JP2020064884A - Mask design apparatus and method for determining mask opening size - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、スクリーン印刷に用いられるマスクを設計するマスク設計装置およびこのマスク設計におけるマスク開口寸法決定方法に関するものである。 The present invention relates to a mask designing apparatus for designing a mask used for screen printing and a mask opening dimension determining method in this mask designing.
電子部品を基板に実装する部品実装ラインでは、部品を基板に接合するはんだを供給するためのスクリーン印刷が行われる。スクリーン印刷では、はんだ供給対象のランドに対応してマスク開口部が形成されたマスクを基板に重ねた状態で、基板上でスキージを摺動させることにより、マスク開口部を介してランドにはんだを転写する。部品のはんだ接合では、接合対象の部品に応じた適正量のはんだを供給することが求められることから、従来よりマスク開口部の形状・寸法を適正に決定するための技術が提案されている(例えば特許文献1参照)。この特許文献例に示す先行技術では、基板のランドと部品の電極を接合するはんだ形状を三角柱に近似して基準体積として求め、この基準体積に基づいてマスク開口部の面積を求めることが示されている。
In a component mounting line for mounting electronic components on a board, screen printing is performed to supply solder for joining the components to the board. In screen printing, a squeegee is slid on the substrate with a mask having mask openings formed corresponding to the lands to which solder is to be supplied, and solder is applied to the lands through the mask openings. Transcribe. In soldering components, since it is required to supply an appropriate amount of solder according to the components to be joined, a technique for appropriately determining the shape / dimension of the mask opening has been conventionally proposed ( See, for example,
電子機器の小型化・実装密度の高度化に伴い、基板に実装される部品の微少化、ランドの狭隣接化が進展している。このためスクリーン印刷においてランドに供給されるはんだの適正量の要求精度は高度化し、印刷難易度はより高難度化している。しかしながら上述の特許文献例を含め、従来技術においてはこのような印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計には対応していなかった。 Along with the miniaturization of electronic devices and the sophistication of packaging density, miniaturization of components mounted on a board and narrowing of land are advancing. For this reason, in screen printing, the required accuracy of the proper amount of solder supplied to the land has become more sophisticated, and the printing difficulty has become more difficult. However, the conventional techniques including the above-mentioned patent document examples have not been able to deal with the design of a mask used in such screen printing having a high degree of difficulty in printing.
そこで本発明は、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができるマスク設計装置およびマスク開口寸法決定方法を提供することを目的とする。 Therefore, it is an object of the present invention to provide a mask designing apparatus and a mask opening dimension determining method which can appropriately design a mask used in screen printing having a high printing difficulty.
本発明のマスク設計装置は、スクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスクを設計するマスク設計装置であって、記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定部と、少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ体積算出部と、前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定部とを備える。 A mask designing apparatus of the present invention is a mask designing apparatus for designing a mask used when a solder paste is printed on a land of a board by screen printing, and is based on at least a size of a mask opening stored in a storage unit. A transfer rate determining unit that determines a transfer rate of the solder paste, and a transfer that is the amount of the solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening. A solder volume calculation unit that calculates a solder amount and a determination unit that determines whether or not the transferred solder amount satisfies a necessary solder amount required to solder-bond an object to be bonded to the land.
本発明のマスク開口寸法決定方法は、スクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスク開口寸法を決定するマスク開口寸法決定方法であって、記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定ステップと、少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ量算出ステップと、前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定ステップとを含む。 A mask opening size determining method of the present invention is a mask opening size determining method for determining a mask opening size used when a solder paste is printed on a land of a substrate by screen printing, and at least the mask opening size stored in a storage unit. Transfer rate determining step for determining the transfer rate of the solder paste based on the dimension of the portion, and solder printed on the land in consideration of the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimension of the mask opening. It includes a solder amount calculation step of calculating a transfer solder amount which is the amount of paste, and a determination step of determining whether the transfer solder amount satisfies a necessary solder amount necessary for solder-bonding an object to be bonded to the land. .
本発明によれば、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができる。 According to the present invention, it is possible to appropriately design a mask used in screen printing, which has a high printing difficulty.
次に本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。まず図1を参照して、マスク設計装置1の構成を説明する。マスク設計装置1は、実装基板製造ラインにおいてスクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスクを設計するために用いられる。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. First, the configuration of the
マスク設計装置1は、マスク設計のための演算を実行する演算部2と、マスク設計に用いられる各種のデータを記憶する記憶部3を備えている。さらに演算部2には、表示部4および入力部5が付設されている。表示部4は液晶パネルなどの表示装置であり、演算部2による演算処理における処理ステップの表示や、以下に説明する入力部5による入力のための案内画面などを表示する。入力部5はキーボードや表示部4に作り込まれたタッチパネルスイッチなどの入力装置であり、マスク設計演算における操作指示や各種データの入力を行う。
The
演算部2は、内部処理機能として情報取得部2a、転写率決定部2b、はんだ体積算出部2c、判定部2d、修正部2eを備えている。これらの各部は、それぞれ以下に説明する処理を実行する。
The
情報取得部2aは、記憶部3に記憶されているデータから、設計対象となる基板のマスク開口の決定に必要な情報を取得する。転写率決定部2bは、記憶部3に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいて、はんだペーストの転写率を決定する処理を行う。はんだ体積算出部2cは、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に転写率を考慮して、ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出する処理を行う。
The information acquisition unit 2a acquires, from the data stored in the
判定部2dは、転写はんだ量がランドに被接合物である部品の電極をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する処理を行う。そしてこの判定において必要はんだ量を満たすと判定された場合には、はんだ体積算出部2cにより転写はんだ量を算出するのに用いたマスク開口寸法を、設計上のマスク開口寸法とする。修正部2eは、判定部2dにより転写はんだ量が接合するのに必要な必要はんだ量を満たさないと判定された場合に、転写はんだ量が増加するようマスク開口部の寸法を修正する処理を行う。
The
記憶部3は、初期ガーバーデータ記憶部3a、修正ガーバーデータ記憶部3b、基板情報記憶部3c、印刷難易度指標−転写率テーブル記憶部3d、必要はんだ量記憶部3eおよびマスク情報記憶部3fを有している。初期ガーバーデータ記憶部3a、修正ガーバーデータ記憶部3bは、図2(a)に示す初期ガーバーデータ30、修正ガーバーデータ30*をそれぞれ記憶する。初期ガーバーデータ30は、予め初期値として設定されているガーバーデータであり、修正ガーバーデータ30*は、マスク開口寸法決定過程において初期値を修正して設定されたガーバーデータである。
The
初期ガーバーデータ30、修正ガーバーデータ30*は、開口部番号30a、位置座標30b、開口形状30c、開口寸法30d(または修正後の開口寸法30d*)をそれぞれ含んでいる。開口部番号30aは、対象となるマスクにおける複数のマスク開口部を個別に特定するために付与された番号であり、ここに示す例では、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部が例示されている。
The initial Gerber
位置座標30bは、各開口部番号Nに対応するマスク開口部の当該マスクにおける基準点に対する相対位置を平面座標(X、Y)で示している。すなわち図2(c)に示すように、マスクMには開口形状がそれぞれ「四角」、「丸」のマスク開口部P1,P2が複数(ここではそれぞれ2つ)形成されている。マスク開口部P1のうち、開口部番号Nが001のマスク開口部は、平面座標(x1、y1)によって位置が特定される。またマスク開口部P2のうち、開口部番号Nが002のマスク開口部は、平面座標(x2、y2)によって位置が特定される。
The
開口形状30cは、各開口部番号Nに対応するマスク開口部の平面形状を示す。ここでは、開口形状として「四角」、「丸」の2種類が用いられている。そして開口寸法30dは、図2(c)に示すように、開口形状が「四角」のマスク開口部P1については、長さ寸法L、幅寸法Wが規定されており、開口形状が「丸」のマスク開口部P2については径寸法Dが規定されている。上述の初期ガーバーデータ30、修正ガーバーデータ30*において、図2(b)に示す開口寸法30d*は、初期ガーバーデータ30における長さ寸法Lが、修正により長さ寸法L*に変更されたことを示している。
The
基板情報記憶部3cは、図3(a)に示す基板情報31を記憶する。基板情報31は、開口部番号31a、ランド厚31b、レジスト厚31cおよびシルク厚31dを含んでいる。開口部番号31aは初期ガーバーデータ30における開口部番号30aと同様であり、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部を対象としている。そしてランド厚31b、レジスト厚31cおよびシルク厚31dは、当該マスク開口部(マスク開口部P1またはマスク開口部P2)に対応する基板上面の凹凸形状を特定する形状要素に関する情報である。
The board information storage unit 3c stores the
スクリーン印刷においては、図4(a)に示すように、マスクMの下面に印刷対象の基板Bを当接させる。ランド厚31b、レジスト厚31cおよびシルク厚31dは、図4(a)に示すランド厚みtL、レジスト厚みtR、シルク厚みtSをそれぞれ示している。ランド厚みtLは、はんだを転写する対象のランドLaの厚みであり、レジスト厚みtRは基板Bの上面にランドLaを囲んで形成されたレジストRの厚みである。そしてシルク厚みtSは、レジストRの上面に形成されるシルクSの厚みを示す。
In screen printing, as shown in FIG. 4A, the substrate B to be printed is brought into contact with the lower surface of the mask M. The
図4(b)、(c)は、基板Bに形成されるマスク開口部の3次元形状を模式的に示している。図4(b)は、開口形状が「四角」のマスク開口部P1の3次元形状を示している。マスク開口部P1は、幅寸法Wに長さ寸法Lを乗じた底面積Abと、幅寸法W及び長さ寸法Lで求められる開口部外周長さにマスク厚みtMを乗じた内側面積Asによって形状が特定される。 4B and 4C schematically show the three-dimensional shape of the mask opening formed on the substrate B. FIG. 4B shows a three-dimensional shape of the mask opening P1 having an opening shape of "square". The mask opening P1 is shaped by a bottom area Ab obtained by multiplying the width dimension W by the length dimension L and an inner area As obtained by multiplying the mask outer circumference length obtained by the width dimension W and the length dimension L by the mask thickness tM. Is specified.
マスク開口部P1を対象とするスクリーン印刷における印刷の難度の指標となる印刷難易度としては、内側面積As/底面積Abで表される面積比が一般的に用いられる。すなわち底面積Abに対する内側面積Asの割合が大きいほど、はんだペーストが抜けにくいことを示している。なお、開口形状が正方形の場合、幅寸法Wとマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比tM/Wを印刷難易度として用いてもよい。この場合においても同様に、幅寸法Wに対するマスク厚みtMの比率が大きいほど、はんだペーストが抜けにくくなる。 An area ratio represented by inner area As / bottom area Ab is generally used as the print difficulty, which is an index of the difficulty of screen printing in the mask opening P1. That is, the larger the ratio of the inner area As to the bottom area Ab, the more difficult it is for the solder paste to come off. When the opening shape is a square, the aspect ratio tM / W indicating the ratio between the width dimension W and the mask thickness tM may be used as the print difficulty level. Also in this case, similarly, the larger the ratio of the mask thickness tM to the width W, the more difficult the solder paste is to come off.
図4(c)は、開口形状が「丸」のマスク開口部P2の3次元形状を示している。マスク開口部P2を対象とする印刷難易度としては、径寸法Dとマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比tM/Dが印刷難易度として用いられる。この場合においても上述例と同様に、径寸法Dに対するマスク厚みtMの比率が大きいほど、はんだペーストが抜けにくくなる。この場合においても上述例と同様に、径寸法Dに対するマスク厚みtMの比率が大きいほど、はんだペーストが抜けにくくなる。 FIG. 4C shows a three-dimensional shape of the mask opening P2 whose opening shape is "round". As the print difficulty for the mask opening P2, the aspect ratio tM / D indicating the ratio between the diameter dimension D and the mask thickness tM is used as the print difficulty. Also in this case, as in the above-described example, the greater the ratio of the mask thickness tM to the diameter D, the more difficult the solder paste will come off. Also in this case, as in the above-described example, the greater the ratio of the mask thickness tM to the diameter D, the more difficult the solder paste will come off.
なお、上面に図4(a)に示すような凹凸形状を有する基板Bを対象とするスクリーン印刷では、マスクMの下面とランドLaの上面との間には、シルク厚みtS+レジスト厚みtR−ランド厚みtLで表される隙間aが存在する。この隙間aは、マスクMに形成されたマスク開口部(マスク開口部P1、マスク開口部P2)と連通していることから、スクリーン印刷における印刷難易度の指標となるアスペクト比(tM/WまたはtM/D)を求める上で、マスク厚みtMに上述の隙間aを加味した見かけ上アスペクト比(tM+a)/Wまたは(tM+a)/D)を、印刷難易度として用いることもできる。 In the screen printing for the substrate B having the uneven shape as shown in FIG. 4A on the upper surface, the silk thickness tS + resist thickness tR−land is provided between the lower surface of the mask M and the upper surface of the land La. There is a gap a represented by the thickness tL. Since this gap a communicates with the mask openings (mask openings P1 and P2) formed in the mask M, the aspect ratio (tM / W or In obtaining tM / D), the apparent aspect ratio (tM + a) / W or (tM + a) / D) obtained by adding the above-mentioned gap a to the mask thickness tM can be used as the print difficulty level.
印刷難易度指標−転写率テーブル記憶部3dは、図3(b)に示す印刷難易度指標−転写率テーブル32を記憶する。印刷難易度指標−転写率テーブル32は、上述の印刷難易度の指標と転写率との関係を示しており、経験的に蓄積されたデータを相関テーブルの形で表したものである。ここで転写率とは、マスク開口部内に充填されたはんだの体積のうち、マスクMから基板Bを離隔させる版離れにおいてランドに実際に転写されるはんだの体積の割合を示す。一般に印刷難易度が高くなるにつれて転写率は低下する。すなわち印刷対象のランドに所望量のはんだを転写する場合において、印刷難易度が高いほど転写率が低く、実際に転写されるはんだペーストの転写量は少なくなることから、マスク開口部の内容積を転写率に応じて適切に設定する必要がある。
The printing difficulty index-transfer rate
すなわち本実施の形態では、印刷難易度として、マスク開口部の底面積Abと内側面積Asとの比率を示す面積比、またはマスク開口部の幅寸法W(または径寸法D)とマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比、またはマスク厚みtMにマスクMの下面とランドLaの上面との間の隙間aを加味して求められた見かけ上アスペクト比のいずれかを用いるようにしている。 That is, in the present embodiment, as the printing difficulty, the area ratio indicating the ratio of the bottom area Ab of the mask opening to the inner area As, or the width dimension W (or diameter dimension D) of the mask opening and the mask thickness tM. Or an apparent aspect ratio obtained by adding the gap a between the lower surface of the mask M and the upper surface of the land La to the mask thickness tM.
図5は、上述の3種類の印刷難易度を用いた印刷難易度指標−転写率テーブル32の具体例を示している。まず図5(a)は、印刷難易度として面積比(内側面積As/底面積Ab)を用いた場合を示している。この例では、面積比の値が1.5において転写率αが1.0となり、面積比の値が2.0において転写率αが0.8となっている。すなわち面積比が増大して印刷難易度が高くなるに伴って転写率αが低下することを示している。 FIG. 5 shows a specific example of the print difficulty index-transfer rate table 32 using the above-described three types of print difficulty. First, FIG. 5A shows a case where the area ratio (inner area As / bottom area Ab) is used as the printing difficulty. In this example, when the area ratio value is 1.5, the transfer rate α is 1.0, and when the area ratio value is 2.0, the transfer rate α is 0.8. That is, the transfer rate α decreases as the area ratio increases and the printing difficulty increases.
次に図5(b)は、印刷難易度としてアスペクト比(マスク厚みtM/幅寸法W(または径寸法D))を用いた場合を示している。この例では、アスペクト比の値が0.5において転写率βが1.0となり、アスペクト比の値が0.7において転写率βが0.8となっている。すなわちアスペクト比が増大して印刷難易度が高くなるに伴って転写率βが低下することを示している。 Next, FIG. 5B shows a case where the aspect ratio (mask thickness tM / width dimension W (or diameter dimension D)) is used as the print difficulty. In this example, when the aspect ratio value is 0.5, the transfer rate β is 1.0, and when the aspect ratio value is 0.7, the transfer rate β is 0.8. That is, it is shown that the transfer rate β decreases as the aspect ratio increases and the printing difficulty increases.
また図5(c)は、印刷難易度として前述の見かけ上アスペクト比(マスク厚み(tM+a)/幅寸法W(または径寸法D))を用いた場合を示している。この例では、見かけ上アスペクト比の値が0.8において転写率γが1.0となり、見かけ上アスペクト比の値が1.0において転写率γが0.8となっている。すなわちこの例においても、見かけ上アスペクト比が増大して印刷難易度が高くなるに伴って転写率γが低下することを示している。 Further, FIG. 5C shows a case where the above-mentioned apparent aspect ratio (mask thickness (tM + a) / width dimension W (or diameter dimension D)) is used as the printing difficulty. In this example, when the apparent aspect ratio value is 0.8, the transfer rate γ is 1.0, and when the apparent aspect ratio value is 1.0, the transfer rate γ is 0.8. That is, this example also shows that the transfer rate γ decreases as the aspect ratio increases and the printing difficulty increases.
必要はんだ量記憶部3eは、図3(c)に示す必要はんだ量情報33を記憶する。必要はんだ量情報33は、開口部番号33a、必要はんだ量33bを含んでいる。開口部番号33aは初期ガーバーデータ30における開口部番号30aと同様であり、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部を対象としている。そしてこれら開口部番号毎に、対象となるはんだ接合部位に応じて予め規定された必要はんだ量VSを記憶する。すなわち、開口部番号Nが001,002のマスク開口部に対応するランドには、それぞれ必要はんだ量VS1、VS2を満たす量のはんだを、スクリーン印刷により転写する必要があることを示している。
The required solder
マスク情報記憶部3fは、図3(d)に示すマスク情報34を記憶する。マスク情報34は、開口部番号34a、マスク厚34bを含んでいる。開口部番号34aは初期ガーバーデータ30における開口部番号30aと同様であり、開口部番号Nが001,002である2つのマスク開口部を対象としている。そしてこれら開口番号毎に当該マスク開口部が形成された位置におけるマスクMの厚みマスク厚みtMを記憶する。なお、マスク厚みtMは一つのマスクMについて同一の場合が多いが、マスクMの上面を部分的に削り込んだハーフエッチ型のマスクMの場合には、マスク開口部の位置によってマスク厚みtMが異なる。
The mask
次にスクリーン印刷によってはんだペーストを基板のランドへ印刷する際に使用するマスク開口寸法を決定するマスク開口寸法決定方法について、図6に示すマスク開口寸法決定のフローに則して説明する。 Next, a mask opening dimension determining method for determining the mask opening dimension used when the solder paste is printed on the land of the substrate by screen printing will be described with reference to the mask opening dimension determination flow shown in FIG.
演算が開始されると(ST1)、まず情報取得が行われる(ST2)。すなわち記憶部3に記憶された初期ガーバーデータ30、基板情報31、印刷難易度指標−転写率テーブル32、必要はんだ量情報33、マスク情報34を取得する。そしてこれら取得した情報に基づいて、以下の演算処理が順次実行される。
When the calculation is started (ST1), information is first acquired (ST2). That is, the
まず、記憶部3に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する(転写率決定ステップ:ST3)。すなわち、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて取得した印刷難易度に基づいて、転写率を決定する。この演算処理は、初期ガーバーデータ30、基板情報31、マスク情報34に基づいて、転写率決定部2bにより実行される。
First, the transfer rate of the solder paste is determined based on at least the dimensions of the mask openings stored in the storage unit 3 (transfer rate determining step: ST3). That is, the transfer rate is determined based on at least the print difficulty acquired based on the size of the mask opening. This calculation process is executed by the transfer
ここでは、前述のマスク開口部の底面積Abと内側面積Asとの比率を示す面積比に基づく転写率α、マスク開口部の幅寸法Wとマスク厚みtMとの比率を示すアスペクト比に基づく転写率β、あるいはマスク厚みtMにマスク下面とランド上面との間の隙間aを加味して求められた見かけ上アスペクト比に基づく転写率γのいずれかを採用して、当該マスク開口部に適用されるべき転写率を決定する。 Here, the transfer rate α based on the area ratio indicating the ratio between the bottom area Ab and the inner area As of the mask opening, and the transfer based on the aspect ratio indicating the ratio between the width dimension W of the mask opening and the mask thickness tM. Either the rate β or the transfer rate γ based on the apparent aspect ratio obtained by adding the gap a between the mask lower surface and the land upper surface to the mask thickness tM is applied to the mask opening. Determine the transcription rate to be used.
次いで、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に、(ST3)において決定した転写率を考慮してランドLaに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出する(はんだ量算出ステップ:ST4)。ここでは、はんだ体積算出部2cにより、初期ガーバーデータ30に規定された開口寸法30dおよびマスク情報34のマスク厚みtMより算出したマスク開口体積に、(ST3)にて決定された転写率より、ランドLaに実際に転写される転写はんだ量を算出する。ここではマスク開口体積と転写率を乗算することによって、実際に転写される転写はんだ量を算出する。
Next, in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening, the transfer solder amount which is the amount of the solder paste printed on the land La is calculated in consideration of the transfer rate determined in (ST3) (solder Quantity calculation step: ST4). Here, the solder volume calculation unit 2c calculates the mask opening volume calculated from the
次に算出された転写はんだ量は必要はんだ量以上か否か、換言すれば算出された転写はんだ量が、ランドLaに被接合物である部品の電極をはんだ接合するのに必要なはんだ量として必要はんだ量記憶部3eに記憶された必要はんだ量を満たすかを、判定部2dによって判定する(判定ステップ:ST5)。そしてこの判定ステップにおいて、必要はんだ量を満たすと判定された場合には、(ST4)において転写はんだ量を算出するのに用いたマスク開口寸法を、設計上のマスク開口寸法として決定する(ST6)。そして決定された設計上のマスク開口寸法は、修正ガーバーデータ30*として記憶部3の修正ガーバーデータ記憶部3bに格納される。
Next, whether or not the calculated transfer solder amount is equal to or more than the required solder amount, in other words, the calculated transfer solder amount is the solder amount necessary for solder-bonding the electrode of the component to be bonded to the land La. The
これに対し、(ST5)の判定ステップにおいて転写はんだ量が接合するのに必要な量を満たさないと判定された場合には、情報修正を実行する(ST7)。この情報修正は修正部2eにより実行され、ランドLaに転写される転写はんだ量が増加するようマスク開口部の寸法を修正する(修正ステップ)。修正されたマスク開口寸法は、記憶部3の修正ガーバーデータ記憶部3bに修正ガーバーデータ30*として格納される(図2(b)に示す開口寸法30d*参照)。
On the other hand, if it is determined in the determination step of (ST5) that the transfer solder amount does not satisfy the amount required for joining, information correction is executed (ST7). This information correction is executed by the correction unit 2e, and the size of the mask opening is corrected so that the amount of transferred solder transferred to the land La is increased (correction step). The corrected mask opening size is stored as the corrected
そして修正されたマスク開口寸法に基づいて、後続の処理ステップを実行する。すなわち(ST4)のはんだ量算出ステップにおいて、修正ステップにおいて修正したマスク開口寸法に基づいて、転写はんだ量を算出する。算出された転写はんだ量は再度(ST5)において判定部2dによる判定の対象となり、以下必要はんだ量を満たすと判定されるまで同様の処理が反復される。
Subsequent processing steps are then performed based on the modified mask opening size. That is, in the solder amount calculation step of (ST4), the transfer solder amount is calculated based on the mask opening size corrected in the correction step. The calculated transfer solder amount is again subjected to determination by the
この後、当該マスク決定処理の対象となるマスクについてのすべての部品の演算処理が終了したか否かが記憶部3によって判断される(ST8)。ここですべての部品について終了していない場合には、当該未処理の部品について(ST2)に戻って情報取得が行われ、以下、同様の演算処理が反復実行される。そして(ST8)にて全部品についての演算処理終了が確認されたならば、マスク開口寸法決定のための演算処理を終了する(ST9)。
After that, the
上記説明したように、本実施の形態に示すマスク設計におけるマスク開口寸法決定においては、記憶部3に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定し、少なくともマスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に転写率を考慮してランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出し、算出された転写はんだ量がランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定し、この判定において必要はんだ量を満たすと判定された場合には、転写はんだ量を算出するのに用いたマスク開口寸法を設計上のマスク開口寸法とするようにしている。これにより、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができる。
As described above, in determining the mask opening size in the mask design shown in the present embodiment, the transfer rate of the solder paste is determined based on at least the size of the mask opening stored in the
本発明のマスク設計装置およびマスク開口寸法決定方法は、印刷難易度の高いスクリーン印刷で用いられるマスクの設計を適切に行うことができるという効果を有し、スクリーン印刷に用いられるマスクを設計する分野において有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The mask designing apparatus and the mask opening dimension determining method of the present invention have the effect of being able to appropriately design a mask used in screen printing, which has a high printing difficulty, and a field of designing a mask used in screen printing. Is useful in.
1 マスク設計装置
M マスク
P1,P2 マスク開口部
W 幅寸法
D 径寸法
B 基板
Ab 底面積
As 内側面積
tM マスク厚み
tR レジスト厚み
tS シルク厚み
a 隙間
1 Mask Design Device M Mask P1, P2 Mask Opening W Width Dimension D Diameter Dimension B Substrate Ab Bottom Area As Inner Area tM Mask Thickness tR Resist Thickness tS Silk Thickness a Gap
Claims (12)
記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定部と、
少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ体積算出部と、
前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定部とを備える、マスク設計装置。 A mask design apparatus for designing a mask used when printing a solder paste on a land of a board by screen printing,
A transfer rate determination unit that determines the transfer rate of the solder paste based on at least the dimensions of the mask openings stored in the storage unit;
A solder volume calculation unit that calculates a transfer solder amount that is the amount of solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate in a mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening,
A mask designing apparatus, comprising: a determination unit that determines whether or not the transferred solder amount satisfies a necessary solder amount required for solder-bonding an object to be bonded to the land.
前記はんだ体積算出部は、前記修正部によって修正した前記マスク開口寸法に基づいて前記転写はんだ量を算出する、請求項1から5のいずれかに記載のマスク設計装置。 The determining unit includes a correction unit that corrects the dimensions of the mask opening so that the transfer solder amount increases when it is determined that the transfer solder amount does not satisfy the amount necessary for joining.
The mask design apparatus according to claim 1, wherein the solder volume calculation unit calculates the transfer solder amount based on the mask opening size corrected by the correction unit.
記憶部に格納された少なくともマスク開口部の寸法に基づいてはんだペーストの転写率を決定する転写率決定ステップと、
少なくとも前記マスク開口部の寸法に基づいて算出したマスク開口体積に前記転写率を考慮して前記ランドに印刷されるはんだペーストの量である転写はんだ量を算出するはんだ量算出ステップと、
前記転写はんだ量が前記ランドに被接合物をはんだ接合するのに必要な必要はんだ量を満たすかを判定する判定ステップとを含む、マスク開口寸法決定方法。 A mask opening size determining method for determining a mask opening size used when a solder paste is printed on a land of a board by screen printing,
A transfer rate determining step of determining a transfer rate of the solder paste based on at least the dimensions of the mask opening stored in the storage section;
A solder amount calculation step of calculating a transfer solder amount which is the amount of solder paste printed on the land in consideration of the transfer rate in the mask opening volume calculated based on at least the dimensions of the mask opening,
And a step of determining whether the transfer solder amount satisfies a necessary solder amount necessary for solder-bonding an object to be bonded to the land.
前記はんだ量算出ステップにおいて、前記修正ステップにおいて修正した前記マスク開口寸法に基づいて前記転写はんだ量を算出する、請求項7から11のいずれかに記載のマスク開口寸法決定方法。 In the determination step, further comprising a correction step of correcting the dimensions of the mask opening so as to increase the transfer solder amount when it is determined that the transfer solder amount does not satisfy the amount required for joining,
The mask opening size determining method according to claim 7, wherein in the solder amount calculating step, the transfer solder amount is calculated based on the mask opening size corrected in the correcting step.
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JP2001212929A (en) * | 2000-02-02 | 2001-08-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for deciding whether opening size of screen mask for coating paste is acceptable or not and method for designing opening of screen mask for coating paste |
JP2009283791A (en) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Sharp Corp | Solder paste printing method and mask for solder paste printing |
JP2015153997A (en) * | 2014-02-18 | 2015-08-24 | 富士通株式会社 | Electronic component, method of manufacturing electronic component and method of manufacturing electronic component |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001212929A (en) * | 2000-02-02 | 2001-08-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method for deciding whether opening size of screen mask for coating paste is acceptable or not and method for designing opening of screen mask for coating paste |
JP2009283791A (en) * | 2008-05-23 | 2009-12-03 | Sharp Corp | Solder paste printing method and mask for solder paste printing |
JP2015153997A (en) * | 2014-02-18 | 2015-08-24 | 富士通株式会社 | Electronic component, method of manufacturing electronic component and method of manufacturing electronic component |
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