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Abstract
Description
本発明は、表示装置に関する。 The present invention relates to a display device.
近年、液晶表示装置(Liquid Crystal Display;LCD)や有機EL表示装置(有機Electro Luminescence表示装置)等の画像表示装置の用途が拡大しており、テレビ、モニター、スマートフォン、カーナビゲーション、デジタルカメラなどに利用されている。 2. Description of the Related Art In recent years, image display devices such as liquid crystal display devices (Liquid Crystal Display; LCD) and organic EL display devices (organic Electro Luminescence display devices) have been used in a wide range of applications. It's being used.
液晶表示装置は、一般に、カラーフィルタ、対向基板、これらに挟持された液晶層を有する液晶セル部を有するものである(例えば、特許文献1)。また、液晶表示装置は非発光型であるため、バックライト等の光源が必要であり、該光源から出射した光を用いて表示を行う。 2. Description of the Related Art A liquid crystal display device generally has a liquid crystal cell portion having a color filter, a counter substrate, and a liquid crystal layer sandwiched therebetween (for example, Patent Document 1). Further, since the liquid crystal display device is a non-light emitting type, a light source such as a backlight is required, and display is performed using light emitted from the light source.
また、有機EL表示装置としては、有機EL表示素子を有する有機EL表示素子基板とカラーフィルタとを組み合わせたもの、RGB塗り分け方式等が知られている(例えば、特許文献2)。有機EL表示素子は、陽極/有機EL層/陰極の積層構造を基本とし、該有機EL表示素子に電流が流れると発光する。これにより、表示画面に画像が表示される。 Further, as an organic EL display device, a combination of an organic EL display element substrate having an organic EL display element and a color filter, an RGB separation method, and the like are known (for example, Patent Document 2). The organic EL display element has a basic structure of anode / organic EL layer / cathode, and emits light when a current flows through the organic EL display element. Thereby, an image is displayed on the display screen.
上述の有機EL表示装置では、表示画面内の明るさ及び色味が局所的に、或いは、中心と周辺とで不均一になることや、反射光が目立つこと等により視認性が低下するという問題が報告され始めている。また、表示装置を車載等で用いた場合にも同様の報告がされている。 In the above-described organic EL display device, there is a problem that the brightness and color in the display screen are locally or non-uniformly between the center and the periphery, and the visibility is reduced due to conspicuous reflected light. Have begun to be reported. Similar reports have been made when a display device is used in a vehicle or the like.
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、視認性に優れた表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a display device with excellent visibility.
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、表示画面内の局所的な箇所において、明るさ、色味、反射指向性等の諸性能が不均一となることや、表示画面の中心付近と端付近とで該諸性能が不均一となることで視認性が低下する原因が、表示装置内部の温度が局所的に不均一になること、或いは表示装置内部の温度が全体的に高温となることなどにより、表示装置内部の光学フィルムが熱で変形することに起因することを見出し、これを解決するに至った。
なお、表示装置内部が高温になる原因としては、表示画面に画像を表示する際に光源から発生する熱、有機EL表示素子の発光に伴う発熱、表示装置が夏の車内等の高温環境下に置かれることなどが考えられる。
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-described problems, and found that various properties such as brightness, color, reflection directivity, and the like become non-uniform at a local portion in a display screen, The cause of the deterioration in visibility due to the non-uniformity of the performances near the center and near the edge of the screen is that the temperature inside the display device becomes locally non-uniform, or the temperature inside the display device is It has been found that the optical film inside the display device is deformed by heat due to a high temperature or the like, and this has been solved.
The causes of the high temperature inside the display device include heat generated from a light source when displaying an image on the display screen, heat generation due to light emission of the organic EL display element, and a case where the display device is exposed to a high temperature environment such as a car in summer. It is conceivable to be placed.
本発明は、以下の[1]〜[2]を提供する。
[1]表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、を有する表示装置。
[2]表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、を有する表示装置。
The present invention provides the following [1] and [2].
[1] A display device comprising: a display element; an optical film including a heat conductive layer, which is disposed on the light emitting surface side of the display element; and a heat radiating member that is thermally grounded from a peripheral portion of the heat conductive layer.
[2] A display device comprising: a display element; and an optical film including a radiant heat reflection layer, which is disposed on the light emitting surface side of the display element.
本発明によれば、視認性に優れた表示装置を提供することができる。 According to the present invention, a display device having excellent visibility can be provided.
<実施形態A>
本発明の実施形態Aの表示装置は、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、を有することを特徴とする。
以下、実施形態Aの熱伝導層を含む光学フィルムのことを「光学フィルムA」と称する場合がある。
実施形態Aでは、主として、自由電子による導通作用により、表示装置内部の温度が局所的に不均一になること、或いは表示装置内部の温度が全体的に高温となることを抑制するものである。
<Embodiment A>
The display device according to the embodiment A of the present invention includes a display element, an optical film including a heat conductive layer disposed on the light emitting surface side of the display element, and a heat radiation thermally grounded from a peripheral portion of the heat conductive layer. And a member.
Hereinafter, the optical film including the heat conductive layer of the embodiment A may be referred to as “optical film A”.
In the embodiment A, the non-uniformity of the temperature inside the display device locally or the overall temperature inside the display device is suppressed mainly by the conduction action of the free electrons.
図1は、実施形態Aの表示装置の一例を示す概略断面図である。図1の表示装置1は、表示素子10の出光面側に、透明基材11及び熱伝導層12がこの順に積層された光学フィルム13が設けられている。熱伝導層12は、その周縁部14から導線15を介して放熱部材16に熱アース(接地)されている。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of the display device of the embodiment A. The display device 1 of FIG. 1 includes an optical film 13 in which a transparent base material 11 and a heat conductive layer 12 are laminated in this order on the light emitting surface side of a display element 10. The heat conductive layer 12 is thermally grounded to a heat radiating member 16 via a conductor 15 from a peripheral portion 14 thereof.
[熱アース]
熱アース(接地)は、図1のように、熱伝導層12の画像表示領域の範囲外となる周縁部14から放熱部材16に接続する手法が挙げられる。この際、熱伝導層12の周縁部14と、放熱部材16とは、直接接続されていてもよいし、導線15を介して接続されていてもよい。また、導線15は、銀ペースト、カーボンテープ、金属テープ等の自由電子による導電性を有する導電性接着材料により熱伝導層12の周縁部14に固着されていることが好ましい。
熱アースは、熱伝導層12の周縁部14の1箇所であってもよいし、複数箇所であってもよい。
[Heat earth]
As the thermal grounding (grounding), as shown in FIG. 1, a method of connecting the thermal conduction layer 12 to the heat radiating member 16 from the peripheral portion 14 outside the image display region can be mentioned. At this time, the peripheral portion 14 of the heat conductive layer 12 and the heat radiating member 16 may be directly connected, or may be connected via the conducting wire 15. Further, it is preferable that the conductive wire 15 is fixed to the peripheral portion 14 of the heat conductive layer 12 by a conductive adhesive material having conductivity by free electrons such as a silver paste, a carbon tape, and a metal tape.
The thermal ground may be at one location on the peripheral edge portion 14 of the heat conductive layer 12 or at multiple locations.
(放熱部材)
放熱部材は、表示装置内部に発生した熱を熱伝導層から表示装置外部に放熱させるための部材である。
放熱部材としては、自由電子による導通作用を有する物質であれば特に制限されるものではなく、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、ニッケル、クロムなどの金属、これらの金属の合金(例えば、ニクロム)等からなる部材や、これらの金属及び金属合金を含有する複合部材等が挙げられる。
(Heat dissipation member)
The heat dissipating member is a member for dissipating heat generated inside the display device from the heat conductive layer to the outside of the display device.
The heat dissipating member is not particularly limited as long as it is a substance having a conduction action by free electrons. For example, metals such as gold, silver, copper, aluminum, iron, nickel, and chromium, and alloys of these metals (for example, , Nichrome) and the like, and composite members containing these metals and metal alloys.
放熱部材は、熱アースをより効果的に行う観点から、体積抵抗率が1.0×106Ωm以下であることが好ましく、1.0×103Ωm以下であることがより好ましく、1.0Ωm以下であることがさらに好ましく、1.0×10−3Ωm以下であることが特に好ましい。
また、実施形態Aでは、放熱部材が表示装置のケーシング(外枠)を兼用していることが好ましい。
The heat dissipation member preferably has a volume resistivity of 1.0 × 10 6 Ωm or less, more preferably 1.0 × 10 3 Ωm or less, from the viewpoint of more effectively performing thermal grounding. It is more preferably 0 Ωm or less, particularly preferably 1.0 × 10 −3 Ωm or less.
In the embodiment A, it is preferable that the heat radiation member also serves as the casing (outer frame) of the display device.
(光学フィルムA)
光学フィルムAは、少なくとも熱伝導層を含むものである。光学フィルムAは、透明基材上に熱伝導層を有することが好ましい。光学フィルムAは、さらに後述する機能層を有していてもよい。
(Optical film A)
The optical film A includes at least a heat conductive layer. The optical film A preferably has a heat conductive layer on a transparent substrate. The optical film A may further have a functional layer described below.
(熱伝導層)
実施形態Aで用いられる熱伝導層は、表示装置内部に発生した熱を表示装置外部に放熱させる機能と、表示装置内部で生じた高温領域及び低温領域において、高温領域から低温領域に熱を伝え、均一な温度にする機能とを有すると共に、表示パネルの表示画像を観賞し得る程度の可視光線透過性を有する層である。
熱伝導層としては、例えば、金属材料を含み、隣接する金属材料同士が接触点を有する層が挙げられ、中でも、透明樹脂中に、隣接する金属ナノワイヤ同士が接触点を有するように分散された金属ナノワイヤ層や金属材料でメッシュ状に形成された層が好ましい。透明樹脂としては、例えば、後述するカバー樹脂を用いることができる。
(Heat conduction layer)
The heat conductive layer used in the embodiment A has a function of dissipating heat generated inside the display device to the outside of the display device, and transmits heat from a high temperature region to a low temperature region in a high temperature region and a low temperature region generated inside the display device. This is a layer having a function of making the temperature uniform, and having visible light transmittance enough to allow a display image on a display panel to be viewed.
Examples of the heat conductive layer include, for example, a layer containing a metal material and having adjacent metal materials having contact points, among which, in a transparent resin, adjacent metal nanowires are dispersed so as to have contact points. A metal nanowire layer or a layer formed of a metal material in a mesh shape is preferable. As the transparent resin, for example, a cover resin described later can be used.
熱伝導層が前述のように形成されると、熱伝導層中の自由電子の移動に伴って、表示装置内部に発生した熱が効率よく表示装置外部に放熱され、また、表示装置内部で生じた高温領域及び低温領域において、高温領域から低温領域に熱が効率よく伝えられ、均一な温度となり、熱ムラの発生を防止する。そして、熱ムラの発生が防止されることにより、光学フィルムの変形が抑制される。なお、透明導電層として一般的に用いられているITO等の金属酸化物膜は、自由電子の移動が少ないため、熱伝導の機能を高くすることができない。
熱伝導性能を向上するためには、自由電子密度が大きいこと(導電性が高いこと)が好ましい。このため、熱伝導層の表面抵抗率は250Ω/□以下とすることが好ましく、150Ω/□以下とすることがより好ましく、100Ω/□以下とすることがさらに好ましい。
表面抵抗率は、例えば三菱化学(株)製の抵抗率計ロレスタ等を用いて、JIS K7194:1994(導電性プラスチックの4深針法による抵抗率試験方法)に従って測定することができる。
When the heat conductive layer is formed as described above, heat generated inside the display device is efficiently radiated to the outside of the display device due to the movement of free electrons in the heat conductive layer, and generated inside the display device. In the high-temperature region and the low-temperature region, heat is efficiently transmitted from the high-temperature region to the low-temperature region, the temperature becomes uniform, and the occurrence of heat unevenness is prevented. Then, by preventing the occurrence of heat unevenness, deformation of the optical film is suppressed. Note that a metal oxide film of ITO or the like generally used as a transparent conductive layer does not have a high heat transfer function because free electrons move little.
In order to improve the heat conduction performance, it is preferable that the free electron density is high (the conductivity is high). Therefore, the surface resistivity of the heat conductive layer is preferably set to 250Ω / □ or less, more preferably 150Ω / □ or less, and further preferably 100Ω / □ or less.
The surface resistivity can be measured, for example, using a resistivity meter Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation in accordance with JIS K7194: 1994 (a resistance test method for conductive plastics by the 4-deep needle method).
金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、アルミニウム等の金属やこれらの合金等が挙げられる。熱伝導性の観点から、銀、銅、アルミニウムが好ましく、銀がより好ましい。また、金属材料の形状は特に限定されないが、透明性と熱伝導性の観点から、金属ナノワイヤであることが好ましい。特に、銀ナノワイヤは、近赤外線の反射能が高く熱の発生を抑制しやすい点で優れるとともに、耐屈曲性に優れることから折り畳み式のディスプレイに適用しやすい点で好ましい。 Examples of the metal material include metals such as gold, silver, copper, iron, nickel, and aluminum, and alloys thereof. From the viewpoint of thermal conductivity, silver, copper, and aluminum are preferred, and silver is more preferred. The shape of the metal material is not particularly limited, but is preferably a metal nanowire from the viewpoint of transparency and heat conductivity. In particular, silver nanowires are preferable in that they have high reflectivity for near-infrared rays and are easy to suppress the generation of heat, and are excellent in bending resistance and are easily applied to a foldable display.
金属ナノワイヤの平均直径としては、200nm以下であることが好ましい。金属ナノワイヤの平均直径を200nm以下とすることにより、ヘイズが高くなることを抑制できる。金属ナノワイヤの平均直径のより好ましい下限は熱伝導性の観点から10nm以上であり、金属ナノワイヤの平均直径のより好ましい範囲は15nm以上180nm以下である。
金属ナノワイヤの長さは1μm以上であることが好ましい。金属ナノワイヤの長さを1μm以上とすることにより、1本の金属ナノワイヤで長い熱伝導パスを形成することができる。金属ナノワイヤの長さの好ましい上限は光透過性の観点から500μm以下である。
金属ナノワイヤの長さは3μm以上300μm以下であることがより好ましく、10μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。
The average diameter of the metal nanowire is preferably 200 nm or less. By setting the average diameter of the metal nanowires to 200 nm or less, it is possible to suppress an increase in haze. The more preferable lower limit of the average diameter of the metal nanowire is 10 nm or more from the viewpoint of thermal conductivity, and the more preferable range of the average diameter of the metal nanowire is 15 nm or more and 180 nm or less.
The length of the metal nanowire is preferably 1 μm or more. By setting the length of the metal nanowire to 1 μm or more, a long heat conduction path can be formed by one metal nanowire. The preferable upper limit of the length of the metal nanowire is 500 μm or less from the viewpoint of light transmittance.
The length of the metal nanowire is more preferably 3 μm or more and 300 μm or less, and further preferably 10 μm or more and 30 μm or less.
金属ナノワイヤの直径は、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、1000〜50万倍にて50本の金属ナノワイヤの直径を測定し、その50本の金属ナノワイヤの直径の平均値として求めるものとする。金属ナノワイヤの長さは、例えば、走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、1000〜50万倍にて50本の金属ナノワイヤの長さを測定し、その50本の金属ナノワイヤの長さの平均値として求めるものとする。 The diameter of the metal nanowire is obtained, for example, by measuring the diameter of 50 metal nanowires at a magnification of 1000 to 500,000 using a transmission electron microscope (TEM) and obtaining the average value of the diameters of the 50 metal nanowires. And For example, the length of the metal nanowire is measured using a scanning electron microscope (SEM) at a magnification of 1,000 to 500,000 times, and the average value of the lengths of the 50 metal nanowires is measured. Shall be obtained.
金属ナノワイヤの製造方法としては、公知の方法であればよく、特に限定されるものではない。 The method for producing the metal nanowire may be any known method, and is not particularly limited.
金属ナノワイヤ層は、金属ナノワイヤに加えて、カバー樹脂等の他の成分を含有していてもよい。
カバー樹脂は、金属ナノワイヤ層の表面から電気的な導通が得られる程度に金属ナノワイヤを覆うことによって、金属ナノワイヤ層からの金属ナノワイヤの脱離を防ぎ、かつ金属ナノワイヤ層の耐久性や耐擦傷性を向上させるために、必要に応じて金属ナノワイヤ層に含有させるものである。
The metal nanowire layer may contain other components such as a cover resin in addition to the metal nanowire.
The cover resin covers the metal nanowires to such an extent that electrical continuity is obtained from the surface of the metal nanowire layer, thereby preventing the metal nanowires from being detached from the metal nanowire layers, and having the durability and abrasion resistance of the metal nanowire layers. Is contained in the metal nanowire layer as needed in order to improve the density.
カバー樹脂の膜厚は、10nm以上300nm未満であることが好ましく、50nm以上200nm以下であることがより好ましい。
カバー樹脂の膜厚は、走査型電子顕微鏡(SEM)、走査透過型電子顕微鏡(STEM)、または透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて1000〜50万倍にて撮影された導電層の断面写真からランダムに10箇所厚みを測定し、測定された10箇所の厚みの平均値とする。
The thickness of the cover resin is preferably from 10 nm to less than 300 nm, and more preferably from 50 nm to 200 nm.
The thickness of the cover resin is determined by using a scanning electron microscope (SEM), a scanning transmission electron microscope (STEM), or a transmission electron microscope (TEM) at a magnification of 1,000 to 500,000 times. , The thickness is randomly measured at 10 points, and the average value of the measured thicknesses at 10 points is obtained.
カバー樹脂は、光透過性を有する樹脂であれば特に限定されず使用することができ、重合性化合物の重合体(硬化物、架橋物)を含むものが挙げられる。カバー樹脂は、重合性化合物の重合体の他、溶剤乾燥型樹脂を含んでいてもよい。重合性化合物としては、電離放射線重合性化合物および/または熱重合性化合物が挙げられる。 The cover resin is not particularly limited as long as it is a resin having a light transmitting property, and includes a resin containing a polymer of a polymerizable compound (cured product, cross-linked product). The cover resin may include a solvent-dried resin in addition to the polymer of the polymerizable compound. Examples of the polymerizable compound include an ionizing radiation polymerizable compound and / or a thermopolymerizable compound.
電離放射線重合性化合物は、1分子中に電離放射線重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。本明細書における「電離放射線重合性官能基」とは、電離放射線照射により重合反応し得る官能基である。電離放射線重合性官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和基が挙げられる。なお、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、電離放射線重合性化合物を重合する際に照射される電離放射線としては、可視光線、紫外線、X線、電子線、α線、β線、およびγ線が挙げられる。 The ionizing radiation polymerizable compound has at least one ionizing radiation polymerizable functional group in one molecule. The "ionizing radiation polymerizable functional group" in the present specification is a functional group capable of undergoing a polymerization reaction upon irradiation with ionizing radiation. Examples of the ionizing radiation polymerizable functional group include an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group. In addition, "(meth) acryloyl group" is meant to include both "acryloyl group" and "methacryloyl group". In addition, examples of the ionizing radiation irradiated when polymerizing the ionizing radiation polymerizable compound include visible light, ultraviolet light, X-ray, electron beam, α-ray, β-ray, and γ-ray.
電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマー、電離放射線重合性オリゴマー、または電離放射線重合性プレポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。電離放射線重合性化合物としては、電離放射線重合性モノマーと、電離放射線重合性オリゴマーまたは電離放射線重合性プレポリマーとの組み合わせが好ましい。 Examples of the ionizing radiation-polymerizable compound include an ionizing radiation-polymerizable monomer, an ionizing radiation-polymerizable oligomer, and an ionizing radiation-polymerizable prepolymer. These can be appropriately adjusted and used. As the ionizing radiation polymerizable compound, a combination of an ionizing radiation polymerizable monomer and an ionizing radiation polymerizable oligomer or an ionizing radiation polymerizable prepolymer is preferable.
電離放射線重合性モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等の水酸基を含むモノマーや、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類が挙げられる。 Examples of the ionizing radiation polymerizable monomer include monomers having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate, and ethylene glycol di (meth) acrylate. , Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tetramethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) ) Acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaery Ritorutetora (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerol (meth) (meth) acrylic acid esters such as acrylate.
電離放射線重合性オリゴマーとしては、2官能以上の多官能オリゴマーが好ましく、電離放射線重合性官能基が3つ(3官能)以上の多官能オリゴマーが好ましい。上記多官能オリゴマーとしては、例えば、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As the ionizing radiation polymerizable oligomer, a polyfunctional oligomer having two or more functional groups is preferable, and a polyfunctional oligomer having three (trifunctional) or more ionizing radiation polymerizable functional groups is preferable. Examples of the polyfunctional oligomer include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, and isocyanurate. (Meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and the like.
電離放射線重合性プレポリマーは、重量平均分子量が1万を超えるものであり、重量平均分子量としては1万以上8万以下が好ましく、1万以上4万以下がより好ましい。重量平均分子量が8万を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られるカバー樹脂の外観が悪化するおそれがある。多官能プレポリマーとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The ionizing radiation polymerizable prepolymer has a weight average molecular weight exceeding 10,000, and the weight average molecular weight is preferably from 10,000 to 80,000, more preferably from 10,000 to 40,000. When the weight average molecular weight is more than 80,000, the viscosity is high, so that the coating aptitude deteriorates, and the appearance of the obtained cover resin may be deteriorated. Examples of the polyfunctional prepolymer include urethane (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate.
熱重合性化合物は、1分子中に熱重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。本明細書における「熱重合性官能基」とは、加熱により同じ官能基同士または他の官能基との間で重合反応し得る官能基である。熱重合性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、イソシアネート基、アミノ基、環状エーテル基、メルカプト基等が挙げられる。 The thermopolymerizable compound has at least one thermopolymerizable functional group in one molecule. The “thermopolymerizable functional group” in the present specification is a functional group capable of undergoing a polymerization reaction between the same functional group or another functional group by heating. Examples of the thermopolymerizable functional group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an isocyanate group, an amino group, a cyclic ether group, and a mercapto group.
熱重合性化合物としては、特に限定されず、例えば、エポキシ化合物、ポリオール化合物、イソシアネート化合物、メラミン化合物、ウレア化合物、フェノール化合物等が挙げられる。 The thermopolymerizable compound is not particularly limited, and examples thereof include an epoxy compound, a polyol compound, an isocyanate compound, a melamine compound, a urea compound, and a phenol compound.
溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、カバー樹脂を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。 The solvent-drying type resin is a resin such as a thermoplastic resin which becomes a film only by drying a solvent added for adjusting the solid content at the time of coating. When the solvent-drying type resin is added, it is possible to effectively prevent a coating defect on a coating surface of the coating liquid when forming the cover resin. The solvent drying type resin is not particularly limited, and generally, a thermoplastic resin can be used.
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。
熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。
Examples of the thermoplastic resin include a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, a halogen-containing resin, an alicyclic olefin resin, a polycarbonate resin, a polyester resin, and a polyamide resin. , Cellulose derivatives, silicone resins and rubbers or elastomers.
The thermoplastic resin is preferably non-crystalline and soluble in an organic solvent (especially a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, from the viewpoints of transparency and weather resistance, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (such as cellulose esters), and the like are preferable.
金属ナノワイヤ層は、反応抑制剤を含むことが好ましい。
反応抑制剤は、カバー樹脂用組成物の塗布後に、金属ナノワイヤと、雰囲気下の物質等(雰囲気の硫黄、酸素、ハロゲン。あるいは、導電層と粘着剤層とが接する場合には粘着剤層を構成する材料)との反応による導電性低下を抑制するためのものである。
反応抑制剤としては、例えば、ベンゾアゾール系化合物、トリアゾール系化合物、テトラゾール系化合物、イソシアヌル酸系化合物、アニリン系化合物等の窒素含有化合物等が挙げられる。反応抑制剤として用いられる窒素含有化合物としては、例えば、1−アミノベンゾアゾール、5−メチルベンゾトリアゾール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−メチル−1H−テトラゾール−5−アミン、DL−α−トコフェロール、1−オクタデカンチオール、2−メルカプト−5−(トリフルオロメチル)ピリジン、イソシアヌル酸ジアリル、イソシアヌル酸ジアリルプロピル、6−アニリノ−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール、チオシアヌル酸、3,5−ジメチル−1H−1,2,4−トリアゾール、4−(1,2,4−トリアゾール−1−イルメチル)アニリン、6−(ジブチルアミノ)−1,3,5−トリアジン−2,4−ジチオール、4−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)アニリン、2−メチルチオ-ベンゾチアゾール、1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール、5−メルカプト−1−メチルテトラゾール、5−(メチルチオ)−1H−テトラゾール、5−アミノ−1H−テトラゾール、1−(2−ジメチルアミノエチル)−5−メルカプトテトラゾール、1−(2−ジメチルアミノエチル)−5−メルカプトテトラゾール、1−(4−ヒドロキシフェニル)−5−メルカプト−1H−テトラゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾールが挙げられる。
The metal nanowire layer preferably contains a reaction inhibitor.
After the application of the composition for a cover resin, the reaction inhibitor is formed by applying the metal nanowires to a substance or the like in the atmosphere (sulfur, oxygen, halogen in the atmosphere, or the adhesive layer when the conductive layer and the adhesive layer are in contact with each other). (Constituting material) to suppress the decrease in conductivity.
Examples of the reaction inhibitor include nitrogen-containing compounds such as benzoazole compounds, triazole compounds, tetrazole compounds, isocyanuric acid compounds, and aniline compounds. Examples of the nitrogen-containing compound used as the reaction inhibitor include 1-aminobenzoazole, 5-methylbenzotriazole, 1,2,3-benzotriazole, 1-methyl-1H-tetrazol-5-amine, DL-α -Tocopherol, 1-octadecanethiol, 2-mercapto-5- (trifluoromethyl) pyridine, diallyl isocyanurate, diallyl isocyanurate, 6-anilino-1,3,5-triazine-2,4-dithiol, thiocyanuric acid , 3,5-dimethyl-1H-1,2,4-triazole, 4- (1,2,4-triazol-1-ylmethyl) aniline, 6- (dibutylamino) -1,3,5-triazine-2 , 4-Dithiol, 4- (1,2,4-triazol-1-yl) aniline, 2-methylthio-benzothiazole, 1 Phenyl-5-mercapto-1H-tetrazole, 5-mercapto-1-methyltetrazole, 5- (methylthio) -1H-tetrazole, 5-amino-1H-tetrazole, 1- (2-dimethylaminoethyl) -5-mercapto Tetrazole, 1- (2-dimethylaminoethyl) -5-mercaptotetrazole, 1- (4-hydroxyphenyl) -5-mercapto-1H-tetrazole, 3-amino-5-mercapto-1,2,4-triazole, 3,5-diamino-1,2,4-triazole.
金属ナノワイヤ層中の反応抑制剤の含有量は、0.01質量%以上10質量%以下であることが好ましい。反応抑制剤の含有量を0.01質量%以上とすることにより、金属ナノワイヤが雰囲気下の物質と反応することを抑制できる。また、反応抑制剤の含有量を10質量%以下とすることにより、金属ナノワイヤと反応抑制剤との反応が金属ナノワイヤの表面のみならず内部まで進行し、熱伝導性が低下することを抑制できる。 The content of the reaction inhibitor in the metal nanowire layer is preferably from 0.01% by mass to 10% by mass. By setting the content of the reaction inhibitor to 0.01% by mass or more, it is possible to suppress the metal nanowires from reacting with a substance in the atmosphere. Further, by setting the content of the reaction inhibitor to 10% by mass or less, the reaction between the metal nanowire and the reaction inhibitor proceeds not only on the surface of the metal nanowire but also inside the metal nanowire, and it is possible to suppress a decrease in thermal conductivity. .
金属ナノワイヤ層の膜厚は、10nm以上300nm未満であることが好ましく、50nm以上200nm以下であることがより好ましい。 The thickness of the metal nanowire layer is preferably from 10 nm to less than 300 nm, and more preferably from 50 nm to 200 nm.
熱伝導層をメッシュ状に形成する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属箔、蒸着、スパッタなどによる金属蒸着膜、電解めっき、無電解めっきなどによる金属めっき膜、或いは金属蒸着膜上への金属めっき膜積層など、これらの組み合わせなどの金属層をエッチングによりパターンニングする方法、或いは金属を含有するインク乃至ペーストをメッシュ状に印刷する方法等が挙げられる。また、より透明性を高めるために、金属ナノワイヤ層をエッチングによりパターニングしてもよい。 The method for forming the heat conductive layer in a mesh shape is not particularly limited. For example, a metal foil, a metal deposition film by vapor deposition, sputtering, etc., a metal plating film by electrolytic plating, electroless plating, or a metal vapor deposition A method of patterning a metal layer by etching such as a combination of a metal plating film on a film and the like, a method of printing an ink or a paste containing a metal in a mesh shape, and the like are given. Further, in order to further enhance the transparency, the metal nanowire layer may be patterned by etching.
熱伝導層のメッシュ状としての形状は、任意で特に限定されないが、そのメッシュの開口部の形状として、正方形が代表的である。開口部の平面視形状は、例えば、正三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、台形等の四角形、六角形等の多角形などの周期性を有する規則的パターン形状やランダムな形状の開口部を含む不規則的パターン形状等である。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は通常幅均一のライン状のライン部となる。具体的サイズを例示すれば、熱伝導性及びメッシュの非視認性の点で、開口部間のライン部の幅は1〜100μmが好ましく、3〜50μmがより好ましい。また、開口部サイズは〔ラインピッチ〕−〔ライン幅〕であるが、この〔ラインピッチ〕でいうと100μm〜500μm、且つ開口率(開口部の面積の合計/メッシュ部の全面積)を50〜97%とするのが、光透過性と熱伝導性との両立性の点で好ましい。また、ラインピッチは100μm〜500μmの間でランダムでもかまわない。
なお、バイアス角度(メッシュのライン部と熱伝導層の外周辺との成す角度)は、ディスプレイの画素ピッチや発光特性を考慮して、モアレがでにくい角度に適宜設定すればよい。
The shape of the heat conductive layer as a mesh is not particularly limited, and a square is typical as the shape of the opening of the mesh. The shape of the opening in a plan view is, for example, a regular pattern having a periodic pattern such as a triangle such as an equilateral triangle, a square such as a rectangle, a rhombus, a trapezoid, or a polygon such as a hexagon, or an opening having a random shape. And the like. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and between the openings, a line-shaped line having a generally uniform width is formed. If a specific size is illustrated, the width of the line portion between the openings is preferably 1 to 100 μm, more preferably 3 to 50 μm, from the viewpoint of thermal conductivity and invisibility of the mesh. The size of the opening is [line pitch]-[line width], where the [line pitch] is 100 μm to 500 μm, and the opening ratio (total area of opening / total area of mesh part) is 50. The content is preferably set to 97% from the viewpoint of compatibility between light transmittance and thermal conductivity. The line pitch may be random between 100 μm and 500 μm.
Note that the bias angle (the angle formed between the line portion of the mesh and the outer periphery of the heat conductive layer) may be appropriately set to an angle at which moire is less likely to occur in consideration of the pixel pitch and light emission characteristics of the display.
熱伝導層12は、図2の平面図で概念的に例示するように、その平面方向において、中央部の透明熱伝導領域121以外の周縁部に接地用領域122を備えた層とするのが、熱アースをとり易い点で好ましい。該接地用領域は画像表示を阻害しないために、画像表示領域周縁部の一部又は全周に形成する。
ここで、透明熱伝導領域とは熱伝導層を適用するディスプレイの画像表示領域を全て覆うことができる領域である。また、接地用領域とは接地をとるための領域である。
なお、接地用領域は基本的には熱伝導性が高いほど好ましく、透明性は必要ないが、接地用領域の反り防止等の目的から、透明熱伝導領域と同一の材料から形成することが好ましい。
As conceptually illustrated in the plan view of FIG. 2, the heat conductive layer 12 is preferably a layer having a grounding region 122 at a peripheral portion other than the central transparent heat conductive region 121 in the plane direction. It is preferable because it is easy to take a thermal ground. The grounding area is formed on a part or the entire periphery of the image display area so as not to hinder image display.
Here, the transparent heat conductive region is a region that can cover the entire image display region of the display to which the heat conductive layer is applied. The grounding area is an area for grounding.
It should be noted that the grounding region is basically preferably as high as the thermal conductivity is higher, and transparency is not required. However, for the purpose of preventing warping of the grounding region, it is preferable to form the grounding region from the same material as the transparent heat conductive region. .
なお、熱伝導層の厚さは、熱伝導層及び放熱部材の自由電子が共有されていれば特に限定されるものではない。 The thickness of the heat conductive layer is not particularly limited as long as the free electrons of the heat conductive layer and the heat radiating member are shared.
(透明基材)
透明基材は、上記熱伝導層を支持するものである。
透明基材は、光透過性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度に優れたものであることが好ましい。このような透明基材としては、ポリエステル、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン(Cyclo−Olefin−Polymer:COP)等のプラスチックフィルムが挙げられる。透明基材は、2枚以上のプラスチックフィルムを貼り合わせたものであってもよい。
これらプラスチックフィルムの中でも、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)が、機械的強度や寸法安定性に優れる点で好ましい。また、表示装置が折り畳み式の場合は、プラスチックフィルムとしては、屈曲性に優れるポリイミドが好ましい。
(Transparent substrate)
The transparent base material supports the heat conductive layer.
The transparent substrate preferably has light transmittance, smoothness, heat resistance, and is excellent in mechanical strength. Examples of such a transparent substrate include polyester, triacetyl cellulose (TAC), cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate, polyamide, polyimide, polyethersulfone, polysulfone, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, and polyvinyl acetal. , Polyether ketone, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyurethane, and a plastic film such as amorphous olefin (Cyclo-Olefin-Polymer: COP). The transparent substrate may be a laminate of two or more plastic films.
Among these plastic films, stretched, especially biaxially stretched polyester (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate) is preferred in terms of excellent mechanical strength and dimensional stability. In the case where the display device is a foldable type, the plastic film is preferably polyimide having excellent flexibility.
また、プラスチックフィルムの中でも、リタデーション値3000〜30000nmのプラスチックフィルム又は1/4波長位相差のプラスチックフィルムは、偏光サングラスを通して画像を観察した場合に、表示画面に色の異なるムラが観察されることを防止できる点で好適である。 Further, among plastic films, a plastic film having a retardation value of 3000 to 30000 nm or a plastic film having a quarter-wave retardation has a different color on the display screen when an image is observed through polarized sunglasses. This is preferable because it can be prevented.
透明基材の厚さは、5〜300μmであることが好ましく、30〜200μmであることがより好ましい。
なお、透明基材の厚みは、例えば、走査型透過電子顕微鏡(STEM)を用いて撮影した断面の画像から10箇所の厚みを測定し、10箇所の値の平均値から算出できる。STEMの加速電圧は10kv〜30kV、倍率は100〜700倍とすることが好ましい。
また、透明基材は、その表面に、コロナ放電処理、プライマー処理、下地処理などの公知の易接着処理を行ったものでもよい。
The thickness of the transparent substrate is preferably from 5 to 300 μm, more preferably from 30 to 200 μm.
The thickness of the transparent substrate can be calculated, for example, by measuring the thickness at 10 locations from an image of a cross section taken using a scanning transmission electron microscope (STEM) and averaging the values at 10 locations. It is preferable that the STEM has an acceleration voltage of 10 kv to 30 kV and a magnification of 100 to 700 times.
Further, the transparent substrate may have been subjected to a known easy adhesion treatment such as a corona discharge treatment, a primer treatment, and a base treatment on the surface thereof.
(その他の層)
光学フィルムAは、さらに、防眩層、反射防止層、帯電防止層、屈折率調整層、ハードコート層、防汚層、円偏光板等の機能層を有していてもよい。
表示装置内における機能層の位置は、熱伝導層よりも表面側とすることが好ましい。また、光学フィルムAが機能層を有する場合、透明基材よりも表示素子側に熱伝導層を有し、透明基材よりも表面側に機能層を有することが好ましい。
(Other layers)
The optical film A may further have a functional layer such as an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a refractive index adjusting layer, a hard coat layer, an antifouling layer, and a circularly polarizing plate.
The position of the functional layer in the display device is preferably closer to the surface than the heat conductive layer. When the optical film A has a functional layer, it is preferable that the optical film A has a heat conductive layer on the display element side of the transparent substrate and has a functional layer on the surface side of the transparent substrate.
(光学特性)
光学フィルムAは、JIS K7361−1:1997の全光線透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
また、光学フィルムAは、JIS K7136:2000のヘイズが5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。
(optical properties)
The optical film A preferably has a total light transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more, even more preferably 90% or more according to JIS K7361-1: 1997.
Further, the optical film A preferably has a haze of JIS K7136: 2000 of 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 1% or less.
(光学フィルムAの位置)
実施形態Aの表示装置は、表示素子と、熱伝導層を含む光学フィルム(光学フィルムA)とが、直接又は接着剤層を介して接してなることが好ましい。
当該構成とすることにより、光出射面側から多量の熱が発生する表示素子(例えば、自発光型の有機EL表示素子、マイクロLED表示素子、対角50インチ以上の大型の表示素子)を備えた表示装置内部の温度が局所的に不均一になること、或いは該表示装置内部の温度が全体的に高温となることを抑制しやすくできる。当該構成における接着剤層は、光透過性を有するものであれば特に限定されることなく使用できるが、導電性を有する接着剤層が好ましい。接着剤層の厚みは5〜300μm程度である。
(Position of optical film A)
In the display device of Embodiment A, it is preferable that the display element and the optical film including the heat conductive layer (optical film A) are in contact with each other directly or via an adhesive layer.
With this configuration, a display element (for example, a self-luminous organic EL display element, a micro LED display element, or a large display element with a diagonal size of 50 inches or more) that generates a large amount of heat from the light emission surface side is provided. It can be easily suppressed that the temperature inside the display device becomes locally uneven or the temperature inside the display device becomes high as a whole. The adhesive layer in this configuration can be used without any particular limitation as long as it has optical transparency, but an adhesive layer having conductivity is preferable. The thickness of the adhesive layer is about 5 to 300 μm.
(熱伝導層の位置)
光学フィルムAが上記の機能層を有する多層構造の場合、熱伝導層の位置は特に限定されないが、本発明の効果を発揮しやすくする観点から、熱の発生源に近い位置に設けることが好ましい。具体的には、熱伝導層は表示素子に隣接する位置に設けることが好ましい。
例えば、表示素子が自発光型の有機EL表示素子の場合、有機EL表示素子は、後述するように発光の際に熱を発生させる。そのため、表示素子として有機EL表示素子を用いる場合、熱伝導層は有機EL表示素子に隣接する位置に設けることが好ましい。また、表示素子がマイクロLED表示素子である場合、又は、表示素子が対角50インチ以上の大型の表示素子である場合にも、熱伝導層は表示素子に隣接する位置に設けることが好ましい。
(Position of heat conduction layer)
When the optical film A has a multilayer structure having the above-described functional layer, the position of the heat conductive layer is not particularly limited. However, from the viewpoint of easily exhibiting the effects of the present invention, it is preferable to provide the heat conductive layer at a position close to the heat source. . Specifically, the heat conductive layer is preferably provided at a position adjacent to the display element.
For example, when the display element is a self-luminous organic EL display element, the organic EL display element generates heat when emitting light, as described later. Therefore, when an organic EL display element is used as the display element, it is preferable to provide the heat conductive layer at a position adjacent to the organic EL display element. Also, when the display element is a micro LED display element, or when the display element is a large display element having a diagonal size of 50 inches or more, it is preferable to provide the heat conductive layer at a position adjacent to the display element.
なお、有機EL表示素子等の表示素子と、熱伝導層との間に他の機能層を設ける場合には、該機能層中に自由電子による導通作用をもつ導通微粒子を含有させることが好ましい。これにより、有機EL表示素子等の表示素子で発生した熱を熱伝導層に移動させると共に、該機能層中に生じた高温領域及び低温領域において、高温領域から低温領域に熱を効率よく伝え、均一な温度とし、熱ムラの発生を防止することができる。
導通微粒子としては特に限定されず、例えば、コア微粒子の表面に導電性被覆層を形成したコーティング微粒子が好適に用いられる。
コア微粒子としては特に限定されず、例えば、コロイダルシリカ微粒子、酸化ケイ素微粒子等の無機微粒子、フッ素樹脂微粒子、アクリル樹脂粒子、シリコーン樹脂粒子等のポリマー微粒子、有機質無機質複合体粒子等の微粒子が挙げられる。また、導電性被覆層を構成する材料としては、Au、Ag、Cu、Al、Fe、Ni、Pd、Pt等の金属又はこれらの合金が挙げられる。
When another functional layer is provided between a display element such as an organic EL display element and the heat conductive layer, it is preferable to include conductive fine particles having a conductive action by free electrons in the functional layer. Thereby, while the heat generated in the display element such as the organic EL display element is transferred to the heat conductive layer, the heat is efficiently transmitted from the high temperature area to the low temperature area in the high temperature area and the low temperature area generated in the functional layer, The temperature can be made uniform, and the occurrence of heat unevenness can be prevented.
The conductive fine particles are not particularly limited, and, for example, coated fine particles having a conductive coating layer formed on the surface of core fine particles are preferably used.
The core fine particles are not particularly limited, and examples thereof include colloidal silica fine particles, inorganic fine particles such as silicon oxide fine particles, fluororesin fine particles, acrylic resin particles, polymer fine particles such as silicone resin particles, and fine particles such as organic inorganic composite particles. . In addition, examples of the material forming the conductive coating layer include metals such as Au, Ag, Cu, Al, Fe, Ni, Pd, and Pt, and alloys thereof.
また、実施形態Aの表示装置を車両に搭載する場合には、前述の熱伝導層を表示装置の最表面付近にくるように設けることにより、外光による温度上昇を防ぐことも可能となる。これにより、透明基材の延伸倍率の違いに基づく縦方向及び横方向の寸法変化の違いを抑制し、表示画面の変形を防止することができる。
更に、前述の透明基材として、リタデーション値3000〜30000nmのプラスチックフィルム又は1/4波長位相差のプラスチックフィルムを用いることで、偏光サングラス対応も可能で、より車載に適したものとなる。
In addition, when the display device of the embodiment A is mounted on a vehicle, it is possible to prevent a rise in temperature due to external light by providing the above-described heat conductive layer near the outermost surface of the display device. Thereby, it is possible to suppress a difference in a dimensional change in a vertical direction and a horizontal direction based on a difference in a stretching magnification of the transparent base material, and to prevent deformation of a display screen.
Further, by using a plastic film having a retardation value of 3000 to 30000 nm or a plastic film having a quarter-wave retardation as the above-mentioned transparent base material, it can be used for polarized sunglasses and is more suitable for use in vehicles.
(その他の光学フィルム)
実施形態Aの表示装置には、前述の光学フィルムAとは別に、防眩層、反射防止層、帯電防止層、屈折率調整層、ハードコート層、防汚層などの機能層を有するその他の光学フィルムが、更に設けられていてもよい。この場合、熱伝導層を有する光学フィルム(光学フィルムA)は、熱の発生源に近い位置に設けることが好ましい。なお、実施形態Aにおいて設けるその他の光学フィルムAは、後述する光学フィルムBであってもよい。
(Other optical films)
The display device of Embodiment A has, apart from the above-described optical film A, other components having functional layers such as an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a refractive index adjusting layer, a hard coat layer, and an antifouling layer. An optical film may be further provided. In this case, the optical film having the heat conductive layer (optical film A) is preferably provided at a position close to the heat generation source. The other optical film A provided in the embodiment A may be an optical film B described later.
(表示素子)
実施形態Aで用いられる表示素子としては、例えば、液晶表示素子、有機EL表示素子、マイクロ発光ダイオード表示素子(マイクロLED表示素子)が挙げられる。液晶表示素子としては、例えば、IPS(In Plane Switching)モード液晶表示素子、FFS(Fringe Field Switching)モード液晶表示素子が挙げられ、有機EL表示素子としては、例えば、透光性の第1電極(陽極)と、発光層を含む有機発光層と、第2電極(陰極)とが、この順で透光性の基板の表面に積層されたものが挙げられる。
(Display element)
Examples of the display element used in the embodiment A include a liquid crystal display element, an organic EL display element, and a micro light emitting diode display element (micro LED display element). Examples of the liquid crystal display element include an IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal display element and an FFS (Fringe Field Switching) mode liquid crystal display element. As the organic EL display element, for example, a translucent first electrode ( An anode, an organic light-emitting layer including a light-emitting layer, and a second electrode (cathode) are sequentially stacked on the surface of a light-transmitting substrate.
有機EL表示素子は、陰極と陽極との間に電流を印加することによって、両電極間にある有機発光層が発光する。この際、発光に寄与しないエネルギーが熱として発生し、表示装置内部が高温になる場合がある。特に、有機EL表示素子の発光層として、赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層が平面的に配列されているRGB塗り分け方式の場合、各色によって発光に必要なエネルギーが異なるため、各色によって発生する熱も異なることから、表示画面内に高温領域と低温領域が生じ、熱ムラが発生する場合がある(特に、静止画像を表示した場合には熱ムラが顕著になりやすい。)。したがって、表示素子が有機EL表示素子である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、マイクロLED表示素子は、大量のLEDチップにより映像を表示するため、必然的に高温となる。このため、表示素子がマイクロLED表示素である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、表示素子が対角50インチ以上の大型の表示素子である場合にも、表示素子内部は高温となりやすくなるため、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
In an organic EL display element, an organic light emitting layer between both electrodes emits light by applying a current between a cathode and an anode. At this time, energy that does not contribute to light emission is generated as heat, and the inside of the display device may become hot. In particular, in the case of an RGB separation method in which a red light-emitting layer, a green light-emitting layer, and a blue light-emitting layer are planarly arranged as light-emitting layers of an organic EL display element, the energy required for light emission differs for each color. As a result, the heat generated differs, so that a high-temperature region and a low-temperature region are generated in the display screen, and heat unevenness may occur (especially when a still image is displayed, the heat unevenness is likely to be remarkable). Therefore, when the display element is an organic EL display element, the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
In addition, since the micro LED display element displays an image using a large number of LED chips, the temperature is inevitably high. Therefore, when the display element is a micro LED display element, the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
In addition, even when the display element is a large display element having a diagonal size of 50 inches or more, the temperature inside the display element is likely to be high, so that the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
実施形態Aの表示装置は、表示素子の出光面側に上述の熱伝導層を有する光学フィルムを設けることにより、表示装置内部に発生した熱あるいは外光に起因する熱等を表示装置外部に放熱させ、表示画面内の温度を均一にすることができる。これにより、表示画面内の温度の不均一に起因する局所的な変形がないため、明るさや色味の局所的不均一はなく、殊に写り込んだ外部映像の歪みが生じることもないので、違和感のない表示画面を得ることができる。特に、表示素子が有機EL表示素子、マイクロLED表示素子、対角50インチ以上である場合、あるいは、表示装置が車載用である場合において、該効果を顕著に発揮することができる。 The display device of the embodiment A is provided with an optical film having the above-described heat conductive layer on the light emitting surface side of the display element, thereby radiating heat generated inside the display device or heat caused by external light to the outside of the display device. As a result, the temperature in the display screen can be made uniform. Thereby, since there is no local deformation due to the non-uniform temperature in the display screen, there is no local non-uniformity in brightness and color, and in particular, there is no distortion of the reflected external video, A display screen without a sense of incongruity can be obtained. In particular, when the display element is an organic EL display element, a micro LED display element, a diagonal of 50 inches or more, or when the display device is mounted on a vehicle, the effect can be remarkably exhibited.
実施形態Aの表示装置は、本発明の効果をより発揮しやすくする観点から、表示素子の光出射面とは反対側に、汎用の放熱機構を有することが好ましい。汎用の放熱機構としては、空冷ファン、放熱フィン、ヒートポンプ及びペルチェ素子等が挙げられる。 The display device of the embodiment A preferably has a general-purpose heat radiation mechanism on the side opposite to the light emitting surface of the display element from the viewpoint of more easily exerting the effects of the present invention. The general-purpose heat radiation mechanism includes an air cooling fan, a heat radiation fin, a heat pump, a Peltier device, and the like.
<実施形態B>
本発明の実施形態Bの表示装置は、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、を有することを特徴とする。
以下、実施形態Bの放射熱反射層を含む光学フィルムのことを「光学フィルムB」と称する場合がある。
実施形態Bでは、主として、放射熱反射層によって放射熱を反射することにより、放射熱によって光学フィルムBが高温になることを抑制するものである。
<Embodiment B>
The display device according to Embodiment B of the present invention is characterized by having a display element and an optical film including a radiant heat reflection layer, which is disposed on the light emitting surface side of the display element.
Hereinafter, the optical film including the radiation heat reflection layer of the embodiment B may be referred to as “optical film B”.
In the embodiment B, the radiant heat is mainly reflected by the radiant heat reflecting layer, so that the optical film B is prevented from having a high temperature due to the radiant heat.
図3は、実施形態Bの表示装置の一例を示す概略断面図である。図3の表示装置1は、表示素子10の出光面側に、放射熱反射層17を含む光学フィルム19を有している。また、図3において、光学フィルム19は、透明基材11上に、放射熱反射層17及び機能層18を有している。また、図3の表示装置1は、表示素子10と光学フィルム19との間に、その他の光学フィルム20を有している。 FIG. 3 is a schematic sectional view illustrating an example of the display device of the embodiment B. The display device 1 in FIG. 3 has an optical film 19 including a radiant heat reflection layer 17 on the light emitting surface side of the display element 10. In FIG. 3, the optical film 19 has a radiant heat reflection layer 17 and a functional layer 18 on the transparent substrate 11. The display device 1 of FIG. 3 has another optical film 20 between the display element 10 and the optical film 19.
(光学フィルムB)
光学フィルムBは、少なくとも放射熱反射層を含むものである。光学フィルムBは、透明基材上に放射熱反射層を有することが好ましい。光学フィルムBは、さらに後述する機能層を有していてもよい。
光学フィルムBの透明基材の実施形態としては、光学フィルムAの透明基材と同様のものが挙げられる。
(Optical film B)
The optical film B includes at least a radiation heat reflection layer. The optical film B preferably has a radiation heat reflection layer on a transparent substrate. The optical film B may further have a functional layer described later.
Embodiments of the transparent substrate of the optical film B include the same ones as the transparent substrate of the optical film A.
(放射熱反射層)
一般的に「放射熱」とは、電磁波により運ばれる熱のことを意味する。本明細書において、「放射熱反射層」とは、波長2000〜2500nmの分光反射率の平均が5%以上である層を指すものとする。
放射熱反射層は、波長2000〜2500nmの分光反射率の平均が5%以上であることが好ましく、10%以上であることがより好ましい。なお、波長2000〜2500nmの分光反射率の平均を高くしすぎると、可視光線の長波長側の透過率が減少する傾向がある。このため、波長2000〜2500nmの分光反射率の平均は30%以下であることが好ましい。
本明細書において、波長2000〜2500nmの分光反射率の平均は、2000〜2500nmの波長域を5nm間隔で測定したものとする。
(Radiant heat reflection layer)
Generally, “radiant heat” means heat carried by electromagnetic waves. In the present specification, the term “radiant heat reflection layer” refers to a layer having an average spectral reflectance of 5% or more at a wavelength of 2000 to 2500 nm.
The radiant heat reflection layer preferably has an average spectral reflectance at a wavelength of 2000 to 2500 nm of 5% or more, more preferably 10% or more. If the average of the spectral reflectances at wavelengths of 2000 to 2500 nm is too high, the transmittance of visible light on the long wavelength side tends to decrease. For this reason, it is preferable that the average of the spectral reflectance at a wavelength of 2000 to 2500 nm is 30% or less.
In the present specification, the average of the spectral reflectance at a wavelength of 2000 to 2500 nm is obtained by measuring the wavelength range of 2000 to 2500 nm at intervals of 5 nm.
放射熱反射層は、波長2000〜2500nmの領域において反射率の高い金属又は金属酸化物を含むことが好ましい。このような金属又は金属酸化物としては、金、銀及びITO(酸化インジウムスズ)が挙げられる。また、波長2000〜2500nmの領域において反射率の高い金属又は金属酸化物は、透明性の観点から、ナノワイヤ又は微粒子の形態であることが好ましい。
波長2000〜2500nmの領域において反射率の高い金属又は金属酸化物の好適な実施形態としては、銀ナノワイヤ、ITO粒子、Ag粒子及びAu粒子等が挙げられる。
The radiant heat reflecting layer preferably contains a metal or a metal oxide having a high reflectance in a wavelength region of 2,000 to 2,500 nm. Such metals or metal oxides include gold, silver and ITO (indium tin oxide). Further, it is preferable that the metal or the metal oxide having a high reflectance in the wavelength region of 2,000 to 2,500 nm is in the form of nanowires or fine particles from the viewpoint of transparency.
Preferred embodiments of the metal or metal oxide having high reflectivity in the wavelength region of 2,000 to 2,500 nm include silver nanowires, ITO particles, Ag particles, Au particles, and the like.
放射熱反射層が銀ナノワイヤを含む場合、放射熱反射層は、透明樹脂中に、隣接する銀ナノワイヤ同士が接触点を有するように分散された銀ナノワイヤ層であることが好ましい。
銀ナノワイヤの平均直径としては、200nm以下であることが好ましい。銀ナノワイヤの平均直径を200nm以下とすることにより、ヘイズが高くなることを抑制できる。銀ナノワイヤの平均直径は10nm以上180nm以下であることがより好ましい。
銀ナノワイヤの長さは可視光透過性の観点から500μm以下であることが好ましい。銀ナノワイヤの長さは1μm以上300μm以下であることがより好ましく、10μm以上30μm以下であることがさらに好ましい。
銀ナノワイヤの直径及び長さは、上述した熱伝導層に含まれる金属ナノワイヤの直径及び長さと同様の手法により算出できる。
When the radiation heat reflection layer includes silver nanowires, the radiation heat reflection layer is preferably a silver nanowire layer in which adjacent silver nanowires are dispersed in a transparent resin such that adjacent silver nanowires have contact points.
The average diameter of the silver nanowire is preferably 200 nm or less. By setting the average diameter of the silver nanowire to 200 nm or less, an increase in haze can be suppressed. The average diameter of the silver nanowires is more preferably 10 nm or more and 180 nm or less.
The length of the silver nanowire is preferably 500 μm or less from the viewpoint of visible light transmission. The length of the silver nanowire is more preferably 1 μm or more and 300 μm or less, further preferably 10 μm or more and 30 μm or less.
The diameter and the length of the silver nanowire can be calculated by the same method as the diameter and the length of the metal nanowire included in the heat conductive layer described above.
銀ナノワイヤ層は、銀ナノワイヤに加えて、カバー樹脂等の他の成分を含有していてもよい。
カバー樹脂は上述の透明樹脂としての役割を果たすことができる。カバー樹脂は、熱伝導層で例示したカバー樹脂と同様のものを用いることができる。
銀ナノワイヤ層の全体としての膜厚は、10nm以上300nm未満であることが好ましく、50nm以上200nm以下であることがより好ましい。
The silver nanowire layer may contain other components such as a cover resin in addition to the silver nanowire.
The cover resin can serve as the transparent resin described above. As the cover resin, the same resin as the cover resin exemplified for the heat conductive layer can be used.
The total thickness of the silver nanowire layer is preferably from 10 nm to less than 300 nm, more preferably from 50 nm to 200 nm.
放射熱反射層が、ITO粒子、Ag粒子及びAu粒子から選ばれる一以上の粒子(以下、「放射熱反射粒子」と称する場合がある。)を含む場合、放射熱反射層は、透明樹脂中に、放射熱反射粒子が高密度に充填されてなることが好ましい。具体的には、透明樹脂100質量部に対して、放射熱反射粒子を100〜1500質量部含むことが好ましく、200〜1300質量部含むことがより好ましく、500〜1200質量部含むことがさらに好ましい。 When the radiant heat reflection layer includes one or more particles selected from ITO particles, Ag particles, and Au particles (hereinafter, may be referred to as “radiation heat reflection particles”), the radiant heat reflection layer is formed of a transparent resin in the transparent resin. Preferably, the radiation heat reflecting particles are densely packed. Specifically, 100 to 1500 parts by mass of the radiant heat reflecting particles are preferably contained, more preferably 200 to 1300 parts by mass, and even more preferably 500 to 1200 parts by mass, based on 100 parts by mass of the transparent resin. .
放射熱反射粒子の平均粒子径は、5nm以上200nm以下が好ましく、5nm以上100nm以下がより好ましく、10nm以上80nm以下がさらに好ましい。
本明細書において、各種粒子の平均粒子径は、以下の(1)〜(3)の作業により算出できる。
(1)粒子を含む成形体の断面をTEM又はSTEMで撮像する。TEM又はSTEMの加速電圧は10kv〜30kV、倍率は5万〜30万倍とすることが好ましい。
(2)観察画像から任意の10個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な2本の直線で挟んだとき、該2本の直線間距離が最大となるような2本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
(3)同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を5回行って、合計50個分の数平均から得られる値を粒子の平均粒子径とする。
The average particle diameter of the radiant heat reflecting particles is preferably from 5 nm to 200 nm, more preferably from 5 nm to 100 nm, even more preferably from 10 nm to 80 nm.
In the present specification, the average particle diameter of various particles can be calculated by the following operations (1) to (3).
(1) An image of a cross section of a molded article containing particles is taken by TEM or STEM. It is preferable that the acceleration voltage of the TEM or STEM is 10 kv to 30 kV, and the magnification is 50,000 to 300,000.
(2) Ten arbitrary particles are extracted from the observation image, and the particle diameter of each particle is calculated. The particle diameter is measured as a distance between straight lines in a combination of two straight lines that maximizes the distance between the two straight lines when the cross section of the particle is sandwiched between any two parallel straight lines.
(3) The same operation is performed five times on an observation image of another screen of the same sample, and a value obtained from a number average of a total of 50 particles is defined as an average particle diameter of the particles.
放熱反射層が放射熱反射粒子を含む場合の厚みは特に限定されず、通常0.1〜5.0μmであり、好ましくは0.3〜2.0μmである。 When the heat radiation reflection layer contains the radiation reflection particles, the thickness is not particularly limited, and is usually 0.1 to 5.0 μm, preferably 0.3 to 2.0 μm.
(機能層)
光学フィルムBは、さらに、防眩層、反射防止層、帯電防止層、屈折率調整層、ハードコート層、防汚層、円偏光板等の機能層を有していてもよい。表示装置内における放射熱反射層に対する機能層の位置は、機能層の種類に応じて適宜決定すればよい。
(Functional layer)
The optical film B may further have a functional layer such as an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, a refractive index adjusting layer, a hard coat layer, an antifouling layer, and a circularly polarizing plate. The position of the functional layer with respect to the radiant heat reflecting layer in the display device may be appropriately determined according to the type of the functional layer.
後述するように、実施形態Bの表示装置は、光学フィルムB(放射熱反射層を含む光学フィルム)を、表示装置の最表面に配置することが好ましい。このため、光学フィルムBは、機能層として反射防止層を有することが好ましい。また、表示装置内における放射熱反射層に対する反射防止層の位置は、放射熱反射層よりも表面側であることが好ましい。 As described below, in the display device of the embodiment B, it is preferable that the optical film B (the optical film including the radiation heat reflection layer) is disposed on the outermost surface of the display device. For this reason, the optical film B preferably has an antireflection layer as a functional layer. Further, the position of the antireflection layer relative to the radiation heat reflection layer in the display device is preferably closer to the surface than the radiation heat reflection layer.
光学フィルムBがハードコート層を有する場合、その位置は、透明基材と放射熱反射層との間であることが好ましい。 When the optical film B has a hard coat layer, the position is preferably between the transparent substrate and the radiation heat reflection layer.
(ハードコート層)
機能層の一例であるハードコート層は、耐擦傷性の観点から、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer, which is an example of the functional layer, preferably contains a cured product of a curable resin composition such as a thermosetting resin composition or an ionizing radiation-curable resin composition from the viewpoint of abrasion resistance. More preferably, the composition contains a cured product of the curable resin composition.
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。 The thermosetting resin composition is a composition containing at least a thermosetting resin, and is a resin composition that is cured by heating. Examples of the thermosetting resin include acrylic resin, urethane resin, phenol resin, urea melamine resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, and silicone resin. In the thermosetting resin composition, a curing agent is added to these curable resins as necessary.
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物(以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう)を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する(メタ)アクリレート系化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合基を2つ以上有する(メタ)アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線(UV)又は電子線(EB)が用いられるが、その他、X線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味し、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味する。
The ionizing radiation-curable resin composition is a composition containing a compound having an ionizing radiation-curable functional group (hereinafter, also referred to as “ionizing radiation-curable compound”). Examples of the ionizing radiation-curable functional group include an ethylenically unsaturated bond group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group and an allyl group, and an epoxy group and an oxetanyl group. As the ionizing radiation-curable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond group is preferable, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups is more preferable, and among them, a compound having two or more ethylenically unsaturated bond groups ( (Meth) acrylate compounds are more preferred. As the (meth) acrylate-based compound having two or more ethylenically unsaturated bonding groups, any of a monomer and an oligomer can be used.
In addition, ionizing radiation means, among electromagnetic waves or charged particle beams, those having energy quanta capable of polymerizing or cross-linking molecules. Usually, ultraviolet (UV) or electron beam (EB) is used. Electromagnetic waves such as X-rays and γ-rays, and charged particle beams such as α-rays and ion beams can also be used.
In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate, (meth) acrylic acid means acrylic acid or methacrylic acid, and (meth) acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group. means.
ハードコート層の厚みは、耐擦傷性の観点から、0.1μm以上が好ましく、0.5μm以上がより好ましく、1.0μm以上がさらに好ましく、2.0μm以上がよりさらに好ましい。また、ハードコート層の厚みは、カール抑制の観点から、100μm以下が好ましく、50μm以下がより好ましく、30μm以下がより好ましく、20μm以下がより好ましく、15μm以下がより好ましく、10μm以下がより好ましい。 The thickness of the hard coat layer is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.5 μm or more, further preferably 1.0 μm or more, and still more preferably 2.0 μm or more from the viewpoint of abrasion resistance. In addition, the thickness of the hard coat layer is preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, more preferably 15 μm or less, and even more preferably 10 μm or less, from the viewpoint of curling suppression.
(反射防止層)
反射防止層としては、低屈折率層の単層構造、高屈折率層と低屈折率層との積層構造が挙げられる。放射熱反射層が放射熱反射粒子を含む場合、該放射熱反射層は高屈折率層を兼用できる点で好ましい。
(Anti-reflective layer)
Examples of the antireflection layer include a single-layer structure of a low-refractive-index layer and a laminated structure of a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer. When the radiant heat reflecting layer contains radiant heat reflecting particles, the radiant heat reflecting layer is preferable in that it can also serve as a high refractive index layer.
低屈折率層の屈折率は、1.10〜1.48が好ましく、1.20〜1.45がより好ましく、1.26〜1.40がより好ましく、1.28〜1.38がより好ましく、1.30〜1.32がより好ましい。
また、低屈折率層の厚みは、80〜120nmが好ましく、85〜110nmがより好ましく、90〜105nmがより好ましい。また、低屈折率層の厚みは、中空粒子等の低屈折率粒子の平均粒子径よりも大きいことが好ましい。
The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.10 to 1.48, more preferably 1.20 to 1.45, more preferably 1.26 to 1.40, and more preferably 1.28 to 1.38. Preferably, 1.30 to 1.32 is more preferable.
Further, the thickness of the low refractive index layer is preferably from 80 to 120 nm, more preferably from 85 to 110 nm, and even more preferably from 90 to 105 nm. Further, the thickness of the low refractive index layer is preferably larger than the average particle diameter of low refractive index particles such as hollow particles.
低屈折率層を形成する手法としては、ウェット法とドライ法とに大別できる。ウェット法としては、金属アルコキシド等を用いてゾルゲル法により形成する手法、フッ素樹脂のような低屈折率の樹脂を塗工して形成する手法、樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液を塗工して形成する手法が挙げられる。ドライ法としては、低屈折率粒子の中から所望の屈折率を有する粒子を選び、物理気相成長法又は化学気相成長法により形成する手法が挙げられる。
ウェット法は、生産効率、斜め反射色相の抑制、及び耐薬品性の点で、ドライ法よりも優れている。本実施形態においては、ウェット法の中でも、密着性、耐水性、耐擦傷性及び低屈折率化の観点から、バインダー樹脂組成物に低屈折率粒子を含有させた低屈折率層形成用塗布液により形成することが好ましい。該バインダー樹脂組成物としては、例えば、ハードコート層で例示した硬化性樹脂組成物を用いることができる。
The method of forming the low refractive index layer can be roughly classified into a wet method and a dry method. Examples of the wet method include a method of forming by a sol-gel method using a metal alkoxide or the like, a method of forming by coating a resin having a low refractive index such as a fluororesin, and a method of forming a resin composition containing low refractive index particles. A method of applying and forming a coating liquid for forming a refractive index layer may be used. Examples of the dry method include a method of selecting particles having a desired refractive index from low refractive index particles and forming the particles by a physical vapor deposition method or a chemical vapor deposition method.
The wet method is superior to the dry method in terms of production efficiency, suppression of oblique reflection hue, and chemical resistance. In the present embodiment, even in the wet method, from the viewpoint of adhesion, water resistance, scratch resistance and low refractive index, a coating liquid for forming a low refractive index layer containing low refractive index particles in a binder resin composition. It is preferable to form with. As the binder resin composition, for example, the curable resin composition exemplified for the hard coat layer can be used.
低屈折率粒子は、中空粒子及び非中空粒子から選ばれる1種以上を含むことが好ましい。また、低反射及び耐擦傷性のバランスの観点からは、中空粒子から選ばれる1種以上と、非中空粒子から選ばれる1種以上とを併用することが好ましい。
中空粒子及び非中空粒子の材質は、シリカ及びフッ化マグネシウム等の無機化合物、有機化合物のいずれであってもよいが、低屈折率化及び強度の観点からシリカが好ましい。
The low refractive index particles preferably include at least one selected from hollow particles and non-hollow particles. From the viewpoint of the balance between low reflection and scratch resistance, it is preferable to use one or more selected from hollow particles and one or more selected from non-hollow particles in combination.
The material of the hollow particles and the non-hollow particles may be any of an inorganic compound and an organic compound such as silica and magnesium fluoride, but silica is preferred from the viewpoint of lowering the refractive index and strength.
光学的特性および機械的強度を考慮すると、中空シリカ粒子の平均粒子径は、50nm以上100nm以下であることが好ましく、60nm以上80nm以下であることがより好ましい。また、非中空シリカ粒子の凝集を防止しつつ分散性を考慮すると、非中空シリカ粒子の平均粒子径は、5nm以上20nm以下であることが好ましく、10nm以上15nm以下であることがより好ましい。 In consideration of optical properties and mechanical strength, the average particle diameter of the hollow silica particles is preferably from 50 nm to 100 nm, more preferably from 60 nm to 80 nm. Further, in consideration of dispersibility while preventing aggregation of the non-hollow silica particles, the average particle diameter of the non-hollow silica particles is preferably 5 nm or more and 20 nm or less, more preferably 10 nm or more and 15 nm or less.
中空シリカ粒子の含有量が多くなるほど、バインダー樹脂中の中空シリカ粒子の充填率が高くなり、低屈折率層の屈折率が低下する。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して100質量部以上であることが好ましく、150質量部以上であることがより好ましい。
一方で、バインダー樹脂に対する中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、バインダー樹脂から露出する中空シリカ粒子が増加する上、粒子間を結合するバインダー樹脂が少なくなる。このため、中空シリカ粒子が損傷したり、脱落したりしやすくなって、低屈折率層の耐擦傷性等の機械的強度が低下する傾向がある。このため、中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して400質量部以下であることが好ましく、300質量部以下であることがより好ましい。
As the content of the hollow silica particles increases, the filling rate of the hollow silica particles in the binder resin increases, and the refractive index of the low refractive index layer decreases. Therefore, the content of the hollow silica particles is preferably at least 100 parts by mass, more preferably at least 150 parts by mass, based on 100 parts by mass of the binder resin.
On the other hand, if the content of the hollow silica particles with respect to the binder resin is too large, the number of hollow silica particles exposed from the binder resin increases, and the amount of the binder resin binding between the particles decreases. For this reason, the hollow silica particles are likely to be damaged or fall off, and the mechanical strength such as scratch resistance of the low refractive index layer tends to decrease. For this reason, the content of the hollow silica particles is preferably 400 parts by mass or less, more preferably 300 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the binder resin.
非中空シリカ粒子の含有量が少ないと、低屈折率層の表面に非中空シリカ粒子が存在していても硬度上昇に影響を及ぼさないことがある。また、非中空シリカ粒子を多量に含有すると、バインダー樹脂の重合による収縮ムラの影響を小さくし、樹脂硬化後に低屈折率層表面に発生する凹凸を小さくすることができる。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して90質量部以上であることが好ましく、100質量部以上であることがより好ましい。
一方で、非中空シリカ粒子の含有量が多すぎると、非中空シリカが凝集しやすくなり、バインダー樹脂の収縮ムラが生じ、表面の凹凸が大きくなる。このため、非中空シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂100質量部に対して200質量部以下であることが好ましく、150質量部以下であることがより好ましい。
When the content of the non-hollow silica particles is small, even if the non-hollow silica particles are present on the surface of the low refractive index layer, the increase in hardness may not be affected. In addition, when the non-hollow silica particles are contained in a large amount, the influence of uneven shrinkage due to the polymerization of the binder resin can be reduced, and the unevenness generated on the surface of the low refractive index layer after the resin is cured can be reduced. Therefore, the content of the non-hollow silica particles is preferably at least 90 parts by mass, more preferably at least 100 parts by mass, per 100 parts by mass of the binder resin.
On the other hand, if the content of the non-hollow silica particles is too large, the non-hollow silica tends to aggregate, causing uneven shrinkage of the binder resin, and increasing the surface irregularities. Therefore, the content of the non-hollow silica particles is preferably 200 parts by mass or less, more preferably 150 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the binder resin.
上記の割合でバインダー樹脂中に中空シリカ粒子及び非中空シリカ粒子を含有させることにより、低屈折率層のバリア性を向上させることができる。これは、シリカ粒子が高充填率で均一に分散されていることにより、ガス等の透過が阻害されているためと推測される。
また、日焼け止め及びハンドクリーム等の各種の化粧品には、揮発性の低い低分子ポリマーが含まれている場合がある。低屈折率層のバリア性を良好にすることにより、低分子ポリマーが低屈折率層の塗膜内部に浸透することを抑制でき、低分子ポリマーが塗膜に長期残存することによる不具合(例えば外観異常)を抑制することができる。
By including the hollow silica particles and the non-hollow silica particles in the binder resin at the above ratio, the barrier properties of the low refractive index layer can be improved. This is presumed to be because the permeation of gas and the like is hindered by the silica particles being uniformly dispersed at a high filling rate.
In addition, various cosmetics such as sunscreens and hand creams may contain low-volatile low molecular weight polymers. By improving the barrier properties of the low-refractive-index layer, it is possible to prevent the low-molecular polymer from penetrating into the coating film of the low-refractive-index layer, and to cause a problem (for example, appearance Abnormality).
高屈折率層は、屈折率が1.53〜1.85が好ましく、1.54〜1.80がより好ましく、1.55〜1.75がより好ましく、1.56〜1.70がより好ましい。
また、高屈折率層の厚みは、200nm以下が好ましく、50〜180nmがより好ましく、70〜150nmがさらに好ましい。
The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.53 to 1.85, more preferably 1.54 to 1.80, more preferably 1.55 to 1.75, and more preferably 1.56 to 1.70. preferable.
The thickness of the high refractive index layer is preferably 200 nm or less, more preferably 50 to 180 nm, and even more preferably 70 to 150 nm.
高屈折率層は、例えば、バインダー樹脂組成物及び高屈折率粒子を含む高屈折率層形成用塗布液から形成することができる。該バインダー樹脂組成物としては、例えば、ハードコート層で例示した硬化性樹脂組成物を用いることができる。 The high refractive index layer can be formed, for example, from a coating liquid for forming a high refractive index layer containing a binder resin composition and high refractive index particles. As the binder resin composition, for example, the curable resin composition exemplified for the hard coat layer can be used.
高屈折率粒子としては、五酸化アンチモン(1.79)、酸化亜鉛(1.90)、酸化チタン(2.3〜2.7)、酸化セリウム(1.95)、スズドープ酸化インジウム(1.95〜2.00)、アンチモンドープ酸化スズ(1.75〜1.85)、酸化イットリウム(1.87)及び酸化ジルコニウム(2.10)等が挙げられる。 Examples of the high refractive index particles include antimony pentoxide (1.79), zinc oxide (1.90), titanium oxide (2.3 to 2.7), cerium oxide (1.95), and tin-doped indium oxide (1. 95 to 2.00), antimony-doped tin oxide (1.75 to 1.85), yttrium oxide (1.87), and zirconium oxide (2.10).
高屈折率粒子の平均粒子径は、2nm以上が好ましく、5nm以上がより好ましく、10nm以上がさらに好ましい。また、高屈折率粒子の平均粒子径は、白化抑制及び透明性の観点から、200nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましく、80nm以下がより好ましく、60nm以下がより好ましく、30nm以下がより好ましい。高屈折率粒子の平均粒子径が小さいほど透明性が良好であり、特に、60nm以下とすることにより透明性を極めて良好にすることができる。 The average particle diameter of the high refractive index particles is preferably 2 nm or more, more preferably 5 nm or more, even more preferably 10 nm or more. In addition, the average particle diameter of the high refractive index particles is preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, and more preferably 30 nm or less, from the viewpoint of suppression of whitening and transparency. The smaller the average particle diameter of the high refractive index particles, the better the transparency. In particular, by setting the average particle diameter to 60 nm or less, the transparency can be made extremely good.
(光学特性)
光学フィルムBは、JIS K7361−1:1997の全光線透過率が70%以上であることが好ましく、80%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
また、光学フィルムBは、JIS K7136:2000のヘイズが5%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましく、1%以下であることがさらに好ましい。
(optical properties)
The optical film B preferably has a total light transmittance of 70% or more, more preferably 80% or more, even more preferably 90% or more according to JIS K7361-1: 1997.
Further, the optical film B preferably has a haze of JIS K7136: 2000 of 5% or less, more preferably 3% or less, further preferably 1% or less.
(光学フィルムBの位置)
実施形態Bの表示装置は、放射熱反射層を含む光学フィルム(光学フィルムB)を、表示装置の最表面に配置してなることが好ましい。当該構成とすることにより、表示素子の光出射面側から生じる放射熱を狭い範囲に集中させることなく比較的広い範囲に分散させることができ、かつ、表示装置の外部から表示装置内に放射熱が侵入することを抑制できるため、光学フィルムBが高温になり変形することを抑制しやすくできる。
このため、光学フィルムBを上記のように配置することにより、光出射面側から多量の熱が発生する表示素子(例えば、自発光型の有機EL表示素子、マイクロLED表示素子、対角50インチ以上の大型の表示素子)を備えた表示装置においても、本発明の効果を発揮しやすくできる。
(Position of optical film B)
In the display device of Embodiment B, it is preferable that an optical film (optical film B) including a radiation heat reflecting layer is disposed on the outermost surface of the display device. With this configuration, the radiant heat generated from the light emitting surface side of the display element can be dispersed over a relatively wide range without being concentrated on a narrow range, and the radiant heat can be radiated into the display device from outside the display device. Can be suppressed from entering, so that the optical film B can be easily suppressed from being deformed due to a high temperature.
For this reason, by disposing the optical film B as described above, a display element (for example, a self-luminous organic EL display element, a micro LED display element, a diagonal 50 inch) that generates a large amount of heat from the light emitting surface side. The display device having the above-described large display element) can easily exert the effects of the present invention.
実施形態Bでは、表示装置内において、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層の総厚みが350nm以下であることが好ましく、300nm以下であることがより好ましく、270nm以下であることがさらに好ましい。
放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層は、表示装置の外部の放射熱、及び、表示素子から生じて放射熱反射層を透過した放射熱によって温度が上昇する。そして、当該層の総厚みが厚いほど、温度の上昇度合いが大きくなる傾向を示す。このため、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層の総厚みを上記範囲とすることにより、光学フィルムBが高温になることを抑制しやすくできる。
放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に位置する層とは、図3の機能層18のように光学フィルムB(19)自体が有する層、あるいは、光学フィルムBよりも表面側に位置する部材が有する層が挙げられる。
In the embodiment B, in the display device, the total thickness of the layer located on the side opposite to the display element with respect to the radiation heat reflecting layer is preferably 350 nm or less, more preferably 300 nm or less, and more preferably 270 nm or less. It is more preferred that there be.
The temperature of the layer located on the side opposite to the display element with respect to the radiant heat reflective layer increases due to radiant heat outside the display device and radiant heat generated from the display element and transmitted through the radiant heat reflective layer. Then, the degree of temperature rise tends to increase as the total thickness of the layer increases. For this reason, by setting the total thickness of the layer located on the side opposite to the display element with respect to the radiation heat reflecting layer to the above range, it is possible to easily suppress the optical film B from becoming high in temperature.
The layer located on the side opposite to the display element with respect to the radiant heat reflecting layer is a layer included in the optical film B (19) itself as in the functional layer 18 in FIG. Layer included in the member.
光学フィルムBが、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に低屈折率層を有する場合、上記総厚みは50〜200nmであることが好ましく、80〜150nmであることがより好ましい。
光学フィルムBが、放射熱反射層よりも表示素子とは反対側に高屈折率層及び低屈折率層を有する場合、上記総厚みは80〜300nmであることが好ましく、130〜250nmであることがより好ましい。
When the optical film B has a low refractive index layer on the side opposite to the display element with respect to the radiant heat reflecting layer, the total thickness is preferably from 50 to 200 nm, more preferably from 80 to 150 nm.
When the optical film B has a high-refractive-index layer and a low-refractive-index layer on the side opposite to the display element with respect to the radiant heat reflecting layer, the total thickness is preferably 80 to 300 nm, and 130 to 250 nm. Is more preferred.
(表示素子)
実施形態Bで用いられる表示素子としては、例えば、液晶表示素子、有機EL表示素子、マイクロ発光ダイオード表示素子(マイクロLED表示素子)が挙げられる。液晶表示素子としては、例えば、IPS(In Plane Switching)モード液晶表示素子、FFS(Fringe Field Switching)モード液晶表示素子が挙げられ、有機EL表示素子としては、例えば、透光性の第1電極(陽極)と、発光層を含む有機発光層と、第2電極(陰極)とが、この順で透光性の基板の表面に積層されたものが挙げられる。
(Display element)
Examples of the display element used in the embodiment B include a liquid crystal display element, an organic EL display element, and a micro light emitting diode display element (micro LED display element). Examples of the liquid crystal display element include an IPS (In Plane Switching) mode liquid crystal display element and an FFS (Fringe Field Switching) mode liquid crystal display element. As the organic EL display element, for example, a translucent first electrode ( An anode, an organic light-emitting layer including a light-emitting layer, and a second electrode (cathode) are sequentially stacked on the surface of a light-transmitting substrate.
有機EL表示素子は、陰極と陽極との間に電流を印加することによって、両電極間にある有機発光層が発光する。この際、発光に寄与しないエネルギーが熱として発生し、表示装置内部が高温になる場合がある。特に、有機EL表示素子の発光層として、赤色発光層、緑色発光層、及び青色発光層が平面的に配列されているRGB塗り分け方式の場合、各色によって発光に必要なエネルギーが異なるため、各色によって発生する熱も異なることから、表示画面内に高温領域と低温領域が生じ、熱ムラが発生する場合がある(特に、静止画像を表示した場合には熱ムラが顕著になりやすい。)。したがって、表示素子が有機EL表示素子である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、マイクロLED表示素子は、大量のLEDチップにより映像を表示するため、必然的に高温となる。このため、表示素子がマイクロLED表示素である場合、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、表示素子が対角50インチ以上の大型の表示素子である場合にも、表示素子内部は高温となりやすくなるため、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
また、表示素子の種類及び大きさに関わらず、実施形態Bの表示装置が車載用である場合には、本発明の効果をより顕著に発揮することができる。
In an organic EL display element, an organic light emitting layer between both electrodes emits light by applying a current between a cathode and an anode. At this time, energy that does not contribute to light emission is generated as heat, and the inside of the display device may become hot. In particular, in the case of an RGB separation method in which a red light-emitting layer, a green light-emitting layer, and a blue light-emitting layer are planarly arranged as light-emitting layers of an organic EL display element, the energy required for light emission differs for each color. As a result, the heat generated differs, so that a high-temperature region and a low-temperature region are generated in the display screen, and heat unevenness may occur (especially, when a still image is displayed, the heat unevenness tends to be remarkable). Therefore, when the display element is an organic EL display element, the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
In addition, since the micro LED display element displays an image using a large number of LED chips, the temperature is inevitably high. Therefore, when the display element is a micro LED display element, the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
In addition, even when the display element is a large display element having a diagonal size of 50 inches or more, the temperature inside the display element is likely to be high, so that the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
Further, regardless of the type and size of the display element, when the display device of the embodiment B is mounted on a vehicle, the effects of the present invention can be more remarkably exhibited.
実施形態Bの表示装置は、本発明の効果をより発揮しやすくする観点から、表示素子の光出射面とは反対側に、汎用の放熱機構を有することが好ましい。汎用の放熱機構としては、空冷ファン、放熱フィン、ヒートポンプ及びペルチェ素子等が挙げられる。 The display device of Embodiment B preferably has a general-purpose heat radiation mechanism on the side opposite to the light emitting surface of the display element from the viewpoint of more easily exhibiting the effects of the present invention. The general-purpose heat radiation mechanism includes an air cooling fan, a heat radiation fin, a heat pump, a Peltier device, and the like.
<実施形態C>
本発明の実施形態Cの表示装置は、表示素子と、前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材とを有し、さらに、前記熱伝導層を含む光学フィルムの出光面側に、放射熱反射層を含む光学フィルムを有するものである。
<Embodiment C>
The display device according to the embodiment C of the present invention includes a display element, an optical film including a heat conductive layer disposed on the light emitting surface side of the display element, and a heat radiation thermally grounded from a peripheral portion of the heat conductive layer. And an optical film including a radiant heat reflection layer on the light exit surface side of the optical film including the heat conductive layer.
実施形態Cにおいて、「表示示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルム」及び「熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材」は、実施形態Aと同様のものが挙げられる。また、実施形態Cにおいて、「放射熱反射層を含む光学フィルム」は、実施形態Bと同様のものが挙げられる。また、実施形態Cにおいて、「表示素子」は、実施形態A又はBと同様のものが挙げられる。 In the embodiment C, the “optical film including the heat conductive layer disposed on the light emitting surface side of the display element” and the “heat radiating member thermally grounded from the periphery of the heat conductive layer” are the same as those in the embodiment A. One. In the embodiment C, the “optical film including the radiation heat reflection layer” includes the same as in the embodiment B. In the embodiment C, the “display element” is the same as that in the embodiment A or B.
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the embodiments described in the embodiments.
<実施形態A>
[実施例A1]
(1)光学フィルムAの作製
(1−1)ハードコート層の形成
透明基材として、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:100μm、面積:552mm×959mm)を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度10m/minにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を90℃で60秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚5μmのハードコート(HC)層を形成した。
<Embodiment A>
[Example A1]
(1) Preparation of Optical Film A (1-1) Formation of Hard Coat Layer A biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 100 μm, area: 552 mm × 959 mm) was prepared as a transparent substrate. On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a hard coat layer shown below was applied at an application speed of 10 m / min to form a coating film. The coating was dried at 90 ° C. for 60 seconds to remove the solvent. Next, the coating film was irradiated with ultraviolet light at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film, thereby forming a hard coat (HC) layer having a thickness of 5 μm after curing.
(ハードコート層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):46質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):4質量部
・メチルエチルケトン:50質量部
(Composition for forming hard coat layer)
The following components were mixed to prepare a composition for forming a hard coat layer.
-Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30): 46 parts by mass-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184): 4 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 50 parts by mass
(1−2)熱伝導層の形成
次に、上記透明基材のハードコート層を形成した面とは反対側の面上に、銅箔(厚み:10μm)を、接着剤を介して貼り合せ、次いで、フォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより、メッシュ状のパターンを形成し、光学フィルムAを得た。
得られた光学フィルムAの熱伝導層の表面抵抗値は「三菱化学(株)製、Loresta−EP MCP−T360」を用いて4端子法により測定したところ、4.2×10−2Ω/□であった。
また、熱伝導層表面の周縁部の1箇所に、銀ペーストを用いて導線を固着し、さらに導線を放熱部材(ニクロム、体積抵抗値1.5×10−6Ωm)に接続し、熱アース処理を行った。なお、固着箇所の面積は2mm2とした。
(1-2) Formation of Thermal Conductive Layer Next, a copper foil (thickness: 10 μm) is bonded via an adhesive on the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the hard coat layer is formed. Then, a mesh-like pattern was formed by etching using a photolithography method, and an optical film A was obtained.
The surface resistance value of the heat conductive layer of the obtained optical film A was measured by a four-terminal method using “Loresta-EP MCP-T360 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation”, and was 4.2 × 10 −2 Ω /. It was □.
In addition, a conductive wire is fixed to one portion of the peripheral portion of the surface of the heat conductive layer using a silver paste, and further, the conductive wire is connected to a heat dissipating member (Nichrome, volume resistance value 1.5 × 10 −6 Ωm), and a thermal ground is connected. Processing was performed. The area of the fixed portion was 2 mm 2 .
(2)表示装置の作製
市販のRGB塗り分け方式の有機EL表示装置(商品名:XEL−1、ソニー社製)に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムAおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
(2) Manufacture of display device The original optical sheet and the glass plate, which were bonded to a commercially available organic EL display device of a separate RGB coating method (trade name: XEL-1, manufactured by Sony Corporation), were peeled off. Then, the optical film A and the glass plate obtained above were assembled, and each member was sandwiched to produce a display device.
得られた表示装置の表示画面に静止画像を12時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムAの変形を原因とする明るさ及び色味の不均一な箇所はなく、また、反射像の屈曲違和感がなく、視認性は良好であった。 The display screen after the still image was displayed on the display screen of the obtained display device for 12 hours was visually observed. As a result, there was no unevenness in brightness and color due to the deformation of the optical film A in the display screen, and there was no bending discomfort in the reflected image, and the visibility was good.
[実施例A2]
(1)塗工液の調製
(1−1)銀ナノワイヤ含有組成物の調製
還元剤としてエチレングリコール(EG)を、形態制御剤兼保護コロイド剤としてポリビニルピロリドン(PVP:平均分子量130万、アルドリッチ社製)を使用し、下記に示した核形成工程と粒子成長工程とを分離して粒子形成を行い、銀ナノワイヤ含有組成物を調製した。
[Example A2]
(1) Preparation of Coating Solution (1-1) Preparation of Silver Nanowire-Containing Composition Ethylene glycol (EG) as a reducing agent, and polyvinylpyrrolidone (PVP: average molecular weight 1.3 million, Aldrich Co., Ltd.) as a form control agent and protective colloid agent Was used to separate the nucleation step and the particle growth step shown below to form particles, thereby preparing a silver nanowire-containing composition.
<核形成工程>
反応容器内で160℃に保持したEG液100mLを攪拌しながら、硝酸銀のEG溶液(硝酸銀濃度:1.0モル/L)2.0mLを、一定の流量で1分間かけて添加した。その後、160℃で10分間保持しながら銀イオンを還元して銀の核粒子を形成した。反応液は、ナノサイズの銀微粒子の表面プラズモン吸収に由来する黄色を呈しており、銀イオンが還元されて銀の微粒子(核粒子)が形成されたことを確認した。続いて、PVPのEG溶液(PVP濃度:3.0×10−1モル/L)10.0mLを一定の流量で10分間かけて添加した。
<Nucleation step>
While stirring 100 mL of the EG solution maintained at 160 ° C. in the reaction vessel, 2.0 mL of an EG solution of silver nitrate (silver nitrate concentration: 1.0 mol / L) was added at a constant flow rate over 1 minute. Thereafter, silver ions were reduced while maintaining the temperature at 160 ° C. for 10 minutes to form silver core particles. The reaction liquid was yellow due to the surface plasmon absorption of the nano-sized silver fine particles, confirming that silver ions were reduced to form silver fine particles (nuclear particles). Subsequently, 10.0 mL of an EG solution of PVP (PVP concentration: 3.0 × 10 −1 mol / L) was added at a constant flow rate over 10 minutes.
<粒子成長工程>
上記核形成工程を終了した後の核粒子を含む反応液を、攪拌しながら160℃に保持し、硝酸銀のEG溶液(硝酸銀濃度:1.0×10−1モル/L)100mLと、PVPのEG溶液(PVP濃度:3.0×10−1モル/L)100mLを、ダブルジェット法を用いて一定の流量で120分間かけて添加した。この粒子成長工程において、30分毎に反応液を採取して電子顕微鏡で確認したところ、核形成工程で形成された核粒子が時間経過に伴ってワイヤ状の形態に成長しており、粒子成長工程における新たな微粒子の生成は認められなかった。最終的に得られた銀ナノワイヤの直径および長さを測定したところ、銀ナノワイヤの直径は30nmであり、長さは15μmであった。銀ナノワイヤの直径は、透過型電子顕微鏡(TEM)を用い、1000〜50万倍にて50本の導電性繊維の直径を測定し、その50本の導電性繊維の直径の平均値として求めた。また、銀ナノワイヤの長さは、走査型電子顕微鏡(SEM)を用い、1000〜50万倍にて50本の導電性繊維の長さを測定し、その50本の導電性繊維の長さの平均値として求めた。
<Particle growth process>
The reaction solution containing the core particles after completion of the nucleation step is maintained at 160 ° C. while stirring, and 100 mL of an EG solution of silver nitrate (silver nitrate concentration: 1.0 × 10 −1 mol / L) and PVP 100 mL of an EG solution (PVP concentration: 3.0 × 10 −1 mol / L) was added at a constant flow rate over 120 minutes using a double jet method. In this particle growth step, when the reaction solution was collected every 30 minutes and confirmed by an electron microscope, the nucleus particles formed in the nucleation step grew into a wire-like form with the passage of time. No new fine particles were generated in the process. When the diameter and length of the finally obtained silver nanowire were measured, the diameter of the silver nanowire was 30 nm and the length was 15 μm. The diameter of the silver nanowire was determined by using a transmission electron microscope (TEM), measuring the diameter of 50 conductive fibers at a magnification of 1000 to 500,000, and calculating the average value of the diameters of the 50 conductive fibers. . The length of the silver nanowire was measured using a scanning electron microscope (SEM) at a magnification of 1,000 to 500,000 times, and the length of the 50 conductive fibers was measured. The average value was obtained.
<脱塩水洗工程>
粒子成長工程を終了した反応液を室温まで冷却した後、分画分子量0.2μmの限外濾過膜を用いて脱塩水洗処理を施すとともに、溶媒をエタノールに置換した。そして、液量を100mLまで濃縮して銀ナノワイヤ分散液を得た。最後に、銀ナノワイヤ濃度が0.1質量%となり、かつ希釈後のアノンの溶剤比率が30質量%となるようにエタノールとアノンで希釈し、銀ナノワイヤ含有組成物を得た。
<Desalting water washing process>
After the reaction solution after the particle growth step was cooled to room temperature, the reaction solution was subjected to a desalting water washing treatment using an ultrafiltration membrane having a molecular weight cutoff of 0.2 μm, and the solvent was replaced with ethanol. Then, the liquid volume was concentrated to 100 mL to obtain a silver nanowire dispersion. Finally, the mixture was diluted with ethanol and anone such that the silver nanowire concentration was 0.1% by mass and the solvent ratio of the diluted anone was 30% by mass, to obtain a silver nanowire-containing composition.
(1−2)カバー樹脂用組成物の調製
下記に示す組成となるように各成分を配合して、カバー樹脂用組成物を得た。
<カバー樹脂用組成物>
・ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物(製品名「KAYARAD PET−30」、日本化薬社製):5質量部
・重合開始剤(製品名「イルガキュア184」、BASFジャパン社製):0.25質量部
・メチルエチルケトン:70質量部
・シクロヘキサノン:24.75質量部
(1-2) Preparation of composition for cover resin Each component was blended so as to have the composition shown below to obtain a composition for cover resin.
<Composition for cover resin>
-Mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (product name "KAYARAD PET-30", manufactured by Nippon Kayaku): 5 parts by mass-Polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan) : 0.25 parts by mass, methyl ethyl ketone: 70 parts by mass, cyclohexanone: 24.75 parts by mass
(2)光学フィルムAの作製
(2−1)ハードコート層の形成
透明基材として、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:100μm、面積:552mm×959mm)を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度10m/minにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を90℃で60秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚5μmのハードコート(HC)層を形成した。
(2) Preparation of Optical Film A (2-1) Formation of Hard Coat Layer As a transparent substrate, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 100 μm, area: 552 mm × 959 mm) was prepared. On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a hard coat layer shown below was applied at an application speed of 10 m / min to form a coating film. The coating was dried at 90 ° C. for 60 seconds to remove the solvent. Next, the coating film was irradiated with ultraviolet light at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film, thereby forming a hard coat (HC) layer having a thickness of 5 μm after curing.
(ハードコート層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):46質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):4質量部
・メチルエチルケトン:50質量部
(Composition for forming hard coat layer)
The following components were mixed to prepare a composition for forming a hard coat layer.
-Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30): 46 parts by mass-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184): 4 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 50 parts by mass
(2−2)熱伝導層の形成
次に、上記透明基材のハードコート層を形成した面とは反対側の面上に、上記銀ナノワイヤ含有組成物を付着量が10mg/m2となるように直接塗布した。次いで、塗布した銀ナノワイヤ含有組成物に対して、0.5m/sの流速で50℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて銀ナノワイヤ含有組成物中の分散媒を蒸発させることにより、PETフィルム上に銀ナノワイヤを直接配置させた。
次いで、銀ナノワイヤを覆うように上記カバー樹脂用組成物を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、0.5m/sの流速で50℃の乾燥空気を15秒間流通させた後、さらに10m/sの流速で70℃の乾燥空気を30秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を積算光量が100mJ/cm2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、膜厚が100nmのカバー樹脂を形成した。
以上のようにして、熱伝導層(銀ナノワイヤ層)を形成し、光学フィルムAを得た。
(2-2) Formation of Thermal Conductive Layer Next, the amount of the silver nanowire-containing composition deposited on the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the hard coat layer is formed is 10 mg / m 2. Directly. Then, after flowing dry air at 50 ° C. at a flow rate of 0.5 m / s for 15 seconds through the applied silver nanowire-containing composition, dry air at 70 ° C. is further flowed at a flow rate of 10 m / s for 30 seconds. The silver nanowire was directly arranged on the PET film by evaporating the dispersion medium in the silver nanowire-containing composition.
Next, the composition for a cover resin was applied so as to cover the silver nanowires to form a coating film. Then, after flowing dry air at 50 ° C. at a flow rate of 0.5 m / s for 15 seconds through the formed coating film, dry air at 70 ° C. is further passed at a flow rate of 10 m / s for 30 seconds to dry. Then, the solvent in the coating film was evaporated, and the coating film was cured by irradiating ultraviolet rays so that the integrated light amount became 100 mJ / cm 2 , thereby forming a cover resin having a thickness of 100 nm.
As described above, a heat conductive layer (silver nanowire layer) was formed, and an optical film A was obtained.
得られた光学フィルムAの熱伝導層の表面抵抗値は「三菱化学(株)製、Loresta−EP MCP−T360」を用いて4端子法により測定したところ、51Ω/□であった。
また、熱伝導層表面の周縁部の1箇所に、銀ペーストを用いて導線を固着し、さらに導線を放熱部材(ニクロム、体積抵抗値1.5×10−6Ωm)に接続し、熱アース処理を行った。なお、固着箇所の面積は2mm2とした。
The surface resistance of the heat conductive layer of the obtained optical film A was 51 Ω / □ as measured by a four-terminal method using “Loresta-EP MCP-T360” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
In addition, a conductive wire is fixed to one portion of the peripheral portion of the surface of the heat conductive layer using a silver paste, and further, the conductive wire is connected to a heat dissipating member (Nichrome, volume resistance value 1.5 × 10 −6 Ωm), and a thermal ground is connected. Processing was performed. The area of the fixed portion was 2 mm 2 .
(3)表示装置の作製
市販のRGB塗り分け方式の有機EL表示装置(商品名:XEL−1、ソニー社製)に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムAおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
(3) Production of display device The original optical sheet and the glass plate that had been bonded to a commercially available organic EL display device of a separately applied RGB type (trade name: XEL-1, manufactured by Sony Corporation) were peeled off, and instead, Then, the optical film A and the glass plate obtained above were assembled, and each member was sandwiched to produce a display device.
得られた表示装置の表示画面に静止画像を12時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムAの変形を原因とする明るさ及び色味の不均一な箇所はなく、また、反射像の屈曲違和感がなく、視認性は良好であった。 The display screen after the still image was displayed on the display screen of the obtained display device for 12 hours was visually observed. As a result, there was no unevenness in brightness and color due to the deformation of the optical film A in the display screen, and there was no bending discomfort in the reflected image, and the visibility was good.
[比較例A1]
(1)光学フィルムの作製
透明基材として、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:100μm、面積:552mm×959mm)を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度10m/minにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を90℃で60秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚5μmのハードコート(HC)層を有する光学フィルムを得た。
[Comparative Example A1]
(1) Preparation of Optical Film A biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 100 μm, area: 552 mm × 959 mm) was prepared as a transparent substrate. On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a hard coat layer shown below was applied at an application speed of 10 m / min to form a coating film. The coating was dried at 90 ° C. for 60 seconds to remove the solvent. Next, the coating film is irradiated with ultraviolet light at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film and obtain an optical film having a hard coat (HC) layer having a thickness of 5 μm after curing. Was.
(ハードコート層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):46質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):4質量部
・メチルエチルケトン:50質量部
(Composition for forming hard coat layer)
The following components were mixed to prepare a composition for forming a hard coat layer.
-Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30): 46 parts by mass-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184): 4 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 50 parts by mass
(2)表示装置の作製
市販のRGB塗り分け方式の有機EL表示装置(商品名:XEL−1、ソニー社製)に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
(2) Manufacture of display device The original optical sheet and the glass plate, which were bonded to a commercially available organic EL display device of a separate RGB coating method (trade name: XEL-1, manufactured by Sony Corporation), were peeled off. Then, the optical film and the glass plate obtained above were assembled, and each member was sandwiched to produce a display device.
得られた表示装置の表示画面に静止画像を12時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムの変形を原因とする明るさ及び色味が不均一な箇所があり、また、反射像の屈曲違和感が確認された。 The display screen after the still image was displayed on the display screen of the obtained display device for 12 hours was visually observed. As a result, there was a portion in the display screen where the brightness and color were uneven due to the deformation of the optical film, and the reflection image was found to have a strange feeling of bending.
[比較例A2]
(1)光学フィルムの作製
(1−1)ハードコート層の形成
透明基材として、2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚み:100μm、面積:552mm×959mm)を用意した。該透明基材の一方の面上に、下記に示すハードコート層形成用組成物を、塗布速度10m/minにて塗布し、塗膜を形成した。その塗膜を90℃で60秒間乾燥し、溶剤を除去した。次いで、その塗膜に紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cm2で紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、硬化後膜厚5μmのハードコート(HC)層を有する光学フィルムを得た。
[Comparative Example A2]
(1) Production of Optical Film (1-1) Formation of Hard Coat Layer As a transparent substrate, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (thickness: 100 μm, area: 552 mm × 959 mm) was prepared. On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a hard coat layer shown below was applied at an application speed of 10 m / min to form a coating film. The coating was dried at 90 ° C. for 60 seconds to remove the solvent. Next, the coating film is irradiated with ultraviolet light at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film and obtain an optical film having a hard coat (HC) layer having a thickness of 5 μm after curing. Was.
(ハードコート層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、ハードコート層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):46質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):4質量部
・メチルエチルケトン:50質量部
(Composition for forming hard coat layer)
The following components were mixed to prepare a composition for forming a hard coat layer.
-Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30): 46 parts by mass-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184): 4 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 50 parts by mass
(1−2)透明導電層の形成
次に、5体積%の酸素ガスを混合したアルゴンを導入しながら、ITOターゲット[インジウム:スズ=90:10(質量比)]を用い、圧力0.15Pa、周波数100kHz、電力密度0.64w/cm2、反転パルス幅1μ秒の条件で、パルススパッタリングを行い、上記透明基材のハードコート層を形成した面とは反対側の面上に、厚さ5nmのITO膜を形成し、光学フィルムを得た。
(1-2) Formation of Transparent Conductive Layer Next, while introducing argon mixed with 5% by volume of oxygen gas, a pressure of 0.15 Pa was used using an ITO target [indium: tin = 90: 10 (mass ratio)]. Under the conditions of a frequency of 100 kHz, a power density of 0.64 w / cm 2 , and a reversal pulse width of 1 μsec, pulse sputtering is performed, and the thickness of the transparent substrate on the surface opposite to the surface on which the hard coat layer is formed is formed. An optical film was obtained by forming a 5 nm ITO film.
(2)表示装置の作製
市販のRGB塗り分け方式の有機EL表示装置(商品名:XEL−1、ソニー社製)に貼り合わされていた、もとの光学シートとガラス板とを剥がし、代わりに、上記で得られた光学フィルムおよびガラス板を組み込んで各部材を挟持し、表示装置を作製した。
(2) Manufacture of display device The original optical sheet and the glass plate, which were bonded to a commercially available organic EL display device of a separate RGB coating method (trade name: XEL-1, manufactured by Sony Corporation), were peeled off. Then, the optical film and the glass plate obtained above were assembled, and each member was sandwiched to produce a display device.
得られた表示装置の表示画面に静止画像を12時間表示させた後の表示画面について、目視により観察した。その結果、表示画面内に、光学フィルムの変形を原因とする明るさ及び色味が不均一な箇所があり、また、反射像の屈曲違和感が確認された。 The display screen after the still image was displayed on the display screen of the obtained display device for 12 hours was visually observed. As a result, there was a portion in the display screen where the brightness and color were uneven due to the deformation of the optical film, and the reflection image was found to have a strange feeling of bending.
(結果のまとめ)
熱伝導層を有する光学フィルムAを有し、かつ該光学フィルムAの熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材を有する実施例A1及びA2では、長時間静止画像を表示した後の視認性に優れたものであった。また、透明基材として、リタデーション値が3000nm以上の2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用いた場合には、どのような角度でも視認性が良好であり、偏光サングラス対応ができていた。
(Summary of results)
In Examples A1 and A2 having the optical film A having the heat conductive layer and having the heat radiating member thermally grounded from the periphery of the heat conductive layer of the optical film A, the visual recognition after displaying the still image for a long time was performed. It had excellent properties. When a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film having a retardation value of 3000 nm or more was used as the transparent substrate, the visibility was good at any angle, and the lens was compatible with polarized sunglasses.
<実施形態B>
(I)光学フィルムの作製
[実施例B1]
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム(厚み:80μm、面積:225mm×150mm)を用意した。
該透明基材の一方の面上に、実施例A2と同様にして、銀ナノワイヤ含有組成物を塗布し、トリアセチルセルロースフィルム上に銀ナノワイヤを付着させた後、さらにカバー樹脂用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚100nmのカバー樹脂を形成した。
以上のようにして、透明基材上に放射熱反射層(銀ナノワイヤ層)を有してなる、実施例B1で用いる光学フィルムBを得た。
<Embodiment B>
(I) Preparation of optical film [Example B1]
A triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm, area: 225 mm × 150 mm) was prepared as a transparent substrate.
On one surface of the transparent substrate, a silver nanowire-containing composition was applied in the same manner as in Example A2, and after attaching the silver nanowires on a triacetyl cellulose film, a cover resin composition was further applied. After drying and curing, a cover resin having a thickness of 100 nm was formed.
As described above, the optical film B used in Example B1 having the radiant heat reflection layer (silver nanowire layer) on the transparent substrate was obtained.
[実施例B2]
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム(厚み:80μm、面積:225mm×150mm)を用意した。
該透明基材の一方の面上に、下記処方の放射熱反射層形成用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚700nmのITO粒子を含む放射熱反射層を形成した。
以上のようにして、透明基材上に放射熱反射層(ITO粒子含有層)を有してなる、実施例B2で用いる光学フィルムBを得た。
[Example B2]
A triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm, area: 225 mm × 150 mm) was prepared as a transparent substrate.
On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a radiation heat reflection layer having the following formulation was applied, dried and cured to form a radiation heat reflection layer containing 700-nm-thick ITO particles.
As described above, the optical film B used in Example B2, having the radiant heat reflection layer (the layer containing the ITO particles) on the transparent substrate, was obtained.
(放射熱反射層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、放射熱反射層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):2質量部
・ITO粒子(平均粒子径30nm):10質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):2質量部
・メチルイソブチルケトン:88質量部
(Composition for forming radiation heat reflection layer)
The following components were mixed to prepare a radiation heat reflecting layer forming composition.
-Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30): 2 parts by mass-ITO particles (average particle size: 30 nm): 10 parts by mass-Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) Irgacure 184): 2 parts by mass / methyl isobutyl ketone: 88 parts by mass
[比較例B1]
比較例B1で用いる光学フィルムとして、トリアセチルセルロースフィルム(厚み:80μm、面積:225mm×150mm)を準備した。
[Comparative Example B1]
As an optical film used in Comparative Example B1, a triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm, area: 225 mm × 150 mm) was prepared.
[比較例B2]
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム(厚み:80μm、面積:225mm×150mm)を用意した。
該透明基材の一方の面上に、下記処方の熱伝導層形成用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚700nmの窒化アルミ粒子を含む熱伝導層を形成した。
以上のようにして、透明基材上に熱伝導層(窒化アルミ粒子含有層)を有してなる、比較例B2で用いる光学フィルムを得た。
[Comparative Example B2]
A triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm, area: 225 mm × 150 mm) was prepared as a transparent substrate.
On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a heat conductive layer having the following formulation was applied, dried and cured to form a heat conductive layer containing aluminum nitride particles having a thickness of 700 nm.
As described above, an optical film used in Comparative Example B2, having a heat conductive layer (a layer containing aluminum nitride particles) on a transparent substrate, was obtained.
(比較例B2の熱伝導層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、熱伝導層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):2質量部
・窒化アルミ粒子(平均粒子径1.5μm):10質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):2質量部
・メチルイソブチルケトン:88質量部
(The composition for forming a heat conductive layer of Comparative Example B2)
The following components were mixed to prepare a composition for forming a heat conductive layer.
-Pentaerythritol triacrylate (KAYARAD PET-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.): 2 parts by mass-Aluminum nitride particles (average particle size: 1.5 m): 10 parts by mass-Photopolymerization initiator (Ciba Japan Co., Ltd.) ), Irgacure 184): 2 parts by mass, methyl isobutyl ketone: 88 parts by mass
[比較例B3]
透明基材として、トリアセチルセルロースフィルム(厚み:80μm、面積:225mm×150mm)を用意した。
該透明基材の一方の面上に、下記処方の熱伝導層形成用組成物を塗布、乾燥及び硬化して、膜厚150nmの窒化ホウ素粒子を含む熱伝導層を形成した。
以上のようにして、透明基材上に熱伝導層(窒化ホウ素粒子含有層)を有してなる、比較例B3で用いる光学フィルムを得た。
[Comparative Example B3]
A triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm, area: 225 mm × 150 mm) was prepared as a transparent substrate.
On one surface of the transparent substrate, a composition for forming a heat conductive layer having the following formulation was applied, dried and cured to form a heat conductive layer containing 150 nm-thick boron nitride particles.
As described above, an optical film used in Comparative Example B3, having a heat conductive layer (a layer containing boron nitride particles) on a transparent substrate, was obtained.
(比較例B3の熱伝導層形成用組成物)
以下の各成分を混合して、熱伝導層形成用組成物を調製した。
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(日本化薬(株)製、KAYARAD PET−30):2質量部
・窒化ホウ素粒子(平均粒子径200nm):10質量部
・光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製、イルガキュア184):2質量部
・メチルエチルケトン:88質量部
(Composition for forming a heat conductive layer of Comparative Example B3)
The following components were mixed to prepare a composition for forming a heat conductive layer.
-Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD PET-30): 2 parts by mass-Boron nitride particles (average particle size 200 nm): 10 parts by mass-Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.) , Irgacure 184): 2 parts by mass. Methyl ethyl ketone: 88 parts by mass.
(II)表示装置の作製
市販の液晶表示装置(amazon社製、商品名Kindle Fire HDX)上に、実施例B1の光学フィルムの透明基材側が表示装置側を向くようにして配置し、実施例B1の液晶表示装置を得た。
同様に、市販の液晶表示装置(amazon社製、商品名Kindle Fire HDX)上に、実施例B2及び比較例B1〜B3用の光学フィルムの光学フィルムの透明基材側が表示装置側を向くようにして配置し、実施例B2及び比較例B1〜B3の液晶表示装置を得た。
(II) Preparation of Display Device The optical film of Example B1 was placed on a commercially available liquid crystal display device (manufactured by Amazon, Inc., trade name: Kindle Fire HDX) so that the transparent substrate side of the optical film of Example B1 was facing the display device side. A liquid crystal display device of B1 was obtained.
Similarly, the transparent substrate side of the optical film of the optical film for Example B2 and Comparative Examples B1 to B3 is directed to the display device side on a commercially available liquid crystal display device (manufactured by Amazon, Inc., trade name: Kindle Fire HDX). The liquid crystal display devices of Example B2 and Comparative Examples B1 to B3 were obtained.
(III)熱耐久試験
夏場の自動車の車内を想定し、下記の熱耐久試験を行った。
<温度>
上記(II)で作製した、実施例B1〜B2及び比較例B1〜B3の液晶表示装置を80℃のオーブンに入れ、10分経過した後に、IRカメラ(フリアーシステムズ社製、商品名FLIR E4)で表面側から温度を測定した(光学フィルムとIRカメラとの距離は30cm)。光学フィルム上の最高温度を表1に示す。最高温度70℃以下が合格レベルである。
<視認性>
上記(II)で作製した、実施例B1〜B2及び比較例B1〜B3の液晶表示装置を80℃のオーブンに入れ、10分経過した後に取り出した。取り出した直後に液晶表示装置の画面(緑一色の画面)を表示し、表示画面内に、光学フィルムの変形を原因とする明るさ及び色味が不均一な箇所があるか否かを目視で評価した。その結果、明るさ及び色味が不均一な箇所がないものを「A」、明るさ及び色味が不均一な箇所があるものを「C」とした。
(III) Heat Endurance Test The following heat endurance test was performed assuming the inside of a car in summer.
<Temperature>
The liquid crystal display devices of Examples B1 to B2 and Comparative Examples B1 to B3 prepared in the above (II) were placed in an oven at 80 ° C., and after 10 minutes had passed, an IR camera (FLIR E4, manufactured by FLIR Systems Co., Ltd.) was used. ), The temperature was measured from the surface side (the distance between the optical film and the IR camera was 30 cm). Table 1 shows the maximum temperatures on the optical film. A maximum temperature of 70 ° C. or less is a pass level.
<Visibility>
The liquid crystal display devices of Examples B1 and B2 and Comparative Examples B1 and B3 prepared in the above (II) were placed in an oven at 80 ° C., and were taken out after elapse of 10 minutes. Immediately after being taken out, the screen of the liquid crystal display device (a screen of solid green color) is displayed, and it is visually determined whether or not there is any unevenness in brightness and color due to deformation of the optical film in the display screen. evaluated. As a result, "A" was assigned when there was no portion with uneven brightness and color, and "C" was assigned when there was a portion with uneven brightness and color.
(IV)全光線透過率
上記(I)で作製した、実施例B1〜B2及び比較例B1〜B3用の光学フィルムの全光線透過率を測定した。測定装置はヘイズメーター(HM−150、村上色彩技術研究所製)を用い、光入射面は透明基材側とした。
(IV) Total light transmittance The total light transmittance of the optical films for Examples B1 and B2 and Comparative Examples B1 and B3 prepared in the above (I) was measured. The measuring device used was a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory), and the light incident surface was on the transparent substrate side.
表1の結果から、実施例B1及びB2の表示装置は、熱耐久試験において光学フィルムの温度上昇を抑制し、光学フィルムの変形による視認性の低下を抑制し得ることが確認できる。 From the results in Table 1, it can be confirmed that the display devices of Examples B1 and B2 can suppress the temperature rise of the optical film in the heat durability test, and can suppress the decrease in visibility due to the deformation of the optical film.
本発明の表示装置は、例えば、パソコンモニター,ノートパソコン,コピー機などのOA機器、携帯電話,時計,携帯情報端末(PDA)などの携帯機器、ビデオカメラ,テレビ,電子レンジなどの家庭用電気機器、バックモニター,カーナビゲーションシステム用モニター,カーオーディオなどの車載用機器等として好適に使用される。 The display device of the present invention includes, for example, OA equipment such as a personal computer monitor, a notebook personal computer, and a copy machine, portable equipment such as a mobile phone, a clock, and a personal digital assistant (PDA), and home electric appliances such as a video camera, a television, and a microwave. It is suitably used as a device, a back monitor, a monitor for a car navigation system, a car audio device, or the like.
1:表示装置
10:表示素子
11:透明基材
12:熱伝導層
121:透明熱伝導領域
122:接地用領域
13:光学フィルムA
14:周縁部
15:導線
16:放熱部材
17:放射熱反射層
18:機能層
19:光学フィルムB
20:その他の光学フィルム
1: display device 10: display element 11: transparent base material 12: heat conductive layer 121: transparent heat conductive area 122: grounding area 13: optical film A
14: peripheral portion 15: conducting wire 16: heat dissipating member 17: radiation heat reflecting layer 18: functional layer 19: optical film B
20: Other optical films
Claims (11)
前記表示素子の出光面側に配置されてなる、熱伝導層を含む光学フィルムと、
前記熱伝導層の周縁部から熱アースされた放熱部材と、
を有する表示装置。 A display element;
An optical film including a heat conductive layer, which is arranged on the light emitting surface side of the display element,
A heat dissipating member thermally grounded from a peripheral portion of the heat conductive layer,
A display device having:
前記表示素子の出光面側に配置されてなる、放射熱反射層を含む光学フィルムと、
を有する表示装置。 A display element;
An optical film including a radiant heat reflection layer, which is arranged on the light exit surface side of the display element,
A display device having:
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