JP2020117433A - Glass particles, conductive composition therewith and production method of glass particles - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス粒子、それを用いた導電性組成物及びガラス粒子の製造方法に関する。 The present invention relates to glass particles, a conductive composition using the same, and a method for producing glass particles.
ガラス粒子は、電極の焼結助剤等の用途で、電子機器の電極形成用のペーストに用いられている。近年、電子機器に用いられるコンデンサ等の電子部品は、小型化及び高容量化を達成すべく、該部品に用いられる電極の薄膜化が望まれている。 Glass particles are used as a sintering aid for electrodes and the like, and are used in pastes for forming electrodes of electronic devices. In recent years, in order to achieve miniaturization and high capacity of electronic components such as capacitors used in electronic devices, thinning of electrodes used in the components is desired.
特許文献１には、酸化物換算で、ＳｉＯ２を４０〜９５モル％、Ｂ２Ｏ３を０．５〜４０モル％，及びＺｎＯを０．５〜４０モル％の量で含有し、かつ平均粒径が２０ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である球状ガラス微粒子が記載されている。この微粒子は、電子デバイスの製造における焼結助剤として使用可能であることも同文献に記載されている。
また特許文献２には、平均粒径Ｄ５０が１〜２００ｎｍ、平均真球度が０．７以上で、Ｄ５０、ＢＥＴ比表面積及び真密度を用いて所定の式から算出される緻密度が０．８〜２．０であるガラス粉末が記載されている。このガラス粉末は、電極のバインダーとして好適であることも同文献に記載されている。
Further, in
ところで従来、電極等を有する電子部品の形成に用いられるガラス粒子は、主に、溶融法で得られたガラスフレークを粉砕することで製造していた。しかし、この方法では１μｍ程度以下の微粒となるように粉砕することが非常に難しく、結果として、ガラス粒子をペーストに含有させて電極を作製した際に、電極等の薄膜化に対応することができなかった。 By the way, conventionally, glass particles used for forming electronic parts having electrodes and the like have been manufactured mainly by crushing glass flakes obtained by a melting method. However, with this method, it is very difficult to pulverize into fine particles of about 1 μm or less, and as a result, when the electrode is produced by incorporating glass particles into the paste, it is possible to cope with thinning of the electrode or the like. could not.
また、特許文献１及び２のガラス粒子は、粒径が小さいものであるが、粒径が過度に小さいことに起因してガラス粒子の融着や凝集が生じやすいため、かかる技術でも電極等の薄膜化に十分に対応できなかった。
Further, although the glass particles of
したがって、本発明の課題は、適度に小さい粒径を有しつつも、粒子どうしの凝集が少なく、且つ他の材料と混合したときの分散性が高いガラス粒子、並びに該粒子を製造する方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a glass particle having a moderately small particle size, low aggregation of particles, and high dispersibility when mixed with another material, and a method for producing the particle. To provide.
本発明は、走査型電子顕微鏡観察によって測定された累積体積５０容量％における体積累積粒径ＤＳＥＭ５０に対するレーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積５０容量％における体積累積粒径Ｄ５０の比Ｄ５０／ＤＳＥＭ５０が８．０以下であり、
ＤＳＥＭ５０が１００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である、ガラス粒子を提供するものである。
The present invention provides a ratio D of a volume cumulative particle diameter D 50 at a cumulative volume of 50 volume% by a laser diffraction scattering particle size distribution measurement method to a volume cumulative particle diameter D SEM50 at a cumulative volume of 50 volume% measured by scanning electron microscope observation. 50 /D SEM50 is 8.0 or less,
A glass particle having a D SEM50 of 100 nm or more and 700 nm or less is provided.
また本発明は、チャンバー内に発生させた層流状態のプラズマフレームにガラス母粉を供給して該ガラス母粉をガス化させ、ガス化した前記ガラス母粉を冷却してガラス粒子を生成させる工程を有し、
前記チャンバーは、その内部が還元ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気であり、且つその内部の圧力が大気圧よりも２０ｋＰａ以上４０ｋＰａ以下低く、
ガラス母粉の供給量に対するプラズマ出力の比が、０．０１ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以上２０ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以下である、ガラス粒子の製造方法を提供するものである。
Further, according to the present invention, a glass base powder is supplied to a laminar flow plasma frame generated in a chamber to gasify the glass base powder, and the gasified glass base powder is cooled to generate glass particles. Have a process,
The inside of the chamber is a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere, and the pressure inside is lower than atmospheric pressure by 20 kPa or more and 40 kPa or less,
A method for producing glass particles, wherein the ratio of the plasma output to the amount of glass mother powder supplied is 0.01 kW·min/g or more and 20 kW·min/g or less.
本発明によれば、適度に小さい粒径を有しつつも、粒子どうしの凝集が少なく、且つ他の材料と混合したときの分散性が高いガラス粒子を製造することができる。 According to the present invention, it is possible to produce glass particles having an appropriately small particle size, a small amount of aggregation between particles, and high dispersibility when mixed with another material.
以下本発明を、その好ましい実施形態に基づき説明する。本発明のガラス粒子は、特定の粒径を有するものである。詳細には、ガラス粒子は、走査型電子顕微鏡観察によって測定された累積体積５０容量％における体積累積粒径ＤＳＥＭ５０に対する、レーザー回折散乱式粒度分布測定法による累積体積５０容量％における体積累積粒径Ｄ５０の比Ｄ５０／ＤＳＥＭ５０が、８．０以下であることが好ましく、５．０以下であることがより好ましく、３．５以下であることが更に好ましい。Ｄ５０／ＤＳＥＭ５０の下限は、粒子における理論的な数値である１．０が好ましい。 The present invention will be described below based on its preferred embodiments. The glass particles of the present invention have a specific particle size. Specifically, the glass particles have a volume cumulative particle diameter at a cumulative volume of 50% by volume measured by a scanning electron microscope, and a volume cumulative particle diameter at a cumulative volume of 50% by volume by a laser diffraction/scattering particle size distribution measurement method with respect to D SEM50 . the ratio D 50 / D SEM 50 of D 50 is preferably at 8.0 or less, more preferably 5.0 or less, and more preferably 3.5 or less. The lower limit of D 50 /D SEM50 is preferably 1.0, which is a theoretical value for particles.
外見上の幾何学的形態から判断して、粒子としての最小単位と認められる物体を一次粒子と定義したときに、ＤＳＥＭ５０は一次粒子の粒径を表し、Ｄ５０は複数個の一次粒子の凝集体である二次粒子の粒径を表すところ、Ｄ５０／ＤＳＥＭ５０が上述した範囲にあることによって、ガラス粒子は、粒子どうしの融着や凝集の度合が低く、一次粒子の割合が高いものとなる。このことは、ガラス粒子をペーストに含有したときに良好な流動性及び充填性を発現し、薄い塗膜を形成することに有利である。 Judging from the apparent geometrical form, when an object recognized as the minimum unit as a particle is defined as a primary particle, D SEM50 represents the particle size of the primary particle, and D 50 represents a plurality of primary particles. When the particle size of the secondary particles that are aggregates is expressed, and the D 50 /D SEM50 is within the above range, the glass particles have a low degree of fusion or aggregation of particles and a high proportion of primary particles. Will be things. This is advantageous in that when the glass particles are contained in the paste, good fluidity and filling property are exhibited and a thin coating film is formed.
ＤＳＥＭ５０は、１００ｎｍ以上であることが好ましく、１５０ｎｍ以上であることがより好ましく、２００ｎｍ以上であることが更に好ましい。ＤＳＥＭ５０の上限としては、７００ｎｍであることが好ましく、６００ｎｍであることがより好ましく、５００ｎｍであることが更に好ましい。ＤＳＥＭ５０がこのような範囲にあることによって、粒子どうしの融着や凝集の度合が低いものとなる。ＤＳＥＭ５０は、ガラス粒子の走査型電子顕微鏡像から、粒子どうしが重なり合っていないものを複数の視野から無作為に５００個選んで粒径（ヘイウッド径）を測定し、次いで、得られた粒径から、粒子が球であると仮定したときの体積を算出し、該体積の累積体積５０容量％における体積累積粒径とする。 The D SEM50 is preferably 100 nm or more, more preferably 150 nm or more, and further preferably 200 nm or more. The upper limit of the DSEM50 is preferably 700 nm, more preferably 600 nm, and further preferably 500 nm. When the D SEM50 is in such a range, the degree of fusion and aggregation of particles becomes low. The D SEM50 is a scanning electron microscope image of glass particles, and randomly selects 500 particles in which the particles do not overlap each other from a plurality of visual fields to measure the particle diameter (Haywood diameter), and then obtains the obtained particle diameter. From the above, the volume when the particles are assumed to be spheres is calculated, and the volume cumulative particle diameter at the cumulative volume of 50% by volume of the volume is defined.
同様の観点から、ガラス粒子は、そのＤ５０が１５００ｎｍ以下であることが好ましく、１２００ｎｍ以下であることがより好ましく、１１００ｎｍ以下であることが更に好ましい。Ｄ５０の下限は、１００ｎｍであることが好ましい。Ｄ５０は、例えば以下の方法で測定することができる。すなわち、０．１ｇの測定試料と水５０ｍＬとを混合し、超音波ホモジナイザ（日本精機製作所製、ＵＳ−３００Ｔ）で１分間分散させる。その後、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置として、例えばマイクロトラックベル製ＭＴ３３００ ＥＸＩＩを用いて粒度分布を測定する。 From the same viewpoint, the D 50 of the glass particles is preferably 1500 nm or less, more preferably 1200 nm or less, and further preferably 1100 nm or less. The lower limit of D 50 is preferably 100 nm. D 50 can be measured, for example, by the following method. That is, 0.1 g of a measurement sample and 50 mL of water are mixed and dispersed for 1 minute with an ultrasonic homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho, US-300T). Then, the particle size distribution is measured using, for example, MT3300 EXII manufactured by Microtrac Bell as a laser diffraction/scattering particle size distribution measuring device.
以上の構成を有するガラス粒子は、ガラス粒子の組成に依存せず、適度に小さい粒径を有しつつも、粒子どうしの凝集や融着が少ないものである。したがって、該粒子をペーストに含有させて用いたときに、ペースト中での分散性が高く、均一且つ薄い塗膜を形成することができ、また、焼成して得られる電極表面の平滑性も高いものとなる。 The glass particles having the above-described structure have an appropriately small particle size independent of the composition of the glass particles, but have little aggregation or fusion of particles. Therefore, when the particles are used by being contained in a paste, the dispersibility in the paste is high, a uniform and thin coating film can be formed, and the smoothness of the electrode surface obtained by firing is also high. Will be things.
ガラス粒子は、その構成元素として、Ｌｉ、Ｎａ及びＫ等のアルカリ金属元素、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａ等のアルカリ土類金属元素、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｂ並びにＺｎの少なくとも一種以上を酸化物として含むことが好ましい。これらのうち、Ｂａ、Ｚｎ、Ｂ、Ｓｉ及びＡｌの少なくとも一種以上の酸化物が、電極の薄膜化が要求される積層セラミックコンデンサ（ＭＬＣＣ）等の電子部品の形成材料として好ましく用いられる。なお、本発明の効果を損なわない範囲で、ガラス粒子が、上述した構成元素以外の成分を含有することは許容される。ガラス粒子に含まれる構成元素が酸化物であるか否かは、蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）分析又はＩＣＰ分析で構成元素量を定量するとともに、Ｘ線回折（ＸＲＤ）測定でアモルファス由来のブロードなピークが検出されることによって確認することができる。
本発明のガラス粒子におけるガラスとしては、ケイ酸塩、リン酸塩、バナジン酸塩又はホウ酸塩等を含有する、無機非晶質固体が挙げられる。
The glass particles contain at least one or more of alkali metal elements such as Li, Na and K, alkaline earth metal elements such as Ca, Sr and Ba, Mg, Si, B and Zn as oxides as constituent elements. Is preferred. Of these, at least one or more oxides of Ba, Zn, B, Si and Al are preferably used as a material for forming an electronic component such as a multilayer ceramic capacitor (MLCC) which requires thinning of electrodes. In addition, the glass particles are allowed to contain components other than the above-described constituent elements as long as the effects of the present invention are not impaired. Whether or not the constituent element contained in the glass particles is an oxide is determined by fluorescent X-ray (XRF) analysis or ICP analysis and the amount of the constituent element is quantified, and a broad peak derived from an amorphous material is measured by X-ray diffraction (XRD) Can be confirmed by the detection.
Examples of the glass in the glass particles of the present invention include inorganic amorphous solids containing silicate, phosphate, vanadate, borate, or the like.
ガラス粒子のＢＥＴ比表面積（ｍ２／ｇ）に対する炭素含有量（質量％）の比（単位：質量％・ｇ／ｍ２）は、０．１以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましく、０．０３以下であることが更に好ましい。上述の比を０．１以下とすることによって、ガラス粒子を含む塗膜を焼成して電極を製造する際に、炭素成分の分解によって生成するガス量を抑えることができ、その結果、ガスの生成に起因した電極の膨れや亀裂が発生しにくくなる。ＢＥＴ比表面積（ｍ２／ｇ）に対する炭素含有量（質量％）の比（単位：質量％・ｇ／ｍ２）の下限としては、粒径が小さいガラス粒子を形成しやすくするとともに、不純物の混入を効果的に抑制する観点から、少なければ少ないほど好ましいが、０．００５であることが現実的である。 The ratio (unit: mass%·g/m 2 ) of the carbon content (mass %) to the BET specific surface area (m 2 /g) of the glass particles is preferably 0.1 or less, and 0.05 or less. It is more preferable to be present, and it is further preferable to be 0.03 or less. By setting the above ratio to 0.1 or less, it is possible to suppress the amount of gas generated by the decomposition of carbon components when the electrode is manufactured by firing a coating film containing glass particles, and as a result, the amount of gas Swelling or cracking of the electrode due to generation is less likely to occur. The lower limit of the ratio (unit: mass%·g/m 2 ) of the carbon content (mass %) to the BET specific surface area (m 2 /g) is to facilitate formation of glass particles having a small particle size, and to reduce impurities. From the viewpoint of effectively suppressing the mixture, the smaller the amount, the more preferable, but 0.005 is realistic.
ガラス粒子における炭素の含有量は、０．３０質量％以下であることが好ましく、０．２５質量％以下であることがより好ましく、０．２０質量％以下であることが更に好ましい。一般的に、ガラス粒子を製造する際に炭素を含む有機物などの不純物が混入すると、焼結時にガス発生の原因となり、ガラス粒子を含むペーストから得られた塗膜の均一性や平滑性に悪影響が生じ得る。本発明においては、不純物の混入を効果的に抑制して、塗膜の充填性、均一性及び平滑性を高める観点から、炭素の含有量の下限は少なければ少ないほど好ましいが、０．０２質量％であることが現実的である。つまり、ガラス粒子は、微細な粒子でありながら、該粒子に含まれる炭素の含有量が極めて低いものである。ガラス粒子における炭素の含有量を上述の範囲とするためには、例えば高純度の原料を直流熱プラズマ法や高周波プラズマ法に供することによって調整することができる。 The content of carbon in the glass particles is preferably 0.30% by mass or less, more preferably 0.25% by mass or less, and further preferably 0.20% by mass or less. Generally, when impurities such as organic substances containing carbon are mixed during the production of glass particles, it causes gas generation during sintering, which adversely affects the uniformity and smoothness of the coating film obtained from the paste containing glass particles. Can occur. In the present invention, the lower limit of the carbon content is preferably as small as possible, from the viewpoint of effectively suppressing the mixing of impurities and enhancing the filling property, uniformity and smoothness of the coating film, but 0.02 mass % Is realistic. That is, the glass particles are fine particles, but the content of carbon contained in the particles is extremely low. In order to set the carbon content in the glass particles within the above range, it can be adjusted, for example, by subjecting a high-purity raw material to a direct-current thermal plasma method or a high-frequency plasma method.
炭素含有量は、例えば、堀場製作所製の炭素分析装置ＥＭＩＡ−９２０Ｖを用いて測定することができる。詳細には、測定試料０．１ｇと、助燃剤としてタングステン粉１．５ｇ及びスズ粉０．３ｇとを磁性坩堝内に秤量し、酸素ガス雰囲気下で加熱する。加熱の際に、試料中の炭素と酸素とが反応して生成した一酸化炭素及び二酸化炭素を非分散赤外線吸収法で検出し、炭素の含有割合（質量％）を算出した。 The carbon content can be measured using, for example, a carbon analyzer EMIA-920V manufactured by Horiba Ltd. Specifically, 0.1 g of the measurement sample, 1.5 g of tungsten powder and 0.3 g of tin powder as a combustion improver are weighed in a magnetic crucible and heated in an oxygen gas atmosphere. During heating, carbon monoxide and carbon dioxide produced by the reaction between carbon and oxygen in the sample were detected by a non-dispersive infrared absorption method, and the carbon content ratio (mass %) was calculated.
ガラス粒子のＢＥＴ比表面積は、１ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、１．５ｍ２／ｇ以上であることがより好ましく、２ｍ２／ｇ以上であることが更に好ましい。ＢＥＴ比表面積の上限は、１５ｍ２／ｇであることが好ましく、１２ｍ２／ｇであることがより好ましく、１０ｍ２／ｇであることが更に好ましい。ＢＥＴ比表面積の大きさと、粒径の小ささとは概ね相関しているので、ＢＥＴ比表面積がこのような範囲にあることによって、ガラス粒子の粒径を十分に小さくすることができる点で有利である。 The BET specific surface area of the glass particles is preferably 1 m 2 /g or more, more preferably 1.5 m 2 /g or more, and further preferably 2 m 2 /g or more. The upper limit of the BET specific surface area is preferably 15 m 2 /g, more preferably 12 m 2 /g, and further preferably 10 m 2 /g. Since the size of the BET specific surface area and the small particle size are substantially correlated, the BET specific surface area within this range is advantageous in that the particle size of the glass particles can be made sufficiently small. Is.
ＢＥＴ比表面積は、吸着ガスである窒素を３０容量％、キャリアガスであるヘリウムを７０容量％含有する窒素−ヘリウム混合ガスと、ＢＥＴ比表面積測定装置（株式会社マウンテック製、ＨＭ ｍｏｄｅｌ−１２１０）とを用いて、ＪＩＳ Ｒ １６２６「ファインセラミックス粉体の気体吸着 ＢＥＴ法による比表面積の測定方法」の「６．２流動法」の「（３．５）一点法」に従って測定することができる。 As for the BET specific surface area, a nitrogen-helium mixed gas containing 30% by volume of nitrogen as an adsorption gas and 70% by volume of helium as a carrier gas, and a BET specific surface area measuring device (HM model-1210 manufactured by Mountech Co., Ltd.) Can be measured in accordance with JIS R 1626 “Gas adsorption of fine ceramic powder: Method for measuring specific surface area by BET method”, “6.2 Flow method”, “(3.5) One-point method”.
ガラス粒子の形状は特に制限はなく、例えば球状、フレーク状、多面体状など種々の形状を採用することができる。ガラス粒子を含むペーストの流動性及び充填性を高めるとともに、形成された塗膜表面の平滑性を高める観点から、ガラス粒子の形状は、球状であることが好ましい。ここでいう球状とは、以下の方法で測定した円形度係数に基づき、好ましくは０．８５以上、更に好ましくは０．９０以上となるものをいう。円形度係数は、ガラス粒子の走査型電子顕微鏡像から、粒子どうしが重なり合っていないものを無作為に５００個選び出し、粒子の二次元投影像の面積をＳとし、周囲長をＬとしたときに、粒子の円形度係数を４πＳ／Ｌ２の式から算出し、各粒子の円形度係数の算術平均値を上述した円形度係数とする。粒子の二次元投影像が真円である場合は、粒子の円形度係数は１となる。 The shape of the glass particles is not particularly limited, and various shapes such as spherical shape, flake shape, and polyhedral shape can be adopted. From the viewpoint of enhancing the fluidity and filling property of the paste containing glass particles and enhancing the smoothness of the formed coating film surface, the shape of the glass particles is preferably spherical. The term "spherical" as used herein means one having a circularity coefficient of 0.85 or more, more preferably 0.90 or more, based on the circularity coefficient measured by the following method. The circularity coefficient is determined by randomly selecting 500 particles that do not overlap each other from the scanning electron microscope image of the glass particles, and letting the area of the two-dimensional projected image of the particles be S and the perimeter be L. The circularity coefficient of the particles is calculated from the equation of 4πS/L 2 , and the arithmetic mean value of the circularity coefficients of the particles is used as the circularity coefficient described above. When the two-dimensional projected image of a particle is a perfect circle, the circularity coefficient of the particle is 1.
次に、ガラス粒子の好適な製造方法について説明する。本製造方法は、ガラス母粉をＰＶＤ法の一種である直流熱プラズマ（以下、「ＤＣプラズマ」ともいう。）法に付して、該母粉からガラス粒子を生成させるものである。詳細には、本製造方法は、チャンバー内に発生させた層流状態のプラズマフレームにガラス母粉を供給して、ガラス母粉をガス化させ、ガス化したガラス母粉を冷却してガラス粒子を生成させる工程を有する。所定の元素の酸化物を含むガラス粒子を製造する場合には、目的とするガラス粒子の元素組成と同じとなるような比率でガラス母粉と構成元素を含む母粉とを供給するか、又は目的とするガラス粒子と同じ組成を有するガラス母粉を供給すればよい。以下の説明では、上述した母粉を総称して、単に「母粉」ともいう。 Next, a suitable method for producing glass particles will be described. In the present manufacturing method, glass mother powder is subjected to a direct current thermal plasma (hereinafter, also referred to as “DC plasma”) method which is a kind of PVD method to generate glass particles from the mother powder. In detail, the present manufacturing method supplies the glass base powder to the plasma flame in the laminar flow state generated in the chamber, gasifies the glass base powder, and cools the gasified glass base powder to form glass particles. Is generated. In the case of producing glass particles containing an oxide of a predetermined element, glass mother powder and mother powder containing constituent elements are supplied at a ratio such that the elemental composition of the target glass particles is the same, or Glass mother powder having the same composition as the intended glass particles may be supplied. In the following description, the above-mentioned mother powder is generically referred to as simply “mother powder”.
本製造方法に好適に用いられるＤＣプラズマ装置を図１に示す。同図に示すように、ＤＣプラズマ装置１は、粉末供給装置２、チャンバー３、ＤＣプラズマトーチ４、回収ポット５、粉末供給ノズル６、ガス供給装置７及び圧力調整装置８を備えている。この装置においては、母粉は、粉末供給装置２から粉末供給ノズル６を通してＤＣプラズマトーチ４内部を通過する。ＤＣプラズマトーチ４には、熱プラズマ発生用のガス（以下「プラズマガス」ともいう。）がガス供給装置７から供給されプラズマフレームが発生する。また、ＤＣプラズマトーチ４で発生させたプラズマフレーム内で母粉がガス化されてチャンバー３に放出された後、ガス化された母粉が冷却され、ガラス粒子の微粉末となって回収ポット５内に蓄積回収される。チャンバー３の内部は、圧力調整装置８によって粉末供給ノズル６よりも相対的に陰圧が保持されるように制御されており、母粉のＤＣプラズマトーチ４への供給を容易にするとともに、プラズマフレームを安定して発生する構造をとっている。なお図１に示す装置は、ＤＣプラズマ装置の一例であって、本発明のガラス粒子の製造はこの装置に限定されるものではない。
FIG. 1 shows a DC plasma apparatus preferably used in this manufacturing method. As shown in the figure, the
プラズマフレーム内で母粉に十分なエネルギーを供給して、サブミクロンオーダーの微粒子を首尾よく形成する観点から、プラズマフレームが層流状態で太く長くなるように調整することが好ましい。プラズマフレームが層流状態であるか否かは、プラズマフレームを、フレーム幅が最も太く観察される側面から観察したときに、フレーム幅に対するフレーム長さの縦横比（以下、フレームアスペクト比）が３以上であるか否かによって判断することができる。具体的には、フレームアスペクト比が３以上であれば層流状態と判断することができ、３未満であれば乱流状態と判断することができる。 From the viewpoint of supplying sufficient energy to the mother powder in the plasma flame to successfully form fine particles of submicron order, it is preferable to adjust the plasma flame so that it becomes thick and long in a laminar flow state. Whether or not the plasma frame is in a laminar flow state is determined by observing the plasma frame from the side where the frame width is thickest and the aspect ratio of the frame length to the frame width (hereinafter, frame aspect ratio) is 3 or less. It can be determined by whether or not the above. Specifically, if the frame aspect ratio is 3 or more, it can be determined that the flow is laminar, and if it is less than 3, it can be determined that the flow is turbulent.
プラズマフレームが層流状態となるようにするためには、プラズマ出力とプラズマガス流量を調整することが有利である。詳細には、ＤＣプラズマ装置のプラズマ出力を好ましくは２ｋＷ以上１００ｋＷ以下、より好ましくは２ｋＷ以上４０ｋＷ以下に設定する。また、プラズマガスのガス流量に関しては、好ましくは０．１Ｌ／ｍｉｎ以上２５Ｌ／ｍｉｎ以下、更に好ましくは０．５Ｌ／ｍｉｎ以上２１Ｌ／ｍｉｎ以下に設定する。 In order for the plasma flame to be in a laminar flow state, it is advantageous to adjust the plasma power and the plasma gas flow rate. Specifically, the plasma output of the DC plasma device is preferably set to 2 kW or more and 100 kW or less, more preferably 2 kW or more and 40 kW or less. The gas flow rate of the plasma gas is preferably set to 0.1 L/min or more and 25 L/min or less, more preferably 0.5 L/min or more and 21 L/min or less.
特に、プラズマフレームを層流状態に安定的に保ちつつ、母粉のガス化に必要な流速を確実に得る観点から、上述の範囲のプラズマ出力及びガス流量を保ちつつ、プラズマ出力に対するプラズマガス流量の比（単位：Ｌ／（ｍｉｎ・ｋＷ））を、好ましくは０．５０以上２．００以下、より好ましくは０．７０以上１．８０以下、更に好ましくは０．７５以上１．６０以下に設定する。 In particular, from the viewpoint of reliably obtaining the flow rate required for gasification of the mother powder while stably maintaining the plasma flame in the laminar flow state, while maintaining the plasma output and the gas flow rate in the above range, the plasma gas flow rate with respect to the plasma output Ratio (unit: L/(min·kW)) is preferably 0.50 or more and 2.00 or less, more preferably 0.70 or more and 1.80 or less, and still more preferably 0.75 or more and 1.60 or less. Set.
粒子どうしの凝集及び融着が少ないガラス粒子の製造効率を高める観点から、母粉の供給量は、好ましくは５ｇ／ｍｉｎ以上２００ｇ／ｍｉｎ以下であることが好ましく、１０ｇ／ｍｉｎ以上１００ｇ／ｍｉｎ以下であることが好ましい。 From the viewpoint of increasing the production efficiency of glass particles with less aggregation and fusion of particles, the feed rate of the mother powder is preferably 5 g/min or more and 200 g/min or less, and 10 g/min or more and 100 g/min or less Is preferred.
プラズマフレーム内で十分な熱エネルギーを母粉に供給し、サブミクロンオーダーの微粒子を首尾よく形成することに加えて、粗粒の母粉を残存しにくくするという観点から、母粉の供給量に対するプラズマ出力の比は、好ましくは０．０１ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以上２０ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以下であり、更に好ましくは０．０５ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以上１５ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以下である。 In addition to supplying sufficient heat energy to the mother powder in the plasma flame to successfully form submicron-order fine particles, it is difficult to leave coarse mother powder The plasma output ratio is preferably 0.01 kW·min/g or more and 20 kW·min/g or less, and more preferably 0.05 kW·min/g or more and 15 kW·min/g or less.
母粉のガス化から冷却までの時間を一層短縮して、適度に小さい粒径を有し、且つ粒子どうしの凝集及び融着が少ないガラス粒子を一層効率よく製造する観点から、チャンバー３の内部に冷却用ガスを供給して、ガス化した母粉を冷却することが好ましい。冷却用ガスの供給は、例えばチャンバー３の側壁部に接続された冷却用ガス供給部（図示せず）によって行うことができる。冷却用ガスとしては特に制限はないが、例えば窒素ガス及びアルゴンガス等の不活性ガスや、酸素ガス等の酸化ガスを用いることが好ましい。冷却用ガスは、チャンバー３内部の圧力が上述した範囲の陰圧となっていることを条件として、例えば０℃以上３０℃以下の温度の冷却用ガスを、チャンバー３内部におけるプラズマフレームの先端近傍であり且つプラズマフレームの形成に干渉しない周囲に、１Ｌ／ｍｉｎ以上４００Ｌ／ｍｉｎ以下供給することができる。
From the viewpoint of further shortening the time from the gasification of the mother powder to the cooling, producing a glass particle having an appropriately small particle size and having less aggregation and fusion of particles, the interior of the
チャンバー３の内部の圧力は、大気圧よりも２０ｋＰａ以上４０ｋＰａ以下低いことが好ましく、２０ｋＰａ以上３５ｋＰａ以下低いことがより好ましい。このように陰圧に制御されることによって、ガス化した母粉からガラス粒子が形成される際に、チャンバー３内のガス化母粉の濃度が増加することになる。それにより、製造系内の熱伝導が促進されて、生成されるガラス粒子に付与される熱エネルギーが低減され、ガラス粒子の粒成長及び粒子どうしの凝集を一層抑制するとともに、ガラス粒子表面の酸化が一層抑制される。その結果、粒径が小さく、粒子どうしの凝集が少なく、且つ粒子表面の酸化が抑制されたガラス粒子が効率良く製造される。特に、チャンバー３の内部が後述のようにアルゴンガスを含んだ混合ガスとすることによって、上述の効果は更に一層有利に奏される。なお、チャンバー３内部の圧力は、例えば圧力調整装置８によって適宜制御することができる。
The pressure inside the
ＤＣプラズマ装置は主に金属微粒子の製造に用いられるところ、従来のＤＣプラズマ装置による製造方法では、金属母粉のガス化を効率良く行うために、ＤＣプラズマ装置のプラズマ出力を高くして目的の粒子が製造されていた。本発明者は、ガラス粒子の製造効率を維持しつつ、ガラス粒子の微粒子化と凝集及び融着の抑制とを両立する方法について鋭意検討したところ、ＤＣプラズマ装置のプラズマ出力を従来よりも敢えて低くしてガラス粒子を製造することによって、意外にも、粒子の製造効率を維持しながらも、適度に小さい粒径を有し、且つ粒子どうしの凝集及び融着が少ないガラス粒子を製造できることを見出した。この理由として、ガラス粒子は、一般的に６００〜７００℃程度に軟化点を有するため、プラズマ出力を従来よりも低くした場合でもガラス母粉を十分にガス化できるとともに、粒成長が適度に抑制されるように冷却されやすくなる。また、ＤＣプラズマ法で形成されるプラズマフレームは、フレームの中心部から先端に向かうにつれて低温となり、且つその温度勾配が大きいといった特有の温度分布を有しているので、このような温度分布が生じていることによって、生成した粒子が冷却されやすくなり、生成される粒子どうしの凝集及び融着の低減に寄与していると考えられる。これに加えて、冷却用ガスをチャンバー内に更に導入することによって、粒成長中のガラス粒子にかかる熱エネルギーを更に抑制しながら分散化できるので、適度に小さい微粒子を形成することができ、形成された粒子どうしの凝集及び融着が更に起こりにくくなると考えられる。 Whereas the DC plasma device is mainly used for the production of metal fine particles, the conventional DC plasma device production method aims to increase the plasma output of the DC plasma device in order to efficiently gasify the metal base powder. The particles were manufactured. The present inventor diligently studied a method for achieving both fine particle formation of glass particles and suppression of aggregation and fusion while maintaining the production efficiency of glass particles, and the plasma output of a DC plasma device was intentionally lower than in the past. Surprisingly, by maintaining the production efficiency of the particles by producing the glass particles, it was found that it is possible to produce glass particles having an appropriately small particle size, and less aggregation and fusion of particles. It was The reason for this is that glass particles generally have a softening point of about 600 to 700° C., so that the glass base powder can be sufficiently gasified even when the plasma output is made lower than in the past, and grain growth is appropriately suppressed. It becomes easier to cool as described above. Further, the plasma flame formed by the DC plasma method has a peculiar temperature distribution in which the temperature decreases from the center of the flame toward the tip and the temperature gradient is large, and thus such a temperature distribution occurs. Therefore, it is considered that the generated particles are easily cooled, which contributes to the reduction of aggregation and fusion of the generated particles. In addition to this, by further introducing a cooling gas into the chamber, it is possible to disperse while further suppressing the thermal energy applied to the glass particles during grain growth, so that it is possible to form appropriately small particles. It is considered that the agglomeration and fusion of the formed particles are further difficult to occur.
プラズマガスの種類に特に制限はなく、例えば、プラズマガスとして、アルゴンガスを単独で用いたり、あるいは、アルゴンガスと窒素ガスとの混合ガスや、アルゴンガスと窒素ガスとヘリウムガスとの混合ガスを用いることができる。このような混合ガスを使用すると、窒素（２原子分子）ガスによって、より大きな振動エネルギー（熱エネルギー）を母粉の構成粒子に均一に付与することができるので、粒度分布が一層シャープな微粒子を得ることができる。これに加えて、粗粒の母粉が残存しにくくなるという利点がある。 The type of plasma gas is not particularly limited, and for example, as the plasma gas, argon gas is used alone, or a mixed gas of argon gas and nitrogen gas, or a mixed gas of argon gas, nitrogen gas, and helium gas is used. Can be used. When such a mixed gas is used, larger vibration energy (heat energy) can be uniformly applied to the constituent particles of the mother powder by the nitrogen (diatomic molecule) gas, so that fine particles having a sharper particle size distribution can be obtained. Obtainable. In addition to this, there is an advantage that the coarse-grained mother powder is less likely to remain.
プラズマガスとして、アルゴンガスと窒素ガスとの混合ガスを使用する場合、粒度分布のシャープな粒子を得る観点から、プラズマガスにおけるアルゴンガスと窒素ガスとの割合は、アルゴンガス：窒素ガスの流量比で９９：１〜１０：９０の範囲であることが好ましく、９５：５〜６０：４０の範囲であることが更に好ましい。また、目的とするガラス粒子の粒度分布をよりシャープにする観点からは、アルゴンガスと窒素ガスの割合は、アルゴンガス：窒素ガスの流量比で９９：１〜５５：４５の範囲、特に９５：５〜５５：４５の範囲のように、窒素ガスよりもアルゴンガスの流量の方が多い比率内で調整すること好ましい。このような比率であることによって、プラズマフレームの減退を防止できるという利点も奏される。 When a mixed gas of argon gas and nitrogen gas is used as the plasma gas, the ratio of the argon gas to the nitrogen gas in the plasma gas is the flow ratio of the argon gas:nitrogen gas from the viewpoint of obtaining particles having a sharp particle size distribution. Is preferably 99:1 to 10:90, more preferably 95:5 to 60:40. Further, from the viewpoint of making the particle size distribution of the intended glass particles sharper, the ratio of argon gas to nitrogen gas is in the range of 99:1 to 55:45 in terms of the flow rate ratio of argon gas:nitrogen gas, particularly 95: It is preferable to adjust the flow rate of the argon gas to be larger than that of the nitrogen gas, such as in the range of 5 to 55:45. With such a ratio, there is an advantage in that the decline of the plasma flame can be prevented.
本製造方法に用いられる母粉は、特に限定されるものではない。母粉のプラズマ噴射性とコストの観点から、母粉の粒径Ｄ５０は、好ましくは３．０μｍ以上、更に好ましくは５．０μｍ以上である。Ｄ５０の上限は、好ましくは３０μｍ、更に好ましくは１５μｍである。また、母粉の形状に特に制限はなく、例えば樹枝状、棒状、フレーク状、キュービック状、球状などが挙げられる。プラズマトーチへの供給効率を安定化させる観点から、球状の母粉を用いることが好ましい。母粉のＤ５０の測定は、上述したガラス粒子のＤ５０の測定と同様の方法で行うことができる。 The mother powder used in the present production method is not particularly limited. From the viewpoint of the plasma sprayability of the mother powder and the cost, the particle diameter D 50 of the mother powder is preferably 3.0 μm or more, more preferably 5.0 μm or more. The upper limit of D 50 is preferably 30 μm, more preferably 15 μm. The shape of the mother powder is not particularly limited, and examples thereof include a dendritic shape, a stick shape, a flake shape, a cubic shape, and a spherical shape. From the viewpoint of stabilizing the supply efficiency to the plasma torch, it is preferable to use spherical mother powder. Measurement of D 50 of the mother powder may be carried out in the same manner as the measurement of the D 50 of the above-mentioned glass particles.
このようにして得られたガラス粒子は、該粒子の集合体である微粉末となって回収ポット５内に蓄積回収される。回収されたガラス粒子は、これをそのままで用いてもよく、合成時に生成される粗大凝集粒子の除去を行うために分級してもよい。分級は、適切な分級装置を用いて、目的とする粒度が中心となるように、粗粉や微粉を分離するようにすればよい。
The glass particles thus obtained are collected and collected in the
ガラス粒子は、粉末の状態として単独で用いてもよく、あるいは他の金属材料や誘電体材料等と混合されて、配線回路、電極及び誘電体等を形成するための焼結助剤として用いてもよい。配線回路及び電極を形成するための導電性組成物としては、例えば導電ペーストや導電インクなどが挙げられる。これらの導電性組成物は、金属フィラー及び焼結助剤としてのガラス粒子等の成分を含むものである。導電性組成物は、例えばこれを所定の手段によって塗布することで、プリント配線基板の配線回路を形成したり、チップ部品の電極を形成したりすることができる。また、誘電体を形成するための組成物は、セラミックス等の誘電体材料、及び焼結助剤としてのガラス粒子等の成分を含むものであり、例えばこれを所定の手段によって塗布して塗膜を形成することで、薄い誘電体膜を形成することができる。特に、本発明のガラス粒子は、適度に小さい粒径を有し、粒子どうしの凝集が低減されて、他の材料との分散性が高いものであるので、小型化及び薄型化が要求されるＭＬＣＣや、ＬＴＣＣ（低温焼成セラミックス）多層回路基板等の小型電子部品の形成材料に好適に用いることができる。 The glass particles may be used alone as a powder, or may be mixed with another metal material, a dielectric material or the like to be used as a sintering aid for forming a wiring circuit, an electrode, a dielectric or the like. Good. Examples of the conductive composition for forming the wiring circuit and the electrodes include conductive paste and conductive ink. These conductive compositions contain components such as a metal filler and glass particles as a sintering aid. The conductive composition can be applied, for example, by a predetermined means to form a wiring circuit of a printed wiring board or an electrode of a chip component. The composition for forming the dielectric contains a dielectric material such as ceramics and components such as glass particles as a sintering aid. For example, the composition is applied by a predetermined means to form a coating film. By forming, a thin dielectric film can be formed. In particular, the glass particles of the present invention have a reasonably small particle size, agglomeration of the particles is reduced, and dispersibility with other materials is high, so that downsizing and thinning are required. It can be suitably used as a material for forming small electronic components such as MLCCs and LTCC (low temperature firing ceramics) multilayer circuit boards.
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しかしながら本発明の範囲は、かかる実施例に制限されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. However, the scope of the invention is not limited to such embodiments.
〔実施例１〕
図１に示す構造のＤＣプラズマ装置１を用いて、以下のとおりガラス粒子を製造した。粉末供給装置２から粉末供給ノズル６を通して、母粉としてガラス母粉（組成：Ｂ２Ｏ３＝２６．４質量％、ＣａＯ＝７．８質量％、ＳｒＯ＝３．８質量％、ＢａＯ＝４２．７質量％、ＺｎＯ＝１８．４質量％、粒径Ｄ５０＝１２μｍ、球状粒子）を５ｇ／ｍｉｎの供給量で導入した。これとともに、プラズマガスとしてアルゴンガスをプラズマフレームの内部に供給した。プラズマガスの流量は２１Ｌ／ｍｉｎとした。プラズマ出力は１３ｋＷであり、プラズマ出力に対するプラズマガス流量の比は１．６（Ｌ／（ｍｉｎ・ｋＷ））であった。プラズマフレームはフレームアスペクト比が４であり、層流状態であった。母粉の供給量に対するプラズマ出力の比は、２．５ｋＷ・ｍｉｎ／ｇであった。また、製造時において、チャンバー内部の圧力を、大気圧よりも３０ｋＰａ低くし、冷却用ガスとして２５℃のアルゴンガスを１０Ｌ／ｍｉｎの流量で供給し、目的とするガラス粒子を得た。
[Example 1]
Using the
〔実施例２〕
プラズマ出力を１１ｋＷに変更した他は実施例１と同様にして、ガラス粒子を製造した。なお、本実施例における母粉の供給量に対するプラズマ出力の比は、２．６ｋＷ・ｍｉｎ／ｇであった。
[Example 2]
Glass particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the plasma output was changed to 11 kW. The ratio of the plasma output to the supply amount of the mother powder in this example was 2.6 kW·min/g.
〔比較例１〕
プラズマ出力を１６ｋＷ、チャンバー内部の圧力を大気圧よりも５０ｋＰａ低くした他は実施例１と同様にして、ガラス粒子を製造した。なお、本比較例における母粉の供給量に対するプラズマ出力の比は、２．８ｋＷ・ｍｉｎ／ｇであった。
[Comparative Example 1]
Glass particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the plasma output was 16 kW and the pressure inside the chamber was lower than atmospheric pressure by 50 kPa. The ratio of the plasma output to the amount of mother powder supplied in this comparative example was 2.8 kW·min/g.
〔比較例２〕
プラズマ出力を１４ｋＷ、チャンバー内部の圧力を大気圧よりも５０ｋＰａ低くした他は実施例１と同様にして、ガラス粒子を製造した。なお、本比較例における母粉の供給量に対するプラズマ出力の比は、３．２ｋＷ・ｍｉｎ／ｇであった。
[Comparative Example 2]
Glass particles were produced in the same manner as in Example 1 except that the plasma output was 14 kW and the pressure inside the chamber was lower than atmospheric pressure by 50 kPa. The ratio of the plasma output to the supply amount of the mother powder in this comparative example was 3.2 kW·min/g.
〔粒子物性の評価〕
実施例及び比較例のガラス粒子について、Ｄ５０、ＤＳＥＭ５０、ＢＥＴ比表面積、Ｃ含有量及び円形度係数を、上述した方法で測定した。結果を表１に示す。
[Evaluation of physical properties of particles]
The D 50 , D SEM50 , BET specific surface area, C content and circularity coefficient of the glass particles of Examples and Comparative Examples were measured by the methods described above. The results are shown in Table 1.
〔塗膜の最大高さＲｍａｘの評価〕
各実施例及び比較例で得られたガラス粒子０．７ｇに、銅粒子（Ｃｕ＝粒径Ｄ５０＝０．４μｍ、球状粒子）７ｇと、１０質量％の熱可塑性セルロースエーテル（Ｔｈｅ Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ製 品名：ＥＴＨＯＣＥＬ ＳＴＤ１００）を含有したターピネオール（ヤスハラケミカル株式会社製）ビヒクル１．４ｇとを添加して、ヘラで予備混練した後、株式会社シンキー製の自転・公転真空ミキサーＡＲＥ−５００を用いて、攪拌モード（１０００ｒｐｍ×１分間）と脱泡モード（２０００ｒｐｍ×３０秒間）を１サイクルとした処理を２サイクル行い、ペースト化した。このペーストを、更に３本ロールミルを用いて合計５回処理することで更に分散混合を行い、ペーストを調製した。
[Evaluation of maximum height Rmax of coating film]
0.7 g of glass particles obtained in each of the examples and comparative examples, 7 g of copper particles (Cu=particle size D 50 =0.4 μm, spherical particles), and 10% by mass of a thermoplastic cellulose ether (The Dow Chemical Company). Product name: ETHOCEL STD100) containing 1.4 g of vehicle containing terpineol (manufactured by Yasuhara Chemical Co., Ltd.) and preliminarily kneading with a spatula, and then using a spinning/revolving vacuum mixer ARE-500 manufactured by Shinky Co., Ltd. Two cycles of treatments, each of which consisted of a stirring mode (1000 rpm x 1 minute) and a defoaming mode (2000 rpm x 30 seconds) as one cycle, were made into a paste. The paste was further processed by using a three-roll mill for a total of 5 times to further disperse and mix, thereby preparing a paste.
このように調製したペーストを、アプリケーターを用い、ギャップを３５μｍに設定してアルミナ基板上に塗布した。その後、窒素オーブンを用い、１５０℃で１０分間にわたり加熱乾燥し塗膜を作製した。得られた塗膜について、表面粗さ計（東京精密株式会社製、ＳＵＲＦＣＯＭ ４８０Ｂ−１２）を用いて、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９８２に準拠して最大高さＲｍａｘ（μｍ）を測定した。結果を表１に示す。最大高さＲｍａｘが低いほど、得られた塗膜の表面が平滑であることを示す。 The paste thus prepared was applied onto an alumina substrate using an applicator with the gap set to 35 μm. Then, using a nitrogen oven, it was heated and dried at 150° C. for 10 minutes to form a coating film. The maximum height Rmax (μm) of the obtained coating film was measured using a surface roughness meter (SURFCOM 480B-12 manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) according to JIS B0601:1982. The results are shown in Table 1. The lower the maximum height Rmax is, the smoother the surface of the obtained coating film is.
〔実施例３〕
実施例１で用いたガラス母粉とは別のガラス母粉（組成：ＳｉＯ２＝１．９質量％、Ｂ２Ｏ３＝２５．９質量％、ＣａＯ＝７．６質量％、ＳｒＯ＝３．７質量％、ＢａＯ＝４１．８質量％、ＺｎＯ＝１８．０質量％、粒径Ｄ５０＝１２μｍ、球状粒子）を用いた。また、プラズマ出力を１２ｋＷとし、プラズマ出力に対するプラズマガス流量の比を１．８Ｌ／（ｍｉｎ・ｋＷ）、母粉の供給量に対するプラズマ出力の比を２．６ｋＷ・ｍｉｎ／ｇに変更した。これらの条件以外は実施例１と同様にして、ガラス粒子を得た。
[Example 3]
A glass base powder different from the glass base powder used in Example 1 (composition: SiO 2 =1.9 mass %, B 2 O 3 =25.9 mass %, CaO=7.6 mass %, SrO=3). 0.7% by mass, BaO=41.8% by mass, ZnO=18.0% by mass, particle diameter D 50 =12 μm, spherical particles) were used. Further, the plasma output was set to 12 kW, the ratio of the plasma gas flow rate to the plasma output was changed to 1.8 L/(min·kW), and the ratio of the plasma output to the feed amount of the mother powder was changed to 2.6 kW·min/g. Glass particles were obtained in the same manner as in Example 1 except for these conditions.
〔比較例３〕
実施例３で用いたガラス母粉を用いた。また、プラズマ出力を１５ｋＷとし、プラズマ出力に対するプラズマガス流量の比を１．４Ｌ／（ｍｉｎ・ｋＷ）、母粉の供給量に対するプラズマ出力の比を２．８ｋＷ・ｍｉｎ／ｇに変更した。さらに、チャンバー内部の圧力を大気圧よりも５０ｋＰａ低くした。これらの条件以外は実施例１と同様にして、ガラス粒子を得た。
[Comparative Example 3]
The glass mother powder used in Example 3 was used. Further, the plasma output was set to 15 kW, the ratio of the plasma gas flow rate to the plasma output was changed to 1.4 L/(min·kW), and the ratio of the plasma output to the supply amount of the mother powder was changed to 2.8 kW·min/g. Further, the pressure inside the chamber was set to be 50 kPa lower than the atmospheric pressure. Glass particles were obtained in the same manner as in Example 1 except for these conditions.
〔評価〕
実施例３及び比較例３で得たガラス粒子について、上述と同様にして粒子物性及び塗膜の最大高さＲｍａｘの評価を行った。結果を表２に示す。
[Evaluation]
With respect to the glass particles obtained in Example 3 and Comparative Example 3, the particle properties and the maximum height Rmax of the coating film were evaluated in the same manner as described above. The results are shown in Table 2.
所定のチャンバー内圧力及びプラズマ出力に調整したＤＣプラズマ法で製造された実施例のガラス粒子は、比較例のガラス粒子と比較して、粒子どうしの凝集や融着が少なく、且つサブミクロンオーダーの微粒子が効率よく製造できることが判る。また、実施例のガラス粒子によれば、Ｄ５０／ＤＳＥＭ５０の比が小さいので、該粒子を塗膜化した際の最大高さが低く、薄い塗膜を平滑に形成できることも判る。 Compared with the glass particles of the comparative example, the glass particles of the example manufactured by the DC plasma method in which the pressure in the chamber and the plasma output were adjusted to a predetermined level had less aggregation and fusion of the particles, and had a submicron order. It can be seen that the fine particles can be produced efficiently. Further, according to the glass particles of the examples, since the ratio of D 50 /D SEM50 is small, the maximum height when the particles are formed into a coating film is low, and it can be seen that a thin coating film can be formed smoothly.
１ ＤＣプラズマ装置
２ 粉末供給装置
３ チャンバー
４ ＤＣプラズマトーチ
５ 回収ポット
６ 粉末供給ノズル
７ ガス供給装置
８ 圧力調整装置
DESCRIPTION OF
Claims (7)
ＤＳＥＭ５０が１００ｎｍ以上７００ｎｍ以下である、ガラス粒子。 Ratio D 50 /D SEM50 of volume cumulative particle size D 50 at cumulative volume 50% by laser diffraction scattering particle size distribution measurement method to volume cumulative particle size D SEM50 at cumulative volume 50% by volume measured by scanning electron microscope observation. Is less than or equal to 8.0,
Glass particles having a D SEM50 of 100 nm or more and 700 nm or less.
前記チャンバーは、その内部が還元ガス雰囲気又は不活性ガス雰囲気であり、且つその内部の圧力が大気圧よりも２０ｋＰａ以上４０ｋＰａ以下低く、
ガラス母粉の供給量に対するプラズマ出力の比が、０．０１ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以上２０ｋＷ・ｍｉｎ／ｇ以下である、ガラス粒子の製造方法。 A step of supplying glass base powder to a plasma flame in a laminar flow state generated in the chamber to gasify the glass base powder, and cooling the gasified glass base powder to generate glass particles;
The inside of the chamber is a reducing gas atmosphere or an inert gas atmosphere, and the pressure inside is lower than atmospheric pressure by 20 kPa or more and 40 kPa or less,
A method for producing glass particles, wherein the ratio of plasma output to the amount of glass base powder supplied is 0.01 kW·min/g or more and 20 kW·min/g or less.
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