JP2019507894A - 高さ測定装置、リソグラフィ装置、高さ測定方法、および高さ測定装置を製造する方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高さ測定装置は、差圧センサのアレイを備え、各差圧センサが、参照表面から予め定められた距離にある参照出口、および測定出口を備え、各差圧センサがさらに、加圧されたガスを参照出口および測定出口に提供するように構成された入口を備える。フレキシブル膜は、フレキシブル膜の参照側が参照出口と流体連絡し、フレキシブル膜の測定側が測定出口と流体連絡するように配置されている。フレキシブル膜は、測定出口に圧力変化が生じるとき動くように構成され、検出器は、フレキシブル膜の動きを監視するように構成されている。
【選択図】図2
Description
本出願は、2015年12月21日に出願された欧州出願第15201737.2号の優先権を主張し、その全体が本明細書に援用される。
例えば、本書またはその他において特定されているか否かにかかわらず先行技術の1つ又は複数の問題を防止しまたは緩和する高さ測定装置を提供することが望まれうる。
a.放射ビームPB(例えば、深紫外放射または極紫外放射)を調整する照明システムILと、
b.パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、パターニングデバイスを物品PLに対して正確に位置決めする第1位置決め装置PMに接続された支持構造(マスクテーブルとも称されうる)MTと、
c.物品PLに対して基板を正確に位置決めするための第2位置決め装置PW2に接続され、基板(例えば、レジストで被覆されたウェーハ)W2を保持するための基板テーブル(ウェーハテーブルとも称されうる)WT2と、
d.アライメントシステムASおよび基板の高さを正確に測定するための高さ測定装置HMAに対して基板を正確に位置決めするための第3位置決め装置PW3に接続され、基板W1を保持するためのもう1つの基板テーブル(ウェーハテーブルとも称されうる)WT1と、
e.パターニングデバイスMAにより放射ビームPBに付与されたパターンを基板W2の(例えば1つ以上のダイを含む)目標部分Cに結像するよう構成されている投影システム(例えば、屈折投影レンズ)PLと、を備える。
Claims (30)
- 差圧センサのアレイを備え、各差圧センサが、
参照表面から予め定められた距離にある参照出口、および測定出口と、
加圧されたガスを前記参照出口および前記測定出口に提供するように構成された入口と、
フレキシブル膜の参照側が前記参照出口と流体連絡し、フレキシブル膜の測定側が前記測定出口と流体連絡するように配置されたフレキシブル膜であって、前記測定出口に圧力変化が生じるとき動くように構成されたフレキシブル膜と、
前記フレキシブル膜の動きを監視するように構成された検出器と、を備える高さ測定装置。 - 参照チャネルおよび測定チャネルが設けられ、前記参照チャネルは、前記入口と前記フレキシブル膜の参照側との間に流体連絡を提供するように構成され、前記測定チャネルは、前記入口と前記フレキシブル膜の測定側との間に流体連絡を提供するように構成されている請求項1に記載の高さ測定装置。
- 前記参照チャネルおよび前記測定チャネルは、流量制限器として働くように構成されている請求項2に記載の高さ測定装置。
- 前記アレイにおいて隣接する差圧センサの間隔は、3mmまたはそれより小さい請求項1から3のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記検出器は、前記フレキシブル膜に設けられた検出デバイスを備える請求項1から4のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記検出デバイスは、少なくとも1つのピエゾ抵抗素子を備える請求項5に記載の高さ測定装置。
- 前記検出デバイスは、測定素子となるように構成された少なくとも1つのピエゾ抵抗素子と、参照素子となるように構成された少なくとも1つのピエゾ抵抗素子とを備える請求項6に記載の高さ測定装置。
- 前記フレキシブル膜は、少なくとも3つの頂点を備える形状を有する請求項7に記載の高さ測定装置。
- 前記フレキシブル膜は、実質的に円形であり、2つのピエゾ抵抗素子が前記フレキシブル膜の半径に実質的に平行となるように構成され、2つのピエゾ抵抗素子が前記フレキシブル膜の前記半径に実質的に垂直となるように構成されている請求項8に記載の高さ測定装置。
- 前記4つのピエゾ抵抗素子は、ホイートストンブリッジ回路となるように配置されている請求項9に記載の高さ測定装置。
- 前記検出デバイスは、フレキシブル電極を備える請求項5に記載の高さ測定装置。
- 前記検出器は、前記フレキシブル電極と静止有孔電極がキャパシタを形成するように前記フレキシブル電極と対向して設けられた静止有孔電極をさらに備える請求項11に記載の高さ測定装置。
- 前記検出器は、第2フレキシブル膜に設けられた第2フレキシブル電極をさらに備え、前記第2フレキシブル膜は、それらフレキシブル膜がキャパシタを形成するように前記フレキシブル膜と対向して設けられている請求項11に記載の高さ測定装置。
- 前記検出デバイスは、フレキシブル光共振器を備える請求項5に記載の高さ測定装置。
- 導波路が前記フレキシブル膜に設けられ、前記導波路は、広帯域放射を前記フレキシブル光共振器に提供するように構成されている請求項14に記載の高さ測定装置。
- 前記フレキシブル膜は、実質的に円形であり、前記フレキシブル光共振器は、フレキシブル光リング共振器である請求項14または15に記載の高さ測定装置。
- 前記差圧センサのアレイの少なくとも2つの前記フレキシブル膜に前記フレキシブル光共振器が設けられ、それらフレキシブル光共振器は異なる長さを有する請求項14から16のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記検出器は、500〜2000nmの範囲内の波長を有する放射を前記導波路に提供するように構成された広帯域放射源をさらに備える請求項15から17のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記検出器は、前記導波路からの放射を受け取るように構成された光スペクトラムアナライザをさらに備える請求項15から18のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記検出デバイスは、入射する放射をフォトディテクタに向けて反射するように構成された反射部分を備える請求項5に記載の高さ測定装置。
- 前記検出器は、入射する放射ビームを第1ビームと第2ビームに分割するように構成されたビームスプリッタをさらに備え、前記第1ビームは前記フォトディテクタに向けられ、第2ビームは前記反射部分に向けられる請求項20に記載の高さ測定装置。
- 前記検出デバイスは、マッハツェンダ干渉計を備える請求項5に記載の高さ測定装置。
- 前記高さ測定装置は、前記検出器からの出力信号を受け取り、前記信号を前記測定出口の近傍に配置された基板の高さを決定するために使用するように構成されたプロセッサをさらに備える請求項1から22のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記アレイは、基板積層体から製作されている請求項1から23のいずれかに記載の高さ測定装置。
- 前記基板積層体は、複数の半導体ウェーハを備える請求項24に記載の高さ測定装置。
- 前記高さ測定装置は、参照センサをさらに備え、前記参照センサは、
参照表面から予め定められた距離にある参照出口、および測定出口と、
フレキシブル膜の参照側が前記参照出口と流体連絡し、フレキシブル膜の測定側が前記測定出口と流体連絡するように配置されたフレキシブル膜と、
前記フレキシブル膜の動きを監視するように構成された検出器と、を備え、
前記参照センサは、加圧されたガスを前記参照出口および前記測定出口に提供するように構成された入口を含まない請求項1から25のいずれかに記載の高さ測定装置。 - リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調整するように構成された照明システムと、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構築された支持部と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、を備え、
リソグラフィ装置はさらに、差圧センサのアレイを備える高さ測定装置を備え、各差圧センサが、
参照表面から予め定められた距離にある参照出口、および測定出口と、
加圧されたガスを前記参照出口および前記測定出口に提供するように構成された入口と、
フレキシブル膜の参照側が前記参照出口と流体連絡し、フレキシブル膜の測定側が前記測定出口と流体連絡するように配置されたフレキシブル膜であって、前記測定出口に圧力変化が生じるとき動くように構成されたフレキシブル膜と、
前記フレキシブル膜の動きを監視するように構成された検出器と、を備えるリソグラフィ装置。 - 高さ測定方法であって、
差圧センサの測定出口に圧力変化が生じるとき動くように構成されたフレキシブル膜を各差圧センサが備える差圧センサのアレイに加圧されたガスを提供することと、
基板の表面を前記差圧センサのアレイの測定出口の近傍に配置することと、
前記差圧センサのアレイと前記基板の表面との間に相対移動を提供することと、
前記フレキシブル膜の動きを監視することによって前記移動中の圧力変化を感知することと、
前記基板の高さを決定するために、感知された圧力変化を分析することと、を備える方法。 - 高さ測定装置を製造する方法であって、
第1ウェーハのデバイス層に検出デバイスを設けることと、
互いに流体連絡する入口、参照チャネル、および参照出口を第2ウェーハに設けることと、
前記入口から前記参照チャネルを通って前記検出デバイスのそばを通過し前記参照出口を通る連続経路が存在するように前記第1ウェーハを前記第2ウェーハに接合することと、
前記第1ウェーハの下側から前記第1ウェーハを薄くすることと、
前記検出デバイスがフレキシブル膜に配置されるように前記第1ウェーハからフレキシブル膜を形成することと、
第3ウェーハに測定出口を設けることと、
前記入口から測定チャネルを通って前記フレキシブル膜のそばを通過し前記測定出口を通る連続経路が存在するように前記入口および前記測定出口と流体連絡する測定チャネルが前記第3ウェーハと前記第1ウェーハによって定められるように前記第3ウェーハを前記第1ウェーハに接合することと、
第4ウェーハに入口および参照出口チャネルを設けることと、
前記第4ウェーハの入口が前記第2ウェーハの入口と位置合わせされ、前記参照出口チャネルが前記参照出口と流体連絡するように前記第4ウェーハを前記第2ウェーハに接合することと、を備える方法。 - 前記第2ウェーハには、監視電子機器及び/または光学系を収容するように構成されたデバイス室が設けられている請求項29に記載の方法。
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