元製造方法。
  12. 剥離剤を含む層が、紫外線吸収色素または蛍光色素を含む、請求項1記載の三次元製造方法。
  13. プロセッサを使用して、三次元物体のための支持構造体を仮想的に生成する工程;
    プロセッサを使用して、該支持構造体および/または該三次元物体を含むシーンを層へ仮想的にスライスする工程;
    プロセッサを使用して、該支持構造体が該三次元物体に隣接しているいずれかの層の領域を特定する工程;
    第一の印刷装置によって、支持構造体および/または三次元物体のうちの一つの少なくとも一つの第一のポリマー層を形成するポリマーフィラメントを堆積させる工程;
    第二の印刷装置によって、剥離剤を含む層を、該第一のポリマー層の少なくとも一部分の上に堆積させる工程;ならびに
    前記第一の印刷装置によって、該支持構造体および/または三次元物体のうちの他の少なくとも1つの第二のポリマー層を形成するポリマーフィラメントを、該剥離剤を含む該層の上に堆積させる工程
    を含み、
    前記少なくとも一つの第一のポリマー層は、該剥離剤を含む該層の堆積の前に強制冷却される、
    三次元製造方法。
  14. 前記剥離剤が、低粘着性接着剤である、請求項13に記載の三次元製造方法。
  15. 前記剥離剤が、前記第一のポリマー層の前記表面上に被膜を形成する少なくとも一つの成分を含む、請求項13に記載の三次元製造方法。
  16. 前記第一のポリマー層および前記第二のポリマー層が、単一ポリマー、コポリマー、ポリマー混合物またはそれらのいずれかの組合せの少なくとも一つ、および、無機充填剤または有機充填剤の少なくとも一つを含む、請求項13に記載の三次元製造方法。
  17. 前記剥離剤が、非反応性化学作用に基づく、請求項13記載の三次元製造方法。
  18. 前記剥離剤が、混合されたときに互いに反応するように設定された2種以上のインクの組合せを含む反応性化学剥離剤に基づく、請求項13記載の三次元製造方法
  19. 前記2種以上のインクのうちの第1のインクが、該2種以上のインクが接触するときに第2のインクの重合が生じる触媒を含む、請求項18記載の三次元製造方法。
  20. 前記剥離剤が、堆積されたときに第一相を有し、堆積後に第二相に転移するように設定された相変化剥離剤に基づく、請求項13記載の三次元製造方法。
  21. 前記少なくとも一つの第一のポリマー層が、周囲空気もしくは外気を適用することによって強制冷却される、請求項13記載の三次元製造方法。
  22. 前記少なくとも一つの第一のポリマー層が、圧縮気体を適用することによって強制冷却される、請求項13記載の三次元製造方法。
JP2020081822A 2016-08-30 2020-05-07 取り外し可能な支持構造体を伴う三次元物体を製造する方法 Pending JP2020121571A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201662381300P 2016-08-30 2016-08-30
US62/381,300 2016-08-30

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019521803A Division JP6703192B2 (ja) 2016-08-30 2017-07-14 取り外し可能な支持構造体を伴う三次元物体を製造する方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020121571A JP2020121571A (ja) 2020-08-13
JP2020121571A5 true JP2020121571A5 (ja) 2020-11-19

Family

ID=61309464

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019521803A Expired - Fee Related JP6703192B2 (ja) 2016-08-30 2017-07-14 取り外し可能な支持構造体を伴う三次元物体を製造する方法
JP2020081822A Pending JP2020121571A (ja) 2016-08-30 2020-05-07 取り外し可能な支持構造体を伴う三次元物体を製造する方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019521803A Expired - Fee Related JP6703192B2 (ja) 2016-08-30 2017-07-14 取り外し可能な支持構造体を伴う三次元物体を製造する方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20190193335A1 (ja)
EP (1) EP3507093A4 (ja)
JP (2) JP6703192B2 (ja)
KR (2) KR20200016410A (ja)
CN (1) CN109982848A (ja)
WO (1) WO2018044399A1 (ja)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DK3743262T3 (da) 2018-01-23 2022-02-21 Local Motors Ip Llc Additivt fremstillet struktur og fremgangsmåde til fremstilling af denne
EP3749717A1 (en) * 2018-02-05 2020-12-16 3M Innovative Properties Company Radiation-curable composition containing mercapto-functional polyorganosiloxanes for additive-manufacturing technology
JP7023145B2 (ja) * 2018-03-12 2022-02-21 エス.ラボ株式会社 造形装置および造形方法
US11104079B2 (en) 2018-06-22 2021-08-31 3D Systems, Inc. Three-dimensional article having permanent phosphor indicia formed from sacrificial support material
JP7093857B2 (ja) 2018-06-22 2022-06-30 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 蛍燐光体を含む3dプリント用の造形材料およびサポート材料
EP3810401B1 (en) 2018-06-22 2022-08-03 3D Systems, Inc. Method of verifying integrity of a post-process removal of support material
JP7159777B2 (ja) * 2018-10-15 2022-10-25 セイコーエプソン株式会社 三次元造形物の製造方法
DE102019002936A1 (de) * 2019-04-23 2020-10-29 Universität Stuttgart Wasserlösliche Stützstrukturen für das Strangablegeverfahren
CN111168064B (zh) * 2019-12-02 2022-04-05 西安铂力特增材技术股份有限公司 一种基于增材制造的支撑自动修复方法
DE102020104296A1 (de) * 2020-02-19 2021-08-19 Grob-Werke Gmbh & Co. Kg Verfahren und vorrichtung zur additiven fertigung eines bauteils
CN111497222B (zh) * 2020-05-15 2022-03-11 浙江迅实科技有限公司 一种快速去打印支撑的3d打印方法
CN111497221B (zh) * 2020-05-15 2022-04-01 浙江迅实科技有限公司 一种快速去打印支撑的3d打印机
KR102305843B1 (ko) * 2020-05-18 2021-09-28 (주)메타몰프 3d 프린터의 슬라이스 데이터 생성 방법 및 장치
EP4116063A1 (en) * 2021-07-07 2023-01-11 ACMIT Gmbh Method for the additive manufacturing of a shaped body
CN114042935A (zh) * 2021-10-28 2022-02-15 西安交通大学 一种用于金属增材制造的水洗支撑材料及成型方法
US11890677B2 (en) 2021-12-23 2024-02-06 Xerox Corporation Fracturable support structure and method of forming the structure
US20240009935A1 (en) * 2022-07-07 2024-01-11 Xerox Corporation Fracturable support structure and method of forming the structure
US20240009934A1 (en) * 2022-07-07 2024-01-11 Xerox Corporation Fracturable support structure and method of forming the structure
DE102022121548A1 (de) * 2022-08-25 2024-03-07 Tesa Se Verfahren zum Drucken von dreidimensionalen Strukturen mit verringertem Aufarbeitungsaufwand

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0655317A1 (en) * 1993-11-03 1995-05-31 Stratasys Inc. Rapid prototyping method for separating a part from a support structure
US5503785A (en) * 1994-06-02 1996-04-02 Stratasys, Inc. Process of support removal for fused deposition modeling
US7314591B2 (en) * 2001-05-11 2008-01-01 Stratasys, Inc. Method for three-dimensional modeling
US6165406A (en) * 1999-05-27 2000-12-26 Nanotek Instruments, Inc. 3-D color model making apparatus and process
US7300619B2 (en) * 2000-03-13 2007-11-27 Objet Geometries Ltd. Compositions and methods for use in three dimensional model printing
WO2008157460A1 (en) * 2007-06-15 2008-12-24 Cook, Kevin, M. Androstane and pregnane steroids with potent allosteric gaba receptor chloride ionophore modulating properties
US8936742B2 (en) * 2010-09-28 2015-01-20 Drexel University Integratable assisted cooling system for precision extrusion deposition in the fabrication of 3D scaffolds
CN107089004B (zh) * 2010-10-27 2019-08-16 雷兹公司 用于制作三维物体的工艺和设备
WO2014072147A1 (de) * 2012-11-09 2014-05-15 Evonik Industries Ag Mehrfarbiger extrusionsbasierter-3d-druck
EP2969483B1 (en) * 2013-03-14 2019-06-19 Stratasys Ltd. Slicing and/or texturing for three-dimensional printing
US9630365B2 (en) * 2013-05-24 2017-04-25 Looking Glass Factory, Inc. Method for manufacturing a physical volumetric representation of a virtual three-dimensional object
US20160243619A1 (en) * 2013-10-17 2016-08-25 Xjet Ltd. Methods and systems for printing 3d object by inkjet
JP6294659B2 (ja) * 2013-12-26 2018-03-14 株式会社ミマキエンジニアリング 造形物の製造方法及び制御装置
US11001049B2 (en) * 2015-01-12 2021-05-11 Avient Corporation Support material for 3D printing of polymer compounds

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2020121571A5 (ja)
John et al. Large-area, continuous roll-to-roll nanoimprinting with PFPE composite molds
EP2733533B1 (en) Etching method using block-copolymers
CN104937695B (zh) 使用纳米结构化转印带的方法及其制成的制品
KR102202291B1 (ko) 임프린트 리소그래피 방법, 패턴 형성 방법, 및 반도체 장치 제조 방법
US8133341B2 (en) Molecular transfer printing using block copolymers
KR102097884B1 (ko) 나노임프린트 리소그래피에서의 기판 전처리 조성물의 제거
CN104870198B (zh) 图案化的结构化转印带
US8178011B2 (en) Self-assembled nano-lithographic imprint masks
KR102097225B1 (ko) 나노임프린트 리소그래피에서의 기재 전처리 및 식각 균일성
JP6731067B2 (ja) ナノインプリントリソグラフィーにおける充填時間を短縮するためのインプリントレジスト及び基板前処理
CN107075898A (zh) 包括微结构化漫射体的隔热玻璃窗单元和微光学层以及方法
JP3536060B2 (ja) セラミックハニカム構造体端面の目封じ方法
TW201016441A (en) A method of making an imprint on a polymer structure
TW200918288A (en) Reduced residual formation in etched multi-layer stacks
CN102015941A (zh) 粘接片
EP3073320B1 (en) Laminated film
CN106104751A (zh) 压印设备和制造产品的方法
JP2007168316A (ja) 離型シート
KR102153364B1 (ko) 장식 필름 및 장식 필름의 제조방법
JP2019081335A (ja) 転写シート
Escobar et al. Micromolding Surface‐Initiated Polymerization: A Versatile Route for Fabrication of Coatings with Microscale Surface Features of Tunable Height
CN114845856A (zh) 3d打印机和层压件
Mayer et al. Imprint strategy for directed self-assembly of block copolymers
Chevalier et al. Self-organization and dewetting kinetics in sub-10 nm diblock copolymer line/space lithography