JP2020097710A - Optical film, flexible display device, and resin composition - Google Patents

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Abstract

To provide a resin film having a high elastic modulus.SOLUTION: An optical film contains at least one resin selected from the group consisting of polyimide resin and polyamide resin. In the optical film, a ratio (I/I) of Na ionic strength (I) to CHionic strength (I), obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry, is 0.2 or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学フィルム、フレキシブル表示装置、及び樹脂組成物に関する。 The present invention relates to an optical film, a flexible display device, and a resin composition.

現在、液晶表示装置や有機EL表示装置等の画像表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途で広く活用されている。このような画像表示装置の前面板としてはガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブル表示装置の前面板材料としての利用は難しい。そのため、ガラスに代わる材料の一つとして高分子材料の活用が検討され、例えばポリイミド系樹脂を用いる光学フィルムが検討されている(例えば特許文献1)。 Currently, image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used in various applications such as mobile phones and smart watches. Although glass has been used as the front plate of such an image display device, it is difficult to use it as a front plate material of a flexible display device, for example, because the glass is very rigid and easily broken. Therefore, utilization of a polymer material as one of the materials replacing the glass has been studied, and for example, an optical film using a polyimide resin has been studied (for example, Patent Document 1).

特開2018−119132号公報JP, 2018-119132, A

しかしながら、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂等を用いる光学フィルムをフレキシブル表示装置等において使用する場合、屈曲や外部要因との接触に起因して、光学フィルムに傷、しわ等の欠陥が生じることがあった。本発明者は上記を改善する手段を種々検討し、光学フィルムの弾性率を高めることにより、光学フィルムに傷等の欠陥が生じにくいことを見出していた。
そのため本発明は、高い弾性率を有する樹脂フィルムを提供することを課題とする。
However, when an optical film using a polyimide resin and a polyamide resin is used in a flexible display device or the like, the optical film may have defects such as scratches and wrinkles due to bending and contact with external factors. It was The present inventor has studied various means for improving the above, and found that defects such as scratches are unlikely to occur in the optical film by increasing the elastic modulus of the optical film.
Therefore, an object of the present invention is to provide a resin film having a high elastic modulus.

本発明者らは、上記課題を解決すべく、樹脂フィルム中に含まれる成分の種類と量に着目し、鋭意検討を行った。その結果、光学フィルムにおける、飛行時間型二次イオン質量分析法により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上である光学フィルムについて、驚くべきことに弾性率を高めやすいことを見出し、本発明を完成させるに至った。 In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have paid attention to the types and amounts of the components contained in the resin film, and have conducted earnest studies. As a result, the ratio (I Na /I CH3 ) of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry in the optical film was 0.2. With respect to the above optical film, it was surprisingly found that the elastic modulus can be easily increased, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、以下の好適な態様を包含する。
〔1〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上である、光学フィルム。
〔2〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂である、前記〔1〕に記載の光学フィルム。
〔3〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂における全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合が80モル%以上である、前記〔1〕又は〔2〕に記載の光学フィルム。
〔4〕厚さが10〜100μmであり、全光線透過率が80%以上である、前記〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔5〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量が200,000以上である、前記〔1〕〜〔4〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔6〕ポリイミド系樹脂はポリアミドイミド樹脂である、前記〔1〕〜〔5〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔7〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含む、前記〔1〕〜〔6〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔8〕フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、前記〔1〕〜〔7〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔9〕前記〔1〕〜〔8〕のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。
〔10〕タッチセンサをさらに備える、前記〔9〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔11〕偏光板をさらに備える、前記〔9〕又は〔10〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔12〕ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及びナトリウムイオンからなる群から選択される少なくとも1種のナトリウム含有成分、並びに溶媒を少なくとも含む、樹脂組成物。
That is, the present invention includes the following preferred embodiments.
[1] An optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, wherein CH 3 ions obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry of the optical film the proportion of the intensity ionic strength of Na for (I CH3) (I Na) (I Na / I CH3) is 0.2 or more, the optical film.
[2] The optical film as described in [1] above, wherein the polyimide resin and the polyamide resin are aromatic resins.
[3] The optical film as described in [1] or [2] above, wherein the ratio of the constituent units derived from the aromatic monomer to all constituent units in the polyimide resin and the polyamide resin is 80 mol% or more.
[4] The optical film as described in any one of [1] to [3] above, which has a thickness of 10 to 100 μm and a total light transmittance of 80% or more.
[5] The optical film as described in any of [1] to [4] above, wherein the weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is 200,000 or more.
[6] The optical film as described in any of [1] to [5] above, wherein the polyimide-based resin is a polyamide-imide resin.
[7] The optical film as described in any of [1] to [6] above, wherein the polyimide resin and the polyamide resin include a structural unit derived from terephthalic acid.
[8] The optical film as described in any of [1] to [7] above, which is a film for a front plate of a flexible display device.
[9] A flexible display device including the optical film according to any one of [1] to [8].
[10] The flexible display device according to [9], further including a touch sensor.
[11] The flexible display device according to [9] or [10], further including a polarizing plate.
[12] At least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins, a compound containing a sodium atom, at least one sodium-containing component selected from the group consisting of sodium and sodium ions, and a solvent. A resin composition containing at least.

本発明の光学フィルムは、高い弾性率を有する。 The optical film of the present invention has a high elastic modulus.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. The scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法(TOF−SIMS)により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上である。 The optical film of the present invention is an optical film containing at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins, and the optical film has a time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF- The ratio (I Na /I CH3 ) of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by SIMS) is 0.2 or more.

本発明の光学フィルムにおいて、CHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)は、飛行時間型二次イオン質量分析法(Time−of−Flight Secondary Ion Mass Spectrometry:以下において「TOF−SIMS」とも称する)により、光学フィルムのCHのイオン強度(ICH3)及びNaのイオン強度(INa)を測定し、INaをICH3で除することにより算出される。なお、本明細書において、飛行時間型二次イオン質量分析法により測定されるCHのイオン強度(ICH3)及びNaのイオン強度(INa)は、測定データにおいてCHのイオンに帰属されるピークの積分値をCHのイオン強度(ICH3)とし、Naのイオンに帰属されるピークの積分値をNaのイオン強度(INa)とする。 In the optical film of the present invention, the ratio of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) (I Na /I CH3 ) is the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (Time-of-). The ionic strength of CH 3 (I CH3 ) and the ionic strength of Na (I Na ) of the optical film are measured by a Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (hereinafter also referred to as “TOF-SIMS”), and I Na is divided by I CH3 . It is calculated by In the present specification, the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) and the ionic strength of Na (I Na ) measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry are attributed to CH 3 ions in the measurement data. The integrated value of a peak is CH 3 ionic strength (I CH3 ), and the integrated value of a peak attributed to Na ion is Na ionic strength (I Na ).

TOF−SIMSは質量分析法の一種であり、TOF−SIMSによれば、試料の最表面に存在する元素あるいは分子種を非常に高い検出感度で得ることができ、また、試料の最表面に存在する元素あるいは分子種の分布も調べることができる。 TOF-SIMS is a kind of mass spectrometry. According to TOF-SIMS, an element or a molecular species existing on the outermost surface of a sample can be obtained with extremely high detection sensitivity, and also exists on the outermost surface of the sample. It is also possible to investigate the distribution of the element or molecular species to be used.

TOF−SIMSは、高真空中でイオンビーム(一次イオン)を試料に照射し、表面から放出されるイオンを、その飛行時間差を利用して質量分離する手法である。一次イオンを照射すると、正又は負の電荷を帯びたイオン(二次イオン)が試料表面から放出されるが、軽いイオン程速く、重いイオン程遅く飛行するため、二次イオンが発生してから検出されるまでの時間(飛行時間)を測定すれば、発生した二次イオンの質量を計算することができる。 TOF-SIMS is a method of irradiating a sample with an ion beam (primary ion) in a high vacuum, and mass-separating ions emitted from the surface by using the time difference of flight. When irradiated with primary ions, positively or negatively charged ions (secondary ions) are emitted from the sample surface, but lighter ions fly faster and heavier ions fly slower, so after the secondary ions are generated. By measuring the time until detection (flight time), the mass of the generated secondary ions can be calculated.

TOF−SIMSによる測定において、CHのイオンは質量15.02u付近に、Naイオンは質量22.99u付近に検出される。また、これらのイオンは、正(ポジティブ)イオン分析と、負(ネガティブ)イオン分析のどちらにおいても検出されるイオンである。本発明において、CHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)は、正イオン分析で検出された割合であってもよいし、負イオン分析で検出された割合であってもよいが、より高い検出感度が得られる観点から、正イオン分析を用いた条件が好ましく、上記割合の少なくとも一方の割合が0.2以上であれば、本発明における割合(INa/ICH3)が0.2以上であるという要件を満たす。 In the measurement by TOF-SIMS, CH 3 ions are detected at a mass of 15.02 u and Na ions are detected at a mass of 22.99 u. Further, these ions are ions detected in both the positive (negative) ion analysis and the negative (negative) ion analysis. In the present invention, the ratio (I Na /I CH3 ) of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) may be the ratio detected by positive ion analysis or negative ions. The ratio detected by analysis may be used, but from the viewpoint of obtaining higher detection sensitivity, conditions using positive ion analysis are preferable, and if at least one of the above ratios is 0.2 or more, the The requirement that the ratio (I Na /I CH3 ) in the invention is 0.2 or more is satisfied.

TOF−SIMSによる測定は、光学フィルムについて、飛行時間型二次イオン質量分析装置を用いて、一次イオンがBi3++、一次イオンの加速電圧が25kV、照射イオン電流が0.23pA、測定範囲が200μm×200μmの条件で、正イオン分析又は負イオン分析により実施できる。TOF−SIMSによる測定は、例えば実施例に記載の方法に従って行うことができる。光学フィルムの表面又は断面の少なくとも一部について測定された前記割合(INa/ICH3)が前記範囲内であればよいが、光学フィルム内部の組成が光学フィルムの機械的強度により影響しやすいと推察されることから、光学フィルムの断面について測定された前記割合(INa/ICH3)が前記範囲内であることが好ましい。 The measurement by TOF-SIMS was carried out on the optical film by using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer, the primary ions were Bi 3++ , the acceleration voltage of the primary ions was 25 kV, the irradiation ion current was 0.23 pA, and the measurement range was 200 μm. It can be carried out by positive ion analysis or negative ion analysis under the condition of ×200 μm. The measurement by TOF-SIMS can be performed, for example, according to the method described in Examples. The ratio (I Na /I CH3 ) measured on at least a part of the surface or the cross section of the optical film may be within the above range, but the composition inside the optical film is likely to be influenced by the mechanical strength of the optical film. From the assumption, it is preferable that the ratio (I Na /I CH3 ) measured on the cross section of the optical film is within the above range.

飛行時間型二次イオン質量分析法により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上である本発明の光学フィルムによれば、驚くべきことに、光学フィルムの弾性率を向上させることができる。ここで、飛行時間型二次イオン質量分析法により得られるCHのイオン強度(ICH3)とNaのイオン強度(INa)とは、光学フィルム中に存在する炭素原子および/又は炭素イオンの量とナトリウム原子および/又はナトリウムイオンの量を相対的に表している。上記割合が0.2以上であることは、光学フィルム中に存在する炭素原子および/又は炭素イオンの総量に対して一定量以上のナトリウム原子(Na)および/又はナトリウムイオンの総量が存在することを表している。なお、炭素原子および炭素イオンがCHのイオンとして検出される理由は、飛行時間型二次イオン質量分析法において、発生した各種二次イオンはプロトン付加体の形でも検出されるという特徴があり、炭素原子においてはプロトン付加体としてCHのイオンが同時に発生するためである。 The optics of the present invention in which the ratio (I Na /I CH3 ) of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry is 0.2 or more. The film can surprisingly improve the elastic modulus of the optical film. Here, the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) and the ionic strength of Na (I Na ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry are the carbon atoms and/or carbon ions present in the optical film. The amount and the amount of sodium atom and/or sodium ion are shown relatively. That the above ratio is 0.2 or more means that the total amount of sodium atoms (Na) and/or sodium ions is a certain amount or more with respect to the total amount of carbon atoms and/or carbon ions present in the optical film. Represents. The reason why carbon atoms and carbon ions are detected as CH 3 ions is that in the time-of-flight secondary ion mass spectrometry, various secondary ions generated are also detected in the form of proton adducts. This is because CH 3 ions are simultaneously generated as a proton adduct at the carbon atom.

ナトリウム原子が一定量存在することにより、光学フィルムの弾性率が向上する理由は明らかではなく、本発明は後述するメカニズムに何ら限定されないが、例えば次のようなメカニズムにより弾性率が向上すると考えられる。本発明の光学フィルムを製造する際、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を含む組成物中にナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオンが含まれることによって、該樹脂に含まれるイミド結合及び/又はアミド結合、好ましくはポリイミド系樹脂に含まれるイミド結合と、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオンとの間に、何らかの相互作用(例えば、イミド結合やアミド結合のカルボニル基とナトリウムイオン間の静電的な相互作用)が生じると考えられる。その結果、得られた光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂が、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオンと相互作用した状態でフィルム中に存在しているか、又は、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオンとポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂との相互作用に起因して該樹脂の配向状態が変わることにより、光学フィルムの弾性率が向上すると考えられる。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂のイミド結合及び/又はアミド結合と相互作用しやすい観点から、光学フィルム中に含まれるナトリウム含有成分はイオン化した状態であることが好ましい。なお、本明細書においては、光学フィルムを飛行時間型二次イオン質量分析法した際にNaのイオン強度(INa)として検出されると考えられる、光学フィルムに含まれ得るナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオンを、「ナトリウム含有成分」とも称する。なお、ナトリウム原子を含む化合物とは、ナトリウム原子を分子の構成原子として含む化合物である。 The presence of a certain amount of sodium atoms, it is not clear why the elastic modulus of the optical film is improved, the present invention is not limited to the mechanism described below, for example, it is considered that the elastic modulus is improved by the following mechanism. .. When producing the optical film of the present invention, a compound containing a sodium atom, a sodium atom and/or a sodium ion is contained in a composition containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, so that an imide bond contained in the resin. And/or an amide bond, preferably an imide bond contained in the polyimide resin and a compound containing a sodium atom, sodium and/or a sodium ion, and some interaction (for example, a carbonyl group of an imide bond or an amide bond). Electrostatic interaction between sodium ions) is considered to occur. As a result, the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin contained in the obtained optical film is present in the film in a state of interacting with a compound containing a sodium atom, sodium and/or sodium ion, or, It is considered that the elastic modulus of the optical film is improved by changing the orientation state of the compound containing sodium atom, sodium and/or sodium ion and the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin due to the interaction between the resins. .. From the viewpoint of easily interacting with the imide bond and/or the amide bond of the polyimide resin and/or the polyamide resin, the sodium-containing component contained in the optical film is preferably in an ionized state. In the present specification, a compound containing a sodium atom that can be contained in the optical film, which is considered to be detected as the ionic strength (I Na ) of Na when the optical film is subjected to time-of-flight secondary ion mass spectrometry. , Sodium and/or sodium ions are also referred to as “sodium-containing components”. The compound containing a sodium atom is a compound containing a sodium atom as a constituent atom of a molecule.

CHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)は、光学フィルムの弾性率を高めやすい観点から、好ましくは1以上、より好ましくは1.5以上、さらに好ましくは3以上、さらに好ましくは5以上、さらに好ましくは10以上、特に好ましくは15以上である。割合(INa/ICH3)の上限は、好ましくは100以下、より好ましくは50以下、さらに好ましくは30以下、さらに好ましくは25以下、特に好ましくは20以下である。 The ratio (I Na /I CH3 ) of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) is preferably 1 or more, and more preferably 1. from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film. It is 5 or more, more preferably 3 or more, further preferably 5 or more, more preferably 10 or more, and particularly preferably 15 or more. The upper limit of the ratio (I Na /I CH3 ) is preferably 100 or less, more preferably 50 or less, further preferably 30 or less, further preferably 25 or less, and particularly preferably 20 or less.

割合(INa/ICH3)を上記の範囲に調整する方法は特に限定されないが、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を含む本発明の光学フィルムにおける、ナトリウム含有成分(ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオン)の含有量を調整する方法、ならびに、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量を調整する方法が挙げられる。具体的には、光学フィルムにおけるナトリウム含有成分の含有量を大きくすると、該光学フィルムのTOF−SIMSにより得られるNaのイオン強度(INa)も大きくなる。光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量を大きくすると、該光学フィルムのTOF−SIMSにより得られるCHのイオン強度(ICH3)も大きくなる。そのため、光学フィルムにおけるナトリウム含有成分の含有量を増やすと、割合(INa/ICH3)の値は大きくなり、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量を大きくすると、割合(INa/ICH3)の値は小さくなる。上記の方法により、割合(INa/ICH3)を所望の範囲に調整することができる。 The method of adjusting the ratio (I Na /I CH3 ) to the above range is not particularly limited, but in the optical film of the present invention containing a polyimide resin and/or a polyamide resin, a sodium-containing component (a compound containing a sodium atom, Examples thereof include a method of adjusting the content of sodium and/or sodium ions, and a method of adjusting the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the optical film. Specifically, when the content of the sodium-containing component in the optical film is increased, the ionic strength of Na (I Na ) obtained by TOF-SIMS of the optical film also increases. When the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the optical film is increased, the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by TOF-SIMS of the optical film also increases. Therefore, when the content of the sodium-containing component in the optical film is increased, the value of the ratio (I Na /I CH3 ) is increased, and when the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the optical film is increased, The value of the ratio (I Na /I CH3 ) becomes smaller. The ratio (I Na /I CH3 ) can be adjusted to a desired range by the above method.

本発明の光学フィルムにおいて、TOF−SIMSによるCHのイオン強度(ICH3)及びNaのイオン強度(INa)は特に限定されず、割合(INa/ICH3)の値が上記の範囲となればよいが、TOF−SIMSによる測定の十分な定量性を確保しやすい観点から、Naのイオン強度(INa)が、好ましくは100以上、より好ましくは300以上、さらに好ましくは500以上となる条件で測定を行うことが好ましい。 In the optical film of the present invention, the ionic strength (I CH3 ) of CH 3 and the ionic strength (I Na ) of Na by TOF-SIMS are not particularly limited, and the value of the ratio (I Na /I CH3 ) is within the above range. However, the ionic strength of Na (I Na ) is preferably 100 or more, more preferably 300 or more, and still more preferably 500 or more, from the viewpoint of easily securing sufficient quantification of the measurement by TOF-SIMS. It is preferable to perform the measurement under the conditions.

割合(INa/ICH3)が0.2以上である本発明の光学フィルムは、高い弾性率を有する。本発明の光学フィルムの弾性率は、好ましくは5.0MPa以上、より好ましくは5.1MPa以上、さらに好ましくは5.2MPa以上である。弾性率の上限は特に限定されないが、通常100MPa以下である。なお、弾性率は、引張試験機(例えば、チャック間距離50mm、引張速度10mm/分の条件)を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The optical film of the present invention having a ratio (I Na /I CH3 ) of 0.2 or more has a high elastic modulus. The elastic modulus of the optical film of the present invention is preferably 5.0 MPa or more, more preferably 5.1 MPa or more, even more preferably 5.2 MPa or more. The upper limit of the elastic modulus is not particularly limited, but is usually 100 MPa or less. The elastic modulus can be measured by using a tensile tester (for example, a chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min), and can be measured by, for example, the method described in the examples.

本発明の光学フィルムの全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは88%以上、さらにより好ましくは90%以上、特に好ましくは91%以上である。全光線透過率が上記の下限以上であると、光学フィルムを、特に前面板として、画像表示装置に組み込んだ際に視認性を高めやすい。本発明の光学フィルムは通常、高い全光線透過率を示すので、例えば、透過率の低いフィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを得るために必要な表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。例えば、本発明の光学フィルムを画像表示装置に組みこむ場合、バックライトの光量を減らしても明るい表示を得られる傾向があり、エネルギーの節約に貢献できる。全光線透過率の上限は、通常100%以下である。なお、全光線透過率は、例えばJIS K 7361−1:1997に準拠してヘイズコンピューターを用いて測定できる。全光線透過率は、後述する光学フィルムの厚さの範囲における全光線透過率であってよい。 The total light transmittance of the optical film of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, even more preferably 88% or more, even more preferably 90% or more, and particularly preferably 91% or more. When the total light transmittance is not less than the above lower limit, it is easy to improve the visibility when the optical film is incorporated into an image display device, particularly as a front plate. Since the optical film of the present invention usually exhibits a high total light transmittance, for example, as compared with the case of using a film having a low transmittance, the emission intensity of a display element or the like required to obtain constant brightness is suppressed. It becomes possible. Therefore, power consumption can be reduced. For example, when the optical film of the present invention is incorporated into an image display device, bright display tends to be obtained even if the light amount of the backlight is reduced, which can contribute to energy saving. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. The total light transmittance can be measured using a haze computer according to JIS K 7361-1:1997, for example. The total light transmittance may be the total light transmittance in the range of the thickness of the optical film described below.

本発明の光学フィルムのヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.5%以下、さらに好ましくは0.2%以下である。光学フィルムのヘイズが上記の上限以下であると、光学フィルムを、特に前面板として、画像表示装置に組み込んだ際に、視認性を高めやすい。また、ヘイズの下限値は通常0.01%以上である。なお、ヘイズは、JIS K 7136:2000に準拠してヘイズコンピューターを用いて測定できる。 The haze of the optical film of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, still more preferably 0.2% or less. When the haze of the optical film is not more than the above upper limit, the visibility is likely to be improved when the optical film is incorporated into an image display device, particularly as a front plate. The lower limit of haze is usually 0.01% or more. The haze can be measured using a haze computer according to JIS K 7136:2000.

本発明の光学フィルムの黄色度(YI値)は、好ましくは3.0以下、より好ましくは2.5以下、さらに好ましくは2.2以下である。光学フィルムの黄色度が上記の上限以下であると、透明性が良好となり、画像表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。また黄色度は通常−5以上であり、好ましくは−2以上である。なお、黄色度(YI値)は紫外可視近赤外分光光度計を用いて300〜800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Yの式に基づいて算出できる。なお、本明細書において、光学フィルムが光学特性に優れるとは、全光線透過率が高いこと、ヘイズが低いこと、及び/又はYI値が低い(黄色度が低い)ことを意味する。 The yellowness (YI value) of the optical film of the present invention is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, still more preferably 2.2 or less. When the yellowness of the optical film is less than or equal to the above upper limit, the transparency becomes good, and when used for the front plate of the image display device, it is possible to contribute to high visibility. The yellowness is usually -5 or more, preferably -2 or more. Note that the yellowness (YI value) was measured for transmittance for light of 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer to obtain tristimulus values (X, Y, Z), and YI=100×( It can be calculated based on the formula 1.2769X-1.0592Z)/Y. In the present specification, the optical film having excellent optical properties means that the total light transmittance is high, the haze is low, and/or the YI value is low (low yellowness).

本発明の光学フィルムの厚さは、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上、さらに好ましくは25μm以上、特に好ましくは30μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、さらに好ましくは60μm以下であり、これらの上限と下限の組合せであってよい。光学フィルムの厚さが上記範囲内であると、光学フィルムの弾性率をより高めやすい。なお、光学フィルムの厚さは、マイクロメーターを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the optical film of the present invention is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, further preferably 25 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, further preferably 60 μm. It is below, and it may be a combination of these upper and lower limits. When the thickness of the optical film is within the above range, the elastic modulus of the optical film can be easily increased. The thickness of the optical film can be measured using a micrometer, for example, the method described in the examples.

本発明の光学フィルムにおける、耐屈曲性試験における屈曲回数(屈曲半径R=1mm)は、好ましくは150,000回以上、より好ましくは180,000回以上、さらに好ましくは200,000回以上である。屈曲回数が上記の下限以上であると、フレキシブル表示装置等の前面板材料として十分な耐屈曲性を有する。なお、耐屈曲性試験における屈曲回数は、折り曲げ試験機を用いて、屈曲半径(曲率半径)Rが1mmの条件で、光学フィルムの繰り返し折り曲げを行い、該フィルムに割れが生じる時点までの往復の折り曲げ回数(1往復を1回とする)を示す。 The number of times of bending (bending radius R=1 mm) in the bending resistance test of the optical film of the present invention is preferably 150,000 times or more, more preferably 180,000 times or more, and further preferably 200,000 times or more. .. When the number of times of bending is not less than the above lower limit, it has sufficient bending resistance as a front plate material for flexible display devices and the like. In addition, the number of times of bending in the bending resistance test is performed by repeatedly bending the optical film using a bending tester under the condition that the bending radius (curvature radius) R is 1 mm, and making a reciprocating motion until the film is cracked. The number of times of bending (one reciprocation is once) is shown.

<ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂>
本発明の光学フィルムは、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を含む。本明細書において、ポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する樹脂(以下、ポリイミド樹脂ということがある)、並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する樹脂(以下、ポリアミドイミド樹脂ということがある)からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を示す。すなわち、本明細書において、ポリイミド系樹脂とは、ポリイミド樹脂及び/又はポリアミドイミド樹脂である。また、ポリアミド系樹脂とは、アミド基を含む繰返し構造単位を含有する樹脂を示す。本発明の光学フィルムは、1種類のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂を含んでいてもよいし、2種以上のポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を組合せて含んでいてもよい。本発明の光学フィルムは、光学フィルムの化学的安定性と高弾性率を両立しやすい観点から、ポリイミド系樹脂を含むことが好ましく、該ポリイミド系樹脂がポリアミドイミド樹脂であることがより好ましい。
<Polyimide resin and polyamide resin>
The optical film of the present invention contains a polyimide resin and/or a polyamide resin. In the present specification, the polyimide-based resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group (hereinafter sometimes referred to as a polyimide resin), and a resin containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group. At least one resin selected from the group consisting of (hereinafter sometimes referred to as polyamideimide resin) is shown. That is, in the present specification, the polyimide-based resin is a polyimide resin and/or a polyamide-imide resin. The polyamide-based resin refers to a resin containing a repeating structural unit containing an amide group. The optical film of the present invention may contain one kind of polyimide resin or polyamide resin, or may contain two or more kinds of polyimide resin and/or polyamide resin in combination. The optical film of the present invention preferably contains a polyimide-based resin, and more preferably the polyimide-based resin is a polyamide-imide resin, from the viewpoint of easily achieving both chemical stability and high elastic modulus of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムの弾性率をより高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂であることが好ましい。本明細書において、芳香族系の樹脂とは、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂に含まれる構成単位が主に芳香族系の構成単位である樹脂を表す。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin and the polyamide resin are preferably aromatic resins from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film. In the present specification, the aromatic resin means a resin in which the constituent units contained in the polyimide resin and the polyamide resin are mainly aromatic constituent units.

上記の好ましい一実施形態において、光学フィルムの弾性率をより高めやすい観点から、ポリイミド系樹脂に含まれる全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合は、好ましくは60モル%以上、より好ましくは70モル%以上、さらに好ましくは80モル%以上、特に好ましくは85モル%以上である。ここで、芳香族系モノマーに由来する構成単位とは、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含むモノマーに由来し、芳香族系の構造(例えば芳香環)を少なくとも一部に含む構成単位である。芳香族系モノマーとしては、例えば芳香族テトラカルボン酸化合物、芳香族ジアミン、芳香族ジカルボン酸等が挙げられる。 In the above preferred embodiment, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film, the ratio of the structural unit derived from the aromatic monomer to all the structural units contained in the polyimide resin is preferably 60 mol% or more, It is more preferably 70 mol% or more, further preferably 80 mol% or more, and particularly preferably 85 mol% or more. Here, the structural unit derived from an aromatic monomer is derived from a monomer containing an aromatic structure (for example, an aromatic ring) in at least a part thereof, and at least a part of the aromatic structure (for example, an aromatic ring) is included. Is a structural unit included in. Examples of aromatic monomers include aromatic tetracarboxylic acid compounds, aromatic diamines, aromatic dicarboxylic acids, and the like.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)で表される構成単位を有するポリイミド樹脂であるか、又は、式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位を有するポリアミドイミド樹脂であることが好ましい。また、ポリアミド系樹脂は、式(2)で表される構成単位を有するポリアミド樹脂であることが好ましい。以下において式(1)及び式(2)について説明するが、式(1)についての説明は、ポリイミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関し、式(2)についての説明は、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂の両方に関する。

Figure 2020097710
In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin is a polyimide resin having a constitutional unit represented by the formula (1), or a constitutional unit represented by the formula (1) and a formula (2). It is preferably a polyamide-imide resin having the structural unit shown. Further, the polyamide resin is preferably a polyamide resin having a constitutional unit represented by the formula (2). Formulas (1) and (2) will be described below. The formula (1) will be described with respect to both a polyimide resin and a polyamide-imide resin, and the formula (2) will be described with a polyamide resin and a polyamide-imide resin. For both.
Figure 2020097710

式(1)で表される構成単位は、テトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(2)で表される構成単位は、ジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。 The constitutional unit represented by the formula (1) is a constitutional unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the constitutional unit represented by the formula (2) is a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. And are structural units formed by reaction.

式(2)において、Zは、2価の有機基であり、好ましくは炭素数1〜8の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数1〜8の炭化水素基で置換されていてもよい、炭素数4〜40の2価の有機基であり、より好ましくは炭素数1〜8の炭化水素基又はフッ素置換された炭素数1〜8の炭化水素基で置換されていてもよい、環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。Zの有機基として、後述する式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示され、Zのヘテロ環構造としてはチオフェン環骨格を有する基が例示される。光学フィルムの黄色度を抑制(YI値を低減)しやすい観点から、式(20)〜式(27)で表される基、及び、チオフェン環骨格を有する基が好ましい。 In the formula (2), Z is a divalent organic group, preferably Z may be substituted with a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, A cyclic structure, which is a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Represents a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. Examples of the cyclic structure include an alicyclic structure, an aromatic ring structure, and a heterocyclic structure. As the organic group of Z, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula ( 28) and the group represented by the formula (29), a group in which two non-adjacent bonds are replaced by hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and a heterocycle of Z Examples of the structure include groups having a thiophene ring skeleton. From the viewpoint of easily suppressing the yellowness of the optical film (reducing the YI value), groups represented by formulas (20) to (27) and groups having a thiophene ring skeleton are preferable.

本発明の一実施形態において、ポリアミド樹脂及びポリアミドイミド樹脂は、複数種のZを含み得、複数種のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、本発明の光学フィルムの弾性率を高めやすく、かつ、光学特性を高めやすい観点から、Zの少なくとも一部が、式(3):

Figure 2020097710
[式(3)中、
〜Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R〜Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Aは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
mは0〜4の整数であり、
*は結合手を表す]
で表されることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the polyamide resin and the polyamide-imide resin may include a plurality of types of Z, and the plurality of types of Z may be the same or different from each other. Particularly, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film of the present invention and easily improving the optical characteristics, at least a part of Z is represented by the formula (3):
Figure 2020097710
[In Formula (3),
R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and each of R 1 to R 8 is The contained hydrogen atoms may be independently substituted with a halogen atom,
A is, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, R 9 is a hydrogen atom, monovalent 1-12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Represents a hydrocarbon group,
m is an integer of 0 to 4,
* Represents a bond]
It is preferable that

式(3)において、Aは、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、光学フィルムの耐屈曲性の観点から、好ましくは−O−又は−S−を表し、より好ましくは−O−を表す。
、R、R、R、R、R、R、Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1〜6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6〜12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。光学フィルムの表面硬度及び柔軟性の観点から、R〜Rは、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子を表す。ここで、R〜Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、2−メチル−ブチル基、3−メチルブチル基、2−エチル−プロピル基、n−ヘキシル、n−ヘプチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
In the formula (3), A is, independently of one another, a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, -C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents, from bending resistance of the point of view of the optical film, preferably -O- or -S Represents -, more preferably represents -O-.
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, Alternatively, it represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl- group. A butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group and cyclohexyloxy group. Can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and biphenyl group. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently represent preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or 1 to 3 carbon atoms. Represents an alkyl group, more preferably represents a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be independently substituted with a halogen atom.
R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like. And these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

式(3)中のmは0〜4の範囲の整数であり、mがこの範囲内であると、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を向上しやすい。式(3)中のmは、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性をより向上しやすい観点から、好ましくは0〜3の範囲の整数、より好ましくは0〜2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、特に好ましくは0である。mが0である式(3)で表される構成単位は、テレフタル酸に由来する構成単位であり、該構成単位は特に、式(3)中のR〜Rが水素原子であり、mが0である構成単位であることが好ましい。樹脂はZにおいて、式(3)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよい。光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性の向上、黄色度(YI値)低減の観点からは、樹脂はZにおいて、式(3)中のmの値が異なる2種類以上の構成単位を含むことが好ましく、式(3)中のmの値が異なる2種類の構成単位を含むことがより好ましい。この場合、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、光学フィルムの黄色度(YI値)を低減しやすい観点から、樹脂がZにおいて、mが0である式(3)で表される構成単位を含有し、該構成単位に加えてmが1である式(3)で表される構成単位をさらに含有することが特に好ましい。 M in the formula (3) is an integer in the range of 0 to 4, and when m is in this range, the elastic modulus and bending resistance of the optical film are easily improved. M in the formula (3) is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, and further preferably from the viewpoint of easily improving the elastic modulus and the bending resistance of the optical film. 0 or 1, particularly preferably 0. The constitutional unit represented by the formula (3) in which m is 0 is a constitutional unit derived from terephthalic acid, and in the constitutional unit, R 5 to R 8 in the formula (3) are hydrogen atoms, A structural unit in which m is 0 is preferable. The resin in Z may include one type or two or more types of the structural unit represented by the formula (3). From the viewpoint of improving the elastic modulus and bending resistance of the optical film and reducing the yellowness (YI value), the resin in Z may include two or more types of structural units having different values of m in formula (3). It is more preferable to include two types of structural units having different values of m in formula (3). In this case, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of easily reducing the yellowness (YI value) of the optical film, in the formula (3) in which the resin is Z and m is 0, It is particularly preferable to contain the structural unit represented, and in addition to the structural unit, further contain a structural unit represented by the formula (3) in which m is 1.

本発明の好ましい一実施形態において、樹脂は、式(3)で表される構成単位として、m=0であり、かつR〜Rが水素原子である構成単位を有する。より好ましい本発明の一実施形態において、樹脂は、式(3)で表される構成単位として、m=0であり、かつR〜Rが水素原子である構成単位と、式(3’):

Figure 2020097710
で表される構成単位を有する。この場合、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を向上させやすいと共に、黄色度を低減しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the resin has a structural unit represented by the formula (3), in which m=0 and R 5 to R 8 are hydrogen atoms. In a more preferred embodiment of the present invention, the resin has a constitutional unit represented by the formula (3), m=0, and R 5 to R 8 are hydrogen atoms, and a formula (3′) ):
Figure 2020097710
It has a structural unit represented by. In this case, the elastic modulus and bending resistance of the optical film are easily improved, and the yellowness is easily reduced.

光学フィルムがポリアミドイミド樹脂を含む本発明の好ましい一実施形態において、式(3)で表される構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、特に好ましくは50モル%以上、最も好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(3)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。式(3)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention in which the optical film contains a polyamide-imide resin, the proportion of the constitutional unit represented by the formula (3) is such that the constitutional unit represented by the formula (1) and the formula (2) of the polyamide-imide resin. When the total of the constitutional units represented by is 100 mol%, preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, further preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, most preferably Is 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, and further preferably 80 mol% or less. When the proportion of the structural unit represented by the formula (3) is at least the above lower limit, the elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased. When the proportion of the constitutional unit represented by the formula (3) is at most the above upper limit, the viscosity increase of the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between amide bonds derived from the formula (3) is suppressed, and the processability of the film is improved. Cheap.

また、ポリアミドイミド樹脂がm=1〜4である式(3)で表される構成単位を有する場合、mが1〜4である式(3)で表される構成単位の割合は、ポリアミドイミド樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、好ましくは3モル%以上、より好ましくは5モル%以上、さらに好ましくは7モル%以上、特に好ましくは9モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、特に好ましくは30モル%以下である。mが1〜4である式(3)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。mが1〜4である式(3)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)又は式(3)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 Moreover, when the polyamide-imide resin has a structural unit represented by the formula (3) in which m=1 to 4, the proportion of the structural unit represented by the formula (3) in which m is 1 to 4 is polyamideimide. When the total of the constitutional unit represented by the formula (1) and the constitutional unit represented by the formula (2) of the resin is 100 mol %, preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, further It is preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, further preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less. When the proportion of the structural unit represented by the formula (3) in which m is 1 to 4 is at least the above lower limit, the elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased. When the ratio of the constitutional unit represented by formula (3) in which m is 1 to 4 is equal to or less than the above upper limit, the resin-containing varnish due to the hydrogen bond between amide bonds derived from the constitutional unit represented by formula (3) It is easy to suppress the rise in viscosity and improve the processability of the film. The ratio of the constitutional units represented by the formula (1), the formula (2) or the formula (3) can be measured by using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials. it can.

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、特に好ましくは50モル%以上が、mが0〜4である式(3)で表される構成単位である。Zの上記の下限以上が、mが0〜4である式(3)で表される構成単位であると、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のZの100モル%以下が、mが0〜4である式(3)で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、mが0〜4である式(3)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide resin or polyamide-imide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, further preferably 45 mol% or more, particularly preferably 50 mol%. The above is the constitutional unit represented by the formula (3) in which m is 0 to 4. When the above lower limit of Z is a constituent unit represented by the formula (3) in which m is 0 to 4, the elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide resin or the polyamide-imide resin may be a structural unit represented by the formula (3) in which m is 0 to 4. The proportion of the structural unit represented by the formula (3) in which m is 0 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials. You can also

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリアミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂中のZの、好ましくは5モル%以上、より好ましくは8モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上、特に好ましくは12モル%以上が、mが1〜4である式(3)で表される。ポリアミドイミド樹脂のZの上記の下限以上が、mが1〜4である式(3)で表される場合、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい。また、Zの、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、特に好ましくは30モル%以下が、mが1〜4である式(3)で表される。Zの上記の上限以下が、mが1〜4である式(3)で表される場合、mが1〜4である式(3)で表される構成単位由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のmが1〜4である式(3)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide resin or polyamide-imide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, further preferably 10 mol% or more, particularly preferably 12 mol%. The above is represented by the formula (3) in which m is 1 to 4. When the above-mentioned lower limit of Z of the polyamide-imide resin is represented by the formula (3) in which m is 1 to 4, the elastic modulus and bending resistance of the optical film can be easily increased. Further, Z is preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, further preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less, represented by the formula (3) in which m is 1 to 4. To be done. When the above upper limit of Z or less is represented by the formula (3) in which m is 1 to 4, it is due to inter-amide bond hydrogen bond derived from the structural unit represented by the formula (3) in which m is 1 to 4. It is possible to suppress the increase in viscosity of the resin-containing varnish and improve the processability of the film. The ratio of the structural unit represented by the formula (3) in which m is 1 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials. ..

式(1)及び式(2)において、Xは、互いに独立に、2価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂又はポリアミドイミド樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (1) and (2), X's each independently represent a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably 4 carbon atoms having a cyclic structure. Represents a divalent organic group of ˜40. Examples of the cyclic structure include an alicyclic structure, an aromatic ring structure, and a heterocyclic structure. The organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case, the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably Is 1-8. In one embodiment of the present invention, the polyamide resin, the polyimide resin, or the polyamideimide resin may include a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. X is represented by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula (18). A group having a hydrogen atom in the group represented by the formula (10) to the formula (18) substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain having 6 or less carbon atoms A formula hydrocarbon group is illustrated.

Figure 2020097710
Figure 2020097710

式(10)〜式(18)中、
*は結合手を表し、
、V及びVは、互いに独立に、単結合、−O−、−S−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−CO−又は−N(Q)−を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1〜12の1価の炭化水素基としては、Rについて上記に述べた基が挙げられる。
1つの例は、V及びVが単結合、−O−又は−S−であり、かつ、Vが−CH−、−C(CH−、−C(CF−又は−SO−である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。
In formula (10) to formula (18),
* Represents a bond,
V 1, V 2 and V 3 independently of one another, a single bond, -O -, - S -, - CH 2 -, - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C ( CF 3) 2 -, - SO 2 -, - CO- or -N (Q) - represents a. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .
One example is a single bond V 1 and V 3, -O- or -S-, and, V 2 is -CH 2 -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 - or -SO 2 - is. The bonding position of each of V 1 and V 2 with respect to each ring and the bonding position of each of V 2 and V 3 with respect to each ring are independently of each other, preferably a meta position or a para position, and more preferably a para position. Rank.

式(10)〜式(18)で表される基の中でも、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V、V及びVは、光学フィルムの弾性率及び柔軟性を高めやすい観点から、互いに独立に、好ましくは単結合、−O−又は−S−、より好ましくは単結合又は−O−である。 Among the groups represented by the formulas (10) to (18), the formulas (13), (14), (15), and (16) are used from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and bending resistance of the optical film. ) And the group represented by Formula (17) are preferable, and the groups represented by Formula (14), Formula (15) and Formula (16) are more preferable. Further, V 1 , V 2 and V 3 are preferably a single bond, —O— or —S—, more preferably a single bond or −, independently of each other, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and flexibility of the optical film. O-.

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)及び式(2)中の複数のXの少なくとも一部は、式(4):

Figure 2020097710
[式(4)中、
10〜R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す]
で表される構成単位である。式(1)及び式(2)中の複数のXの少なくとも一部が式(4)で表される基であると、光学フィルムの弾性率及び透明性を高めやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of Xs in formula (1) and formula (2) are represented by formula (4):
Figure 2020097710
[In formula (4),
R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and included in R 10 to R 17 . Hydrogen atoms which are independently of each other may be substituted with a halogen atom,
* Represents a bond]
Is a structural unit represented by. When at least a part of the plurality of Xs in the formulas (1) and (2) is a group represented by the formula (4), the elastic modulus and the transparency of the optical film can be easily increased.

式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として例示した基が挙げられる。R10〜R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R10〜R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10〜R17は、互いに独立に、光学フィルムの弾性率、透明性及び耐屈曲性の観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR10、R12、R13、R14、R15、及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特に好ましくはR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In the formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number 1 Represents an alkoxy group having 6 to 6 or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). The group illustrated as a group or a C6-C12 aryl group is mentioned. R 10 to R 17 independently of one another, preferably hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein, R 10 ~ The hydrogen atoms contained in R 17 may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 10 to R 17 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of the elastic modulus, transparency and bending resistance of the optical film, and Preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, and particularly Preferably R 11 and R 17 are methyl groups or trifluoromethyl groups.

本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):

Figure 2020097710
で表される構成単位であり、すなわち、複数のXの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is represented by formula (4′):
Figure 2020097710
That is, at least a part of the plurality of X is a structural unit represented by the formula (4′). In this case, the solubility of the polyimide-based resin or the polyamide-based resin in the solvent by the skeleton containing the elemental fluorine is increased, the storage stability of the varnish containing the resin is easily improved, and the viscosity of the varnish is easily reduced. , Easy to improve the processability of the optical film. Further, the skeleton containing elemental fluorine easily improves the optical characteristics of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、特に式(4’)で表される。ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂における上記範囲内のXが式(4)、特に式(4’)で表される場合、得られる光学フィルムは、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性も向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、特に式(4’)で表される。上記樹脂中のXは式(4)、特に式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, X in the polyimide-based resin or the polyamide-based resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of the formula (4), Particularly, it is represented by the formula (4′). When X in the above range in the polyimide-based resin or the polyamide-based resin is represented by the formula (4), particularly the formula (4′), the obtained optical film has a skeleton containing an elemental fluorine, and thus the resin is dissolved in the solvent. The varnish containing the resin is easily improved in storage stability, the viscosity of the varnish is easily reduced, and the processability of the optical film is easily improved. Further, due to the skeleton containing elemental fluorine, the optical characteristics of the optical film are likely to be improved. Preferably, 100 mol% or less of X in the polyimide resin or polyamide resin is represented by the formula (4), especially the formula (4′). X in the resin may be formula (4), especially formula (4′). The proportion of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

式(1)において、Yは、4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4〜40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられ、弾性率を高めやすい観点からは、好ましくは芳香環が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a C4-40 tetravalent organic group, and more preferably a C4-40 tetravalent organic group having a cyclic structure. Represents a group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure, and from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus, an aromatic ring is preferable. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, in which case, a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group The carbon number is preferably 1-8. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may include a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same as or different from each other. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) And a group represented by the formula (29); a group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; Further, a chain hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms and having 6 or less carbon atoms is exemplified.

Figure 2020097710
Figure 2020097710

式(20)〜式(29)中、*は結合手を表し、Wは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−又は−Ar−SO−Ar−を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。 In the formula (20) to (29), * represents a bond, W 1 is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, -C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - Ar -, - SO 2 -, - CO -, - O-Ar-O -, - Ar-O-Ar -, - Ar- CH 2 -Ar -, - Ar- C (CH 3) represents a 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be replaced by a fluorine atom, and a specific example thereof is a phenylene group.

式(20)〜式(29)で表される基の中でも、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすいと共に、光学フィルムの黄色度を低減しやすい観点から、互いに独立に、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−であることが好ましく、単結合、−O−、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−又は−C(CF−であることがより好ましく、単結合、−C(CH−又は−C(CF−であることがさらに好ましい。 Among the groups represented by formulas (20) to (29), represented by formula (26), formula (28) or formula (29) from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and flex resistance of the optical film. A group is preferable, and a group represented by formula (26) is more preferable. W 1 is a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH independently of each other from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and bending resistance of the optical film and easily reducing the yellowness of the optical film. 2 -CH 2 -, - CH ( CH 3) -, - C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 - is preferably a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 -, more preferably a single bond, -C (CH 3) 2 - or -C (CF 3) 2 It is more preferable that it is −.

本発明の好ましい一実施形態において、複数の式(1)中のYの少なくとも一部は、式(5):

Figure 2020097710
[式(5)中、
18〜R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す]
で表される構成単位である。複数の式(1)中のYの少なくとも一部が式(5)で表される基であると、ポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、ポリイミド系樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、光学フィルムの弾性率及び光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of Y in formulas (1) is represented by formula (5):
Figure 2020097710
[In formula (5),
R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and included in R 18 to R 25 . Hydrogen atoms which are independently of each other may be substituted with a halogen atom,
* Represents a bond]
Is a structural unit represented by. When at least a part of Y in the plurality of formulas (1) is a group represented by the formula (5), the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased, and the viscosity of the varnish containing the polyimide resin is reduced. It is easy to improve the processability of the optical film. In addition, it is easy to improve the elastic modulus and the optical characteristics of the optical film.

式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24及びR25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基を表す。炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基としては、式(3)における炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基又は炭素数6〜12のアリール基として上記に例示のものが挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、ここで、R18〜R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。R18〜R25は、互いに独立に、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点、並びに、透明性を高めやすいと共に、該透明性を維持しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、よりさらに好ましくはR18、R19、R20、R23、R24及びR25が水素原子、R21及びR22が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、とりわけ好ましくはR21及びR22がメチル基又はトリフルオロメチル基である。 In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24, and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number 1 Represents an alkoxy group having 6 to 6 or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the formula (3). As the group or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms, those exemplified above can be mentioned. R 18 to R 25 are, independently of one another, preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon hydrogen atom or atoms, more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein, R 18 ~ The hydrogen atoms contained in R 25 may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom. R 18 to R 25 are, independently of each other, more preferably a hydrogen atom, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of easily increasing the transparency and maintaining the transparency. A methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, and R 21 and R 22 are hydrogen atoms; It is a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

本発明の好ましい一実施形態においては、式(5)で表される構成単位は、式(5’):

Figure 2020097710
で表される基であり、すなわち、複数のYの少なくとも一部は、式(5’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの保管安定性を向上しやすいと共に、該ワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) has the formula (5′):
Figure 2020097710
That is, at least a part of the plurality of Y's is a structural unit represented by the formula (5′). In this case, by increasing the solubility of the polyimide resin in the solvent by the skeleton containing the elemental fluorine, it is easy to improve the storage stability of the varnish containing the resin, it is easy to reduce the viscosity of the varnish, the optical film Easy to improve workability. Further, the skeleton containing elemental fluorine easily improves the optical characteristics of the optical film.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が、式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のYが式(5)、特に式(5’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高め、該樹脂を含有するワニスの粘度を低減しやすく、光学フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、上記ポリイミド系樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂中のYは式(5)、特に式(5’)であってもよい。ポリイミド系樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の割合は、例えばH−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Y in the polyimide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, represented by the formula (5), particularly the formula (5). '). When Y within the above range in the polyimide-based resin is represented by the formula (5), particularly the formula (5′), the skeleton containing the fluorine element enhances the solubility of the polyimide-based resin in the solvent and contains the resin. The viscosity of the varnish is easily reduced, and the processability of the optical film is easily improved. Further, the skeleton containing elemental fluorine easily improves the optical characteristics of the optical film. Preferably, 100 mol% or less of Y in the polyimide resin is represented by the formula (5), especially the formula (5′). Y in the polyimide-based resin may be the formula (5), particularly the formula (5′). The proportion of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured by using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of the raw materials.

ポリイミド系樹脂は、式(1)及び場合により式(2)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むことができる。

Figure 2020097710
The polyimide-based resin includes a structural unit represented by formula (30) and/or a structural unit represented by formula (31) in addition to the structural unit represented by formula (2). Can be included.
Figure 2020097710

式(30)において、Yは4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、該式(20)〜式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。 In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 1 , equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), equation (28) and A group represented by the formula (29), a group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and Examples are tetravalent chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms. In an embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may include a plurality of types of Y 1 , and the plurality of types of Y 1 may be the same as or different from each other.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。 In formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y 2 , the above formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) ) And a group represented by the formula (29) in which any one of the bonds is replaced by a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may include a plurality of types of Y 2 , and the plurality of types of Y 2 may be the same as or different from each other.

式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。X及びXとしては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;該式(10)〜式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are each independently a divalent organic group, preferably a hydrocarbon group in which a hydrogen atom in the organic group is substituted or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Is an organic group which may be substituted with. X 1 and X 2 are the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and A group represented by the formula (18); a group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and A chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)及び/又は式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、光学フィルムの光学特性、弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、上記ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位に基づいて、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H−NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a constitutional unit represented by the formula (1) and/or the formula (2), and optionally a constitutional unit represented by the formula (30) and/or the formula (31). It consists of units. Further, from the viewpoint of easily increasing the optical properties, elastic modulus and flex resistance of the optical film, the proportion of the constitutional units represented by the formulas (1) and (2) in the polyimide resin is represented by the formula (1) and Based on the formula (2) and optionally all the structural units represented by the formula (30) and the formula (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, further preferably 95 mol% or more. Is. In the polyimide-based resin, the ratio of the constitutional units represented by the formula (1) and the formula (2) is the formula (1) and the formula (2), and in some cases, the formula (30) and/or the formula (31). It is usually 100% or less based on all the structural units represented by. The above ratio can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

本発明の一実施形態において、光学フィルム中におけるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上であり、好ましくは99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、光学フィルムの光学特性及び弾性率を向上させやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin and/or polyamide resin in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 30 parts by mass or more, relative to 100 parts by mass of the optical film. It is more preferably 50 parts by mass or more, preferably 99.5 parts by mass or less, and more preferably 95 parts by mass or less. When the content of the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin is within the above range, it is easy to improve the optical characteristics and elastic modulus of the optical film.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、光学フィルムの弾性率及び耐屈曲性を高めやすい観点から、標準ポリスチレン換算で、好ましくは200,000以上、より好ましくは230,000以上、さらに好ましくは250,000以上、さらに好ましくは270,000以上、特に好ましくは300,000以上である。また、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量は、該樹脂の溶媒に対する溶解性を向上しやすいと共に、光学フィルムの延伸性及び加工性を向上しやすい観点から、好ましくは1,000,000以下、より好ましくは800,000以下、さらに好ましくは700,000以下、特に好ましくは500,000以下である。重量平均分子量は、例えばGPC測定を行い、標準ポリスチレン換算によって求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出してよい。 The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide-based resin and the polyamide-based resin is, in terms of standard polystyrene, preferably 200,000 or more, more preferably 230,000 or more, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus and bending resistance of the optical film. , More preferably 250,000 or more, further preferably 270,000 or more, particularly preferably 300,000 or more. The weight average molecular weight of the polyimide-based resin and the polyamide-based resin is preferably 1,000,000 from the viewpoint of easily improving the solubility of the resin in a solvent and easily improving the stretchability and processability of the optical film. Or less, more preferably 800,000 or less, further preferably 700,000 or less, particularly preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be determined by, for example, GPC measurement and standard polystyrene conversion, and may be calculated by the method described in Examples, for example.

ポリアミドイミド樹脂において、式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、特に好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率を高めやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、光学フィルムの加工性を向上させやすい。 In the polyamide-imide resin, the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol, based on 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). Molar or more, more preferably 1.0 mol or more, particularly preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, further preferably 4.5 mol or less. .. When the content of the structural unit represented by the formula (2) is at least the above lower limit, the elastic modulus of the optical film can be easily increased. Further, when the content of the constituent unit represented by the formula (2) is at most the above upper limit, thickening due to hydrogen bonds between amide bonds in the formula (2) is suppressed, and the processability of the optical film is improved. Easy to make.

本発明の好ましい一実施形態において、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、光学フィルムの弾性率を向上させ、かつ黄色度(YI値)を低減させやすい。光学フィルムの弾性率が高いと、該フィルムにおけるキズ及びシワ等の発生を抑制しやすい。また、光学フィルムの黄色度が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin contained in the optical film may contain a halogen atom such as a fluorine atom which can be introduced by, for example, the above-mentioned fluorine-containing substituent. .. When the polyimide resin and/or the polyamide resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the optical film and reduce the yellowness (YI value). When the elastic modulus of the optical film is high, it is easy to suppress generation of scratches and wrinkles in the film. Further, when the yellowness of the optical film is low, the transparency and the visibility of the film tend to be improved. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred examples of the fluorine-containing substituent for containing a fluorine atom in the polyimide resin include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1〜40質量%、より好ましくは5〜40質量%、さらに好ましくは5〜30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、光学フィルムの弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、黄色度をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、合成がしやすくなる。 The content of halogen atoms in the polyimide-based resin and the polyamide-based resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and further preferably, based on the mass of the polyimide-based resin and the polyamide-based resin, respectively. It is 5 to 30 mass %. When the content of halogen atoms is at least the above lower limit, the elastic modulus of the optical film is further improved, the water absorption is lowered, the yellowness is further reduced, and the transparency and the visibility are easily improved. When the content of halogen atoms is at most the above upper limit, synthesis will be facilitated.

ポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上である。光学フィルムの光学特性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization ratio of the polyimide-based resin and the polyamide-imide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and further preferably 96% or more. From the viewpoint of easily improving the optical properties of the optical film, it is preferable that the imidization ratio be equal to or higher than the above lower limit. The upper limit of the imidization ratio is 100% or less. The imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to the double value of the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. When the polyimide-based resin contains a tricarboxylic acid compound, the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide-based resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound. And the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to the total of the above. The imidization ratio can be determined by IR method, NMR method, or the like.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂として、市販品を使用してもよい。ポリイミド樹脂の市販品としては、例えば三菱瓦斯化学(株)製ネオプリム(登録商標)、河村産業(株)製KPI−MX300F等が挙げられる。 Commercially available products may be used as the polyimide resin and the polyamide resin. Examples of commercially available polyimide resins include Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Inc. and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.

本発明において、光学フィルムは、ポリアミド系樹脂を含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミド系樹脂は、式(2)で表される繰り返し構成単位を主とする重合体である。ポリアミド系樹脂における式(2)中のZの好ましい例及び具体例は、ポリイミド系樹脂におけるZの好ましい例及び具体例と同じである。前記ポリアミド系樹脂は、Zが異なる2種類以上の式(2)で表される繰り返し構成単位を含んでいてもよい。 In the present invention, the optical film may contain a polyamide resin. The polyamide-based resin according to this embodiment is a polymer mainly composed of the repeating constitutional unit represented by the formula (2). Preferable examples and specific examples of Z in the formula (2) in the polyamide resin are the same as preferable examples and specific examples of Z in the polyimide resin. The polyamide resin may include two or more kinds of repeating constitutional units represented by the formula (2) having different Zs.

(樹脂の製造方法)
ポリイミド樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミド樹脂は、例えば、ジアミン化合物及びジカルボン酸化合物を主な原料として製造できる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式(3”)で表される化合物を含むことが好ましい。

Figure 2020097710
[式(3”)中、
〜Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、又は炭素数6〜12のアリール基を表し、R〜Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Aは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−、−S−、−CO−又は−N(R)−を表し、
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の1価の炭化水素基を表し、
mは0〜4の整数であり、
31及びR32は、互いに独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基又は塩素原子を表す。] (Resin manufacturing method)
Polyimide resin, for example, can be produced using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as the main raw materials, polyamideimide resin, for example, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound and a diamine compound can be produced as the main raw material, the polyamide resin is For example, a diamine compound and a dicarboxylic acid compound can be used as main raw materials. Here, the dicarboxylic acid compound preferably contains at least a compound represented by the formula (3″).
Figure 2020097710
[In the formula (3"),
R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and each of R 1 to R 8 is The contained hydrogen atoms may be independently substituted with a halogen atom,
A represents a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 -, - S -, - CO- or -N (R 9) - represents,
R 9 represents a hydrogen atom, a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom,
m is an integer of 0 to 4,
R 31 and R 32 each independently represent a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. ]

本発明の好ましい一実施形態において、ジカルボン酸化合物は、mが0である、式(3”)で表される化合物である。ジカルボン酸化合物として、mが0である式(3”)で表される化合物に加えて、Aが酸素原子である式(3”)で表される化合物を使用することがより好ましい。また、別の好ましい一実施形態においては、ジカルボン酸化合物は、R31、R32が塩素原子である、式(3”)で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3″), wherein m is 0. The dicarboxylic acid compound is represented by formula (3″), wherein m is 0. In addition to the compound represented by the above, it is more preferable to use the compound represented by the formula (3″) in which A is an oxygen atom. In another preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is R 31 , A compound represented by the formula (3″), wherein R 32 is a chlorine atom. Moreover, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound.

樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of the diamine compound used for producing the resin include aliphatic diamines, aromatic diamines, and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, the "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and may have an aliphatic group or another substituent in a part of its structure. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring, but are not limited thereto. Of these, a benzene ring is preferable. The "aliphatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to the aliphatic group, and may have an aromatic ring or other substituent in a part of its structure.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamine such as hexamethylenediamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine and 4,4′. Examples thereof include cycloaliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane. These may be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばp−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 As the aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, etc. , An aromatic diamine having one aromatic ring, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3′- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4 -Aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB and May be described), 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene , 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene and the like, and aromatic diamines having two or more aromatic rings. These may be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone. ,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2 ,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2′-bis( Trifluoromethyl)-4,4′-diaminodiphenyl (TFMB) and 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, more preferably 4,4′-diaminodiphenylmethane and 4,4′-diaminodiphenyl. Propane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2- Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'- It is bis(4-aminophenoxy)biphenyl. These may be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物の中でも、光学フィルムの高弾性率、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)を用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure is selected from the viewpoint of high elastic modulus, high transparency, high flexibility, high bending resistance and low colorability of the optical film. It is preferable to use. One selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use the above, and it is further preferable to use 2,2′-bis(trifluoromethyl)-4,4′-diaminodiphenyl (TFMB).

樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used for producing the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. To be The tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound in addition to the dianhydride.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, a monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride and a condensed polycyclic aromatic tetraanhydride. Examples include carboxylic acid dianhydride. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3′,4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride and 2,2 ',3,3'-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride ,3,3',4,4'-Diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-di) Carboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (described as 6FDA , 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,3) 4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3 -Dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride. Examples of monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. Examples thereof include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

これらの中でも、好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Among these, 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride and 2,2',3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride are preferable. Anhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyl Sulfonetetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2- Bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl) Ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3 ,4-Dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p- Examples thereof include phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride and 4,4′-(m-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride, and more preferably 4,4′-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3′, 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) , Bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride and 4,4′-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid dianhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル3,3’−4,4’−テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride. The cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. , 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2 .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3′-4,4′-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof. .. These may be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. These may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use combining cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムの高表面硬度、高透明性、高柔軟性、高屈曲耐性、及び低着色性の観点から、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物がより好ましく、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)がさらに好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,4′-oxydiphthalic dianhydride, from the viewpoint of high surface hardness, high transparency, high flexibility, high bending resistance, and low colorability of the optical film. 3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride ,3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene ) Diphthalic acid dianhydride, and mixtures thereof are preferable, and 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride, and These mixtures are more preferable, and 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (6FDA) is further preferable.

樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、4,4’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸や4,4’−オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;3,3’−ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−若しくはフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)、テレフタロイルクロリドが好ましく、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)とテレフタロイルクロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。 As the dicarboxylic acid compound used for producing the resin, terephthalic acid, 4,4′-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds are preferably used. In addition to terephthalic acid, 4,4′-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of the other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids and their related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more kinds may be used in combination. Specific examples include isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; dicarboxylic acid compounds of chain hydrocarbons having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids. but a single bond, -CH 2 -, - C ( CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 - or a compound linked phenylene groups and their acid chlorides compounds. As a specific example, 4,4′-oxybis(benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are preferable, and it is more preferable to use 4,4′-oxybis(benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride in combination.

なお、上記ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 The polyimide-based resin is obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid and their anhydrides and derivatives, in addition to the tetracarboxylic acid compound, within a range that does not impair various physical properties of the optical film. Good.

テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid include a water adduct of an anhydride of the above tetracarboxylic acid compound.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6−ナフタレントリカルボン酸−2,3−無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−O−、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−若しくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more kinds may be used in combination. Specific examples thereof include 1,2,4-benzenetricarboxylic acid anhydride; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; phthalic anhydride and benzoic acid are single bonds, -O- , -CH 2 -, - C ( CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 - or a compound linked phenylene group.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とするポリイミド系樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and/or the dicarboxylic acid compound used can be appropriately selected according to the ratio of each constituent unit of the desired polyimide resin.

樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5〜350℃、好ましくは20〜200℃、より好ましくは25〜100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分〜10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい態様では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せ(混合溶媒)などが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, more preferably 25 to 100°C. Although the reaction time is not particularly limited, it is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is carried out under normal pressure and/or an inert gas atmosphere with stirring. In addition, the reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, for example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, Alcohol-based solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; ester-based solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, heptane; alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; toluene, xylene Aromatic hydrocarbon solvent such as acetonitrile; Nitrile solvent such as acetonitrile; Ether solvent such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvent such as chloroform and chlorobenzene; Amide such as N,N-dimethylacetamide, N,N-dimethylformamide Examples thereof include system solvents; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof (mixed solvent). Among these, amide solvents can be preferably used from the viewpoint of solubility.

ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N−エチルピペリジン、N−プロピルピペリジン、N−ブチルピロリジン、N−ブチルピペリジン、及びN−プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2−メチルピリジン(2−ピコリン)、3−メチルピリジン(3−ピコリン)、4−メチルピリジン(4−ピコリン)、2−エチルピリジン、3−エチルピリジン、4−エチルピリジン、2,4−ジメチルピリジン、2,4,6−トリメチルピリジン、3,4−シクロペンテノピリジン、5,6,7,8−テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In the imidization step in the production of a polyimide resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidization catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydro. Alicyclic amine (monocyclic) such as azepine; azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2. 2] Alicyclic amine (polycyclic) such as nonane; and pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2- Ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and Aromatic amines such as isoquinoline. From the viewpoint of facilitating the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in imidization reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride, and aromatics such as phthalic acid. Examples thereof include acid anhydrides.

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により単離(分離精製)してもよく、好ましい態様では、透明ポリアミドイミド樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 Polyimide-based resin and polyamide-based resin are isolated (separated and purified) by a conventional method, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these separation means. Alternatively, in a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol is added to a reaction solution containing a transparent polyamideimide resin to precipitate the resin, and the resin can be isolated by concentration, filtration, drying and the like.

<ナトリウム含有成分>
本発明の光学フィルムは、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及びナトリウムイオンからなる群から選択されるナトリウム含有成分を含有する。本発明の光学フィルムにおけるナトリウム含有成分の含有量は、飛行時間型二次イオン質量分析により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上となるような量であれば特に限定されず、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂の種類に応じて、上記割合(INa/ICH3)が所定の範囲となるように設定すればよい。例えば、本発明の光学フィルムを作製するためのワニスにおけるナトリウム含有成分の含有量は、光学フィルムの弾性率を高めやすい観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは0.002質量%以上、より好ましくは0.004質量%以上、さらに好ましくは0.01質量%以上、さらに好ましくは0.02質量%以上、さらに好ましくは0.03質量%以上、特に好ましくは0.04質量%以上である。本発明の光学フィルムを作製するためのワニスにおけるナトリウム含有成分の含有量の上限は、均質なフィルムを得やすい観点から、ワニス中に含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.1質量%以下である。また、本発明の光学フィルムにおけるナトリウム含有成分の含有量は、光学フィルムの弾性率を高めやすい観点から、光学フィルム中に含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは0.002質量%以上、より好ましくは0.004質量%以上、さらに好ましくは0.01質量%以上、さらに好ましくは0.02質量%以上、さらに好ましくは0.03質量%以上、特に好ましくは0.04質量%以上である。本発明の光学フィルムにおけるナトリウム含有成分の含有量の上限は、均質なフィルムを得られやすい観点からは、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは1質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.1質量%以下である。光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対する、ナトリウム含有成分の含有量は、赤外吸収スペクトルなどの分光学的手法により測定してもよいし、光学フィルムを製造する際に使用したワニスにおける含有量を、光学フィルムにおける含有量としてもよい。なお、ナトリウム含有成分としてナトリウム原子を含む化合物を用いる場合、該化合物は、本発明の効果を損なわない範囲で、光学フィルムを製造する過程において分解等していてもよい。
<Sodium-containing component>
The optical film of the present invention contains a sodium-containing component selected from the group consisting of a compound containing a sodium atom, sodium and sodium ion. The content of the sodium-containing component in the optical film of the present invention is the ratio (I Na /I) of the ionic strength of Na (I Na ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry. CH3 ) is not particularly limited as long as it is 0.2 or more, and the above ratio (I Na /I CH3 ) is within a predetermined range depending on the type of polyimide resin contained in the optical film. You can set it to. For example, the content of the sodium-containing component in the varnish for producing the optical film of the present invention, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film, the total amount of the polyimide-based resin and / or polyamide-based resin contained in the varnish On the other hand, preferably 0.002% by mass or more, more preferably 0.004% by mass or more, further preferably 0.01% by mass or more, further preferably 0.02% by mass or more, further preferably 0.03% by mass. As described above, particularly preferably 0.04 mass% or more. The upper limit of the content of the sodium-containing component in the varnish for producing the optical film of the present invention is, from the viewpoint of easily obtaining a homogeneous film, with respect to the total amount of the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the varnish. , Preferably 1 mass% or less, more preferably 0.5 mass% or less, and further preferably 0.1 mass% or less. Further, the content of the sodium-containing component in the optical film of the present invention, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film, with respect to the total amount of the polyimide-based resin and / or polyamide-based resin contained in the optical film, preferably 0.002% by mass or more, more preferably 0.004% by mass or more, further preferably 0.01% by mass or more, further preferably 0.02% by mass or more, further preferably 0.03% by mass or more, particularly preferably It is 0.04 mass% or more. The upper limit of the content of the sodium-containing component in the optical film of the present invention is preferably 1 with respect to the total amount of the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin contained in the optical film from the viewpoint of easily obtaining a homogeneous film. The content is preferably not more than 0.5% by mass, more preferably not more than 0.5% by mass, further preferably not more than 0.1% by mass. The content of the sodium-containing component with respect to the total amount of the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin contained in the optical film may be measured by a spectroscopic method such as infrared absorption spectrum, or when the optical film is produced. The content of the varnish used in Step 1 may be the content of the optical film. When a compound containing a sodium atom is used as the sodium-containing component, the compound may be decomposed in the process of producing an optical film, as long as the effect of the present invention is not impaired.

ナトリウム原子を含む化合物の種類は特に限定されない。ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂及び溶媒を少なくとも含む樹脂組成物(「ワニス」とも称する)を用いて光学フィルムを製造する場合には、該成分をワニスの溶媒へ溶解させやすく、該成分を光学フィルムに含有させやすい観点から、ナトリウム原子を含む化合物は、好ましくは有機系ナトリウム塩である。有機系ナトリウム塩としては、炭素数1〜6のナトリウムアルコキシド等が挙げられる。なお、樹脂組成物に添加した上記のナトリウム原子を含む化合物が、例えば有機系ナトリウム塩等の形態のまま本発明の光学フィルムに含有される必要はなく、例えば樹脂組成物中に含まれ得る水分やアルコール等との加水分解、他の塩とのイオン交換反応等により、最終的な光学フィルム中で、別の塩を形成していてもよいし、ナトリウム又はナトリウムイオンとして含まれていてもよい。 The type of compound containing a sodium atom is not particularly limited. In the case of producing an optical film using a resin composition containing at least a polyimide resin and/or a polyamide resin and a solvent (also referred to as “varnish”), the component is easily dissolved in the solvent of the varnish, From the viewpoint of easy inclusion in the optical film, the compound containing a sodium atom is preferably an organic sodium salt. Examples of the organic sodium salt include sodium alkoxide having 1 to 6 carbon atoms. The compound containing a sodium atom added to the resin composition does not need to be contained in the optical film of the present invention in the form of, for example, an organic sodium salt or the like, and for example, water that may be contained in the resin composition. Another salt may be formed in the final optical film by hydrolysis with a salt, alcohol or the like or an ion exchange reaction with another salt, or may be contained as sodium or sodium ion. ..

<添加剤>
本発明の光学フィルムは、フィラーを含んでよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられる。フィラーは、光学フィルムの弾性率を高めやすく、光学フィルムの耐衝撃性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子であり、より好ましくはシリカ粒子である。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
<Additive>
The optical film of the present invention may include a filler. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles. Examples of the inorganic particles include silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, metal oxide particles such as cerium oxide, magnesium fluoride, fluorine. Examples thereof include metal fluoride particles such as sodium fluoride. The filler is preferably silica particles, zirconia particles, or alumina particles, more preferably silica particles, from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film and improving the impact resistance of the optical film. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、さらに好ましくは15nm以上、特に好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、さらに好ましくは80nm以下、よりさらに好ましくは70nm以下、とりわけ好ましくは60nm以下、とりわけさらに好ましくは50nm以下、特に好ましくは40nm以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡(TEM)や走査型電子顕微鏡(SEM)の画像解析により、一次粒子径(平均一次粒子径)を測定してもよい。 The average primary particle diameter of the filler, preferably silica particles, is 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, further preferably 15 nm or more, particularly preferably 20 nm or more, preferably 100 nm or less, more preferably 90 nm. Or less, more preferably 80 nm or less, still more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, particularly preferably 50 nm or less, particularly preferably 40 nm or less. When the average primary particle diameter of the silica particles is within the above range, aggregation of the silica particles is suppressed and the optical properties of the obtained optical film are easily improved. The average primary particle diameter of the filler can be measured by the BET method. The primary particle size (average primary particle size) may be measured by image analysis with a transmission electron microscope (TEM) or a scanning electron microscope (SEM).

本発明の光学フィルムがフィラー、好ましくはシリカ粒子を含有する場合、フィラーの含有量は、光学フィルム100質量部に対して、通常0.1質量部以上、好ましくは1質量部以上、より好ましくは5質量部以上、さらに好ましくは10質量部以上、さらによりに好ましくは20質量部以上、とりわけ好ましくは30質量部以上であり、好ましくは60質量部以下である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、得られる光学フィルムの弾性率を向上しやすい。また、フィラーの含有量が上記の上限以下であると、光学フィルムの光学特性を向上しやすい。 When the optical film of the present invention contains a filler, preferably silica particles, the content of the filler is usually 0.1 part by mass or more, preferably 1 part by mass or more, and more preferably 100 parts by mass of the optical film. It is 5 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more, even more preferably 20 parts by mass or more, particularly preferably 30 parts by mass or more, and preferably 60 parts by mass or less. When the content of the filler is at least the above lower limit, the elastic modulus of the obtained optical film can be easily improved. Moreover, when the content of the filler is not more than the above upper limit, the optical characteristics of the optical film are likely to be improved.

本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤をさらに含有してもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。紫外線吸収剤は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、得られる光学フィルムを画像表示装置等に適用した場合に視認性を高めることができる。本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。 The optical film of the present invention may further contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those usually used as an ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may include a compound that absorbs light having a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. The ultraviolet absorbers can be used alone or in combination of two or more kinds. Since the optical film contains the ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, and thus the visibility can be improved when the obtained optical film is applied to an image display device or the like. In the present specification, the “system compound” refers to a derivative of the compound to which the “system compound” is attached. For example, “benzophenone-based compound” refers to a compound having benzophenone as a base skeleton and a substituent bonded to benzophenone.

光学フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは1質量部以上、より好ましくは2質量部以上、さらに好ましくは3質量部以上であり、好ましくは10質量部以下、より好ましくは8質量部以下、さらに好ましくは6質量部以下である。好適な含有量は用いる紫外線吸収剤により異なるが、400nmの光線透過率が20〜60%程度になるように紫外線吸収剤の含有量を調節すると、光学フィルムの耐光性が高められるとともに、透明性を高めやすい。 When the optical film contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, and further preferably 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the optical film. And preferably 10 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or less, still more preferably 6 parts by mass or less. The suitable content varies depending on the ultraviolet absorber used, but if the content of the ultraviolet absorber is adjusted so that the light transmittance at 400 nm is about 20 to 60%, the light resistance of the optical film is increased and the transparency is improved. It is easy to raise.

本発明の光学フィルムは、フィラー、紫外線吸収剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、pH調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学フィルム100質量部に対して、好ましくは0.001〜20質量部、より好ましくは0.01〜15質量部、さらに好ましくは0.1〜10質量部であってよい。 The optical film of the present invention may further contain an additive other than the filler and the ultraviolet absorber. Examples of other additives include antioxidants, mold release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents. When containing other additives, the content thereof is preferably 0.001 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and further preferably 0.1 to 100 parts by mass of the optical film. It may be from 10 to 10 parts by mass.

(光学フィルムの製造方法)
本発明の光学フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)前記ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオン、並びに及び溶媒を少なくとも含む樹脂組成物(以下において、「ワニス」とも称する)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを支持材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を含む製造方法であってよい。本発明は、本発明の光学フィルムを製造するに適した、ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及びナトリウムイオンからなる群から選択される少なくとも1種のナトリウム含有成分、並びに溶媒を少なくとも含む樹脂組成物も提供する。
(Method of manufacturing optical film)
The method for producing the optical film of the present invention is not particularly limited, but for example, the following steps:
(A) at least one resin selected from the group consisting of the polyimide-based resin and the polyamide-based resin, a compound containing a sodium atom, sodium and/or sodium ions, and a resin composition containing at least a solvent (hereinafter, (Also referred to as "varnish") step (varnish preparation step),
(B) a step of applying a varnish to a support material to form a coating film (application step), and (c) a step of drying the applied liquid (coating film) to form an optical film (optical film forming step) )
It may be a manufacturing method including. The present invention comprises at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins suitable for producing the optical film of the present invention, a compound containing a sodium atom, a group consisting of sodium and sodium ions. There is also provided a resin composition containing at least one selected sodium-containing component and at least a solvent.

ワニス調製工程において、ポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂とナトリウム含有成分とを溶媒に溶解させ、必要に応じて、前記フィラー、紫外線吸収剤等の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。なお、フィラーとしてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散液を、前記樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。 In the varnish preparation step, the varnish is prepared by dissolving the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin and the sodium-containing component in a solvent, and if necessary, adding the filler, an additive such as an ultraviolet absorber, and stirring and mixing. To prepare. When silica particles are used as a filler, a dispersion of a silica sol containing silica particles may be added to the resin with a solvent capable of dissolving the resin, for example, a silica sol obtained by substituting with a solvent used for preparing a varnish described below. ..

ナトリウム含有成分は、本発明の光学フィルム中にナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及びナトリウムイオンからなる群から選択される少なくとも1種を含有させることが可能な成分である限り特に限定されないが、該成分をワニスの溶媒へ溶解させやすく、該成分を光学フィルムに含有させやすい観点から、好ましくはナトリウム原子を含む化合物であり、より好ましくは有機系ナトリウム塩である。有機系ナトリウム塩としては、炭素数1〜6のナトリウムアルコキシド等が挙げられる。ワニスに含有させるナトリウム含有成分は、1種類の成分であってもよいし、2種以上の成分を組合せてもよい。 The sodium-containing component is not particularly limited as long as it is a component capable of containing at least one selected from the group consisting of a compound containing a sodium atom, sodium and sodium ion in the optical film of the present invention. From the viewpoint of being easily dissolved in the solvent of the varnish and easily containing the component in the optical film, a compound containing a sodium atom is preferable, and an organic sodium salt is more preferable. Examples of the organic sodium salt include sodium alkoxide having 1 to 6 carbon atoms. The sodium-containing component contained in the varnish may be one type of component or a combination of two or more types of components.

樹脂組成物に含まれるナトリウム含有成分の含有量は、光学フィルムの弾性率を高めやすい観点から、樹脂組成物に含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは0.002質量%以上、より好ましくは0.004質量%以上、さらに好ましくは0.01質量%以上、さらにより好ましくは0.02質量%以上、とりわけ好ましくは0.03質量%以上、特に好ましくは0.04質量%以上である。本発明の樹脂組成物におけるナトリウム含有成分の含有量の上限は、ワニス粘度の調整性及び成膜性の観点からは、樹脂組成物に含まれるポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂の総量に対して、好ましくは1.0質量%以下、より好ましくは0.5質量%以下、さらに好ましくは0.1質量%以下である。ナトリウム含有成分の含有量が上記の上限以下である場合には、ワニス粘度が高まりすぎることがなく、ワニス中の樹脂固形分を高めやすいため、成膜性を向上させやすい。 The content of the sodium-containing component contained in the resin composition is preferably 0. 0 based on the total amount of the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the resin composition from the viewpoint of easily increasing the elastic modulus of the optical film. 002 mass% or more, more preferably 0.004 mass% or more, further preferably 0.01 mass% or more, even more preferably 0.02 mass% or more, particularly preferably 0.03 mass% or more, particularly preferably 0. It is 0.04 mass% or more. The upper limit of the content of the sodium-containing component in the resin composition of the present invention, from the viewpoint of the varnish viscosity adjusting property and the film forming property, with respect to the total amount of the polyimide-based resin and/or the polyamide-based resin contained in the resin composition. It is preferably 1.0% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, still more preferably 0.1% by mass or less. When the content of the sodium-containing component is less than or equal to the above upper limit, the viscosity of the varnish does not increase too much, and the resin solid content in the varnish is easily increased, so that the film formability is easily improved.

ワニスの調製に用いる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;γ−ブチロラクトン(GBL)、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せ(混合溶媒)が挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1〜25質量%、より好ましくは5〜20質量%、さらに好ましくは5〜15質量%である。 The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the resin. Examples of the solvent include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, sulfolane and the like. And a carbonate-based solvent such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and a combination thereof (mixed solvent). Among these, amide solvents or lactone solvents are preferable. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Further, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, or the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, and further preferably 5 to 15% by mass.

塗布工程において、公知の塗布方法により、支持材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating step, a varnish is coated on the support material to form a coating film by a known coating method. As a known coating method, for example, wire bar coating method, reverse coating, roll coating method such as gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, dipping method, A spray method, a spout molding method and the like can be mentioned.

フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、支持材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後にさらに光学フィルムを乾燥する工程を設けてもよい。塗膜の乾燥は、通常50〜350℃の温度にて行うことができる。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。 In the film forming process, the optical film can be formed by drying the coating film and peeling it from the support material. You may provide the process of drying an optical film further after peeling. The coating film can be dried usually at a temperature of 50 to 350°C. If necessary, the coating film may be dried under an inert atmosphere or a reduced pressure condition.

支持材の例としては、金属系であれば、SUS板、樹脂系であればPETフィルム、PENフィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、他のポリイミド系樹脂フィルム、シクロオレフィン系ポリマー(COP)フィルム、アクリル系フィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、PETフィルム、COPフィルム等が好ましく、さらに光学フィルムとの密着性及びコストの観点から、PETフィルムがより好ましい。 Examples of the support material include SUS plate if it is metal-based, PET film, PEN film if it is resin-based, polyamide resin film, other polyimide resin film, cycloolefin polymer (COP) film, acrylic resin. A film etc. are mentioned. Among them, a PET film, a COP film and the like are preferable from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, and further, a PET film is more preferable from the viewpoint of adhesion to an optical film and cost.

(機能層)
本発明の光学フィルムの少なくとも一方の面には、1以上の機能層が積層されていてもよい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上を組合せて使用できる。光学フィルムが該機能層を有する場合には、光学フィルムの断面にてTOF−SIMSによる測定を行うことが好ましい。
(Functional layer)
One or more functional layers may be laminated on at least one surface of the optical film of the present invention. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer and a refractive index adjusting layer. The functional layer may be used alone or in combination of two or more kinds. When the optical film has the functional layer, it is preferable to measure the cross section of the optical film by TOF-SIMS.

紫外線吸収層は、紫外線吸収の機能を有する層であり、例えば、紫外線硬化型の透明樹脂、電子線硬化型の透明樹脂、及び熱硬化型の透明樹脂から選ばれる主材と、この主材に分散した紫外線吸収剤とから構成される。 The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays, and for example, a main material selected from a transparent resin of an ultraviolet curable type, a transparent resin of an electron beam curable type, and a transparent resin of a thermosetting type, and the main material It is composed of dispersed ultraviolet absorbers.

粘着層は、粘着性の機能を有する層であり、光学フィルムを他の部材に接着させる機能を有する。粘着層の形成材料としては、通常知られたものを用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂組成物又は光硬化性樹脂組成物を用いることができる。この場合、事後的にエネルギーを供給することで樹脂組成物を高分子化し硬化させることができる。 The adhesive layer is a layer having an adhesive function and has a function of adhering the optical film to another member. A commonly known material can be used as the material for forming the adhesive layer. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

粘着層は、感圧型接着剤(Pressure Sensitive Adhesive、PSA)と呼ばれる、押圧により対象物に貼着される層であってもよい。感圧型接着剤は、「常温で粘着性を有し、軽い圧力で被着材に接着する物質」(JIS K6800)である粘着剤であってもよく、「特定成分を保護被膜(マイクロカプセル)に内容し、適当な手段(圧力、熱等)によって被膜を破壊するまでは安定性を保持できる接着剤」(JIS K6800)であるカプセル型接着剤であってもよい。 The pressure-sensitive adhesive layer may be a layer called pressure sensitive adhesive (Pressure Sensitive Adhesive, PSA) that is attached to an object by pressing. The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is "a substance that has tackiness at room temperature and that adheres to an adherend with a light pressure" (JIS K6800), "a protective film (microcapsule) for a specific component". The capsule-type adhesive which is "adhesive capable of maintaining stability until the coating is broken by an appropriate means (pressure, heat, etc.)" (JIS K6800).

色相調整層は、色相調整の機能を有する層であり、光学フィルムを含む積層体を目的の色相に調整することができる層である。色相調整層は、例えば、樹脂及び着色剤を含有する層である。この着色剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、弁柄、チタニウムオキサイド系焼成顔料、群青、アルミン酸コバルト、及びカーボンブラック等の無機顔料;アゾ系化合物、キナクリドン系化合物、アンスラキノン系化合物、ペリレン系化合物、イソインドリノン系化合物、フタロシアニン系化合物、キノフタロン系化合物、スレン系化合物、及びジケトピロロピロール系化合物等の有機顔料;硫酸バリウム、及び炭酸カルシウム等の体質顔料;並びに塩基性染料、酸性染料、及び媒染染料等の染料を挙げることができる。 The hue adjusting layer is a layer having a hue adjusting function, and is a layer capable of adjusting a laminate including the optical film to a desired hue. The hue adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include titanium oxide, zinc oxide, rouge, titanium oxide-based calcined pigment, ultramarine blue, cobalt aluminate, and inorganic pigments such as carbon black; azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, Organic pigments such as perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, slene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and basic dyes, Examples include acid dyes and mordant dyes.

屈折率調整層は、屈折率調整の機能を有する層であり、例えば光学フィルムとは異なる屈折率を有し、光学積層体に所定の屈折率を付与することができる層である。屈折率調整層は、例えば、適宜選択された樹脂、及び場合によりさらに顔料を含有する樹脂層であってもよいし、金属の薄膜であってもよい。屈折率を調整する顔料としては、例えば、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び酸化タンタルが挙げられる。該顔料の平均一次粒子径は、0.1μm以下であってもよい。顔料の平均一次粒子径を0.1μm以下とすることにより、屈折率調整層を透過する光の乱反射を防止し、透明度の低下を防止することができる。屈折率調整層に用いられる金属としては、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ケイ素、酸化インジウム、酸窒化チタン、窒化チタン、酸窒化ケイ素、窒化ケイ素等の金属酸化物又は金属窒化物が挙げられる。 The refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, and has a refractive index different from that of the optical film, for example, and is a layer capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin layer containing an appropriately selected resin and optionally a pigment, or a metal thin film. Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide. The average primary particle diameter of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 μm or less, diffuse reflection of light passing through the refractive index adjusting layer can be prevented, and a decrease in transparency can be prevented. Examples of the metal used for the refractive index adjusting layer include metals such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. An oxide or a metal nitride is mentioned.

本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、例えば上記のようにして製造される光学フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムとの積層体として使用してもよい。飛行時間型二次イオン質量分析により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上である本発明の光学フィルムは、弾性率に優れるため耐衝撃性を有し、画像表示装置等における光学フィルムとして有用なフィルムである。 The optical film of the present invention may be a single layer or a laminate, for example, the optical film produced as described above may be used as it is, or a laminate with another film. May be used as. The optical film of the present invention having a ratio (I Na /I CH3 ) of Na ionic strength (I Na ) to CH 3 ionic strength (I CH3 ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry of 0.2 or more. Is a film having excellent impact resistance due to its excellent elastic modulus, and is useful as an optical film in image display devices and the like.

本発明の好ましい一実施形態において、本発明の光学フィルムは、画像表示装置の前面板、特にフレキシブル表示装置の前面板(ウィンドウフィルム)として有用である。フレキシブル表示装置は、例えば、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する光学フィルムを有する。すなわち、フレキシブル表示装置の前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention is useful as a front plate of an image display device, particularly as a front plate (window film) of a flexible display device. The flexible display device has, for example, a flexible functional layer and an optical film that is superposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display device is arranged on the visible side above the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.

画像表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する全ての画像表示装置が挙げられる。 Examples of the image display device include TVs, smartphones, mobile phones, car navigations, tablet PCs, portable game machines, electronic paper, indicators, bulletin boards, watches, and wearable devices such as smart watches. Examples of the flexible display device include all image display devices having flexible characteristics.

[フレキシブル表示装置]
本発明は、本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置も提供する。フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体は、本発明の光学フィルム(ウィンドウフィルム)、円偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウィンドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ又はウィンドウフィルム、タッチセンサ、円偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に円偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、ウィンドウフィルム、円偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[Flexible display device]
The present invention also provides a flexible display device including the optical film of the present invention. The flexible display device includes a flexible display device laminate and an organic EL display panel. The flexible display device laminate is arranged on the viewing side of the organic EL display panel and is configured to be bendable. The laminate for a flexible display device may contain the optical film (window film) of the present invention, a circularly polarizing plate, and a touch sensor, and the order of laminating them is arbitrary, but the window film, the circularly polarized light from the viewing side may be included. It is preferable that the plate, the touch sensor or the window film, the touch sensor, and the circularly polarizing plate are laminated in this order. The presence of the circularly polarizing plate on the viewing side of the touch sensor is preferable because the pattern of the touch sensor is less visible and the visibility of the display image is improved. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive or the like. In addition, a light-shielding pattern formed on at least one surface of any one of a window film, a circularly polarizing plate, and a touch sensor can be provided.

[ウィンドウフィルム]
ウィンドウフィルムは、フレキシブル画像表示装置の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃又は温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。従来このような保護層としてはガラスが使用されてきたが、フレキシブル画像表示装置におけるウィンドウフィルムはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する。ウィンドウフィルムとして、本発明の光学フィルムを使用してよく、該フィルムのようなフレキシブルな透明基材からなり、少なくとも一面にハードコート層を含んでいてもよい。
[Window film]
The window film is arranged on the viewing side of the flexible image display device and plays a role of protecting the other components from external impacts or environmental changes such as temperature and humidity. Conventionally, glass has been used as such a protective layer, but the window film in a flexible image display device is not rigid and rigid like glass, but has flexible characteristics. The optical film of the present invention may be used as the window film, and it may be made of a flexible transparent substrate such as the film and may include a hard coat layer on at least one surface.

(透明基材)
透明基材の可視域の透過率は、通常70%以上、好ましくは80%以上である。前記透明基材として、本発明のポリイミド系樹脂及び/又はポリアミド系樹脂を含んでなる光学フィルムを使用することが好ましい。本発明の光学フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させてもよい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。前記透明基材の厚さは通常5〜200μm、好ましくは20〜100μmである。
(Transparent substrate)
The transmittance of the transparent substrate in the visible region is usually 70% or higher, preferably 80% or higher. As the transparent substrate, it is preferable to use an optical film containing the polyimide resin and/or the polyamide resin of the present invention. Inorganic particles such as silica, organic particles, rubber particles and the like may be dispersed in the optical film of the present invention. Furthermore, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, plasticizers, heat stabilizers, light stabilizers, infrared absorbers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. You may include the compounding agent of. The thickness of the transparent substrate is usually 5 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm.

(ハードコート)
前記ウィンドウフィルムには透明基材の少なくとも一面にハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、2〜100μmであってもよい。前記ハードコート層の厚さが前記の範囲にあると、十分な耐擦傷性を確保することができ、また耐屈曲性が低下しにくく、硬化収縮によるカール発生の問題が発生し難い傾向がある。
前記ハードコート層は、活性エネルギー線照射、或いは熱エネルギー付与により架橋構造を形成し得る反応性材料を含むハードコート組成物を硬化させて形成することができ、活性エネルギー線照射によるものが好ましい。活性エネルギー線は、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義され、可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線及び電子線などが挙げられ、好ましくは紫外線が挙げられる。前記ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有する。
(Hard coat)
The window film may be provided with a hard coat layer on at least one surface of the transparent substrate. The thickness of the hard coat layer is not particularly limited and may be, for example, 2 to 100 μm. When the thickness of the hard coat layer is within the above range, sufficient scratch resistance can be ensured, bending resistance is unlikely to decrease, and a problem of curling due to curing shrinkage tends not to occur. ..
The hard coat layer can be formed by curing a hard coat composition containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by irradiation with active energy rays or application of heat energy, and irradiation with active energy rays is preferable. Active energy rays are defined as energy rays capable of decomposing compounds that generate active species to generate active species, such as visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays and electron rays. And the like, and preferably ultraviolet rays. The hard coat composition contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.

前記ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性基を有する化合物である。前記ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素‐炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられ、具体的には、ビニル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。なお、前記ラジカル重合性化合物が2個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。前記ラジカル重合性化合物が1分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上である。前記ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、好ましくは(メタ)アクリロイル基を有する化合物が挙げられ、具体的には1分子中に2〜6個の(メタ)アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレートと称される分子内に数個の(メタ)アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーが挙げられ、好ましくはエポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート及びポリエステル(メタ)アクリレートから選択された1種以上が挙げられる。 The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radical polymerizable group contained in the radical polymerizable compound may be any functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically, a vinyl group. And (meth)acryloyl group. When the radical-polymerizable compound has two or more radical-polymerizable groups, these radical-polymerizable groups may be the same or different. The number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. From the viewpoint of high reactivity, the radical-polymerizable compound is preferably a compound having a (meth)acryloyl group. Specifically, 2 to 6 (meth)acryloyl groups are included in one molecule. A compound called a polyfunctional acrylate monomer, an epoxy (meth)acrylate, a urethane (meth)acrylate, or a polyester (meth)acrylate, which has several (meth)acryloyl groups in the molecule, has a molecular weight of from several hundred. Thousands of oligomers may be mentioned, preferably one or more selected from epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate and polyester (meth)acrylate.

前記カチオン重合性化合物は、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。前記カチオン重合性化合物が1分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、好ましくは2以上であり、より好ましくは3以上である。
また、前記カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも1種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。
エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂;脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル(メタ)アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールFや水添ビスフェノールA等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。
The cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group and a vinyl ether group. The number of cationically polymerizable groups contained in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.
In addition, as the cationically polymerizable compound, among others, a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as a cationically polymerizable group is preferable. A cyclic ether group such as an epoxy group or an oxetanyl group is preferable from the viewpoint that the shrinkage accompanying the polymerization reaction is small. In addition, compounds having an epoxy group among cyclic ether groups are easily available as compounds having various structures, do not adversely affect the durability of the obtained hard coat layer, and easily control the compatibility with the radically polymerizable compound. There is an advantage that. Further, among the cyclic ether groups, the oxetanyl group is more likely to have a higher degree of polymerization than the epoxy group and has low toxicity, and accelerates the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound of the obtained hard coat layer, and radicals. Even in a region mixed with a polymerizable compound, there is an advantage that an unreacted monomer is not left in the film and an independent network is formed.
As the cationically polymerizable compound having an epoxy group, for example, a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring or a cyclohexene ring, a cyclopentene ring-containing compound, hydrogen peroxide, with a suitable oxidizing agent such as peracid Alicyclic epoxy resin obtained by epoxidation; polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or alkylene oxide adduct thereof, polyglycidyl ester of aliphatic long-chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth)acrylate, Aliphatic epoxy resins such as copolymers; glycidyl ethers produced by the reaction of bisphenol A, bisphenol F, bisphenols such as hydrogenated bisphenol A, or derivatives thereof such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts with epichlorohydrin, And glycidyl ether type epoxy resins derived from bisphenols, such as novolac epoxy resins.

前記ハードコート組成物は重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等が挙げられ、適宜選択して用いられる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。
ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。
活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるType1型ラジカル重合開始剤と、3級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するType2型ラジカル重合開始剤があり、それらは単独で又は併用して使用される。
カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄(II)錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射又は加熱のいずれかあるいはいずれでもカチオン重合を開始することができる。
The hard coat composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators, etc., which are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of irradiation with active energy rays and heating to generate radicals or cations, thereby promoting radical polymerization and cation polymerization.
The radical polymerization initiator may be any one that can release a substance that initiates radical polymerization by at least one of irradiation with active energy rays and heating. Examples of thermal radical polymerization initiators include hydrogen peroxide, organic peroxides such as perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.
As the active energy ray radical polymerization initiator, a Type 1 type radical polymerization initiator that produces a radical by decomposition of a molecule and a Type 2 type radical polymerization initiator that produces a radical by a hydrogen abstraction type reaction coexisting with a tertiary amine Yes, they are used alone or in combination.
Any cationic polymerization initiator may be used as long as it can release a substance that initiates cationic polymerization by irradiation with active energy rays and/or heating. As the cationic polymerization initiator, an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, a cyclopentadienyl iron(II) complex or the like can be used. These can initiate cationic polymerization either by irradiation with active energy rays or by heating, or both, depending on the difference in structure.

前記重合開始剤は、前記ハードコート組成物全体100質量%に対して好ましくは0.1〜10質量%を含むことができる。前記重合開始剤の含量が前記の範囲にあると、硬化を十分に進行させることができ、最終的に得られる塗膜の機械的物性や密着力を良好な範囲とすることができ、また、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生し難くなる傾向がある。 The polymerization initiator may be included in an amount of preferably 0.1 to 10% by mass based on 100% by mass of the entire hard coat composition. When the content of the polymerization initiator is in the above range, curing can be sufficiently advanced, and the mechanical properties and adhesion of the finally obtained coating film can be set in a good range, and Poor adhesion due to curing shrinkage, cracking and curling tend to occur less easily.

前記ハードコート組成物は、溶剤及び添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。
前記溶剤は、前記重合性化合物及び重合開始剤を溶解又は分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られている溶剤であれば、本発明の効果を阻害しない範囲で、使用することができる。
前記添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。
The hard coat composition may further include one or more selected from the group consisting of a solvent and an additive.
The solvent is a solvent that can dissolve or disperse the polymerizable compound and the polymerization initiator, if the solvent is known as a solvent of the hard coat composition of the present technical field, does not impair the effects of the present invention Can be used in a range.
The additive may further include inorganic particles, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, an antistatic agent, a lubricant, an antifouling agent, and the like.

[偏光板]
本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置は、偏光板をさらに備えていてもよい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右若しくは左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
[Polarizer]
The flexible display device including the optical film of the present invention may further include a polarizing plate. The circularly polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only the right or left circularly polarized light component by laminating a λ/4 retardation plate on a linearly polarizing plate. For example, by converting the external light into right circularly polarized light and blocking the external light reflected by the organic EL panel to become left circularly polarized light, and transmitting only the luminescent component of the organic EL, the influence of reflected light is suppressed and the image is displayed. It is used to make it easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ/4 retardation plate are theoretically required to be 45°, but they are practically 45±10°. The linearly polarizing plate and the λ/4 retardation plate are not necessarily required to be laminated adjacent to each other as long as the relationship between the absorption axis and the slow axis satisfies the above range. It is preferable to achieve perfect circularly polarized light at all wavelengths, but this is not necessary in practice, so the circularly polarizing plate in the present invention also includes an elliptically polarizing plate. It is also preferable to further laminate a λ/4 retardation film on the visible side of the linearly polarizing plate to make the emitted light circularly polarized light to improve the visibility in the state of wearing polarized sunglasses.

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。前記直線偏光板は、直線偏光子単独又は直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。前記直線偏光板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは、0.5〜100μmである。厚さが前記の範囲にあると柔軟性が低下し難い傾向にある。
前記直線偏光子は、ポリビニルアルコール(PVA)系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したPVA系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、又はPVAに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。前記フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はPVA系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるPVA系フィルムの厚さは好ましくは10〜100μmであり、延伸倍率は好ましくは2〜10倍である。
さらに前記偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子であってもよい。前記液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。前記液晶性化合物は液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していると高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、液晶性化合物は重合性官能基を有していることも好ましい。
The linearly polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting light oscillating in the transmission axis direction but blocking polarized light of an oscillating component perpendicular thereto. The linear polarizing plate may be configured to include a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness is in the above range, the flexibility tends to be difficult to decrease.
The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (PVA) film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed on a PVA-based film oriented by stretching or is stretched in a state of being adsorbed on PVA, whereby the dichroic dye is oriented and exhibits polarization performance. The production of the film-type polarizer may further include steps such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying. The stretching and dyeing steps may be performed on the PVA film alone, or may be performed in a state of being laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 μm, and the stretching ratio is preferably 2 to 10 times.
Further, as another example of the polarizer, a liquid crystal coating type polarizer formed by coating a liquid crystal polarizing composition may be used. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystalline compound is only required to have a property of exhibiting a liquid crystal state, and particularly preferably has a higher order alignment state such as a smectic phase because high polarization performance can be exhibited. It is also preferable that the liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

前記二色性色素は、前記液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。
前記液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。
前記液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することにより製造される。
液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは好ましくは0.5〜10μm、より好ましくは1〜5μmであってもよい。
前記配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。前記配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。前記配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類を使用できる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。前記配向剤として使用される高分子の重量平均分子量が10,000〜1,000,000程度であってもよい。前記配向膜の厚さは、配向規制力の観点から、好ましくは5〜10,000nm、より好ましは10〜500nmである。前記液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
The dichroic dye is a dye that is aligned with the liquid crystal compound and exhibits dichroism, and the dichroic dye itself may have liquid crystallinity or has a polymerizable functional group. You can also Any of the compounds in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.
The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent and the like.
The liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition on the alignment film to form a liquid crystal polarizing layer.
The liquid crystal polarizing layer can be formed thinner than a film type polarizer. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 1 to 5 μm.
The alignment film can be produced, for example, by applying the composition for forming an alignment film on a substrate and imparting the alignment property by rubbing, irradiation of polarized light, or the like. The composition for forming an alignment film may contain a solvent, a cross-linking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent and the like in addition to the alignment agent. As the alignment agent, for example, polyvinyl alcohols, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides can be used. When photo-alignment is applied, it is preferable to use an aligning agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the aligning agent may be about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of the alignment control force. The liquid crystal polarizing layer can be peeled from the base material and transferred to be laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate and a window film.

前記保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、具体的には、用いられる高分子フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネン又はシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の(変性)セルロース類、メチルメタクリレート(共)重合体等のアクリル類、スチレン(共)重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン‐酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などのフィルムが挙げられ、透明性及び耐熱性に優れる点で、好ましくはポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエステル、オレフィン、アクリル又はセルロース系のフィルムが挙げられる。これらの高分子はそれぞれ単独又は2種以上混合して使用することができる。これらのフィルムは未延伸のまま、あるいは1軸又は2軸延伸したフィルムとして使用される。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィルムであってもよい。必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記保護フィルムの厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1〜100μmである。前記保護フィルムの厚さが前記の範囲にあると、保護フィルムの柔軟性が低下し難い。 The protective film may be a transparent polymer film, and specifically, the polymer film used has a monomer unit containing polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, norbornene or cycloolefin. Polyolefins such as cycloolefin derivatives, (modified)celluloses such as diacetylcellulose, triacetylcellulose, propionylcellulose, acrylics such as methylmethacrylate (co)polymers, polystyrenes such as styrene (co)polymers, acrylonitrile -Butadiene-styrene copolymers, acrylonitrile-styrene copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, polyvinyl chlorides, polyvinylidene chlorides, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, poly Films such as polyesters such as arylate, polyamides such as nylon, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyethersulfones, polysulfones, polyvinyl alcohols, polyvinyl acetals, polyurethanes, epoxy resins, etc. Of these, polyamide, polyamide-imide, polyimide, polyester, olefin, acrylic or cellulose-based films are preferable in terms of excellent transparency and heat resistance. These polymers can be used alone or in admixture of two or more. These films are used as unstretched films or as uniaxially or biaxially stretched films. Cellulose type films, olefin type films, acrylic films and polyester type films are preferable. It may be a coating type protective film obtained by applying and curing a cationically curable composition such as an epoxy resin or a radical curable composition such as an acrylate. If necessary, plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, optical brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. May be included. The thickness of the protective film may be 200 μm or less, and preferably 1 to 100 μm. When the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the protective film does not easily deteriorate.

前記λ/4位相差板は、入射光の進行方向に直行する方向(フィルムの面内方向)にλ/4の位相差を与えるフィルムである。前記λ/4位相差板は、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。前記延伸型位相差板の厚さは、200μm以下であってもよく、好ましくは1〜100μmである。厚さが前記の範囲にあるとフィルムの柔軟性が低下し難い傾向にある。
さらに前記λ/4位相差板の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板であってもよい。前記液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。前記液晶塗布型位相差板はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。前記液晶塗布型位相差板は、前記液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。前記液晶偏光層の厚さは、通常0.5〜10μm、好ましくは1〜5μmであってもよい。前記液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、前記基材をそのまま積層することもできる。前記基材が、保護フィルムや位相差板、ウィンドウフィルムの透明基材としての役割を担うことも好ましい。
The λ/4 retardation plate is a film that gives a λ/4 retardation in a direction orthogonal to the traveling direction of incident light (in-plane direction of the film). The λ/4 retardation plate may be a stretchable retardation plate produced by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. If necessary, retarder, plasticizer, ultraviolet absorber, infrared absorber, colorant such as pigment or dye, fluorescent brightening agent, dispersant, heat stabilizer, light stabilizer, antistatic agent, antioxidant. , A lubricant, a solvent, etc. may be contained. The thickness of the stretchable retardation plate may be 200 μm or less, and preferably 1 to 100 μm. When the thickness is in the above range, the flexibility of the film tends to be less likely to decrease.
Further, another example of the λ/4 retardation plate may be a liquid crystal coating type retardation plate formed by applying a liquid crystal composition. The liquid crystal composition contains a liquid crystal compound having a property of exhibiting a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, or smectic. Any compound in the liquid crystal composition, including the liquid crystal compound, has a polymerizable functional group. The liquid crystal coated retardation plate may further contain an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a cross-linking agent, a silane coupling agent and the like. The liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by coating and curing the liquid crystal composition on the alignment film to form the liquid crystal retardation layer as in the case of the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coating type retardation plate can be formed thinner than the stretched type retardation plate. The liquid crystal polarizing layer may have a thickness of usually 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. The liquid crystal coating type retardation plate can be peeled from the base material and transferred to be laminated, or the base material can be laminated as it is. It is also preferable that the base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate and a window film.

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ/4の位相差を達成することはできないので、視感度の高い560nm付近に対してλ/4となるような面内位相差100〜180nm、好ましくは130〜150nmとなるように設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ/4位相差板を用いることは視認性をよくすることができるので好ましい。このような材料としては延伸型位相差板の場合は特開2007‐232873号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開2010‐30979号公報に記載されているものを用いることも好ましい。
また、他の方法としてはλ/2位相差板と組合せることで広帯域λ/4位相差板を得る技術も知られている(特開平10−90521号公報)。λ/2位相差板もλ/4位相差板と同様の材料方法で製造される。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板との組合せは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることは厚さを薄くすることができるので好ましい。
前記円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、正のCプレートを積層する方法も知られている(特開2014‐224837号公報)。正のCプレートも液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であってもよい。厚さ方向の位相差は−200〜−20nm好ましくは−140〜−40nmである。
In general, many materials exhibit large birefringence at shorter wavelengths and smaller birefringence at longer wavelengths. In this case, since a phase difference of λ/4 cannot be achieved in the entire visible light region, an in-plane phase difference of 100 to 180 nm, preferably 130, which is λ/4 near 560 nm where the visibility is high. Often designed to be ~150 nm. It is preferable to use an inverse dispersion λ/4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to the usual one because the visibility can be improved. As such a material, those described in JP-A-2007-232873 in the case of a stretched phase difference plate and those disclosed in JP-A-2010-30979 in the case of a liquid crystal coating type phase difference plate may be used. preferable.
As another method, there is also known a technique for obtaining a broadband λ/4 retardation plate by combining it with a λ/2 retardation plate (Japanese Patent Laid-Open No. 10-90521). The λ/2 retardation plate is also manufactured by the same material method as that of the λ/4 retardation plate. The combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, but it is preferable to use the liquid crystal coating type retardation plate for both because the thickness can be reduced.
There is also known a method of laminating a positive C plate on the circularly polarizing plate in order to enhance visibility in an oblique direction (Japanese Patent Laid-Open No. 2014-224837). The positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretching type retardation plate. The retardation in the thickness direction is -200 to -20 nm, preferably -140 to -40 nm.

[タッチセンサ]
本発明の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置は、タッチセンサをさらに備えていてもよい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域(表示部)に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない領域(非表示部)に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と;前記基板の活性領域に形成された感知パターンと;前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記高分子フィルムと同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、その靱性が2,000MPa%以上であるものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が2,000〜30,000MPa%であってもよい。ここで、靭性は、高分子材料の引張実験を通じて得られる応力(MPa)−歪み(%)曲線(Stress-strain curve)で破壊点までの曲線の下部面積として定義される。
[Touch sensor]
The flexible display device including the optical film of the present invention may further include a touch sensor. The touch sensor is used as an input means. As the touch sensor, various types such as a resistance film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitance type have been proposed, and any type may be used. Of these, the capacitance method is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active region and a non-active region located outside the active region. The active region is a region corresponding to a region where the screen is displayed on the display panel (display unit), and is a region where the user's touch is sensed, and the inactive region is a region where the screen is not displayed on the display device (non-display region). It is an area corresponding to the display part). The touch sensor includes a substrate having flexible characteristics; a sensing pattern formed in an active region of the substrate; formed in an inactive region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad unit. Each sensing line can be included. As the substrate having flexible characteristics, the same material as the polymer film can be used. The toughness of the substrate of the touch sensor is preferably 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, the toughness is defined as the area under the curve to the breaking point in a stress (MPa)-strain (%) curve (Stress-strain curve) obtained through a tensile test of a polymer material.

前記感知パターンは、第1方向に形成された第1パターン及び第2方向に形成された第2パターンを備えることができる。第1パターンと第2パターンは互いに異なる方向に配置される。第1パターン及び第2パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第1パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第2パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第2パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、亜鉛酸化物(ZnO)、インジウム亜鉛スズ酸化物(IZTO)、インジウムガリウム亜鉛酸化物(IGZO)、カドミウムスズ酸化物(CTO)、PEDOT(poly(3,4―ethylenedioxythiophene))、炭素ナノチューブ(CNT)、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。好ましくはITOを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独又は2種以上混合して使用することができる。 The sensing pattern may include a first pattern formed in the first direction and a second pattern formed in the second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and the respective patterns must be electrically connected in order to detect a touched point. The first pattern has a structure in which the unit patterns are connected to each other through a joint, but the second pattern has a structure in which the unit patterns are separated from each other in an island shape. A separate bridge electrode is required to make the connection. A known transparent electrode material can be applied to the sensing pattern. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO). , PEDOT (poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotube (CNT), graphene, metal wire, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Preferably ITO can be used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, terrenium, and chromium. These may be used alone or in combination of two or more.

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して前記絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。前記ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタン又はこれらのうちの2種以上の合金などの金属で形成することもできる。第1パターンと第2パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第1パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第2パターンを接続することができる。前記タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と 、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、前記光学調節層は無機絶縁物質又は有機絶縁物質を含むことができる。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。前記光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。前記無機粒子によって光学調節層の屈折率を上昇させることができる。
前記光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。前記光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。
前記無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。前記光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。
The bridge electrode may be formed on the sensing layer via an insulating layer, and the bridge electrode may be formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern may be formed on the bridge electrode. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, and may be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. You can also do it. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed in the structure of the layer covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor has a difference in transmittance between a pattern area where a pattern is formed and a non-pattern area where a pattern is not formed, specifically, a light transmittance which is induced by a difference in refractive index in these areas. An optical adjustment layer may be further included between the substrate and the electrode as a means for appropriately compensating the difference, and the optical adjustment layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical adjustment layer may be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The inorganic particles can increase the refractive index of the optical adjustment layer.
The photocurable organic binder may include, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.
The inorganic particles can include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, and the like. The photocurable composition may further include various additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

[接着層]
前記フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層(ウィンドウフィルム、円偏光板、タッチセンサ)並びに各層を構成するフィルム部材(直線偏光板、λ/4位相差板等)は接着剤によって接着することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系接着剤、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤(粘着剤)、再湿型接着剤等、汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよく用いられる。接着層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、例えば0.01〜500μm、好ましくは0.1〜300μmである。接着層は、前記フレキシブル画像表示装置用積層体には複数存在してよいが、それぞれの厚さ及び用いられる接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。
[Adhesive layer]
Each layer (window film, circularly polarizing plate, touch sensor) forming the laminate for a flexible image display device and film members (linear polarizing plate, λ/4 retardation plate, etc.) forming each layer are bonded with an adhesive. You can As the adhesive, a water-based adhesive, an organic solvent-based adhesive, a solvent-free adhesive, a solid adhesive, a solvent volatilization adhesive, a moisture-curable adhesive, a heat-curable adhesive, an anaerobic-curable adhesive, active General-purpose adhesives such as energy ray-curable adhesives, curing agent-mixed adhesives, hot-melt adhesives, pressure-sensitive adhesives (adhesives), and rewet adhesives can be used. Of these, water-based solvent volatilizing adhesives, active energy ray-curing adhesives, and pressure-sensitive adhesives are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive strength and the like, and is, for example, 0.01 to 500 μm, preferably 0.1 to 300 μm. A plurality of adhesive layers may be present in the laminate for a flexible image display device, but the thickness of each and the type of adhesive used may be the same or different.

前記水系水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、前記主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合してもよい。前記水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、前記水系水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。前記水系水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01〜10μm、好ましくは0.1〜1μmであってもよい。前期水系溶剤揮散型接着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び前記接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。 As the water-based water-based solvent volatilizing adhesive, polyvinyl alcohol-based polymers, water-soluble polymers such as starch, and water-dispersed polymers such as ethylene-vinyl acetate emulsions and styrene-butadiene-based emulsions can be used as the main polymer. In addition to water and the base polymer, a cross-linking agent, a silane compound, an ionic compound, a cross-linking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent and the like may be added. In the case of bonding with the water-based solvent volatilization type adhesive, the water-based water-based solvent volatilization type adhesive may be injected between the adhered layers to bond the adhered layers and then dried to impart adhesiveness. When the water-based water-based solvent volatilizing adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm. When the former aqueous solvent volatilization type adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive may be the same or different.

前記活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。前記活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも1種の重合物を含有することができる。前記ラジカル重合性化合物とは、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を含むことも好ましい。 The active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that is irradiated with an active energy ray to form an adhesive layer. The active energy ray-curable composition can contain at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the hard coat composition. The radical-polymerizable compound is the same as the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used. As the radically polymerizable compound used in the adhesive layer, a compound having an acryloyl group is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to reduce the viscosity of the adhesive composition.

前記カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物の粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。
活性エネルギー線組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合又はカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。
The cationically polymerizable compound is the same as that used in the hard coat composition, and the same kind as the hard coat composition can be used. An epoxy compound is particularly preferable as the cationically polymerizable compound used in the active energy ray-curable composition. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent to reduce the viscosity of the adhesive composition.
The active energy ray composition may further contain a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators, etc., which can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of irradiation with active energy rays and heating to generate radicals or cations, thereby promoting radical polymerization and cation polymerization. In the description of the hard coat composition, an initiator capable of initiating radical polymerization and/or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

前記活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤によって接着する場合、前記活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれか又は両方に塗布後貼合し、いずれかの被着層又は両方の被着層を通して活性エネルギー線を照射して硬化させることで接着することができる。前記活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは0.01〜20μm、好ましくは0.1〜10μmであってもよい。前期活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層の形成に用いる場合には、それぞれの層の厚さ及び用いられる接着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。 The active energy ray-curable composition is further an ion scavenger, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion promoter, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, a defoaming agent solvent, an additive, a solvent. Can be included. In the case of adhering with the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to either or both of the adherend layers and then laminated, and activated through either adherent layer or both adherent layers. It can be adhered by irradiating it with an energy ray and curing it. When the active energy ray-curable adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

前記粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合してもよい。前記粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、該粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着層(接着層)が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。前記粘着剤を用いる場合の接着層の厚さは1〜500μm、好ましくは2〜300μmであってもよい。前期粘着剤を複数層の形成に用いる場合、それぞれの層の厚さ及び用いられる粘着剤の種類は同じであっても異なっていてもよい。 The pressure-sensitive adhesive may be classified into an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, etc. depending on the base polymer, and any of these may be used. In addition to the base polymer, the adhesive may contain a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, and the like. A pressure-sensitive adhesive layer (adhesive layer) is formed by dissolving and dispersing each component constituting the pressure-sensitive adhesive in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, applying the pressure-sensitive adhesive composition on a substrate, and then drying it. To be done. The adhesive layer may be directly formed, or may be separately formed on a substrate and transferred. It is also preferable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. When the pressure-sensitive adhesive is used, the thickness of the adhesive layer may be 1 to 500 μm, preferably 2 to 300 μm. When the pressure sensitive adhesive is used to form a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of pressure sensitive adhesive used may be the same or different.

[遮光パターン]
前記遮光パターンは前期フレキシブル画像表示装置のベゼル又はハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによって前記フレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。前記遮光パターンは単層又は複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有することができる。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独又は2種類以上の混合物で使用することもできる。前記遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは、通常1〜100μm、好ましくは2〜50μmである。また、遮光パターンの厚さ方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。
[Shading pattern]
The light shielding pattern may be applied as at least a part of a bezel or a housing of the flexible image display device. The light-shielding pattern hides the wiring arranged at the peripheral portion of the flexible image display device to make it difficult to be visually recognized, thereby improving the visibility of the image. The light-shielding pattern may be in the form of a single layer or multiple layers. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and may have various colors such as black, white and metallic colors. The light-shielding pattern can be formed of a pigment for realizing color and a polymer such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, or silicone. These may be used alone or as a mixture of two or more kinds. The light-shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography and inkjet. The thickness of the light-shielding pattern is usually 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm. Further, it is also preferable to provide a shape such as an inclination in the thickness direction of the light shielding pattern.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、それぞれ質量%及び質量部を意味する。まず始めに物性値の測定方法を説明する。なお、表1に示す結果は、以下の測定方法にしたがい測定した結果である。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. Unless otherwise specified, "%" and "parts" in the examples mean% by mass and parts by mass, respectively. First, a method for measuring physical property values will be described. The results shown in Table 1 are the results measured according to the following measuring method.

(重量平均分子量(Mw)の測定)
樹脂の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)を用いて測定した。測定試料の調製方法及び測定条件は次の通りである。
(1)試料調製方法
樹脂を20mg秤りとり、10mLのDMF(10mM臭化リチウム)を加え、完全に溶解させた。この溶液をクロマトディスク(孔径0.45μm)にてろ過し、試料溶液とした。
(2)測定条件
装置:HLC−8020GPC
カラム:ガードカラム+TSKgelα−M(300mm×7.8mm径)×2本+α−2500(300mm×7.8mm径)×1本
溶離液:DMF(10mMの臭化リチウム添加)
流量:1.0mL/min.
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
(Measurement of weight average molecular weight (Mw))
The weight average molecular weight of the resin was measured using gel permeation chromatography (GPC). The method for preparing the measurement sample and the measurement conditions are as follows.
(1) Sample preparation method 20 mg of resin was weighed and 10 mL of DMF (10 mM lithium bromide) was added to completely dissolve the resin. This solution was filtered through a chromatodisc (pore size 0.45 μm) to give a sample solution.
(2) Measurement condition device: HLC-8020GPC
Column: Guard column + TSKgel α-M (300 mm × 7.8 mm diameter) × 2 + α-2500 (300 mm × 7.8 mm diameter) × 1 Eluent: DMF (10 mM lithium bromide added)
Flow rate: 1.0 mL/min.
Detector: RI detector Column temperature: 40°C
Injection volume: 100 μL
Molecular weight standard: Standard polystyrene

(全光線透過率の測定)
光学フィルムの全光線透過率は、JIS K 7105:1981に準拠して、スガ試験機(株)社製の全自動直読ヘイズコンピューターHGM−2DPにより測定した。
(Measurement of total light transmittance)
The total light transmittance of the optical film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. according to JIS K 7105:1981.

(弾性率の測定)
光学フィルムを、ダンベルカッターを用いて10mm×100mmの短冊状にカットし、試験サンプルを得た。この試験サンプルの弾性率を(株)島津製作所製オートグラフAG−ISを用い、チャック間距離50mm、引張速度10mm/minの条件でS−S曲線を測定し、5〜20MPa範囲の傾きから光学フィルムの弾性率(GPa)を算出した。
(Measurement of elastic modulus)
The optical film was cut into a strip of 10 mm×100 mm using a dumbbell cutter to obtain a test sample. The elastic modulus of this test sample was measured using an Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation under the conditions of a chuck distance of 50 mm and a pulling speed of 10 mm/min, and an optical curve was obtained from the inclination of 5 to 20 MPa. The elastic modulus (GPa) of the film was calculated.

(厚さの測定)
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、ABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID−C112BS」)を用いて、光学フィルムの厚さを測定した。
(Measurement of thickness)
With respect to the optical films obtained in Examples and Comparative Examples, the thickness of the optical film was measured using an ABS Digimatic Indicator (“ID-C112BS” manufactured by Mitutoyo Corporation).

(飛行時間型二次イオン質量分析(TOF−SIMS)の測定)
ライカマイクロシステムズ(株)製「ウルトラミクロトーム EM UC6」を用いて、光学フィルムの断面を作製した。
(Time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) measurement)
A cross section of the optical film was prepared using "Ultra Microtome EM UC6" manufactured by Leica Micro Systems.

作製した樹脂フィルムの断面を、TOF−SIMSにより分析した。分析に用いたTOF−SIMS装置と測定条件は、以下の通りである。
(1)装置:ION−TOF社製 「TOF.SIMS V」、
(2)一次イオン:Bi3++
(3)一次イオンの加速電圧:25kV
(4)照射イオン電流:0.23pA
(5)測定条件:バンチング(高質量分解能)モードにて、正イオン・負イオンを測定
(6)測定範囲:200μm×200μm。
The cross section of the produced resin film was analyzed by TOF-SIMS. The TOF-SIMS device used for the analysis and the measurement conditions are as follows.
(1) Device: "TOF.SIMS V" manufactured by ION-TOF,
(2) Primary ion: Bi 3++
(3) Accelerating voltage of primary ion: 25 kV
(4) Irradiation ion current: 0.23 pA
(5) Measurement conditions: Positive ions and negative ions are measured in bunching (high mass resolution) mode. (6) Measurement range: 200 μm×200 μm.

TOF−SIMSのデータ解析は、SurfaceLabを用いた。測定データのマスキャリブレーションを実施し、NaイオンとCHのイオンに帰属されるピークそれぞれについて、ピークの積分値を算出した。Naイオンのピークの積分値をNaのイオン強度INa、CHイオンのピークの積分値をCHのイオン強度ICH3として、比INa/ICH3を算出した。 SurfaceLab was used for TOF-SIMS data analysis. The measurement data was subjected to mass calibration, and the integrated value of the peak was calculated for each of the peaks attributed to Na ions and CH 3 ions. The ratio I Na /I CH3 was calculated with the integrated value of the Na ion peak as the Na ion intensity I Na and the integrated value of the CH 3 ion peak as the CH 3 ion intensity I CH3 .

(粘度の測定)
樹脂組成物の粘度は、次の条件で測定した。
装置名 :LVDV−II+Pro(ブルックフィールド社製)
測定温度 :25℃
スピンドル :CPE−52
サンプル量 :0.8mL
ローター回転速度 :3rpm
(Measurement of viscosity)
The viscosity of the resin composition was measured under the following conditions.
Device name: LVDV-II+Pro (manufactured by Brookfield)
Measurement temperature: 25℃
Spindle: CPE-52
Sample volume: 0.8mL
Rotor rotation speed: 3 rpm

[合成例:ポリアミドイミド樹脂の製造]
十分に乾燥させた撹拌機と温度計を備える反応容器に、窒素を導通させ、容器内を窒素で置換した。該反応容器に、ジメチルアセトアミド(DMAc)1907.2質量部を入れ、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(TFMB)111.94質量部と4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)46.84質量部を加えて反応させた。
次いで、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)(OBBC)10.37質量部とテレフタロイルクロリド(TPC)42.79質量部を加えて反応させた。
次いで、無水酢酸37.66質量部を加え、15分間撹拌した後、4−ピコリン11.45質量部を加え、反応容器を70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
反応液を冷却し、メタノール3794.5質量部を加え、次いでイオン交換水を1419.4質量部滴下し、白色固体を析出させた。析出した白色固体を遠心ろ過により捕集し、メタノールで洗浄することにより、ポリアミドイミド樹脂を含むウェットケーキを得た。得られたウェットケーキを減圧下、78℃で乾燥させることによりポリアミドイミド樹脂の粉体を得た。得られた樹脂の重量平均分子量は466,000であった。
[Synthesis example: manufacture of polyamide-imide resin]
Nitrogen was introduced into a sufficiently dried reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. Into the reaction vessel, 1907.2 parts by mass of dimethylacetamide (DMAc) was put, and 111.94 parts by mass of 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine (TFMB) and 4,4′-(hexafluoroisopropylidene). 46.84 parts by mass of diphthalic dianhydride (6FDA) was added and reacted.
Then, 10.37 parts by mass of 4,4′-oxybis(benzoyl chloride) (OBBC) and 42.79 parts by mass of terephthaloyl chloride (TPC) were added and reacted.
Next, after adding 37.66 parts by mass of acetic anhydride and stirring for 15 minutes, 11.45 parts by mass of 4-picoline was added, the temperature of the reaction vessel was raised to 70° C., and stirring was further performed for 3 hours to obtain a reaction liquid. ..
The reaction liquid was cooled, 3794.5 parts by mass of methanol was added, and then 1419.4 parts by mass of ion-exchanged water was added dropwise to deposit a white solid. The precipitated white solid was collected by centrifugal filtration and washed with methanol to obtain a wet cake containing a polyamideimide resin. The obtained wet cake was dried at 78° C. under reduced pressure to obtain a polyamideimide resin powder. The weight average molecular weight of the obtained resin was 466,000.

[ナトリウム含有成分を含むGBL溶液の製造]
ナトリウム含有成分として、ナトリウムエトキシド(NaOEt、ナトリウム原子を含む化合物)を20質量%含む、ナトリウムエトキシドエタノール溶液(和光純薬工業(株)製)をγ−ブチロラクトン(GBL)で希釈し、ナトリウムエトキシドを0.1質量%の濃度で含有するNaOEt溶液を調製した。
[Production of GBL solution containing sodium-containing component]
As a sodium-containing component, a sodium ethoxide ethanol solution (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) containing 20% by mass of sodium ethoxide (NaOEt, a compound containing a sodium atom) was diluted with γ-butyrolactone (GBL) to obtain sodium. A NaOEt solution containing ethoxide at a concentration of 0.1 mass% was prepared.

[ポリアミドイミド樹脂組成物(ワニス)の製造]
上記合成例で得たポリアミドイミド樹脂、GBL、及び上記のように製造したNaOEt溶液を、各樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有割合及びNaOEtの含有割合が以下の値になるような量で混合し、成膜用のポリアミドイミド樹脂組成物(ワニス)を調製した。各樹脂組成物におけるポリアミドイミド樹脂の含有量は、ポリアミドイミド樹脂組成物の総量に対して、6.3質量%であり、各樹脂組成物におけるNaOEtの含有量は、各樹脂組成物に含まれるポリアミドイミド樹脂の量に対して、それぞれ、0質量%、0.005質量%、0.05質量%、0.1質量%、又は1質量%であった。
[Production of Polyamideimide Resin Composition (Varnish)]
The polyamide-imide resin obtained in the above synthesis example, GBL, and the NaOEt solution produced as described above are mixed in an amount such that the content rate of the polyamide-imide resin and the content rate of NaOEt in each resin composition are the following values. Then, a polyamide-imide resin composition (varnish) for film formation was prepared. The content of the polyamideimide resin in each resin composition is 6.3% by mass with respect to the total amount of the polyamideimide resin composition, and the content of NaOEt in each resin composition is included in each resin composition. It was 0% by mass, 0.005% by mass, 0.05% by mass, 0.1% by mass, or 1% by mass with respect to the amount of the polyamide-imide resin, respectively.

[実施例1、2及び比較例3:ポリイミド系樹脂フィルムの製造]
上記のようにして製造したポリアミドイミド樹脂組成物(NaOEtの含有量が0.05質量%、0.005質量%又は0質量%である樹脂組成物)を、ポリエステル基材(東洋紡(株)製、商品名「A4100」)の平滑面上に自立膜の厚さが55μmとなるようにアプリケーターを用いて塗布し、50℃で30分間、次いで140℃で15分間乾燥後、得られた塗膜をポリエステル基材から剥離して、自立膜を得た。自立膜を金枠に固定し、さらに大気下、200℃で40分間乾燥し、50μmの厚さを有するポリアミドイミド樹脂フィルムを得た。当該フィルムについて各種物性を測定した結果を表1に示す。
[Examples 1 and 2 and Comparative Example 3: Production of polyimide resin film]
The polyamide-imide resin composition produced as described above (resin composition having a NaOEt content of 0.05% by mass, 0.005% by mass or 0% by mass) was used as a polyester substrate (manufactured by Toyobo Co., Ltd.). , The product name "A4100") was applied on a smooth surface using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 μm, dried at 50° C. for 30 minutes, and then at 140° C. for 15 minutes, and the obtained coating film was obtained. Was peeled from the polyester base material to obtain a self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200° C. for 40 minutes in the air to obtain a polyamideimide resin film having a thickness of 50 μm. Table 1 shows the results of measuring various physical properties of the film.

Figure 2020097710
Figure 2020097710

[実施例3及び4:ポリイミド系樹脂組成物の粘度測定]
上記のようにして得た、ポリアミドイミド樹脂の量に対するNaOEtの量の割合が、0質量%、0.1質量%、又は1質量%であるポリアミドイミド樹脂組成物のそれぞれについて、上記の測定方法に従い粘度を測定した。得られた結果を表2に示す。
[Examples 3 and 4: Viscosity measurement of polyimide resin composition]
For each of the polyamideimide resin compositions obtained as described above, the ratio of the amount of NaOEt to the amount of polyamideimide resin is 0% by mass, 0.1% by mass, or 1% by mass. The viscosity was measured according to. The obtained results are shown in Table 2.

Figure 2020097710
Figure 2020097710

表1に示すように、ワニスにNaOEtを添加した、TOF−SIMSによるイオン強度の割合(INa/ICH3)が0.2以上である実施例1及び2の光学フィルムは、高い弾性率を有することが確認された。一方、ワニスにNaOEtを添加しない比較例1の光学フィルムの場合には、十分な弾性率が得られなかった。また、表2に示すように、樹脂組成物にナトリウム含有成分を添加することにより、樹脂組成物の粘度が高くなる傾向があることが確認された。ナトリウム含有成分を添加することにより、樹脂組成物の粘度が高くなる原因は明らかではないが、樹脂中の官能基、例えばイミド結合及び/又はアミド結合と、ナトリウム含有成分(ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及び/又はナトリウムイオン)との間で何らかの相互作用が生じていることが予想される。このような相互作用により、得られる光学フィルムの弾性率の向上がもたらされると考えられるが、当該考察は、本発明を何ら限定するものではない。 As shown in Table 1, the optical films of Examples 1 and 2 in which the ratio of ionic strength by TOF-SIMS (I Na /I CH3 ) obtained by adding NaOEt to the varnish is 0.2 or more has a high elastic modulus. It was confirmed to have. On the other hand, in the case of the optical film of Comparative Example 1 in which NaOEt was not added to the varnish, a sufficient elastic modulus could not be obtained. Further, as shown in Table 2, it was confirmed that the viscosity of the resin composition tends to increase by adding the sodium-containing component to the resin composition. By adding the sodium-containing component, the cause of increasing the viscosity of the resin composition is not clear, but a functional group in the resin, such as an imide bond and / or amide bond, and a sodium-containing component (compound containing a sodium atom, Some interaction is expected to occur with sodium and/or sodium ions. It is considered that such an interaction brings about an improvement in the elastic modulus of the obtained optical film, but the consideration does not limit the present invention in any way.

割合(INa/ICH3)が0.2以上である本発明の光学フィルムは、高い弾性率を有する。本発明の光学フィルムの弾性率は、好ましくは5.0Pa以上、より好ましくは5.1Pa以上、さらに好ましくは5.2Pa以上である。弾性率の上限は特に限定されないが、通常100Pa以下である。なお、弾性率は、引張試験機(例えば、チャック間距離50mm、引張速度10mm/分の条件)を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The optical film of the present invention having a ratio (I Na /I CH3 ) of 0.2 or more has a high elastic modulus. Modulus of the optical film of the present invention is preferably 5.0 G Pa or more, more preferably 5.1 G Pa or more, more preferably 5.2 G Pa or more. The upper limit of the elastic modulus is not particularly limited, but is usually 100 G Pa or less. The elastic modulus can be measured by using a tensile tester (for example, a chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min), and can be measured by, for example, the method described in the examples.

Figure 2020097710
Figure 2020097710

Claims (12)

ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂を含む光学フィルムであって、該光学フィルムの飛行時間型二次イオン質量分析法により得られるCHのイオン強度(ICH3)に対するNaのイオン強度(INa)の割合(INa/ICH3)が0.2以上である、光学フィルム。 An optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, the ionic strength (I) of CH 3 obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry of the optical film. An optical film having a ratio (I Na /I CH3 ) of Na ionic strength (I Na ) to CH3 ) of 0.2 or more. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂は芳香族系の樹脂である、請求項1に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the polyimide resin and the polyamide resin are aromatic resins. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂における全構成単位に対する芳香族系モノマーに由来する構成単位の割合が60モル%以上である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the ratio of the structural unit derived from the aromatic monomer to all the structural units in the polyimide resin and the polyamide resin is 60 mol% or more. 厚さが10〜100μmであり、全光線透過率が80%以上である、請求項1〜3のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, having a thickness of 10 to 100 μm and a total light transmittance of 80% or more. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂の重量平均分子量が200,000以上である、請求項1〜4のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the polyimide-based resin and the polyamide-based resin have a weight average molecular weight of 200,000 or more. ポリイミド系樹脂はポリアミドイミド樹脂である、請求項1〜5のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the polyimide resin is a polyamide-imide resin. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂はテレフタル酸に由来する構成単位を含む、請求項1〜6のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the polyimide-based resin and the polyamide-based resin include a structural unit derived from terephthalic acid. フレキシブル表示装置の前面板用のフィルムである、請求項1〜7のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, which is a film for a front plate of a flexible display device. 請求項1〜8のいずれかに記載の光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置。 A flexible display device comprising the optical film according to claim 1. タッチセンサをさらに備える、請求項9に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 9, further comprising a touch sensor. 偏光板をさらに備える、請求項9又は10に記載のフレキシブル表示装置。 The flexible display device according to claim 9, further comprising a polarizing plate. ポリイミド系樹脂及びポリアミド系樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂、ナトリウム原子を含む化合物、ナトリウム及びナトリウムイオンからなる群から選択される少なくとも1種のナトリウム含有成分、並びに溶媒を少なくとも含む、樹脂組成物。 At least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins, a compound containing a sodium atom, at least one sodium-containing component selected from the group consisting of sodium and sodium ions, and at least a solvent. , Resin composition.
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