JP2020040221A - Laminate - Google Patents

Laminate Download PDF

Info

Publication number
JP2020040221A
JP2020040221A JP2018166787A JP2018166787A JP2020040221A JP 2020040221 A JP2020040221 A JP 2020040221A JP 2018166787 A JP2018166787 A JP 2018166787A JP 2018166787 A JP2018166787 A JP 2018166787A JP 2020040221 A JP2020040221 A JP 2020040221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
layer
film
thickness
laminate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018166787A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP7293590B2 (en
Inventor
美季 福上
Yoshisue Fukugami
美季 福上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2018166787A priority Critical patent/JP7293590B2/en
Publication of JP2020040221A publication Critical patent/JP2020040221A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7293590B2 publication Critical patent/JP7293590B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Wrappers (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

To provide a laminate for a barrier film excellent in design having a mat layer not taken by fusion bonding applied to a seal bar or the like even when heat seal processing is performed to form a packaging bag.SOLUTION: A laminate 1 comprises a film base material 10 having a first resin layer 11 and a second resin layer 12. The first resin layer 11 contains a matting agent, the second resin layer 12 does not contain a matting agent, and an inorganic oxide vapor deposition layer 14 having a thickness of 5 to 100 nm is laminated on the surface of the film base material 1 on the second resin layer 12 side.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、意匠性を付与したバリアフィルム用の積層体に関する。   The present invention relates to a laminate for a barrier film having a design property.

従来から外観を美しく見せる、あるいは独創性を持たせるといった包装材料に意匠性を付与する目的で、包装材料の表面にマット層を塗工することが一般的に行われている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a mat layer is generally applied to the surface of a packaging material for the purpose of imparting a design property to a packaging material such as giving a beautiful appearance or originality.

この時、マット層はインキ樹脂にマット剤を混合したマットインキを包装材料の最外面に塗工する方法で形成される。   At this time, the mat layer is formed by applying a mat ink obtained by mixing a mat agent with an ink resin on the outermost surface of the packaging material.

例えば、特許文献1では、プラスチックフィルムを表面基材とし、その表面の一部又は全面にマットコート層を有することが記されており、更にマットコート層が塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂/アクリルポリオール混合樹脂からなることが記されている。   For example, Patent Document 1 describes that a plastic film is used as a surface substrate, and that a mat coat layer is provided on a part or the entire surface of the plastic film. Further, the mat coat layer is formed of a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer resin / acrylic resin. It is stated that it is composed of a polyol-mixed resin.

実開平4−102840号公報JP-A-4-102840

しかしながら、上記のように包装材料の最外面にマット層を形成した場合には、その後に包装袋を形成するにあたってヒートシール加工を施す際に、加熱するためのシールバーにマット層が熱融着して取られてしまうことで、頻繁な清掃が必要となる場合や、取られたマット層が異物として内容物などに混入する恐れがあるなどの問題点があった。   However, when a mat layer is formed on the outermost surface of the packaging material as described above, the mat layer is heat-sealed to a seal bar for heating when heat sealing is performed in forming a packaging bag thereafter. However, there is a problem that frequent cleaning is required or that the removed mat layer may be mixed into the contents as foreign matter.

本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであって、本発明の課題とするところは、ヒートシール加工をする場合でも、シールバーに融着するなどして取られる事の無いマット層を有する意匠性に優れたバリアフィルム用の積層体を提供しようとするものである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a mat layer which is not removed by being fused to a seal bar even when performing heat sealing. An object of the present invention is to provide a laminate for a barrier film having excellent design properties.

本発明はこれらの課題を解決すべくなされたものである。
すなわち、請求項1に係る発明は、第1の樹脂層と第2の樹脂層とを備えたフィルム基材を含む積層体であって、前記第1の樹脂層がマット剤を含み、前記第2の樹脂層がマット剤を含まず、前記フィルム基材の前記第2の樹脂層側の面上に、厚さ5〜100nmの無機酸化物蒸着層を積層したことを特徴とする積層体である。
The present invention has been made to solve these problems.
That is, the invention according to claim 1 is a laminate including a film base having a first resin layer and a second resin layer, wherein the first resin layer includes a matting agent, 2 is a laminate, wherein the resin layer does not contain a matting agent, and an inorganic oxide vapor-deposited layer having a thickness of 5 to 100 nm is laminated on the surface of the film substrate on the side of the second resin layer. is there.

請求項2に係る発明は、前記第2の樹脂層の表面が、白色干渉計測法にて測定した際に、算術平均粗さRaが250nm以下、最大高さRyが2μm以下となることを特徴とする請求項1に記載の積層体である。   The invention according to claim 2 is characterized in that the surface of the second resin layer has an arithmetic average roughness Ra of 250 nm or less and a maximum height Ry of 2 μm or less when measured by a white light interference measurement method. The laminate according to claim 1, wherein

請求項3に係る発明は、前記無機酸化物蒸着層上に、水溶性高分子と、金属アルコキシド、その加水分解物、またはそれらの重合物の内、少なくとも1種類以上と、を成分に有する複合被膜層を形成したことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の積層体である。   The invention according to claim 3 is a composite comprising, as components, a water-soluble polymer and at least one or more of a metal alkoxide, a hydrolyzate thereof, and a polymer thereof on the inorganic oxide vapor deposition layer. The laminate according to claim 1 or 2, wherein a coating layer is formed.

請求項4に係る発明は、前記第1の樹脂層の膜厚が、7μm以上であり、かつ、前記フィルム基材の総厚の4/5(80%)以下の膜厚であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の積層体である。   The invention according to claim 4 is characterized in that the thickness of the first resin layer is not less than 7 μm and not more than 4/5 (80%) of the total thickness of the film substrate. The laminate according to any one of claims 1 to 3.

本発明の積層体をバリアフィルムとして使用することで、包装袋への製袋時に第1の樹脂層からなるマット層がシールバーへ取られる心配がなく、包装材料に意匠性を付与することが可能である。   By using the laminate of the present invention as a barrier film, there is no fear that the mat layer composed of the first resin layer is taken off by the seal bar during bag making into a packaging bag, and it is possible to impart a design property to the packaging material. It is possible.

本発明の積層体の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the laminated body of this invention.

以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。以下の説明において適宜図面を参照するが、図面に記載された態様は本発明の例示であり、本発明はこれらの図面に記載された態様に制限されない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In the following description, reference is made to the drawings as appropriate, but the embodiments described in the drawings are exemplifications of the present invention, and the present invention is not limited to the embodiments described in these drawings.

図1は、本発明の積層体の構成例を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of the laminate of the present invention.

図1に示すように、本発明の実施の形態に係る積層体(1)に用いられるフィルム基材(10)は、一方の面にマット剤(13)を添加した第1の樹脂層(11)を設け、反対の面にマット剤を添加していない第2の樹脂層(12)を設けた多層の構成となっている。   As shown in FIG. 1, a film substrate (10) used for a laminate (1) according to an embodiment of the present invention includes a first resin layer (11) having a matting agent (13) added to one surface. ) And a second resin layer (12) to which no matting agent is added is provided on the opposite surface.

更に、第2の樹脂層(12)上には、無機酸化物蒸着層(14)ならびに複合被膜層(15)が設けられている例が示されている。   Further, an example is shown in which an inorganic oxide deposition layer (14) and a composite coating layer (15) are provided on the second resin layer (12).

ここで、第1の樹脂層(11)と第2の樹脂層(12)との間には、更に別の層を設けても何ら問題ない。   Here, there is no problem even if another layer is provided between the first resin layer (11) and the second resin layer (12).

別の層としては、例えば、印刷層、接着層、中間層、印字層などを例示することができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of other layers include, but are not limited to, a printing layer, an adhesive layer, an intermediate layer, a printing layer, and the like.

フィルム基材(10)に用いられる材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)などのポリエステフィルム、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等が挙げられる。さらに、ポリ塩化ビニル、セルロース、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリウレタン類等が挙げられる。   Examples of the material used for the film substrate (10) include a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and polybutylene terephthalate (PBT); a polyolefin film such as polyethylene and polypropylene; a polystyrene film; Examples thereof include a polyamide film, a polycarbonate film, a polyacrylonitrile film, and a polyimide film. Further, polyvinyl chloride, cellulose, triacetyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyurethanes and the like can be mentioned.

また、以上の材料の少なくとも一種類以上を成分に持つ、あるいは共重合成分に持つ、あるいはそれらの化学修飾体を成分に持つ材料も挙げられる。これらの中で、特に第1の樹脂層(11)に用いる材料としては、耐熱性を有し、シールバーによる加熱によっても張り付きや取られの発生しないものが望ましく、二軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムやポリアミドフィルムが好ましく用いられる。   Further, a material having at least one of the above materials as a component, a copolymer component, or a chemically modified product thereof as a component is also exemplified. Among these, the material used for the first resin layer (11) is preferably a material having heat resistance and not sticking or being detached even by heating with a seal bar. A polyethylene terephthalate film or a polyamide film is preferably used.

フィルム基材(10)の各層の材料は、包装材料としての適性を考慮して異なる性質のものを使用することができるが、フィルム製膜や後加工のしやすさなどを考慮すると、同一の材料を使用するほうが好ましい。   As the material of each layer of the film substrate (10), materials having different properties can be used in consideration of suitability as a packaging material, but in consideration of easiness of film formation and post-processing, the same material is used. It is preferable to use a material.

また、フィルム基材(10)の各層中には周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防
止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤などを適宜添加してもよい。
In addition, various well-known additives and stabilizers, for example, an antistatic agent, an ultraviolet inhibitor, a plasticizer, a lubricant, and the like may be appropriately added to each layer of the film substrate (10).

フィルム基材(10)の全体の厚さは、とくに制限を受けるものではないが、無機酸化物蒸着層、複合皮膜層などを形成する場合の加工性を考慮すると、実用的には3〜200μmの範囲が好ましく、特に6〜30μmとすることが好ましい。   The overall thickness of the film substrate (10) is not particularly limited, but is practically 3 to 200 μm in consideration of workability when forming an inorganic oxide vapor-deposited layer, a composite coating layer, and the like. Is particularly preferable, and particularly preferably 6 to 30 μm.

フィルム基材(10)を構成するマット剤(13)を添加した第1の樹脂層(11)について説明する。   The first resin layer (11) to which the matting agent (13) constituting the film substrate (10) is added will be described.

第1の樹脂層(11)はバリアフィルム用の積層体(1)に意匠性を付与するために設けられ、上述のようなフィルム基材(10)を形成する樹脂材料中にマット剤(13)を添加した構成である。   The first resin layer (11) is provided to impart a design property to the laminate (1) for a barrier film, and the matting agent (13) is contained in the resin material forming the film substrate (10) as described above. ) Is added.

マット剤(13)は、樹脂材料表面に凹凸を形成することにより、マット感を生じさせるための粒子である。   The matting agent (13) is a particle for generating a matte feeling by forming irregularities on the surface of the resin material.

添加されるマット剤(13)としては、無機微粒子もしくは有機微粒子を例示することができる。無機微粒子としては、例えばシリカ、炭酸カルシウム、合成マイカ、酸化チタンなど、有機微粒子としては、例えばポリエチレン微粒子、アクリル微粒子、ウレタン微粒子などが挙げられる。   As the matting agent (13) to be added, inorganic fine particles or organic fine particles can be exemplified. Examples of the inorganic fine particles include silica, calcium carbonate, synthetic mica, and titanium oxide. Examples of the organic fine particles include polyethylene fine particles, acrylic fine particles, and urethane fine particles.

樹脂材料への練りこみ易さ等を考慮すると無機微粒子が好ましく、またシリカが最も一般的に使用される。   Considering the ease of kneading into the resin material, inorganic fine particles are preferred, and silica is most commonly used.

マット剤(13)の添加量は特に制限はなく、必要に応じて適宜決めてよいが、少なすぎるとマットの質感が出ずに意匠性を付与できず、多すぎるとフィルム製膜時にフィルム割れ等が起きて均一なフィルムを作製することができない。このため、一般的にはプラスチック材料100重量部に対して5重量部以上30重量部以下の範囲で添加するとよい。   The amount of the matting agent (13) is not particularly limited and may be appropriately determined as necessary. However, if the amount is too small, the texture of the mat does not appear and the design cannot be imparted. If the amount is too large, the film breaks during film formation. And so on, making it impossible to produce a uniform film. For this reason, generally, it is preferable to add 5 to 30 parts by weight to 100 parts by weight of the plastic material.

マット剤(13)の微粒子の大きさも適宜決めてよいが、小さすぎるとマットの効果が得られにくく、また大きすぎるとフィルム製膜が困難であるため、フィルムの厚みよりも小さい粒径にする必要がある。そこで、微粒子の平均粒径は2μm以上20μm以下とすることが好ましい。   The size of the fine particles of the matting agent (13) may be appropriately determined, but if it is too small, it is difficult to obtain the effect of the mat, and if it is too large, it is difficult to form a film, so that the particle size is smaller than the thickness of the film. There is a need. Therefore, it is preferable that the average particle size of the fine particles be 2 μm or more and 20 μm or less.

このような第1の樹脂層(11)の上には、各種コーティング層や印刷層などを設けていてもよい。   Various coating layers and printing layers may be provided on such a first resin layer (11).

次にフィルム基材(10)の第1の樹脂層(11)と反対側の面に設けるマット剤を添加していない第2の樹脂層(12)について説明する。第2の樹脂層(12)はマット剤を添加していない層であり、後述する無機酸化物蒸着層(14)を形成する面を構成する層である。   Next, the second resin layer (12) provided on the surface of the film substrate (10) opposite to the first resin layer (11) and having no added matting agent will be described. The second resin layer (12) is a layer to which a matting agent is not added, and is a layer constituting a surface on which an inorganic oxide vapor-deposited layer (14) described later is formed.

一般に、無機酸化物蒸着層(14)は薄膜で割れやすいため、マット剤(13)を含む第1の樹脂層(11)に直接積層した場合、表面の凹凸が大きすぎるため、無機酸化物蒸着層(14)の割れが発生して、十分なバリア性が発現しないという問題点がある。そこで、無機酸化物蒸着層(14)を形成する面にはマット剤(13)を添加していない第2の樹脂層(12)を形成して表面を平滑にする必要がある。   In general, since the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) is thin and easily cracked, when directly laminated on the first resin layer (11) containing the matting agent (13), the unevenness of the surface is too large. There is a problem that the layer (14) is cracked and sufficient barrier properties are not developed. Therefore, it is necessary to form a second resin layer (12) to which the matting agent (13) is not added on the surface on which the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) is to be formed to smooth the surface.

すなわち、本発明の第2の樹脂層(12)の表面を白色干渉計測法にて測定した時に、その表面の算術平均粗さRaが250nm以下、最大高さRyが2μm以下となることが
必要である。
That is, when the surface of the second resin layer (12) of the present invention is measured by the white light interference measurement method, it is necessary that the arithmetic average roughness Ra of the surface is 250 nm or less and the maximum height Ry is 2 μm or less. It is.

Raが250nmより大きく、またRyが2μmより大きくなると、表面が粗くなるために、その上に無機酸化物蒸着層(14)を形成すると蒸着層に割れが入りバリア性が低下する原因となる。   If Ra is larger than 250 nm and Ry is larger than 2 μm, the surface becomes rough. Therefore, when the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) is formed thereon, the vapor-deposited layer is cracked and causes a decrease in barrier properties.

RaおよびRyは上記の値より小さくなれば問題ないが、小さすぎるとフィルムの滑り性が悪くなるため、ロール加工時にフィルムに傷が入ったりフィルムが切れたりする原因となる。   If Ra and Ry are smaller than the above values, there is no problem. However, if they are too small, the slipperiness of the film deteriorates, so that the film may be scratched or cut during roll processing.

そのため、Raは8nm以上250nm以下、Ryは50nm以上2μm以下の表面状態にすることが好ましい。このような表面状態にするために、第2の樹脂層(12)には滑剤あるいはアンチブロッキング剤を適宜添加することができる。   Therefore, it is preferable that Ra has a surface state of 8 nm or more and 250 nm or less and Ry has a surface state of 50 nm or more and 2 μm or less. In order to obtain such a surface state, a lubricant or an anti-blocking agent can be appropriately added to the second resin layer (12).

第2の樹脂層(12)の表面が、第1の樹脂層(11)の表面の凹凸の影響を受けにくくするため、各層の厚みを一定の割合の範囲に設定することが好ましく、各層の厚みの割合は、第2の樹脂層(12)の厚み1に対して第1の樹脂層(11)の厚みが4以下、あるいはフィルム基材(10)が、3層以上の多層とした場合を考慮すると、フィルム基材(10)の総厚に対して、第1の樹脂層(11)の厚みが4/5(80%)以下とすることが好ましい。   In order to make the surface of the second resin layer (12) less susceptible to irregularities on the surface of the first resin layer (11), it is preferable to set the thickness of each layer within a certain ratio range. The ratio of the thickness is when the thickness of the first resin layer (11) is 4 or less with respect to the thickness 1 of the second resin layer (12), or when the film substrate (10) is a multilayer having three or more layers. In consideration of the above, it is preferable that the thickness of the first resin layer (11) is 4/5 (80%) or less with respect to the total thickness of the film substrate (10).

フィルム基材(10)の総厚に対する第1の樹脂層(11)の厚みが4/5より大きいと、第1の樹脂層(11)表面の凹凸の影響が第2の樹脂層(12)表面に出てしまい、目的の表面粗さを得ることが困難である。また、加工性を考慮すると第1の樹脂層(11)の厚みは7μm以上とすることが好ましい。   When the thickness of the first resin layer (11) is more than 4/5 with respect to the total thickness of the film substrate (10), the influence of the unevenness on the surface of the first resin layer (11) causes the second resin layer (12). It appears on the surface, and it is difficult to obtain the desired surface roughness. In consideration of workability, the thickness of the first resin layer (11) is preferably 7 μm or more.

次に、無機酸化物蒸着層(14)について、詳しく説明する。無機酸化物蒸着層(14)は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、あるいはそれらの混合物などの無機酸化物の蒸着膜からなり、透明性を有し、かつ酸素や水蒸気等に対するガスバリア性を有する層であればよい。   Next, the inorganic oxide deposited layer (14) will be described in detail. The inorganic oxide deposited layer (14) is made of a deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, has transparency, and is a gas barrier against oxygen, water vapor, and the like. Any layer having properties may be used.

本発明の積層体を用いて製袋した後、内容物のための各種殺菌処理に対する耐久性を考慮すると、これらの中では、特に酸化アルミニウムや酸化珪素を用いることがより好ましい。但し、本発明の無機酸化物蒸着層(14)は、上述した無機酸化物に限定されず、上記条件に適合する材料であれば、いずれも用いることが可能である。   In consideration of durability against various sterilization treatments for the contents after the bag is formed using the laminate of the present invention, among these, aluminum oxide and silicon oxide are particularly preferable. However, the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) of the present invention is not limited to the above-described inorganic oxide, and any material can be used as long as it meets the above conditions.

無機酸化物蒸着層(14)の膜厚は、用いられる無機化合物の種類・構成により最適条件が異なるが、5〜100nmの範囲内が望ましく、その値は適宜選定される。   The optimum thickness of the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) varies depending on the type and composition of the inorganic compound used, but is preferably in the range of 5 to 100 nm, and the value is appropriately selected.

膜厚が5nm未満であると、均一な膜が得られない場合や、膜厚が十分でないためにガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合がある。また、膜厚が100nmを超える場合には、無機酸化物蒸着膜(14)にフレキシビリティを保持させることができず、膜形成後の折り曲げや引っ張りなどの外的要因により、無機酸化物蒸着膜(14)に亀裂を生じるおそれがあるので問題となる。このため、より好ましくは、10〜100nmの範囲内にあることである。   If the thickness is less than 5 nm, a uniform film may not be obtained, or the function as a gas barrier material may not be sufficiently achieved due to insufficient thickness. On the other hand, if the thickness exceeds 100 nm, the inorganic oxide vapor deposited film (14) cannot maintain flexibility, and the inorganic oxide vapor deposited film may be bent or stretched after the film is formed due to external factors. This is a problem because cracks may occur in (14). For this reason, more preferably, it is in the range of 10 to 100 nm.

無機酸化物蒸着層(14)をフィルム基材(10)の第2の樹脂層(12)上に形成する方法としては、従来公知の方法をいずれも用いることができ、例えば、通常の真空蒸着法などにより、形成することができる。   As a method for forming the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) on the second resin layer (12) of the film substrate (10), any conventionally known method can be used. It can be formed by a method or the like.

また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)などを用いることも可能である。但し、生産性を考慮すれば、現時点では、真空蒸着法が最も優れている。   Further, other thin film forming methods such as a sputtering method, an ion plating method, and a plasma vapor deposition method (CVD) can be used. However, in consideration of productivity, the vacuum deposition method is currently the most excellent.

真空蒸着法の加熱手段としては、電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましいが、蒸発材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式を用いることがより好ましい。   As a heating means of the vacuum evaporation method, it is preferable to use any one of an electron beam heating method, a resistance heating method, and an induction heating method, but an electron beam heating method is used in consideration of a wide range of selectivity of an evaporation material. Is more preferable.

また、無機酸化物蒸着層(14)と第2の樹脂層(12)との密着性及び蒸着薄膜層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト方を用いて蒸着することも可能である。   Further, in order to improve the adhesion between the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) and the second resin layer (12) and the denseness of the vapor-deposited thin film layer, the vapor-deposition is performed using a plasma assist method or an ion beam assist method. Is also possible.

また、無機酸化物蒸着層(14)の透明性を向上させるために、蒸着に際して、酸素等の各種ガスなどを吹き込む反応蒸着を用いても一向に構わない。   In addition, in order to improve the transparency of the inorganic oxide vapor-deposited layer (14), reactive vapor deposition in which various gases such as oxygen are blown may be used at the time of vapor deposition.

フィルム基材(10)と無機酸化物蒸着層(14)の間に、両者の密着性を改善するために、処理層もしくはアンカーコート層を設けることも可能である。   A treatment layer or an anchor coat layer may be provided between the film substrate (10) and the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) in order to improve the adhesion between them.

次いで、複合被膜層(15)を説明する。複合被膜層(15)は、ガスバリア性を有する被膜層であり、水溶性高分子と、1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物あるいはそれらの重合物を含む水溶液あるいは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を用いて形成される。   Next, the composite coating layer (15) will be described. The composite coating layer (15) is a coating layer having gas barrier properties, and is mainly composed of an aqueous solution containing a water-soluble polymer and one or more metal alkoxides, a hydrolyzate thereof, or a polymer thereof, or a mixed solution of water / alcohol. It is formed using a coating agent.

コーティング剤は、例えば、水溶性高分子を水系(水あるいは水/アルコール混合)溶媒で溶解させたものに金属アルコキシドを直接、あるいは予め加水分解させるなどの処理を行なったものを混合してコーティング剤とする。   The coating agent is prepared by, for example, dissolving a water-soluble polymer in an aqueous (water or water / alcohol mixture) solvent, mixing the metal alkoxide directly or in advance with a treatment such as hydrolyzing the metal alkoxide. And

このコーティング剤を無機酸化物蒸着層(14)上にコーティングした後、加熱乾燥することによって、複合被覆層(15)が形成される。コーティング剤に含まれる各成分について、更に詳細に説明する。   This coating agent is coated on the inorganic oxide vapor-deposited layer (14), and then dried by heating to form a composite coating layer (15). Each component contained in the coating agent will be described in more detail.

本発明で複合被覆層(15)に用いられる水溶性高分子は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。   Examples of the water-soluble polymer used for the composite coating layer (15) in the present invention include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate and the like.

中でもポリビニルアルコール(以下、PVAと略す)を用いた場合に、ガスバリア性が最も優れるので好ましい。   Above all, when polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) is used, gas barrier properties are most excellent, so that it is preferable.

ここでいうPVAは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものである。PVAとしては、例えば、酢酸基が数十%残存している、いわゆる部分けん化PVAをはじめ、酢酸基が数%しか残存していない完全PVA等までをいずれも用いることができ、これ以外のものを用いても何ら問題ない。   The PVA referred to here is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate. As the PVA, for example, any of so-called partially saponified PVA in which acetic acid groups remain in several tens%, and complete PVA in which only several% of acetic acid groups remain can be used. There is no problem using.

金属アルコキシドは、一般式、M(OR)n(MはSi、Ti、Al、Zr等の金属、RはCH、C等のアルキル基)で表せる化合物である。具体的には、テトラエトキシシラン[Si(OC]、トリイソプロポキシアルミニウム[Al(O−2’−C]などが挙げられ、中でもテトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムが、加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。 The metal alkoxide is a compound represented by a general formula, M (OR) n (M is a metal such as Si, Ti, Al, and Zr, and R is an alkyl group such as CH 3 and C 2 H 5 ). Specifically, tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5) 4], triisopropoxyaluminum [Al (O-2'-C 3 H 7) 3] , etc., and among them tetraethoxysilane, triiso Propoxy aluminum is preferred because it is relatively stable in aqueous solvents after hydrolysis.

また、金属アルコキシドとしてアルコキシシランを使用する場合、このアルコキシシラ
ンとしては、たとえば、Si(ORまたはRSi(ORで表される化合物またはそれらの混合物を使用することができる。ここで、(OR)や(OR)におけるRおよびRはCH基、C基、COCH基などを表しており、それぞれ加水分解性基を示し、Rは有機官能基を示している。
When alkoxysilane is used as the metal alkoxide, for example, a compound represented by Si (OR 1 ) 4 or R 2 Si (OR 3 ) 3 or a mixture thereof can be used as the alkoxysilane. . Here, R 1 and R 3 in (OR 1 ) and (OR 3 ) represent a CH 3 group, a C 2 H 5 group, a C 2 H 4 OCH 3 group, etc., each of which represents a hydrolyzable group; R 2 represents an organic functional group.

なお、金属アルコキシドを加水分解および縮合させることにより得られる金属酸化物膜は硬いため、外力や縮合時の体積縮小によるひずみに起因してクラックが生じ易い。それゆえ、クラックなどを生じることなく、この金属酸化物膜を均一な厚さに形成することは非常に困難である。   Since the metal oxide film obtained by hydrolyzing and condensing the metal alkoxide is hard, cracks are liable to occur due to external force and strain due to volume reduction during condensation. Therefore, it is very difficult to form this metal oxide film with a uniform thickness without cracks or the like.

これに対し、高分子と金属アルコキシドやその加水分解物などと水とを含有したコーティング剤を用いて形成した膜は、金属酸化物膜と比較して柔軟性が高いため、クラックを発生しがたい。但し、この膜は、微視的には金属酸化物が均一に分散しておらず、高いガスバリア性が得られないことがある。   On the other hand, a film formed using a coating agent containing a polymer, a metal alkoxide or a hydrolyzate thereof, and water has higher flexibility than a metal oxide film, and therefore, cracks may occur. I want to. However, in this film, the metal oxides are not microscopically dispersed uniformly, and high gas barrier properties may not be obtained.

この高分子として、水溶性高分子を使用した場合には、高分子の水酸基と金属アルコキシドの加水分解物の水酸基との強い水素結合を利用して、縮合の際に金属酸化物を高分子中に均一に分散させることができる。それゆえ、金属酸化物膜に近いガスバリア性を達成することができる。したがって、このような複合被膜層(15)を無機酸化物蒸着層(14)上に形成すると、それらを単独で使用した場合と比較して、はるかに高いガスバリア性を達成することができる。   When a water-soluble polymer is used as the polymer, a metal oxide is used during condensation by utilizing a strong hydrogen bond between a hydroxyl group of the polymer and a hydroxyl group of a hydrolyzate of a metal alkoxide. Can be uniformly dispersed. Therefore, gas barrier properties close to those of a metal oxide film can be achieved. Therefore, when such a composite coating layer (15) is formed on the inorganic oxide vapor-deposited layer (14), a much higher gas barrier property can be achieved as compared with the case where they are used alone.

しかしながら、上述の金属アルコキシドやその加水分解物、あるいはそれらの重合物と水酸基を有する水溶性高分子と水とを含有したコーティング剤を用いて得られる複合被膜層(15)は、水素結合を形成しているため、苛酷な環境で使用した場合に、水の浸入により膨潤して、最終的には溶解を生じることがある。そのため、積層体(1)は、無機酸化物蒸着層(14)と複合被膜層(15)とを積層することにより、高いガスバリア性を達成することができたとしても、高温多湿環境などの過酷な条件下では、密着性やガスバリア性が容易に劣化する可能性がある。   However, the composite coating layer (15) obtained by using the above-mentioned metal alkoxide or its hydrolyzate, or a coating agent containing a polymer thereof, a water-soluble polymer having a hydroxyl group, and water forms a hydrogen bond. Therefore, when used in a harsh environment, it may swell due to intrusion of water and eventually cause dissolution. Therefore, even if a high gas barrier property can be achieved by laminating the inorganic oxide deposition layer (14) and the composite coating layer (15), the laminate (1) may be severe in a high-temperature and high-humidity environment. Under such conditions, the adhesion and gas barrier properties may easily deteriorate.

これに対し、金属アルコキシドとして、たとえば、RSi(ORで示されるアルコキシシランを使用すると、水が浸入した場合でも膨潤しがたく、耐水性に優れた複合被膜層(15)を得ることができる。特に、有機官能基Rが、ビニル基、エポキシ基、メタクリロキシ基、ウレイド基、およびイソシアネート基などの非水溶性官能基である場合、より高い耐水性を達成できる。有機官能基Rが、ビニル、メタクリロキシである場合は製造過程で紫外線または電子線等の電離放射線の照射を行なう。また、金属アルコキシドの加水分解の反応促進剤として、一般に水と触媒(酸、アルカリ)を用いる。 On the other hand, when, for example, an alkoxysilane represented by R 2 Si (OR 3 ) 3 is used as a metal alkoxide, a composite coating layer (15) which does not easily swell even when water enters and has excellent water resistance can be obtained. Obtainable. In particular, an organic functional group R 2 is a vinyl group, an epoxy group, a methacryloxy group, when a non-water soluble functional group, such as a ureido group and an isocyanate group, can achieve higher water resistance. Organic functional group R 2 is vinyl, if a methacryloxy carried out by irradiating the ionizing radiation of ultraviolet light or electron beam or the like in the manufacturing process. In general, water and a catalyst (acid or alkali) are used as a reaction accelerator for hydrolysis of a metal alkoxide.

金属アルコキシドが、一般式Si(ORで表されるテトラアルコキシシランと一般式RSi(ORで表されるトリアルコキシシランの2種を使用する場合、これらのアルコキシシランの比は、たとえば、Si(ORのSiO2換算質量とRSi(ORのRSi(OH)換算質量との和に対するRSi(ORのRSi(OH)換算質量の割合が、1%から50%の範囲内となるように設定してもよい。1%より小さくすると耐水性が低くなり、50%を超えると有機官能基Rがガスバリアの孔となり、ガスバリア性が低下する。 When two types of metal alkoxides, a tetraalkoxysilane represented by the general formula Si (OR 1 ) 4 and a trialkoxysilane represented by the general formula R 2 Si (OR 3 ) 3 , are used, ratio, for example, Si (OR 1) 4 of SiO 2 reduced mass and R 2 Si (OR 3) R 2 Si (OR 3) to the sum of the 3 R 2 Si (OH) 3 reduced mass 3 R 2 The ratio of the mass in terms of Si (OH) 3 may be set in a range of 1% to 50%. When less than 1% water resistance is low, the organic functional group R 2 exceeds 50% is the gas barrier of the hole, the gas barrier property is lowered.

一般式Si(ORで表されるテトラアルコキシシランと一般式RSi(ORで表されるトリアルコキシシランとの混合比は、上述の割合が、5%から30%の範囲内となるように設定してもよい。この場合、液体内容物または水分含有内容物を煮沸殺菌処理や加圧・加熱殺菌処理し、さらに高温多湿環境中で長期保存するのに十分な耐水性
およびハイバリア性を達成することができる。
The mixing ratio between the tetraalkoxysilane represented by the general formula Si (OR 1 ) 4 and the trialkoxysilane represented by the general formula R 2 Si (OR 3 ) 3 is such that the above ratio is 5% to 30%. It may be set to be within the range. In this case, it is possible to achieve sufficient water resistance and high barrier property for subjecting the liquid content or the water-containing content to a boiling sterilization treatment or a pressurization / heating sterilization treatment, and further to a long-term storage in a high-temperature and high-humidity environment.

一般式Si(ORで表されるアルコキシシランのうち、テトラエトキシシランは加水分解生成物が水系の溶媒中で比較的安定に存在しうるため、これを使用した場合、製造条件の制御が比較的容易である。 Among the alkoxysilanes represented by the general formula Si (OR 1 ) 4 , tetraethoxysilane is a hydrolyzate that can be relatively stably present in an aqueous solvent. Is relatively easy.

複合被膜層(15)を形成するコーティング剤の各成分である、一般式Si(ORで表されるアルコキシシランと一般式RSi(ORで表されるアルコキシシランと水溶性高分子は、どの順番で混合してもよい。たとえば、一般式Si(ORで表されるアルコキシシランと一般式RSi(ORで表されるアルコキシシランとを別々に加水分解し、その後、水溶性高分子を含んだ溶液中にこれらを添加してもよい。この方法は、シリコン酸化物の分散性や加水分解の効率の点で優れている。 Alkoxysilane represented by the general formula Si (OR 1 ) 4 and alkoxysilane represented by the general formula R 2 Si (OR 3 ) 3 , which are the components of the coating agent forming the composite coating layer (15), and water The reactive polymers may be mixed in any order. For example, an alkoxysilane represented by the general formula Si (OR 1 ) 4 and an alkoxysilane represented by the general formula R 2 Si (OR 3 ) 3 are separately hydrolyzed, and then contain a water-soluble polymer. These may be added to the solution. This method is excellent in dispersibility of silicon oxide and efficiency of hydrolysis.

複合被膜層(15)を形成するためのコーティング剤には、複合被膜層(15)のインキまたは接着剤に対する濡れ性の向上や密着性の向上、複合被膜層(15)の収縮によるクラック発生の防止などを考慮し、ガスバリア性を損なわない範囲で、添加物を添加してもよい。この添加物としては、たとえば、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、コロイダルシリカ、スメクタイトなどの粘土鉱物、安定化剤、着色剤、粘度調整剤、及びそれらの混合物を使用することができる。   The coating agent for forming the composite coating layer (15) includes an improvement in wettability and adhesion to the ink or adhesive of the composite coating layer (15), and the occurrence of cracks due to shrinkage of the composite coating layer (15). In consideration of prevention and the like, an additive may be added as long as the gas barrier property is not impaired. As the additive, for example, an isocyanate compound, a silane coupling agent, a clay mineral such as colloidal silica, smectite, a stabilizer, a colorant, a viscosity modifier, and a mixture thereof can be used.

複合被膜層(15)の厚みは、厚みが薄い場合複合被膜層(15)を均一な連続膜として形成することが難しく、十分なガスバリア性が得られない。厚みが厚い場合は膜に亀裂を生じ易い。複合被膜層(15)の厚さは、たとえば、0.01μmから50μmの範囲内とすることができる。   When the thickness of the composite coating layer (15) is small, it is difficult to form the composite coating layer (15) as a uniform continuous film, and sufficient gas barrier properties cannot be obtained. When the thickness is large, the film is easily cracked. The thickness of the composite coating layer (15) can be, for example, in the range of 0.01 μm to 50 μm.

複合被膜層(15)を形成するためのコーティング剤は、たとえば、ディッピング法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースグラビアコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、グラビアオフセット法等により塗布することができる。このコーティング剤を塗布してなる塗膜は、たとえば、熱風乾燥法、熱ロール乾燥法、高周波照射法、赤外線照射法、UV照射法、またはそれらの組み合わせにより乾燥させることができる。   Examples of the coating agent for forming the composite coating layer (15) include a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a reverse gravure coating method, an air knife coating method, a comma coating method, a die coating method, a screen printing method, and a spray coating method. It can be applied by a gravure offset method or the like. The coating film formed by applying this coating agent can be dried by, for example, a hot air drying method, a hot roll drying method, a high frequency irradiation method, an infrared irradiation method, a UV irradiation method, or a combination thereof.

上記の無機酸化物蒸着層(14)および複合被覆層(15)は、それぞれ2層以上積層させても何ら問題ない。また、フィルム基材(10)の両面に積層させることも可能であるが、マット剤(13)を有する第1の樹脂層(11)側に積層させた際には、ガスバリア性が低下する可能性がある。   The inorganic oxide deposited layer (14) and the composite coating layer (15) may be laminated in two or more layers without any problem. In addition, although it is possible to laminate on both sides of the film substrate (10), when laminated on the first resin layer (11) side having the matting agent (13), gas barrier properties may be reduced. There is.

以下に、本発明の積層体の実施例を具体的に説明する。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, examples of the laminate of the present invention will be specifically described. Note that the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
ポリエチレンテレフタレートフィルム中に、マット剤として平均粒径10μmのシリカ粒子をポリエチレンテレフタレート100重量部に対して、マット剤10重量部になるように添加し、第2の樹脂層を形成した。
(Example 1)
Silica particles having an average particle diameter of 10 μm as a matting agent were added to the polyethylene terephthalate film so as to be 10 parts by weight of the matting agent with respect to 100 parts by weight of polyethylene terephthalate to form a second resin layer.

第1の樹脂層には、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用した。フィルム基材全体の厚みが12μm、第2の樹脂層/第1の樹脂層の厚み比が3.8/1(フィルム基材の総厚に対する第2の樹脂層厚比=79%)となるようにして、フィルム基材を得た。   A polyethylene terephthalate film was used for the first resin layer. The thickness of the entire film substrate is 12 μm, and the thickness ratio of the second resin layer / first resin layer is 3.8 / 1 (the ratio of the second resin layer thickness to the total thickness of the film substrate = 79%). Thus, a film substrate was obtained.

このフィルム基材の第1の樹脂層側に、電子線加熱方式による真空蒸着法により、厚さ10nmの酸化アルミニウムを蒸着して、無機酸化物蒸着層を形成して積層体を得た。   Aluminum oxide having a thickness of 10 nm was deposited on the first resin layer side of the film substrate by a vacuum deposition method using an electron beam heating method to form an inorganic oxide deposited layer, thereby obtaining a laminate.

(実施例2)
第2の樹脂層に添加するマット剤として、平均粒径15μmのシリカ粒子をポリエチレンテレフタレートに対して5重量%添加し、第2の樹脂層/第1の樹脂層の厚み比を2.5/1(フィルム基材の総厚に対する第2の樹脂層厚比=71%)とした以外は、実施例1と同様にして、積層体を得た。
(Example 2)
As a matting agent to be added to the second resin layer, silica particles having an average particle size of 15 μm were added at 5% by weight based on polyethylene terephthalate, and the thickness ratio of the second resin layer / the first resin layer was 2.5 / A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that 1 (the ratio of the second resin layer thickness to the total thickness of the film substrate = 71%).

(実施例3)
第2の樹脂層に添加するマット剤として、平均粒径5μmのシリカ粒子をポリエチレンテレフタレートに対して20重量%添加し、第2の樹脂層/第1の樹脂層の厚み比を3/1(フィルム基材の総厚に対する第2の樹脂層厚比=75%)とした以外は、実施例1と同様にして、積層体を得た。
(Example 3)
As a matting agent to be added to the second resin layer, 20% by weight of silica particles having an average particle diameter of 5 μm is added to polyethylene terephthalate, and the thickness ratio of the second resin layer / the first resin layer is 3/1 ( A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the ratio of the second resin layer thickness to the total thickness of the film substrate was 75%).

(比較例1)
フィルム基材の第2の樹脂層側に、無機酸化物蒸着層を形成した以外は、実施例1と同様にして、積層体を得た。(フィルム基材の総厚に対する第2の樹脂層厚比=79%)
(Comparative Example 1)
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that an inorganic oxide vapor-deposited layer was formed on the second resin layer side of the film substrate. (Ratio of second resin layer thickness to total thickness of film substrate = 79%)

(比較例2)
第2の樹脂層/第1の樹脂層の厚み比を7/1(フィルム基材の総厚に対する第2の樹脂層厚比=88%)とした以外は、実施例1と同様にして、積層体を得た。
(Comparative Example 2)
Except that the thickness ratio of the second resin layer / the first resin layer was set to 7/1 (the ratio of the second resin layer thickness to the total thickness of the film base material = 88%), the same as in Example 1, A laminate was obtained.

<表面粗さの測定>
無機酸化物蒸着層を形成する面の表面粗さを、白色干渉計(三菱ケミカルシステム株式会社製 VertScan)を使用して、観察倍率5倍にて測定し、算術平均粗さRaおよび最大高さRyの値を算出した。
<Measurement of surface roughness>
The surface roughness of the surface on which the inorganic oxide vapor-deposited layer is formed was measured using a white light interferometer (VertScan, manufactured by Mitsubishi Chemical System Corporation) at an observation magnification of 5 times, and the arithmetic average roughness Ra and the maximum height were measured. The value of Ry was calculated.

<酸素透過度測定>
酸素透過度は、酸素透過度測定装置(MOCON社製 OXTRAN 2/20)を用いて、温度30℃、相対湿度70%の条件で測定した。測定方法は、JIS K−7126、B法(等圧法)、およびASTM D3985−81に準拠し、測定値は単位[cm(STP)/m・day・MPa](但し、STP=標準状態)で表記した。
<Oxygen permeability measurement>
The oxygen permeability was measured at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 70% using an oxygen permeability measuring device (OXTRAN 2/20 manufactured by MOCON). The measuring method is based on JIS K-7126, the B method (isobaric method), and ASTM D3985-81, and the measured value is a unit [cm 3 (STP) / m 2 · day · MPa] (where STP = standard state). ).

実施例1〜3、比較例1〜2で試作した積層体に対し、それぞれ測定した結果を表1に示した。   Table 1 shows the results of the measurements of the laminates experimentally produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, respectively.

実施例1〜3、及び比較例1の結果より、無機酸化物蒸着層(14)を第2の樹脂層(12)側に設けた場合には、酸素透過度が低い値を示しており、十分なガスバリア性を示しているが、第1の樹脂層(11)側に無機酸化物蒸着層(14)を設けた比較例1では、酸素透過度が上昇、すなわちガスバリア性が低下していることが判る。   From the results of Examples 1 to 3 and Comparative Example 1, when the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) was provided on the second resin layer (12) side, the oxygen permeability showed a low value, Although it shows a sufficient gas barrier property, in Comparative Example 1 in which the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) is provided on the first resin layer (11) side, the oxygen permeability increases, that is, the gas barrier property decreases. You can see that.

これは、無機酸化物蒸着層(14)を設けた面が、表面に凹凸を有する第1の樹脂層(11)側であり、無機酸化物蒸着層(14)に亀裂などが発生したことにより、ガスバリア性が低下したと考えることができる。   This is because the surface on which the inorganic oxide deposited layer (14) was provided is the first resin layer (11) side having irregularities on the surface, and cracks and the like were generated in the inorganic oxide deposited layer (14). It can be considered that the gas barrier property has decreased.

また、実施例1〜3および比較例1〜2の結果より、無機酸化物蒸着層(14)を設ける面の算術平均粗さRaが250nm以下、最大高さRyが2μm以下の場合には、酸素透過度が低い値を示しており、十分なガスバリア性を有しているのに対し、それぞれの値
が大きい場合には、ガスバリア性が低下していることが判る。
Further, from the results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, when the arithmetic average roughness Ra of the surface on which the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) is provided is 250 nm or less and the maximum height Ry is 2 μm or less, It shows that the oxygen permeability shows a low value and has sufficient gas barrier properties, whereas when each value is large, the gas barrier properties are low.

これは、算術平均粗さRaが250nmよりも大きく、最大高さRyが2μmを超えるような場合には、無機酸化物蒸着層(14)を設ける面の凹凸が大きく、無機酸化物蒸着層(14)に亀裂などが発生したことにより、ガスバリア性が低下したと考えることができる。   This is because, when the arithmetic average roughness Ra is greater than 250 nm and the maximum height Ry exceeds 2 μm, the surface on which the inorganic oxide deposited layer (14) is provided has large irregularities and the inorganic oxide deposited layer ( It can be considered that the gas barrier property was lowered due to the occurrence of cracks and the like in 14).

また、比較例2の結果より、無機酸化物蒸着層(14)を、第2の樹脂層(12)側に設けた場合であっても、第2の樹脂層(12)の厚み1に対して第1の樹脂層(11)の厚みが4より大きい、あるいはフィルム基材(10)の総厚に対して、第1の樹脂層(11)の厚みが4/5(80%)より大きい場合には、酸素透過度も高い値を示しており、ガスバリア性が低下することが判る。   Further, according to the result of Comparative Example 2, even when the inorganic oxide vapor-deposited layer (14) was provided on the second resin layer (12) side, the thickness of the second resin layer (12) was 1 Therefore, the thickness of the first resin layer (11) is larger than 4 or the thickness of the first resin layer (11) is larger than 4/5 (80%) with respect to the total thickness of the film substrate (10). In this case, the oxygen permeability also shows a high value, indicating that the gas barrier property is reduced.

これは、第1の樹脂層(11)の厚みに比べて、第2の樹脂層(12)の厚みが十分に設けられていない場合には、第1の樹脂層(11)表面の凹凸が、第2の樹脂層(12)表面に影響し、算術平均粗さRaが250nmよりも大きく、最大高さRyが2μmを超える値を示しており、このために無機酸化物蒸着層(14)に亀裂などが入ることで、ガスバリア性が低下したと考えることができる。   This is because when the thickness of the second resin layer (12) is not sufficiently provided as compared with the thickness of the first resin layer (11), the surface of the first resin layer (11) has irregularities. , The surface of the second resin layer (12), the arithmetic average roughness Ra is greater than 250 nm, and the maximum height Ry is more than 2 μm. It can be considered that the gas barrier property was lowered due to cracks and the like.

本発明の積層体をバリアフィルムとして使用することで、包装材料の外面側にマットコート層を設けることなく、包装材料に意匠性を付与することが可能である。これにより、包装袋への製袋時における、ヒートシール加工によるマット層取られを防ぐことができ、更にはマット層を形成する工程を削減できるという効果もある。   By using the laminate of the present invention as a barrier film, it is possible to impart a design property to the packaging material without providing a mat coat layer on the outer surface side of the packaging material. Thereby, it is possible to prevent the mat layer from being removed by the heat sealing process at the time of making the bag into the packaging bag, and it is also possible to reduce the number of steps for forming the mat layer.

1 … 積層体
10 … フィルム基材
11 … 第1の樹脂層
12 … 第2の樹脂層
13 … マット剤
14 … 無機酸化物蒸着層
15 … 複合被膜層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated body 10 ... Film base material 11 ... 1st resin layer 12 ... 2nd resin layer 13 ... Matting agent 14 ... Inorganic oxide vapor deposition layer 15 ... Composite coating layer

Claims (4)

第1の樹脂層と第2の樹脂層とを備えたフィルム基材を含む積層体であって、
前記第1の樹脂層がマット剤を含み、前記第2の樹脂層がマット剤を含まず、
前記フィルム基材の前記第2の樹脂層側の面上に、厚さ5〜100nmの無機酸化物蒸着層を積層したことを特徴とする積層体。
A laminate including a film substrate having a first resin layer and a second resin layer,
The first resin layer contains a matting agent, the second resin layer does not contain a matting agent,
A laminate, comprising a film substrate and an inorganic oxide vapor-deposited layer having a thickness of 5 to 100 nm laminated on the second resin layer side surface.
前記第2の樹脂層の表面が、白色干渉計測法にて測定した際に、算術平均粗さRaが250nm以下、最大高さRyが2μm以下となることを特徴とする請求項1に記載の積層体。   The surface of the second resin layer has an arithmetic average roughness Ra of 250 nm or less and a maximum height Ry of 2 μm or less when measured by a white interference measurement method. Laminate. 前記無機酸化物蒸着層上に、水溶性高分子と、
金属アルコキシド、その加水分解物、またはそれらの重合物の内、少なくとも1種類以上と、を成分に有する複合被膜層を形成したことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の積層体。
On the inorganic oxide deposited layer, a water-soluble polymer,
The laminate according to claim 1 or 2, wherein a composite coating layer having at least one of metal alkoxides, hydrolysates thereof, and polymers thereof as a component is formed.
前記第1の樹脂層の膜厚が、7μm以上であり、かつ前記フィルム基材の総厚の4/5(80%)以下の膜厚であることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれかに記載の積層体。   4. The film thickness of the first resin layer is not less than 7 μm and not more than 4/5 (80%) of the total thickness of the film substrate. The laminate according to any one of the above.
JP2018166787A 2018-09-06 2018-09-06 laminate Active JP7293590B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018166787A JP7293590B2 (en) 2018-09-06 2018-09-06 laminate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018166787A JP7293590B2 (en) 2018-09-06 2018-09-06 laminate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020040221A true JP2020040221A (en) 2020-03-19
JP7293590B2 JP7293590B2 (en) 2023-06-20

Family

ID=69797293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018166787A Active JP7293590B2 (en) 2018-09-06 2018-09-06 laminate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7293590B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022084283A (en) * 2020-11-26 2022-06-07 王子ホールディングス株式会社 Paper laminate and method for manufacturing the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016067727A1 (en) * 2014-10-30 2016-05-06 東洋紡株式会社 Gas barrier laminated film and packaging bag
WO2016171173A1 (en) * 2015-04-24 2016-10-27 東洋紡株式会社 Biaxially stretched polyester film, and production method therefor
JP2017100809A (en) * 2017-02-28 2017-06-08 大日本印刷株式会社 Packaging material and packaging container
WO2018079495A1 (en) * 2016-10-24 2018-05-03 凸版印刷株式会社 Gas barrier film and color conversion member

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016067727A1 (en) * 2014-10-30 2016-05-06 東洋紡株式会社 Gas barrier laminated film and packaging bag
WO2016171173A1 (en) * 2015-04-24 2016-10-27 東洋紡株式会社 Biaxially stretched polyester film, and production method therefor
WO2018079495A1 (en) * 2016-10-24 2018-05-03 凸版印刷株式会社 Gas barrier film and color conversion member
JP2017100809A (en) * 2017-02-28 2017-06-08 大日本印刷株式会社 Packaging material and packaging container

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022084283A (en) * 2020-11-26 2022-06-07 王子ホールディングス株式会社 Paper laminate and method for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP7293590B2 (en) 2023-06-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4200972B2 (en) Gas barrier laminated film
JP5846477B2 (en) Barrier laminated film
JP4924806B2 (en) Gas barrier laminate
WO2021125100A1 (en) Laminate and method for recycling same, and recycled resin composition and article containing same
JP5282422B2 (en) Transparent gas barrier film
JP6331166B2 (en) Barrier laminated film
JP2021094750A (en) Gas barrier laminate, and packaging material and paper container including the same
JP2007210262A (en) Transparent barrier film and its manufacturing method
WO2022131264A1 (en) Laminate, packaging bag, and standing pouch
JP2007168085A (en) Laminate having high barrier properties
JP2007196550A (en) Gas barrier film laminate resistant to heat treatment
WO2021230319A1 (en) Gas barrier film
JP7293590B2 (en) laminate
JP2007290144A (en) Gas barrier laminate
JP4836623B2 (en) Gas barrier film and gas barrier laminate
JP6098957B2 (en) Barrier laminated film
JP4978066B2 (en) Method for evaluating manufacturing conditions of gas barrier film laminate
JP4654662B2 (en) Packaging using gas barrier film laminate having heat treatment resistance
JP6111630B2 (en) Optical film having gas barrier properties
JP2019123212A (en) Gas barrier laminate
JP2010000657A (en) Gas barrier laminated film
JP2007098655A (en) Gas barrier film and its manufacturing method
JP2021109381A (en) Gas barrier film, laminate using the same, and method for producing gas barrier film
JP5412745B2 (en) Release sheet
JP7279363B2 (en) gas barrier film and packaging film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210825

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220525

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220607

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220715

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20221025

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230313

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230509

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20230522

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7293590

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150