JP2020117413A - 多孔質チタニア粒子の製法 - Google Patents
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Abstract
Description
(a1)所定の液体に溶解する可溶性粒子と、チタン(IV)アルコキシドと、キレート剤と、ポロゲンと、無機塩とを含み、前記可溶性粒子が分散した分散液を攪拌下にゲル化する工程と、
(a2)得られたゲルから前記キレート剤を除去する工程と、
(a3)前記キレート剤を除去した後のゲルを所定の焼成温度で焼成したあと前記所定の液体に浸漬し、前記可溶性粒子を前記所定の液体に溶解させることにより、多孔質チタニア粒子を得る工程と、
を含むものである。
可溶性粒子としては、所定の液体に溶解する粒子を用いる。所定の液体としては、例えばアルカリ溶液などが挙げられる。その場合、可溶性粒子としては、アルカリ溶液に溶解する粒子を用いる。そのような粒子としては、例えばシリカ粒子やケイ酸塩粒子(ケイ酸ガラス粒子等)などが挙げられる。シリカ粒子は、チタニア粒子内の細孔を形成するために用いられるものであり、粒径としては、7〜500nmが好ましく、20〜300nmがより好ましく、30〜200nmが更に好ましい。シリカ粒子には親水性のものと疎水性のものとがあり、どちらを採用してもよいが、親水性のものが好ましい。シリカ粒子としては、例えば日本触媒製のシーホスター(登録商標)KE−S10、KE−P10、日本アエロジル製の商品名NAX−50などが挙げられる。可溶性粒子の使用量は、チタン(IV)アルコキシドに対して重量比で2〜50%であることが好ましく、5〜40%であることがより好ましい。
得られたゲルからキレート剤を除去する。キレート剤としてβ−ケトエステルを用いた場合には、アルコール−水混合液を用いてキレート剤を除去する。この工程では、β−ケトエステルが加水分解したあと脱炭酸が起こるためガスが発生する。そのため、この工程は、容器を密閉せず開放した状態で行うことが好ましい。なお、得られたゲルを直ちに水に浸漬すると、キレート剤の分解による炭酸ガスが急激に発生してクラックが生じるため好ましくない。キレート剤を除去することにより、得られたゲルのチタニアはアモルファスから結晶(例えばアナターゼ型結晶)に変化すると考えられる。
キレート剤を除去した後のゲルを所定の焼成温度で焼成したあと所定の液体に浸漬し、可溶性粒子を所定の液体に溶解させることにより、多孔質チタニア粒子を得る。焼成温度は400℃以上1200℃以下の範囲で設定するのが好ましい。この温度範囲であれば、ゲル内に残存していた有機化合物(例えばキレート剤)はほとんど焼失する。焼成時、可溶性粒子はチタニア粒子同士の焼結を防ぐ役割を果たすと推定される。焼成温度が400℃以上600℃以下ではアナターゼ型を主成分とする多孔質チタニア粒子が得られ、600℃より高くなるとルチル型の多孔質チタニア粒子が増えてきて、900℃以上1200℃以下ではルチル型を主成分とする多孔質チタニア粒子が得られる。焼成時、可溶性粒子が粒径拡大を阻害するため、アナターゼ型であってもルチル型であってもチタニア粒子に細孔が残存するものと推定される。焼成後、可溶性粒子を所定の液体に溶解させて除去することにより、チタニア粒子の表面に付着していた可溶性粒子が溶解してチタニア粒子の表面にピットが形成される。このピットが最終的に多孔質チタニア粒子の細孔になる。そのため、可溶性粒子の粒径を調整することにより細孔の孔径を制御することができる。また、可溶性粒子の添加量を調整することにより細孔のトータルの体積を制御することができる。
以下のようにして多孔質ルチル型チタニア粒子を作製した。
・ゲル化工程
7号サンプル管にチタン(IV)プロポキシド(アルドリッチ製)5.04g、アセト酢酸エチル(東京化成製)2.58g、1−プロパノール(東京化成製)2.01gを秤量後、撹拌して均一な混合溶液とした。その混合溶液に可溶性粒子として親水性シリカ粒子(日本触媒製、シーホスター(登録商標)KE−P10、粒径約100nm)を0.756g(15wt%/チタン(IV)プロポキシド)を加えてスターラーで均一になるまで撹拌した。次に、その混合溶液に平均分子量2000のポリエチレングリコール(PEG2000,アルドリッチ製)3.0gを入れて60℃下で溶解させた後、液温を40℃まで下げた。次に、スターラーで十分に撹拌しながら1Mの硝酸アンモニウム水溶液1mLを少しずつ3分間かけて滴下した。途中でチタニア粒子が析出したが、そのまま滴下と攪拌を続けた。ゲル化で析出した粒子を含む重合液の入ったスクリュー管瓶からスターラーの撹拌子を取り出した後、ふたをして40℃の恒温槽中に24時間静置して、ゲル化反応を完遂させた。
ゲル化を終了した容器に、エチルアルコール:水(質量比)が1:1の溶液を容器一杯に入れ、常温で6時間静置した後にその溶液を廃棄した。続いて、水を容器一杯に入れ、常温で18時間浸漬した。この工程では、キレート剤であるアセト酢酸エチルが加水分解されてアセト酢酸になり、そのアセト酢酸が速やかに脱炭酸してアセトンと炭酸ガスが生成した。続いて、キレート剤を除去した後のゲルから水を留去した後、80℃で16時間加熱することによりゲルを乾燥させた。
十分に乾燥したゲルを3gずつ4つ分取し、それぞれ異なる焼成温度(500℃、800℃、1000℃、1100℃)まで毎分1℃の昇温速度で昇温した後、その温度で2時間保持して焼成した。各焼成生成物を1Mの水酸化ナトリウム水溶液60mLに入れ、室温で24時間静置後に水溶液を廃棄し、その後イオン交換水で数回洗浄し、更に100℃で真空乾燥を24時間行った。これにより、4つのチタニア粒子を得た。4つのチタニア粒子のうち、500℃で焼成したものを実験例1、800℃で焼成したものを実験例2、1000℃で焼成したものを実験例3、1100℃で焼成したものを実験例4とした。実験例1〜4のチタニア粒子の平均粒径(SEM法)、比表面積(BET法)、細孔容積(BET法)、空隙率、細孔分布におけるピーク(BET法)及びチタニアの結晶型の割合を表1に示す。細孔容積(cm3/g)は、2.5nmから200nmまでの範囲でBET法比表面積測定により求めた。空隙率(%)は、細孔容積(cm3/g)を二酸化チタンの比重を4として換算して得られた値である。また、チタニア粒子の結晶型の割合は、XRD(RIR法)により求めた。
実験例5,6では、PEG2000の使用量をそれぞれ2.0g、7.0gとした以外は、実験例2と同様にしてチタニア粒子を製造した。実験例7,8では、PEG2000を3.0g使用する代わりに、平均分子量10000のポリエチレングリコール(PEG10000)をそれぞれ0.5g、1.0g使用した以外は、実験例2と同様にしてチタニア粒子を製造した。実験例9,10では、親水性シリカ粒子の使用量をそれぞれ1.26g、1.76gとした以外は、実験例2と同様にしてチタニア粒子を製造した。実験例11では、親水性シリカ粒子の使用量を1.26g、焼成温度を1000℃とした以外は、実験例2と同様にしてチタニア粒子を製造した。得られたチタニア粒子の特性を表1にまとめた。表1から、実験例5−11のチタニア粒子はいずれも多孔質であることがわかった。代表例として実験例8の多孔質チタニア粒子のSEM写真を図1に示す。
親水性シリカ粒子を使用しなかった以外は、実験例2と同様にしてチタニア粒子を製造した。このチタニア粒子の特性を表1にまとめた。実験例12のチタニア粒子は、比表面積及び細孔容積が実質ゼロのため、多孔質とはいえないと判断した。また、シリカ粒子を用いない場合には、シリカ粒子を用いた場合に比べてルチル化が早く進み、800℃でもルチル型100%になった。換言すれば、実験例1〜11のように焼成時にシリカ粒子が存在していると、シリカ粒子がルチル化を阻害するともいえる。
Claims (6)
- (a1)所定の液体に溶解する可溶性粒子と、チタン(IV)アルコキシドと、キレート剤と、ポロゲンと、無機塩とを含み、前記可溶性粒子が分散した分散液を攪拌下にゲル化する工程と、
(a2)得られたゲルから前記キレート剤を除去する工程と、
(a3)前記キレート剤を除去した後のゲルを所定の焼成温度で焼成したあと前記所定の液体に浸漬し、前記可溶性粒子を前記所定の液体に溶解させることにより、多孔質チタニア粒子を得る工程と、
を含む多孔質チタニア粒子の製法。 - 前記所定の液体は、アルカリ溶液であり、
前記可溶性粒子は、シリカ粒子又はケイ酸塩粒子である、
請求項1に記載の多孔質チタニア粒子の製法。 - 前記所定の焼成温度は、400℃以上1200℃以下である、
請求項1又は2に記載の多孔質チタニア粒子の製法。 - 前記多孔質チタニア粒子は、平均粒径が0.05μm以上30μm以下で、窒素吸着法で測定した細孔分布におけるピークが30nm以上200nm以下の範囲にある、
請求項1〜3のいずれか1項に記載の多孔質チタニア粒子の製法。 - 比表面積が1m2/g以上である、
請求項4に記載の多孔質チタニア粒子の製法。 - 細孔容積が0.01cm3/g以上である、
請求項4又は5に記載の多孔質チタニア粒子の製法。
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