JP2019501510A - 低圧ワイヤイオンプラズマ放電源、及び二次放出を伴う電子源への応用 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、細長いイオン化室(1)であって、イオン化室内に長手方向に延びる少なくとも2つの平行なアノードワイヤ(2、3)を収容する細長いイオン化室(1)を含む低圧ワイヤイオンプラズマ放電源に関する。本発明によれば、前記少なくとも2つのアノードワイヤの第1のワイヤ(2)は、DC電圧源(4)に接続され、及び前記少なくとも2つのアノードワイヤの第2のワイヤ(3)は、パルス電圧源(5)に接続される。
【選択図】図4
Description
− 高密度の正イオンを生成して、その後に高密度の二次電子を生成し、十分に高いX線量をもたらさなければならない。これは、通常、WIP放電のために少なくとも1A/cm以上、典型的には2A/cmの高い放電電流を必要とする。
− 信頼性が高く安定したX線放射のための信頼性の高いトリガー(低パルス間ジッター)及び良好なパルス間安定性。
− とりわけ、高エネルギーのエキシマレーザー用のX線源の場合には1メートルよりも長いことがあるワイヤの方向における、生成されたプラズマの良好な空間的均一性。
− この解決策は、電子ビームパルスごとに数回のWIP放電を発生させることを強制し、これにより装置の信頼性及び寿命が低減される。
− 長いWIP源(≧長さ1m)での連続的な放電は、プラズマの望ましくない長手方向の閉じ込めを引き起こし、従ってイオン源の均一性を低下させる傾向があることが観察された(図2を参照)。
・ワイヤに高電圧/高電流パルスを印加すると、連続的なプラズマを不安定にすることがある。
・特開平4−255654A号公報では、ワイヤに印加される連続的な高電圧は、パルス高電圧のかなりの部分であり、連続的なプラズマが不安定になるのを回避するための対策が取られていない。
・DCプラズマ放電は負の抵抗を示し、従って安定させるには抵抗的に安定させなければならない。その結果、パルス供給及びDC供給を重ね合わせることは、満足のいくものではなくなる。なぜなら、任意の浮遊容量(ケーブル及びダイオードの浮遊容量)がDC放電の発振を誘起するからである。
− イオン化室:室は、以下の典型的な寸法を有する平行六面体の形状を有する:長さ130cm、幅4cm、及び高さ4cm。
− アノードワイヤ
DC電圧アノードワイヤ:1つのDCワイヤ、典型的には直径200μm。
パルス電圧アノードワイヤ:2つのパルスワイヤ、典型的には直径300μm。
− 以下の特性を有するDC電源(HVPS−1):
− 典型的に2kVの高電圧を出力する
− 1.30mのワイヤ長に対して典型的には0.3mA(従って≦0.3mA/m)に制限することができ、従って圧縮モードでDCプラズマを維持することができる、制御可能な出力電流
− 以下の特性を有するパルス電源(図5を参照)
− 典型的に5kVのHV出力を有する高電圧電源(HVPS−2)
− 電気エネルギーを蓄え、その後、その電気エネルギーをパルスワイヤに供給するための、典型的には30nFのコンデンサC
− パルスワイヤに高電圧パルスを供給するために、最大5kVの電圧及び最大で典型的に500Aの電流を扱うことができ、迅速に閉じることができるスイッチS。スイッチは、1つ又は複数のIGBTから形成することができる。或いは、MosFETトランジスタを使用することができる。或いは、サイラトロンを使用することもできる(なお、サイラトロンの場合、トランスを使用しなければならない)。
2.動作
・開始時(T0)、高DC電圧(典型的には2kV)が1つのワイヤに印加される。
・しばらくした後(T1)、ワイヤの周りにプラズマが生成され、電流が流れる。電源電流の限界は、圧縮モードでDCプラズマを維持するように十分低く、且つパルスWIPを安定して形成するために十分な電荷を発生させるように十分に高い値に設定される。典型的な電流設定値は、ワイヤ直径と、室の幾何形状(ワイヤ−壁の距離、ワイヤ間の距離)とに依存することがある。直径200μm、長さ1.5m、室の壁の約1cmに配置されたDCワイヤの場合、電流設定値は0.1mAである。前記プラズマが確立されると、電源電圧は、プラズマインピーダンスに依存する値、典型的には1kVに降下する。このDCプラズマは、装置の動作中、常に維持される。
・T2において、HVPS−1は、コンデンサCを設定高電圧、典型的には5kVまで充電する。
・コンデンサCが充電されると、T3でスイッチSが閉じられ、その後、パルスワイヤが同じ高電圧にされる。電圧上昇時間は、高速(典型的には<1μs)であるように設計された回路の物理的特性に依存する。
・T4において、パルスワイヤに現れる高電圧がパルスWIPプラズマを形成し、高電流がイオン化室内で流れ始め、パルス電源設計に応じた時間(典型的には数μs)にわたり高イオン密度を生成する。
・T5において、コンデンサCに蓄積された電気エネルギーがプラズマに完全に移され、パルス電流が停止する。
・T6において、正確に制御された時間遅延後、負の高電圧パルス(典型的には−100kV)がカソードに印加され、イオンプラズマを加速させ、二次電子とこれに続くX線放射とを生成する。
・T7において、X線源の所望の繰り返し率に応じて制御されて、サイクル(T2で開始する)が繰り返される。
典型的な遅延:
・DCプラズマ開始(T1〜T0):重大ではない(開始時のみである)、典型的には<1s。
・コンデンサCの充電時間(T3〜T2):連続的なX線パルス間の所望の時間よりも短くなければならず、典型的には10Hzの動作に対して<100msでなければならない。
・パルスワイヤに渡る電圧の上昇時間(T4〜T3):パルスプラズマを効率的に形成するように十分に速くなければならない。回路パラメータ(スイッチ閉路時間、インダクタンス)に依存し、典型的には<1μsである。
・WIPプラズマの持続時間(T5〜T4):典型的には2μsである。
・パルスWIPプラズマ−電子ビームの遅延(T5〜T6):典型的には5μsである。
・繰り返し率(T7〜T2):典型的には1〜100Hz(0.01〜1s)である。
Claims (6)
- 細長いイオン化室(1)であって、前記イオン化室内に長手方向に延びる少なくとも2つのアノードワイヤ(2、3)を収容する細長いイオン化室(1)と、DC電圧源(4)と、パルス電圧源(5)とを含む低圧ワイヤイオンプラズマ放電源において、
前記少なくとも2つのアノードワイヤの第1のワイヤ(2)は、前記DC電圧源(4)に接続され、及び前記少なくとも2つのアノードワイヤの第2のワイヤ(3)は、前記パルス電圧源(5)に接続されることを特徴とする、低圧ワイヤイオンプラズマ放電源。 - 前記DC電圧源(4)に接続された幾つかのアノードワイヤ及び/又は前記パルス電圧源(5)に接続された幾つかのアノードワイヤを含むことを特徴とする、請求項1に記載の低圧ワイヤイオンプラズマ放電源。
- 前記DC電圧源(4)によって生成される直流は、1mA/cm以下であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の低圧ワイヤイオンプラズマ放電源。
- 前記パルス電圧源(5)は、1〜5A/cm以上のパルス大電流を生成することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の低圧ワイヤイオンプラズマ放電源。
- 前記イオン化室(10)は、スリット(13)を介してそれらの全長に沿って流体連通している細長い主室(11)及び細長い補助室(12)を含み、少なくとも1つのパルス電圧供給されるアノードワイヤ(14a、14b)は、主室(11)内に長手方向に延び、及び少なくとも1つのDC電圧供給されるアノードワイヤ(15)は、前記補助室(12)内に長手方向に延びることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の低圧ワイヤイオンプラズマ放電源。
- 低圧室内においてイオン衝撃下で二次電子放出を伴う電子源において、請求項1〜5のいずれか一項に記載の低圧ワイヤイオンプラズマ放電源を含むことを特徴とする電子源。
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