JP2020026403A - ５−アルケン−１−イン化合物、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法並びに１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物 - Google Patents

５−アルケン−１−イン化合物、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法並びに１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物 Download PDF

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Abstract

【課題】安価で効率のよい５−アルケン−１−イン化合物の製造方法並びにこれを利用した（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法を提供する。【解決手段】一般式（１）Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｘ１で表されるハロアルケン化合物から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物と、一般式（２）Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、一般式（３）Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）で表されるシラン化合物を得る工程と、シラン化合物（３）の脱シリル化反応により、一般式（４）Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｃ≡ＣＨで表される５−アルケン−１−イン化合物を得る工程とを少なくとも含む５−アルケン−１−イン化合物の製造方法等を提供する。【選択図】なし

Description

本発明は、５−アルケン−１−イン化合物の製造方法並びにこれを利用した（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法並びに１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物に関する。
メチレンを介して三重結合と二重結合が結合した構造等であるエンイン骨格を有する有機化合物は、生物活性物質及びフェロモン等の天然物に多く存在するため、エンイン骨格を有する中間体は、非常に有用である。
二つのメチレンを介して三重結合と二重結合が結合した構造を有する有機化合物の一つである５−アルケン−１−イン化合物は、ホモアリル位にエチニル基を有する。５−アルケン−１−イン化合物の製造方法として、森らは（３Ｅ）−４−ブロモ−３−トリデセンとシアン化カリウムを反応させてニトリルに変換した後、アルデヒドへの還元、四臭化炭素との反応によるジブロモオレフィンを経由し、ｎ−ブチルリチウムとの反応により、５−アルケン−１−イン化合物を製造している（非特許文献１）。また、Ｍａｇａｕｅｒらは５−ブロモ−２−メチルペンテンとリチウム＝アセチリド−エチレンジアミン＝錯体を反応させることにより、５−アルケン−１−イン化合物を製造している（非特許文献２）。
中国、台湾、朝鮮半島、ベトナム北部が原産のクビアカツヤカミキリ（Ａｒｏｍｉａ ｂｕｎｇｉｉ）は近年日本に侵入した害虫であり、サクラ、カキ、オリーブ、モモ、ウメ、ザクロ、ヤナギ等を加害する。既に国内のサクラが多数加害されており、クビアカツヤカミキリが日本全国に広まった場合の被害総額は２２０億円と推定されている。現在農林水産省や国土交通省がクビアカツヤカミキリの防除に乗り出しているが、効果的な防除法が確立されていない。一方で、集合フェロモン物質を用いた防除や発生消長の把握が注目されており、その利用が期待されている。
クビアカツヤカミキリの集合フェロモンとしては、（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールであることが明らかとなっている（非特許文献３）。また、（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールは、（２Ｚ）−２−ペンテン−１−オールをエポキシ化して２，３−エポキシ−１−ペンタノールを得た後、トリフラートに変換し、アリルグリニャール試薬とのカップリング反応、続く２−ブテナールとのオレフィンメタセシスにより合成できることが報告されている（非特許文献４）。
Ｋ．Ｍｏｒｉ ｅｔ ａｌ．，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．１９８５，４１，２３７９． Ｔ．Ｍａｇａｕｅｒ ｅｔ ａｌ．，Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２０１５，１７，１９８２． Ｈ．Ｙａｓｕｉ ｅｔ ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ ｒｅｐｏｒｔｓ，２０１７，７（１），７３３０． Ｋ．Ｍｏｒｉ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．２０１８，７４，１４４４．
しかしながら、非特許文献１では、ホモアリルハライドを５−アルケン−１−イン化合物に変換するまで４段階を要しており、毒性の高いシアン化ナトリウムを用いてニトリルを製造している。また、ニトリルのアルデヒドへの還元、ジブロモオレフィンとｎ−ブチルリチウムとの反応ではそれぞれ−６０℃、−７８℃で反応を行っており、一般的な反応設備で行うことができない。また、非特許文献２では、高価なリチウム＝アセチリド−エチレンジアミン＝錯体を用いてエニチル化を行っているため、工業的な生産には向かない。さらに、非特許文献４では、高価なＧｒｕｂｂｓ触媒を用いており、ホモメタセシスを防ぐために多量の溶媒と２−ブテナールを用いてオレフィンメタセシスを行っているため生産性が悪く工業スケールでの大量生産は難しい。更に、（２Ｚ）−２−ペンテン−１−オールから全４工程で総収率６．６％と収率が極めて悪い。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、安価で効率のよい５−アルケン−１−イン化合物の製造方法並びにこれを利用した（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法並びに１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、ハロアルケン化合物から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物とアルキン化合物とのカップリング反応と、それに続く脱シリル化反応により、５−アルケン−１−イン化合物を安価に効率よく製造できることを見出した。更に当該５−アルケン−１−イン化合物の製造方法を利用することにより、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールを効率的に製造できることを見出し、本発明を為すに至った。
本発明の一つの態様によれば、下記一般式（１）
Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｘ１ （１）
（式中、Ｙは、水素原子又はヒドロキシ基を表し、Ｚは、炭素数１〜１５の二価の炭化水素基を表し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表すか、又は互いに結合してＲ１−Ｒ２として炭素数１〜６の２価の炭化水素基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。）
で表されるハロアルケン化合物から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）
Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５） （２）
（式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表し、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表すか、又は互いに結合してＲ４−Ｒ５として炭素数２〜６の２価の炭化水素基を表す。）
で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３）
Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−(ＣＨ２) ２−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ(Ｒ３)(Ｒ４)(Ｒ５) （３）
（式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は上記と同様である。）
で表されるシラン化合物を得る工程と、
前記シラン化合物の脱シリル化反応により、下記一般式（４）
Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｃ≡ＣＨ （４）
（式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ１及びＲ２は上記と同様である。）
で表される５−アルケン−１−イン化合物を得る工程と
を少なくとも含む５−アルケン−１−イン化合物の製造方法が提供される。
また、本発明の別の態様によれば、前記一般式（４）で表される５−アルケン−１−イン化合物が、Ｙを水素原子、Ｚをエチレン基、Ｒ１及びＲ２を水素原子とする下記式（４−１）
Figure 2020026403
 で表される（５Ｚ）−５−オクテン−１−インである、上述の５−アルケン−１−イン化合物の製造方法の各工程と、
得られた前記（５Ｚ）−５−オクテン−１−インから下記一般式（５）
Figure 2020026403
 （式中、Ｍは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ又はＭｇＸ３を表し、Ｘ３は、ハロゲン原子を表す。）
で表されるアセチリド化合物を調製する工程と、
前記アセチリド化合物（５）と下記一般式（６）
Figure 2020026403
 （式中、Ｒ６は、同じでも異なってもよい炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。）
で表されるオルトギ酸エステル化合物との求核置換反応により、下記一般式（７ａ）
Figure 2020026403
 （式中、Ｒ６は上記と同様である。）
で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を得る工程と
を少なくとも含む（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−インの製造方法が提供される。
また、本発明の別の態様によれば、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−インを得るための上述の（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−インの製造方法の各工程と
得られた前記（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の還元反応により、下記一般式（８）
Figure 2020026403
 （式中、Ｒ６は同じでも異なってもよい炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。）
で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物を得る工程と、
前記（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物の加水分解反応により、下記式（９）
Figure 2020026403
 で表される（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールを得る工程と
を少なくとも含む（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールの製造方法が提供される。
また、本発明の他の態様によれば、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールを得るための上述の（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールの製造方法の各工程と、
得られた前記（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールのエポキシ化反応により、下記式（１０）
Figure 2020026403
 で表される（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールを得る工程と
を少なくとも含む（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法が提供される。
また、本発明の他の態様によれば、下記一般式（７）
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ（ＯＲ６）２ （７）
（式中、Ｒ６は同じでも異なってもよい炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。）
で表される１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物が提供される。
本発明によれば、５−アルケン−１−イン化合物を安価に効率良く製造することができる。更に当該製造方法を利用することにより、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールも安価に効率良く製造することができる。
また、１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物は、有機合成における中間体として有用である。
まず、５−アルケン−１−イン化合物の製造方法における下記一般式（１）で表されるハロアルケン化合物から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３）で表されるシラン化合物を得る工程について説明する。
Figure 2020026403
一般式（１）で表されるハロアルケン化合物におけるＹは、水素原子又はヒドロキシ基を表す。Ｙがヒドロキシ基である場合は、必要に応じて、保護基により保護してもよい。保護基としては、メチル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基及び２−ナフチルメチル基等のエーテル系保護基、メトキシメチル基、２−テトラヒドロピラニル基、１−エトキシエチル基、ベンジルオキシメチル基、ｐ−メトキシベンジルオキシメチル基及び２−ナフチルメチルオキシメチル基等の炭素数２〜１２のアセタール系保護基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基及びｔ−ブチルジフェニルシリル基等のシリルエーテル系保護基等が挙げられる。
一般式（１）で表されるハロアルケン化合物におけるＺは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表す。
Ｚの二価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１，５−ペンチレン基、１，６−ヘキシレン基、１，７−ヘプチレン基、１，８−オクチレン基、１，９−ノニレン基、１，１０−デシレン基、１，１１−ウンデシレン基、１，１２−ドデシレン基、１，１３−トリデシレン基、１，１４−テトラデシレン基及び１，１５−ペンタデシレン基等の直鎖状の飽和炭化水素基、１，２−プロピレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，３−ブチレン基及び２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基、１−ビニルエチレン基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、２−メチレン−１，３−プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基、１，２−シクロプロピレン基及び１，２−シクロブチレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
一般式（１）で表されるハロアルケン化合物におけるＲ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子、又は炭素数１〜６、好ましくは１〜２の一価の炭化水素基を表し、又は互いに結合してＲ１−Ｒ２として炭素数１〜６、好ましくは３〜６の２価の炭化水素基を表す。
Ｒ１及びＲ２の一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基及びｎ−ヘキシル基等の直鎖状の飽和炭化水素基、イソプロピル基、２−メチルブチル基及びｔ−ブチル基等の分岐状の飽和炭化水素基、２−メチル−２−プロペニル基等の分岐状の不飽和炭化水素基、シクロプロピル基等の環状の飽和炭化水素基、フェニル基等のアリール基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でもよい。また、これらの炭化水素基の水素原子の一部がメチル基、エチル基等で置換されていてもよい。
Ｒ１−Ｒ２の二価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１、５−ペンチレン基及び１、６−ヘキシレン基等の直鎖状の飽和炭化水素基、１，２−プロピレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基、１，２−ブチレン基、１，３−ブチレン基、２，３−ブチレン基及び２，３−ジメチル−２，３−ブチレン基等の分岐状の飽和炭化水素基、１−ビニルエチレン基等の直鎖状の不飽和炭化水素基、２−メチレン−１，３−プロピレン基等の分岐状の不飽和炭化水素基、１，２−シクロプロピレン基及び１，２−シクロブチレン基等の環状炭化水素基等が挙げられ、これらと異性体の関係にある炭化水素基でも良い。また、これらの炭化水素基の水素原子中の一部がメチル基、エチル基等で置換されていても良い。
一般式（１）で表されるハロアルケン化合物におけるＸ１は、ハロゲン原子を表す。Ｘ１のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、グリニャール試薬の調製のしやすさの観点から、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
一般式（１）で表されるハロアルケン化合物の−ＣＲ１＝ＣＲ２−における幾何異性体としては、Ｅ体、Ｚ体が挙げられる。ハロアルケン化合物（１）としては、（３Ｚ）−１−クロロ−３−ヘキセン及び（３Ｅ）−１−クロロ−３−ヘキセン等の１−ハロ−３−ヘキセン化合物、（３Ｅ）−１−クロロ−３−オクテン等の１−ハロ−３−オクテン化合物、（３Ｚ）−１−クロロ−３−テトラデセン等の１−ハロ−３−テトラデセン化合物、（３Ｚ）−１−クロロ−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセン等の１−ハロ−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセン化合物等が挙げられる。ハロアルケン化合物（１）は、市販のものを用いてもよいし、合成したものを用いてもよい。
ハロアルケン化合物（１）からアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物を調製する。アルケニルマグネシウム＝ハライド化合物は、ハロアルケン化合物（１）を溶媒中、マグネシウムと反応させることで調製することができる。
ハロアルケン化合物（１）からアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物を調製する際に用いるマグネシウムの使用量は、ハロアルケン化合物（１）１ｍｏｌに対して、反応完結の観点から、好ましくは１．０〜２．０グラム原子（２４．３〜４８．６ｇ）である。
ハロアルケン化合物（１）からアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物を調製する際に用いる溶媒は、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル及び４−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン及びヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられるが、グリニャール試薬生成の反応速度の観点から、テトラヒドロフランが好ましい。溶媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
溶媒の使用量は、ハロアルケン化合物（１）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは５０〜６００ｇである。
ハロアルケン化合物（１）からアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物を調製する際の反応温度は、用いる溶媒により異なるが、反応性の観点から、好ましくは３０〜１２０℃である。ハロアルケン化合物（１）からアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物を調製する際の反応時間は、用いる溶媒や反応スケールにより異なるが、反応性の観点から、好ましくは１〜３０時間である。
アルケニルマグネシウム＝ハライド化合物としては、（３Ｚ）−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリド及び（３Ｅ）−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリド等の３−ヘキセニルマグネシウム＝ハライド化合物、（３Ｚ）−３−オクテニルマグネシウム＝クロリド等の３−オクテニルマグネシウム＝ハライド化合物、（３Ｚ）−３−テトラデセニルマグネシウム＝クロリド等の３−テトラデセニルマグネシウム＝ハライド化合物、（３Ｚ）−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリド等の６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセニルマグネシウム＝ハライド化合物等が挙げられる。
一般式（２）で表されるアルキン化合物におけるＸ２は、ハロゲン原子を表し、Ｘ１の具体例と同様であるが、Ｘ１と同じであっても異なってもよい。Ｘ２のハロゲン原子としては、アルキン化合物の調製のしやすさ又は入手のし易さの観点から、臭素原子又はヨウ素原子が好ましい。
一般式（２）で表されるアルキン化合物におけるＲ３は、水素原子又は炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。Ｒ３が表す一価の炭化水素基の具体例は、Ｒ１及びＲ２の一価の炭化水素基の具体例と同様である。
一般式（２）で表されるアルキン化合物におけるＲ４及びＲ５は、それぞれ独立して炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表すか、又は互いに結合してＲ４−Ｒ５として炭素数２〜６、好ましくは３〜６の２価の炭化水素基を表す。
Ｒ４及びＲ５が表す一価の炭化水素基の具体例は、Ｒ１及びＲ２の一価の炭化水素基の具体例と同様である。また、Ｒ４−Ｒ５の二価の炭化水素基の具体例は、Ｒ１−Ｒ２の２価の炭化水素基の具体例と同様である。
アルキン化合物（２）としては、（２−クロロエチニル）シラン化合物、（２−ブロモエチニル）シラン化合物、（２−ヨードエチニル）シラン化合物等の（２−ハロエチニル）シラン化合物等が挙げられる。（２−クロロエチニル）シラン化合物は安定性に優れ、（２−ヨードエチニル）シラン化合物は反応性に優れるが、安定性と反応性のどちらも優れる点からは（２−ブロモエチニル）シラン化合物がより好ましい。アルキン化合物（２）は、市販のものを用いてもよいし、合成したものを用いてもよい。
（２−クロロエチニル）シラン化合物としては、（２−クロロエチニル）トリメチルシラン、（２−クロロエチニル）トリエチルシラン、（２−クロロエチニル）ｔ−ブチルジメチルシラン、（２−クロロエチニル）トリイソプロピルシラン及び（２−クロロエチニル）ｔ−ブチルジフェニルシラン等が挙げられる。
（２−ブロモエチニル）シラン化合物としては、（２−ブロモエチニル）トリメチルシラン、（２−ブロモエチニル）トリエチルシラン、（２−ブロモエチニル）ｔ−ブチルジメチルシラン、（２−ブロモエチニル）トリイソプロピルシラン及び（２−ブロモエチニル）ｔ−ブチルジフェニルシラン等が挙げられる。
（２−ヨードエチニル）シラン化合物としては、（２−ヨードエチニル）トリメチルシラン、（２−ヨードエチニル）トリエチルシラン、（２−ヨードエチニル）ｔ−ブチルジメチルシラン、（２−ヨードエチニル）トリイソプロピルシラン及び（２−ヨードエチニル）ｔ−ブチルジフェニルシラン等が挙げられる。
アルキン化合物（２）としては、調製のしやすさ又は入手のし易さの観点から、（２−ブロモエチニル）トリメチルシラン、（２−ブロモエチニル）トリエチルシラン、（２−ブロモエチニル）ｔ−ブチルジメチルシラン及び（２−ブロモエチニル）トリイソプロピルシラン等の（２−ブロモエチニル）トリアルキルシラン化合物、又は（２−ヨードエチニル）トリメチルシラン、（２−ヨードエチニル）トリエチルシラン、（２−ヨードエチニル）ｔ−ブチルジメチルシラン及び（２−ヨードエチニル）トリイソプロピルシラン等の（２−ヨードエチニル）トリアルキルシラン化合物が好ましく、（２−ブロモエチニル）トリメチルシランがより好ましい。
ハロアルケン化合物（１）から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物とアルキン化合物（２）とのカップリング反応において、ハロアルケン化合物（１）の使用量は、アルキン化合物（２）１ｍｏｌに対して、反応完結及び経済性の観点から、好ましくは０．８〜１．４ｍｏｌである。
カップリング反応には、反応性の観点から、必要に応じて触媒を用いてもよい。
カップリング反応に用いる触媒としては、塩化第一銅、臭化第一銅及びヨウ化第一銅等の一価のハロゲン化銅、シアン化第一銅、酸化第一銅、塩化第二銅、臭化第二銅及びヨウ化第二銅等の二価のハロゲン化銅、ジリチウム＝テトラクロロキュープレート等の銅の四配位錯体（錯化合物）、その他、シアン化第二銅、酸化第二銅等が挙げられ、反応性の観点から、ジリチウム＝テトラクロロキュープレート等の銅のハロゲン四配位錯体が好ましい。触媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、触媒は、市販のものを用いることができる。
触媒の使用量は、アルキン化合物（２）１ｍｏｌに対して、経済性の観点から、好ましくは０．００３〜０．３００ｍｏｌ、より好ましくは０．００３〜０．０３０ｍｏｌである。
カップリング反応に用いる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル及び４−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン及びヘキサン等の炭化水素系溶媒が挙げられるが、反応性の観点から、テトラヒドロフランが好ましい。溶媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
溶媒の使用量は、アルキン化合物（２）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは５０〜８００ｇである。
カップリング反応における反応温度は、反応性の観点から、好ましくは０〜５０℃である。カップリング反応における反応時間は、反応スケールにより異なるが、反応性の観点から、好ましくは０．１〜２０時間である。
ハロアルケン化合物（１）から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物とアルキン化合物（２）とのカップリング反応により一般式（３）で表されるシラン化合物が得られる。シラン化合物（３）におけるの−ＣＲ１＝ＣＲ２−における幾何異性体としては、Ｅ体、Ｚ体が挙げられる。シラン化合物（３）としては、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルトリメチルシラン及び（５Ｅ）−５−オクテン−１−イニルトリメチルシラン等の５−オクテン−１−イニルトリアルキルシラン化合物、（５Ｅ）−５−デセン−１−イニルトリメチルシラン等の５−デセン−１−イニルトリアルキルシラン化合物、（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イニルトリメチルシラン等の５−ヘキサデセン−１−イニルトリアルキルシラン化合物、（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イニルトリメチルシラン等の８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イニルトリアルキルシラン化合物等が挙げられる。シラン化合物（３）としては、脱シリル化反応の容易さの観点から、Ｓｉ（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５）で表されるシリル基をトリメチルシリル基とする化合物が好ましい。
次に、５−アルケン−１−イン化合物の製造方法における一般式（３）で表されるシラン化合物の脱シリル化反応により、下記一般式（４）で表される５−アルケン−１−イン化合物を得る工程について説明する。
Figure 2020026403
脱シリル化反応は、例えば、脱シリル化剤及び必要に応じて溶媒を用いて行う。
脱シリル化剤としては、無機塩基、金属アルコキシド及びフッ化物等が挙げられる。脱シリル化剤は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、脱シリル化剤は、市販のものを用いることができる。
無機塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、その他、炭酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。無機塩基は、それぞれ水溶液として用いてもよい。例えば、水酸化ナトリウム水溶液の濃度は、反応性の観点から、好ましくは１０〜４０重量％、より好ましくは２０〜３０重量％である。
金属アルコキシドとしては、ナトリウム＝ｔ−ブトキシド、カリウム＝ｔ−ブトキシド、ナトリウム＝メトキシド、カリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド、カリウム＝エトキシド、ナトリウム＝トリメチルシリルオキシド、カリウム＝トリメチルシリルオキシドが挙げられる。
フッ化物としては、フッ化水素ピリジン、フッ化カリウム、フッ化セシウム、フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム等が挙げられる。
脱シリル化剤としては、反応性の観点から、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ金属水酸化物水溶液、カリウム＝トリメチルシリルオキシドが好ましい。
脱シリル化剤の使用量は、シラン化合物（３）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは１．０〜１０．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０〜５．０ｍｏｌである。
脱シリル化反応に必要に応じて用いる溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル及び４−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、１−プロパノール及び１−ブタノール等の炭素数１〜４の一級アルコール、イソプロピル＝アルコール等の二級アルコール、ｔ−ブチル＝アルコール等の三級アルコールが挙げられる。溶媒は、市販のものを用いることができる。溶媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。
用いる脱シリル化剤により最適な溶媒は異なるが、反応性の観点から、例えば、水酸化ナトリウム水溶液を用いる場合は、メタノールが好ましく、カリウム＝トリメチルシリルオキシドを用いる場合は、ジメチル＝スルホキシドが好ましく、フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムを用いる場合は、テトラヒドロフランが好ましい。
脱シリル化反応に必要に応じて用いる溶媒の使用量は、シラン化合物（３）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは０〜３０００ｇである。
脱シリル化反応における反応温度は、用いる溶媒により異なるが、反応性及び収率の観点から、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは２５〜８０℃である。脱シリル化反応における反応時間は、用いる溶媒や反応スケールにより異なるが、反応性の観点から、好ましくは１〜５０時間である。
なお、シラン化合物（３）を精製することなく、脱シリル化反応に付す場合は、脱シリル化剤及び溶媒については、アルキン化合物（２）１ｍｏｌに対して上述の使用量を用いてもよい。
シラン化合物（３）の脱シリル化反応により５−アルケン−１−イン化合物（４）を得る。５−アルケン−１−イン化合物（４）の−ＣＲ１＝ＣＲ２−における幾何異性体としては、Ｅ体、Ｚ体が挙げられる。５−アルケン−１−イン化合物（４）としては、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン及び（５Ｅ）−５−オクテン−１−インの５−オクテン−１−イン化合物、（５Ｅ）−５−デセン−１−イン等の５−デセン−１−イン化合物、（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イン等の５−ヘキサデセン−１−イン化合物、（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン等の８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン化合物、等が挙げられる。
５−アルケン−１−イン化合物（４）の具体例として、下記一般式（４−２）で表される５−オクテン−１−イン化合物は、下記一般式（１−２）で表される１−ハロ−３−ヘキセン化合物から調製される３−ヘキセニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３−２）で表されるシラン化合物を得る工程と、前記シラン化合物の脱シリル化反応により下記一般式（４−２）で表される５−オクテン−１−イン化合物を得る工程により製造することができる。
Figure 2020026403
また、５−アルケン−１−イン化合物の別の具体例として、下記一般式（４−３）で表される５−デセン−１−イン化合物は、下記一般式（１−３）で表される１−ハロ−３−オクテン化合物から調製される３−オクテニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３−３）で表されるシラン化合物を得る工程と、前記シラン化合物の脱シリル化反応により下記一般式（４−３）で表される５−デセン−１−イン化合物を得る工程により製造することができる。
Figure 2020026403
更に、５−アルケン−１−イン化合物の他の具体例として、下記一般式（４−４）で表される５−ヘキサデセン−１−イン化合物は、下記一般式（１−４）で表される１−ハロ−３−テトラデセン化合物から調製される３−テトラデセニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３−４）で表されるシラン化合物を得る工程と、前記シラン化合物の脱シリル化反応により下記一般式（４−４）で表される５−ヘキサデセン−１−イン化合物を得る工程により製造することができる。
Figure 2020026403
また、５−アルケン−１−イン化合物の他の具体例として、下記一般式（４−５）で表される８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン化合物は、下記一般式（１−５）で表される１−ハロ−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセン化合物から調製される６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３−５）で表されるシラン化合物を得る工程と、前記シラン化合物の脱シリル化反応により下記一般式（４−５）で表される８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン化合物を得る工程により製造することができる。
Figure 2020026403
次に、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の製造方法における下記一般式（１−１）で表される（３Ｚ）−１−ハロ−３−ヘキセン化合物から調製される（３Ｚ）−３−ヘキセニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３−１）で表されるシラン化合物を得る工程について説明する。
一般式（１−１）で表される（３Ｚ）−１−ハロ−３−ヘキセン化合物におけるＸ１、アルキン化合物（２）は、上記と同様であり、カップリング反応も上記と同様の反応条件にて行うことができる。
Figure 2020026403
次に、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の製造方法における下記一般式（３−１）で表されるシラン化合物の脱シリル化反応により、下記式（４−１）で表される（５Ｚ）−５−オクテン−１−インを得る工程について説明する。
脱シリル化反応は、上記と同様の反応条件にて行うことができる。
Figure 2020026403
次に、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の製造方法における下記式（４−１）で表される（５Ｚ）−５−オクテン−１−インから下記一般式（５）で表されるアセチリド化合物を調製する工程について説明する。
一般式（５）で表されるアセチリド化合物におけるＭは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ又はＭｇＸ３を表す。Ｘ３は、ハロゲン原子を表し、Ｘ１の具体例と同様である。
Figure 2020026403
（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）から調製されるアセチリド化合物（５）は、溶媒中、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）と塩基を反応させることにより調製することができる。
アセチリド化合物（５）を調製する際に用いる塩基としては、メチルマグネシウム＝クロリド、メチルマグネシウム＝ブロミド、エチルマグネシウム＝クロリド、エチルマグネシウム＝ブロミド、イソプロピルマグネシウム＝クロリド及びｎ−ブチルマグネシウム＝クロリド等のグリニャール試薬、ナトリウム＝ｔ−ブトキシド、カリウム＝ｔ−ブトキシド、ナトリウム＝メトキシド、カリウム＝メトキシド、ナトリウム＝エトキシド及びカリウム＝エトキシド等の金属アルコキシド、水素化リチウム及び水素化ナトリウム等の水素化金属、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム及びｔ−ブチルリチウム等のアルキルリチウム、ナトリウム＝アセチリド等のアルキニルリチウム、リチウム＝アミド、リチウム＝ジイソプロピルアミド及びナトリウム＝ビス（トリメチルシリル）アミド等の金属アミド等が挙げられる。アセチリド化合物（５）を調製する際に用いる塩基は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、アセチリド化合物（５）を調製する際に用いる塩基は、市販のものを用いることができる。
アセチリド化合物（５）を調製する際に用いる塩基としては、反応性及び経済性の観点から、好ましくはグリニャール試薬であり、より好ましくはメチルマグネシウム＝クロリド等の炭素数１〜５のアルキルマグネシウム＝ハライドである。
アセチリド化合物（５）を調製する際に用いる塩基の使用量は、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）１ｍｏｌに対して、反応性及び経済性の観点から、好ましくは１．０〜５．０ｍｏｌ、より好ましくは１．０〜３．０ｍｏｌである。
アセチリド化合物（５）の調製に用いる溶媒は、アセチリド化合物（５）を調製する際に用いる塩基により異なるが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチル＝スルホキシド及びヘキサメチルホスホリック＝トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル及び４−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン及びヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられ、反応性の観点から、テトラヒドロフランが好ましい。溶媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
溶媒の使用量は、反応スケールにより異なるが、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）１ｍｏｌに対して、反応速度の観点から、好ましくは１０〜５００ｇである。
アセチリド化合物（５）の調製時の反応温度は、用いる溶媒により異なるが、反応性の観点から、好ましくは−７８〜１００℃である。アセチリド化合物（５）の調製時の反応時間は、用いる溶媒や反応スケールにより異なるが、反応速度の観点から、好ましくは０．１〜３０時間である。
アセチリド化合物（５）としては、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルリチウム、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルナトリウム及び（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルカリウム等の（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルアルカリ金属化合物、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルマグネシウム＝クロリド等の（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルマグネシウム＝ハライド化合物等が挙げられる。
次に、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の製造方法における下記一般式（５）で表されるアセチリド化合物と下記一般式（６）で表されるオルトギ酸エステル化合物との求核置換反応により、下記一般式（７ａ）で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を得る工程について説明する。
一般式（６）で表されるオルトギ酸エステル化合物における三つのＲ６は、同じでも異なってもよく、それぞれ炭素数１〜６、好ましくは１〜３の一価の炭化水素基を表す。Ｒ６が表す一価の炭化水素基の具体例は、Ｒ１及びＲ２の一価の炭化水素基の具体例と同様である。三つのＲ６は、入手の容易さ及び反応後の精製の点において、同じであることが好ましい。
Figure 2020026403
オルトギ酸エステル化合物（６）としては、オルトギ酸メチル、オルトギ酸エチル、オルトギ酸プロピル、オルトギ酸ブチル、オルトギ酸ペンチル及びオルトギ酸ヘキシル等の直鎖状のアルキル基を有するオルトギ酸エステル化合物、オルトギ酸イソプロピル等の分岐状のアルキル基を有するオルトギ酸エステル化合物等が挙げられるが、入手のしやすさの観点から、オルトギ酸メチルもしくはオルトギ酸エチルが好ましい。オルトギ酸エステル化合物（６）は市販のものを使用してもよいし、合成したものを用いても良い。
オルトギ酸エステル化合物（６）の使用量は、アセチリド化合物（５）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは１．０〜３．０ｍｏｌである。
アセチリド化合物（５）とオルトギ酸エステル化合物（６）との求核置換反応における溶媒及び溶媒の使用量は、アセチリド化合物（５）調製時に用いる溶媒及び溶媒の使用量と同様でもいいし、異なっていてもよい。
求核置換反応における反応温度は、反応をスムーズに進行させ、溶媒の蒸発を防ぐ観点から、好ましくは７５〜１３０℃である。求核置換反応における反応時間は、用いる溶媒や反応スケールにより異なるが、反応性の観点から、好ましくは３〜３５時間である。
アセチリド化合物（５）とオルトギ酸エステル化合物（６）との求核置換反応により一般式（７ａ）で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を得る。（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）におけるＲ６は、オルトギ酸エステル化合物（６）のＲ６と同様である。
（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）の具体例としては、（６Ｚ）−１，１−ジメトキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｚ）−１，１−ジプロポキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｚ）−１，１−ジイソプロポキシ−６−ノネン−２−イン等が挙げられるが、製造のし易さの観点から、（６Ｚ）−１，１−ジメトキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−インが好ましい。
ハロアルケン化合物（１）として、１−ハロ−３−ヘキセン化合物のＥ体を使用することにより、下記一般式（７ｂ）で表される（６Ｅ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を製造することも可能である。なお、（６Ｅ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７−２）におけるＲ６は、オルトギ酸エステル（６）のＲ６と同様である。
Figure 2020026403
（６Ｅ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７−２）の具体例としては、（６Ｅ）−１，１−ジメトキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｅ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｅ）−１，１−ジプロポキシ−６−ノネン−２−イン、（６Ｅ）−１，１−ジイソプロポキシ−６−ノネン−２−イン等が挙げられる。
次に、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールの製造方法における下記一般式（７ａ）で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の還元反応により、下記一般式（８）で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物を得る工程について説明する。
Figure 2020026403
還元反応としては、接触還元（ｃａｔａｌｙｔｉｃ ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎ）反応、酢酸パラジウム等のパラジウム触媒存在下、水酸化カリウムとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を用いる還元反応、アルコール溶媒中で亜鉛を用いた還元反応、バーチ（Ｂｉｒｃｈ）還元による還元反応、ヒドロシリル化を行い、ビニルシランを得た後に、脱シリル化する還元反応、ジアルキルボランを用いたヒドロホウ素化とそれに続くプロトン化による還元反応等が挙げられ、選択性及び生産性の観点から、接触還元反応が好ましい。
接触還元反応は、金属触媒存在下、水素ガスを添加して行う。接触還元反応に用いる金属触媒としては、例えば、Ｌｉｎｄｌａｒ触媒、パラジウム炭素及びパラジウム炭素をポリエチレンイミンポリマー（ＰＥＩ）で被毒したＰｄ−ＰＥＩ、水酸化パラジウム等のパラジウム触媒、ニッケルボライド、Ｐ−２ホウ化ニッケル触媒（Ｔｈｏｍａｓ Ｊ． Ｃａｇｇｉａｎｏ ｅｔ ａｌ． Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ ｏｆ Ｒｅａｇｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ：３６９４−３６９９）（以下、「Ｐ２−Ｎｉ触媒」ともいう。）等のニッケル触媒、アダムス触媒の白金触媒等が挙げられるが、経済性の観点から、Ｌｉｎｄｌａｒ触媒及びニッケル触媒が好ましい。なお、固体の触媒は、溶媒に分散させて用いてもよい。
金属触媒の使用量は、用いる触媒によって異なるが、反応性の観点から、Ｌｉｎｄｌａｒ触媒等のように触媒が固体である場合は、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）１ｍｏｌに対して、０．０１〜５０．００ｇが好ましい。また、Ｐ２−Ｎｉ触媒は、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）１ｍｏｌに対して、ニッケル化合物としての換算量が０．００１〜０．５００ｍｏｌとなるように使用することが好ましい。
金属触媒の活性が高い場合には、必要に応じて触媒毒を使用してもよい。接触還元反応に用いる触媒毒としては、ピリジン、キノリン及びエチレンジアミン等のアミン化合物、ベンゼンチオール、ジフェニル＝スルフィド、ジメチル＝スルフィド及びジメチル＝スルホキシド等の硫黄化合物等が挙げられる。
触媒毒の使用量は、用いる触媒毒により大きく異なるが、反応速度又は幾何選択性の観点から、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）１ｍｏｌに対して、好ましくは０．０００１〜１０．００００ｇである。
接触還元反応に用いる溶媒としては、アセトニトリル、酢酸メチル及び酢酸エチル等の極性溶媒、トルエン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン及びシクロヘキセン等の炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール、１−ヘキサノール、２−プロパノール、２−ブタノール及びシクロヘキサノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いても２種類以上を併用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
接触還元反応に用いる溶媒は、反応性の観点から、ニッケル触媒を用いる場合は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール及び２−プロパノール等のアルコール系溶媒、Ｌｉｎｄｌａｒ触媒を用いる場合は、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、パラジウム炭素等のパラジウム触媒を用いる場合は、酢酸メチル及び酢酸エチル等の極性溶媒が好ましい。
溶媒の使用量は、用いる触媒や溶媒により異なるが、反応性の観点から、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）１ｍｏｌに対して、好ましくは０〜１０００ｇである。
接触還元反応の反応温度は、用いる触媒や溶媒の種類により異なるが、幾何選択性の観点から、好ましくは４０〜１６０℃である。接触還元反応の反応時間は、収率の観点から、好ましくは１〜５０時間である。
（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物（７ａ）の還元反応により得られる（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物（８）の幾何異性体としては、（２Ｅ，６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物、（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物が挙げられる。
（２Ｅ，６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物としては、（２Ｅ，６Ｚ）−１，１−ジメトキシ−２，６−ノナジエン、（２Ｅ，６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−２，６−ノナジエン等が挙げられる。
（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物としては、（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジメトキシ−２，６−ノナジエン、（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−２，６−ノナジエン等が挙げられる。
次に説明する加水分解反応により、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）を収束的に製造することができるため、還元反応により、一方の幾何異性体を選択的に製造しても良いが、幾何異性体の混合物として製造しても良い。
次に、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールの製造方法における下記一般式（８）で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物の加水分解反応により、下記式（９）で表される（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールを得る工程について説明する。
Figure 2020026403
加水分解反応は、例えば酸、水及び必要に応じて溶媒を用いて行う。
加水分解反応に用いる酸としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸及び硫酸等の無機酸類、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、ギ酸、シュウ酸、ヨードトリメチルシラン、四塩化チタン等が挙げられるが、反応性の観点から、塩酸が好ましい。酸は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、酸は、市販のものを用いることができる。
酸の使用量は、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物（８）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは０．０１〜１５．００ｍｏｌである。
加水分解反応に用いる水の使用量は、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物（８）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは１８〜３０００ｇである。
加水分解反応に用いる溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチル＝エーテル及び４−メチルテトラヒドロピラン等のエーテル系溶媒、トルエン、キシレン及びヘキサン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジクロロメタン及びクロロホルム等の極性溶媒、メタノール及びエタノール等アルコール系溶媒が挙げられる。溶媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
用いる酸により最適な溶媒は異なるが、例えば、酸として塩酸を用いる場合は、反応性の観点から、無溶媒もしくはヘキサン等の炭化水素系溶媒が好ましい。
溶媒の使用量は、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物（８）１ｍｏｌに対して、反応性の観点から、好ましくは０〜３０００ｇである。
加水分解反応における反応温度は、用いる溶媒により異なるが、反応性の観点から、好ましくは−２０〜１５０℃である。加水分解反応における反応時間は、用いる溶媒や反応スケールにより異なるが、反応性の観点から、好ましくは０．５〜１０時間である。
加水分解反応系中の水溶液のｐＨは、異性化を十分に進行させ、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）をＥ選択的に幾何純度良く製造する観点から、好ましくは１．０以下、より好ましくは−１．０〜＋１．０である。ｐＨ値は、例えばｐＨ試験紙や測定対象の液温を２５℃としてｐＨメータを用いて測定できる。
このようにして、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物における２位のオレフィンは、加水分解反応により生成する共役アルデヒドの異性化によりほぼ１００％のＥ体に収束する。仮に、加水分解反応においてアセタール構造の影響により２位のオレフィンが、３位に転位した場合においても、より安定なＥ体の共役アルデヒドに収束するため不純物が少なく高純度の（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）が得られる。（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）における２位の幾何は共役アルデヒドの異性化によって高Ｅ選択的に製造できるため、工業的に非常に有用な製造方法である。
次に、（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法における下記式（９）で表される（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールの過酸化物とのエポキシ化反応により、下記式（１０）で表される（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールを得る工程について説明する。
Figure 2020026403
（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）のエポキシ化反応は、例えば溶媒中、エポキシ化剤と反応させることで行うことができる。
エポキシ化反応に用いるエポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ＭＣＰＢＡ）、過ギ酸及び過酢酸等の炭素数１〜７の過カルボン酸化合物、ジメチルジオキシラン及びメチルトリフルオロメチルジオキシラン等のジオキシラン化合物等が挙げられるが、取扱いの観点から、メタクロロ過安息香酸が好ましい。エポキシ化剤は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、エポキシ化剤は、市販のものを用いることができる。
エポキシ化剤の使用量は、反応性の観点から、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）１ｍｏｌに対して、好ましくは１．０〜２．０ｍｏｌである。
なお、ジェイコブセン−香月エポキシ化反応の条件や史（Ｓｈｉ）不斉エポキシ化反応の条件を用いることで不斉エポキシ化を行うこともできる。
エポキシ化剤として過カルボン酸化合物を用いる場合には、過カルボン酸化合物由来のカルボン酸化合物による反応系中の酸性化を防ぐ観点から、必要に応じて炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩等を用いてもよい。
エポキシ化反応に用いる溶媒は、トルエン及びヘキサン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、４−メチルテトラヒドロピラン及びジエチル＝エーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン及びアセトニトリル等の極性溶媒が挙げられる。溶媒は、単独で用いても、２種類以上を併用してもよい。また、溶媒は、市販のものを用いることができる。
用いるエポキシ化剤により最適な溶媒は異なるが、反応性の観点から、例えば、エポキシ化剤として、メタクロロ過安息香酸を用いる場合は、ジクロロメタン等の極性溶媒が好ましい。
溶媒の使用量は、反応性の観点から、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）１ｍｏｌに対して、好ましくは１００〜８０００ｇである。
エポキシ化反応における反応温度は、用いる溶媒により異なるが、反応性の観点から、好ましくは−３０〜５０℃である。エポキシ化反応における反応時間は、用いる溶媒や反応スケールにより異なるが、生産性の観点から、好ましくは１〜３０時間である。
（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）の過酸化物とのエポキシ化反応により得られる（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナール（１０）としては、下記式（１０−１）で表される（２Ｅ，６Ｒ，７Ｓ）−６，７−エポキシ−２−ノネナール、下記式（１０−２）で表される（２Ｅ，６Ｓ，７Ｒ）−６，７−エポキシ−２−ノネナール、これらのラセミ体及びスカレミック混合物が挙げられる。なお、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールにおけるカルボニル基のα位炭素とβ位炭素の二重結合は、ホルミル基と共役しており電子密度が低く、エポキシ化を受けにくいため、（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナール（１０）の製造方法として、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）のエポキシ化を好ましい選択肢としている。
Figure 2020026403
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、以下に記載する「粗収率」は、精製を行わずに算出した収率をいう。
実施例１
＜（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）の製造＞
反応器にマグネシウム（２．４３ｇ、０．１００グラム原子）、テトラヒドロフラン（９．４３ｇ）を加え６０〜６５℃で３０分間撹拌した。撹拌後、（３Ｚ）−１−クロロ−３−ヘキセン（１−１：Ｘ１＝Ｃｌ）（１１．３ｇ、０．０９５２ｍｏｌ）を６０〜７０℃にて滴下し、７０〜７５℃にて６時間撹拌することにより、（３Ｚ）−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリドを調製した。次に、別の反応器にジリチウム＝テトラクロロキュプレート（０．２４ｇ、０．００１１ｍｏｌ）、（２−ブロモエチニル）トリメチルシラン（１４．０ｇ、０．０７９３ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（７．８６ｇ）を加え、５〜１０℃で１０分間撹拌した。その後、前述の（３Ｚ）−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリドのテトラヒドロフラン溶液を３０〜３５℃にて滴下した。滴下終了後、３０〜３５℃で１時間撹拌した後、反応液に、塩化アンモニウム（１．９７ｇ）、２０重量％塩化水素水（３．１８ｇ）、水（１２０ｇ）を加えることにより反応を停止した。分液して水層を除去した後、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層を２重量％アンモニア水（１２０ｇ）で洗浄した。次に、別の反応器に前述の（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層、２５重量％水酸化ナトリウム水溶液（３８．１ｇ）、メタノール（７９．３ｇ）を加え、４０〜４５℃で３時間撹拌した。分液して水層を除去した後、有機層を減圧下濃縮して残渣を減圧蒸留することにより、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）（７．８９ｇ、０．０７３０ｍｏｌ）が収率９２．０％で得られた。
（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．９６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），２．０５（２Ｈ，ｑｄ，Ｊ＝７．７，７．７Ｈｚ），２．２０−２．２３（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．２７（２Ｈ，ｍ），５．３０−５．３９（１Ｈ，ｍ），５．４３−５．５６（１Ｈ，ｍ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１４．２７，１８．８４，２０．５６，２６．２３，６８．２３，８４．１６，１２６．７７，１３３．２２
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １０８（Ｍ＋），９３，７９，６９，５３，４１，２７
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３３０８，３０１０，２９６４，２９３４，２８７５，２１１９，１６５５，１４５６，１３７５，１２５３，１１１７，８４６，７１５，６３３
実施例２
＜（５Ｅ）−５−デセン−１−イン（４−３）の製造＞
反応器にマグネシウム（２．４５ｇ、０．１０１グラム原子）、テトラヒドロフラン（９．５１ｇ）を加え６０〜６５℃で３０分間撹拌した。撹拌後、（３Ｅ）−１−クロロ−３−オクテン（１−３：Ｘ1＝Ｃｌ）（１４．１ｇ、０．０９６０ｍｏｌ）を６０〜７０℃にて滴下し、７０〜７５℃にて４時間撹拌することにより、（３Ｚ）−３−オクテニルマグネシウム＝クロリドを調製した。次に、別の反応器にジリチウム＝テトラクロロキュプレート（０．２４ｇ、０．００１１ｍｏｌ）、（２−ブロモエチニル）トリメチルシラン（１４．２ｇ、０．０８００ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（７．９３ｇ）を加え、５〜１０℃で１０分間撹拌した。その後、前述の（３Ｚ）−３−オクテニルマグネシウム＝クロリドのテトラヒドロフラン溶液を３０〜３５℃にて滴下した。滴下終了後、３０〜３５℃で１時間撹拌した後、反応液に、塩化アンモニウム（１．９７ｇ）、２０重量％塩化水素水（３．１８ｇ）、水（１２０ｇ）を加えることにより反応を停止した。分液して水層を除去した後、（５Ｅ）−５−デセン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層を２重量％アンモニア水（１２０ｇ）で洗浄した。次に、別の反応器に前述の（５Ｅ）−５−デセン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層、２５重量％水酸化ナトリウム水溶液（３８．４ｇ）、メタノール（８０．０ｇ）を加え、４０〜４５℃で２時間撹拌した。分液して水層を除去した後、有機層を減圧下濃縮して残渣を減圧蒸留することにより、（５Ｅ）−５−デセン−１−イン（４−３）（９．３９ｇ、０．０６８９ｍｏｌ）が収率８６．２％で得られた。
（５Ｅ）−５−デセン−１−イン（４−３）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），１．２６−１．３７（４Ｈ，ｍ），１．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１．９９（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝６．９，６．９Ｈｚ），２．１８−２．２７（４Ｈ，ｍ），５．３４−５．５２（２Ｈ，ｍ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１３．９１，１８．９２，２２．１５，３１．６０（２Ｃ），３２．１７，６８．３２，８４．２０，１２７．８７，１３２．０６
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １３６（Ｍ＋），１２１，１０７，９３，７９，６７，５５，４１，２７
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３３１２，２９５８，２９２６，２８７３，２８５５，２１２０，１４６６，１４３５，１３７９，１２４４，９６８，７３１，６３１
実施例３
＜（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イン（４−４）の製造＞
反応器にマグネシウム（２．４５ｇ、０．１０１グラム原子）、テトラヒドロフラン（９．５１ｇ）を加え６０〜６５℃で３０分間撹拌した。撹拌後、（３Ｚ）−１−クロロ−３−テトラデセン（１−４：Ｘ１＝Ｃｌ）（２２．２ｇ、０．０９６０ｍｏｌ）を６０〜７０℃にて滴下し、７０〜７５℃にて４時間撹拌することにより、（３Ｚ）−３−テトラデセニルマグネシウム＝クロリドを調製した。次に、別の反応器にジリチウム＝テトラクロロキュプレート（０．２４ｇ、０．００１１ｍｏｌ）、（２−ブロモエチニル）トリメチルシラン（１４．２ｇ、０．０８００ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（７．９３ｇ）を加え、５〜１０℃で１０分間撹拌した。その後、前述の（３Ｚ）−３−テトラデセニルマグネシウム＝クロリドのテトラヒドロフラン溶液を３０〜３５℃にて滴下した。滴下終了後、３０〜３５℃で１時間撹拌した後、反応液に、塩化アンモニウム（１．９７ｇ）、２０重量％塩化水素水（３．１８ｇ）、水（１２０ｇ）を加えることにより反応を停止した。分液して水層を除去した後、（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層を２重量％アンモニア水（１２０ｇ）で洗浄した。次に、別の反応器に前述の（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層、２５重量％水酸化ナトリウム水溶液（３８．４ｇ）、メタノール（２００ｇ）を加え、５０〜５５℃で１２時間撹拌した。分液して水層を除去した後、有機層を減圧下濃縮して残渣を減圧蒸留することにより、（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イン（４−４）（１４．３ｇ、０．０６４７ｍｏｌ）が収率８０．８％で得られた。
（５Ｚ）−５−ヘキサデセン−１−イン（４−４）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），１．２６−１．３６（１６Ｈ，ｍ），１．９５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），２．０４（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝６．９，６．９Ｈｚ），２．２０−２．２４（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．３０（２Ｈ，ｍ），５．３７−５．４９（２Ｈ，ｍ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１４．１０，１８．８３，２２．６８，２６．３６，２７．３０，２９．２９，２９．３４，２９．５４，２９．６３（２Ｃ），２９．６７，３１．９０，６８．２４，８４．２１，１２７．３２，１３１．６７
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２２０（Ｍ＋），１３５，１２１，１０７，９３，７９，６７，５５，４１，２９
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３３１３，３００９，２９５５，２９２４，２８５４，２１２１，１４６６，１３７８，１２４６，７２１，６３１
実施例４
＜（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン（４−５）の製造＞
反応器にマグネシウム（２．４５ｇ、０．１０１グラム原子）、テトラヒドロフラン（９．５１ｇ）を加え６０〜６５℃で３０分間撹拌した。撹拌後、（３Ｚ）−１−クロロ−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセン（１−５：Ｘ１＝Ｃｌ）（２１．０ｇ、０．０９６０ｍｏｌ）を６０〜７０℃にて滴下し、７０〜７５℃にて６時間撹拌することにより、（３Ｚ）−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリドを調製した。次に、別の反応器にジリチウム＝テトラクロロキュプレート（０．２４ｇ、０．００１１ｍｏｌ）、（２−ブロモエチニル）トリメチルシラン（１４．２ｇ、０．０８００ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（７．９３ｇ）を加え、５〜１０℃で１０分間撹拌した。その後、前述の（３Ｚ）−６−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−３−ヘキセニルマグネシウム＝クロリドのテトラヒドロフラン溶液を３０〜３５℃にて滴下した。滴下終了後、３０〜３５℃で１時間撹拌した後、反応液に、塩化アンモニウム（１．９７ｇ）、２０重量％塩化水素水（３．１８ｇ）、水（１２０ｇ）を加えることにより反応を停止した。分液して水層を除去した後、（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層を２重量％アンモニア水（１２０ｇ）で洗浄した。次に、別の反応器に前述の（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イニルトリメチルシランを含む有機層、２５重量％水酸化ナトリウム水溶液（３８．４ｇ）、メタノール（８０．０ｇ）を加え、５３〜５８℃で１時間撹拌した。分液して水層を除去した後、有機層を減圧下濃縮して残渣を減圧蒸留することにより、（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン（４−５）（１２．２ｇ、０．０５８８ｍｏｌ）が収率７３．５％で得られた。
（５Ｚ）−８−［（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル）オキシ］−５−オクテン−１−イン（４−５）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１．４７−１．５９（４Ｈ，ｍ），１．６６−１．７２（１Ｈ，ｍ），１．７７−１．８４（１Ｈ，ｍ），１．９４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），２．２０−２．２４（２Ｈ，ｍ），２．２６−２．３２（２Ｈ，ｍ），２．３３−２．３７（２Ｈ，ｍ），３．３７−３．４２（１Ｈ，ｍ），３．４６−３．５０（１Ｈ，ｍ），３．７０−３．７５（１Ｈ，ｍ），３．８３−３．８７（１Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，２．７Ｈｚ），５．４６−５．５４（２Ｈ，ｍ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１８．６８，１９．５１，２５．４１，２６．３８，２７．９６，３０．６３，６２．２２，６６．８６，６８．３４，８４．０１，９８．６８，１２７．３５，１２９．４１
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２０８（Ｍ＋），１６９，１１５，１０１，８５，６７，５５，４１，２９
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３２９８，３０１２，２９４２，２８６９，２１１８，１４５４，１４４１，１３８５，１３５２，１３２３，１２０１，１１３７，１１２１，１０７７，１０３３，９８５，９０６，８７０，８１４，６３４
実施例５
＜（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン（７ａ：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）の製造＞
反応器に０．２５８重量モル濃度（ｍｏｌ／ｇ）メチルマグネシウム＝クロリドのテトラヒドロフラン溶液（１０６ｇ、０．２７４ｍｏｌ）を加え、４０〜４５℃で１０分間加熱した。撹拌後、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）（１９．７ｇ、０．１８３ｍｏｌ）を４５〜５０℃で滴下し、滴下終了後６０〜６５℃で６時間撹拌させることにより、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルマグネシウム＝クロリドを調製した。続いて、反応器にトルエン（３０．４ｇ）、オルトギ酸エチル（４０．６ｇ、０．２７４ｍｏｌ）を加え、９０〜９５℃で５時間撹拌した。３〜８℃に冷却後、反応液に酢酸（１８．３ｇ）、水（１１９ｇ）を加え、得られた反応液を分液して水層を除去した後、有機層を８重量％水酸化ナトリウム水溶液（２９．８ｇ）で洗浄した。有機層を減圧下濃縮して残渣を減圧蒸留することにより、（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン（７ａ：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）（２３．６ｇ、０．１１２ｍｏｌ）が収率６１．５％で得られた。
（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン（７ａ：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．２１（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．００−２．０６（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．２６（４Ｈ，ｍ），３．５４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．５６（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．７１（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．７３（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．２３（１Ｈ，ｓ），５．３６−５．３１（１Ｈ，ｍ），５．４２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１０．７，７．３Ｈｚ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１４．２１，１５．０３（２Ｃ），１９．０３，２０．５１，２６．１０，６０．５２（２Ｃ），７５．７９，８５．９２，９１．３９，１２６．８２，１３３．１２
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２１０（Ｍ＋），１８１，１６５，１３６，１２１，１０７，９５，８１，６７，５５，４１，２９
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３００８，２９７５，２９３２，２８８４，２２４２，１４４４，１３９１，１３２９，１１５０，１０８２，１０５４，１００７，９１４，７１９
実施例６
＜（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−２，６−ノナジエン（８：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）の製造＞
反応器に（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン（７ａ：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）（２３．３ｇ、０．１１１ｍｏｌ）、Ｐ−２Ｎｉ触媒（３．７４ｇ、ニッケル化合物としての換算量０．００１９７ｍｏｌ）、エタノール（７１．０ｇ）を加え、４５〜５０℃に昇温した。その後、水素を添加し、３時間反応させた。反応完結を確認後、３０℃に冷却し、ろ過してＰ−２Ｎｉ触媒を除去した。
続いてろ過により得られた反応液に水（１２．８ｇ）を添加して洗浄した後に分液して水層を除去した。有機層を減圧下濃縮することにより（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−２，６−ノナジエン（８：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）（１９．９ｇ、０．０９３５ｍｏｌ）が粗収率８４．４％で得られた。
（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−２，６−ノナジエン（８：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．２０（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），２．００−２．０６（２Ｈ，ｍ），２．０９−２．１３（２Ｈ，ｍ），２．１６−２．２１（２Ｈ，ｍ），３．４９（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．５１（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．６２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），３．６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．１９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１．２Ｈｚ），５．２８−５．３４（１Ｈ，ｍ），５．３６−５．４１（１Ｈ，ｍ），５．４８（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１１．１，６．９，１．２Ｈｚ），５．６２（１Ｈ，ｄｔｄ，１１．１，７．３，１．２Ｈｚ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１４．２４，１５．２６（２Ｃ），２０．５０，２６．８７，２８．１０，６０．４６（２Ｃ），９７．６５，１２７．６３，１２７．９０，１３２．３６，１３４．０２
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ ２１２（Ｍ＋），１８３，１６７，１５５，１３７，１２１，９８，８５，６９，５７，４１，２９
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３００７，２９７４，２９３２，２８７６，１６５８，１４５６，１３８９，１３１７，１１２２，１０５４，９９８，８９０，８４２，７２３
実施例７
＜（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）の製造＞
反応器に（２Ｚ，６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−２，６−ノナジエン（８：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）（８．２０ｇ、０．０３８６ｍｏｌ）、水（２．８２ｇ）を加え３〜８℃で１０分間撹拌した。撹拌後、２０重量％塩化水素水（３．９９ｇ）を３〜８℃で滴下し、２０〜２５℃で２時間撹拌した。このとき、ｐＨ試験紙で水層のｐＨが１未満であることを確認した。撹拌後、ヘキサン（３．２８ｇ）を加え、得られた反応液を分液して水層を除去した後、有機層を食塩（０．０８ｇ）、水（３．１９ｇ）で洗浄した。有機層を減圧下濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ-ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１→１４／１）により精製することで、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）（４．９８ｇ、０．０３６０ｍｏｌ）が収率９３．２％で得られた。
（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ０．９４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），２．０２（２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．７，７．３Ｈｚ），２．２４（２Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．３，７．３Ｈｚ），２．３８（２Ｈ，ｔｄｄ，Ｊ＝７．３，７．３，１．５Ｈｚ），５．２６−５．３１（１Ｈ，ｍ），５．４０−５．４５（１Ｈ，ｍ），６．１１（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．７，８．０，１．５Ｈｚ），６．８２（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．７，６．９Ｈｚ）９．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１４．１２，２０．５０，２５．３５，３２．６６，１２６．６６，１３３．１４，１３３．２３，１５８．０１，１９３．９５
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １３８（Ｍ＋），１２３，１０９，９５，８１，６７，５３，４１，２７
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ３００８，２９６４，２９３４，２８７４，２７３５，１６９４，１６３８，１４５６，１３０３，１１７５，１１３３，１１０５，９７３，７１９，５６５
実施例８
＜（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナール（１０）の製造＞
反応器に（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール（９）（４．７３ｇ、０．０３４２ｍｏｌ）、ジクロロメタン（２２６ｇ）を加え−５〜０℃で１０分間撹拌した。撹拌後、メタクロロ過安息香酸（７．０８ｇ、０．０４１１ｍｏｌ）を加え、−５〜０℃で４時間撹拌した。撹拌後、反応液にチオ硫酸ナトリウム（３．２５ｇ）、４重量％水酸化ナトリウム水溶液（３５．０ｇ）を加えることにより反応を停止した。分液して水層を除去した後、有機層を飽和食塩水（８０ｍＬ）で洗浄し再度分液して水層を除去した。有機層を減圧下濃縮して残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ-ヘキサン／酢酸エチル＝９／１→３／１）により精製することで、（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナール（１０）（４．４９ｇ、０．０２９１ｍｏｌ）が収率８５．０％で得られた。
（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナール（１０）
〔核磁気共鳴スペクトル〕１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：δ１．０１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），１．４３−１．５９（２Ｈ，ｍ），１．６１−１．６８（１Ｈ，ｍ），１．７３−１．８０（１Ｈ，ｍ），２．４４−２．５７（２Ｈ，ｍ），２．８８（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝６．５，４．２Ｈｚ），２．９２（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝７．３，４．２Ｈｚ），６．１３（１Ｈ，ｄｄｔ，Ｊ＝１５．７，７．７，１．５Ｈｚ），６．８７（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１５．７，６．９Ｈｚ），９．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）；１３Ｃ−ＮＭＲ（７５．６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）：１０．４７，２１．０２，２６．１５，２９．８０，５６．１７，５８．２６，１３３．２７，１５６．８５，１９３．７２
〔マススペクトル〕ＥＩ−マススペクトル（７０ｅＶ）：ｍ／ｚ １５４（Ｍ＋），１３６，１２５，１１２，９７，８５，６７，５５，４１，２９
〔赤外吸収スペクトル〕（ＮａＣｌ）：νｍａｘ ２９７２，２９３７，２８７８，２８１８，２７３７，１６９１，１６３８，１４５８，１３９１，１３０８，１２７３，１１３０，１０９５，１０１６，９７６，９０５，８１６
実施例５
＜（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン（７ａ：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）の製造＞
反応器に２．５８重量ミリモル濃度（ｍｍｏｌ／ｇ）メチルマグネシウム＝クロリドのテトラヒドロフラン溶液（１０６ｇ、０．２７４ｍｏｌ）を加え、４０〜４５℃で１０分間加熱した。撹拌後、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イン（４−１）（１９．７ｇ、０．１８３ｍｏｌ）を４５〜５０℃で滴下し、滴下終了後６０〜６５℃で６時間撹拌させることにより、（５Ｚ）−５−オクテン−１−イニルマグネシウム＝クロリドを調製した。続いて、反応器にトルエン（３０．４ｇ）、オルトギ酸エチル（４０．６ｇ、０．２７４ｍｏｌ）を加え、９０〜９５℃で５時間撹拌した。３〜８℃に冷却後、反応液に酢酸（１８．３ｇ）、水（１１９ｇ）を加え、得られた反応液を分液して水層を除去した後、有機層を８重量％水酸化ナトリウム水溶液（２９．８ｇ）で洗浄した。有機層を減圧下濃縮して残渣を減圧蒸留することにより、（６Ｚ）−１，１−ジエトキシ−６−ノネン−２−イン（７ａ：二つのＲ６のいずれもＣ２Ｈ５）（２３．６ｇ、０．１１２ｍｏｌ）が収率６１．５％で得られた。

Claims (6)

  1. 下記一般式（１）
    Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｘ１ （１）
    （式中、Ｙは、水素原子又はヒドロキシ基を表し、Ｚは、炭素数１〜１５の二価の炭化水素基を表し、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表すか、又は互いに結合してＲ１−Ｒ２として炭素数１〜６の２価の炭化水素基を表し、Ｘ１は、ハロゲン原子を表す。）
    で表されるハロアルケン化合物から調製されるアルケニルマグネシウム＝ハライド化合物と、下記一般式（２）
    Ｘ２−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ（Ｒ３）（Ｒ４）（Ｒ５） （２）
    （式中、Ｘ２は、ハロゲン原子を表し、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表し、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表すか、又は互いに結合してＲ４−Ｒ５として炭素数２〜６の２価の炭化水素基を表す。）
    で表されるアルキン化合物とのカップリング反応により、下記一般式（３）
    Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−(ＣＨ２) ２−Ｃ≡Ｃ−Ｓｉ(Ｒ３)(Ｒ４)(Ｒ５) （３）
    （式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は上記と同様である。）
    で表されるシラン化合物を得る工程と、
    前記シラン化合物の脱シリル化反応により、下記一般式（４）
    Ｙ−Ｚ−ＣＲ１＝ＣＲ２−（ＣＨ２）２−Ｃ≡ＣＨ （４）
    （式中、Ｙ、Ｚ、Ｒ１及びＲ２は上記と同様である。）
    で表される５−アルケン−１−イン化合物を得る工程と
    を少なくとも含む５−アルケン−１−イン化合物の製造方法。
  2. 前記一般式（１）で表されるハロアルケン化合物が、Ｙを水素原子、Ｚをエチレン基、Ｒ１及びＲ２を水素原子とする下記一般式（１−１）
    Figure 2020026403
     （式中、Ｘ１はハロゲン原子を表す。）
    で表される（３Ｚ）−１−ハロ−３−ヘキセン化合物であり、
    前記一般式（３）で表されるシラン化合物が、下記一般式（３−１）
    Figure 2020026403
     （式中、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、上記と同様である。）
    で表されるシラン化合物であり、
    前記一般式（４）で表される５−アルケン−１−イン化合物が、下記式（４−１）
    Figure 2020026403
     で表される（５Ｚ）−５−オクテン−１−インである請求項１に記載の５−アルケン−１−イン化合物の製造方法。
  3. 前記５−アルケン−１−イン化合物として、（５Ｚ）−５−オクテン−１−インを製造するための請求項２に記載の各工程と、
    得られた前記（５Ｚ）−５−オクテン−１−インから下記一般式（５）
    Figure 2020026403
     （式中、Ｍは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ又はＭｇＸ３を表し、Ｘ３はハロゲン原子を表す。）
    で表されるアセチリド化合物を調製する工程と、
    前記アセチリド化合物（５）と下記一般式（６）
    Figure 2020026403
     （式中、Ｒ６は、同じでも異なってもよい炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。）
    で表されるオルトギ酸エステル化合物との求核置換反応により、下記一般式（７ａ）
    Figure 2020026403
     （式中、Ｒ６は上記と同様である。）
    で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を得る工程と
    を少なくとも含む（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の製造方法。
  4. （６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物を製造するための請求項３に記載の各工程と、
    得られた前記（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物の還元反応により、下記一般式（８）
    Figure 2020026403
     （式中、Ｒ６は同じでも異なってもよい炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物を得る工程と、
    前記（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−２，６−ノナジエン化合物の加水分解反応により、下記式（９）
    Figure 2020026403
     で表される（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールを得る工程と
    を少なくとも含む（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールの製造方法。
  5. （２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールを得るための請求項３に記載の各工程と、
    得られた前記（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナールのエポキシ化反応により、下記式（１０）
    Figure 2020026403
     で表される（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールを得る工程と
    を少なくとも含む（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法。
  6. 下記一般式（７）
    ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−（ＣＨ２）２−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ（ＯＲ６）２ （７）
    （式中、Ｒ６は同じでも異なってもよい炭素数１〜６の一価の炭化水素基を表す。）
    で表される１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物。
JP2018151661A 2018-08-10 2018-08-10 ５−アルケン−１−イン化合物、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法並びに１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物 Active JP6898891B2 (ja)

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JP2018151661A JP6898891B2 (ja) 2018-08-10 2018-08-10 ５−アルケン−１−イン化合物、（６Ｚ）−１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物、（２Ｅ，６Ｚ）−２，６−ノナジエナール及び（２Ｅ）−ｃｉｓ−６，７−エポキシ−２−ノネナールの製造方法並びに１，１−ジアルコキシ−６−ノネン−２−イン化合物
US16/533,254 US10781146B2 (en) 2018-08-10 2019-08-06 Process for preparing a 5-alken-1-yne compound, (6Z)-1,1-dialkoxy-6-nonen-2-yne compound, (2E,6Z)-2,6-nonadienal and (2E)-cis-6,7-epoxy-2-nonenal, and 1,1-dialkoxy-6-nonen-2-yne compound
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