JP2020012148A - 三次元造形方法、三次元造形装置およびこれに用いる基材 - Google Patents
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Abstract
Description
造形支持基材は、直接的に造形物が形成されるため、造形物が金属材料やサーメット材料であると、造形支持基材を傷つけずに造形物を分離するのが困難となり得る。そして造形支持基材は、消耗品でもあり得る。そこでここに開示される技術は、セラミック成分を含む造形用粉体との反応が生じない造形支持基材を単独の物品としても提供する。
ここに開示される三次元造形方法は、以下の工程S1〜S4を含む。
S1.少なくともセラミック成分を含む造形用粉体を用意すること
S2.造形用基材と、上記造形用基材の造形可能領域に備えられた反応防止膜と、を備える造形支持基材を用意すること
S3.上記造形支持基材上に、上記造形用粉体を層状に敷いて粉末床を用意すること
S4.上記粉末床にエネルギー線を供給する粉末床溶融結合方式によって上記造形支持基材上に造形物を造形すること
以下、三次元造形装置1と併せて、三次元造形方法の各工程について説明する。
第一工程では、少なくともセラミック成分を含む造形用粉体2を用意する。この造形用粉体2は、PBF方式の三次元造形における造形原料として使用するためのものである。この造形用粉体2は、三次元造形装置1の粉体貯留部10に貯留される。粉体貯留部10は、例えば、貯留槽12と、貯留槽12の底部を構成し、昇降可能に構成されている昇降テーブル14と、リコータ16とを備えている。貯留槽12と昇降テーブル14の上面とによって形成される空間に、造形用粉体2が貯留される。
第二工程では、造形支持基材26を用意する。図2は、造形支持基材26の構成を説明する断面図である。造形支持基材26は、造形用基材26Bと、この造形用基材26Bの表面のうち、三次元造形装置1の少なくとも造形可能領域に備えられた反応防止膜26Aと、を備える。図2において、反応防止膜26Aは造形用基材26Bの一つの表面の全体に設けられている。反応防止膜26Aが造形用基材26Bの一つの表面の全部を覆うことで、反応防止膜26Aの密着性が高まるために好ましい。ただし、反応防止膜26Aは、造形用基材26Bの全面を覆うことなく、少なくとも造形可能領域に設けられていればよい。造形可能領域とは、造形支持基材26の上方の表面であって、後述のレーザ発生装置28によってエネルギー線の照射が可能な領域をいう。
第三工程では、造形支持基材26上に、造形用粉体2を層状に敷いて粉末床を用意する。三次元造形装置1において、貯留槽12と造形槽22との上端は概ね面一である。リコータ16は、貯留槽12および造形槽22に渡し架けるように配置されている。図1に示すように昇降テーブル14が下方に下げられていることで、粉体貯留部10に収容できる造形用粉体2の貯蔵量が増大される。また、貯留槽12に造形用粉体2を収容した状態で昇降テーブル14を所定厚みΔt1だけ上昇させることで、貯留槽12から所定量の造形用粉体2を押し出すことができる。造形部20では、昇降テーブル24を所定厚みΔt2だけ上端から下げることで、所定厚みΔt2で造形用粉体2を収容することができる。
第四工程では、粉末床にエネルギー線を供給する粉末床溶融結合方式によって、造形支持基材26上に造形物を造形する。本実施形態の三次元造形装置1はレーザ発生装置28を備え、エネルギー線としてレーザを発生して粉末床に照射する。レーザ発生装置28は、例えば積層造形データに基づいた走査ラインでレーザ光を発振する。積層造形データは、造形対象物を複数の層にスライスしたときの各断面層における断面画像についての三次元データである。積層造形データは、例えば、造形対象物の立体形状を3D CADソフトウェアや3D CGソフトウェア等を用いて作製し、これをSTL(Standard Triangulated Language)形式に変換することで用意することができる。積層造形データの用意については、従来技術と同様であってよく、ここに開示される技術を何ら特徴づけないため、更なる詳細な説明は省略する。この積層造形データは、三次元造形装置1の図示しない記憶部に記憶される。これにより、造形用粉体2は溶融されて、その後固化する。このことにより、造形用粉体2は、積層造形データに対応した断面形状に結合する。その結果、例えば第1層目の断面層を形成することができる。
例えば、上記実施形態において、粉体貯留部10は、造形部20の側方に備えられ、昇降テーブル14を上昇させることで貯留槽12から造形用粉体2を押し出して供給していた。しかしながら、粉体貯留部10の構成はこれに限定されない。粉体貯留部10は、例えば、造形部20の上方に備えられ、造形用粉体2を落下させることで造形槽22に供給するように構成されていてもよい。
10 粉体貯留部
20 造形部
26 造形支持基材
26A 反応防止膜
26B 造形用基材
Claims (8)
- 少なくともセラミック成分を含む造形用粉体を用意すること、
造形用基材と、前記造形用基材の少なくとも造形可能領域に備えられ前記造形用粉体と前記造形用基材との反応を防止する反応防止膜と、を備える造形支持基材を用意すること、
前記造形支持基材上に、前記造形用粉体を層状に敷いて粉末床を用意すること、および、
前記粉末床にエネルギー線を供給する粉末床溶融結合方式によって前記造形支持基材上に造形物を造形すること、を含む、三次元造形方法。 - 前記反応防止膜は、溶射皮膜である、請求項1に記載の三次元造形方法。
- 前記溶射皮膜は、セラミック溶射皮膜である、請求項2に記載の三次元造形方法。
- 前記反応防止膜の表面粗さは、2μm以上6μm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の三次元造形方法。
- 前記造形用基材は、ステンレス鋼を含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の三次元造形方法。
- 前記エネルギー線として、レーザを使用する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の三次元造形方法。
- 少なくともセラミック成分を含む造形用粉体を貯留する粉体貯留部と、
前記造形用粉体を用い粉末床溶融結合方式によって造形を行う造形部と、を備え、
前記造形部は、造形物を支持する造形支持基材を含み、
前記造形支持基材は、造形用基材と、前記造形用基材の少なくとも造形可能領域に備えられ前記造形用粉体と前記造形用基材との反応を防止する反応防止膜と、を含む、三次元造形装置。 - 少なくともセラミック成分を含む造形用粉体を用いる粉末床溶融結合方式の三次元造形に用いる造形支持基材であって、
造形用基材と、前記造形用基材の少なくとも造形可能領域に備えられ前記造形用粉体と前記造形用基材との反応を防止する反応防止膜と、を含む、造形支持基材。
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