JP2020027559A - Rfid tag buried object and manufacturing method of the same - Google Patents

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啓道 田中
Hiromichi Tanaka
啓道 田中
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Abstract

To provide an RFID tag buried object which is hardly influenced from a metal at communication with a reader and can be securely fixed to the surface of the metal, and a manufacturing method thereof.SOLUTION: The invention relates to an RFID tag buried object 1 which is fixed to a metal M, and includes a sheet 10 made of silicone based elastomer, and an RFID tag 15 which corresponds to non-metal and is inwardly buried from a surface of the sheet 10 to a position not reaching the surface of the metal M, and also relates to a manufacturing method of the same. In the RFID tag buried object 1, the RFID tag 15 includes one or two or more first fixation means 20 to be fixed to the sheet 10.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、RFIDタグ埋設体およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an embedded RFID tag and a method for manufacturing the same.

RFIDタグは、近距離無線通信によってタグ内に格納される情報を認識するための部品であって、近年では、例えば、物流における商品等のトレーサビリティ、農産物の生産者情報の記録あるいは図書館等における書籍の管理などにも利用されている。RFIDタグは、通常、アンテナとメモリとを備え、さらに電池を内蔵して自力で通信可能なアクティブタグ、電池を内蔵せずに外部リーダからの電波を受けて通信可能なパッシブタグ、およびそれら両方の機能を兼ね備えたセミアクティブタグに分けられる。これらのタグの内、パッシブタグは、電池を備えない簡易な構成を有することから、安価で、また小型化も容易なタグとして多用されてきている。   An RFID tag is a component for recognizing information stored in the tag by short-range wireless communication. In recent years, for example, traceability of goods and the like in distribution, recording of producer information of agricultural products, and books in libraries and the like have been used in recent years. It is also used for management and other purposes. An RFID tag usually has an antenna and a memory, and further includes an active tag that has a built-in battery and can communicate by itself, a passive tag that can receive and receive radio waves from an external reader without a built-in battery, and both. Semi-active tags that combine the functions of Among these tags, passive tags have a simple configuration without a battery, and thus have been frequently used as inexpensive and easily miniaturized tags.

ところで、RFIDタグを金属の表面に固定すると、リーダからの電波が金属面で反射されることに加え、RFIDタグから放射される電波が金属面にうず電流を生じさせることにより、金属面から反射波が放出され、RFIDタグからの電波を検知することが極めて難しいという問題がある。このような問題を解決するため、従来から様々な金属対応RFIDタグが開発されている。   By the way, when the RFID tag is fixed on a metal surface, the radio wave from the reader is reflected on the metal surface, and the radio wave radiated from the RFID tag generates an eddy current on the metal surface, so that the radio wave is reflected from the metal surface. There is a problem that waves are emitted and it is extremely difficult to detect radio waves from the RFID tag. In order to solve such a problem, various metal-compatible RFID tags have been conventionally developed.

例えば、RFIDタグと金属面との間に磁性体を挟み、金属面から放出される磁束を磁性体に引き込み、その結果、金属の影響を低減させる技術が知られている(特許文献1を参照)。   For example, a technique is known in which a magnetic material is sandwiched between an RFID tag and a metal surface, and magnetic flux emitted from the metal surface is drawn into the magnetic material, thereby reducing the effect of the metal (see Patent Document 1). ).

特開2007−233824JP 2007-233824

しかし、上述した従来から公知の金属対応のRFIDタグは、磁性体という構成要素を追加することを要し、RFIDタグの高価格化を招く虞がある。一方、金属非対応のRFIDタグを金属面に固定する場合、RFIDタグと金属面との間の距離を十分に離間して固定する必要があり、例えば、凹凸を有する金属面や曲率の大きな金属面など、種々の金属面に対して強固に固定することが難しいという問題がある。   However, the above-described conventionally known metal-compatible RFID tags require the addition of a component called a magnetic material, which may increase the price of the RFID tags. On the other hand, when fixing a non-metallic RFID tag to a metal surface, it is necessary to fix the RFID tag with a sufficient distance between the RFID tag and the metal surface, such as a metal surface having irregularities or a metal having a large curvature. There is a problem that it is difficult to firmly fix to various metal surfaces such as surfaces.

本発明は、金属対応のRFIDの使用による高価格化を招くことのないように金属非対応のRFIDタグの使用を前提とし、リーダとの通信に際して金属の影響を受けにくく、かつ金属面に対して強固に固定することができるRFIDタグ埋設体およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention is based on the premise that a non-metallic RFID tag is used so as not to cause a high price due to the use of a metal-compatible RFID. An object of the present invention is to provide an embedded RFID tag that can be fixed firmly by using the same, and a method for manufacturing the same.

(1)上記目的を達成するため、本発明の一実施形態に係るRFIDタグ埋設体は、金属に固定されるRFIDタグ埋設体であって、シリコーン系エラストマーのシートと、前記シートの表面から内部に向けて前記金属の表面に達しない位置まで埋設される非金属対応のRFIDタグと、を備え、前記RFIDタグは、前記シートに固定する1または2以上の第1固定手段を備える。 (1) In order to achieve the above object, an embedded RFID tag according to an embodiment of the present invention is an embedded RFID tag that is fixed to a metal, and includes a sheet of a silicone-based elastomer and an interior from the surface of the sheet. And a non-metal-compatible RFID tag that is buried to a position that does not reach the surface of the metal, and the RFID tag includes one or more first fixing means for fixing to the sheet.

(2)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記RFIDタグは、前記第1固定手段としての穴を備え、前記穴を含む少なくとも一部が前記シートに埋設される。 (2) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the RFID tag includes a hole as the first fixing means, and at least a part including the hole is embedded in the sheet.

(3)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記RFIDタグは、前記第1固定手段として、前記金属に対向する面の少なくとも一部に、前記金属方向に突出する第1凸部を備え、前記第1凸部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設される。 (3) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the RFID tag serves as the first fixing means on at least a part of a surface facing the metal, the first tag protruding in the metal direction. A projection is provided, and at least a part including the first projection is embedded in the sheet.

(4)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記RFIDタグは、前記第1固定手段として、前記金属に対向する面と反対側の面の少なくとも一部に、前記金属と反対方向に突出する第2凸部を備え、前記第2凸部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設される。 (4) In the RFID tag buried body according to another embodiment, preferably, the RFID tag serves as the first fixing means at least a portion of a surface opposite to a surface facing the metal and the metal is provided with the metal. A second protrusion protruding in the opposite direction is provided, and at least a portion including the second protrusion is embedded in the sheet.

(5)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記RFIDタグは、前記第1固定手段として、側面の少なくとも一部に、前記側面から外側に突出する第3凸部を備え、前記第3凸部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設される。 (5) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the RFID tag includes, as the first fixing means, at least a part of a side surface of a third convex portion protruding outward from the side surface. At least a part including the third convex portion is embedded in the sheet.

(6)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記RFIDタグは、前記第1固定手段として、周面に螺旋状に巻回された螺子部を備え、前記螺子部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設される。 (6) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the RFID tag includes, as the first fixing means, a screw portion spirally wound around a peripheral surface, and includes the screw portion. At least a portion is embedded in the sheet.

(7)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体は、好ましくは、前記RFIDタグを前記シートに固定する第2固定手段を備え、前記第2固定手段は、針状部材である。 (7) The embedded RFID tag according to another embodiment preferably includes second fixing means for fixing the RFID tag to the sheet, and the second fixing means is a needle-like member.

(8)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記第2固定手段は、非金属製の部材である。 (8) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the second fixing means is a non-metallic member.

(9)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記シリコーン系エラストマーは、湿気硬化シリコーン系エラストマーである。 (9) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the silicone-based elastomer is a moisture-cured silicone-based elastomer.

(10)本発明の一実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法は、上述のいずれか1つのRFIDタグ埋設体の製造方法であって、金属の表面に、硬化性シリコーン系接着層を貼り付ける接着層貼付工程と、前記硬化性シリコーン系接着層の表面から内部に向けて前記金属の表面に達しない位置まで、非金属対応のRFIDタグのうち前記第1固定手段を含む少なくとも一部を埋設するRFIDタグ埋設工程と、前記硬化性シリコーン系接着層を硬化させてシリコーン系エラストマーのシートを形成する硬化工程と、を含む。 (10) A method for manufacturing an embedded RFID tag according to one embodiment of the present invention is a method for manufacturing an embedded RFID tag according to any one of the above, wherein a curable silicone-based adhesive layer is attached to a metal surface. An adhesive layer attaching step of attaching, and at least a portion of the non-metal-compatible RFID tag including the first fixing means to a position not reaching the surface of the metal from the surface of the curable silicone-based adhesive layer toward the inside. An RFID tag embedding step of embedding and a curing step of curing the curable silicone-based adhesive layer to form a silicone-based elastomer sheet are included.

(11)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体において、好ましくは、前記RFIDタグは、前記第1固定手段として、穴を備えるRFIDタグ埋設体の製造方法であって、前記RFIDタグ埋設工程は、前記RFIDタグのうち少なくとも前記穴の部分を前記硬化性シリコーン系接着層に完全に埋設する。 (11) In the RFID tag embedded body according to another embodiment, preferably, the RFID tag is a method for manufacturing an RFID tag embedded body having a hole as the first fixing means, wherein the RFID tag embedding step includes: At least the hole portion of the RFID tag is completely embedded in the curable silicone-based adhesive layer.

(12)別の実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法は、好ましくは、前記硬化性シリコーン系接着層に埋設された前記RFIDタグを、第2固定手段により当該接着層に固定する固定工程を含み、前記硬化工程は、前記第2固定手段により前記RFIDタグが固定された前記硬化性シリコーン系接着層を硬化させてシリコーン系エラストマーのシートを形成する。 (12) In a method of manufacturing an embedded RFID tag according to another embodiment, preferably, a fixing step of fixing the RFID tag embedded in the curable silicone-based adhesive layer to the adhesive layer by a second fixing means. In the curing step, the curable silicone adhesive layer to which the RFID tag is fixed by the second fixing means is cured to form a silicone elastomer sheet.

本発明によれば、金属対応のRFIDの使用による高価格化を招くことのないように金属非対応のRFIDタグの使用を前提とし、リーダとの通信に際して金属の影響を受けにくく、かつ金属面に対して強固に固定することができるRFIDタグ埋設体およびその製造方法を提供できる。   According to the present invention, it is assumed that a non-metallic RFID tag is used so as not to cause a high price due to the use of a metal-compatible RFID. And an RFID tag embedded body that can be firmly fixed to the RFID tag and a method of manufacturing the same.

図1は、本発明の第1実施形態に係るRFIDタグ埋設体を金属の表面に備える状況の一部分解斜視図(1A)、当該RFIDタグ埋設体の上面図(1B)、および変形例に係る当該RFIDタグ埋設体の上面図(1C)を示す。FIG. 1 shows a partially exploded perspective view (1A) of a situation where an embedded RFID tag according to the first embodiment of the present invention is provided on a metal surface, a top view (1B) of the embedded RFID tag, and a modification. A top view (1C) of the embedded RFID tag is shown. 図2は、図1(1B)のRFIDタグ埋設体を備える金属をその厚さ方向に切断した断面図(2A)、図1(1C)のRFIDタグ埋設体を備える金属をその厚さ方向に切断した断面図(2B)、および図1中のRFIDタグ埋設体を構成するRFIDタグの概略透過平面図(2C)をそれぞれ示す。FIG. 2 is a cross-sectional view (2A) of the metal provided with the embedded RFID tag of FIG. 1 (1B) cut in the thickness direction thereof, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the metal provided with the embedded RFID tag of FIG. 1 (1C). A cut-away cross-sectional view (2B) and a schematic transmission plan view (2C) of the RFID tag constituting the embedded RFID tag in FIG. 1 are shown, respectively. 図3は、本発明の第1実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法のフローチャート(3A)、図1(1B)のRFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(3B)、および図1(1C)のRFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(3C)をそれぞれ示す。FIG. 3 is a flowchart (3A) of the method of manufacturing the embedded RFID tag according to the first embodiment of the present invention, a cross-sectional view (3B) of the manufacturing process of the embedded RFID tag of FIG. 1 (1B), and FIG. 1C) is a cross-sectional view (3C) of the manufacturing process of the RFID tag embedded body, respectively. 図4は、本発明の第2実施形態に係るRFIDタグ埋設体の図2(2A)と同視の断面図(4A)、および当該RFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(4B)をそれぞれ示す。FIG. 4 is a cross-sectional view (4A) of the embedded RFID tag according to the second embodiment of the present invention, which is the same as FIG. 2 (2A), and a cross-sectional view (4B) of the manufacturing process of the embedded RFID tag. . 図5は、本発明の第3実施形態に係るRFIDタグ埋設体の図2(2A)と同視の断面図を示す。FIG. 5 is a cross-sectional view of the RFID tag-embedded body according to the third embodiment of the present invention, taken along the line of FIG. 図6は、本発明の第4実施形態に係るRFIDタグ埋設体の上面図を示す。FIG. 6 shows a top view of the RFID tag embedded body according to the fourth embodiment of the present invention. 図7は、本発明の第5実施形態に係るRFIDタグ埋設体の図2(2A)と同視の断面図(7A)、および当該RFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(7B)をそれぞれ示す。FIG. 7 shows a cross-sectional view (7A) of the embedded RFID tag according to the fifth embodiment of the present invention, as viewed in FIG. 2 (2A), and a cross-sectional view (7B) of the manufacturing process of the embedded RFID tag. .

以下、本発明の各実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下に説明する各実施形態は、特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。また、各実施形態の中で説明されている諸要素およびその組み合わせの全てが本発明の解決手段に必須であるとは限らない。各実施形態においては、基本的な構成および特徴が同じ構成要素については、実施形態をまたぎ同じ符号を使用し、説明を省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Each embodiment described below does not limit the invention according to the claims. In addition, not all of the elements and combinations described in the embodiments are essential to the solution of the present invention. In each of the embodiments, the same reference numerals are used for components having the same basic configuration and features over the embodiments, and description thereof may be omitted.

1.RFIDタグ埋設体
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係るRFIDタグ埋設体を金属の表面に備える状況の一部分解斜視図(1A)、当該RFIDタグ埋設体の上面図(1B)、および変形例に係る当該RFIDタグ埋設体の上面図(1C)を示す。図2は、図1(1B)のRFIDタグ埋設体を備える金属をその厚さ方向に切断した断面図(2A)、図1(1C)のRFIDタグ埋設体を備える金属をその厚さ方向に切断した断面図(2B)、および図1中のRFIDタグ埋設体を構成するRFIDタグの概略透過平面図(2C)をそれぞれ示す。
1. RFID tag embedded body (first embodiment)
FIG. 1 shows a partially exploded perspective view (1A) of a situation where an embedded RFID tag according to the first embodiment of the present invention is provided on a metal surface, a top view (1B) of the embedded RFID tag, and a modification. A top view (1C) of the embedded RFID tag is shown. FIG. 2 is a cross-sectional view (2A) of the metal provided with the embedded RFID tag of FIG. 1 (1B) cut in the thickness direction thereof, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the metal provided with the embedded RFID tag of FIG. 1 (1C). A cut-away cross-sectional view (2B) and a schematic transmission plan view (2C) of the RFID tag constituting the embedded RFID tag in FIG. 1 are shown, respectively.

第1実施形態に係るRFIDタグ埋設体1は、金属Mに固定される部材であって、シリコーン系エラストマーのシート10と、シート10の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置まで埋設される非金属対応のRFIDタグ15と、を備える。また、RFIDタグ15は、シート10に固定するための穴20を備える。また、RFIDタグ埋設体1は、RFIDタグ15をシート10に固定する固定部材25(第2固定手段の一例)を備えても良い。図1は、RFIDタグ埋設体1からRFIDタグ15および固定部材25が分離された状態を示している。以下、シート10、RFIDタグ15、および固定部材25について詳述する。   The embedded RFID tag body 1 according to the first embodiment is a member fixed to a metal M, and includes a sheet 10 of a silicone-based elastomer and a position from the surface of the sheet 10 toward the inside and not reaching the surface of the metal M. A non-metallic RFID tag 15 to be embedded. Further, the RFID tag 15 includes a hole 20 for fixing the RFID tag to the sheet 10. Further, the embedded RFID tag body 1 may include a fixing member 25 (an example of a second fixing unit) for fixing the RFID tag 15 to the sheet 10. FIG. 1 shows a state in which the RFID tag 15 and the fixing member 25 are separated from the embedded RFID tag 1. Hereinafter, the sheet 10, the RFID tag 15, and the fixing member 25 will be described in detail.

1.1 シート
シート10は、シリコーン系エラストマーから成る。図1では、シート10は、平面視で矩形の形状を有するが、その形状に制約はない。シート10は、硬化性シリコーン系接着層(以後、適宜、単に「接着層」あるいは「接着剤」と称することもある。)を硬化した部材である。シート10は、自己接着シリコーンゴムの硬化体と称することもできる。接着層は、無溶剤のシリコーン系接着剤の一種であり、高い接着力を有するとともに、硬化後には熱安定性、耐候性、良好な耐水性、優れた可撓性を有するシート10となる。接着層は、自立した形状を保持でき、かつ、押圧力に従って変形可能な可塑性を有する固形物である。このため、接着層は、配置する場所の凹凸や曲面に応じて変形させ、配置する場所に密着させることが可能である。
1.1 Sheet The sheet 10 is made of a silicone elastomer. In FIG. 1, the sheet 10 has a rectangular shape in plan view, but there is no limitation on the shape. The sheet 10 is a member obtained by curing a curable silicone-based adhesive layer (hereinafter, may be simply referred to as “adhesive layer” or “adhesive” as appropriate). The sheet 10 can also be referred to as a cured body of a self-adhesive silicone rubber. The adhesive layer is a kind of a non-solvent silicone adhesive and has a high adhesive strength, and after curing, becomes a sheet 10 having heat stability, weather resistance, good water resistance, and excellent flexibility. The adhesive layer is a solid material that can maintain a self-supporting shape and has plasticity that can be deformed according to a pressing force. For this reason, the adhesive layer can be deformed in accordance with the unevenness or the curved surface of the place where it is arranged, and can be closely attached to the place where it is arranged.

シート10の硬化前の状態にある接着層は、25℃におけるウイリアムス可塑度が50〜500の範囲内にあることが好ましい。なお、ウイリアムス可塑度は、平行板可塑度計(ウイリアムスプラストメーター)を使用し、JIS K 6249「未硬化および硬化シリコーンゴムの試験方法」に規定の測定方法に準じて測定されるものである。接着層は、縮合反応型の硬化性シリコーンゴム組成物であり、好ましくは常温で放置することにより空気中の水分と反応させるという手軽な手段によって硬化可能である。接着層を硬化して成るシリコーン系エラストマーは、好ましくは、湿気硬化シリコーン系エラストマーである。なお、接着層は、付加反応型の硬化性シリコーンゴム組成物であって、加熱により硬化する層であっても良い。その場合には、シート10は、加熱硬化シリコーン系エラストマーから成る。以下、接着層となる縮合反応型の硬化性シリコーンゴム組成物および付加反応型の硬化性シリコーンゴム組成物について詳述する。   The adhesive layer in a state before the sheet 10 is cured preferably has a Williams plasticity at 25 ° C. in the range of 50 to 500. The Williams plasticity is measured using a parallel plate plasticity meter (Williams plastometer) according to the measurement method prescribed in JIS K 6249 "Testing methods for uncured and cured silicone rubber". The adhesive layer is a condensation-reaction-type curable silicone rubber composition, and can be cured preferably by a simple means of allowing it to react with moisture in the air by leaving it at room temperature. The silicone-based elastomer obtained by curing the adhesive layer is preferably a moisture-cured silicone-based elastomer. The adhesive layer is an addition-reaction-type curable silicone rubber composition, and may be a layer that is cured by heating. In that case, the sheet 10 is made of a heat-curable silicone-based elastomer. Hereinafter, the condensation reaction type curable silicone rubber composition and the addition reaction type curable silicone rubber composition serving as an adhesive layer will be described in detail.

(1)縮合反応型の硬化性シリコーンゴム組成物
縮合反応型の硬化性シリコーンゴム組成物は、主に以下の成分から構成される。
(1) Condensation reaction type curable silicone rubber composition The condensation reaction type curable silicone rubber composition is mainly composed of the following components.

(1−1)オルガノポリシロキサン
オルガノポリシロキサンは、縮合反応型の硬化性シリコーンゴム組成物の主剤成分であり、好ましくは、下記の化学式(1)または化学式(2)により表されるジオルガノポリシロキサンである。
(1-1) Organopolysiloxane The organopolysiloxane is a main component of the condensation-curable silicone rubber composition, and is preferably a diorganopoly represented by the following chemical formula (1) or (2). Siloxane.

上記の化学式(1),(2)において、Rは一価の炭化水素基である。Rとしては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−エチルブチル基、オクチル基等)、シクロアルキル基(シクロヘキシル基、シクロペンチル基等)、アルケニル基(ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、アリル基等)、アリール基(フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ジフェニル基等)、アラルキル基(ベンジル基、フェニルエチル基等)、および、上記炭化水素基の炭素原子に結合している水素原子の少なくとも一部をハロゲンやシアノ基等で置換したもの(クロロメチル基、トリフルオロプロピル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基等)から選択される一または複数の炭化水素基を挙げることができる。Rの炭素数としては、1〜12であることが好ましく、1〜10であることが一層好ましい。上記の化学式(1),(2)においては、Aは酸素原子または−(CH−(mは1〜8)で表されるポリメチレン基(メチレン基を含む)である。Aは、酸素原子またはエチレン基であることが好ましい。 In the above chemical formulas (1) and (2), R is a monovalent hydrocarbon group. R represents an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-ethylbutyl group, octyl group, etc.), a cycloalkyl group (cyclohexyl group, cyclopentyl group, etc.), an alkenyl group (vinyl group, propenyl group, Butenyl, heptenyl, hexenyl, allyl, etc.), aryl (phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl, diphenyl, etc.), aralkyl (benzyl, phenylethyl, etc.) Select from those in which at least a part of the hydrogen atom bonded to the carbon atom of the hydrogen group is substituted with a halogen, a cyano group, or the like (chloromethyl group, trifluoropropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, etc.). One or more hydrocarbon groups. The carbon number of R is preferably 1 to 12, more preferably 1 to 10. The above formula (1), in (2), A is an oxygen atom or - (m is 1-8) (including the methylene group) polymethylene group represented by - (CH 2) m. A is preferably an oxygen atom or an ethylene group.

上記の化学式(1),(2)において、nは(1−1)成分の25℃における動粘度を100〜1000000cm/sの範囲内とする任意の数である。当該動粘度は、500〜500000cm/sの範囲内とすることが一層好ましい。 In the above chemical formulas (1) and (2), n is an arbitrary number that makes the kinematic viscosity at 25 ° C. of the component (1-1) within a range of 100 to 1,000,000 cm 2 / s. More preferably, the kinematic viscosity is in the range of 500 to 500,000 cm 2 / s.

上記の化学式(1),(2)において、Bは加水分解性基である。Bとしては、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等)、ケトオキシム基(ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基等)、アシルオキシ基(アセトキシ基等)、アルケニルオキシ基(イソプロペニルオキシ基、イソブテニルオキシ基等)を挙げることができる。なお、上記の化学式(1),(2)におけるxは2または3である。   In the above chemical formulas (1) and (2), B is a hydrolyzable group. As B, an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group, etc.), a ketoxime group (dimethyl ketoxime group, methyl ethyl ketoxime group, etc.), an acyloxy group (acetoxy group, etc.), an alkenyloxy group (isopropenyloxy group, etc.) Group, isobutenyloxy group, etc.). In the above chemical formulas (1) and (2), x is 2 or 3.

上記(1−1)成分は、公知の方法(例えば、環状シロキサンまたは線状オリゴマーと酸触媒または塩基触媒とを用いた平衡反応による方法)により製造することができる。   The component (1-1) can be produced by a known method (for example, a method by an equilibrium reaction using a cyclic siloxane or a linear oligomer and an acid catalyst or a base catalyst).

なお、(1−1)成分であるジオルガノポリシロキサンに分岐構造を導入する場合には、常法として、重合中にSiO3/2単位およびSiO4/2単位のうち少なくとも一方を含むシランまたはシロキサンをジオルガノポリシロキサンがゲル化しない程度に添加する方法を用いることができる。(1−1)成分については、汚れを低減するため、洗浄等により低分子シロキサンを除去してから用いることが好ましい。 When a branched structure is introduced into the diorganopolysiloxane as the component (1-1), a silane containing at least one of a SiO 3/2 unit and a SiO 4/2 unit during polymerization is usually used. A method in which siloxane is added to such an extent that the diorganopolysiloxane does not gel can be used. The component (1-1) is preferably used after removing low-molecular siloxane by washing or the like in order to reduce dirt.

(1−2)架橋剤
架橋剤としては、加水分解性基を1分子中に2個以上、好ましくは3個以上有するシラン、または、当該シランの部分加水分解縮合物を用いる。加水分解性基の例としては、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等)、ケトオキシム基(ジメチルケトオキシム基、メチルエチルケトオキシム基等)、アシルオキシ基(アセトキシ基等)、アルケニルオキシ基(イソプロペニルオキシ基、イソブテニルオキシ基等)、アミノ基(N−ブチルアミノ基、N,N−ジエチルアミノ基等)、アミド基(N−メチルアセトアミド基等)を挙げることができる。これらの中では、アルコキシ基、ケトオキシム基、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基を用いることが好ましい。架橋剤の配合量は、(1−1)成分100質量部に対して1〜50質量部の範囲内にあることが好ましく、2〜30質量部の範囲内にあることが一層好ましく、5〜20質量部の範囲内にあることがより一層好ましい。
(1-2) Crosslinking Agent As the crosslinking agent, a silane having two or more, preferably three or more hydrolyzable groups in one molecule, or a partially hydrolyzed condensate of the silane is used. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group (methoxy group, ethoxy group, butoxy group, etc.), a ketoxime group (dimethylketoxime group, methylethylketoxime group, etc.), an acyloxy group (acetoxy group, etc.), an alkenyloxy group (iso Examples thereof include a propenyloxy group, an isobutenyloxy group and the like, an amino group (N-butylamino group, an N, N-diethylamino group and the like), and an amide group (N-methylacetamido group and the like). Among these, it is preferable to use an alkoxy group, a ketoxime group, an acyloxy group, and an alkenyloxy group. The compounding amount of the crosslinking agent is preferably in the range of 1 to 50 parts by mass, more preferably in the range of 2 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the component (1-1). Even more preferably, it is in the range of 20 parts by mass.

(1−3)硬化触媒
硬化触媒は必須ではないが、硬化触媒を用いることにより、硬化性シリコーンゴム組成物の硬化を促進することができる。硬化触媒の例としては、アルキル錫エステル化合物(ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクトエート等)、チタン酸エステルまたはチタンキレート化合物(テトライソプロポキシチタン、テトラn−ブトキシチタン、テトラキス(2−エチルヘキソキシ)チタン、ジプロポキシビス(アセチルアセトナ)チタン、チタニウムイソプロポキシオクチレングリコール等)、その他の適切な有機金属化合物(ナフテン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、亜鉛−2−エチルオクトエート、鉄−2−エチルヘキソエート、コバルト−2−エチルヘキソエート、マンガン−2−エチルヘキソエート、ナフテン酸コバルト、アルコキシアルミニウム化合物等)、アミノアルキル基置換アルコキシシラン(3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等)、アミン化合物またはその塩(ヘキシルアミン、リン酸ドデシルアミン等)、第4級アンモニウム塩(ベンジルトリエチルアンモニウムアセテート等)、アルカリ金属の低級脂肪酸塩(酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、シュウ酸リチウム等)、のアルカリ金属の低級脂肪酸塩、ジアルキルヒドロキシルアミン(ジメチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン等)、グアニジル基を有するシランまたはシロキサン(テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルメチルジメトキシシラン、テトラメチルグアニジルプロピルトリス(トリメチルシロキシ)シラン等)を挙げることができる。これらは、1種のみで用いてもよいし、2種以上の混合物として用いてもよい。硬化触媒の配合量は、(1−1)成分100質量部に対して0〜20質量部の範囲内にあることが好ましく、0.001〜10質量部の範囲内にあることが一層好ましく、0.01〜5質量部の範囲内にあることがより一層好ましい。
(1-3) Curing Catalyst A curing catalyst is not essential, but by using a curing catalyst, curing of the curable silicone rubber composition can be promoted. Examples of the curing catalyst include alkyltin ester compounds (dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin dioctoate, etc.), titanate or titanium chelate compounds (tetraisopropoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, tetrakis (2- Ethylhexoxy) titanium, dipropoxybis (acetylacetona) titanium, titanium isopropoxyoctylene glycol, and other suitable organometallic compounds (zinc naphthenate, zinc stearate, zinc-2-ethyloctoate, iron-2) -Ethylhexoate, cobalt-2-ethylhexoate, manganese-2-ethylhexoate, cobalt naphthenate, alkoxyaluminum compound, etc.), aminoalkyl-substituted alkoxysilane (3-aminopropyltrie Xysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, etc.), amine compounds or salts thereof (hexylamine, dodecylamine phosphate, etc.), quaternary ammonium salts (benzyltriethylammonium acetate, etc.), alkali metals Lower fatty acid salts (eg, potassium acetate, sodium acetate, lithium oxalate), alkali metal lower fatty acid salts, dialkylhydroxylamine (dimethylhydroxylamine, diethylhydroxylamine, etc.), silane or siloxane having a guanidyl group (tetramethylg Anisylpropyltrimethoxysilane, tetramethylguanidylpropylmethyldimethoxysilane, tetramethylguanidylpropyltris (trimethylsiloxy) silane, etc.). These may be used alone or as a mixture of two or more. The amount of the curing catalyst is preferably in the range of 0 to 20 parts by mass, more preferably in the range of 0.001 to 10 parts by mass, per 100 parts by mass of the component (1-1). Even more preferably, it is in the range of 0.01 to 5 parts by mass.

(1−4)充填剤
充填剤は、必須ではないが、補強等の目的で好適に用いることができる。充填剤の例としては、補強剤(ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、これらのシリカの表面を有機珪素化合物で疎水化処理したシリカ、石英粉末、タルク、ゼオライト、ベントナイト等)、繊維質充填剤(アスベスト、ガラス繊維、有機繊維等)、塩基性充填剤(炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、セライト等)を挙げることができる。これらの中では、シリカ、炭酸カルシウムおよびゼオライトを用いることが好ましく、表面を疎水化処理したヒュームドシリカおよび炭酸カルシウムを用いることが一層好ましい。上記充填剤の配合量は、目的や充填剤の種類により選択することができるが、(1−1)成分に対して1〜90体積%の範囲内にあり、5〜60体積%の範囲内にあることが好ましい。
(1-4) Filler The filler is not essential, but can be suitably used for the purpose of reinforcement or the like. Examples of fillers include reinforcing agents (fumed silica, precipitated silica, silica whose surface has been hydrophobized with an organosilicon compound, quartz powder, talc, zeolite, bentonite, etc.), and fibrous fillers ( Asbestos, glass fibers, organic fibers, etc.) and basic fillers (calcium carbonate, zinc carbonate, zinc oxide, magnesium oxide, celite, etc.). Among these, it is preferable to use silica, calcium carbonate and zeolite, and it is more preferable to use fumed silica and calcium carbonate whose surfaces have been subjected to hydrophobic treatment. The amount of the filler can be selected depending on the purpose and the kind of the filler, but is in the range of 1 to 90% by volume, and in the range of 5 to 60% by volume based on the component (1-1). Is preferred.

(1−5)接着性付与成分
接着性付与成分は必須ではないが好適に用いられる。接着性付与成分の例としては、アミノ基含有オルガノアルコキシシラン(γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン等)、エポキシ基含有オルガノアルコキシシラン(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等)、メルカプト含有オルガノアルコキシシラン(γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等)、アミノ基含有オルガノアルコキシシランとエポキシ基含有オルガノアルコキシシランとの反応混合物を挙げることができる。接着性付与成分の配合量は、(1−1)成分100質量部に対して0.1〜5質量部の範囲内にあることが好ましい。
(1-5) Adhesiveness-imparting component The adhesiveness-imparting component is not essential but is preferably used. Examples of the adhesion-imparting component include amino-containing organoalkoxysilanes (such as γ-aminopropyltrimethoxysilane and γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane), and epoxy-containing organoalkoxysilanes (γ-glycol). Sidoxypropyltrimethoxysilane and the like), mercapto-containing organoalkoxysilanes (γ-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like), and a reaction mixture of an amino group-containing organoalkoxysilane and an epoxy group-containing organoalkoxysilane can be exemplified. The compounding amount of the adhesion-imparting component is preferably in the range of 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (1-1).

(2)付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物
シート10を付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物を硬化して得る場合、その付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物は、主に以下の成分から構成される。
(2) Addition-curable curable silicone rubber composition When the sheet 10 is obtained by curing the addition-curable curable silicone rubber composition, the addition-curable curable silicone rubber composition mainly comprises the following: Consists of components.

(2−1)オルガノポリシロキサン
オルガノポリシロキサンは、付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物の主剤であり、一分子中に平均2個以上のアルケニル基を有する。アルケニル基の例としては、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基およびヘプテニル基を挙げることができる。これらの中では、ビニル基を用いることが好ましい。また、本成分中、アルケニル基以外のケイ素原子に結合する有機基の例としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、アリール基(フェニル基、トリル基、キシリル基等)、ハロゲン化アルキル基(3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等)を挙げることができる。これらの中では、メチル基を用いることが好ましい。本成分の分子構造の例としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、網状、樹枝状を挙げることができる。本成分の25℃における粘度は100000mPa・s以上であることが好ましく、1000000mPa・s以上であることが一層好ましい。
(2-1) Organopolysiloxane An organopolysiloxane is a main component of an addition-curable curable silicone rubber composition, and has an average of two or more alkenyl groups in one molecule. Examples of alkenyl groups include vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, hexenyl and heptenyl. Among these, it is preferable to use a vinyl group. In this component, examples of the organic group bonded to a silicon atom other than the alkenyl group include an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group) and an aryl group (a phenyl group). , A tolyl group, a xylyl group, etc.) and a halogenated alkyl group (a 3-chloropropyl group, a 3,3,3-trifluoropropyl group, etc.). Among these, it is preferable to use a methyl group. Examples of the molecular structure of this component include linear, partially branched linear, branched, reticulated, and dendritic. The viscosity of this component at 25 ° C. is preferably at least 100,000 mPa · s, and more preferably at least 1,000,000 mPa · s.

本成分のオルガノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン、分子鎖両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキサン共重合体、(CHSiO1/2で示されるシロキサン単位と(CH(CH=CH)SiO1/2で示されるシロキサン単位とSiO4/2で示されるシロキサン単位とからなるオルガノポリシロキサン、これらのオルガノポリシロキサンのメチル基の少なくとも一部をアルキル基(エチル基、プロピル基等)、アリール基(フェニル基、トリル基等)、ハロゲン化アルキル基(3,3,3−トリフルオロプロピル基等)から選ばれる置換基で置換したオルガノポリシロキサン、これらのオルガノポリシロキサンのビニル基の少なくとも一部をアルケニル基(アリル基、プロペニル基等)で置換したオルガノポリシロキサン、および、これらのオルガノポリシロキサンの2種以上の混合物を用いることができる。 Examples of the organopolysiloxane of this component include dimethylvinylsiloxy group-blocked polydimethylsiloxane at both molecular chain terminals, dimethylvinylsiloxy group-blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer at both molecular chain terminals, and trimethylsiloxy group at both molecular chain terminals. Blocked dimethylsiloxane / methylvinylsiloxane copolymer, a siloxane unit represented by (CH 3 ) 3 SiO 1/2 and a siloxane unit represented by (CH 3 ) 2 (CH 2 CHCH) SiO 1/2 , and SiO 4 / An organopolysiloxane comprising a siloxane unit represented by formula (2), wherein at least a part of a methyl group of these organopolysiloxanes is an alkyl group (ethyl group, propyl group, etc.), an aryl group (phenyl group, tolyl group, etc.), halogenated Alkyl group (3,3,3-trifluoro An organopolysiloxane substituted with a substituent selected from propyl groups and the like, an organopolysiloxane in which at least a part of the vinyl group of these organopolysiloxanes is substituted with an alkenyl group (an allyl group, a propenyl group, and the like), and Mixtures of two or more organopolysiloxanes can be used.

(2−2)水素化オルガノポリシロキサン
水素化オルガノポリシロキサンは、付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物の硬化剤として作用するものであり、1分子中に平均2個以上のケイ素原子結合水素を有する。本成分中のケイ素に結合する有機基の例としては、アルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等)、アリール基(フェニル基、トリル基、キシリル基等)、ハロゲン化アルキル基(3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基等)を挙げることができる。上記の中では、メチル基を用いることが好ましい。本成分の分子構造の例としては、直鎖状、一部分枝を有する直鎖状、分枝鎖状、網状、樹枝状を挙げることができる。本成分の25℃における粘度は限定されないが、1〜1000000mPa・sの範囲内にあることが好ましく、1〜10000mPa・sの範囲内にあることが一層好ましい。
(2-2) Hydrogenated organopolysiloxane Hydrogenated organopolysiloxane acts as a curing agent for an addition-curable curable silicone rubber composition, and has an average of two or more silicon-bonded hydrogen atoms per molecule. Having. Examples of the organic group bonded to silicon in this component include an alkyl group (methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, etc.) and an aryl group (phenyl group, tolyl group, xylyl group, etc.) ) And halogenated alkyl groups (such as a 3-chloropropyl group and a 3,3,3-trifluoropropyl group). Among the above, it is preferable to use a methyl group. Examples of the molecular structure of this component include linear, partially branched linear, branched, reticulated, and dendritic. The viscosity of this component at 25 ° C. is not limited, but is preferably in the range of 1 to 1,000,000 mPa · s, and more preferably in the range of 1 to 10,000 mPa · s.

本成分の水素化オルガノポリシロキサンとしては、例えば、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ポリジメチルシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ポリメチルハイドロジェンシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、環状ポリメチルハイドロジェンシロキサン、(CHHSiO1/2で示されるシロキサン単位とSiO4/2で示されるシロキサン単位とからなるオルガノポリシロキサン、これらのオルガノポリシロキサンのメチル基の少なくとも一部をアルキル基(エチル基、プロピル基等)、アリール基(フェニル基、トリル基等)、ハロゲン化アルキル基(3,3,3−トリフルオロプロピル基等)で置換したオルガノポリシロキサン、および、これらのオルガノポリシロキサンの2種以上の混合物を用いることができる。これらの中では、得られる硬化物の機械的特性(特に伸び)が向上することから、分子鎖両末端にのみケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンと分子鎖側鎖にケイ素原子結合を有するオルガノポリシロキサンとの混合物を用いることが好ましい。 Examples of the hydrogenated organopolysiloxane of this component include polydimethylsiloxane having dimethylhydrogensiloxy groups at both ends of molecular chains, polymethylhydrogensiloxane having trimethylsiloxy groups at both ends, and dimethylsiloxane having trimethylsiloxy ends at both molecular chains. A methylhydrogensiloxane copolymer, a cyclic polymethylhydrogensiloxane, an organopolysiloxane comprising a siloxane unit represented by (CH 3 ) 2 HSiO 1/2 and a siloxane unit represented by SiO 4/2 , and an organopolysiloxane thereof. At least a part of the methyl group of the polysiloxane is an alkyl group (ethyl group, propyl group, etc.), an aryl group (phenyl group, tolyl group, etc.), a halogenated alkyl group (3,3,3-trifluoropropyl group, etc.). Replaced Ol Bruno polysiloxanes, and it may be used mixtures of two or more of these organopolysiloxanes. Among these, since the mechanical properties (especially elongation) of the obtained cured product are improved, an organopolysiloxane having silicon atom-bonded hydrogen atoms only at both ends of the molecular chain and a silicon atom bond in a molecular chain side chain are provided. It is preferred to use a mixture with an organopolysiloxane.

付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物における本成分の含有量は、(2−1)成分中のアルケニル基に対する本成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.01〜20の範囲内となる量であり、0.1〜10の範囲内となる量であることが好ましく、0.1〜5の範囲内となる量であることが一層好ましい。上記のような範囲としたのは、本成分の含有量が上記範囲の下限以上であると、自己接着シリコーンゴムが十分に硬化しやすくなる傾向があるからであり、一方、上記範囲の上限以下では、硬化したシート10の機械的特性がより高くなる傾向があるからである。また、本成分として、分子鎖両末端にのみケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロキサンと分子鎖側鎖にケイ素原子結合を有するオルガノポリシロキサンとの混合物を用いる場合には、前者のオルガノポリシロキサンの含有量は、(2−1)成分中のアルケニル基に対する本成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.01〜10の範囲内となる量であることが好ましく、0.1〜10の範囲内となる量であることが一層好ましく、0.1〜5の範囲内となる量であることがより一層好ましい。また、後者のオルガノポリシロキサンの含有量は、(2−1)成分中のアルケニル基に対する本成分中のケイ素原子結合水素原子のモル比が0.5〜20の範囲内となる量であることが好ましく、0.5〜10の範囲内となる量であることが一層好ましく、0.5〜5の範囲内となる量であることが一層好ましい。   The content of this component in the addition-curable curable silicone rubber composition is such that the molar ratio of silicon-bonded hydrogen atoms in this component to alkenyl groups in component (2-1) is in the range of 0.01 to 20. The amount is preferably in the range of 0.1 to 10, more preferably in the range of 0.1 to 5. The reason for setting the above range is that when the content of this component is equal to or more than the lower limit of the above range, the self-adhesive silicone rubber tends to be sufficiently cured, while the upper limit of the above range is equal to or less than the upper limit. In this case, the mechanical properties of the cured sheet 10 tend to be higher. When a mixture of an organopolysiloxane having a silicon-bonded hydrogen atom only at both molecular chain terminals and an organopolysiloxane having a silicon-bonded molecular side chain is used as the component, the former organopolysiloxane may be used. Is preferably such that the molar ratio of silicon-bonded hydrogen atoms in this component to alkenyl groups in component (2-1) is in the range of 0.01 to 10, preferably 0.1 to 10. The amount is more preferably in the range of 10 and even more preferably in the range of 0.1 to 5. The content of the latter organopolysiloxane is such that the molar ratio of silicon-bonded hydrogen atoms in this component to alkenyl groups in component (2-1) is in the range of 0.5 to 20. Is preferably in the range of 0.5 to 10, and more preferably in the range of 0.5 to 5.

(2−3)硬化触媒
硬化触媒は必須ではないが、好ましい例としてヒドロシリル化反応用白金系触媒を挙げることができる。ヒドロシリル化反応用白金系触媒の例としては、白金微粉末、白金黒、塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、白金とジケトンの錯体、塩化白金酸とオレフィン類の錯体、塩化白金酸とアルケニルシロキサンとの錯体、および、これらを担体(アルミナ、シリカ、カーボンブラック等)に担持させたものを挙げることができる。これらの中では、触媒活性の高さから、塩化白金酸とアルケニルシロキサンとの錯体を用いることが好ましい。また、塩化白金酸とジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体を用いることが一層好ましい。本成分の配合量は、(2−1)成分100万質量部に対して、白金金属原子として1〜1000質量部の範囲内にあることが好ましく、1〜100質量部の範囲内にあることが一層好ましい。
(2-3) Curing Catalyst A curing catalyst is not essential, but a preferred example is a platinum-based catalyst for a hydrosilylation reaction. Examples of platinum-based catalysts for the hydrosilylation reaction include platinum fine powder, platinum black, chloroplatinic acid, alcohol-modified chloroplatinic acid, complexes of platinum and diketone, complexes of chloroplatinic acid and olefins, chloroplatinic acid and alkenylsiloxane. And those in which these are supported on a carrier (alumina, silica, carbon black, etc.). Among these, it is preferable to use a complex of chloroplatinic acid and alkenylsiloxane from the viewpoint of high catalytic activity. Further, it is more preferable to use a complex of chloroplatinic acid and divinyltetramethyldisiloxane. The compounding amount of this component is preferably in the range of 1 to 1000 parts by mass, and more preferably in the range of 1 to 100 parts by mass as platinum metal atom, based on 1,000,000 parts by mass of the component (2-1). Is more preferred.

(2−4)充填剤
充填剤は、付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物の機械的強度を向上させるために添加する方が好ましいものであり、通常、シリコーンゴムの配合に用いられる公知の化合物を用いることができる。本成分としては、例えば、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、焼成シリカ、粉砕石英、および、これらのシリカの粉末を有機ケイ素化合物(オルガノアルコキシシラン、オルガノハロシラン、オルガノシラザン等)で表面処理した粉末を挙げることができる。特に、硬化したシート10の機械的強度を十分に向上させるためには、本成分としてBET比表面積が50m/g以上であるシリカ粉末を用いることが好ましい。
(2-4) Filler The filler is preferably added in order to improve the mechanical strength of the addition-curable curable silicone rubber composition, and a known filler usually used for compounding silicone rubber is used. Compounds can be used. As this component, for example, fumed silica, precipitated silica, calcined silica, crushed quartz, and powder obtained by subjecting these silica powders to surface treatment with an organosilicon compound (organoalkoxysilane, organohalosilane, organosilazane, etc.) Can be mentioned. In particular, in order to sufficiently improve the mechanical strength of the cured sheet 10, it is preferable to use a silica powder having a BET specific surface area of 50 m 2 / g or more as this component.

付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物において、本成分の添加は任意であるが、硬化した自己接着シリコーンゴムの機械的強度を向上させるためには、本成分の配合量が(2−1)成分100質量部に対して1〜1000質量部の範囲内にあることが好ましく、1〜400質量部の範囲内にあることが一層好ましい。また、付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物は、その他任意の成分として、例えば、ヒュームド酸化チタン、ケイ藻土、酸化鉄、酸化アルミニウム、アルミノケイ酸塩、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、水酸化アルミニウム等の無機質充填剤および有機充填剤を含有していてもよい。付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物は、これらの充填剤の表面を前記の有機ケイ素化合物で処理した充填剤を含有していても良い。充填剤の配合量は、目的や充填剤の種類により選択することができるが、(2−1)成分に対して1〜90体積%の範囲内にあり、5〜60体積%の範囲内にあることが好ましい。   In the addition-curable curable silicone rubber composition, the addition of this component is optional, but in order to improve the mechanical strength of the cured self-adhesive silicone rubber, the amount of this component is (2-1). It is preferably in the range of 1 to 1000 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 400 parts by mass, based on 100 parts by mass of the component. In addition, the addition-curable curable silicone rubber composition may include, as other optional components, for example, fumed titanium oxide, diatomaceous earth, iron oxide, aluminum oxide, aluminosilicate, calcium carbonate, zinc oxide, aluminum hydroxide, and the like. And an inorganic filler and an organic filler. The addition-curable curable silicone rubber composition may contain a filler obtained by treating the surface of these fillers with the aforementioned organosilicon compound. The compounding amount of the filler can be selected depending on the purpose and the kind of the filler. Preferably, there is.

(2−5)接着性付与成分
本成分は、必須ではないが、付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物を接着剤として機能させるためにその接着性を付与、向上させるために好適に用いることができるものである。本成分の例として、シランカップリング剤およびこれらの部分加水分解物(メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス(トリメトキシシリル)プロパン、ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン等)、「エポキシ基、酸無水物基、αシアノアクリル基」を有する有機化合物、「エポキシ基、酸無水物基、αシアノアクリル基」を有するシロキサン化合物、「エポキシ基、酸無水物基、αシアノアクリル基」とアルコキシシリル基とを併有する有機化合物またはシロキサン化合物、チタン化合物(テトラエチルチタネート、テトラプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンエチルアセトネート、チタンアセチルアセトネート等)、アルミニウム化合物(エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(アセチルアセトネート)、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)等)、ジルコニウム化合物(ジルコニウムアセチルアセトネート、ジルコニウムブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムビスアセチルアセトネート、ジルコニウムエチルアセトアセテート等)を挙げることができる。なお、上記のシロキサン化合物としては、アルケニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等の低級脂肪族不飽和基またはこれらとヒドロシリル基とを併有するものが接着性向上について効果的な寄与を期待できる。上記接着性付与成分の含有量は、特に限定されないが、(2−1)成分100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲内にあることが好ましい。
(2-5) Adhesiveness-imparting component This component is not essential, but is preferably used for imparting and improving the adhesiveness of the addition-curable curable silicone rubber composition in order to function as an adhesive. Can be done. Examples of this component include silane coupling agents and their partial hydrolysates (methyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane) Silane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, bis (trimethoxysilyl) propane, bis (trimethoxysilyl) hexane, etc.), “epoxy group, acid Organic compounds having "anhydride group, α-cyanoacryl group", siloxane compounds having "epoxy group, acid anhydride group, α-cyanoacryl group", "epoxy group, acid anhydride group, α-cyanoacryl group" and alkoxysilyl Organic compounds or siloxane compounds having a group Compounds (tetraethyl titanate, tetrapropyl titanate, tetrabutyl titanate, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium ethyl acetonate, titanium acetyl acetonate, etc.), aluminum compounds (ethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (ethyl acetoacetate) ), Alkyl acetoacetate aluminum diisopropylate, aluminum tris (acetylacetonate), aluminum monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate), zirconium compounds (zirconium acetylacetonate, zirconium butoxyacetylacetonate, zirconium bisacetylacetate) , Zirconium ethyl acetoacetate, etc.) In addition, as the above-mentioned siloxane compound, a lower aliphatic unsaturated group such as an alkenyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, or a compound having both of these and a hydrosilyl group can be expected to effectively contribute to the improvement of adhesiveness. The content of the adhesiveness-imparting component is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (2-1).

さらに、付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物には、その硬化性を調整するために、アセチレン系化合物(3−メチル−1−ブチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−フェニル−1−ブチン−3−オール等)、エンイン化合物(3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等)、1分子中にビニル基を5質量%以上持つオルガノシロキサン化合物(1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラヘキセニルシクロテトラシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルビニルシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルビニルシロキサン・ジメチルシロキサン共重合体等)、その他の硬化抑制剤(ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、フォスフィン類、メルカプタン類、ヒドラジン類等)を含有することが好ましい。これらの含有量は限定されないが、(2−1)成分100質量部に対して0.001〜5質量部の範囲内にあることが好ましい。   Furthermore, in order to adjust the curability of the addition-curable curable silicone rubber composition, an acetylene compound (3-methyl-1-butyn-3-ol, 3,5-dimethyl-1-hexyne- 3-ol, 3-phenyl-1-butyn-3-ol, etc.), enein compounds (3-methyl-3-penten-1-yne, 3,5-dimethyl-3-hexen-1-yne, etc.), 1 Organosiloxane compounds having 5% by mass or more of vinyl groups in the molecule (1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl -1,3,5,7-tetrahexenylcyclotetrasiloxane, methylvinylsiloxane with silanol groups at both ends of molecular chain, methylvinylsiloxane / dimethylsilo with silanol groups at both ends of molecular chain San copolymers), other curing inhibitor (triazoles such as benzotriazole, phosphines, mercaptans, preferably contains a hydrazine or the like). The content of these is not limited, but is preferably in the range of 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (2-1).

付加硬化型の硬化性シリコーンゴム組成物を調製する方法は限定されず、必要に応じてその他任意の成分を混合することにより調製することができるが、予め(2−1)成分と(2−3)成分とを加熱混合して調製したベースコンパウンドに、残余の成分を添加することが好ましい。なお、その他任意の成分を添加する場合、ベースコンパウンドを調製する際に添加してもよく、また、その他任意の成分が加熱混合により変質する場合には、(2−2)成分や(2−4)成分を添加する際に添加してもよい。また、ベースコンパウンドを調製する際、前記の有機ケイ素化合物を添加して、(2−3)成分の表面をin−situ処理してもよい。   The method for preparing the addition-curable curable silicone rubber composition is not limited, and can be prepared by mixing other optional components as necessary. 3) It is preferable to add the remaining components to the base compound prepared by heating and mixing the components. In addition, when adding other arbitrary components, they may be added when preparing a base compound, and when other arbitrary components are altered by heating and mixing, the components (2-2) and (2- 4) You may add at the time of adding a component. When preparing the base compound, the surface of the component (2-3) may be subjected to in-situ treatment by adding the above-mentioned organosilicon compound.

1.2 RFIDタグ
RFIDタグ15は、金属非対応(「非金属対応」と称しても良い。)のRFIDタグである。RFIDタグ15は、図2(2A)に示すように、シート10内に完全に埋設されている。また、RFIDタグ15は、金属Mの表面、すなわちシート10の金属Mへの貼付面から厚さt1(0<t1<(シート10の厚さ−RFIDタグ15の厚さ))だけ浮いた位置になるように、シート10の上面から内方に埋め込まれている。シート10の金属Mとの貼付面から上方に向かって厚さt1の領域は、RFIDタグ15を金属Mの表面から遠ざける役割を有する。これによって、RFIDタグ15からの電波が金属Mに渦電流を生じさせて、金属Mから電波が発せられる結果、RFIDタグ15からの電波が相対的に弱められる状況を低減できる。
1.2 RFID Tag The RFID tag 15 is a non-metallic (non-metallic) RFID tag. The RFID tag 15 is completely embedded in the sheet 10 as shown in FIG. In addition, the RFID tag 15 is located at a position floating from the surface of the metal M, that is, a thickness t1 (0 <t1 <(thickness of the sheet 10−thickness of the RFID tag 15)) from the surface of the sheet 10 attached to the metal M. The sheet 10 is embedded inward from the upper surface of the sheet 10. The region having the thickness t1 upward from the surface of the sheet 10 to which the metal M is attached has a role of keeping the RFID tag 15 away from the surface of the metal M. As a result, the radio wave from the RFID tag 15 generates an eddy current in the metal M, and the radio wave is emitted from the metal M. As a result, the situation where the radio wave from the RFID tag 15 is relatively weakened can be reduced.

RFIDタグ15は、図1(1B)に示すように、穴20を備え、穴20をシート10で満たすようにRFIDタグ15の全部がシート10に完全に埋設されている。なお、RFIDタグ埋設体は、図1(1C)に示すように、RFIDタグ15のうち穴20を含む一部分がシート10の平面視にて略中央から端に移動した位置にて完全に埋設されたRFIDタグ埋設体1aであっても良い。RFIDタグ埋設体1,1aは、穴20がシート10で満たされるようにRFIDタグ15をシート10に埋設することにより、RFIDタグ15をシート10により強固に固定できる。   As shown in FIG. 1 (1B), the RFID tag 15 has a hole 20, and the entire RFID tag 15 is completely embedded in the sheet 10 so as to fill the hole 20 with the sheet 10. As shown in FIG. 1C, the RFID tag embedded body is completely embedded at a position where a part of the RFID tag 15 including the hole 20 has moved from the substantially center to the end of the sheet 10 in plan view. The embedded RFID tag 1a may be used. By embedding the RFID tag 15 in the sheet 10 so that the hole 20 is filled with the sheet 10, the RFID tag embedded bodies 1 and 1 a can firmly fix the RFID tag 15 to the sheet 10.

RFIDタグ15は、それ自体に電池を内蔵して自力で通信可能なアクティブタグ、電池を内蔵せずに外部リーダからの電波を受けて通信可能なパッシブタグ、およびそれら両方の機能を兼ね備えたセミアクティブタグのいずれのタイプのタグであっても良い。RFIDタグ15は、好ましくは、図2(2C)に示す構造のパッシブタグである。RFIDタグ15の構成が単純であり、小型化と低コスト化を実現しやすいからである。   The RFID tag 15 includes an active tag that has a built-in battery and can communicate by itself, a passive tag that can receive and receive radio waves from an external reader without a built-in battery, and a semiconductor tag that has both functions. Any type of active tag may be used. The RFID tag 15 is preferably a passive tag having a structure shown in FIG. 2 (2C). This is because the configuration of the RFID tag 15 is simple, and it is easy to reduce the size and cost.

RFIDタグ15は、パッシブタグの形態を持つ場合、基板16と、基板16に形成されるコイル(アンテナ)17と、コイル17と電気的に接続されるメモリ(ICチップ)18と、を備える。RFIDタグ15は、この実施形態では、好ましくは、RFIDタグ15のコイル17と外部リーダのアンテナコイルとを磁束結合させて信号を伝達させる電磁誘導方式のタグであるが、RFIDタグ15のアンテナ17と外部リーダのアンテナとの間で電波を送受信する電波方式のタグであっても良い。なお、RFIDタグ15に備える穴20の位置は、図1に示す位置に限定されず、少なくともコイル17およびメモリ18が配置される領域を除く位置であれば良い。   When in the form of a passive tag, the RFID tag 15 includes a substrate 16, a coil (antenna) 17 formed on the substrate 16, and a memory (IC chip) 18 electrically connected to the coil 17. In this embodiment, the RFID tag 15 is preferably an electromagnetic induction type tag that transmits a signal by magnetically coupling a coil 17 of the RFID tag 15 with an antenna coil of an external reader. It may be a radio wave type tag for transmitting and receiving radio waves between the antenna and an external reader antenna. In addition, the position of the hole 20 provided in the RFID tag 15 is not limited to the position shown in FIG.

1.3 固定部材
固定部材25は、好ましくは、RFIDタグ15をシート10に固定する針状部材であり、オプションとして位置づけられる部材である。固定部材25は、好ましくは、シート10に接着可能な樹脂等の非金属製の部材であり、より好ましくは、シリコーンゴムである。固定部材25は、図1に示すように、ホチキス(ホッチキスあるいはステープラともいう。)の針形状の部材であり、RFIDタグ15を埋設したシート10に対し、その上面から内方に埋め込まれている。なお、第1実施形態では、RFIDタグ15のうち対角線上の2つの角部に固定部材25を備えているが、RFIDタグ15をシート10に固定可能な形態であれば、固定部材25の個数および位置はこれに限定されない。また、固定部材25は、RFIDタグ15からの電波の検知に影響を与えない程度の非常に細い針状部材であれば、金属製の部材であっても良い。
1.3 Fixing Member The fixing member 25 is preferably a needle-like member for fixing the RFID tag 15 to the sheet 10, and is a member positioned as an option. The fixing member 25 is preferably a non-metallic member such as a resin that can be adhered to the sheet 10, and is more preferably a silicone rubber. As shown in FIG. 1, the fixing member 25 is a needle-shaped member of a stapler (also referred to as a stapler or a stapler), and is embedded inward from the upper surface of the sheet 10 in which the RFID tag 15 is embedded. . In the first embodiment, the fixing members 25 are provided at two diagonal corners of the RFID tag 15. However, if the RFID tag 15 can be fixed to the sheet 10, the number of the fixing members 25 And the position is not limited to this. Further, the fixing member 25 may be a metal member as long as it is a very thin needle-like member that does not affect the detection of the radio wave from the RFID tag 15.

2.RFIDタグ埋設体の製造方法
図3は、本発明の第1実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法のフローチャート(3A)、図1(1B)のRFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(3B)、および図1(1C)のRFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(3C)をそれぞれ示す。
2. FIG. 3 is a flowchart (3A) of a method of manufacturing an embedded RFID tag according to the first embodiment of the present invention (3A), and a cross-sectional view of a manufacturing process of the embedded RFID tag of FIG. 1 (1B) ( 3B) and a cross-sectional view (3C) of the process of manufacturing the embedded RFID tag of FIG. 1 (1C), respectively.

この実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法は、接着層貼付工程(S110)、RFIDタグ埋設工程(S120)、固定工程(S130)および硬化工程(S140)を含む。以下、各工程について説明する。   The method for manufacturing an embedded RFID tag according to this embodiment includes an adhesive layer attaching step (S110), an RFID tag embedding step (S120), a fixing step (S130), and a curing step (S140). Hereinafter, each step will be described.

2.1 接着層貼付工程(S110)
接着層貼付工程は、金属Mの表面に、接着層30を貼り付ける工程である(b1およびc1を参照)。
2.1 Adhesive layer sticking step (S110)
The bonding layer bonding step is a step of bonding the bonding layer 30 to the surface of the metal M (see b1 and c1).

2.2 RFIDタグ埋設工程(S120)
RFIDタグ埋設工程は、接着層30の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置までRFIDタグ15の全部を埋設する工程(b2を参照)、あるいは接着層30の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置まで、RFIDタグ15のうち穴20を含む一部を埋設する工程(c2を参照)である。RFIDタグ埋設工程は、RFIDタグ15のうち少なくとも穴20の部分を接着層30に完全に埋設し、穴20を接着層30で満たす工程である。ただし、穴20が完全に接着層30内に埋設されず、穴20の一部が埋設されるようにしても良い。
2.2 RFID tag embedding process (S120)
The RFID tag embedding step is a step of embedding the whole of the RFID tag 15 from the surface of the adhesive layer 30 to the inside to a position not reaching the surface of the metal M (see b2), or This is a step (see c2) of embedding a part of the RFID tag 15 including the hole 20 to a position not reaching the surface of the metal M. The RFID tag embedding step is a step of completely embedding at least the hole 20 portion of the RFID tag 15 in the adhesive layer 30 and filling the hole 20 with the adhesive layer 30. However, the hole 20 may not be completely buried in the adhesive layer 30 and a part of the hole 20 may be buried.

2.3 固定工程(S130)
固定工程は、接着層30に埋設されたRFIDタグ15の上から、固定部材25によりRFIDタグ15を接着層30に固定する工程である(b3およびc3を参照)。固定工程は、接着層30上面からRFIDタグ15を係合可能な位置まで固定部材25を打ち込む。
2.3 Fixing step (S130)
The fixing step is a step of fixing the RFID tag 15 to the adhesive layer 30 with the fixing member 25 from above the RFID tag 15 embedded in the adhesive layer 30 (see b3 and c3). In the fixing step, the fixing member 25 is driven from the upper surface of the adhesive layer 30 to a position where the RFID tag 15 can be engaged.

2.4 硬化工程(S140)
硬化工程は、接着層30を硬化させてシリコーン系エラストマーのシート10を形成する工程である(b4およびc4を参照)。この結果、RFIDタグ15は、シート10に固定される。
2.4 Hardening Step (S140)
The curing step is a step of curing the adhesive layer 30 to form the silicone elastomer sheet 10 (see b4 and c4). As a result, the RFID tag 15 is fixed to the sheet 10.

上述の製造方法により、RFIDタグ15は、少なくとも穴20を含む一部がシート10に完全に埋設することにより、穴20がシート10で満たされ、もって、シート10に強固に固定される。   By the above-described manufacturing method, the RFID tag 15 is at least partially embedded in the sheet 10 at least including the hole 20, so that the hole 20 is filled with the sheet 10, and thus, the RFID tag 15 is firmly fixed to the sheet 10.

(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係るRFIDタグ埋設体について説明する。第2実施形態において、第1実施形態と共通する部分については、適宜、その説明を省略する。
(2nd Embodiment)
Next, an embedded RFID tag according to a second embodiment of the present invention will be described. In the second embodiment, description of portions common to the first embodiment will be appropriately omitted.

図4は、本発明の第2実施形態に係るRFIDタグ埋設体の図2(2A)と同視の断面図(4A)、および当該RFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(4B)をそれぞれ示す。   FIG. 4 is a cross-sectional view (4A) of the embedded RFID tag according to the second embodiment of the present invention, which is the same as FIG. 2 (2A), and a cross-sectional view (4B) of the manufacturing process of the embedded RFID tag. .

第2実施形態に係るRFIDタグ埋設体1bは、シート10の厚さ方向においてシート10に一部埋設し、穴20の代わりに、金属Mに対向する面の少なくとも一部に第1凸部20bを備える点以外は、第1実施形態に係るRFIDタグ埋設体1と共通する。シート10は、第1実施形態と同一である。   The RFID tag embedded body 1b according to the second embodiment is partially embedded in the sheet 10 in the thickness direction of the sheet 10, and the first convex portion 20b is provided on at least a part of the surface facing the metal M instead of the hole 20. Except for the point that the RFID tag embedding body 1 according to the first embodiment is provided, the configuration is common to the first embodiment. The seat 10 is the same as in the first embodiment.

第1凸部20bは、図4(4A)に示すように、RFIDタグ15bのうち、金属Mに対向する面の一部において、金属M方向に突出している部分である。第1凸部20bは、コイル17およびメモリ18が配置される領域を除く位置であることが好ましい。なお、第1凸部20bは、金属Mに対向する面の全面に形成されていても良い。第1凸部20bの凹凸は、金属Mに対向する面内にドット状に形成されていても良く、あるいはライン状の峰と谷とで構成されていても良い。また、第1凸部20bは、金属Mに対向する面内をシボ加工することにより凹凸を実現しても良い。第1凸部20bの形状は、例えば、三角形、四角形等、種々の形状を採用できる。RFIDタグ埋設体1bは、図4に示すように、好ましくは、シート10の厚さ方向において、RFIDタグ15bのうち第1凸部20bを含む一部がシート10に埋設される。なお、RFIDタグ埋設体1bは、シート10にRFIDタグ15bが完全に埋設されていても良い。また、RFIDタグ埋設体1bは、第1実施形態のRFIDタグ埋設体1a(図1(1C)参照)と同様に、RFIDタグ15bの金属Mに対向する面のうち第1凸部20bを含む一部がシート10に埋設されても良い。   As shown in FIG. 4 (4A), the first convex portion 20b is a portion of the RFID tag 15b that protrudes in the metal M direction on a part of the surface facing the metal M. The first convex portion 20b is preferably located at a position excluding a region where the coil 17 and the memory 18 are arranged. The first protrusion 20b may be formed on the entire surface facing the metal M. The unevenness of the first convex portion 20b may be formed in a dot shape on a surface facing the metal M, or may be formed by a linear peak and a valley. Further, the first convex portion 20b may be provided with irregularities by subjecting a surface facing the metal M to a graining process. Various shapes such as a triangle and a quadrangle can be adopted as the shape of the first protrusion 20b. As shown in FIG. 4, preferably, a part of the RFID tag embedded body 1 b including the first protrusion 20 b of the RFID tag 15 b is embedded in the sheet 10 in the thickness direction of the sheet 10. In the RFID tag embedded body 1b, the RFID tag 15b may be completely embedded in the sheet 10. The embedded RFID tag 1b includes the first convex portion 20b of the surface of the RFID tag 15b facing the metal M, similarly to the embedded RFID tag 1a of the first embodiment (see FIG. 1C). A part may be embedded in the sheet 10.

RFIDタグ埋設体1bの製造方法は、第1実施形態の製造方法(図3(3A)参照)と同様に、接着層貼付工程(S110)、RFIDタグ埋設工程(S120)、固定工程(S130)および硬化工程(S140)を含む。接着層貼付工程(S110)および硬化工程(S140)は、第1実施形態における各工程と同様のため、説明を省略する。RFIDタグ埋設工程(S120)は、接着層30の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置まで、RFIDタグ15bの一部を埋設する工程である(図4(b2)を参照)。RFIDタグ埋設工程(S120)は、接着層30の厚さ方向において、少なくとも第1凸部20bが接着層30に完全に埋設される位置までRFIDタグ15bを埋設することが好ましい。固定工程(S130)は、RFIDタグ15bの上面から接着層30を係合可能な位置まで固定部材25を打ち込む工程である(図4(b3)を参照)。   The manufacturing method of the RFID tag embedded body 1b is the same as the manufacturing method of the first embodiment (see FIG. 3A), the adhesive layer attaching step (S110), the RFID tag embedding step (S120), and the fixing step (S130). And a curing step (S140). Since the adhesive layer attaching step (S110) and the curing step (S140) are the same as the respective steps in the first embodiment, the description will be omitted. The RFID tag embedding step (S120) is a step of embedding a part of the RFID tag 15b from the surface of the adhesive layer 30 toward the inside to a position not reaching the surface of the metal M (see FIG. 4B2). . In the RFID tag embedding step (S120), it is preferable to embed the RFID tag 15b in the thickness direction of the adhesive layer 30 to at least a position where the first protrusion 20b is completely embedded in the adhesive layer 30. The fixing step (S130) is a step of driving the fixing member 25 from the upper surface of the RFID tag 15b to a position where the adhesive layer 30 can be engaged (see FIG. 4 (b3)).

第1凸部20bがシート10に埋設されることにより、シート10とRFIDタグ15bとの接触面積を増大させることができるので、シート10とRFIDタグ15bとの接着力をより高めることができる。   By embedding the first protrusion 20b in the sheet 10, the contact area between the sheet 10 and the RFID tag 15b can be increased, so that the adhesive strength between the sheet 10 and the RFID tag 15b can be further increased.

(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態に係るRFIDタグ埋設体について説明する。第3実施形態において、前述の各実施形態と共通する部分については、適宜、その説明を省略する。
(Third embodiment)
Next, an embedded RFID tag according to a third embodiment of the present invention will be described. In the third embodiment, description of portions common to the above-described embodiments will be appropriately omitted.

図5は、本発明の第3実施形態に係るRFIDタグ埋設体の図2(2A)と同視の断面図を示す。   FIG. 5 is a cross-sectional view of the RFID tag-embedded body according to the third embodiment of the present invention, taken along the line of FIG.

第3実施形態に係るRFIDタグ埋設体1cは、RFIDタグ15cがシート10内に完全に埋設され、かつ、金属Mに対向する面と反対側の面の少なくとも一部に第2凸部20cを備える点以外は、第2実施形態に係るRFIDタグ埋設体1bと共通する。シート10は、第2実施形態と同一である。   In the RFID tag embedded body 1c according to the third embodiment, the RFID tag 15c is completely embedded in the sheet 10, and the second convex portion 20c is formed on at least a part of the surface opposite to the surface facing the metal M. Except for the point provided, it is common to the embedded RFID tag 1b according to the second embodiment. The seat 10 is the same as in the second embodiment.

第2凸部20cは、図5に示すように、金属Mに対向する面と反対側の面の一部に、金属Mと反対方向に突出している。第2凸部20cは、コイル17およびメモリ18が配置される領域を除く位置であることが好ましい。なお、第2凸部20cの構造および形状は、第1凸部20bと同様であるため、説明を省略する。また、第1凸部20bと第2凸部20cとは、RFIDタグ15の面内において同一位置に形成されていても良いし、異なる位置に形成されていても良い。RFIDタグ埋設体1cは、図5に示すように、好ましくは、シート10にRFIDタグ15cが完全に埋設されている。なお、RFIDタグ埋設体1cは、シート10の厚さ方向において、少なくとも第2凸部20cの一部がシート10に埋設されていれば、RFIDタグ15cが完全にシート10に埋設されていなくても良い。また、RFIDタグ埋設体1cは、第1実施形態のRFIDタグ埋設体1a(図1(1C)参照)と同様に、RFIDタグ15c全面がシート10に埋設されるのではなく、RFIDタグ15cのうち第1凸部20bおよび第2凸部20cを含む一部がシート10に埋設されても良い。RFIDタグ埋設体1cの製造方法は、第1実施形態の製造方法(図3(3A)参照)と同様のため、説明を省略する。   As shown in FIG. 5, the second convex portion 20 c protrudes in a direction opposite to the metal M on a part of the surface opposite to the surface facing the metal M. The second convex portion 20c is preferably located at a position excluding a region where the coil 17 and the memory 18 are arranged. Note that the structure and shape of the second convex portion 20c are the same as those of the first convex portion 20b, and a description thereof will be omitted. Further, the first convex portion 20b and the second convex portion 20c may be formed at the same position in the plane of the RFID tag 15, or may be formed at different positions. As shown in FIG. 5, the RFID tag embedded body 1c preferably has the RFID tag 15c completely embedded in the sheet 10. Note that the RFID tag embedded body 1c is not completely embedded in the sheet 10 if at least a part of the second convex portion 20c is embedded in the sheet 10 in the thickness direction of the sheet 10. Is also good. In addition, the RFID tag embedded body 1c does not have the entire surface of the RFID tag 15c embedded in the sheet 10 like the RFID tag embedded body 1a of the first embodiment (see FIG. 1C). A part including the first protrusion 20b and the second protrusion 20c may be embedded in the sheet 10. The manufacturing method of the embedded RFID tag 1c is the same as the manufacturing method of the first embodiment (see FIG. 3 (3A)), and thus the description is omitted.

第1凸部20bおよび第2凸部20cがシート10に埋設されることにより、シート10とRFIDタグ15cとの接触面積を増大させることができるので、シート10とRFIDタグ15cとの接着力をより高めることができる。なお、RFIDタグ埋設体1cは、第1凸部20bを備えなくても良い。   By embedding the first protrusion 20b and the second protrusion 20c in the sheet 10, the contact area between the sheet 10 and the RFID tag 15c can be increased, so that the adhesive force between the sheet 10 and the RFID tag 15c can be reduced. Can be more enhanced. Note that the embedded RFID tag 1c does not have to include the first protrusion 20b.

(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態に係るRFIDタグ埋設体について説明する。第4実施形態において、前述の各実施形態と共通する部分については、適宜、その説明を省略する。
(Fourth embodiment)
Next, an embedded RFID tag according to a fourth embodiment of the present invention will be described. In the fourth embodiment, description of portions common to the above-described embodiments will be appropriately omitted.

図6は、本発明の第4実施形態に係るRFIDタグ埋設体の上面図を示す。   FIG. 6 shows a top view of the RFID tag embedded body according to the fourth embodiment of the present invention.

第4実施形態に係るRFIDタグ埋設体1dは、第1凸部20bおよび第2凸部20cの代わりに、RFIDタグ15dの側面の一部に第3凸部20dを備える点以外は、第3実施形態に係るRFIDタグ埋設体1cと共通する。シート10は、第3実施形態と同一である。   The embedded RFID tag body 1d according to the fourth embodiment is similar to the third embodiment except that a third convex portion 20d is provided on a part of the side surface of the RFID tag 15d instead of the first convex portion 20b and the second convex portion 20c. It is common to the RFID tag embedded body 1c according to the embodiment. The seat 10 is the same as in the third embodiment.

第3凸部20dは、図6に示すように、RFIDタグ15dの両側面の一部から、それぞれ外側に突出している。なお、第3凸部20dの構造および形状は、第1凸部20bおよび第2凸部20cと同様であるため、説明を省略する。また、第3凸部20dは、RFIDタグ15dのうち対向する両側面において同一位置に形成されていても良いし、異なる位置に形成されていても良い。RFIDタグ埋設体1dは、図6に示すように、好ましくは、シート10にRFIDタグ15dが完全に埋設されている。なお、RFIDタグ埋設体1dは、シート10の厚さ方向において、少なくとも第3凸部20dの一部がシート10に埋設されていれば、RFIDタグ15dが完全にシート10に埋設されていなくても良い。また、RFIDタグ埋設体1dは、第1実施形態のRFIDタグ埋設体1a(図1(1C)参照)と同様に、RFIDタグ15d全面がシート10に埋設されるのではなく、RFIDタグ15dのうち第3凸部20dを含む一部がシート10に埋設されても良い。RFIDタグ埋設体1dの製造方法は、第1実施形態の製造方法(図3(3A)参照)と同様のため、説明を省略する。   As shown in FIG. 6, the third protrusions 20d protrude outward from a part of both side surfaces of the RFID tag 15d. Note that the structure and shape of the third convex portion 20d are the same as those of the first convex portion 20b and the second convex portion 20c, and a description thereof will be omitted. In addition, the third protrusion 20d may be formed at the same position on both opposing side surfaces of the RFID tag 15d, or may be formed at different positions. As shown in FIG. 6, the RFID tag embedded body 1d preferably has the RFID tag 15d completely embedded in the sheet 10. Note that the RFID tag embedded body 1d does not completely embed the RFID tag 15d in the sheet 10 if at least a part of the third protrusion 20d is embedded in the sheet 10 in the thickness direction of the sheet 10. Is also good. Further, the RFID tag embedded body 1d does not have the entire RFID tag 15d embedded in the sheet 10 as in the RFID tag embedded body 1a of the first embodiment (see FIG. 1 (1C)). A part including the third convex portion 20d may be embedded in the sheet 10. The manufacturing method of the embedded RFID tag 1d is the same as the manufacturing method of the first embodiment (see FIG. 3 (3A)), and thus the description is omitted.

第3凸部20dがシート10に埋設されることにより、シート10とRFIDタグ15dとの接触面積を増大させることができるので、シート10とRFIDタグ15dとの接着力をより高めることができる。なお、RFIDタグ埋設体1dは、金属Mに対向する面に第1凸部20bを備えても良いし、当該面と反対側の面に第2凸部20cを備えても良い。また、RFIDタグ埋設体1dは、第1凸部20bおよび第2凸部20cを備えても良い。   Since the contact area between the sheet 10 and the RFID tag 15d can be increased by embedding the third convex portion 20d in the sheet 10, the adhesive force between the sheet 10 and the RFID tag 15d can be further increased. The embedded RFID tag body 1d may include the first convex portion 20b on the surface facing the metal M, or may include the second convex portion 20c on the surface opposite to the surface. Further, the embedded RFID tag 1d may include a first protrusion 20b and a second protrusion 20c.

(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態に係るRFIDタグ埋設体について説明する。第5実施形態において、前述の各実施形態と共通する部分については、適宜、その説明を省略する。
(Fifth embodiment)
Next, an embedded RFID tag according to a fifth embodiment of the present invention will be described. In the fifth embodiment, description of portions common to the above-described embodiments will be appropriately omitted.

図7は、本発明の第5実施形態に係るRFIDタグ埋設体の図2(2A)と同視の断面図(7A)、および当該RFIDタグ埋設体の製造過程の断面図(7B)をそれぞれ示す。   FIG. 7 shows a cross-sectional view (7A) of the embedded RFID tag according to the fifth embodiment of the present invention, as viewed in FIG. 2 (2A), and a cross-sectional view (7B) of the manufacturing process of the embedded RFID tag. .

第5実施形態に係るRFIDタグ埋設体1eは、第1凸部20bおよび第2凸部20cの代わりに、螺子部20eを備える点以外は、第3実施形態に係るRFIDタグ埋設体1cと共通する。シート10は、第3実施形態と同一である。   The embedded RFID tag 1e according to the fifth embodiment is the same as the embedded RFID tag 1c according to the third embodiment except that a screw 20e is provided instead of the first protrusion 20b and the second protrusion 20c. I do. The seat 10 is the same as in the third embodiment.

螺子部20eは、図7(7A)に示すように、RFIDタグ15eの周面に螺旋状に巻回されている。RFIDタグ埋設体1eは、図7(7A)に示すように、好ましくは、シート10にRFIDタグ15eが完全に埋設されている。なお、RFIDタグ埋設体1eは、少なくとも螺子部20eの一部がシート10に埋設されていれば、RFIDタグ15eが完全にシート10に埋設されていなくても良い。   The screw portion 20e is spirally wound around the peripheral surface of the RFID tag 15e, as shown in FIG. 7 (7A). As shown in FIG. 7 (7A), the RFID tag embedded body 1e preferably has the RFID tag 15e completely embedded in the sheet 10. Note that the RFID tag embedded body 1e does not need to completely embed the RFID tag 15e in the sheet 10 as long as at least a part of the screw portion 20e is embedded in the sheet 10.

RFIDタグ埋設体1eの製造方法は、第1実施形態の製造方法(図3(3A)参照)と同様に、接着層貼付工程(S110)、RFIDタグ埋設工程(S120)、固定工程(S130)および硬化工程(S140)を含む。RFIDタグ埋設工程(S120)以外の工程は、第1実施形態における各工程と同様のため、説明を省略する。RFIDタグ埋設工程(S120)は、接着層30の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置まで、RFIDタグ15eを埋設する工程である。具体的に、RFID埋設工程(S120)では、図7(b2)に示すように、接着層30に対し、側面からRFIDタグ15eをねじ込むようにして、接着層30にRFIDタグ15eを埋設する。なお、RFIDタグ15eは、接着層30の上面(側面と垂直方向の面)等の別の面からねじ込まれても良い。   The manufacturing method of the RFID tag embedded body 1e is the same as the manufacturing method of the first embodiment (see FIG. 3A), the adhesive layer attaching step (S110), the RFID tag embedding step (S120), and the fixing step (S130). And a curing step (S140). Steps other than the RFID tag embedding step (S120) are the same as the respective steps in the first embodiment, and a description thereof will be omitted. The RFID tag embedding step (S120) is a step of embedding the RFID tag 15e from the surface of the adhesive layer 30 to the inside so as not to reach the surface of the metal M. Specifically, in the RFID embedding step (S120), as shown in FIG. 7B2, the RFID tag 15e is embedded in the adhesive layer 30 by screwing the RFID tag 15e from the side surface into the adhesive layer 30. Note that the RFID tag 15e may be screwed from another surface such as the upper surface (the surface perpendicular to the side surface) of the adhesive layer 30.

螺子部20eがシート10に埋設されることにより、シート10とRFIDタグ15eとの接触面積を増大させることができるので、シート10とRFIDタグ15eとの接着力をより高めることができる。なお、RFIDタグ埋設工程(S120)は、他の実施形態と同様に、接着層30の表面から内部に向けてRFIDタグ15eを押し込んで埋設しても良い。   By embedding the screw portion 20e in the sheet 10, the contact area between the sheet 10 and the RFID tag 15e can be increased, so that the adhesive strength between the sheet 10 and the RFID tag 15e can be further increased. In the RFID tag embedding step (S120), the RFID tag 15e may be buried by pushing the RFID tag 15e inward from the surface of the adhesive layer 30 as in the other embodiments.

3.各実施形態の作用・効果
上述の各実施形態に係るRFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eは、金属Mに固定されるRFIDタグ埋設体であって、シリコーン系エラストマーのシート10と、シート10の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置まで埋設される非金属対応のRFIDタグ15,15b,15c,15d,15eと、を備える。RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eは、シート10に固定する1または2以上の第1固定手段20,20b,20c,20d,20eを備える。このような構成のRFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eは、金属対応のRFIDを用いる場合と比べて低価格にて構成でき、さらにはリーダとの通信に際して金属の影響を受けにくく、かつ金属Mの表面に対して強固に固定することができる。
3. Functions and Effects of Each Embodiment The embedded RFID tags 1, 1 a, 1 b, 1 c, 1 d, and 1 e according to the above-described embodiments are embedded RFID tags fixed to a metal M, and are made of a sheet of a silicone elastomer. And an RFID tag 15, 15b, 15c, 15d, 15e corresponding to a nonmetal which is buried from the surface of the sheet 10 toward the inside and does not reach the surface of the metal M. The RFID tags 15, 15 b, 15 c, 15 d, and 15 e include one or more first fixing means 20, 20 b, 20 c, 20 d, and 20 e for fixing to the sheet 10. The embedded RFID tag bodies 1, 1 a, 1 b, 1 c, 1 d, and 1 e having such a configuration can be configured at a lower price as compared with a case where a metal-compatible RFID is used, and furthermore, the influence of metal upon communication with the reader is reduced. It is hard to receive and can be firmly fixed to the surface of the metal M.

また、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eは、第1固定手段として、穴20、第1凸部20b、第2凸部20c、第3凸部20d、螺子部20eを備え、第1固定手段20,20b,20c,20d,20eを含む少なくとも一部がシート10に埋設される。これらの構成により、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eとシート10との接触面積が大きくなるため、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eがシート10に対して強固に固定される。よって、このようなRFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eを金属Mの表面に固定することにより、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eをシート10に強固に固定することができる。   Further, the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e include a hole 20, a first convex portion 20b, a second convex portion 20c, a third convex portion 20d, and a screw portion 20e as first fixing means. At least a part including the fixing means 20, 20b, 20c, 20d, 20e is embedded in the sheet 10. With these configurations, the contact area between the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e and the sheet 10 increases, so that the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e are firmly fixed to the sheet 10. . Therefore, the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e are firmly fixed to the sheet 10 by fixing such RFID tag embedded bodies 1, 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e to the surface of the metal M. be able to.

また、RFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eは、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eをシート10に固定する固定部材25を備えても良い。固定部材25は、例えば、針状部材である。よって、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eは、シート10に対して、より強固に固定される。   The embedded RFID tag bodies 1, 1 a, 1 b, 1 c, 1 d, 1 e may include a fixing member 25 for fixing the RFID tags 15, 15 b, 15 c, 15 d, 15 e to the sheet 10. The fixing member 25 is, for example, a needle-shaped member. Therefore, the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, 15e are more firmly fixed to the sheet 10.

また、固定部材25を非金属製の部材とすることにより、リーダとの通信に際して金属の影響を受けにくく、かつ金属Mの表面に対して強固に固定することができる。   In addition, since the fixing member 25 is made of a non-metallic member, it is hardly affected by metal when communicating with the reader, and can be firmly fixed to the surface of the metal M.

また、上述の各実施形態に係るRFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eは、シリコーン系エラストマーを湿気硬化シリコーン系エラストマーとすることができる。これによって、接着層30を空気中に放置するだけで容易に硬化できる。したがって、金属Mの表面に、RFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eを容易に形成できる。   In the RFID tag embedded bodies 1, 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e according to the above-described embodiments, the silicone-based elastomer may be a moisture-cured silicone-based elastomer. Thereby, the adhesive layer 30 can be easily cured only by leaving it in the air. Therefore, the RFID tag embedded bodies 1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e can be easily formed on the surface of the metal M.

また、上述の実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法は、金属Mの表面に、硬化性シリコーン系接着層30を貼り付ける接着層貼付工程(S100)と、硬化性シリコーン系接着層30の表面から内部に向けて金属Mの表面に達しない位置まで、非金属対応のRFIDタグ15,15b,15c,15d,15eのうち第1固定手段20,20b,20c,20d,20eを含む少なくとも一部を埋設するRFIDタグ埋設工程(S120)と、硬化性シリコーン系接着層30を硬化させてシリコーン系エラストマーのシート10を形成する硬化工程(S140)と、を含む。このような製造方法によれば、金属対応RFIDタグを用いなくとも、RFIDタグ15と金属Mとの距離を確保しつつ、RFID15を金属Mに容易に固定できる。しかも、第1固定手段20,20b,20c,20d,20eを含む少なくとも一部を埋設することにより、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eがシート10に対して強固に固定される。よって、このようなRFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eを金属Mの表面に固定することにより、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eをシート10に強固に固定することができる。   Further, in the method of manufacturing the embedded RFID tag according to the above-described embodiment, the adhesive layer attaching step (S100) of attaching the curable silicone-based adhesive layer 30 to the surface of the metal M; At least one of the non-metallic RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e including the first fixing means 20, 20b, 20c, 20d, and 20e from the surface to the inside to the position not reaching the surface of the metal M. An RFID tag embedding step of embedding the portion (S120) and a curing step of curing the curable silicone-based adhesive layer 30 to form the silicone elastomer sheet 10 (S140). According to such a manufacturing method, the RFID 15 can be easily fixed to the metal M while securing the distance between the RFID tag 15 and the metal M without using a metal-compatible RFID tag. Moreover, by burying at least a part including the first fixing means 20, 20b, 20c, 20d, and 20e, the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e are firmly fixed to the sheet 10. Therefore, the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e are firmly fixed to the sheet 10 by fixing such RFID tag embedded bodies 1, 1a, 1b, 1c, 1d, and 1e to the surface of the metal M. be able to.

また、第1実施形態に係るRFIDタグ15は、第1固定手段として、穴20を備える。RFIDタグ埋設工程(S120)は、RFIDタグ15のうち少なくとも穴20の部分を硬化性シリコーン系接着層に完全に埋設する。RFIDタグ15は、シート10に埋設され、かつ、穴20の少なくとも一部がシート10で満たされている。このため、RFIDタグ15は、シート10に強固に固定される。この結果、RFIDタグ埋設体1,1aは、金属Mの表面に対して強固に固定される。   Further, the RFID tag 15 according to the first embodiment includes a hole 20 as a first fixing unit. In the RFID tag embedding step (S120), at least a part of the hole 20 of the RFID tag 15 is completely embedded in the curable silicone-based adhesive layer. The RFID tag 15 is embedded in the sheet 10, and at least a part of the hole 20 is filled with the sheet 10. For this reason, the RFID tag 15 is firmly fixed to the sheet 10. As a result, the embedded RFID tags 1 and 1a are firmly fixed to the surface of the metal M.

また、上述の実施形態に係るRFIDタグ埋設体の製造方法は、硬化性シリコーン系接着層30に埋設されたRFIDタグ15,15b,15c,15d,15eを、固定部材25により接着層30に固定する固定工程(S130)を含む。硬化工程(S140)は、固定部材25によりRFIDタグが固定された硬化性シリコーン系接着層30を硬化させてシリコーン系エラストマーのシート10を形成する。よって、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eをシート10に対してより強固に固定することができる。   In the method for manufacturing an embedded RFID tag according to the above-described embodiment, the RFID tags 15, 15 b, 15 c, 15 d, and 15 e embedded in the curable silicone-based adhesive layer 30 are fixed to the adhesive layer 30 by the fixing member 25. Fixing step (S130). In the curing step (S140), the curable silicone adhesive layer 30 to which the RFID tag is fixed by the fixing member 25 is cured to form the silicone elastomer sheet 10. Therefore, the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e can be more firmly fixed to the sheet 10.

(その他実施形態)
以上、本発明の各実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の各実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。
(Other embodiments)
As described above, the embodiments of the present invention have been described. However, the present invention is not limited to the above embodiments, and can be implemented in various modes without departing from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

例えば、RFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eは、シート10を挟んで金属Mに固定される限り、金属Mの平らな面のみならず、金属Mの曲面、凹部あるいは凸部などでも良い。   For example, as long as the RFID tag embedded bodies 1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e are fixed to the metal M with the sheet 10 interposed therebetween, not only the flat surface of the metal M but also the curved surface, concave portion, or convex portion of the metal M is used. Department or the like.

また、RFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eは、固定部材25を備えなくても良い。この場合、RFIDタグ埋設体の製造方法は、図3(3A)に示す製造方法から、固定工程(S130)を省略すれば良い。   Further, the embedded RFID tags 1, 1 a, 1 b, 1 c, 1 d, and 1 e do not have to include the fixing member 25. In this case, the manufacturing method of the embedded RFID tag may be such that the fixing step (S130) is omitted from the manufacturing method shown in FIG. 3 (3A).

また、上述の実施形態では、固定部材25は、ホチキス針形状の部材であったが、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eをシート10に固定可能な形態であれば、これに限定されない。例えば、固定部材25は、長尺状の針状部材であっても良い。この場合、例えば、第1実施形態のRFIDタグ埋設体1,1aは、RFIDタグ15の穴20に固定部材25を挿入することにより、RFIDタグ15をシート10に固定しても良い。また、上述の各実施形態において、長尺状の針状部材である固定部材25を挿入可能な穴をRFIDタグ埋設体1,1a,1b,1c,1d,1eの表面(金属Mと対向する面と反対側の面)または側面に備えることにより、当該固定部材25でRFIDタグ15,15b,15c,15d,15eとシート10とを固定しても良い。なお、この場合の穴は、RFIDタグ15,15b,15c,15d,15eを貫通するような両端開放型の筒形状であっても良いし、一端開放型のカップ形状であっても良い。   In the above-described embodiment, the fixing member 25 is a stapler-shaped member. However, the fixing member 25 is not limited to this as long as it can fix the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e to the sheet 10. . For example, the fixing member 25 may be a long needle-like member. In this case, for example, in the RFID tag embedded bodies 1 and 1a of the first embodiment, the RFID tag 15 may be fixed to the sheet 10 by inserting the fixing member 25 into the hole 20 of the RFID tag 15. In each of the above-described embodiments, the hole into which the fixing member 25, which is a long needle-like member, can be inserted is formed in the surface of the RFID tag embedded body 1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e (to face the metal M). The RFID tag 15, 15b, 15c, 15d, 15e and the sheet 10 may be fixed by the fixing member 25 by providing the fixing member 25 on the surface opposite to the surface) or the side surface. In addition, the hole in this case may be a cylindrical shape having both ends open such that it penetrates the RFID tags 15, 15b, 15c, 15d, and 15e, or a cup shape having one end open.

上述の各実施形態の各構成要素は、互いに組み合わせられても良い。一例を挙げるなら、RFIDタグ埋設体の第3実施形態と第4実施形態とを組み合わせて、第1凸部20b、第2凸部20c,および第3凸部20dを備えるようにしても良い。   Each component of each embodiment described above may be combined with each other. For example, the first and second protrusions 20b, 20c, and 20d may be provided by combining the third embodiment and the fourth embodiment of the RFID tag embedded body.

本発明は、金属に非金属対応のRFIDタグを設置する産業において利用可能である。   INDUSTRIAL APPLICATION This invention can be utilized in the industry which installs the non-metal corresponding RFID tag in the metal.

1,1a,1b,1c,1d,1e・・・RFIDタグ埋設体、10・・・シート(シリコーン系エラストマーのシート)、15,15b,15c,15d,15e・・・RFIDタグ(非金属対応のRFIDタグ)、20・・・穴(第1固定手段)、20b・・・第1凸部(第1固定手段)、20c・・・第2凸部(第1固定手段)、20d・・・第3凸部(第1固定手段)、20e・・・螺子部(第1固定手段)、25・・・固定部材(第2固定手段)。 1, 1a, 1b, 1c, 1d, 1e: embedded RFID tag, 10: sheet (silicone-based elastomer sheet), 15, 15b, 15c, 15d, 15e: RFID tag (non-metal compatible) , 20 ... hole (first fixing means), 20b ... first convex part (first fixing means), 20c ... second convex part (first fixing means), 20d ... -3rd convex part (1st fixing means), 20e ... screw part (1st fixing means), 25 ... fixing member (2nd fixing means).

Claims (12)

金属に固定されるRFIDタグ埋設体であって、
シリコーン系エラストマーのシートと、
前記シートの表面から内部に向けて前記金属の表面に達しない位置まで埋設される非金属対応のRFIDタグと、
を備え、
前記RFIDタグは、前記シートに固定する1または2以上の第1固定手段を備えることを特徴とするRFIDタグ埋設体。
An embedded RFID tag fixed to metal,
A sheet of silicone-based elastomer,
A non-metallic RFID tag buried from the surface of the sheet toward the inside to a position that does not reach the surface of the metal,
With
The embedded RFID tag, wherein the RFID tag includes one or more first fixing means for fixing the RFID tag to the sheet.
前記RFIDタグは、
前記第1固定手段としての穴を備え、
前記穴を含む少なくとも一部が、前記シートに埋設されることを特徴とする請求項1に記載のRFIDタグ埋設体。
The RFID tag,
A hole as the first fixing means,
The embedded RFID tag according to claim 1, wherein at least a part including the hole is embedded in the sheet.
前記RFIDタグは、
前記第1固定手段として、前記金属に対向する面の少なくとも一部に、前記金属方向に突出する第1凸部を備え、
前記第1凸部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設されることを特徴とする請求項1に記載のRFIDタグ埋設体。
The RFID tag,
As the first fixing means, a first convex portion protruding in the metal direction is provided on at least a part of a surface facing the metal,
2. The embedded RFID tag according to claim 1, wherein at least a part including the first convex portion is embedded in the sheet. 3.
前記RFIDタグは、
前記第1固定手段として、前記金属に対向する面と反対側の面の少なくとも一部に、前記金属と反対方向に突出する第2凸部を備え、
前記第2凸部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設されることを特徴とする請求項1または3に記載のRFIDタグ埋設体。
The RFID tag,
As the first fixing unit, at least a part of a surface opposite to the surface facing the metal includes a second protrusion protruding in a direction opposite to the metal,
4. The embedded RFID tag according to claim 1, wherein at least a part including the second convex portion is embedded in the sheet. 5.
前記RFIDタグは、
前記第1固定手段として、側面の少なくとも一部に、前記側面から外側に突出する第3凸部を備え、
前記第3凸部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設されることを特徴とする請求項1、3および4のいずれか1項に記載のRFIDタグ埋設体。
The RFID tag,
As the first fixing means, at least a part of the side surface includes a third convex portion protruding outward from the side surface,
The embedded RFID tag according to any one of claims 1, 3 and 4, wherein at least a part including the third convex portion is embedded in the sheet.
前記RFIDタグは、
前記第1固定手段として、周面に螺旋状に巻回された螺子部を備え、
前記螺子部を含む少なくとも一部が前記シートに埋設されることを特徴とする請求項1に記載のRFIDタグ埋設体。
The RFID tag,
As the first fixing means, a screw portion spirally wound around the peripheral surface is provided,
The embedded RFID tag according to claim 1, wherein at least a part including the screw portion is embedded in the sheet.
前記RFIDタグを前記シートに固定する第2固定手段を備え、
前記第2固定手段は、針状部材であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載のRFIDタグ埋設体。
A second fixing unit for fixing the RFID tag to the sheet;
The embedded RFID tag according to any one of claims 1 to 6, wherein the second fixing means is a needle-shaped member.
前記第2固定手段は、非金属製の部材であることを特徴とする請求項7に記載のRFIDタグ埋設体。   The embedded RFID tag according to claim 7, wherein the second fixing means is a non-metallic member. 前記シリコーン系エラストマーは、湿気硬化シリコーン系エラストマーである請求項1から8のいずれか1項に記載のRFIDタグ埋設体。   The embedded RFID tag according to any one of claims 1 to 8, wherein the silicone-based elastomer is a moisture-cured silicone-based elastomer. 請求項1から9のいずれか1項に記載のRFIDタグ埋設体の製造方法であって、
金属の表面に、硬化性シリコーン系接着層を貼り付ける接着層貼付工程と、
前記硬化性シリコーン系接着層の表面から内部に向けて前記金属の表面に達しない位置まで、非金属対応のRFIDタグのうち前記第1固定手段を含む少なくとも一部を埋設するRFIDタグ埋設工程と、
前記硬化性シリコーン系接着層を硬化させてシリコーン系エラストマーのシートを形成する硬化工程と、
を含むRFIDタグ埋設体の製造方法。
A method for manufacturing an embedded RFID tag according to any one of claims 1 to 9,
An adhesive layer attaching step of attaching a curable silicone-based adhesive layer to a metal surface,
An RFID tag embedding step of embedding at least a part of the non-metal corresponding RFID tag including the first fixing means from the surface of the curable silicone-based adhesive layer to a position not reaching the surface of the metal toward the inside; ,
A curing step of curing the curable silicone-based adhesive layer to form a sheet of silicone-based elastomer,
A method for manufacturing an embedded RFID tag, comprising:
前記RFIDタグは、前記第1固定手段として、穴を備え、
前記RFIDタグ埋設工程は、前記RFIDタグのうち少なくとも前記穴の部分を前記硬化性シリコーン系接着層に完全に埋設することを特徴とする請求項10に記載のRFIDタグ埋設体の製造方法。
The RFID tag includes a hole as the first fixing means,
The method of manufacturing an embedded RFID tag according to claim 10, wherein the RFID tag embedding step completely embeds at least the hole portion of the RFID tag in the curable silicone-based adhesive layer.
前記硬化性シリコーン系接着層に埋設された前記RFIDタグを、第2固定手段により当該接着層に固定する固定工程を含み、
前記硬化工程は、前記第2固定手段により前記RFIDタグが固定された前記硬化性シリコーン系接着層を硬化させてシリコーン系エラストマーのシートを形成することを特徴とする請求項10または11に記載のRFIDタグ埋設体の製造方法。
A fixing step of fixing the RFID tag embedded in the curable silicone-based adhesive layer to the adhesive layer by second fixing means,
12. The sheet according to claim 10, wherein, in the curing step, the curable silicone-based adhesive layer to which the RFID tag is fixed by the second fixing unit is cured to form a silicone-based elastomer sheet. 13. A method for manufacturing an embedded RFID tag.
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