JP2020011862A - ディスプレイ用ガラス基板 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]
ガラス組成として、モル%で
SiO2 69〜72%
Al2O3 11〜15%
B2O3 0.5〜2.5%
MgO 1〜4%
CaO 4〜7%
SrO 0〜1%
BaO 4〜7%
K2O 0.01〜0.5%
P2O5 0.1〜2.0%
B2O3/P2O5 0.2〜5
CaO/BaO 0.6〜1.2
を有するガラスからなる、ディスプレイ用ガラス基板。
[2]
失透温度が1350℃以下である[1]に記載のディスプレイ用ガラス基板。
[3]
歪点が710℃以上である[1]又は[2]に記載のディスプレイ用ガラス基板。
[4]
ガラス転移温度が779℃以上である[1]〜[3]のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
[5]
エッチングレートが70μm/h以上である[1]〜[4]のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
[6]
SiO2/Al2O3が4〜6である[1]〜[5]のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
[7]
MgO/RO 0.15〜0.4である[1]〜[6]のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板、但し、RO=MgO+CaO+SrO+BaOである。
熱収縮率(ppm)={熱処理前後のガラスの収縮量/熱処理前のガラスの長さ}×106
このとき、「熱処理前後のガラスの収縮量」とは、「熱処理前のガラスの長さ−熱処理後のガラスの長さ」である。
本発明は、LTPS−TFTまたはOS−TFTをガラス基板表面に形成したフラットパネルディスプレイを包含し、このフラットパネルディスプレイはガラス基板が上記本発明のガラス基板である。本発明のフラットパネルディスプレイは、例えば、液晶ディスプレイまたは有機ELディスプレイであることかできる。
本発明のディスプレイ用ガラス基板の製造方法は、所定の組成に調合したガラス原料を、例えば、少なくとも直接通電加熱を用いて、熔解する熔解工程と、前記熔解工程にて熔解した熔融ガラスを平板状ガラスに成形する成形工程と、前記平板状ガラスを徐冷する徐冷工程と、を有する。 特に、前記徐冷工程は、前記平板状ガラスの熱収縮率を低減するように前記平板状ガラスの冷却条件を制御する工程であることが好ましい。
熔解工程においては、所定の組成を有するように調合したガラス原料を、例えば、直接通電加熱及び/又は燃焼加熱を用いて熔解する。ガラス原料は、公知の材料から適宜選択できる。エネルギー効率の観点から、熔解工程では、ガラス原料を、少なくとも直接通電加熱を用いて熔解することが好ましい。また、熔解工程を行う熔解槽は、高ジルコニア系耐火物を含んで構成されることが好ましい。上記所定の組成は、例えば、ガラスの各成分に関して上述した含有量を満たす範囲で適宜調整できる。
成形工程では、熔解工程にて熔解した熔融ガラスを平板状ガラスに成形する。平板状ガラスへの成形方法は、例えば、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法が好適であり、平板状ガラスとしてガラスリボンが成形される。その他、フロート法、リドロー法、ロールアウト法などを適用できる。ダウンドロー法を採用することにより、フロート法など他の成形方法を用いた場合に比べ、得られたガラス基板の主表面が雰囲気以外とは非接触である自由表面で形成されるために、極めて高い平滑性を有しており、成形後のガラス基板表面の研磨工程が不要となるために、製造コストを低減することができ、さらに生産性も向上させることができる。さらに、ダウンドロー法を使用して成形したガラス基板の両主表面は均一な組成を有しているために、エッチング処理を行った際に、成型時の表裏に関係なく均一にエッチングを行うことができる。
徐冷時の条件を適宜調整することでガラス基板の熱収縮率をコントロールすることができる。特に、前記平板状ガラスの熱収縮率を低減するように前記平板状ガラスの冷却条件を制御することが好ましい。ガラス基板の熱収縮率は上述のように、15ppm以下であり、好ましくは13ppm以下、より好ましくは1〜13ppmである。このような数値の熱収縮率を持つガラス基板を製造するためには、例えば、ダウンドロー法を使用する場合は、平板状ガラスとしてのガラスリボンの冷却速度を、Tgから(Tg−100℃)の温度範囲内において、30〜300℃/分とするように徐冷を行うことが好ましい。冷却速度が速すぎると、熱収縮率を十分低減することができない。一方、冷却速度が遅すぎると、生産性が低下すると共に、ガラス製造装置(徐冷炉)が大型化してしまうという問題が生じる。冷却速度の好ましい範囲は、30〜300℃/分であり、50〜200℃/分がより好ましく、60〜120℃/分がさらに好ましい。冷却速度を30〜300℃/分とすることで、本発明のガラス基板をより確実に製造することができる。なお、徐冷工程の下流で平板状ガラスを切断した後に、別途オフラインで徐冷を行うことでも熱収縮率は低下させることができるが、この場合、徐冷工程を行う設備の他に、別途オフラインで徐冷を行う設備が必要となる。そのため、上述したように、オフライン徐冷を省略することができるように、徐冷工程において熱収縮率を低減できるように制御したほうが、生産性及びコストの観点からも好ましい。なお、本明細書では、ガラスリボンの冷却速度とは、ガラスリボンの幅方向中央部の冷却速度を示すものとする。
示差熱膨張計(株式会社リガク製Thermo Plus2 TMA8310)を用いて、等温ペネトレーション法でガラスの低温粘度を測定した。Vogel Fulcher Tammann式を用いて粘度の近似を行い、ガラスの粘度が10^14.5[dPa・s]を示す温度を算出した。この温度を歪点とした。
ガラスを粉砕し、2380μmのふるいを通過し、1000μmのふるい上に留まったガラス粒を白金ボートに入れた。この白金ボートを、1050〜1380℃の温度勾配をもった電気炉内に16時間保持し、その後、炉から取り出して、ガラス内部に発生した失透を50倍の光学顕微鏡にて観察した。失透が観察された最高温度を、失透温度とした。
示差熱膨張計(Thermo Plus2 TMA8310)を用いて測定した。この時の昇温速度は5℃/分とした。測定結果を元に100〜300℃の温度範囲における平均熱膨張係数およびTgを求めた。
熱収縮率は、90mm〜200mm×15〜30mm×0.3〜1mmの大きさのガラスについて、ケガキ線法で求めた。熱収縮測定の熱処理としては、エアサーキュレーション炉(Nabertherm製N120/85HA)を用いて、500℃の温度で30分間保持し、室温まで放冷した。
熱収縮率(ppm)={熱処理でのガラスの収縮量/熱処理前のガラスのケガキ線間距離}×106
ガラスの密度は、アルキメデス法によって測定した。
エッチングレート(μm/h)は、ガラス(12.5mmx20mmx0.7mm)を、HF濃度1mol/kg、HCl濃度5mol/kgとなるように調整した40℃のエッチング液(200mL)に1時間浸漬した場合の厚み減少量(μm)を測定し、単位時間(1時間)当たりのガラス基板の一方の表面の厚み減少量(μm)を算出することで求めた。
表1に示すガラス組成になるように、実施例1〜32のガラスを以下の手順に従って作製した。得られたガラスについて、歪点、失透温度、Tg、100〜300℃の範囲における平均熱膨張係数(α)、熱収縮率、密度、エッチングレートを求めた。
Claims (7)
- ガラス組成として、モル%で
SiO2 69〜72%
Al2O3 11〜15%
B2O3 0.5〜2.5%
MgO 1〜4%
CaO 4〜7%
SrO 0〜1%
BaO 4〜7%
K2O 0.01〜0.5%
P2O5 0.1〜2.0%
B2O3/P2O5 0.2〜5
CaO/BaO 0.6〜1.2
を有するガラスからなる、ディスプレイ用ガラス基板。 - 失透温度が1350℃以下である請求項1に記載のディスプレイ用ガラス基板。
- 歪点が710℃以上である請求項1又は2に記載のディスプレイ用ガラス基板。
- ガラス転移温度が779℃以上である請求項1〜3のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
- エッチングレートが70μm/h以上である請求項1〜4のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
- SiO2/Al2O3が4〜6である請求項1〜5のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板。
- MgO/RO 0.15〜0.4である請求項1〜6のいずれかに記載のディスプレイ用ガラス基板、但し、RO=MgO+CaO+SrO+BaOである。
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WO2017002807A1 (ja) * | 2015-06-30 | 2017-01-05 | AvanStrate株式会社 | ディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法 |
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