JP2019504751A - フィッシャー・トロプシュ合成における気泡塔への触媒の投入 - Google Patents

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Abstract

【課題】分離ループを含む気泡塔型の合成反応器に触媒を投入する方法を提供することを目的とする。【解決手段】分離ループ(21)を含む反応器(40)に触媒を投入する方法であって、前記方法は、以下:(a)反応器(40)に溶媒S1を充填する工程;(b)分離ループ(21)に前記溶媒S1を充填する工程;(c)前記溶媒S1を合成反応器(40)および分離ループ(21)に移動させる工程;(d)反応器(40)を100℃以下の温度まで加熱する工程;(e)反応器(40)の底部に不活性ガスを注入する工程;(f)液体/固体混合物を得るために、容器(30)中で前記触媒と溶媒S2とを混合する工程;(g)容器(30)内の圧力を上昇させ、次いで液体/固体混合物を反応器(40)に送る工程;(h)前記溶媒S1および/またはS2を回収する工程;を含む、方法を提供する。【選択図】 図1

Description

本発明は、フィッシャー・トロプシュ合成プロセス、特にフィッシャー・トロプシュ合成における気泡塔への触媒の投入に関する。
フィッシャー・トロプシュ合成プロセスは、一般に合成ガスとして知られているCO+Hの混合物から広範囲の炭化水素留分を得るのに使用され得る。フィッシャー・トロプシュ合成の全体式は、以下のように記され得る:
nCO+(2n+1)H→C2n+2+nH
フィッシャー・トロプシュ反応は、一般的に200℃〜350℃の範囲内の温度で、1〜4MPa間で典型的には実施される。フィッシャー・トロプシュ合成は、天然ガス、石炭またはバイオマスを化学工業用の燃料または中間体に転換するプロセスの要である。これらのプロセスは、初期供給原料として天然ガスを使用する場合にはGTL(気体から液体へ)として、石炭の場合にはCTL(石炭から液体へ)として、バイオマスの場合にはBTL(バイオマス〜液体へ)として知られている。
CTLおよびBTLプロセスの場合、初期供給原料はまず、一酸化炭素と二水素との混合物である合成ガスにガス化される。GTLプロセスの場合、メタンは、通常、オートサーマル改質装置で合成ガスに転換される。次に、合成ガスはフィッシャー・トロプシュ合成によって大部分がパラフィンに変換され、次にこれらのパラフィンは、水素化異性化−水素化分解プロセスによって燃料に変換され得る。一例として、これらのパラフィンの水素化分解、脱ろうおよび水素化異性化などの変換プロセスは、中間蒸留物の範囲において異なる種類の燃料(灯油(150〜250℃留分)および軽油(250〜370℃留分))を生成するのに使用され得る。より軽いC5〜C15画分は、蒸留されて、溶媒として使用されるか、または特定の石油化学製品の供給原料として使用され得る。
フィッシャー・トロプシュ合成反応は、様々な種類の反応器(固定床、移動床(流動床としても知られている)または三相(気体、液体、固体)、または気泡塔中)で実行されてよく、反応生成物は、硫黄含有化合物、窒素含有化合物または芳香族化合物を含まないという顕著な特徴を有する。
1つの実施態様では、気泡塔型反応器(または「スラリー気泡塔」、または簡略化のために実際には「スラリー」)において、触媒は、典型的には数十マイクロメートル程度の非常に細かい粉末状態に特徴的に分割され、この粉末は反応媒体と懸濁液を形成する。
上記で定義した「スラリー」型のフィッシャー・トロプシュ合成プロセスで触媒を使用する場合、触媒は、触媒に損傷を与えることがあり、それによって触媒性能(特に活性)が変化し得る機械的ストレスおよび化学的ストレスによって、非常に厳しい条件下に曝される。
さらに、触媒は、触媒が使用される場所の上流、より具体的には、触媒を反応器に投入する段階中、並びに反応器の起動段階中にも損傷を受け得る。実際、フィッシャー・トロプシュ合成において、触媒は触媒的に活性であるためには還元型でなければならないため、合成反応器中への触媒の投入が最適よりも少ないと、少なくとも部分的に触媒が酸化されて、活性が低下するという必然的な結果がもたらされるであろう。
特許文献1は、投入段階中のフィッシャー・トロプシュ触媒への損傷を減少させるために使用され得る、フィッシャー・トロプシュ触媒を合成反応器に投入する方法を開示している。合成反応器に挿入される前に、触媒は、保管ユニット中で固体/液体混合物を形成するために液体と最初に混合され、次にその混合物は、ポンプによって合成反応器に送られる。しかしながら、触媒を保管ユニットから合成反応器に移す際にポンプを使用すると、機械的破壊によって不可逆的に触媒が損傷し得る。さらには、ポンプ自体も触媒の移動中の機械的摩耗によって損傷を受け得る。最終的には、ポンプの不在によって微粒子の形成が制限され、それによってフィッシャー・トロプシュ反応から得られる生成物の収率が増加し得ることを意味する。
特許文献2は、液体ワックスによる投入中に触媒が保護される、フィッシャー・トロプシュ触媒を合成反応器に投入する方法が開示されている。ワックスが液状であるということは、反応器は150℃を超えるまで加熱されるべきであることを意味している。
このような状況を考慮して、本発明の1つの目的は、上記で議論される欠点を克服するためにフィッシャー・トロプシュ触媒を合成反応器に投入する方法を提案することである。
本発明による方法は、ポンプを必要とせずにフィッシャー・トロプシュ触媒を合成反応器に投入するのに使用し得るため、触媒微粉の形成を制限するのに使用することができ、それと同時にフィッシャー・トロプシュ合成から得られる生成物の収率が増加され得る。さらには、触媒の合成反応器への投入は、従来技術に記載されるよりも低い温度で実行され、これは、エネルギー消費がはるかに少ない方法が得られることを意味する。
米国特許出願公開第2007/254968号 米国特許第6,512,017号
本発明は、分離ループを含む気泡塔型の合成反応器に触媒を投入する方法を提供することを目的とする。
本発明は、分離ループを含む気泡塔型の合成反応器に触媒を投入する方法に関し、前記方法は、以下の工程:
(a)合成反応器の少なくとも一部分に溶媒S1を充填する工程;
(b)前記合成反応器の分離ループの少なくとも一部分に前記溶媒S1を充填する工程;
(c)前記溶媒S1を合成反応器から分離ループに移動させ、前記分離ループから合成反応器に移動させる工程;
(d)合成反応器を100℃以下の温度まで加熱する工程;
(e)合成反応器の底部に不活性ガスを注入し、0.1〜0.6MPaの範囲の絶対圧を得るように合成反応器の圧力を上昇させる工程;
(f)液体/固体混合物を得るために、容器中で前記触媒と溶媒S2とを混合する工程;
(g)容器内の圧力を合成反応器の圧力より少なくとも0.2MPa高い圧力まで上昇させ、次いで工程(f)で得られた液体/固体混合物を合成反応器に送る工程;
(h)合成反応器および/または分離ループに含まれる前記溶媒S1および/またはS2の少なくとも一部を回収する工程;を含む。
有利には、溶媒S1は溶媒S2と同一である。
好ましくは、溶媒S1および/または溶媒S2は、水素化ポリアルファオレフィン溶媒または水素化イソパラフィン溶媒から選択される。
有利には、本発明による方法は、工程(h)の後に以下:
(i)合成反応器を150℃〜270℃の範囲の温度まで加熱する工程;
(j)1.0〜6.0MPaの範囲の絶対圧を得るように合成反応器の圧力を上昇させる工程;
(k)合成反応器の底部に合成ガスを注入し、工程(e)で注入された不活性ガスと置き換える工程;をさらに含む。
好ましくは、分離ループは、少なくとも1つの脱気ドラムおよびデカンタを含む。
有利には、前記溶媒S1および/またはS2の少なくとも一部は、デカンタを介して工程(h)から回収される。
好ましくは、工程(e)で注入された不活性ガスは、合成反応器のヘッドから回収され、次いで、前記合成反応器の底部に再循環される。
有利には、触媒は、10〜500マイクロメートルの範囲の寸法を有する粒子の形態である。
好ましくは、使用される溶媒S2の量は、容器中の固体濃度が50重量%を超えないように決定される。
好ましくは、工程(f)の触媒は、最初に還元反応器中で還元される。
有利には、還元工程は、0〜1.5MPaの範囲の圧力、かつ350℃〜500℃の範囲の最終還元温度で、還元性ガスの存在下で実行される。
好ましくは、本発明による方法の還元工程の後かつ工程(f)の前に、触媒を80℃以下の温度まで冷却する。
有利には、工程(b)における溶媒S1が脱気ドラムおよび/またはデカンタに充填されるレベルは、脱気ドラムおよび/またはデカンタのそれぞれの体積の合計に対して少なくとも10体積%である。
好ましくは、工程(d)において、合成反応器は80℃以下の温度まで加熱される。
図1は、本発明によるフィッシャー・トロプシュ触媒を投入する方法の詳細図である。
以下の記載は、フィッシャー・トロプシュ型触媒を気泡塔型の合成反応器に投入するための様々な工程を説明するものである。
図1は、本発明によるフィッシャー・トロプシュ触媒を投入する方法の詳細図であり、前記触媒は合成反応器40(より詳しくは気泡塔型)に投入される。
気泡塔型の合成反応器40は、最初は空であり、すなわち、前記触媒を前記合成反応器40に投入する前に触媒を含有していない。有利には、合成反応器40は、特に発熱性であるフィッシャー・トロプシュ型合成反応中に反応媒体を冷却するために、熱交換器80(例えば管の系)を備える。本発明による合成反応器に触媒を投入する方法に関して、熱交換器80はまた、合成反応器40に触媒を投入する段階中に合成反応器40を加熱するためにも使用される(より詳細には、合成反応器への触媒の投入に関しての本発明による方法の工程(d)を参照のこと)。
本発明によれば、触媒の合成反応器40への投入は、少なくとも以下の工程:
(a)合成反応器40の少なくとも一部分に溶媒S1を充填する工程;
(b)前記合成反応器40の分離ループ21の少なくとも一部分に前記溶媒S1を充填する工程;
(c)前記溶媒S1を合成反応器40から分離ループ21に移動させ、前記分離ループ21から合成反応器40に移動させる工程;
(d)合成反応器40を100℃以下の温度まで加熱する工程;
(e)合成反応器40の底部に不活性ガスを注入し、0.1〜0.6MPaの範囲の絶対圧を得るように合成反応器40の圧力を上昇させる工程;
(f)液体/固体混合物を得るために、容器30中で触媒と、溶媒S1と同じであるか異なり得る溶媒S2とを混合する工程;
(g)工程(f)で得られた液体/固体混合物を合成反応器40に送る工程;
(h)合成反応器40および/または分離ループ21中に存在する溶媒S1および/またはS2の少なくとも一部を回収する工程;を含む。
有利には、本発明による方法は、以下:
(i)合成反応器40を150℃〜270℃の範囲の温度まで加熱する工程;
(j)1.0〜6.0MPaの範囲の絶対圧を得るように合成反応器40の圧力を上昇させる工程;
(k)合成ガスを注入して不活性ガスと置き換える工程;をさらに含む。

工程(a)〜(k)を以下に詳細に説明する。
工程(a)
本発明による方法の工程(a)によれば、合成反応器40の少なくとも一部分は溶媒S1で充填される。溶媒S1の性質は、15℃(298.15K)の温度および101325Paの圧力で規定される常温および常圧下であるだけではなく、フィッシャー・トロプシュ合成の条件下(以下の本文中で説明される)でも液体状態であるように選択されるべきである。
好ましくは、溶媒S1は、いかなる汚染元素をも含まず、すなわち、前記溶媒は、硫黄、窒素またはハロゲン化化合物に基づく元素を含有しない。
有利には、溶媒S1は、水素化ポリアルファオレフィン溶媒または水素化イソパラフィン溶媒であり、これは、還元型の触媒を酸化から保護し、それによって最終触媒の性能が維持され得る。
合成反応器40に注入される溶媒S1の体積は、溶媒S1のレベルが移送ライン7のレベルを上回るようにされる。好ましくは、合成反応器40に注入される溶媒S1の体積は、合成反応器40の移送ライン7の出口のレベルに対して、合成反応器40の全体積の少なくとも1体積%、好ましくは少なくとも3体積%、より好ましくは少なくとも5体積%高いレベルに達するようにされる。
溶媒S1は、80℃以下、好ましくは60℃以下、およびより好ましくは周囲温度、すなわち15℃の温度で、ライン6を介して合成反応器40に導入される。
工程(b)
本発明による方法の工程(b)によれば、合成反応器40の分離ループ21は前記溶媒S1で充填される。本発明に関して、分離ループ21は、少なくとも1つの脱気ドラム50と、デカンタ60と、ポンプ70とを備える。
脱気ドラム50は、ライン9を介して余剰ガスを排気するのに使用することができ、デカンタは、ライン11を介して余剰の溶媒(S1および/またはS2)を排出するのに使用することができる。
合成反応器40は、移送ライン7を介して脱気ドラム50に接続されており、脱気ドラム50はライン10を介してデカンタ60に接続されており、デカンタ60は、ライン12および13を介して合成反応器40に接続されている。
有利には、分離ループ21を充填する工程中、脱気ドラム50およびデカンタ60に注入される溶媒の体積は、前記脱気ドラム50および前記デカンタ60のそれぞれの体積の合計に対して、少なくとも10体積%、好ましくは少なくとも30体積%、およびより好ましくは少なくとも50体積%である。
工程(c)
本発明による方法の工程(c)によれば、分離ループ21のポンプ70は、溶媒S1を反応器40からデガッサ50に、デガッサ50からデカンタ60に、およびデカンタ60から合成反応器40へと移動させるために起動される。合成反応器40中および分離ループ21中で溶媒S1を移動させることは、合成反応器が起動することによって分離ループ21(より具体的には、特に脱気ドラム50およびデカンタ60)中の触媒の沈降による目詰まりの危険性が制限され、ポンプ70の起動に問題が生じた場合に、分離ループ21全体を溶媒S1および/またはS2で、その後窒素などの不活性ガスでフラッシングすることを防ぎ得ることを意味する。
工程(d)
本発明による方法の工程(d)によれば、合成反応器40は、100℃以下、好ましくは90℃以下、より好ましくは80℃以下の温度まで加熱される。かかる温度に到達するために、温水および/または水蒸気が熱交換器80のライン14に注入される。
工程(e)
本発明による方法の工程(e)によれば、不活性ガスは、ライン5を介して合成反応器40の底部に注入される。有利には、不活性ガスは窒素である。
好ましくは、不活性ガスは、反応器40の全断面にわたってガスを均一に分配するのに使用され得るガス分配装置(図1には図示せず)を介して注入される。不活性ガスの流速は、ガスの速度が、触媒の粒子が合成反応器40に入るよりも速く、前記触媒の粒子が、本発明による方法の工程(g)で合成反応器40に導入されるように決定される。
さらに、反応器40の圧力は、0.1〜0.6MPaの範囲内、好ましくは0.1〜0.3MPaの範囲内の絶対圧に達するように上昇される。
1つの実施形態では、不活性ガスはガス用の排気導管8を介して回収される。
本発明による別の特定の実施形態では、不活性ガスは、合成反応器40の上部に位置するライン18を介して回収され、次いで、不活性ガスは、前記不活性ガスの消費を制限するために、コンプレッサ90によりライン19および5を介して前記反応器40の底部に再循環される。
工程(f)
本発明の方法の工程(f)によれば、固体/液体混合物を得るために、触媒は容器30中の溶媒S2と混合される。溶媒S2は、ライン2を介して容器30に供給される。触媒は、ライン1を介して容器30に導入される。
好ましくは、溶媒S2は、汚染成分を含まず、すなわち、前記溶媒は、硫黄、窒素またはハロゲン化化合物に基づく元素を含有しない。
溶媒S2は、好ましくは、合成反応器40および分離ループ21で使用される溶媒S1と同一である。より具体的には、溶媒S2は、水素化ポリアルファオレフィン溶媒または水素化イソパラフィン溶媒である。溶媒S2は、還元型である触媒を酸化から保護し、それによってその触媒特性(特に活性において)を保持するのに使用され得る。
使用される溶媒S2の量は、容器30中の固体濃度が、50重量%、好ましくは40重量%、より好ましくは30重量%を超えないように決定される。
合成反応器40と同様にして、触媒が懸濁液中に取り込まれることで容器30の目詰まりを招く恐れがある触媒の固体粒子のいかなる沈降をも防ぐために、ライン3を介して容器30の底部に不活性ガスが導入される。
好ましい実施形態では、ライン3を介して導入される不活性ガスは、ライン5を介して導入される不活性ガスと同一である。
工程(g)
本発明による方法の工程(g)によると、工程(f)で得られた固体/液体混合物は、容器30から合成反応器40に移される。
本発明による方法の本質的な態様によれば、容器30内の圧力は、ライン3を介して供給される不活性ガス、好ましくは窒素によって、反応器の圧力に対して、少なくとも0.2MPa、好ましくは少なくとも0.4MPa、さらにより好ましくは少なくとも0.6MPa高い圧力まで上昇される。従って、固体/液体混合物の移送は、容器30と合成反応器40との間の圧力差によってライン4を介して行われる。固体粒子の形態の触媒を含む合成反応器40に導入される固体/液体混合物は、不活性ガスがライン5を介して合成反応器40の底部に注入されるため、懸濁液に取り込まれる。
工程(h)
本発明による方法の工程(h)によれば、合成反応器および分離ループ21に含まれる溶媒S1および/またはS2の少なくとも一部が回収される。より具体的には、溶媒S1および/またはS2は、合成反応器40内の液体のレベルを初期の液体レベル(すなわち、工程(f)で調製された固体/液体混合物の注入前)まで低下させるように、ライン11を介してデカンタ60のレベルで回収される。
好ましくは、工程(g)および(h)は同時に実行され、つまりは、溶媒S1および/またはS2は、固体/液体混合物の容器30から合成反応器40への移動中、合成反応器40内の液体のレベルを初期の液体レベル(すなわち、工程(f)で調製された固体/液体混合物の注入前)まで低下させるように、ライン11を介してデカンタ60のレベルで回収される。
有利には、溶媒S1および/またはS2は、それぞれライン6および2を介して本方法に再循環される(図示せず)。
有利には、工程(f)、(g)および(h)は、触媒の目標量が合成反応器40に投入されるまで繰り返される。
有利には、本発明による方法は、以下の工程(i)、(j)および(k)をさらに含む。
工程(i)
本発明による方法の任意の工程(i)によると、合成反応器40は、フィッシャー・トロプシュ合成反応温度まで加熱される。合成反応器40内の温度を上昇させるために、フィッシャー・トロプシュ合成が開始する温度、すなわち、温度150℃〜270℃の範囲、好ましくは170℃〜250℃の範囲、より好ましくは190℃〜230℃の範囲の温度に達するように、熱水および/または水蒸気が熱交換器80のライン14に注入される。
工程(j)
本発明による方法の任意の工程(j)によると、合成反応器40の圧力は、フィッシャー・トロプシュ合成反応の操作圧力、すなわち、一般に1.0〜6.0MPaの範囲、好ましくは1.5〜4.0MPaの範囲、およびより好ましくは2.0〜3.5MPaの範囲の絶対圧に達するように上昇される。ライン5を介して注入される不活性ガスの流速も、工程(e)と同じガス速度を維持するように徐々に上昇される。
工程(k)
本発明による方法の任意の工程(k)によると、不活性ガスの代わりに合成ガスがライン5を介して注入される。合成ガスの流速は、一酸化炭素の目標転化率を達成するように決定される。有利には、合成ガスを高温、すなわち180℃を超える、好ましくは190℃を超える温度で注入することは、合成ガスの一酸化炭素との反応と注入ガスに含まれる金属との反応から得られ、フィッシャー・トロプシュ触媒においては害となる金属カルボニルの形成をも防ぎ得る。
触媒還元工程
合成反応器40で使用する前に、触媒は一般に、触媒を活性化させ、ゼロ価状態(金属の形態で)の金属粒子を形成する目的で、高温で、例えば純粋または希釈された水素中で還元処理がなされる。還元工程は、還元反応器20中の容器30の上流で実行され得る。
典型的には、酸化物形態の触媒前駆体床は、前記還元反応器20にライン16を介して触媒前駆体を供給することによって還元反応器20内に形成される。次に、前記触媒前駆体は、金属酸化物を還元するような方法で還元性ガスの流れを前記触媒前駆体床上で移動させることによって、ライン17を介して供給される還元性ガスと接触させられる。好ましくは、還元性ガスは純粋な水素である。
触媒前駆体は、0〜1.5MPaの範囲、好ましくは0.3〜1MPaの範囲の圧力、かつ350〜500℃、好ましくは400℃〜450℃の範囲の最終還元温度で還元される。
好ましくは、還元工程の後、触媒は、好ましくは不活性雰囲気中で80℃以下、好ましくは60℃以下の温度まで冷却される。好ましくは、触媒を冷却するために使用されるガスは、還元工程に使用されるガスと同一である。次いで、触媒は、重力下で還元反応器20からライン1を介して容器30に排出される。
任意で、触媒冷却工程は、還元反応器20と容器30との間に位置する中間容器(図1には示されていない)内で実行される。
フィッシャー・トロプシュ触媒
非限定的な様式では、本発明による方法に関して使用される触媒は、支持体に担持される好ましくはコバルト、ニッケル、ルテニウムおよび鉄から選択される、第VIIIB族の少なくとも1つの金属を含む活性相を含む。好ましくは第VIIIB族の金属は、鉄およびコバルトから選択され、より好ましくはコバルトである。
前記触媒の活性相は、有利には、第VIIB族または第VIIIB族の貴金属から選択される少なくとも1つの補助ドーピング元素をさらに含み得る。補助ドーピング元素は、第VIIIB族の金属の還元性、つまりはその活性、またはその選択性を改善するため、または実際にはその不活性化を遅らせるのに使用され得る。ドーパントが第VIIB族または第VIIIB族の貴金属から選択される場合には、好ましくは白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ロジウム(Rh)または実際にはレニウム(Re)から選択される。
非限定的な様式では、支持体は、アルミナ、シリカとアルミナの混合物、シリカ(SiO)、酸化チタン(TiO)および酸化亜鉛(ZnO)から構成される支持体から選択され得る。
非限定的な様式では、触媒は、例えば、以下に列挙する:マグネシウム(Mg)、銅(Cu)、コバルト(Co)、ニッケル(Ni)、スズ(Sn)、亜鉛(Zn)、リン(P)、ホウ素(B)、リチウム(Li)、カルシウム(Ca)、セシウム(Cs)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、鉄(Fe)およびマンガン(Mn)から選択される化合物である1つ以上のドーパントを含み得る。
フィッシャー・トロプシュ法
フィッシャー・トロプシュ法は、本質的に線状で飽和したC 炭化水素の生成に使用され得る。本発明において、「本質的に線状で飽和したC 炭化水素」という用語は、1分子当たり少なくとも5個の炭素原子を含有する炭化水素化合物の割合が、形成される全炭化水素の少なくとも50重量%、好ましくは少なくとも80重量%であり、前記1分子当たり少なくとも5個の炭素原子を含有する炭化水素化合物の中に存在するオレフィン性化合物の総含有量が15重量%未満である炭化水素を意味する。そのため、本発明の方法によって生成される炭化水素は、本質的にパラフィン系炭化水素であり、最高沸点を有する画分は、水素化分解および/または水素化異性化などの接触水素化転化プロセスを使用して、高収率で中間蒸留物(灯油および軽油留分)に転化され得る。
好ましくは、本発明の方法を実行するために用いられる供給原料は、それが得られる生成プロセスの関数として0.5〜4.0の間で変化し得るH/COモル比を有する一酸化炭素と水素との混合物である合成ガスによって構成される。炭化水素またはアルコールの水蒸気改質におけるプロセスから合成ガスが得られる場合、合成ガスのH/COモル比は一般に3に近い。部分酸化プロセスから合成ガスが得られる場合、合成ガスのH/COモル比は1.5〜2.0程度である。自己熱改質プロセスから合成ガスが得られる場合、合成ガスのH/COモル比は、一般に2.5に近い。ガス化およびCOによる炭化水素の改質(乾式改質として知られている)におけるプロセスから合成ガスが得られる場合、合成ガスのH/COモル比は、一般に1に近い。
本発明によるフィッシャー・トロプシュプロセスは、150〜270℃の範囲、好ましくは170℃〜250℃、およびより好ましくは190℃〜230℃の範囲の温度で、1.0〜6.0MPaの範囲、好ましくは1.5〜4.0MPaの範囲、およびより好ましくは2.0〜3.5MPaの範囲の全圧で操作される。時間当たりの空間速度は、有利には、触媒体積および時間あたり100〜20000体積の範囲の合成ガス(100〜20000h−1)、および好ましくは触媒体積および時間あたり400〜10000体積の範囲の合成ガス(400〜10000h−1)である。
この理由から、フィッシャー・トロプシュプロセスで使用される触媒の粒度は、数ミクロンから2ミリメートルの範囲内であり得る。典型的には、三相「スラリー」反応器(気泡塔)で操作するために、触媒は細かく分割され、粒子の形態である。触媒の粒径は、10〜500マイクロメートル(μm)の範囲、好ましくは10〜300μmの範囲、および非常に好ましくは20〜150μmの範囲、さらにより好ましくは20〜120μmの範囲である。

Claims (14)

  1. 分離ループ(21)を含む気泡塔型の合成反応器(40)に触媒を投入する方法であって、前記方法は、以下:
    (a)合成反応器(40)の少なくとも一部分に溶媒S1を充填する工程;
    (b)前記合成反応器(40)の分離ループ(21)の少なくとも一部分に前記溶媒S1を充填する工程;
    (c)前記溶媒S1を合成反応器(40)から分離ループ(21)に移動させ、前記分離ループ(21)から合成反応器(40)に移動させる工程;
    (d)合成反応器(40)を100℃以下の温度まで加熱する工程;
    (e)合成反応器(40)の底部に不活性ガスを注入し、0.1〜0.6MPaの範囲の絶対圧を得るように合成反応器(40)の圧力を上昇させる工程;
    (f)液体/固体混合物を得るために、容器(30)中で前記触媒と溶媒S2とを混合する工程;
    (g)容器(30)内の圧力を合成反応器(40)の圧力より少なくとも0.2MPa高い圧力まで上昇させ、次いで工程(f)で得られた液体/固体混合物を合成反応器(40)に送る工程;
    (h)合成反応器(40)および/または分離ループ(21)に含まれる前記溶媒S1および/またはS2の少なくとも一部を回収する工程;
    を含む、方法。
  2. 前記溶媒S1は前記溶媒S2と同一である、請求項1に記載の方法。
  3. 前記溶媒S1および/または溶媒S2は、水素化ポリアルファオレフィン溶媒または水素化イソパラフィン溶媒から選択される、請求項1または2に記載の方法。
  4. 工程(h)の後に、以下:
    (i)合成反応器(40)を150℃〜270℃の範囲の温度まで加熱する工程;
    (j)0.1〜0.6MPaの範囲の絶対圧を得るように合成反応器(40)の圧力を上昇させる工程;
    (k)合成反応器(40)の底部に合成ガスを注入し、工程(e)で注入された不活性ガスと置き換える工程;
    をさらに含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記分離ループ(20)は、少なくとも1つの脱気ドラム(50)とデカンタ(60)を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
  6. 工程(h)において、前記溶媒S1および/またはS2の少なくとも一部は、デカンタ(60)を介して回収される、請求項5に記載の方法。
  7. 工程(e)で注入された不活性ガスは、合成反応器(40)の上部から回収され、次いで、前記合成反応器(40)の底部に再循環される、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記触媒は、10〜500マイクロメートルの範囲の寸法を有する粒子の形態である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. 使用される溶媒S2の量は、容器(30)中の固体濃度が50重量%を超えないように決定される、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
  10. 工程(f)の触媒は、最初に還元反応器(20)中で還元される、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
  11. 還元工程(20)は、0〜1.5MPaの範囲の圧力、かつ350℃〜500℃の範囲の最終還元温度で、還元性ガスの存在下で実行される、請求項10に記載の方法。
  12. 本発明による方法の還元工程の後かつ工程(f)の前に、触媒を80℃以下の温度まで冷却する、請求項10または11に記載の方法。
  13. 工程(b)における溶媒S1が脱気ドラム(50)および/またはデカンタ(60)に充填されるレベルは、脱気ドラム(50)および/またはデカンタ(60)のそれぞれの体積の合計に対して少なくとも10体積%である、請求項5〜12のいずれか一項に記載の方法。
  14. 工程(d)において、合成反応器(40)は80℃以下の温度まで加熱される、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
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