JP2020083690A - Method of dividing laminated substrate - Google Patents

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健太 田村
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Abstract

To provide a method excellently dividing a laminated substrate.SOLUTION: The method includes: a first scribe step for introducing a first vertical crack with a depth of 30% or more and 50% or less, of a thickness of a first glass substrate from a first scribe line along an expected divide position on a surface of the first glass substrate; a second scribe step for introducing a second vertical crack with a depth of 5% or more and 10% or less, of a thickness of a second glass substrate from a second scribe line on a surface of a second glass substrate; a first braking step for extending the first vertical crack introduced in the first scribe step by contacting a braking bar to the laminated substrate after the first and second scribe steps; and a second braking step for extending the second vertical crack introduced in the second scribe step by contacting the braking bar to the laminated substrate after the first braking step.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、貼り合わせ基板を分断する方法に関し、特にそのスクライブ工程に関する。 The present invention relates to a method for cutting a bonded substrate stack, and more particularly to a scribing process for cutting the bonded substrate stack.

ガラス基板を所定の位置にて分断して単位基板を得る手法として、ガラス基板の一方の表面における分断予定位置に対しスクライビングツール(カッターホイールなど)によってスクライブラインを形成するとともに該スクライブラインからクラックを伸展(浸透)させるスクライブ処理を行った後、係るスクライブラインが形成されたガラス基板とは反対面に対しブレークバーを押し当てることによりクラックをさらに伸展させるブレーク処理を行うという手法が、すでに公知である(例えば特許文献1参照)。 As a method for dividing a glass substrate at a predetermined position to obtain a unit substrate, a scribing tool (such as a cutter wheel) is used to form a scribe line at a planned dividing position on one surface of the glass substrate and cracks are generated from the scribe line. A method of performing a scribe process for extending (penetrating) and then performing a break process for further extending a crack by pressing a break bar against the surface opposite to the glass substrate on which the scribe line is formed is already known. There is (for example, refer to Patent Document 1).

また、2枚の大判のガラス基板を貼り合わせてなるマザー基板(貼り合わせ基板)を、所定の位置にて分断して単位基板(セル基板)を得る手法として、それぞれのガラス基板の表面(マザー基板の上下両面)における分断予定位置に対し、(相対)移動方向に所定距離離隔させる態様にて2つのスクライビングツールを当接させ、両者によって同時にスクライブラインの形成さらには該スクライブラインからのクラック伸展(浸透)を行った後、クラックの浸透量が小さい方の基板を対象にブレーク処理を行うことによってもう一方のガラス基板についても同時にブレークする、という手法も、すでに公知である(例えば特許文献2参照)。 In addition, as a method of dividing a mother substrate (bonded substrate) formed by bonding two large-sized glass substrates at a predetermined position to obtain a unit substrate (cell substrate), the surface of each glass substrate (mother) Two scribing tools are brought into contact with each other at predetermined dividing positions (on the upper and lower sides of the substrate) in a (relative) movement direction so that a scribe line is formed by both of them at the same time, and a crack is extended from the scribe line. A method has also been known in which after performing (penetration), a break treatment is performed on a substrate having a smaller amount of crack permeation to simultaneously break the other glass substrate (for example, Patent Document 2). reference).

特開2016−108158号公報JP, 2016-108158, A 特開2016−37413号公報JP, 2016-37413, A

単板のガラス基板を分断する場合、断面品質を最大限に確保するという観点からは、スクライブ処理として、スクライブラインからのクラックの浸透量をガラス基板の厚みの15%以下とする、いわゆる低浸透スクライブを行うことが好ましい。 In the case of dividing a single glass substrate, from the viewpoint of ensuring the maximum cross-sectional quality, the so-called low penetration, in which the amount of cracks penetrating from the scribe line is 15% or less of the thickness of the glass substrate, is used as scribing processing. It is preferable to scribe.

しかしながら、貼り合わせ基板に対し同様の手法を適用することは難しい。具体的には、貼り合わされた2つのガラス基板のそれぞれに対し低浸透スクライブ処理を行うことは可能であるものの、その後のブレーク処理において一方のガラス基板に生じているクラックを伸展させるには、ブレークバーの押し込み量を単板の場合よりも大きくする必要があること、しかしながらその場合、ブレーク対象としていない他方のガラス基板が、分断予定位置からずれてブレークされてしまい、分断が良好に行えないという問題がある。 However, it is difficult to apply the same method to a bonded substrate. Specifically, although it is possible to perform low-penetration scribing treatment on each of the two bonded glass substrates, in order to extend the cracks generated in one of the glass substrates in the subsequent break treatment, It is necessary to make the pushing amount of the bar larger than in the case of a single plate, but in that case, the other glass substrate which is not the break target will break from the planned cutting position and break, so that the cutting cannot be performed well There's a problem.

また、特許文献2に開示されている手法は、スクライブ処理におけるクラック浸透量がガラス基板の厚みの30%以上と大きい、いわゆる高浸透スクライブを、貼り合わされた2つのガラス基板に対し同時に行い、浸透量が小さい方の基板を対象にブレークを行うというというものであるが、直接にブレークの対象としない方の基板における、断面の品質が必ずしも良好ではない、という問題がある。また、装置構成および制御が複雑という問題もある。 Moreover, the method disclosed in Patent Document 2 performs so-called high-penetration scribing on two bonded glass substrates at the same time by performing so-called high-penetration scribing, in which the amount of crack penetration in scribing treatment is as large as 30% or more of the thickness of the glass substrate, The break is performed on the substrate having the smaller amount, but there is a problem in that the quality of the cross section of the substrate not directly subject to the break is not necessarily good. There is also a problem that the device configuration and control are complicated.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、2枚のガラス基板を貼り合わせてなる貼り合わせ基板を好適に分断することができる方法を提供することを、目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method capable of suitably dividing a bonded substrate formed by bonding two glass substrates.

上記課題を解決するため、請求項1の発明は、第1のガラス基板と第2のガラス基板を貼り合わせてなる貼り合わせ基板を、あらかじめ定めた分断予定位置において分断する方法であって、前記第1のガラス基板の表面において前記分断予定位置に沿って第1のスクライブラインを形成し、前記第1のスクライブラインから前記第1のガラス基板の厚み方向に、前記第1のガラス基板の厚みの30%以上50%以下の深さを有する第1の垂直クラックを導入する第1スクライブ工程と、前記第2のガラス基板の表面において前記分断予定位置に沿って第2のスクライブラインを形成し、前記第2のスクライブラインから前記第2のガラス基板の厚み方向に、前記第2のガラス基板の厚みの5%以上10%以下の深さを有する第2の垂直クラックを導入する第2スクライブ工程と、前記第1および第2のスクライブ工程を経た前記貼り合わせ基板に対しブレークバーを当接させ、前記第1のスクライブ工程において導入された前記第1の垂直クラックを伸展させる第1ブレーク工程と、前記第1ブレーク工程を経た前記貼り合わせ基板に対しブレークバーを当接させ、前記第2のスクライブ工程において導入された前記第2の垂直クラックを伸展させる第2ブレーク工程と、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the invention of claim 1 is a method of cutting a bonded substrate obtained by bonding a first glass substrate and a second glass substrate at a predetermined planned cutting position, A first scribe line is formed along the planned dividing position on the surface of the first glass substrate, and the thickness of the first glass substrate is in the thickness direction of the first glass substrate from the first scribe line. First scribing step of introducing a first vertical crack having a depth of 30% or more and 50% or less, and forming a second scribe line along the planned dividing position on the surface of the second glass substrate. A second scribe that introduces a second vertical crack having a depth of 5% or more and 10% or less of the thickness of the second glass substrate from the second scribe line in the thickness direction of the second glass substrate. Step, and a first break step of bringing a break bar into contact with the bonded substrate having undergone the first and second scribing steps to extend the first vertical crack introduced in the first scribing step. And a second break step of bringing a break bar into contact with the bonded substrate having undergone the first break step and extending the second vertical crack introduced in the second scribing step. Is characterized by.

請求項2の発明は、請求項1に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、前記第1スクライブ工程においては、刃先に等間隔にて溝部が設けられてなり、直径が1.0mm〜2.0mmであり、刃先角が100°〜135°である第1のスクライビングホイールを用い、前記第1のスクライビングホイールの前記第1のガラス基板に対する押し込み荷重を0.10MPa〜0.20MPaとし、前記第2スクライブ工程においては、刃先に等間隔にて溝部が設けられてなり、直径が1.0mm〜2.0mmであり、刃先角が100°〜135°である第2のスクライビングホイールを用い、前記第2のスクライビングホイールの前記第2のガラス基板に対する押し込み荷重を0.02MPa〜0.16MPaとする、ことを特徴とする。 A second aspect of the present invention is the method for dividing a bonded substrate according to the first aspect, wherein in the first scribing step, grooves are provided at equal intervals on a blade edge and have a diameter of 1.0 mm to Using a first scribing wheel having a cutting edge angle of 2.0 mm and a cutting edge angle of 100° to 135°, a pushing load of the first scribing wheel with respect to the first glass substrate is 0.10 MPa to 0.20 MPa, In the second scribing step, a second scribing wheel is used, in which grooves are provided at equal intervals on the cutting edge, the diameter is 1.0 mm to 2.0 mm, and the cutting edge angle is 100° to 135°. The pushing load of the second scribing wheel with respect to the second glass substrate is set to 0.02 MPa to 0.16 MPa.

請求項3の発明は、請求項1または請求項2に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、前記第1ブレーク工程および前記第2ブレーク工程においては、刃先角が50°〜90°であり、刃先先端が25μm〜100μmなる断面曲率半径を有する曲面をなしているブレークバーを用い、前記第1ブレーク工程における前記ブレークバーの前記第1のガラス基板に対する押し込み量を0.04mm〜0.08mmとし、前記第2ブレーク工程における前記ブレークバーの前記第2のガラス基板に対する押し込み量を0.10mm〜0.14mmとする、ことを特徴とする。 The invention of claim 3 is the method for cutting a bonded substrate according to claim 1 or 2, wherein the cutting edge angle is 50° to 90° in the first break step and the second break step. And the tip of the cutting edge is a curved bar having a cross-sectional curvature radius of 25 μm to 100 μm, and the pushing amount of the break bar into the first glass substrate in the first break step is 0.04 mm to 0. The pressing amount of the break bar with respect to the second glass substrate in the second break step is 0.10 mm to 0.14 mm.

請求項1ないし請求項3の発明によれば、2枚のガラス基板貼り合わせてなる貼り合わせ基板に対し、分断面の品質が好適に確保された分断を行うことが出来る。 According to the inventions of claims 1 to 3, it is possible to perform the cutting with the quality of the cross section suitably secured to the bonded substrate formed by bonding the two glass substrates.

本実施の形態に係る分断方法において厚み方向に沿った分断の対象とされる貼り合わせ基板10の構成と、分断後の様子とを、模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the structure of the bonded board|substrate 10 used as the object of division|segmentation along a thickness direction in the division|segmentation method which concerns on this Embodiment, and the mode after division. 貼り合わせ基板10に対するスクライブラインの形成について説明するための図である。6 is a diagram for explaining formation of scribe lines on the bonded substrate stack 10. FIG. 第1スクライブ処理と第2スクライブ処理とが終了した後の貼り合わせ基板10の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of the bonded substrate stack 10 after a 1st scribing process and a 2nd scribing process are complete|finished. 貼り合わせ基板10に対するブレーク処理について説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a break process for the bonded substrate stack 10. 貼り合わせ基板10に対するブレーク処理について説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a break process for the bonded substrate stack 10. 貼り合わせ基板10に対するブレーク処理について説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a break process for the bonded substrate stack 10. 貼り合わせ基板10に対するブレーク処理について説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining a break process for the bonded substrate stack 10. 貼り合わせ基板10が分断予定位置Pに沿って分断された後の様子を示す図である。It is a figure which shows a mode after the bonded substrate stack 10 is cut along the planned cutting position P. FIG. 第1スクライブ処理において低浸透スクライブを行った場合の、第1ブレーク処理前の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode before a 1st break process at the time of performing a low penetration scribe in a 1st scribe process. 第1スクライブ処理において低浸透スクライブを行った場合の、第1ブレーク処理後の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode after a 1st break process at the time of performing a low penetration scribe in a 1st scribe process.

<基板の概要>
図1は、本実施の形態に係る分断方法において厚み方向に沿った分断の対象とされる貼り合わせ基板10の構成と、分断後の様子とを、模式的に示す図である。
<Outline of substrate>
FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a bonded substrate 10 to be divided along the thickness direction in the dividing method according to the present embodiment, and a state after the division.

貼り合わせ基板10は、概略、厚みt1の第1のガラス基板1と、厚みt2の第2のガラス基板2と図示しない接着層(接着材)にて貼り合わせた構成を有する。係る貼り合わせ基板10は、あらかじめ第1のガラス基板1の非接着面(図1における下面)から第2のガラス基板2の非接着面(図1における上面)にかけて定められた分断予定位置Pにおいて厚み方向に沿って分断されることで、矢印AR1にて示すように個片10a、10bに分断される。厚みt1と厚みt2はともに0.05mm〜0.2mmであり、同じ値であっても、異なっていてもよい。 The bonded substrate 10 generally has a structure in which a first glass substrate 1 having a thickness t1 and a second glass substrate 2 having a thickness t2 are bonded to each other with an adhesive layer (adhesive material) not shown. The bonded substrate stack 10 is placed at a predetermined planned dividing position P from the non-bonding surface (lower surface in FIG. 1) of the first glass substrate 1 to the non-bonding surface (upper surface in FIG. 1) of the second glass substrate 2. By being divided along the thickness direction, it is divided into individual pieces 10a and 10b as indicated by an arrow AR1. The thickness t1 and the thickness t2 are both 0.05 mm to 0.2 mm and may be the same or different.

また、貼り合わせ基板10は、液晶基板用のマザー基板であってもよい。すなわち、第1のガラス基板1がTFT基板であり、第2のガラス基板2がCF基板であり、両者の間に液晶が封入されてなるとともに、接着層に相当するシール部材が液晶を封入しつつ2つの基板を接着させてなる態様であってもよい。係る場合、シール部材が存在する位置に、分断予定位置が定められるのが好適である。 Further, the bonded substrate 10 may be a mother substrate for liquid crystal substrates. That is, the first glass substrate 1 is a TFT substrate, the second glass substrate 2 is a CF substrate, liquid crystal is sealed between the two, and a sealing member corresponding to an adhesive layer seals the liquid crystal. Alternatively, the two substrates may be bonded together. In this case, it is preferable that the planned dividing position is set at the position where the seal member exists.

<分断の詳細>
次に、貼り合わせ基板10を分断して個片10a、10bを得る処理について説明する。係る分断は、概略、スクライブ処理による貼り合わせ基板10へのスクライブラインの形成さらには該スクライブラインを起点とするクラックの導入と、ブレーク処理によるクラック伸展とによりなされる。
<Details of division>
Next, a process of dividing the bonded substrate stack 10 to obtain the individual pieces 10a and 10b will be described. The dividing is roughly performed by forming a scribe line on the bonded substrate 10 by a scribe process, introducing a crack starting from the scribe line, and extending a crack by a break process.

スクライブ処理は、公知のスクライブ装置を用いて行うことが出来る。図2は、貼り合わせ基板10に対するスクライブラインの形成について説明するための図である。より詳細には、図2(a)は、第1のガラス基板1に対するスクライブ処理(以下、第1スクライブ処理)の様子を示しており、図2(b)は、第2のガラス基板2に対するスクライブ処理(以下、第2スクライブ処理)の様子を示している。また、図3は、第1スクライブ処理と第2スクライブ処理とが終了した後の貼り合わせ基板10の様子を示す図である。 The scribing process can be performed using a known scribing device. FIG. 2 is a diagram for explaining formation of scribe lines on the bonded substrate stack 10. More specifically, FIG. 2A shows a state of a scribing process (hereinafter referred to as a first scribing process) on the first glass substrate 1, and FIG. 2B shows a state of the second glass substrate 2. The state of the scribe process (hereinafter, second scribe process) is shown. Further, FIG. 3 is a diagram showing a state of the bonded substrate stack 10 after the first scribing process and the second scribing process are completed.

第1スクライブ処理と第2スクライブ処理はいずれも、公知のスクライブ装置100を用いて行うことが出来る。スクライブ装置100は、貼り合わせ基板10を載置固定するためのステージ101と、断面視三角形状の刃先を有する円板状の部材であるスクライビングホイール(カッターホイール)102とを備える。スクライビングホイール102は、垂直面内において回転自在な態様にてスクライブ装置100に保持される。 Both the first scribing process and the second scribing process can be performed using a known scribing device 100. The scribing apparatus 100 includes a stage 101 on which the bonded substrate stack 10 is mounted and fixed, and a scribing wheel (cutter wheel) 102 which is a disk-shaped member having a cutting edge having a triangular cross-section. The scribing wheel 102 is held by the scribing device 100 in a freely rotatable manner in a vertical plane.

ただし、第1スクライブ処理と第2スクライブ処理とでは、用いるスクライビングホイール102の種類やスクライブ荷重などのスクライブ条件が違えられる。それゆえ、本実施の形態においては、図2(a)に示すように、第1スクライブ処理に用いるスクライブ装置100およびスクライビングホイール102を特にそれぞれ、スクライブ装置100Aおよびスクライビングホイール102Aと称し、図2(b)に示すように、第2スクライブ処理に用いるスクライブ装置100およびスクライビングホイール102を特にそれぞれ、スクライブ装置100Bおよびスクライビングホイール102Bと称することとする。 However, the first scribing process and the second scribing process differ in the scribing conditions such as the type of scribing wheel 102 used and the scribing load. Therefore, in the present embodiment, as shown in FIG. 2A, the scribing device 100 and the scribing wheel 102 used in the first scribing process are specifically referred to as a scribing device 100A and a scribing wheel 102A, respectively, and as shown in FIG. As shown in b), the scribing device 100 and the scribing wheel 102 used in the second scribing process are particularly referred to as a scribing device 100B and a scribing wheel 102B, respectively.

なお、実際の使用の局面では、スクライビングホイール102Aとスクライビングホイール102Bとを適宜に交換することにより、一のスクライブ装置100において第1スクライブ処理と第2スクライブ処理とが行われる態様であってよい。 In the actual use phase, the first scribing process and the second scribing process may be performed in one scribing device 100 by appropriately exchanging the scribing wheel 102A and the scribing wheel 102B.

あるいは、高浸透スクライブ用のスクライビングホイールと低浸透スクライブ用のスクライビングホイールとが貼り合わせ基板10の上下両側から同時に圧接転動されることにより、スクライブラインの形成および垂直クラックの伸展が、第1のガラス基板1と第2のガラス基板2の両方に対し同時になされる態様であってもよい。 Alternatively, the scribing wheel for high-penetration scribing and the scribing wheel for low-penetration scribing are pressed and rolled at the same time from both upper and lower sides of the bonded substrate stack 10, thereby forming scribe lines and extending vertical cracks. A mode in which both the glass substrate 1 and the second glass substrate 2 are simultaneously performed may be used.

図2(a)に示すように、第1スクライブ処理においては、第1のガラス基板1が上側となる姿勢にて貼り合わせ基板10をステージ101に載置固定した状態で、スクライビングホイール102Aを、第1のガラス基板1の表面において分断予定位置Pに沿って圧接転動させる。一方、図2(b)に示すように、第2スクライブ処理においては、第2のガラス基板2が上側となる姿勢にて貼り合わせ基板10をステージ101に載置固定した状態で、スクライビングホイール102Bを、第2のガラス基板2の表面において分断予定位置Pに沿って圧接転動させる。 As shown in FIG. 2A, in the first scribing process, the scribing wheel 102A is set while the bonded substrate 10 is placed and fixed on the stage 101 in a posture in which the first glass substrate 1 is on the upper side. The surface of the first glass substrate 1 is pressed and rolled along the planned dividing position P. On the other hand, as shown in FIG. 2B, in the second scribing process, the scribing wheel 102B with the bonded substrate 10 mounted and fixed on the stage 101 in a posture in which the second glass substrate 2 is on the upper side. On the surface of the second glass substrate 2 along the planned dividing position P by pressure contact rolling.

これらにより、図3に示すように、第1のガラス基板1と第2のガラス基板2の表面にはともに、分断予定位置Pに沿ってスクライブラインSLが形成され、それぞれのスクライブラインSLからクラックCR1、CR2が伸展する。なお、スクライビングホイール102Aの転動は、貼り合わせ基板10を固定してなるステージ101が移動することによる相対的なものであってもよい。 As a result, as shown in FIG. 3, scribe lines SL are formed along the planned dividing positions P on both the surfaces of the first glass substrate 1 and the second glass substrate 2, and cracks are generated from the respective scribe lines SL. CR1 and CR2 extend. The rolling of the scribing wheel 102A may be relative due to the movement of the stage 101 that fixes the bonded substrate stack 10.

より詳細には、第1スクライブ処理は、第1のガラス基板1の表面から伸展する(浸透する)垂直クラックの深さ(浸透深さ)d1が0.3t1〜0.5t1(厚みt1の30%〜50%)となるように行い、第2スクライブ処理は、第2のガラス基板2の表面から伸展する(浸透する)垂直クラックの深さ(浸透深さ)d2が0.05t2〜0.1t2(厚みt2の5%〜10%)となるように行う。 More specifically, in the first scribing process, the depth (penetration depth) d1 of the vertical crack extending (penetrating) from the surface of the first glass substrate 1 is 0.3t1 to 0.5t1 (30 of the thickness t1). % To 50%), and the second scribing process is performed so that the depth (penetration depth) d2 of the vertical crack extending (penetrating) from the surface of the second glass substrate 2 is 0.05t2 to 0. It is performed so as to be 1t2 (5% to 10% of the thickness t2).

換言すれば、第1スクライブ処理の方が第2スクライブ処理よりも、ガラス基板の厚みに対する浸透深さの割合が大きくなるようにする。それゆえ、第1スクライブ処理を高浸透スクライブとも称し、第2スクライブを低浸透スクライブとも称する。 In other words, the first scribing process has a larger ratio of the penetration depth to the thickness of the glass substrate than the second scribing process. Therefore, the first scribing process is also called a high penetration scribe, and the second scribing is also called a low penetration scribe.

より詳細には、高浸透スクライブを行う第1スクライブ処理においては、スクライビングホイール102Aとして、刃先に等間隔にて溝部Gが設けられてなり、直径が1.0mm〜2.0mmであり、刃先角が100°〜135°であるものを用い、圧接に際してスクライビングホイール102Aが第1のガラス基板1に対し印加する荷重である押し込み荷重を0.10MPa〜0.20MPaとするのが好適である。また、低浸透スクライブを行う第2スクライブ処理においては、スクライビングホイール102Bとして、刃先に等間隔にて多数の溝部Gが設けられてなり、直径が1.0mm〜2.0mmであり、刃先角が100°〜135°であるものを用い、押し込み荷重を0.02MPa〜0.16MPaとするのが好適である。具体的なスクライブ条件は、貼り合わせ基板10の材質や厚みなどに応じて定められればよい。 More specifically, in the first scribing process for performing high-penetration scribing, the scribing wheel 102A is provided with the groove portions G at equal intervals on the cutting edge, has a diameter of 1.0 mm to 2.0 mm, and has a cutting edge angle. Is preferably 100° to 135°, and the pressing load, which is the load applied by the scribing wheel 102A to the first glass substrate 1 during pressure contact, is preferably 0.10 MPa to 0.20 MPa. Further, in the second scribing process for performing low-penetration scribing, as the scribing wheel 102B, a large number of groove portions G are provided at equal intervals on the cutting edge, the diameter is 1.0 mm to 2.0 mm, and the cutting edge angle is It is preferable to use a material having an angle of 100° to 135° and a pushing load of 0.02 MPa to 0.16 MPa. Specific scribe conditions may be set according to the material and thickness of the bonded substrate stack 10.

スクライブ処理が行われると、続いて、ブレーク処理が行われる。ブレーク処理としては、第1のスクライブ処理において第1のガラス基板1に形成されたクラックCR1を伸展させる第1ブレーク処理と、第2のスクライブ処理において第2のガラス基板2に形成されたクラックCR2を伸展させる第2ブレーク処理との、2段階の処理を行う。換言すれば、高浸透スクライブにより形成されたクラックを対象とする第1ブレーク処理を行ったうえで、低浸透スクライブ処理により形成されたクラックを対象とする第2ブレーク処理を行う。 When the scribe process is performed, the break process is subsequently performed. The break treatment includes a first break treatment for expanding the crack CR1 formed on the first glass substrate 1 in the first scribing treatment and a crack CR2 formed on the second glass substrate 2 for the second scribing treatment. Two-stage processing including the second break processing for extending In other words, after performing the first break process for the crack formed by the high penetration scribe, the second break process for the crack formed by the low penetration scribe process is performed.

第1ブレーク処理および第2ブレーク処理は、公知の(共通の)ブレーク装置を用いて行うことが出来る。図4ないし図7は、貼り合わせ基板10に対するブレーク処理について説明するための図である。ブレーク処理は、公知のブレーク装置200を用いて行うことが出来る。 The first break process and the second break process can be performed using a known (common) break device. 4 to 7 are diagrams for explaining the break process for the bonded substrate stack 10. The break processing can be performed using a known break device 200.

ブレーク装置200は、少なくとも表面部分が弾性体からなり、ブレーク対象物を水平姿勢にて下方支持可能な支持体201と、鉛直下方に断面視三角形状の刃先202eを有する板状部材であるブレークバー202とを、主として備える。 The break device 200 is a break bar which is a plate-like member having at least a surface portion made of an elastic body and capable of downwardly supporting a break target in a horizontal posture and a vertically downwardly-shaped triangular cutting edge 202e in cross section. And 202.

ブレークバー202は、断面視二等辺三角形状の刃先202eが刃渡り方向に延在するように設けられてなる板状の金属製(例えば超硬合金製)部材である。図4および図6においては、刃渡り方向が図面に垂直な方向となるように、ブレークバー202を示している。ブレークバー202としては、刃先202eの角度(刃先角)が50°〜90°であり、刃先202eの先端が25μm〜100μmなる断面曲率半径を有する曲面をなしているものを用いるのが好適である。具体的なブレーク条件は、貼り合わせ基板10の材質や厚みなどに応じて定められればよい。 The break bar 202 is a plate-shaped metal (for example, cemented carbide) member in which a cutting edge 202e having an isosceles triangular shape in cross section is provided so as to extend in the blade crossing direction. 4 and 6, the break bar 202 is shown so that the blade crossing direction is perpendicular to the drawings. As the break bar 202, it is preferable to use one having an angle of the cutting edge 202e (blade angle) of 50° to 90° and a tip of the cutting edge 202e having a curved surface having a cross-sectional curvature radius of 25 μm to 100 μm. .. Specific break conditions may be determined according to the material and thickness of the bonded substrate stack 10.

貼り合わせ基板10は、ブレーク処理に際し、図示しないダイシングリングに張設されたダイシングテープDTに第1のガラス基板1の表面を貼付させた状態で支持体201の上に載置固定される。なお、より詳細には、係る載置固定に際し、第2のガラス基板2の表面には図示しない保護フィルムが貼付される。 During the break process, the bonded substrate 10 is placed and fixed on the support 201 with the surface of the first glass substrate 1 bonded to the dicing tape DT stretched on a dicing ring (not shown). More specifically, a protective film (not shown) is attached to the surface of the second glass substrate 2 when mounting and fixing.

図4においては、第1のガラス基板1において分断予定位置Pに沿って導入されたクラックCR1を伸展させる、第1ブレーク処理を行う場合を例示している。 FIG. 4 exemplifies a case where the first break process is performed in which the crack CR1 introduced along the planned dividing position P on the first glass substrate 1 is extended.

係る場合、貼り合わせ基板10は、クラックCR1の伸展対象たる第1のガラス基板1が下方となり、第2のガラス基板2側が上方となり(換言すれば、ダイシングテープDTを支持体201に接触させる態様にて)、かつ、分断予定位置Pとブレークバー202の刃先202eとが同一面内に位置する姿勢にて、支持体201に載置固定される。 In such a case, in the bonded substrate 10, the first glass substrate 1 that is the target of extension of the crack CR1 is on the lower side, and the second glass substrate 2 side is on the upper side (in other words, the dicing tape DT is brought into contact with the support 201). )), and the position P and the cutting edge 202e of the break bar 202 are located in the same plane, and are fixedly mounted on the support 201.

換言すれば、ブレークバー202の刃先202eが第2のガラス基板2に形成されてなるクラックCR2の鉛直上方に位置するように、貼り合わせ基板10とブレークバー202とが位置決めされる。 In other words, the bonded substrate stack 10 and the break bar 202 are positioned so that the cutting edge 202e of the break bar 202 is positioned vertically above the crack CR2 formed in the second glass substrate 2.

そして、係る態様にて位置決めされたブレークバー202は下降させられ、その刃先202eが第2のガラス基板2に(より詳細には図示しない保護フィルムに)当接した後もさらに、所定距離(これを押し込み量と称する)押し込まれる。これにより、クラックCR1は分断予定位置Pに沿って伸展し、図5に示すように第1のガラス基板1の反対面にまで伸展する。 Then, the break bar 202 positioned in this manner is lowered, and even after the cutting edge 202e thereof comes into contact with the second glass substrate 2 (to a protective film not shown in more detail), a predetermined distance (this Is referred to as the pushing amount). As a result, the crack CR1 extends along the planned dividing position P and extends to the opposite surface of the first glass substrate 1 as shown in FIG.

第1ブレーク処理が終了すると、続いて、第2のガラス基板1において分断予定位置Pに沿って導入されたクラックCR2を伸展させる、第2ブレーク処理を行う。図6は、第2ブレーク処理を行う場合を例示している。第2ブレーク処理は、第1ブレーク処理のときとは貼り合わせ基板10を上下反転させた状態で行う。すなわち、第2ブレーク処理においては、貼り合わせ基板10が、クラックCR2の伸展対象たる第2のガラス基板2が下方となり、第1のガラス基板1側が上方となり(換言すれば、図示しない保護フィルムを支持体201に接触させる態様にて)、かつ、分断予定位置Pとブレークバー202の刃先202eとが同一面内に位置する姿勢にて、支持体201に載置固定される。 When the first break process is completed, subsequently, a second break process of extending the crack CR2 introduced along the planned dividing position P in the second glass substrate 1 is performed. FIG. 6 illustrates a case where the second break process is performed. The second break process is performed with the bonded substrate stack 10 turned upside down as compared with the case of the first break process. That is, in the second break process, in the bonded substrate 10, the second glass substrate 2 which is the target of extension of the crack CR2 is on the lower side, and the first glass substrate 1 side is on the upper side (in other words, a protective film (not shown)). The supporting member 201 is mounted and fixed on the supporting member 201 in such a manner that the planned dividing position P and the cutting edge 202e of the break bar 202 are located in the same plane.

換言すれば、ブレークバー202の刃先202eが第1のガラス基板1に形成されてなるクラックCR1の鉛直上方に位置するように、貼り合わせ基板10とブレークバー202とが位置決めされる。 In other words, the bonded substrate stack 10 and the break bar 202 are positioned so that the cutting edge 202e of the break bar 202 is located vertically above the crack CR1 formed in the first glass substrate 1.

そして、係る態様にて位置決めされたブレークバー202は下降させられ、その刃先202eが第1のガラス基板1に(より詳細にはダイシングテープDTに)当接した後もさらに、所定の押し込み量にて押し込まれる。これにより、クラックCR2は分断予定位置Pに沿って伸展し、図7に示すように第2のガラス基板2の反対面にまで達する。 Then, the break bar 202 positioned in this manner is lowered, and even after the cutting edge 202e thereof comes into contact with the first glass substrate 1 (more specifically, the dicing tape DT), the predetermined pushing amount is reached. Is pushed in. As a result, the crack CR2 extends along the planned dividing position P and reaches the opposite surface of the second glass substrate 2 as shown in FIG.

係る第2ブレーク処理がなされることで、貼り合わせ基板10が分断予定位置Pに沿って分断されたことになる。換言すれば、分断予定位置Pに形成されたクラックCR1、CR2が分断面をなす分断が、行われたことになる。 By performing the second break process, the bonded substrate stack 10 is divided along the planned division position P. In other words, it means that the cracks CR1 and CR2 formed at the planned dividing position P form a dividing plane.

図8は、貼り合わせ基板10が分断予定位置Pに沿って分断された後の様子を示す図である。具体的には、図示しないエキスパンド装置によって、第1のガラス基板1の表面に貼付されていたダイシングテープDTが図8において矢印AR2a、AR2bにて示すような相反する方向に引っ張られることで引き延ばされる(エキスパンドされる)。これにより、分断後も分断面のところで互いに接触したままであった2つの部分が離隔させられ、図1に示した個片10a、10bとして得られることになる。 FIG. 8 is a diagram showing a state after the bonded substrate stack 10 has been cut along the planned cutting position P. Specifically, the dicing tape DT attached to the surface of the first glass substrate 1 is stretched by an unillustrated expanding device by being pulled in opposite directions as indicated by arrows AR2a and AR2b in FIG. Be expanded (expanded). As a result, the two portions that were still in contact with each other at the dividing plane after the division are separated from each other to obtain the individual pieces 10a and 10b shown in FIG.

<スクライブ処理の使い分けの効果>
本実施の形態に係る貼り合わせ基板の分断方法においては、上述したように、第1スクライブ処理において第1のガラス基板1に対し高浸透スクライブを行い、第2スクライブ処理において第2のガラス基板2に対し低浸透スクライブを行った後、第1のガラス基板1に形成されたクラックCR1を伸展させる第1ブレーク処理と、第2のガラス基板2に形成されたクラックCR2を伸展させる第2ブレーク処理とを、この順に行っている。係る態様により得られる効果について、以下に説明する。
<Effects of proper use of scribe processing>
In the method for cutting a bonded substrate according to the present embodiment, as described above, high penetration scribing is performed on the first glass substrate 1 in the first scribing process and second glass substrate 2 in the second scribing process. After performing low-penetration scribing on the first glass substrate 1, a first break process for extending the crack CR1 formed on the first glass substrate 1 and a second break process for extending the crack CR2 formed on the second glass substrate 2 are performed. And, in that order. The effects obtained by this aspect will be described below.

図9および図10は、対比例として示す、第2スクライブ処理のみならず、これに先立つ第1スクライブ処理においても低浸透スクライブを行った場合の、第1ブレーク処理前後の様子を示す図である。なお、議論の簡単のため、第1のガラス基板1と第2のガラス基板2とは同じ厚みtを有しているとする。 FIG. 9 and FIG. 10 are diagrams showing the states before and after the first break process when the low penetration scribe is performed not only in the second scribe process but also in the first scribe process preceding this, which is shown as a comparative example. .. In addition, for simplification of discussion, it is assumed that the first glass substrate 1 and the second glass substrate 2 have the same thickness t.

例えば、図9に示すように、第1スクライブ処理と第2スクライブ処理とをともに低浸透スクライブとすることによって、第1のガラス基板1と第2のガラス基板2に対しd=0.05t〜0.1tのクラックCR3、CR4がそれぞれ、分断予定位置Pに沿って伸展したとする。 For example, as shown in FIG. 9, both the first scribing process and the second scribing process are low-penetration scribing, so that d=0.05t to the first glass substrate 1 and the second glass substrate 2. It is assumed that 0.1 t of cracks CR3 and CR4 respectively extend along the planned dividing position P.

係る対比例を、図4に示したように第1スクライブ処理を高浸透スクライブとする、本実施の形態に係る分断方法と対比すると、対比例の場合、すでに伸展しているクラックの深さの基板厚みに対する比率が、本実施の形態の場合に比して小さいために、第1ブレーク処理によって第1のガラス基板1におけるクラックCR3をさらに伸展させようとすると、本実施の形態の場合よりも押し込み量を大きくする必要がある。単板のガラス基板であれば特段の問題は生じないが、貼り合わせ基板の場合、図10に示すように、第1のガラス基板1におけるクラックCR3の伸展のみならず、その延長で、第2のガラス基板2に対してもクラック3αが伸展してしまう、いわゆる共割れが生じてしまうことがある。係るクラック3αは、必ずしも分断予定位置Pに沿って形成されるものではない。 In contrast to the dividing method according to the present embodiment in which the first scribing process is a high-penetration scribing as shown in FIG. Since the ratio to the substrate thickness is smaller than in the case of the present embodiment, if the crack CR3 in the first glass substrate 1 is further expanded by the first break processing, the crack CR3 will be smaller than in the case of the present embodiment. It is necessary to increase the pushing amount. If the glass substrate is a single plate, no particular problem occurs. However, in the case of the bonded substrate, as shown in FIG. 10, not only the extension of the crack CR3 in the first glass substrate 1 but also the extension of the crack CR3 In some cases, so-called co-cracking may occur in which the crack 3α extends to the glass substrate 2. The crack 3α is not necessarily formed along the planned dividing position P.

しかも、共割れが生じてしまっている第2のガラス基板2に対してさらに第2ブレーク処理を行ったとしても、分断予定位置Pに沿ったクラックCR4の伸展は好適には生じず、共割れで生じたクラック3αが、最終的に分断面となってしまう場合もある。このような場合、最終的に得られる個片の断面が、あらかじめ定められた寸法公差をみたさないことがある。 Moreover, even if the second break treatment is further performed on the second glass substrate 2 in which co-cracking has occurred, the crack CR4 does not appropriately extend along the planned dividing position P, and co-cracking occurs. In some cases, the crack 3? In such a case, the cross section of the finally obtained piece may not meet the predetermined dimensional tolerance.

これに対し、本実施の形態の場合、すでに伸展しているクラックの深さの基板厚みに対する比率が大きい分、対比例の場合に比して押し込み量を小さく設定したとしても、第1ブレーク処理によって第1のガラス基板1の反対面までクラックCR1を好適に伸展させることができる。また、押し込み量が小さいために、上述のような共割れの発生は回避される。実際には、第1ブレーク処理における押し込み量は、0.04mm〜0.08mm程度であればよい。 On the other hand, in the case of the present embodiment, since the ratio of the depth of cracks that have already spread to the thickness of the substrate is large, the first break treatment is performed even if the pressing amount is set smaller than in the case of the proportional case. Thus, the crack CR1 can be suitably extended to the opposite surface of the first glass substrate 1. Further, since the pushing amount is small, the occurrence of co-cracking as described above is avoided. Actually, the pushing amount in the first break process may be about 0.04 mm to 0.08 mm.

なお、本実施の形態においても、第2スクライブ処理は低浸透スクライブであるために、係る第2スクライブ処理によって形成されたクラックCR2を第2ブレーク処理において伸展させる際の押し込み量は、第1ブレーク処理における押し込み量よりは大きくする必要があるが、第1のガラス基板1においてはすでにクラックCR1が表面から接着面にかけて伸展しているので、対比例のような共割れが発生することはない。実際には、第2ブレーク処理における押し込み量は、0.10mm〜0.14mm程度であればよい。 Note that, also in the present embodiment, since the second scribing process is a low-penetration scribing, the pushing amount when the crack CR2 formed by the second scribing process is extended in the second break process is the first break. Although it is necessary to make the amount larger than the indentation in the processing, since the crack CR1 has already spread from the surface to the adhesive surface in the first glass substrate 1, co-cracking such as proportionality does not occur. Actually, the pushing amount in the second break process may be about 0.10 mm to 0.14 mm.

例えば、t1=t2=0.15mmである貼り合わせ基板10に対しては、以下のような条件で、第1スクライブ処理、第2スクライブ処理、第1ブレーク処理、および第2ブレーク処理を行うことが例示される。ただし、スクライビングホイール102(102A、102B)としては、刃先に等間隔にて溝部Gが設けられてなるものを用いるものとする。 For example, for the bonded substrate 10 having t1=t2=0.15 mm, the first scribing process, the second scribing process, the first break process, and the second break process are performed under the following conditions. Is exemplified. However, as the scribing wheel 102 (102A, 102B), one having groove portions G provided at the blade edge at equal intervals is used.

第1スクライブ処理:
スクライビングホイールの直径:2mm;
スクライビングホイールの刃先角:100°〜110°;
押し込み荷重:0.12MPa〜0.18MPa。
First scribe process:
Diameter of scribing wheel: 2mm;
Blade angle of scribing wheel: 100° to 110°;
Pushing load: 0.12 MPa to 0.18 MPa.

第2スクライブ処理:
スクライビングホイールの直径:2mm;
スクライビングホイールの刃先角:120°〜130°;
押し込み荷重:0.1MPa〜0.16MPa。
Second scribe process:
Diameter of scribing wheel: 2mm;
Blade angle of scribing wheel: 120° to 130°;
Pushing load: 0.1 MPa to 0.16 MPa.

第1ブレーク処理:
ブレークバーの刃先角:50°〜90°;
ブレークバー先端の断面曲率半径:25μm〜100μm;
押し込み量:0.06mm〜0.08mm。
First break process:
Break bar edge angle: 50° to 90°;
Radius of curvature of cross section of break bar tip: 25 μm to 100 μm;
Indentation amount: 0.06 mm to 0.08 mm.

第2ブレーク処理:
ブレークバーの刃先角:50°〜90°;
ブレークバー先端の断面曲率半径:25μm〜100μm;
押し込み量:0.10mm〜0.14mm。
Second break process:
Break bar edge angle: 50° to 90°;
Radius of curvature of cross section of break bar tip: 25 μm to 100 μm;
Indentation amount: 0.10 mm to 0.14 mm.

ところで、第1のガラス基板1に対し高浸透スクライブを行い、第2のガラス基板2に対し低浸透スクライブを行った後のブレーク処理に際し、第2のガラス基板2を最初のブレーク処理の対象とすることは好ましくない。係る場合、第2のガラス基板2においてクラックを伸展させるには、押し込み量を上述の対比例と同様とする必要があり、それゆえ、共割れが発生する恐れがあるからである。 By the way, in the break process after performing the high penetration scribe on the first glass substrate 1 and the low penetration scribe on the second glass substrate 2, the second glass substrate 2 is targeted for the first break treatment. It is not preferable to do so. In such a case, in order to extend the crack in the second glass substrate 2, it is necessary to set the pushing amount to be the same as the above-described proportionality, and therefore co-cracking may occur.

また、単にガラス基板の分断面の品質(例えば、平坦性、表面に対する垂直性など)という点からは、低浸透スクライブによって形成したクラックを伸展させる場合の方が高浸透スクライブによって形成したクラックを伸展させる場合に比してより優れてはいるが、後者の分断品質は共割れにより得られる断面の品質に比べれば優れており、寸法公差から外れる確率も共割れの場合にして十分に小さい。それゆえ、歩留まりという観点からも、本実施の形態に係る分断方法の方が、対比例によりも優れているといえる。 In addition, from the viewpoint of the quality of the cross section of the glass substrate (for example, flatness, perpendicularity to the surface, etc.), when the crack formed by the low-penetration scribe is extended, the crack formed by the high-penetration scribe is extended. Although it is better than the case of co-cracking, the latter is superior in cutting quality to the quality of the cross section obtained by co-cracking, and the probability of deviation from the dimensional tolerance is sufficiently small in the case of co-cracking. Therefore, also from the viewpoint of yield, it can be said that the dividing method according to the present embodiment is superior in comparison.

ただし、貼り合わせたガラス基板の両方に対し高浸透スクライブを行ったうえで、ブレーク処理に供する対応も考えられるが、分断面の品質を出来るだけ確保するという点からは、第2ブレーク処理の対象となるクラックについては、低浸透スクライブにより形成することが望ましい。 However, although it is possible to provide a break treatment after performing high penetration scribing on both of the bonded glass substrates, the target of the second break treatment is to ensure the quality of the cut surface as much as possible. It is desirable to form such cracks by low-penetration scribe.

以上、説明したように、本実施の形態によれば、2枚のガラス基板を貼り合わせてなる貼り合わせ基板を分断する場合において、一方の基板に対し高浸透スクライブを行い、他方の基板に対し低浸透スクライブを行って、それぞれにおいてクラックを浸透させたうえで、高浸透スクライブによって形成されたクラックをブレーク処理によってまず伸展させ、その後に低浸透スクライブによって形成されたクラックをブレーク処理によって伸展させるようにすることで、分断面の品質が好適に確保された分断を行うことが出来る。 As described above, according to the present embodiment, when a bonded substrate formed by bonding two glass substrates together is cut, high penetration scribe is performed on one substrate and the other substrate is scribed. Perform low-penetration scribing to infiltrate the cracks in each, then spread the cracks formed by the high-penetration scribe by the break process first, and then spread the cracks formed by the low-penetration scribe by the break process. By doing so, it is possible to carry out the cutting in which the quality of the cross section is suitably ensured.

<変形例>
高浸透スクライブがなされた第1のガラス基板1に対する第1ブレーク処理が、低浸透スクライブがなされた第2のガラス基板2に対する第2ブレーク処理よりも先行する限りにおいて、第1スクライブ工程と第2スクライブ工程とは順序が入れ替わってもよい。すなわち、第2のガラス基板2に対し低浸透スクライブを行った後、第1のガラス基板1に対し高浸透スクライブを行う態様であってもよい。
また、貼り合わせ基板10を液晶基板用のマザー基板とする場合、第1のガラス基板1がCF基板であり、第2のガラス基板2がTFT基板であるようにしてもよい。
<Modification>
As long as the first break process for the first glass substrate 1 on which the high-permeation scribe is performed precedes the second break process for the second glass substrate 2 on which the low-permeation scribe is performed, the first scribe step and the second scribe process are performed. The order may be exchanged with the scribing process. In other words, a mode in which the low penetration scribe is performed on the second glass substrate 2 and then the high penetration scribe is performed on the first glass substrate 1 may be performed.
When the bonded substrate 10 is a mother substrate for a liquid crystal substrate, the first glass substrate 1 may be a CF substrate and the second glass substrate 2 may be a TFT substrate.

上述の実施の形態においては、一の分断予定位置に対する分断を行う場合を例としているが、一の貼り合わせ基板に対し複数の分断予定位置が設定されてよく、係る場合、第1スクライブ処理、第2スクライブ処理、第1ブレーク処理、および第2ブレーク処理はそれぞれ、全ての分断予定位置に対する当該処理が終了した後、全ての分断予定位置に対して次の処理を行うようにすればよい。 In the above-described embodiment, the case where the division is performed for one planned division position is taken as an example, but a plurality of planned division positions may be set for one bonded substrate. In such a case, the first scribing process, Each of the second scribing process, the first break process, and the second break process may be performed on all the planned dividing positions after the completion of the process for all the planned dividing positions.

1 第1のガラス基板
2 第2のガラス基板
100 スクライブ装置
101 ステージ
102(102A、102B) スクライビングホイール
200 ブレーク装置
201 支持体
202 ブレークバー
202e (ブレークバーの)刃先
CR1、CR2、CR3、CR3α、CR4 クラック
DT ダイシングテープ
G (スクライビングホイールの)溝部
P 分断予定位置
SL スクライブライン
1 First Glass Substrate 2 Second Glass Substrate 100 Scribing Device 101 Stage 102 (102A, 102B) Scribing Wheel 200 Break Device 201 Support 202 Break Bar 202e (Break Bar) Cutting Edge CR1, CR2, CR3, CR3α, CR4 Crack DT Dicing tape G Groove part (of scribing wheel) P Cutting position SL SL scribe line

Claims (3)

第1のガラス基板と第2のガラス基板を貼り合わせてなる貼り合わせ基板を、あらかじめ定めた分断予定位置において分断する方法であって、
前記第1のガラス基板の表面において前記分断予定位置に沿って第1のスクライブラインを形成し、前記第1のスクライブラインから前記第1のガラス基板の厚み方向に、前記第1のガラス基板の厚みの30%以上50%以下の深さを有する第1の垂直クラックを導入する第1スクライブ工程と、
前記第2のガラス基板の表面において前記分断予定位置に沿って第2のスクライブラインを形成し、前記第2のスクライブラインから前記第2のガラス基板の厚み方向に、前記第2のガラス基板の厚みの5%以上10%以下の深さを有する第2の垂直クラックを導入する第2スクライブ工程と、
前記第1および第2のスクライブ工程を経た前記貼り合わせ基板に対しブレークバーを当接させ、前記第1のスクライブ工程において導入された前記第1の垂直クラックを伸展させる第1ブレーク工程と、
前記第1ブレーク工程を経た前記貼り合わせ基板に対しブレークバーを当接させ、前記第2のスクライブ工程において導入された前記第2の垂直クラックを伸展させる第2ブレーク工程と、
を備えることを特徴とする、貼り合わせ基板の分断方法。
A method for cutting a bonded substrate obtained by bonding a first glass substrate and a second glass substrate at a predetermined planned cutting position,
A first scribe line is formed along the planned dividing position on the surface of the first glass substrate, and a first scribe line of the first glass substrate is formed from the first scribe line in the thickness direction of the first glass substrate. A first scribing step of introducing a first vertical crack having a depth of 30% or more and 50% or less of the thickness;
A second scribe line is formed on the surface of the second glass substrate along the planned dividing position, and a second scribe line of the second glass substrate is formed from the second scribe line in the thickness direction of the second glass substrate. A second scribing step of introducing a second vertical crack having a depth of 5% or more and 10% or less of the thickness;
A first break step of bringing a break bar into contact with the bonded substrate having undergone the first and second scribing steps to extend the first vertical crack introduced in the first scribing step;
A second break step of bringing a break bar into contact with the bonded substrate after the first break step to extend the second vertical crack introduced in the second scribing step;
A method for cutting a bonded substrate, comprising:
請求項1に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、
前記第1スクライブ工程においては、刃先に等間隔にて溝部が設けられてなり、直径が1.0mm〜2.0mmであり、刃先角が100°〜135°である第1のスクライビングホイールを用い、前記第1のスクライビングホイールの前記第1のガラス基板に対する押し込み荷重を0.10MPa〜0.20MPaとし、
前記第2スクライブ工程においては、刃先に等間隔にて溝部が設けられてなり、直径が1.0mm〜2.0mmであり、刃先角が100°〜135°である第2のスクライビングホイールを用い、前記第2のスクライビングホイールの前記第2のガラス基板に対する押し込み荷重を0.02MPa〜0.16MPaとする、
ことを特徴とする、貼り合わせ基板の分断方法。
The method for cutting a bonded substrate according to claim 1,
In the first scribing step, a first scribing wheel is used, in which grooves are provided at equal intervals on the cutting edge, the diameter is 1.0 mm to 2.0 mm, and the cutting edge angle is 100° to 135°. And a pressing load of the first scribing wheel with respect to the first glass substrate is 0.10 MPa to 0.20 MPa,
In the second scribing step, a second scribing wheel is used, in which grooves are provided at equal intervals on the cutting edge, the diameter is 1.0 mm to 2.0 mm, and the cutting edge angle is 100° to 135°. And a pushing load of the second scribing wheel with respect to the second glass substrate is 0.02 MPa to 0.16 MPa.
A method for cutting a bonded substrate, comprising:
請求項1または請求項2に記載の貼り合わせ基板の分断方法であって、
前記第1ブレーク工程および前記第2ブレーク工程においては、刃先角が50°〜90°であり、刃先先端が25μm〜100μmなる断面曲率半径を有する曲面をなしているブレークバーを用い、
前記第1ブレーク工程における前記ブレークバーの前記第1のガラス基板に対する押し込み量を0.04mm〜0.08mmとし、
前記第2ブレーク工程における前記ブレークバーの前記第2のガラス基板に対する押し込み量を0.10mm〜0.14mmとする、
ことを特徴とする、貼り合わせ基板の分断方法。
A method for cutting a bonded substrate according to claim 1 or 2, wherein
In the first break step and the second break step, a break bar having a cutting edge angle of 50° to 90° and a cutting edge having a curved surface having a radius of curvature of 25 μm to 100 μm is used.
In the first break step, the pressing amount of the break bar with respect to the first glass substrate is 0.04 mm to 0.08 mm,
In the second break step, the pressing amount of the break bar with respect to the second glass substrate is 0.10 mm to 0.14 mm.
A method for cutting a bonded substrate, comprising:
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