JP2019537272A - エッチングパラメータを変更する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
パターニングデバイス(例えばマスク又はレチクル)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストでコーティングされたウエハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えば、ウエハテーブル)WTと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1.ステップモードでは、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは本質的に静止した状態に保たれ、放射ビームに付けられたパターン全体が一度にターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、基板テーブルWTは、異なるターゲット部分Cが露光されるようにX方向及び/又はY方向にシフトされる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードでは、マスクテーブルMT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに付けられたパターンがターゲット部分C上に投影される(すなわち単一動的露光)。マスクテーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決定することができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一動的露光における目標部分の幅(非スキャン方向)を制限するのに対して、スキャン運動の長さは対象部分の(スキャン方向の)高さを決定する。
3.別のモードでは、マスクテーブルMTをプログラム可能なパターニングデバイスを保持して本質的に静止させたままにし、基板テーブルWTを移動又はスキャンしながら放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、
一般的にパルス放射源が使用され、プログラム可能なパターニングデバイスは、基板テーブルWTの各移動の後、又はスキャン中の連続する放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
計測装置240及び/又は他の計測装置(図示せず)を適用して処理済み基板232、234及び入ってくる基板230の特性を測定することができる。
1.基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更する方法であって、該方法は、
エッチングされる前に、基板上の構造に関連する第1のメトリックの第1の測定を行い、
エッチングされた後の基板上の構造に関連する第2のメトリックの第2の測定を行い、
第1の測定と第2の測定との間の差に基づいてエッチングパラメータを変更する、方法。
2.前記第1のメトリック及び前記第2のメトリックが、前記基板上の2つ以上の層の間のオーバーレイエラー、前記基板における前記1つの層の特徴の縁の基板の他の層の特徴に対する配置のエラー、特徴の所望の寸法と特徴の測定寸法との差、基板上の1つ以上の位置で測定された特性の非対称性のうちの1つ以上を示すメトリックである、実施形態1に記載の方法。
3.第1の測定及び第2の測定が主に基板の縁部の周囲で行われ、好ましくは第1の測定及び第2の測定が基板の縁部の周囲で排他的に行われる、実施形態1又は2に記載の方法。
4.エッチングパラメータが、基板にわたる熱パターン、エッチングプロセスで使用されるプラズマ中の化学物質濃度パターン、エッチングプロセス中に基板を囲む電界パターン、エッチングプロセス中に1つ以上の電極に印加される電圧のうちの1つ又は複数である、実施形態1、2又は3に記載の方法。
5.第1の測定及び第2の測定が非破壊的である、実施形態1〜4のいずれかに記載の方法。
6.第1の測定及び第2の測定が同じ基板上で行われる、実施形態1〜5のいずれかに記載の方法。
7.第1の測定及び第2の測定が異なる構造に対して行われる、実施形態1〜6のいずれかに記載の方法。
8.第1の測定が基板にわたる第1の複数の測定を含み、第2の測定が基板にわたる第2の複数の測定を含む、実施形態1〜7のいずれかに記載の方法。
9.機能を第1の複数の測定に適合させること、及び/又は機能を第2の複数の測定に適合させることをさらに含む、請求項8に記載の方法。
10.前記第1の複数の測定を共通グリッドに置き換えることと、前記第2の複数の測定を前記共通グリッドに置き換えることとをさらに含む、請求項8又は9に記載の方法。
11.前記第1及び第2の測定が、入射放射線の第1及び/又は高次回折パターンを測定することを含む、実施形態1〜10のいずれかに記載の方法。
12.入射放射線の波長が第1の測定及び/又は第2の測定中に変化し、第1のメトリック及び/又は第2のメトリックが異なる時点での第1及び/又は高次回折パターンの差及び/又は入射放射の波長及び/又は偏光に基づいて決定される、実施形態11の方法。
13.第1及び第2の測定が、それぞれの基板の断面の寸法測定値及び/又は幾何学的測定値を含む、実施形態1〜10のいずれかに記載の方法。
14.差が所定の最小差よりも大きい場合、エッチングパラメータが変更される、実施形態1〜13のいずれかに記載の方法。
15.第1のメトリック及び/又は第2のメトリックが、複数の個々の測定に関する統計値である、実施形態1〜14のいずれかに記載の方法。
16.差が所定の最大差未満である場合、エッチングパラメータは変更されず、好ましくは、第1の測定と第2の測定との間に差がない場合、エッチングパラメータは変更されない、実施形態1〜15のいずれかに記載の方法。
17.変化が、差とエッチングパラメータとの間の所定の関係に基づいて行われる、実施形態1〜16のいずれかに記載の方法。
18.前記所定の関係が実験的に決定される、請求項17に記載の方法。
19.基板エッチングプロセスを使用して多数の基板をエッチングする方法であって、
エッチングパラメータを変更するために、多数の基板のうちの第1の基板を使用して実施形態1〜18のいずれかに記載の方法を実行し、
変更されたエッチングパラメータを使用して、多数の基板のうちの残りの基板をエッチングする、エッチング方法。
20.実施形態19の基板エッチングプロセスを使用して多数の基板をエッチングする方法であって、さらに、間隔の後に2回目の実施形態1〜18のいずれかの方法を実行することを含む方法。
21.前記間隔は、予め決定された時間、予め決定されたエッチングする基板の数、測定により決定された期間、差に応じた期間の少なくとも何れか1つである、実施形態20に記載の方法。
22.第1の測定と第2の測定との間の差がエッチングパラメータの変更をもたらす場合には、第2の測定が行われる基板上でさらなるステップを実行することをさらに含む、実施形態1〜21のいずれかに記載の方法。
23.前記さらなるステップが、前記構造を再成形するステップである、請求項22に記載の方法。
24.実施形態1〜23のいずれかに従って、1つ又は複数のプロセッサに測定システムを制御させて第1及び第2の測定を行い、基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更させるための機械可読命令を含むコンピュータプログラム製品。
25.基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを制御する方法であって、
エッチング誘起効果を表す第1の変数とエッチングパラメータとの間の関係を提供し、
エッチングパラメータの初期値を決定し、
エッチングパラメータの初期値を用いて基板の第1のセットに対して基板エッチング処理を実行し、
第1セットの基板の基板上の実際の第1変数を決定し、その関係によって予測される量だけ後続の基板に対する基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更して、所望の基板エッチングプロセスをもたらす、方法。
26.前記エッチングパラメータは、前記エッチングパラメータに対する前記対象の縁を囲む電極の位置、基板エッチングプロセス中の基板、基板エッチングプロセス中に基板の縁部を囲む電極に印加される電圧バイアス、を含む群から選択されたものである、実施形態25に記載の方法。
27.関係を提供することが、エッチング前に複数の基板について基板上の構造に関連する第1のメトリックを測定することと、エッチングパラメータの異なる値を用いて基板エッチングプロセスの後、複数の基板のそれぞれについて基板上の構造に関連する第2のメトリックを測定することと、各基板の第1の測定値と第2の測定値との差に関数を当てはめることとを含み、関数が変数として第1の変数を含む、実施形態25又は26に記載の方法。
28.第1の測定及び第2の測定の各々が複数の個別の測定を含み、基板の縁部から測定位置までの半径方向距離が関数内の変数である、実施形態27に記載の方法。
29.測定値が主に基板の縁部の周囲で行われ、好ましくは測定値の数が基板の中心からの距離の増加に伴って増加する、実施形態27又は28に記載の方法。
30.関数が、基板の縁部から測定位置までの半径方向距離dにわたって1で乗算された第1の変数の形を有する、実施形態27、28又は29に記載の方法。
31.前記第1のメトリックが、前記基板上の2つ以上の層の間のオーバーレイエラー、前記基板の1つの層の前記特徴の縁に対する前記基板の他の層の特徴の縁の配置におけるエラー、特徴の所望の寸法と特徴の測定寸法との間の差、基板上の複数の位置で測定された特性の非対称性、望ましい形からの偏差のうちの1つ以上を示すメトリックである、実施形態27、28、29又は30に記載の方法。
32.提供するステップの基板エッチングプロセスによるエッチングが、実行するエッチングプロセスが行われるエッチングチャンバとは異なるエッチングチャンバ内で行われる、実施形態27から31のいずれかに記載の方法。
33.関係が線形であると仮定される、実施形態25から32のいずれかに記載の方法。
34.基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更する方法であって、
基板のエッチング構造を測定し、
測定結果の非対称性に基づいてエッチングパラメータを変更する、方法。
35.測定がスキャトロメトリに基づく、実施形態34に記載の方法。
上述の異なるステップは、パターニングシステム内の1つ又は複数のプロセッサ上で動作するそれぞれのソフトウェアモジュールによって実施することができる。これらのプロセッサは、既存のリソグラフィ装置制御ユニットの一部、又はこの目的のために追加された追加のプロセッサであり得る。一方、ステップの機能は、必要に応じて単一のモジュール又はプログラムに組み合わせることができ、あるいはそれらを異なるサブステップ又はサブモジュールに細分するか又は組み合わせることができる。
Claims (15)
- 基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更する方法であって、
エッチング前に基板上の構造に関連する第1のメトリックの第1の測定を行い、
エッチング後の基板上の構造に関連する第2のメトリックの第2の測定を行い、
第1の測定及び第2の測定の差に基づいてエッチングパラメータを変更することを含み、
第1のメトリック及び第2のメトリックは、基板上の2つ以上の層の間のオーバーレイエラー、基板の1つの層の特徴の縁に対する基板の別の層の特徴の縁に対する配置のエラー、基板上の1つ以上の位置で測定された特徴の特性の非対称性の1つ以上を含む、方法。 - 第1の測定及び第2の測定が主に基板の縁部の周囲で行われ、好ましくは第1の測定及び第2の測定が基板の縁部の周囲で排他的に行われる、請求項1に記載の方法。
- エッチングパラメータが、基板にわたる熱パターン、エッチングプロセスで使用されるプラズマ中の化学物質濃度パターン、エッチングプロセス中に基板を囲む電界パターン、エッチングプロセス中に1つ以上の電極に印加される電圧のうちの1つ又は複数である、請求項1に記載の方法。
- 第1の測定が基板にわたる第1の複数の測定を含み、第2の測定が基板にわたる第2の複数の測定を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1及び第2の測定が、入射放射線の第1及び/又は高次回折パターンを測定することを含む、請求項1に記載の方法。
- 入射放射線の波長が第1の測定及び/又は第2の測定中に変化し、第1のメトリック及び/又は第2のメトリックが異なる時点での第1及び/又は高次回折パターンの差及び/又は入射放射の波長及び/又は偏光に基づいて決定される、請求項5に記載の方法。
- 第1及び第2の測定値が、それぞれの基板の断面の寸法測定値及び/又は幾何学的測定値を含む、請求項1に記載の方法。
- 第1のメトリック及び/又は第2のメトリックが、複数の個々の測定に関する統計値である、請求項1に記載の方法。
- 差が所定の最大差未満である場合、エッチングパラメータは変更されず、好ましくは、第1の測定と第2の測定との間に差がない場合、エッチングパラメータは変更されない、請求項1に記載の方法。
- 基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを制御する方法であって、
エッチング誘起効果を表す第1の変数とエッチングパラメータとの間の関係を提供し、
エッチングパラメータの初期値を決定し、
エッチングパラメータの初期値を用いて基板の第1のセットに対して基板エッチング処理を実行し、
第1セットの基板の基板上の実際の第1変数を決定し、その関係によって予測される量だけ後続の基板に対する基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更して、所望の基板エッチングプロセスをもたらす、方法。 - 前記エッチングパラメータは、前記エッチングパラメータに対する前記対象の縁を囲む電極の位置、基板エッチングプロセス中の基板、基板エッチングプロセス中に基板の縁部を囲む電極に印加される電圧バイアス、を含む群から選択されたものである、請求項10に記載の方法。
- 関係を提供することが、エッチング前に複数の基板について基板上の構造に関連する第1のメトリックを測定することと、エッチングパラメータの異なる値を用いて基板エッチングプロセスの後、複数の基板のそれぞれについて基板上の構造に関連する第2のメトリックを測定することと、各基板の第1の測定値と第2の測定値との差に関数を当てはめることとを含み、関数が変数として第1の変数を含む、請求項10に記載の方法。
- 第1の測定及び第2の測定の各々が複数の個別の測定を含み、基板の縁部から測定位置までの半径方向距離が関数内の変数である、請求項12に記載の方法。
- 基板エッチングプロセスのエッチングパラメータを変更する方法であって、
基板のエッチング構造を測定し、
測定結果の非対称性に基づいてエッチングパラメータを変更する、方法。 - 測定値がスキャトロメトリに基づく、請求項14に記載の方法。
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---|---|---|---|---|
CN113924638A (zh) * | 2019-03-28 | 2022-01-11 | 科磊股份有限公司 | 用于测量及校正半导体装置中的层之间的偏移的方法及用于其中的偏移目标 |
EP4374226A1 (en) | 2021-07-20 | 2024-05-29 | ASML Netherlands B.V. | Methods and computer programs for data mapping for low dimensional data analysis |
US11749570B2 (en) * | 2021-08-31 | 2023-09-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Etch monitoring and performing |
CN115050644B (zh) * | 2022-08-17 | 2022-11-15 | 合肥晶合集成电路股份有限公司 | 一种晶圆的刻蚀方法及系统 |
CN115274488B (zh) * | 2022-09-27 | 2023-02-10 | 浙江大学杭州国际科创中心 | 碳化硅裸片与碳化硅掩膜层刻蚀深度选择比预测方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR930003271A (ko) * | 1991-07-23 | 1993-02-24 | 이노우에 아끼라 | 플라즈마 처리장치 |
JP2002208587A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-26 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法および装置 |
US20040063230A1 (en) * | 2002-09-26 | 2004-04-01 | Lam Research Corporation | Method for quantifying uniformity patterns and including expert knowledge for tool development and control |
JP2009044075A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Toshiba Corp | プラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法 |
JP2012204806A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラム |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5739909A (en) * | 1995-10-10 | 1998-04-14 | Lucent Technologies Inc. | Measurement and control of linewidths in periodic structures using spectroscopic ellipsometry |
US5965309A (en) | 1997-08-28 | 1999-10-12 | International Business Machines Corporation | Focus or exposure dose parameter control system using tone reversing patterns |
IL130874A (en) * | 1999-07-09 | 2002-12-01 | Nova Measuring Instr Ltd | System and method for measuring pattern structures |
US7261983B2 (en) * | 2000-12-08 | 2007-08-28 | Litel Instruments | Reference wafer and process for manufacturing same |
US7270921B2 (en) * | 2002-02-08 | 2007-09-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern writing and forming method |
US6767844B2 (en) | 2002-07-03 | 2004-07-27 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Plasma chamber equipped with temperature-controlled focus ring and method of operating |
JP2005038976A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-02-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 最適エッチングパラメタ自動設定システムおよびエッチング出来ばえ評価システム |
KR100610010B1 (ko) | 2004-07-20 | 2006-08-08 | 삼성전자주식회사 | 반도체 식각 장치 |
US9646415B2 (en) * | 2006-05-16 | 2017-05-09 | Underground Imaging Technologies, Inc. | System and method for visualizing multiple-sensor subsurface imaging data |
US7916284B2 (en) * | 2006-07-18 | 2011-03-29 | Asml Netherlands B.V. | Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method |
MY148830A (en) * | 2006-08-22 | 2013-06-14 | Lam Res Corp | Method for plasma etching performance enhancement |
US7897008B2 (en) * | 2006-10-27 | 2011-03-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Apparatus and method for regional plasma control |
KR20080060763A (ko) * | 2006-12-27 | 2008-07-02 | 세메스 주식회사 | 기판 지지 장치 및 기판 식각 장치 |
US7999920B2 (en) * | 2007-08-22 | 2011-08-16 | Asml Netherlands B.V. | Method of performing model-based scanner tuning |
US8293639B2 (en) * | 2007-10-24 | 2012-10-23 | United Microelectronics Corp. | Method for controlling ADI-AEI CD difference ratio of openings having different sizes |
CN101430566B (zh) * | 2007-11-08 | 2010-12-22 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 控制蚀刻偏差的方法 |
US7901852B2 (en) * | 2008-02-29 | 2011-03-08 | Freescale Semiconductor, Inc. | Metrology of bilayer photoresist processes |
KR101749987B1 (ko) | 2008-06-03 | 2017-06-22 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 모델-기반 공정 시뮬레이션 시스템들 및 방법들 |
KR101429629B1 (ko) * | 2009-07-31 | 2014-08-12 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 계측 방법 및 장치, 리소그래피 시스템, 및 리소그래피 처리 셀 |
NL2005459A (en) * | 2009-12-08 | 2011-06-09 | Asml Netherlands Bv | Inspection method and apparatus, and corresponding lithographic apparatus. |
CN102193304B (zh) * | 2010-03-12 | 2012-12-05 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 光掩模版和使用所述光掩模版的测试方法 |
US9177219B2 (en) | 2010-07-09 | 2015-11-03 | Asml Netherlands B.V. | Method of calibrating a lithographic apparatus, device manufacturing method and associated data processing apparatus and computer program product |
NL2008924A (en) * | 2011-06-22 | 2013-01-02 | Asml Netherlands Bv | System and method to ensure source and image stability. |
US8999627B1 (en) | 2013-03-05 | 2015-04-07 | Multibeam Corporation | Matched multiple charged particle beam systems for lithographic patterning, inspection, and accelerated yield ramp |
KR102086362B1 (ko) * | 2013-03-08 | 2020-03-09 | 삼성전자주식회사 | 편광화된 빛을 이용하여 공정을 모니터링하는 반도체 제조 설비 및 모니터링 방법 |
US10495982B2 (en) * | 2013-10-28 | 2019-12-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | System and method for real-time overlay error reduction |
KR102246286B1 (ko) | 2013-12-30 | 2021-04-30 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 메트롤로지 타겟의 디자인을 위한 방법 및 장치 |
WO2015124391A1 (en) | 2014-02-21 | 2015-08-27 | Asml Netherlands B.V. | Measuring a process parameter for a manufacturing process involving lithography |
KR102330321B1 (ko) * | 2014-12-12 | 2021-11-23 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 기판 모델 파라미터를 계산하고 리소그래피 처리를 제어하기 위한 방법 및 장치 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR930003271A (ko) * | 1991-07-23 | 1993-02-24 | 이노우에 아끼라 | 플라즈마 처리장치 |
JP2002208587A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-26 | Hitachi Ltd | プラズマ処理方法および装置 |
US20040063230A1 (en) * | 2002-09-26 | 2004-04-01 | Lam Research Corporation | Method for quantifying uniformity patterns and including expert knowledge for tool development and control |
JP2009044075A (ja) * | 2007-08-10 | 2009-02-26 | Toshiba Corp | プラズマ処理装置およびプラズマエッチング方法 |
JP2012204806A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Tokyo Electron Ltd | 判定方法、制御方法、判定装置、パターン形成システム及びプログラム |
Non-Patent Citations (1)
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---|
ROS, ONINTZA: ""Effect of etch pattern transfer on locfal overlay (OVL) margin in 28mn gate integration"", PROCEEDINGS OF SPIE, vol. 9054, JPN7021003548, 2014, US, pages 905406 - 1, ISSN: 0004587950 * |
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