JP2020064884A - Mask design apparatus and method for determining mask opening size - Google Patents

Mask design apparatus and method for determining mask opening size Download PDF

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裕治 大武
前田 憲
Ken Maeda
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Abstract

To provide a mask design apparatus and a method for determining a mask opening size, capable of appropriately performing design of a mask to be used for screen printing having a high printing difficulty level.SOLUTION: Determination of a mask opening size in mask design includes: determining a transfer rate of solder paste on the basis of at least a size of a mask opening part stored in a storage unit; calculating a transfer solder amount, an amount of solder paste to be printed on a land, by considering the transfer rate and mask opening volume calculated on the basis of the size of the mask opening part; determining whether or not the calculated transfer solder amount satisfies a required solder amount required for solder-bonding an object to be bonded on the land; and, when it is determined that the required solder amount is satisfied, taking the mask opening size used for calculating the transfer solder amount as a mask opening size for design. Thereby, design of a mask to be used for screen printing having a high printing difficulty level can be performed appropriately.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、スクリーン印刷に用いられるマスクを設計するマスク設計装置およびこのマスク設計におけるマスク開口寸法決定方法に関するものである。   The present invention relates to a mask designing apparatus for designing a mask used for screen printing and a mask opening dimension determining method in this mask designing.

電子部品を基板に実装する部品実装ラインでは、部品を基板に接合するはんだを供給するためのスクリーン印刷が行われる。スクリーン印刷では、はんだ供給対象のランドに対応してマスク開口部が形成されたマスクを基板に重ねた状態で、基板上でスキージを摺動させることにより、マスク開口部を介してランドにはんだを転写する。部品のはんだ接合では、接合対象の部品に応じた適正量のはんだを供給することが求められることから、従来よりマスク開口部の形状・寸法を適正に決定するための技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。この特許文献例に示す先行技術では、基板のランドと部品の電極を接合するはんだ形状を三角柱に近似して基準体積として求め、この基準体積に基づいてマスク開口部の面積を求めることが示されている。   In a component mounting line for mounting electronic components on a board, screen printing is performed to supply solder for joining the components to the board. In screen printing, a squeegee is slid on the substrate with a mask having mask openings formed corresponding to the lands to which solder is to be supplied, and solder is applied to the lands through the mask openings. Transcribe. In soldering components, since it is required to supply an appropriate amount of solder according to the components to be joined, a technique for appropriately determining the shape / dimension of the mask opening has been conventionally proposed ( See, for example, Patent Document 1. In the prior art shown in this patent document example, it is shown that the solder shape for joining the land of the substrate and the electrode of the component is approximated to a triangular prism to obtain a reference volume, and the area of the mask opening is obtained based on this reference volume. ing.

特許第3395732号公報Japanese Patent No. 3395732

電子機器の小型化・実装密度の高度化に伴い、基板に実装される部品の微少化、ランドの狭隣接化が進展している。このためスクリーン印刷においてランドに供給されるはんだの適正量の要求精度は高度化し、印刷難易度はより高難度化している。しかしながら上述の特許文献例を含め、従来技術においてはこのような印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計には対応していなかった。   Along with the miniaturization of electronic devices and the sophistication of packaging density, miniaturization of components mounted on a board and narrowing of land are advancing. For this reason, in screen printing, the required accuracy of the proper amount of solder supplied to the land has become more sophisticated, and the printing difficulty has become more difficult. However, the conventional techniques including the above-mentioned patent document examples have not been able to deal with the design of a mask used in such screen printing having a high degree of difficulty in printing.

そこで本発明は、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができるマスク設計装置およびマスク開口寸法決定方法を提供することを目的とする。   Therefore, it is an object of the present invention to provide a mask designing apparatus and a mask opening dimension determining method which can appropriately design a mask used in screen printing having a high printing difficulty.

本発明のマスク設計装置は、スクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスクを設計するマスク設計装置であって、記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定部と、少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ体積算出部と、前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定部とを備える。   A mask designing apparatus of the present invention is a mask designing apparatus for designing a mask used when a solder paste is printed on a land of a board by screen printing, and is based on at least a size of a mask opening stored in a storage unit. A transfer rate determining unit that determines a transfer rate of the solder paste, and a transfer that is the amount of the solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening. A solder volume calculation unit that calculates a solder amount and a determination unit that determines whether or not the transferred solder amount satisfies a necessary solder amount required to solder-bond an object to be bonded to the land.

本発明のマスク開口寸法決定方法は、スクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスク開口寸法を決定するマスク開口寸法決定方法であって、記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定ステップと、少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ量算出ステップと、前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定ステップとを含む。   A mask opening size determining method of the present invention is a mask opening size determining method for determining a mask opening size used when a solder paste is printed on a land of a substrate by screen printing, and at least the mask opening size stored in a storage unit. Transfer rate determining step for determining the transfer rate of the solder paste based on the dimension of the portion, and solder printed on the land in consideration of the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimension of the mask opening. It includes a solder amount calculation step of calculating a transfer solder amount which is the amount of paste, and a determination step of determining whether the transfer solder amount satisfies a necessary solder amount necessary for solder-bonding an object to be bonded to the land. .

本発明によれば、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができる。   According to the present invention, it is possible to appropriately design a mask used in screen printing, which has a high printing difficulty.

本発明の一実施の形態のマスク設計装置の構成を示すブロック図Block diagram showing the configuration of a mask designing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態のマスク設計装置の記憶部に記憶されるデータの説明図Explanatory diagram of data stored in a storage unit of a mask designing apparatus according to an embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態のマスク設計装置の記憶部に記憶されるデータの説明図Explanatory drawing of the data stored in the memory | storage part of the mask designing apparatus of one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態のマスク設計装置によるマスク設計におけるマスク開口部の断面形状を示す説明図Explanatory drawing which shows the cross-sectional shape of the mask opening part in the mask design by the mask design apparatus of one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態のマスク設計装置によるマスク設計における印刷難易度指標と転写率との関係を示す相関テーブルを示す図The figure which shows the correlation table which shows the relationship of the printing difficulty index and the transfer rate in the mask design by the mask design apparatus of one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態のマスク開口寸法決定方法を示す演算フロー図Calculation flow chart showing a mask opening size determination method according to an embodiment of the present invention

次に本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。まず図1を参照して、マスク設計装置1の構成を説明する。マスク設計装置1は、実装基板製造ラインにおいてスクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスクを設計するために用いられる。   Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First, the configuration of the mask designing device 1 will be described with reference to FIG. The mask designing device 1 is used for designing a mask used in printing a solder paste on a land of a board by screen printing in a mounting board manufacturing line.

マスク設計装置1は、マスク設計のための演算を実行する演算部2と、マスク設計に用いられる各種のデータを記憶する記憶部3を備えている。さらに演算部2には、表示部4および入力部5が付設されている。表示部4は液晶パネルなどの表示装置であり、演算部2による演算処理における処理ステップの表示や、以下に説明する入力部5による入力のための案内画面などを表示する。入力部5はキーボードや表示部4に作り込まれたタッチパネルスイッチなどの入力装置であり、マスク設計演算における操作指示や各種データの入力を行う。   The mask design apparatus 1 includes a calculation unit 2 that executes calculations for mask design, and a storage unit 3 that stores various data used for mask design. Further, the arithmetic unit 2 is provided with a display unit 4 and an input unit 5. The display unit 4 is a display device such as a liquid crystal panel, and displays a processing step in the arithmetic processing by the arithmetic unit 2, a guide screen for inputting by the input unit 5 described below, and the like. The input unit 5 is an input device such as a keyboard or a touch panel switch built in the display unit 4, and inputs operation instructions and various data in the mask design calculation.

演算部2は、内部処理機能として情報取得部2a、転写率決定部2b、はんだ体積算出部2c、判定部2d、修正部2eを備えている。これらの各部は、それぞれ以下に説明する処理を実行する。   The calculation unit 2 includes an information acquisition unit 2a, a transfer rate determination unit 2b, a solder volume calculation unit 2c, a determination unit 2d, and a correction unit 2e as internal processing functions. Each of these units executes the processing described below.

情報取得部2aは、記憶部3に記憶されているデータから、設計対象となる基板のマスク開口の決定に必要な情報を取得する。転写率決定部2bは、記憶部3に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいて、はんだペーストの転写率を決定する処理を行う。はんだ体積算出部2cは、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に転写率を考慮して、ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出する処理を行う。   The information acquisition unit 2a acquires, from the data stored in the storage unit 3, information necessary for determining the mask opening of the substrate to be designed. The transfer rate determining unit 2b performs a process of determining the transfer rate of the solder paste based on at least the dimensions of the mask openings stored in the storage unit 3. The solder volume calculation unit 2c performs a process of calculating the transfer solder amount, which is the amount of the solder paste printed on the land, by considering the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening.

判定部2dは、転写はんだ量がランドに被接合物である部品の電極をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する処理を行う。そしてこの判定において必要はんだ量を満たすと判定された場合には、はんだ体積算出部2cにより転写はんだ量を算出するのに用いたマスク開口寸法を、設計上のマスク開口寸法とする。修正部2eは、判定部2dにより転写はんだ量が接合するのに必要な必要はんだ量を満たさないと判定された場合に、転写はんだ量が増加するようマスク開口部の寸法を修正する処理を行う。   The determination unit 2d performs a process of determining whether or not the transferred solder amount satisfies the necessary solder amount necessary for solder-bonding the electrodes of the component to be bonded to the land. When it is determined in this determination that the required solder amount is satisfied, the mask opening size used for calculating the transfer solder amount by the solder volume calculating unit 2c is set as the designed mask opening size. When the determination unit 2d determines that the transfer solder amount does not satisfy the required solder amount required for joining, the correction unit 2e performs a process of correcting the size of the mask opening so as to increase the transfer solder amount. .

記憶部3は、初期ガーバーデータ記憶部3a、修正ガーバーデータ記憶部3b、基板情報記憶部3c、印刷難易度指標−転写率テーブル記憶部3d、必要はんだ量記憶部3eおよびマスク情報記憶部3fを有している。初期ガーバーデータ記憶部3a、修正ガーバーデータ記憶部3bは、図2(a)に示す初期ガーバーデータ30、修正ガーバーデータ30*をそれぞれ記憶する。初期ガーバーデータ30は、予め初期値として設定されているガーバーデータであり、修正ガーバーデータ30*は、マスク開口寸法決定過程において初期値を修正して設定されたガーバーデータである。   The storage unit 3 includes an initial Gerber data storage unit 3a, a modified Gerber data storage unit 3b, a board information storage unit 3c, a print difficulty index-transfer rate table storage unit 3d, a required solder amount storage unit 3e, and a mask information storage unit 3f. Have The initial Gerber data storage unit 3a and the corrected Gerber data storage unit 3b respectively store the initial Gerber data 30 and the corrected Gerber data 30 * shown in FIG. The initial Gerber data 30 is Gerber data set as an initial value in advance, and the corrected Gerber data 30 * is Gerber data set by correcting the initial value in the mask opening size determination process.

初期ガーバーデータ30、修正ガーバーデータ30*は、開口部番号30a、位置座標30b、開口形状30c、開口寸法30d(または修正後の開口寸法30d*)をそれぞれ含んでいる。開口部番号30aは、対象となるマスクにおける複数のマスク開口部を個別に特定するために付与された番号であり、ここに示す例では、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部が例示されている。   The initial Gerber data 30 and the corrected Gerber data 30 * include the opening number 30a, the position coordinate 30b, the opening shape 30c, and the opening size 30d (or the corrected opening size 30d *). The opening number 30a is a number assigned to individually specify a plurality of mask openings in the target mask, and in the example shown here, the two mask openings whose opening number N is 001,002. Parts are illustrated.

位置座標30bは、各開口部番号Nに対応するマスク開口部の当該マスクにおける基準点に対する相対位置を平面座標(X、Y)で示している。すなわち図2(c)に示すように、マスクMには開口形状がそれぞれ「四角」、「丸」のマスク開口部P1,P2が複数(ここではそれぞれ2つ)形成されている。マスク開口部P1のうち、開口部番号Nが001のマスク開口部は、平面座標(x1、y1)によって位置が特定される。またマスク開口部P2のうち、開口部番号Nが002のマスク開口部は、平面座標(x2、y2)によって位置が特定される。   The position coordinate 30b indicates the relative position of the mask opening corresponding to each opening number N with respect to the reference point in the mask by plane coordinates (X, Y). That is, as shown in FIG. 2C, a plurality of mask openings P1 and P2 (here, two openings) are formed in the mask M, the opening shapes of which are “square” and “circular”, respectively. Of the mask openings P1, the position of the mask opening having the opening number N of 001 is specified by the plane coordinates (x1, y1). Further, of the mask openings P2, the position of the mask opening having the opening number N of 002 is specified by the plane coordinates (x2, y2).

開口形状30cは、各開口部番号Nに対応するマスク開口部の平面形状を示す。ここでは、開口形状として「四角」、「丸」の2種類が用いられている。そして開口寸法30dは、図2(c)に示すように、開口形状が「四角」のマスク開口部P1については、長さ寸法L、幅寸法Wが規定されており、開口形状が「丸」のマスク開口部P2については径寸法Dが規定されている。上述の初期ガーバーデータ30、修正ガーバーデータ30*において、図2(b)に示す開口寸法30d*は、初期ガーバーデータ30における長さ寸法Lが、修正により長さ寸法L*に変更されたことを示している。   The opening shape 30c indicates the planar shape of the mask opening corresponding to each opening number N. Here, two types of opening shapes, “square” and “round”, are used. As shown in FIG. 2C, for the opening dimension 30d, the length dimension L and the width dimension W are defined for the mask opening portion P1 having the opening shape of "square", and the opening shape is "round". The diameter D of the mask opening P2 is defined. In the above-mentioned initial Gerber data 30 and corrected Gerber data 30 *, the opening dimension 30d * shown in FIG. 2B is that the length dimension L in the initial Gerber data 30 is changed to the length dimension L * by the correction. Is shown.

基板情報記憶部3cは、図3(a)に示す基板情報31を記憶する。基板情報31は、開口部番号31a、ランド厚31b、レジスト厚31cおよびシルク厚31dを含んでいる。開口部番号31aは初期ガーバーデータ30における開口部番号30aと同様であり、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部を対象としている。そしてランド厚31b、レジスト厚31cおよびシルク厚31dは、当該マスク開口部(マスク開口部P1またはマスク開口部P2)に対応する基板上面の凹凸形状を特定する形状要素に関する情報である。   The board information storage unit 3c stores the board information 31 shown in FIG. The board information 31 includes an opening number 31a, a land thickness 31b, a resist thickness 31c, and a silk thickness 31d. The opening number 31a is the same as the opening number 30a in the initial Gerber data 30, and is intended for two mask openings whose opening number N is 001,002. The land thickness 31b, the resist thickness 31c, and the silk thickness 31d are information on the shape element that specifies the uneven shape of the upper surface of the substrate corresponding to the mask opening (the mask opening P1 or the mask opening P2).

スクリーン印刷においては、図4(a)に示すように、マスクMの下面に印刷対象の基板Bを当接させる。ランド厚31b、レジスト厚31cおよびシルク厚31dは、図4(a)に示すランド厚みtL、レジスト厚みtR、シルク厚みtSをそれぞれ示している。ランド厚みtLは、はんだを転写する対象のランドLaの厚みであり、レジスト厚みtRは基板Bの上面にランドLaを囲んで形成されたレジストRの厚みである。そしてシルク厚みtSは、レジストRの上面に形成されるシルクSの厚みを示す。   In screen printing, as shown in FIG. 4A, the substrate B to be printed is brought into contact with the lower surface of the mask M. The land thickness 31b, the resist thickness 31c, and the silk thickness 31d indicate the land thickness tL, the resist thickness tR, and the silk thickness tS shown in FIG. 4A, respectively. The land thickness tL is the thickness of the land La to which the solder is transferred, and the resist thickness tR is the thickness of the resist R formed on the upper surface of the substrate B so as to surround the land La. The silk thickness tS indicates the thickness of the silk S formed on the upper surface of the resist R.

図4(b)、(c)は、基板Bに形成されるマスク開口部の3次元形状を模式的に示している。図4(b)は、開口形状が「四角」のマスク開口部P1の3次元形状を示している。マスク開口部P1は、幅寸法Wに長さ寸法Lを乗じた底面積Abと、幅寸法W及び長さ寸法Lで求められる開口部外周長さにマスク厚みtMを乗じた内側面積Asによって形状が特定される。   4B and 4C schematically show the three-dimensional shape of the mask opening formed on the substrate B. FIG. 4B shows a three-dimensional shape of the mask opening P1 having an opening shape of "square". The mask opening P1 is shaped by a bottom area Ab obtained by multiplying the width dimension W by the length dimension L and an inner area As obtained by multiplying the mask outer circumference length obtained by the width dimension W and the length dimension L by the mask thickness tM. Is specified.

マスク開口部P1を対象とするスクリーン印刷における印刷の難度の指標となる印刷難易度としては、内側面積As/底面積Abで表される面積比が一般的に用いられる。すなわち底面積Abに対する内側面積Asの割合が大きいほど、はんだペーストが抜けにくいことを示している。なお、開口形状が正方形の場合、幅寸法Wとマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比tM/Wを印刷難易度として用いてもよい。この場合においても同様に、幅寸法Wに対するマスク厚みtMの比率が大きいほど、はんだペーストが抜けにくくなる。   An area ratio represented by inner area As / bottom area Ab is generally used as the print difficulty, which is an index of the difficulty of screen printing in the mask opening P1. That is, the larger the ratio of the inner area As to the bottom area Ab, the more difficult it is for the solder paste to come off. When the opening shape is a square, the aspect ratio tM / W indicating the ratio between the width dimension W and the mask thickness tM may be used as the print difficulty level. Also in this case, similarly, the larger the ratio of the mask thickness tM to the width W, the more difficult the solder paste is to come off.

図4(c)は、開口形状が「丸」のマスク開口部P2の3次元形状を示している。マスク開口部P2を対象とする印刷難易度としては、径寸法Dとマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比tM/Dが印刷難易度として用いられる。この場合においても上述例と同様に、径寸法Dに対するマスク厚みtMの比率が大きいほど、はんだペーストが抜けにくくなる。この場合においても上述例と同様に、径寸法Dに対するマスク厚みtMの比率が大きいほど、はんだペーストが抜けにくくなる。   FIG. 4C shows a three-dimensional shape of the mask opening P2 whose opening shape is "round". As the print difficulty for the mask opening P2, the aspect ratio tM / D indicating the ratio between the diameter dimension D and the mask thickness tM is used as the print difficulty. Also in this case, as in the above-described example, the greater the ratio of the mask thickness tM to the diameter D, the more difficult the solder paste will come off. Also in this case, as in the above-described example, the greater the ratio of the mask thickness tM to the diameter D, the more difficult the solder paste will come off.

なお、上面に図4(a)に示すような凹凸形状を有する基板Bを対象とするスクリーン印刷では、マスクMの下面とランドLaの上面との間には、シルク厚みtS+レジスト厚みtR−ランド厚みtLで表される隙間aが存在する。この隙間aは、マスクMに形成されたマスク開口部(マスク開口部P1、マスク開口部P2)と連通していることから、スクリーン印刷における印刷難易度の指標となるアスペクト比(tM/WまたはtM/D)を求める上で、マスク厚みtMに上述の隙間aを加味した見かけ上アスペクト比(tM+a)/Wまたは(tM+a)/D)を、印刷難易度として用いることもできる。   In the screen printing for the substrate B having the uneven shape as shown in FIG. 4A on the upper surface, the silk thickness tS + resist thickness tR−land is provided between the lower surface of the mask M and the upper surface of the land La. There is a gap a represented by the thickness tL. Since this gap a communicates with the mask openings (mask openings P1 and P2) formed in the mask M, the aspect ratio (tM / W or In obtaining tM / D), the apparent aspect ratio (tM + a) / W or (tM + a) / D) obtained by adding the above-mentioned gap a to the mask thickness tM can be used as the print difficulty level.

印刷難易度指標−転写率テーブル記憶部3dは、図3(b)に示す印刷難易度指標−転写率テーブル32を記憶する。印刷難易度指標−転写率テーブル32は、上述の印刷難易度の指標と転写率との関係を示しており、経験的に蓄積されたデータを相関テーブルの形で表したものである。ここで転写率とは、マスク開口部内に充填されたはんだの体積のうち、マスクMから基板Bを離隔させる版離れにおいてランドに実際に転写されるはんだの体積の割合を示す。一般に印刷難易度が高くなるにつれて転写率は低下する。すなわち印刷対象のランドに所望量のはんだを転写する場合において、印刷難易度が高いほど転写率が低く、実際に転写されるはんだペーストの転写量は少なくなることから、マスク開口部の内容積を転写率に応じて適切に設定する必要がある。   The printing difficulty index-transfer rate table storage unit 3d stores the printing difficulty index-transfer rate table 32 shown in FIG. The print difficulty index-transfer rate table 32 shows the relationship between the print difficulty index and the transfer rate described above, and represents empirically accumulated data in the form of a correlation table. Here, the transfer rate refers to the ratio of the volume of the solder that is actually transferred to the land in the plate separation that separates the substrate B from the mask M, out of the volume of the solder filled in the mask opening. Generally, the transfer rate decreases as the printing difficulty increases. That is, when transferring a desired amount of solder to the land to be printed, the higher the printing difficulty, the lower the transfer rate, and the transfer amount of the solder paste that is actually transferred decreases, so the internal volume of the mask opening is reduced. It is necessary to set it appropriately according to the transfer rate.

すなわち本実施の形態では、印刷難易度として、マスク開口部の底面積Abと内側面積Asとの比率を示す面積比、またはマスク開口部の幅寸法W(または径寸法D)とマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比、またはマスク厚みtMにマスクMの下面とランドLaの上面との間の隙間aを加味して求められた見かけ上アスペクト比のいずれかを用いるようにしている。   That is, in the present embodiment, as the printing difficulty, the area ratio indicating the ratio of the bottom area Ab of the mask opening to the inner area As, or the width dimension W (or diameter dimension D) of the mask opening and the mask thickness tM. Or an apparent aspect ratio obtained by adding the gap a between the lower surface of the mask M and the upper surface of the land La to the mask thickness tM.

図5は、上述の3種類の印刷難易度を用いた印刷難易度指標−転写率テーブル32の具体例を示している。まず図5(a)は、印刷難易度として面積比(内側面積As/底面積Ab)を用いた場合を示している。この例では、面積比の値が1.5において転写率αが1.0となり、面積比の値が2.0において転写率αが0.8となっている。すなわち面積比が増大して印刷難易度が高くなるに伴って転写率αが低下することを示している。   FIG. 5 shows a specific example of the print difficulty index-transfer rate table 32 using the above-described three types of print difficulty. First, FIG. 5A shows a case where the area ratio (inner area As / bottom area Ab) is used as the printing difficulty. In this example, when the area ratio value is 1.5, the transfer rate α is 1.0, and when the area ratio value is 2.0, the transfer rate α is 0.8. That is, the transfer rate α decreases as the area ratio increases and the printing difficulty increases.

次に図5(b)は、印刷難易度としてアスペクト比(マスク厚みtM/幅寸法W(または径寸法D))を用いた場合を示している。この例では、アスペクト比の値が0.5において転写率βが1.0となり、アスペクト比の値が0.7において転写率βが0.8となっている。すなわちアスペクト比が増大して印刷難易度が高くなるに伴って転写率βが低下することを示している。   Next, FIG. 5B shows a case where the aspect ratio (mask thickness tM / width dimension W (or diameter dimension D)) is used as the print difficulty. In this example, when the aspect ratio value is 0.5, the transfer rate β is 1.0, and when the aspect ratio value is 0.7, the transfer rate β is 0.8. That is, it is shown that the transfer rate β decreases as the aspect ratio increases and the printing difficulty increases.

また図5(c)は、印刷難易度として前述の見かけ上アスペクト比(マスク厚み(tM+a)/幅寸法W(または径寸法D))を用いた場合を示している。この例では、見かけ上アスペクト比の値が0.8において転写率γが1.0となり、見かけ上アスペクト比の値が1.0において転写率γが0.8となっている。すなわちこの例においても、見かけ上アスペクト比が増大して印刷難易度が高くなるに伴って転写率γが低下することを示している。   Further, FIG. 5C shows a case where the above-mentioned apparent aspect ratio (mask thickness (tM + a) / width dimension W (or diameter dimension D)) is used as the printing difficulty. In this example, when the apparent aspect ratio value is 0.8, the transfer rate γ is 1.0, and when the apparent aspect ratio value is 1.0, the transfer rate γ is 0.8. That is, this example also shows that the transfer rate γ decreases as the aspect ratio increases and the printing difficulty increases.

必要はんだ量記憶部3eは、図3(c)に示す必要はんだ量情報33を記憶する。必要はんだ量情報33は、開口部番号33a、必要はんだ量33bを含んでいる。開口部番号33aは初期ガーバーデータ30における開口部番号30aと同様であり、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部を対象としている。そしてこれら開口部番号毎に、対象となるはんだ接合部位に応じて予め規定された必要はんだ量VSを記憶する。すなわち、開口部番号Nが001,002のマスク開口部に対応するランドには、それぞれ必要はんだ量VS1、VS2を満たす量のはんだを、スクリーン印刷により転写する必要があることを示している。   The required solder amount storage unit 3e stores the required solder amount information 33 shown in FIG. The required solder amount information 33 includes the opening number 33a and the required solder amount 33b. The opening number 33a is the same as the opening number 30a in the initial Gerber data 30, and is intended for two mask openings whose opening number N is 001,002. Then, for each of these opening numbers, a required solder amount VS that is defined in advance according to the target solder joint portion is stored. That is, it is indicated that the lands corresponding to the mask openings having the opening numbers N of 001 and 002 need to be transferred by screen printing with the amounts of solder satisfying the required solder amounts VS1 and VS2, respectively.

マスク情報記憶部3fは、図3(d)に示すマスク情報34を記憶する。マスク情報34は、開口部番号34a、マスク厚34bを含んでいる。開口部番号34aは初期ガーバーデータ30における開口部番号30aと同様であり、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部を対象としている。そしてこれら開口番号毎に当該マスク開口部が形成された位置におけるマスクMの厚みマスク厚みtMを記憶する。なお、マスク厚みtMは一つのマスクMについて同一の場合が多いが、マスクMの上面を部分的に削り込んだハーフエッチ型のマスクMの場合には、マスク開口部の位置によってマスク厚みtMが異なる。   The mask information storage unit 3f stores the mask information 34 shown in FIG. The mask information 34 includes an opening number 34a and a mask thickness 34b. The opening number 34a is similar to the opening number 30a in the initial Gerber data 30, and is intended for two mask openings whose opening number N is 001,002. Then, the mask thickness tM of the mask M at the position where the mask opening is formed is stored for each opening number. Although the mask thickness tM is often the same for one mask M, in the case of a half-etch type mask M in which the upper surface of the mask M is partially cut, the mask thickness tM depends on the position of the mask opening. different.

次にスクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスク開口寸法を決定するマスク開口寸法決定方法について、図6に示すマスク開口寸法決定のフローに則して説明する。   Next, a mask opening dimension determining method for determining the mask opening dimension used when the solder paste is printed on the land of the substrate by screen printing will be described with reference to the mask opening dimension determination flow shown in FIG.

演算が開始されると(ST1)、まず情報取得が行われる(ST2)。すなわち記憶部3に記憶された初期ガーバーデータ30、基板情報31、印刷難易度指標−転写率テーブル32、必要はんだ量情報33、マスク情報34を取得する。そしてこれら取得した情報に基づいて、以下の演算処理が順次実行される。   When the calculation is started (ST1), information is first acquired (ST2). That is, the initial Gerber data 30, the board information 31, the print difficulty index-transfer rate table 32, the required solder amount information 33, and the mask information 34 stored in the storage unit 3 are acquired. Then, the following arithmetic processing is sequentially executed based on the acquired information.

まず、記憶部3に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する(転写率決定ステップ:ST3)。すなわち、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて取得した印刷難易度に基づいて、転写率を決定する。この演算処理は、初期ガーバーデータ30、基板情報31、マスク情報34に基づいて、転写率決定部2bにより実行される。   First, the transfer rate of the solder paste is determined based on at least the dimensions of the mask openings stored in the storage unit 3 (transfer rate determining step: ST3). That is, the transfer rate is determined based on at least the print difficulty acquired based on the size of the mask opening. This calculation process is executed by the transfer rate determining unit 2b based on the initial Gerber data 30, the substrate information 31, and the mask information 34.

ここでは、前述のマスク開口部の底面積Abと内側面積Asとの比率を示す面積比に基づく転写率α、マスク開口部の幅寸法Wとマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比に基づく転写率β、あるいはマスク厚みtMにマスク下面とランド上面との間の隙間aを加味して求められた見かけ上アスペクト比に基づく転写率γのいずれかを採用して、当該マスク開口部に適用されるべき転写率を決定する。   Here, the transfer rate α based on the area ratio indicating the ratio between the bottom area Ab and the inner area As of the mask opening, and the transfer based on the aspect ratio indicating the ratio between the width dimension W of the mask opening and the mask thickness tM. Either the rate β or the transfer rate γ based on the apparent aspect ratio obtained by adding the gap a between the mask lower surface and the land upper surface to the mask thickness tM is applied to the mask opening. Determine the transcription rate to be used.

次いで、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に、(ST3)において決定した転写率を考慮してランドLaに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出する(はんだ量算出ステップ:ST4)。ここでは、はんだ体積算出部2cにより、初期ガーバーデータ30に規定された開口寸法30dおよびマスク情報34のマスク厚みtMより算出したマスク開口体積に、(ST3)にて決定された転写率より、ランドLaに実際に転写される転写はんだ量を算出する。ここではマスク開口体積と転写率を乗算することによって、実際に転写される転写はんだ量を算出する。   Next, in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening, the transfer solder amount which is the amount of the solder paste printed on the land La is calculated in consideration of the transfer rate determined in (ST3) (solder Quantity calculation step: ST4). Here, the solder volume calculation unit 2c calculates the mask opening volume calculated from the opening dimension 30d defined in the initial Gerber data 30 and the mask thickness tM of the mask information 34, and the land transfer rate determined in (ST3). The transfer solder amount actually transferred to La is calculated. Here, the transfer solder amount actually transferred is calculated by multiplying the mask opening volume by the transfer rate.

次に算出された転写はんだ量は必要はんだ量以上か否か、換言すれば算出された転写はんだ量が、ランドLaに被接合物である部品の電極をはんだ接合するのに必要なはんだ量として必要はんだ量記憶部3eに記憶された必要はんだ量を満たすかを、判定部2dによって判定する(判定ステップ:ST5)。そしてこの判定ステップにおいて、必要はんだ量を満たすと判定された場合には、(ST4)において転写はんだ量を算出するのに用いたマスク開口寸法を、設計上のマスク開口寸法として決定する(ST6)。そして決定された設計上のマスク開口寸法は、修正ガーバーデータ30*として記憶部3の修正ガーバーデータ記憶部3bに格納される。   Next, whether or not the calculated transfer solder amount is equal to or more than the required solder amount, in other words, the calculated transfer solder amount is the solder amount necessary for solder-bonding the electrode of the component to be bonded to the land La. The determination unit 2d determines whether or not the required solder amount stored in the required solder amount storage unit 3e is satisfied (determination step: ST5). When it is determined in this determination step that the required solder amount is satisfied, the mask opening size used for calculating the transfer solder amount in (ST4) is determined as the designed mask opening size (ST6). . Then, the determined designed mask opening size is stored in the corrected Gerber data storage unit 3b of the storage unit 3 as the corrected Gerber data 30 *.

これに対し、(ST5)の判定ステップにおいて転写はんだ量が接合するのに必要な量を満たさないと判定された場合には、情報修正を実行する(ST7)。この情報修正は修正部2eにより実行され、ランドLaに転写される転写はんだ量が増加するようマスク開口部の寸法を修正する(修正ステップ)。修正されたマスク開口寸法は、記憶部3の修正ガーバーデータ記憶部3bに修正ガーバーデータ30*として格納される(図2(b)に示す開口寸法30d*参照)。   On the other hand, if it is determined in the determination step of (ST5) that the transfer solder amount does not satisfy the amount required for joining, information correction is executed (ST7). This information correction is executed by the correction unit 2e, and the size of the mask opening is corrected so that the amount of transferred solder transferred to the land La is increased (correction step). The corrected mask opening size is stored as the corrected Gerber data 30 * in the corrected Gerber data storage unit 3b of the storage unit 3 (see the opening size 30d * shown in FIG. 2B).

そして修正されたマスク開口寸法に基づいて、後続の処理ステップを実行する。すなわち(ST4)のはんだ量算出ステップにおいて、修正ステップにおいて修正したマスク開口寸法に基づいて、転写はんだ量を算出する。算出された転写はんだ量は再度(ST5)において判定部2dによる判定の対象となり、以下必要はんだ量を満たすと判定されるまで同様の処理が反復される。   Subsequent processing steps are then performed based on the modified mask opening size. That is, in the solder amount calculation step of (ST4), the transfer solder amount is calculated based on the mask opening size corrected in the correction step. The calculated transfer solder amount is again subjected to determination by the determination unit 2d in (ST5), and the same process is repeated until it is determined that the required solder amount is satisfied.

この後、当該マスク決定処理の対象となるマスクについてのすべての部品の演算処理が終了したか否かが記憶部3によって判断される(ST8)。ここですべての部品について終了していない場合には、当該未処理の部品について(ST2)に戻って情報取得が行われ、以下、同様の演算処理が反復実行される。そして(ST8)にて全部品についての演算処理終了が確認されたならば、マスク開口寸法決定のための演算処理を終了する(ST9)。   After that, the storage unit 3 determines whether or not the arithmetic processing of all the components of the mask which is the target of the mask determination processing is completed (ST8). If all parts have not been finished, the process returns to (ST2) for the unprocessed part, information is acquired, and the same calculation process is repeatedly executed. When it is confirmed in (ST8) that the arithmetic processing has been completed for all components, the arithmetic processing for determining the mask opening size is terminated (ST9).

上記説明したように、本実施の形態に示すマスク設計におけるマスク開口寸法決定においては、記憶部3に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定し、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に転写率を考慮してランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出し、算出された転写はんだ量がランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定し、この判定において必要はんだ量を満たすと判定された場合には、転写はんだ量を算出するのに用いたマスク開口寸法を設計上のマスク開口寸法とするようにしている。これにより、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができる。   As described above, in determining the mask opening size in the mask design shown in the present embodiment, the transfer rate of the solder paste is determined based on at least the size of the mask opening stored in the storage unit 3, and at least the mask opening is determined. Calculate the transfer solder amount that is the amount of solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate to the mask opening volume calculated based on the dimension of the part, and the calculated transfer solder amount solders the object to be bonded to the land. It is determined whether the required solder amount for joining is satisfied, and if it is determined that the required solder amount is satisfied in this determination, the mask opening size used to calculate the transfer solder amount is used as the design mask. The opening size is set. As a result, it is possible to appropriately design a mask used in screen printing, which has a high printing difficulty.

本発明のマスク設計装置およびマスク開口寸法決定方法は、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができるという効果を有し、スクリーン印刷に用いられるマスクを設計する分野において有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The mask designing apparatus and the mask opening dimension determining method of the present invention have the effect of being able to appropriately design a mask used in screen printing, which has a high printing difficulty, and a field of designing a mask used in screen printing. Is useful in.

1 マスク設計装置
M マスク
P1,P2 マスク開口部
W 幅寸法
D 径寸法
B 基板
Ab 底面積
As 内側面積
tM マスク厚み
tR レジスト厚み
tS シルク厚み
a 隙間
1 Mask Design Device M Mask P1, P2 Mask Opening W Width Dimension D Diameter Dimension B Substrate Ab Bottom Area As Inner Area tM Mask Thickness tR Resist Thickness tS Silk Thickness a Gap

Claims (12)

スクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスクを設計するマスク設計装置であって、
記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定部と、
少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ体積算出部と、
前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定部とを備える、マスク設計装置。
A mask design apparatus for designing a mask used when printing a solder paste on a land of a board by screen printing,
A transfer rate determination unit that determines the transfer rate of the solder paste based on at least the dimensions of the mask openings stored in the storage unit;
A solder volume calculation unit that calculates a transfer solder amount that is the amount of solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate in a mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening,
A mask designing apparatus, comprising: a determination unit that determines whether or not the transferred solder amount satisfies a necessary solder amount required for solder-bonding an object to be bonded to the land.
前記判定において満たすと判定された場合には、前記転写はんだ量を算出するのに用いた前記マスク開口寸法を設計上のマスク開口寸法とする、請求項1に記載のマスク設計装置。   The mask designing apparatus according to claim 1, wherein, when it is determined that the transfer solder amount is satisfied, the mask opening dimension used for calculating the transfer solder amount is set as a designed mask opening dimension. 前記転写率決定部は、少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて取得した印刷難易度に基づいて前記転写率を決定する、請求項1又は2に記載のマスク設計装置。   The mask designing device according to claim 1, wherein the transfer rate determining unit determines the transfer rate based on at least the print difficulty acquired based on the dimension of the mask opening. 前記印刷難易度は、前記マスク開口部の底面積と内側面積との比率を示す面積比、または前記マスク開口部の幅寸法とマスク厚みとの比率を示すアスペクト比、または前記マスク厚みにマスク下面とランド上面との間の隙間を加味して求められた見かけ上アスペクト比である、請求項1から3のいずれかに記載のマスク設計装置。   The printing difficulty is an area ratio indicating a ratio of a bottom area to an inner area of the mask opening, or an aspect ratio indicating a ratio of a width dimension of the mask opening to a mask thickness, or the mask thickness to a mask lower surface. 4. The mask designing apparatus according to claim 1, wherein the mask aspect ratio is an apparent aspect ratio obtained by taking into consideration a gap between the land and the land upper surface. 前記はんだ体積算出部は、前記マスク開口体積と前記転写率を乗算することによって前記転写はんだ量を算出する、請求項1から4のいずれかに記載のマスク設計装置。   The mask design apparatus according to claim 1, wherein the solder volume calculation unit calculates the transfer solder amount by multiplying the mask opening volume by the transfer rate. 前記判定部により前記転写はんだ量が接合するのに必要な量を満たさないと判定された場合に前記転写はんだ量が増加するよう前記マスク開口部の寸法を修正する修正部を備え、
前記はんだ体積算出部は、前記修正部によって修正した前記マスク開口寸法に基づいて前記転写はんだ量を算出する、請求項1から5のいずれかに記載のマスク設計装置。
The determining unit includes a correction unit that corrects the dimensions of the mask opening so that the transfer solder amount increases when it is determined that the transfer solder amount does not satisfy the amount necessary for joining.
The mask design apparatus according to claim 1, wherein the solder volume calculation unit calculates the transfer solder amount based on the mask opening size corrected by the correction unit.
スクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスク開口寸法を決定するマスク開口寸法決定方法であって、
記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定ステップと、
少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ量算出ステップと、
前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定ステップとを含む、マスク開口寸法決定方法。
A mask opening size determining method for determining a mask opening size used when a solder paste is printed on a land of a board by screen printing,
A transfer rate determining step of determining a transfer rate of the solder paste based on at least the dimensions of the mask opening stored in the storage section;
A solder amount calculation step of calculating a transfer solder amount which is the amount of solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening,
And a step of determining whether the transfer solder amount satisfies a necessary solder amount necessary for solder-bonding an object to be bonded to the land.
前記判定ステップにおいて満たすと判定された場合には、前記転写はんだ量を算出するのに用いた前記マスク開口寸法を設計上のマスク開口寸法とする、請求項7記載のマスク開口寸法決定方法。   8. The mask opening dimension determining method according to claim 7, wherein, when it is determined that the transfer solder amount is satisfied in the determination step, the mask opening dimension used for calculating the transfer solder amount is set as a designed mask opening dimension. 前記転写率決定ステップにおいて、少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて取得した印刷難易度に基づいて前記転写率を決定する、請求項7又は8に記載のマスク開口寸法決定方法。   9. The mask opening size determining method according to claim 7, wherein in the transfer ratio determining step, the transfer ratio is determined based on at least the print difficulty acquired based on the size of the mask opening. 前記印刷難易度は、前記マスク開口部の底面積と内側面積との比率を示す面積比、または前記マスク開口部の幅寸法とマスク厚みとの比率を示すアスペクト比、または前記マスク厚みにマスク下面とランド上面との間の隙間を加味して求められた見かけ上アスペクト比である、請求項7から9のいずれかに記載のマスク開口寸法決定方法。   The printing difficulty is an area ratio indicating a ratio of a bottom area to an inner area of the mask opening, or an aspect ratio indicating a ratio of a width dimension of the mask opening to a mask thickness, or the mask thickness to a mask lower surface. 10. The mask aperture dimension determining method according to claim 7, wherein the mask aperture dimension is an apparent aspect ratio obtained by taking into consideration a gap between the mask and the land upper surface. 前記はんだ量算出ステップにおいて、前記マスク開口体積と前記転写率を乗算することによって前記転写はんだ量を算出する、請求項7から10のいずれかに記載のマスク開口寸法決定方法。   11. The mask opening size determining method according to claim 7, wherein in the solder amount calculating step, the transfer solder amount is calculated by multiplying the mask opening volume by the transfer rate. 前記判定ステップにおいて、前記転写はんだ量が接合するのに必要な量を満たさないと判定された場合に前記転写はんだ量が増加するよう前記マスク開口部の寸法を修正する修正ステップをさらに含み、
前記はんだ量算出ステップにおいて、前記修正ステップにおいて修正した前記マスク開口寸法に基づいて前記転写はんだ量を算出する、請求項7から11のいずれかに記載のマスク開口寸法決定方法。
In the determination step, further comprising a correction step of correcting the dimensions of the mask opening so as to increase the transfer solder amount when it is determined that the transfer solder amount does not satisfy the amount required for joining,
The mask opening size determining method according to claim 7, wherein in the solder amount calculating step, the transfer solder amount is calculated based on the mask opening size corrected in the correcting step.
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