JP2019534928A - バイオマスをガス化するための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
mAK2=0.02...0.1mBwafとなる。
11 装置
12 第1のプロセスステップ
12i 加熱ステップ
12ii 酸化ステップ
13 第2のプロセスステップ
14 第3のプロセスステップ
15 加熱装置
16 バーナ
17 冷却装置
18 集塵装置
19 粉砕装置
20 乾燥装置
21 予熱装置
22 反応コンテナ
23 反応槽
24 加熱槽
25 ライン
26 サイロ
27 投入口
28 第1のロック
29 搬送装置
30 排出口
31 ガス供給装置
32 ライン
33 温度センサ
34 端部
35 分離装置
37 冷却槽コンテナ
38 搬送装置
39 端部
40 沈殿槽
41 吐出口
42 温度センサ
43 吐出口
44 反応器
45 第2のロック
46 吐出口
47 ターンテーブル
48 第3のロック
49 保温ジャケット
50 加熱槽コンテナ
51 加熱空間
52 矢印
53 吐出口
54 保温ジャケット
56 ジャケット
57 冷却空間
58 投入口
59 吐出口
60 ライン
61 上端部
B バイオマス
L 空気
R 粗ガス
RK 炭素質残留物
PH 生成物ガス
AK 活性炭
PA,PR 冷却済みの生成物ガス、純ガス
SK 粉炭
G 排出ガス
PY 熱分解ガス
MB バイオマス供給量
MAK2 一定量の活性炭
MAK1 過量の活性炭
mBroh バイオマスの質量、質量流量(標準状態は、粗製)
mBwaf バイオマスの質量、質量流量(標準状態は、無水かつ無灰)
mAK ガス化層で形成される活性炭の質量、質量流量
mAK2 共に冷却するための活性炭の質量、質量流量
mAK1 余剰活性炭の質量、質量流量
ZO 酸化層
TO 酸化層内の温度
ZV ガス化層
TV ガス化層内の温度
ZK 冷却層
ZE 加熱層
TE 加熱層内の温度
P 矢印
Claims (15)
- ガス化装置(11)にバイオマス(B)を供給し、
第1のプロセスステップ(12、12i、12ii)で、前記供給したバイオマス(B)から粗ガス(R)と炭素質残留物(RK)とが生成され、
第2のプロセスステップ(13)で、前記炭素質残留物(RK)はガス化層(ZV)において前記粗ガス(R)のガス成分と共に部分的にガス化され、その結果として活性炭(AK)と高温の生成物ガス(PH)とが形成され、
無水かつ無灰の標準状態(waft)にある前記バイオマス(B)の1供給質量単位当たり、最小の0.02質量単位〜最大の0.1質量単位間の前記活性炭(AK)と、前記バイオマス(B)を供給した結果として生じる前記高温の生成物ガス(PH)とが前記ガス化層(ZV)から移動して冷却層(ZK)へと搬送され、かつ第3のプロセスステップ(14)で前記冷却層(ZK)において共に冷却され、これによって吸着プロセスが起こる一方で、冷却中に、前記高温の生成物ガス(PH)内のタールで前記活性炭(MAK2)が凝縮される、
バイオマス(B)をガス化するための方法(10)。 - 前記冷却層(ZK)において前記吸着プロセスを行う前記第3のプロセスステップ(14)で、前記冷却層(ZK)が前記生成物ガス(PA、PR)の露点温度よりも高い低温閾値温度を下回る温度では、前記生成物ガス(PH)および前記活性炭(MAK2)が共に冷却されない、請求項1に記載の方法。
- 前記低温閾値温度は、前記生成物ガス(PA、PR)の露点温度よりも最低で10ケルビンから最高で20ケルビン高い、請求項2に記載の方法。
- 前記第1のプロセスステップ(12、12i、12ii)の間に供給する前記バイオマス(B)を、第1の部分ステップ(12i)で前記加熱層(ZE)において乾燥させ、かつ前記バイオマス(B)の揮発性成分が逸出し、熱分解ガス(PY)と前記炭素質残留物(RK)とが形成されるように加熱して、前記第1のプロセスステップ(12)に続く部分ステップ(12ii)で、少なくとも前記熱分解ガス(PY)を、酸素含有ガス(L)を供給することによって酸化層(ZO)で準化学量論的に酸化し、前記粗ガス(R)が形成される、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 一方では前記加熱層(ZE)を、そして他方では前記酸化層(ZO)を、互いから独立している、請求項4に記載の方法。
- 前記熱分解ガス(PY)の前記準化学量論的酸化と前記炭素質残留物(RK)のガス化とを、互いから独立している層において行う、請求項4または5に記載の方法。
- 前記準化学量論的酸化を、前記酸化層(ZO)において、最低で1000℃〜最高で1200℃までの温度(TO)で行う、請求項4から6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記酸化層(ZO)内の温度(TO)を、前記酸素含有ガス(L)の供給量によって調整する、請求項4から7のいずれか一項に記載の方法。
- 周囲圧力に対して上昇させた圧力下で前記方法を行っている、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記吸着プロセスによって浄化された前記生成物ガス(PA、PR)を、たとえばガスエンジンなどの装置に燃料として供給し、バイオマスの供給量(MB)と前記ガス化層から取り出す活性炭(AK)の量(MAK2)とを、前記装置の性能要件に比例して調整する、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記粗ガス(R)と前記炭素質残留物(RK)とを間接加熱によって前記ガス化層(ZV)内で加熱し、かつ/または前記活性炭(AK)と前記高温の生成物ガス(PH)とを間接冷却によって前記冷却層(ZK)内で冷却する、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第3のプロセスステップ(14)で前記タールを吸着した前記活性炭(AK)は、前記生成物ガス(PH)および前記活性炭(AK)を冷却するために前記第3のプロセスステップ(14)で使用した前記空気で反応器(44)において焼却しており、前記焼却時の排出ガス(G)を、前記加熱層(ZE)を加熱するために使用することが好ましい、請求項1から11のいずれか一項に記載の方法。
- 加熱層(ZE)を有する少なくとも1つの槽(24)と、
熱分解ガス(PY)および炭素質残留物(RK)を生成するために、前記加熱層(ZE)にバイオマス(B)を供給するように配置された供給装置(28、29)と、
前記熱分解ガス(PY)を酸化するための酸化層(Z)、および前記炭素質残留物(RK)をガス化するためのガス化層(ZV)を有する少なくとも1つの槽(23)と、
前記熱分解ガス(PY)を前記加熱層(ZE)から前記酸化層(ZO)に、また粗ガス(R)を前記酸化層(ZO)から前記ガス化層(ZV)に搬送するように配置され、かつ前記炭素質残留物(RK)を前記加熱層(ZE)から前記ガス化層(ZV)に搬送するように配置された搬送手段(29)と、
前記酸化層(Z)内にある前記熱分解ガス(PY)が準化学量論的に酸化され、その結果として前記粗ガス(R)が形成されるような量の酸素含有ガス(L)を、前記酸化層(Z)に対して供給するように配置されたガス供給装置(31)と、
ガス成分を有する前記炭素質残留物(RK)が部分的にガス化され、その結果として活性炭(AK)および高温の生成物ガス(PH)が形成されるように、前記ガス化層(ZV)内の温度(TV)を調整するように配置された、前記ガス化層を加熱するための加熱手段であって、
一定量(MAK2)の前記活性炭(AK)および前記生成物ガス(PH)を、前記ガス化層(ZV)から冷却層(ZK)へと供給するように、前記装置(11)を配置しており、
前記一定量(MAK2)の活性炭が、前記活性炭(AK)および前記高温の生成物ガス(PH)が形成される元になる、無水かつ無灰の標準状態にある前記バイオマス(B)の供給質量の最小2%〜最大10%の質量を有する、加熱手段と、
前記冷却層(ZK)内で、前記一定量(MAK2)の活性炭および前記高温の生成物ガス(PH)を共に冷却し、これによって吸着プロセスが起こり、前記プロセスの最中に、前記高温の生成物ガス(PH)内のタールで前記活性炭(MAK2)が前記冷却中に凝縮されるように配置された冷却装置(ZK)とを備える、
バイオマス(B)をガス化するための装置(11)。 - 一方では前記加熱層(ZE)を、他方では前記酸化層(ZO)を、それぞれ別々の槽(23、24)内に配置し、かつ/または一方では前記ガス化層(ZV)を、他方では前記冷却層(ZK)を、それぞれ別々の槽(23、36)内に配置する、請求項13に記載の装置。
- 周囲圧力に対して上昇させた圧力下で前記ガス化を行うように、前記装置(11)を配置する、請求項13または14に記載の装置。
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