JP2019207372A - Reticle, reticle unit, rifle scope, and optical equipment - Google Patents

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Abstract

To provide a reticle having a novel configuration capable of forming a desired pattern, a reticle unit, and an optical equipment.SOLUTION: Disclosed reticle has a recline pattern formed to serve as an index when viewing the observation target. In reticle 30A, the reticle pattern is constituted by convex portions 33a and 33b provided on the pattern forming surface 31a of the plate-like optical member 31. The convex portions 33a and 33b are composed of multiple convex strips 133 (structures) extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the pattern. The reticle is configured so that when the observation target is viewed through the reticle 30A, the light incident on the reticle 30Afrom the observation side is deflected by the convex part so that the image of the reticle pattern is visible.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクル、レチクルユニット、及び該レチクルまたはレチクルユニットを備えたライフルスコープ等の光学機器に関する。   The present invention relates to a reticle formed with a pattern that serves as an index when an observer visually recognizes an observation target, a reticle unit, and an optical device such as a rifle scope including the reticle or reticle unit.

上記のようなレチクルを備えた光学機器として、ライフルスコープ、フィールドスコープ、測量機器、望遠鏡、顕微鏡などが例示される。例えば、ライフルスコープに代表される射撃照準用スコープ(以下、「ライフルスコープ」と呼ぶ)では、目標を狙うための十字線や弾丸降下補正線、ドット、若しくはこれらが複合されたパターンが形成されたレチクルが用いられている。このようなレチクルは、一般的に薄い光学ガラスを基板とし、ガラス基板上に2本のワイヤーを十字状に張り渡して接着したり、ガラス基板に溝を掘ってインクを固着したり、電鋳で十字線を形成したりする等により、入射光を遮光してパターンの像が視認されるように構成されていた(例えば、特許文献1、特許文献2を参照)。しかし、ワイヤーを張り渡す構成では線幅を途中で大きく変化させることが困難であり、電鋳では弾丸降下補正線やドット、記号のように線の端部または図形全体が宙に浮いたようなパターンを形成することは困難であった。   Examples of the optical apparatus provided with the reticle as described above include a rifle scope, a field scope, a surveying instrument, a telescope, and a microscope. For example, in a shooting aiming scope represented by a rifle scope (hereinafter referred to as a “rifle scope”), a cross line, a bullet drop correction line for aiming at a target, a dot, or a pattern in which these are combined is formed. A reticle is used. Such a reticle generally uses a thin optical glass as a substrate, and two wires are stretched and bonded on the glass substrate, or a groove is dug in the glass substrate to fix the ink. For example, the pattern image is visually recognized by blocking the incident light by forming a cross line or the like (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). However, in the configuration where the wire is stretched, it is difficult to greatly change the line width in the middle, and in electroforming, the end of the line or the whole figure is floating in the air like a bullet drop correction line, dots, symbols, etc. It was difficult to form a pattern.

米国特許第7793456号明細書US Pat. No. 7,793,456 米国特許第1302353号明細書U.S. Pat. No. 1,302,353

第1の態様はレチクルである。第1のレチクルは、対物レンズと接眼レンズとの間の観察光路内における対物レンズの像位置に配置され、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターン(例えば、実施形態におけるレチクルパターン32)が形成されたレチクルである。このレチクルでは、パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部及び/または凹部を備え、凸部及び凹部はそれぞれ複数の構造体により構成される。各構造体は対物レンズから入射する光を屈折する屈折面を有し、これら複数の構造体における各屈折面の傾きは、対物レンズ側から入射した光を観察光路外に屈折することにより、パターンの像が観察対象の像に重畳した暗パターンとして観察者に視認されるように構成される。   The first aspect is a reticle. The first reticle is arranged at the image position of the objective lens in the observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and serves as an index when the observer visually recognizes the observation target (for example, the reticle pattern in the embodiment). 32) is a reticle formed. In this reticle, the pattern includes convex portions and / or concave portions provided on at least one surface of the plate-like optical member, and the convex portions and the concave portions are each constituted by a plurality of structures. Each structure has a refracting surface that refracts light incident from the objective lens, and the inclination of each refracting surface in the plurality of structures is determined by refracting light incident from the objective lens side out of the observation optical path. Is viewed by the observer as a dark pattern superimposed on the image to be observed.

第2のレチクルは、対物レンズと接眼レンズとの間の観察光路内における対物レンズの像位置に配置され、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターン(例えば、実施形態におけるレチクルパターン32)が形成されたレチクルである。このレチクルでは、パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部及び/または凹部を備え、凸部及び凹部はそれぞれ複数の構造体により構成される。前記パターンは複数の構造体により構成される部分パターンを有し、この部分パターンを形成する個々の前記構造体は観察光路の光軸に対して傾斜した傾斜面を有する凸または凹の錐体状であり、錐体面である前記傾斜面は対物レンズから入射する光を接眼レンズの光路外へ屈折させるように構成される。   The second reticle is disposed at the image position of the objective lens in the observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and serves as an index when the observer visually recognizes the observation target (for example, the reticle pattern in the embodiment). 32) is a reticle formed. In this reticle, the pattern includes convex portions and / or concave portions provided on at least one surface of the plate-like optical member, and the convex portions and the concave portions are each constituted by a plurality of structures. The pattern has a partial pattern composed of a plurality of structures, and each of the structures forming the partial pattern has a convex or concave cone shape having an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path. The inclined surface, which is a cone surface, is configured to refract light incident from the objective lens out of the optical path of the eyepiece lens.

第3のレチクルは、対物レンズと接眼レンズとの間の観察光路内における対物レンズの像位置に配置され、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターン(例えば、実施形態におけるレチクルパターン32)が形成されたレチクルである。このレチクルでは、パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部及び/または凹部を備え、凸部及び凹部は、それぞれ複数の構造体により構成される。前記パターンは、各々複数の構造体により構成される直線状の部分パターンと曲線状の部分パターンとを有する。直線状の部分パターンを形成する個々の構造体は、この直線状の部分パターンが延びる方向に垂直方向の断面で観察光路の光軸に対して傾斜する傾斜面を有するとともに、当該部分パターンが延びる方向に平行な凸または凹の直線状であり、前記凸または凹の側面である前記傾斜面は対物レンズから入射する光を観察光路外へ屈折させるように構成される。曲線状の部分パターンを形成する個々の記構造体は、観察光路の光軸に対して傾斜した傾斜面を有する凸または凹の錐体状であり、錐体面である前記傾斜面は対物レンズから入射する光線を観察光路外へ屈折させるように構成される。   The third reticle is disposed at the image position of the objective lens in the observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and serves as an index when the observer visually recognizes the observation target (for example, the reticle pattern in the embodiment). 32) is a reticle formed. In this reticle, the pattern includes convex portions and / or concave portions provided on at least one surface of the plate-like optical member, and the convex portions and the concave portions are each constituted by a plurality of structures. The pattern has a linear partial pattern and a curved partial pattern each formed of a plurality of structures. Each structure forming the linear partial pattern has an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path in a cross section perpendicular to the direction in which the linear partial pattern extends, and the partial pattern extends. The inclined surface, which is a convex or concave linear shape parallel to the direction, is configured to refract light incident from the objective lens out of the observation optical path. Each recording structure forming the curved partial pattern is a convex or concave cone shape having an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path, and the inclined surface, which is a cone surface, is formed from the objective lens. An incident light beam is configured to be refracted out of the observation optical path.

第4のレチクルは、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたライフルスコープ用のレチクルであり、以下を含んで構成される。透明な2つの透過面を持つ板状の光学部材、透過面上に形成された第1パターン(例えば、実施形態における直線パターン32a,32b、クロスパターン32d)と第2パターン(例えば、実施形態における円環パターン32c)、前記第1パターン及び前記第2パターンはそれぞれ透過面に対して傾斜した傾斜面を有する複数の構造体により形成され、ライフルスコープの光軸に対する前記傾斜面の傾斜角度α/2は、以下の条件を満足する;21°≦α/2≦70°。   The fourth reticle is a rifle scope reticle in which a pattern that serves as an index when an observer visually recognizes an observation target, and includes the following. A plate-shaped optical member having two transparent transmission surfaces, a first pattern (for example, linear patterns 32a and 32b and cross pattern 32d in the embodiment) and a second pattern (for example, in the embodiment) formed on the transmission surface The annular pattern 32c), the first pattern, and the second pattern are each formed by a plurality of structures having inclined surfaces inclined with respect to the transmission surface, and the inclination angle α / of the inclined surface with respect to the optical axis of the rifle scope. 2 satisfies the following conditions: 21 ° ≦ α / 2 ≦ 70 °.

第2の態様はレチクルユニットである。このレチクルユニットは、第1の態様のレチクルに、さらに光学部材のいずれか一方の面に少なくとも構成面の一部を反射面とする反射部が形成されたレチクルと、反射部の側方に配置されて光を放射する光源と、光源と反射部との間に配設されて光源から放射された光を集光して反射面に導く集光部とを備え、光源から放射され集光部により集光されて反射面で反射された光を光学部材の他方の面から出射させて、パターンの像とともに視認されるように構成される。ここで、本明細書において「集光する」とは、光源から出射した発散光を集めて略平行光若しくは収斂光にすることをいう。   The second aspect is a reticle unit. This reticle unit is arranged on the reticle of the first aspect, and further on a reticle having a reflecting portion formed on at least a part of its constituent surface on one surface of the optical member, and on the side of the reflecting portion. A light source that emits light and a light collecting unit that is disposed between the light source and the reflection unit and collects the light emitted from the light source and guides the light to the reflection surface. The light collected by the light source and reflected by the reflecting surface is emitted from the other surface of the optical member and is visually recognized together with the pattern image. Here, “collecting” in the present specification means collecting divergent light emitted from a light source into substantially parallel light or convergent light.

第3の態様はライフルスコープ、及びフィールドスコープ、測量機器、望遠鏡などの光学機器である。これらは、対物レンズと、対物レンズにより形成される観察対象の像若しくはこの像と略共役な位置に、前記の凸部及び/または凹部が設けられた面(例えば、実施形態におけるパターン形成面31a)が配置された上記第1の態様のレチクルまたは第2の態様のレチクルユニットと、観察対象の像及び凸部及び/または凹部により形成されるパターンの像を重ね合わせて観察する接眼レンズとを有して構成される。   The third aspect is a rifle scope, and optical equipment such as a field scope, surveying instrument, and telescope. These include an objective lens and an image of an observation object formed by the objective lens or a surface provided with the convex portion and / or the concave portion at a position substantially conjugate with the image (for example, the pattern forming surface 31a in the embodiment). ) And the reticle unit of the second aspect, and an eyepiece for observing the image to be observed and the image of the pattern formed by the convex and / or concave portions in an overlapping manner. It is configured.

第4の態様は第1の態様のレチクルの製造方法である。この製造方法は、金型面に金属メッキを行うステップと、金属メッキされた金型面上に構造体に対応する微細構造を形成して凸部及び/または凹部を形成するステップと、凸部及び/または凹部が形成された金型を成形機にセットしてレチクルを成形するステップと、を含んで構成される。   The fourth aspect is a method for manufacturing a reticle according to the first aspect. The manufacturing method includes a step of performing metal plating on a mold surface, a step of forming a fine structure corresponding to a structure on a metal-plated mold surface to form a convex portion and / or a concave portion, and a convex portion. And / or a step of setting a mold in which a recess is formed in a molding machine and molding a reticle.

光学機器の一例であるライフルスコープの概略構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows schematic structure of the rifle scope which is an example of an optical instrument. レチクルパターンを説明するための説明図であって、図2(a)はレチクルの斜視図、図2(b)はレチクルパターン形成面側から見た図である。2A and 2B are explanatory views for explaining a reticle pattern, in which FIG. 2A is a perspective view of the reticle, and FIG. 2B is a view as seen from the reticle pattern forming surface side. 第1実施形態における第1構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、図3(a),図3(b)はパターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。FIGS. 3A and 3B are explanatory views for explaining a reticle having a first configuration according to the first embodiment, and FIGS. 3A and 3B are schematic cross-sectional views in which the reticle is cut along a plane perpendicular to a pattern line. FIGS. is there. パターン線を構成する構造体の部分を拡大した顕微鏡写真である。It is the microscope picture which expanded the part of the structure which comprises a pattern line. 観察対象側からレチクル上の凸部に入射した光の出射状況を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the outgoing condition of the light which injected into the convex part on a reticle from the observation object side. 第1実施形態における第2構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、図6(a),図6(b)はパターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。FIGS. 6A and 6B are explanatory views for explaining a reticle having a second configuration according to the first embodiment, and FIGS. 6A and 6B are schematic cross-sectional views in which the reticle is cut along a plane perpendicular to a pattern line. FIGS. is there. 第1実施形態における第3構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 3rd structure form in 1st Embodiment, and is typical sectional drawing which cut | disconnected the reticle in the surface perpendicular | vertical to a pattern line. 構造体の傾斜面の傾斜角度について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the inclination angle of the inclined surface of a structure. 第2実施形態における第1構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 1st structure form in 2nd Embodiment, and is typical sectional drawing which cut | disconnected the reticle in the surface perpendicular | vertical to a pattern line. パターン線と観察対象Tとが重なった状況で、これらの像が観察者にどのように認識されるかを説明するための説明図であり、図10(a)は第1実施形態のレチクル30Aの場合、図10(b)は第2実施形態のレチクル30Bの場合である。It is explanatory drawing for demonstrating how these images are recognized by the observer in the condition where the pattern line and the observation target T overlap, and Fig.10 (a) is the reticle 30A of 1st Embodiment. In this case, FIG. 10B shows the case of the reticle 30B of the second embodiment. 第2実施形態における第2構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 2nd structure form in 2nd Embodiment, and is typical sectional drawing which cut | disconnected the reticle in the surface perpendicular | vertical to a pattern line. 第2実施形態における第3構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 3rd structure form in 2nd Embodiment, and is typical sectional drawing which cut | disconnected the reticle in the surface perpendicular | vertical to a pattern line. 構造体に設けられた透過面の構成比率を変化させたときの、観察対象とパターン線の見え方を模式的に示した説明図である。It is explanatory drawing which showed typically the observation object and the appearance of a pattern line when changing the structure ratio of the permeation | transmission surface provided in the structure. 構造体に設けられた透過面の構成比率をパターン線の幅方向の位置によって異なる比率とした構成を例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the structure which made the structure ratio of the permeation | transmission surface provided in the structure different according to the position of the width direction of a pattern line. 構造体に設けられた透過面の構成比率をパターン線の長さ向の位置によって異なる比率とした構成を例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the structure which made the composition ratio of the permeation | transmission surface provided in the structure different from the position of the length direction of a pattern line. 構造体に設けられた透過面に曲率を設けた場合の構成を例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the structure at the time of providing a curvature in the permeation | transmission surface provided in the structure. 第3実施形態のレチクルを説明するための説明図であり、レチクルパターンの他の構成例を示す図面である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of 3rd Embodiment, and is drawing which shows the other structural example of a reticle pattern. 第3実施形態における第1構成形態の円環パターンの、第1構成例の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of the 1st structural example of the annular pattern of the 1st structural form in 3rd Embodiment. 図18中の符号XIXで示す領域の斜視図である。It is a perspective view of the area | region shown with the code | symbol XIX in FIG. 図18中のXX−XX矢視の断面図である。It is sectional drawing of the XX-XX arrow in FIG. 第3実施形態における第1構成形態の円環パターンの、第2構成例の部分拡大図である。It is the elements on larger scale of the 2nd structural example of the annular pattern of the 1st structural form in 3rd Embodiment. 第3実施形態における第2構成形態のクロスパターンの部分拡大図である。It is the elements on larger scale of the cross pattern of the 2nd structure form in 3rd Embodiment. 図22中の符号XXIIIで示す領域の斜視図である。It is a perspective view of the area | region shown by code | symbol XXIII in FIG. 図22中のXXIV−XXIV矢視の断面図である。It is sectional drawing of the XXIV-XXIV arrow in FIG. 第3実施形態における第3構成形態の文字パターンの部分拡大図である。It is the elements on larger scale of the character pattern of the 3rd structure form in 3rd Embodiment. 第5実施形態として示すレチクルユニットの構成を説明するための説明図であり、照明光の光路を示す説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the reticle unit shown as 5th Embodiment, and is explanatory drawing which shows the optical path of illumination light. 上記レチクルユニットの構成を説明するための説明図であり、レチクルのパターン形成面に形成される反射部の斜視図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the said reticle unit, and is a perspective view of the reflection part formed in the pattern formation surface of a reticle. 上記レチクルユニットの構成を説明するための説明図であり、レチクルパターンに対する照明光の投射状態を示すレチクルユニットの正面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the said reticle unit, and is a front view of the reticle unit which shows the projection state of the illumination light with respect to a reticle pattern.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。本実施形態に係るレチクルが用いられる光学機器の一例として、図1にライフルスコープRSの概要構成を示すとともに、図2にライフルスコープRSに用いられるレチクルの構成例を示しており、まずこれらの図面を参照して、ライフルスコープRSの概要から説明する。ライフルスコープRSは、観察対象側から順に、対物レンズ1と、正立レンズ2と、後述するレチクル30を備えたレチクルユニット3と、接眼レンズ4とを有して構成される。対物レンズ1、正立レンズ2、接眼レンズ4は、それぞれ単一のレンズまたは複数のレンズ(レンズ群)により構成することができる。本明細書においては、図1及び図2の図中に座標軸を示すように、ライフルスコープRSの光軸方向(観察光路の光軸方向)をz軸とする。そしてz軸に垂直に交わる面内で直交する2方向をx軸及びy軸とし、図1における紙面に垂直な方向をx軸、紙面に沿った方向をy軸とする。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. As an example of an optical apparatus in which the reticle according to this embodiment is used, FIG. 1 shows a schematic configuration of a rifle scope RS, and FIG. 2 shows a configuration example of a reticle used in the rifle scope RS. The outline of the rifle scope RS will be described with reference to FIG. The rifle scope RS includes an objective lens 1, an erecting lens 2, a reticle unit 3 including a reticle 30 described later, and an eyepiece 4 in order from the observation target side. The objective lens 1, the erecting lens 2, and the eyepiece lens 4 can each be composed of a single lens or a plurality of lenses (lens group). In this specification, the optical axis direction of the rifle scope RS (the optical axis direction of the observation optical path) is defined as the z-axis, as shown in the coordinate axes in FIGS. In addition, two directions orthogonal to each other in a plane perpendicular to the z axis are defined as an x axis and ay axis, a direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1 is defined as an x axis, and a direction along the paper surface is defined as a y axis.

対物レンズ1は、観察対象側からの光を集光して観察対象の倒立像(一次像)IM1を形成し、また、正立レンズ2は、対物レンズ1により形成された倒立像である一次像IM1を正立像である二次像IM2に変換する。そして、対物レンズ1の一次像IM1と共役な位置に二次像IM2と略一致するように、レチクル30が配置されている。なお、レチクル30は、一次像IM1と略一致するように配置されていてもよい。すなわち、レチクル30は、対物レンズ1と接眼レンズ4との間の観察光路内における対物レンズ1の一次像または二次像の像位置に配置される。   The objective lens 1 condenses light from the observation target side to form an inverted image (primary image) IM1 of the observation target, and the erecting lens 2 is a primary image that is an inverted image formed by the objective lens 1. The image IM1 is converted into a secondary image IM2 that is an erect image. A reticle 30 is arranged at a position conjugate with the primary image IM1 of the objective lens 1 so as to substantially coincide with the secondary image IM2. The reticle 30 may be arranged so as to substantially coincide with the primary image IM1. That is, the reticle 30 is arranged at the image position of the primary image or the secondary image of the objective lens 1 in the observation optical path between the objective lens 1 and the eyepiece lens 4.

レチクル30は、可視領域を含む所望波長の光を透過する透明な円板状の光学部材31を主体とし、この光学部材31の一方の面に、標的に狙いを合わせる際に指標となるレチクルパターン32が形成されている。レチクルパターンには様々な形態があるが、本実施形態では、光学部材31の中心部から周縁部に向かってx軸方向及びy軸方向に延びる十字線状のレチクルパターン32を形成した構成を示す。また、x軸方向に延びるパターン線及びy軸方向における中心から下方に延びるパターン線は、中心近傍のパターン線を細く(線幅を狭く)外側のパターン線を太く(線幅を広く)し、y軸方向における中心から上方に延びるパターン線を細くした構成を例示する。細いパターン線をパターン線32a、太いパターン線をパターン線32bと表記する。これらのパターン線32a,32bはいずれもレチクルパターン32を構成する直線状の部分パターンである。以下では、細いパターン線32aを細い直線パターン、太いパターン線32bを太い直線パターンとも表記する。パターン線32a,32bの具体的な線幅はレチクルの用途や機能、観察者の好みなどにより様々であるが、ライフルスコープ用のレチクルの場合には、細いパターン線32aの線幅は5〜50μm程度、太いパターン線32bの線幅は50〜250μm程度の範囲で設定される。   The reticle 30 mainly includes a transparent disk-shaped optical member 31 that transmits light of a desired wavelength including a visible region, and a reticle pattern serving as an index when aiming at a target on one surface of the optical member 31. 32 is formed. Although there are various types of reticle patterns, the present embodiment shows a configuration in which a cross-shaped reticle pattern 32 extending in the x-axis direction and the y-axis direction from the center portion to the peripheral portion of the optical member 31 is formed. . In addition, the pattern line extending in the x-axis direction and the pattern line extending downward from the center in the y-axis direction make the pattern line near the center thinner (the line width is narrower), and the outer pattern line is thicker (the line width is wider), The structure which narrowed the pattern line extended upwards from the center in a y-axis direction is illustrated. A thin pattern line is expressed as a pattern line 32a, and a thick pattern line is expressed as a pattern line 32b. These pattern lines 32 a and 32 b are both linear partial patterns constituting the reticle pattern 32. Hereinafter, the thin pattern line 32a is also referred to as a thin straight line pattern, and the thick pattern line 32b is also referred to as a thick straight line pattern. The specific line widths of the pattern lines 32a and 32b vary depending on the use and function of the reticle, the preference of the observer, etc. In the case of a rifle scope reticle, the line width of the thin pattern line 32a is 5 to 50 μm. The line width of the thick pattern line 32b is set in the range of about 50 to 250 μm.

レチクル30は、x軸方向及びy軸方向に延びるパターン線の交点がライフルスコープRSの光軸(観察光路の光軸)Zに略一致するように配置される。また、レチクル30は、レチクルパターン32が形成された面(以下、「パターン形成面」という)31aが、正立レンズ2により形成される二次像IM2(または対物レンズ1により形成される一次像IM1)と略一致するように配置され、パターン形成面31aは接眼レンズ4の物体側焦点面と略一致している。そのため、観察者が接眼レンズ4側からレチクル30を通して観察対象を見たときに、観察対象の二次像IM2(または一次像IM1)とレチクルパターン32の像とが重畳し、接眼レンズ4を通して観察者の眼5により視認される。これにより、標的である観察対象(ターゲット)に対してライフルスコープRSの光軸Zを正確に合わせ、ターゲットに照準を合わせることができるようになっている。   The reticle 30 is arranged so that the intersection of pattern lines extending in the x-axis direction and the y-axis direction substantially coincides with the optical axis (optical axis of the observation optical path) Z of the rifle scope RS. Further, the reticle 30 has a secondary image IM2 (or a primary image formed by the objective lens 1) formed by the erecting lens 2 on a surface (hereinafter referred to as a “pattern forming surface”) 31a on which the reticle pattern 32 is formed. IM1) and the pattern forming surface 31a are substantially coincident with the object-side focal plane of the eyepiece 4. Therefore, when the observer views the observation target from the eyepiece 4 side through the reticle 30, the observation target secondary image IM <b> 2 (or the primary image IM <b> 1) and the image of the reticle pattern 32 are superimposed and observed through the eyepiece 4. It is visually recognized by the person's eyes 5. Thereby, the optical axis Z of the rifle scope RS can be accurately aligned with the observation target (target) as a target, and the target can be aimed.

レチクル30において、レチクルパターン32は、レチクル30の基材ないし基板である光学部材31の少なくともパターン形成面31aに設けられた凸部及び/または凹部により構成される。凸部及び凹部はそれぞれ複数の構造体により構成され、各構造体は対物レンズ1から入射する光を屈折する屈折面を有し、これら複数の構造体における各屈折面の傾きは、対物レンズ1側から入射した光を観察光路外に屈折することにより、パターン32の像が観察対象の像に重畳した暗パターンとして観察者に視認されるように構成される。   In the reticle 30, the reticle pattern 32 is constituted by convex portions and / or concave portions provided on at least the pattern forming surface 31 a of the optical member 31 that is a base material or substrate of the reticle 30. Each of the convex portion and the concave portion is composed of a plurality of structures, and each structure has a refracting surface that refracts light incident from the objective lens 1, and the inclination of each refracting surface in the plurality of structures is the objective lens 1. By refracting the light incident from the side out of the observation optical path, the image of the pattern 32 is configured to be visually recognized by the observer as a dark pattern superimposed on the image to be observed.

[第1実施形態]
第1実施形態のレチクル30Aは、凸部はレチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条により構成され、凹部はレチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の溝により構成される。すなわち、本実施形態では、凸部を構成する複数の構造体は並列する複数の凸条であり、凹部を構成する複数の構造体は並列する複数の溝である。そして、レチクル30を通して観察対象を見たときに、観察対象側からレチクル30に入射した光が、凸部及び/または凹部により偏向されて、レチクルパターン32の像が視認されるように構成される。
[First Embodiment]
In the reticle 30 </ b> A according to the first embodiment, the convex portion is constituted by a plurality of ridges extending in the length direction in parallel with the width direction of the line constituting the reticle pattern 32, and the concave portion is the width of the line constituting the reticle pattern 32. It is constituted by a plurality of grooves extending in the length direction in parallel with the direction. In other words, in the present embodiment, the plurality of structures constituting the convex portion are a plurality of convex stripes arranged in parallel, and the plurality of structures constituting the concave portion are a plurality of grooves arranged in parallel. Then, when the observation target is viewed through the reticle 30, the light incident on the reticle 30 from the observation target side is deflected by the convex portion and / or the concave portion, and the image of the reticle pattern 32 is visually recognized. .

このような特徴を有するレチクル30Aについて、本実施形態に含まれる第1構成形態のレチクル30A1を例示する図3〜図5を参照して説明する。ここで、図3(a),図3(b)は、パターン線32a,32bに垂直に交わる面でレチクル30A1を切断した模式的な断面図、図4はパターン線32a,32bの部分を拡大した顕微鏡写真、図5は観察対象側からレチクル30A1の凸部に入射した光の出射状況を説明するための説明図である。 For the reticle 30A having such features will be described with reference to FIGS. 3 to 5 illustrating the reticle 30A 1 of the first configuration mode included in the present embodiment. Here, FIG. 3 (a), FIG. 3 (b), the pattern lines 32a, schematic sectional view of the reticle 30A 1 in a plane intersecting perpendicularly to 32b, FIG. 4 the pattern lines 32a, the portion of 32b enlarged photomicrographs, FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the emission conditions of the light incident from the observation target side to the convex portion of the reticle 30A 1.

第1構成形態のレチクル30A1は、レチクルパターン32のパターン線32a,32bが、光学部材31のパターン形成面31aに設けられた凸部33a,33bにより構成される。凸部33aは線幅が狭いパターン線(細い直線パターン)32aに対応し、凸部33bは線幅が広いパターン線(太い直線パターン)32bに対応する。凸部33a及び凸部33bは、ともに、パターン線の幅方向に並列しパターン線の長さ方向に延びる複数の微細な凸条(ridge)133,133,133…により構成される。換言すれば、凸部33a,33bは、パターン線の線幅よりも幅が狭い複数の凸条133により構成される。各凸条133は、パターン線が延びる方向と直交方向の断面形状がパターン形成面31aから観察対象側に突出する三角プリズム状で、パターン線の長さ方向に延びて形成される。 In the reticle 30A 1 of the first configuration form, the pattern lines 32a and 32b of the reticle pattern 32 are constituted by convex portions 33a and 33b provided on the pattern forming surface 31a of the optical member 31. The convex portion 33a corresponds to a pattern line (thin linear pattern) 32a having a narrow line width, and the convex portion 33b corresponds to a pattern line (thick linear pattern) 32b having a wide line width. Both the convex portion 33a and the convex portion 33b are constituted by a plurality of fine ridges 133, 133, 133,... Extending in parallel with the width direction of the pattern line and extending in the length direction of the pattern line. In other words, the convex portions 33a and 33b are constituted by a plurality of ridges 133 that are narrower than the line width of the pattern line. Each ridge 133 is formed in a triangular prism shape in which a cross-sectional shape in a direction orthogonal to the direction in which the pattern line extends protrudes from the pattern forming surface 31a toward the observation target, and extends in the length direction of the pattern line.

凸条133を構成する二つの傾斜面140,140の光軸Zに対する傾斜角度は、各傾斜面に入射して屈折により偏向し、パターン形成面31aに対向する光学部材の他方の面(以下、「対向面」という)31bから出射する光が、レチクル30A1の後側に設けられる接眼レンズ4を透過する角度よりも大きくなるように設定される。端的には、凸条133,133,133…により偏向されてレチクル30A1から出射する光が、接眼レンズ4を透過して観察者の眼5に入射しないように設定される。凸条133の二つの傾斜面140,140は入射光を屈折させる屈折面を構成する。 The angle of inclination of the two inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 with respect to the optical axis Z is incident on each inclined surface and deflected by refraction, and the other surface of the optical member (hereinafter referred to as the pattern forming surface 31a). light emitted from the as "opposing surface") 31b is set to be larger than the angle which transmits an eyepiece 4 provided on the rear side of the reticle 30A 1. In short, it is set so that the light that is deflected by the ridges 133, 133, 133... And emitted from the reticle 30 </ b> A 1 does not enter the observer's eye 5 through the eyepiece 4. The two inclined surfaces 140 and 140 of the ridge 133 constitute a refracting surface that refracts incident light.

凸部33a,33bは、パターン線の線幅に応じた本数の凸条133で構成することができる。すなわち、細い直線パターン(線幅が狭いパターン線)32aを形成する凸部33aは、少ない本数の凸条133で構成し、太い直線パターン(線幅が広いパターン線)32bを形成する凸部33bは、多い本数の凸条133で構成することができる。図4に示す直線パターンの構成例では、線幅がwの狭い細い直線パターン32aの凸部33aを5本の凸条133で構成し、線幅が5wの太い直線パターン32bの凸部33bは25本の凸条133で構成している。本構成例における個々の凸条133の幅は約10μmである。   The convex portions 33a and 33b can be configured by the number of convex strips 133 according to the line width of the pattern lines. That is, the convex part 33a which forms the thin linear pattern (pattern line with a narrow line width) 32a is composed of a small number of convex lines 133, and the convex part 33b which forms the thick linear pattern (pattern line with a wide line width) 32b. Can be composed of a large number of ridges 133. In the configuration example of the linear pattern shown in FIG. 4, the convex portion 33a of the thin linear pattern 32a having a narrow line width w is configured by five convex strips 133, and the convex portion 33b of the thick linear pattern 32b having a line width of 5w is It consists of 25 ridges 133. The width of each ridge 133 in this configuration example is about 10 μm.

このような構成のレチクル30A1を備えたライフルスコープRSでは、観察対象側(図3における左側)からパターン形成面31aに入射した光が、凸条133,133,133…の傾斜面140で屈折し、ライフルスコープRSの光軸Zから離間する方向に偏向されて、光学部材の対向面31bから出射する。このとき、光学部材の対向面31bから出射する光の出射角度は、接眼レンズ4を透過し得る出射角度よりも大きいため接眼レンズ4から観察者の眼5に入射しない。傾斜面140で屈折し対向面31bから出射した光(便宜的に、「偏向光」という)は、例えば図5に示すように、レチクル30A1や接眼レンズ4等を保持する鏡筒の内周面に吸収される。そのため、接眼レンズ4側から標的となる観察対象を目視する観察者には、凸部33a,33bが設けられた部分からの光が見えず、直線パターン32a,32bが暗黒の線として視認されて、レチクルパターン32の像が明瞭に観察される。 In the rifle scope RS provided with the reticle 30A 1 having such a configuration, light incident on the pattern forming surface 31a from the observation target side (left side in FIG. 3) is refracted by the inclined surface 140 of the ridges 133, 133, 133. Then, the light is deflected in a direction away from the optical axis Z of the rifle scope RS and emitted from the facing surface 31b of the optical member. At this time, since the emission angle of the light emitted from the facing surface 31b of the optical member is larger than the emission angle that can be transmitted through the eyepiece lens 4, it does not enter the eye 5 of the observer from the eyepiece lens 4. The inclined surface 140 is refracted (for convenience, referred to as "deflected light") light emitted from the opposite surface 31b, for example, as shown in FIG. 5, the inner circumference of the lens barrel that holds a reticle 30A 1 and eyepiece 4, etc. Absorbed into the surface. For this reason, the observer viewing the target observation target from the eyepiece 4 side does not see the light from the portions where the convex portions 33a and 33b are provided, and the linear patterns 32a and 32b are visually recognized as dark lines. The image of the reticle pattern 32 is clearly observed.

本実施形態のレチクル30A1においては、1本のパターン線が、線幅に応じた複数の凸条133により構成される。そのため、凸部33a,33bを単一の凸条で構成した場合と比較して、パターン形成面31aから突出する凸部の高さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄く構成できるとともに、凸部33a,33bの損傷を抑制して保管時や組み付け時等の取り扱いが容易なレチクルを提供することができる。さらに、パターン線32a,32bを線幅に比例した本数の凸条133で構成すれば(単位線幅当たりの凸条の形成密度を同一とすれば)、線幅によらずコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。 In reticle 30A 1 of the present embodiment, one pattern line is constituted by a plurality of ridges 133 corresponding to the line width. Therefore, compared with the case where convex part 33a, 33b is comprised with a single protruding item | line, the height of the convex part which protrudes from the pattern formation surface 31a can be suppressed significantly. As a result, the reticle can be made thin and the reticle 33a, 33b can be prevented from being damaged and can be easily handled during storage or assembly. Further, if the pattern lines 32a and 32b are composed of the number of ridges 133 proportional to the line width (if the formation density of the ridges per unit line width is the same), a reticle having a uniform contrast regardless of the line width. A pattern can be obtained.

本実施形態に含まれる第2構成形態のレチクル30A2について説明する、本構成形態のレチクル30A2は、第1構成形態のレチクル30A1における凸条をV溝(V字状の溝)とした、すなわちパターン形成面31aに設けられる構造体を凸条からV溝に変更した構成形態である。図6(a),図6(b)は、図3(a),図3(b)に対応し、パターン線32a,32bに垂直に交わる面でレチクル30A2を切断した模式的な断面図である。 For reticle 30A 2 of the second configuration mode will be described to be included in this embodiment, the reticle 30A 2 of the configuration mode, the ridges in the reticle 30A 1 of the first configuration mode and the V-groove (V-shaped groove) That is, this is a configuration in which the structure provided on the pattern forming surface 31a is changed from a ridge to a V-groove. FIG. 6 (a), the FIG. 6 (b), FIG. 3 (a), corresponding to FIG. 3 (b), the pattern line 32a, schematic cross-sectional view of the reticle 30A 2 in a plane intersecting perpendicularly to 32b It is.

レチクル30A2では、レチクルパターン32のパターン線32a,32bが、光学部材のパターン形成面31aに形成された凹部34a,34bにより構成される。凹部34aは細い直線パターン(線幅が狭いパターン線)32aに対応し、凹部34bは太い直線パターン(線幅が広いパターン線)32bに対応する。凹部34a及び凹部34bは、ともに、パターン線の幅方向に並列しパターン線の長さ方向に延びる複数の微細なV溝134,134,134…により構成される。すなわち、凹部34a,34bは、パターンの線幅よりも幅が狭い複数のV溝134により構成される。各V溝134は、パターン線が延びる方向に直交する方向の断面形状がパターン形成面31aに向けて開くV字状で、パターン線の長さ方向に延びて形成される。 In the reticle 30A 2 , the pattern lines 32a and 32b of the reticle pattern 32 are constituted by recesses 34a and 34b formed on the pattern forming surface 31a of the optical member. The recess 34a corresponds to a thin linear pattern (pattern line having a narrow line width) 32a, and the recess 34b corresponds to a thick linear pattern (pattern line having a wide line width) 32b. Both the recess 34a and the recess 34b are constituted by a plurality of fine V-grooves 134, 134, 134,... That extend in parallel to the pattern line width direction and extend in the pattern line length direction. That is, the recesses 34a and 34b are constituted by a plurality of V-grooves 134 that are narrower than the pattern line width. Each V-groove 134 is formed in a V shape in which a cross-sectional shape in a direction orthogonal to the direction in which the pattern line extends opens toward the pattern forming surface 31a, and extends in the length direction of the pattern line.

V溝134を構成する二つの傾斜面(屈折面)140,140の光軸Zに対する傾斜角度は、各傾斜面に入射して屈折により偏向し、対向面31bから出射する偏向光の少なくとも一部が、レチクルの後側に設けられる接眼レンズ4を透過する角度よりも大きくなるように設定される。端的には、V溝134,134,134…により偏向されてレチクル30A1から出射する光が、接眼レンズ4を透過して観察者の眼5に入射しないように設定される。 The inclination angles of the two inclined surfaces (refractive surfaces) 140, 140 constituting the V-groove 134 with respect to the optical axis Z are at least part of the deflected light that is incident on each inclined surface and deflected by refraction and emitted from the opposing surface 31b. Is set to be larger than the angle at which it passes through the eyepiece 4 provided on the rear side of the reticle. In short, it is set so that the light deflected by the V grooves 134, 134, 134... And emitted from the reticle 30 </ b> A 1 does not enter the observer's eye 5 through the eyepiece lens 4.

凹部34a,34bは、直線パターンの線幅に応じた本数のV溝134で構成することができる。すなわち、細い直線パターン(線幅が狭いパターン線)32aを形成する凹部34aは、少ない本数のV溝134構成し、太い直線パターン(線幅が広いパターン線)32bを形成する凹部34bは、多い本数のV溝134で構成することができる。例えば、線幅がwの細い直線パターン32aの凹部34aを3本のV溝134で構成し、線幅が4wの太い直線パターン32bの凹部34bを12本のV溝134で構成する。   The recesses 34a and 34b can be configured by the number of V grooves 134 corresponding to the line width of the linear pattern. That is, the recesses 34a that form the thin linear patterns (pattern lines with a narrow line width) 32a constitute a small number of V-grooves 134, and there are many recesses 34b that form the thick linear patterns (pattern lines with a wide line width) 32b. A number of V-grooves 134 can be used. For example, the concave portion 34a of the thin linear pattern 32a having a line width w is constituted by three V grooves 134, and the concave portion 34b of the thick linear pattern 32b having a line width 4w is constituted by twelve V grooves 134.

このような構成のレチクル30A2を備えたライフルスコープRSにおいても、観察対象側からパターン形成面31aに入射した光が、V溝134,134,134…の傾斜面140で屈折し、ライフルスコープの光軸Zから離間する方向に偏向されて、光学部材の対向面31bから出射する。このとき、光学部材の対向面31bから出射する偏向光の出射角度は、接眼レンズ4を透過し得る出射角度よりも大きいため接眼レンズ4から観察者の眼5に入射しない。そのため、接眼レンズ4側から標的となる観察対象を目視する観察者には、凹部34a,34bが設けられた部分からの光が見えず、直線パターン32a,32bが暗黒の線として視認されて、レチクルパターン32の像が明瞭に観察される。 Also in the rifle scope RS provided with the reticle 30A 2 having such a configuration, light incident on the pattern forming surface 31a from the observation target side is refracted by the inclined surface 140 of the V grooves 134, 134, 134. The light is deflected in a direction away from the optical axis Z and emitted from the facing surface 31b of the optical member. At this time, the outgoing angle of the deflected light emitted from the facing surface 31 b of the optical member is larger than the outgoing angle that can be transmitted through the eyepiece lens 4, so that it does not enter the eye 5 of the observer from the eyepiece lens 4. Therefore, an observer viewing the target observation target from the eyepiece 4 side does not see the light from the portions where the recesses 34a and 34b are provided, and the linear patterns 32a and 32b are visually recognized as dark lines. The image of the reticle pattern 32 is clearly observed.

レチクル30A2においては、1本のパターン線が、線幅に応じた複数のV溝134により構成される。このため、凹部を単一のV溝で構成した場合と比較して、凹部の深さを大幅に抑制することができ、これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、弾丸発射時の衝撃や外力に対する抗力を向上させたレチクルを提供することができる。さらに、パターン線32a,32bを線幅に比例した本数のV溝134で構成すれば(単位線幅当たりのV溝の形成密度を同一とすれば)、線幅によらずコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。 In reticle 30A 2 , one pattern line is constituted by a plurality of V grooves 134 corresponding to the line width. For this reason, compared with the case where the concave portion is constituted by a single V-groove, the depth of the concave portion can be greatly suppressed, thereby reducing the thickness of the reticle and reducing the impact at the time of bullet firing. A reticle with improved resistance to external force can be provided. Further, if the pattern lines 32a and 32b are constituted by the number of V grooves 134 proportional to the line width (if the formation density of the V grooves per unit line width is the same), a reticle having a uniform contrast regardless of the line width. A pattern can be obtained.

本実施形態に含まれる第3構成形態のレチクル30A3では、パターン線32a,32bは、光学部材のパターン形成面31aに設けられた凹凸部35a,35b(凹凸部35bは不図示)により構成される。図3(a)及び図6(a)に対応するパターン線32aの模式的な断面図を図7に示す。凹凸部35aは、パターン形成面31aから観察対象側に突出する凸条133と、パターン形成面31aに開くV溝134とが交互に連結された複合構成になっている。すなわち、凹凸部35a(及び35b)は、直線パターンの線幅よりも幅が狭い凸条133とV溝134が線幅方向に交互に設けられて構成される。このようなレチクル30A3においては、1本のパターン線が、線幅に応じた複数の凸条133とV溝134の連結構造により構成される。 In the reticle 30A 3 of the third structure forms contained in this embodiment, the pattern lines 32a, 32b are concave-convex portion 35a provided on the pattern forming surface 31a of the optical member, 35b (concave-convex portion 35b is not shown) is composed of The FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of the pattern line 32a corresponding to FIGS. 3 (a) and 6 (a). The concavo-convex portion 35a has a composite structure in which ridges 133 projecting from the pattern formation surface 31a toward the observation target and V-grooves 134 opened to the pattern formation surface 31a are alternately connected. In other words, the concavo-convex portion 35a (and 35b) is configured by alternately providing ridges 133 and V-grooves 134 that are narrower than the line width of the linear pattern in the line width direction. In such a reticle 30A 3 , one pattern line is constituted by a connecting structure of a plurality of ridges 133 and V grooves 134 corresponding to the line width.

このため、凹凸部を単一の凸条またはV溝からなる構成、または一組の凸条及びV溝からなる構成とした場合と比較して、パターン形成面31aから突出する凸条部の高さを大幅に抑制でき、かつパターン形成面31aから陥没するV溝部の深さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄く構成できる。また、凸条の損傷を抑制して保管時や組み付け時等の取り扱いを容易とし、弾丸発射時の衝撃や外力に対する抗力が高いレチクルを提供することができる。さらに、直線パターン32a,32bを線幅に比例した本数の凸条133とV溝134で構成すれば、線幅によらずコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。   For this reason, compared with the case where an uneven | corrugated | grooved part is set as the structure which consists of a single protruding item | line or V groove, or the structure which consists of a set of protruding item | line and V groove, the height of the protruding item | line part which protrudes from the pattern formation surface 31a The depth of the V-groove part that is depressed from the pattern forming surface 31a can be greatly suppressed. Thereby, the thickness of the reticle can be reduced. In addition, it is possible to provide a reticle having a high resistance to impact and external force at the time of bullet firing by suppressing damage to the ridges and facilitating handling during storage or assembly. Furthermore, if the linear patterns 32a and 32b are composed of the number of ridges 133 and V grooves 134 proportional to the line width, a reticle pattern having a uniform contrast can be obtained regardless of the line width.

ライフルスコープRSの光軸Zに対する凸条133の傾斜面(屈折面)140の傾斜角度と、光軸Zに対するV溝134の傾斜面140の傾斜角度は、既述した構成形態と同様に設定され、レチクル30A3から出射する偏向光が、接眼レンズ4を透過して観察者の眼5に入射しないように設定される。凹凸部35a,35bを構成する凸条133及びV溝134の本数は、パターン線の線幅に応じて設定することができ、細い直線パターン32aを形成する凹凸部35aの凸条133及びV溝134の本数は少なく、太い直線パターン32bを形成する凹凸部35bの凸条133及びV溝134の本数は多く設定される。 The inclination angle of the inclined surface (refractive surface) 140 of the ridge 133 with respect to the optical axis Z of the rifle scope RS and the inclination angle of the inclined surface 140 of the V groove 134 with respect to the optical axis Z are set in the same manner as the configuration described above. , polarized light emitted from the reticle 30A 3 is set so as not to enter the eye 5 of the viewer through the eyepiece 4. The number of ridges 133 and V grooves 134 constituting the concavo-convex portions 35a and 35b can be set according to the line width of the pattern line, and the ridges 133 and V grooves of the concavo-convex portion 35a forming the thin linear pattern 32a. The number of 134 is small, and the number of ridges 133 and V grooves 134 of the concavo-convex portion 35b forming the thick linear pattern 32b is set large.

このように構成さるレチクル30A3では、観察対象側(図7における左側)からパターン形成面31aに入射した光が、凸条133の傾斜面140及びV溝134の傾斜面140で屈折し、いずれもライフルスコープの光軸Zから離間する方向に偏向されてレチクル30A3から出射する。レチクル30A3から出射する偏向光の出射角度は、接眼レンズ4を透過し得る出射角度よりも大きいため接眼レンズ4から観察者の眼5に入射せず、レチクル30A3や接眼レンズ4等を保持する鏡筒の内周面などに吸収される。そのため、観察者には凹凸部35a,35bが設けられた部分からの光が見えず、直線パターン32a,32bが暗黒の線として視認され、レチクルパターン32の像が明瞭に観察される。 In such a configuration monkey reticle 30A 3, light incident on the pattern forming surface 31a from (the left side in FIG. 7) observation object side, and refracted at the inclined surface 140 of the inclined surfaces 140 and the V-groove 134 of the projections 133, any It is deflected in a direction away from the optical axis Z of the riflescope is emitted from the reticle 30A 3. Emission angle of the deflected light emitted from the reticle 30A 3 are not incident on the eye 5 of the observer eyepiece 4 larger than the output angle that can penetrate the ocular lens 4, holds a reticle 30A 3 and the ocular lens 4, etc. Absorbed by the inner peripheral surface of the lens barrel. Therefore, the observer cannot see the light from the portions where the concave and convex portions 35a and 35b are provided, the straight patterns 32a and 32b are visually recognized as dark lines, and the image of the reticle pattern 32 is clearly observed.

以上説明したレチクル30A(30A1,30A2,30A3)においては、レチクルパターン32が、光学部材のパターン形成面31aに設けられた凸部及び/または凹部により構成される。凸部33a,33bはレチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条133により構成され、凹部34a,34bはレチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数のV溝134により構成される。凹凸部35a,35bは、レチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条133及びV溝134の複合体により構成される。 In the reticle 30A (30A 1 , 30A 2 , 30A 3 ) described above, the reticle pattern 32 is composed of convex portions and / or concave portions provided on the pattern forming surface 31a of the optical member. The convex portions 33 a and 33 b are constituted by a plurality of convex stripes 133 extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the reticle pattern 32, and the concave portions 34 a and 34 b are arranged in the width direction of the lines constituting the reticle pattern 32. It is constituted by a plurality of V grooves 134 extending in parallel in the length direction. The concavo-convex portions 35 a and 35 b are constituted by a composite body of a plurality of ridges 133 and V grooves 134 that extend in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the reticle pattern 32.

このため、凸部を複数の凸条で構成したレチクル30A1においては、パターン形成面31aから突出する凸部の高さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、凸部の損傷を抑制して取り扱いが容易なレチクルを提供することができる。凹部を複数のV溝で構成したレチクル30A2においては、凹部の深さを大幅に抑制することができ、これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、弾丸発射時の衝撃や外力に対する抗力を向上させたレチクルを提供することができる。凹凸部を凸条とV溝の複合構造としたレチクル30A3においては、パターン形成面31aから突出する凸条部の高さを大幅に抑制でき、パターン形成面31aから陥没するV溝部の深さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、凸条の損傷を抑制して保管時や組み付け時等の取り扱いを容易とし、弾丸発射時の衝撃や外力に対する抗力が高いレチクルを提供することができる。 Therefore, in the reticle 30A 1 which constitutes the convex portion at a plurality of convex strip, it is possible to greatly suppress the height of the protrusion protruding from the pattern forming surface 31a. Thereby, the thickness of the reticle can be reduced, and a reticle that can be easily handled while suppressing damage to the convex portion can be provided. In the reticle 30A 2 in which the concave portion is composed of a plurality of V-grooves, the depth of the concave portion can be greatly suppressed, and thereby the thickness of the reticle can be reduced, and the resistance against impact and external force at the time of bullet firing can be reduced. An improved reticle can be provided. In the reticle 30A 3 in which the concave-convex portion and the composite structure of ridges and V-shaped groove, can significantly suppress the height of the convex portion protruding from the pattern forming surface 31a, the depth of the V groove of depression from the pattern forming surface 31a Can be greatly suppressed. As a result, the thickness of the reticle can be reduced, and damage to the ridges can be suppressed to facilitate handling during storage and assembly, and a reticle having high resistance to impact and external force during bullet firing can be provided. .

さらに、本実施の形態に係るレチクル30Aでは、パターン線を構成する凸条やV溝等の本数を適宜変更することにより、所望線幅のパターン線を容易に形成できる。そのため、レチクルパターンの基本構成は同一であるが、レチクルパターンを構成する各パターン線の線幅や組み合わせが異なる複数種類のレチクルを、光学部材31の板厚等を変更することなく容易に構成することができる。さらに、凸部や凹部等を単一の凸条やV溝等で構成した場合と比較して、パターンの明暗ムラを抑制してコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。なお、傾斜面140を平坦な面とした構成を例示したが、傾斜面は曲面や放物面等であっても良い。   Furthermore, in reticle 30A according to the present embodiment, a pattern line having a desired line width can be easily formed by appropriately changing the number of ridges, V-grooves and the like constituting the pattern line. Therefore, although the basic configuration of the reticle pattern is the same, a plurality of types of reticles having different line widths and combinations of the pattern lines constituting the reticle pattern can be easily configured without changing the plate thickness or the like of the optical member 31. be able to. Furthermore, as compared with the case where the convex portions, the concave portions, etc. are constituted by a single convex line, V-groove, etc., a reticle pattern having a uniform contrast can be obtained while suppressing unevenness of the pattern. In addition, although the structure which made the inclined surface 140 the flat surface was illustrated, the inclined surface may be a curved surface, a paraboloid, etc.

次に、以上のようなレチクル30Aにおいて、傾斜面140で偏向された偏向光が観察者の眼5に入射しないように設定される傾斜面(屈折面)140の傾斜角度について、レチクル30A1を例として説明する。 Then, the reticle 30A as described above, the inclination angle of the inclined surface (refracting surface) 140 that deflected deflected light is set so as not to enter the eye 5 of the viewer an inclined surface 140, the reticle 30A 1 This will be described as an example.

図8に示すように、レチクル30A1における凸条133の頂角をα、ライフルスコープRSの光軸Zに対する傾斜面140の傾斜角度をα/2とする。このとき傾斜面140に入射した光は、傾斜角度α/2が大きいほど光軸Zに近く、傾斜角度α/2が小さいほど光軸Zから離れる方向に屈折する。そのため、傾斜面140に入射して屈折した光が接眼レンズ4に入射しないようにするためには、基本的には、傾斜面140の傾斜角度α/2は所定角度以下とすることが好ましい。このような見地での上記所定角度(便宜的に「第1所定角度」という。)α1/2は、主として、対物レンズ1の集光角θとレチクル30A1の基材(光学部材31)の屈折率nと接眼レンズ4の開口(光束取り込み角)Vとに基づいて求めることができる。 As shown in FIG. 8, the apex angle of the ridge 133 in the reticle 30A 1 is α, and the inclination angle of the inclined surface 140 with respect to the optical axis Z of the rifle scope RS is α / 2. At this time, the light incident on the inclined surface 140 is refracted in a direction closer to the optical axis Z as the inclination angle α / 2 is larger and away from the optical axis Z as the inclination angle α / 2 is smaller. Therefore, in order to prevent the light refracted by being incident on the inclined surface 140 from being incident on the eyepiece 4, basically, the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is preferably set to a predetermined angle or less. The above-mentioned predetermined angle (referred to as “first predetermined angle” for convenience) α 1/2 in such a viewpoint is mainly the condensing angle θ of the objective lens 1 and the base material (optical member 31) of the reticle 30A 1. Can be obtained based on the refractive index n and the opening V of the eyepiece 4 (light flux taking angle) V.

ライフルスコープの場合、対物レンズ1の集光角θは10°〜30°程度、射出成形に適したレチクルの基材の屈折率nは1.46〜1.53程度、接眼レンズ4の光束取り込み角Vは18°〜26°程度である。そのため、上記第1所定角度α1/2は、接眼レンズ4の光束取り込み角Vに応じてほぼ定まる。接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°の光学系を用いた場合に第1所定角度α1/2は54°〜58°、光束取り込み角Vが26°の光学系を用いた場合に第1所定角度α1/2は42°〜47°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 In the case of a rifle scope, the condensing angle θ of the objective lens 1 is about 10 ° to 30 °, the refractive index n of the reticle base material suitable for injection molding is about 1.46 to 1.53, and the eyepiece 4 captures the light flux. The angle V is about 18 ° to 26 °. Therefore, the first predetermined angle alpha 1/2 is substantially determined in accordance with the light beam acceptance angle V of the eyepiece 4. The first predetermined angle α 1/2 is 54 ° to 58 ° when an optical system having a light flux capturing angle V of the eyepiece 4 of 18 ° is used, and the first predetermined angle α 1/2 is used when an optical system having a light flux capturing angle V of 26 ° is used. 1 a predetermined angle alpha 1/2 becomes 42 ° to 47 °. This angle is the same when the ridge 133 is the V groove 134.

さらに、レチクル基材の材料としてガラスモールド加工や、注型成形などに適した材料においてはレチクル基材の屈折率nは1.43〜1.8程度である。このような基材を用いた場合、上記第1所定角度α1/2は、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°の光学系で52°〜70°、光束取り込み角Vが26°の光学系で39°〜62°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 Furthermore, the refractive index n of the reticle base material is about 1.43 to 1.8 in a material suitable for glass mold processing or cast molding as the material of the reticle base material. When using such a substrate, the first predetermined angle alpha 1/2 is, 52 ° to 70 ° with the light beam acceptance angle V of the eyepiece 4 is 18 ° of the optical system, the light beam acceptance angle V is 26 ° It is 39 ° to 62 ° in the optical system. This angle is the same when the ridge 133 is the V groove 134.

一方、傾斜面140の傾斜角度α/2が小さくなると、傾斜面140に入射して屈折した光の光軸Zに対する傾斜角が大きくなり、一方の傾斜面(傾斜角度がα/2の傾斜面)140に入射して屈折した光が、他方の傾斜面(傾斜角度が−α/2の傾斜面)140に入射するようになる。このような光は他方の傾斜面への入射角が大きいために他方の傾斜面で全反射され、いわゆる迷光となって接眼レンズ4に入射し得る。そのため、迷光の発生を抑制するためには、傾斜面140の傾斜角度α/2は所定角度以上とすることが好ましい。このような見地での上記所定角度(便宜的に「第2所定角度」という。)α2/2は、主として、対物レンズ1の集光角θとレチクル30A1の基材の屈折率nと接眼レンズ4の光束取り込み角Vとに基づいて求めることができる。 On the other hand, when the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is reduced, the inclination angle with respect to the optical axis Z of the light incident on the inclined surface 140 and refracted is increased, and one inclined surface (an inclined surface having an inclination angle of α / 2) is obtained. ) The light refracted upon entering 140 enters the other inclined surface (an inclined surface having an inclination angle of −α / 2) 140. Since such light has a large incident angle to the other inclined surface, it is totally reflected by the other inclined surface and can enter the eyepiece 4 as so-called stray light. Therefore, in order to suppress the generation of stray light, it is preferable that the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is a predetermined angle or more. Such (for convenience referred to as "second predetermined angle".) The predetermined angle in terms alpha 2/2 mainly includes a refractive index n of base material of the converging angle θ and the reticle 30A 1 of the objective lens 1 It can be determined based on the light flux capture angle V of the eyepiece 4.

射出成型に適した基材においては、対物レンズ1として集光角θ=10°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は21°〜22°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は23°〜24°となる。また、対物レンズ1として集光角θが30°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は23°〜24°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は25°〜26°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 In the substrate suitable injection molding, when using an optical system of converging angle theta = 10 ° as the objective lens 1, a light beam acceptance angle V of the eyepiece 4 is 18 °, the second predetermined angle alpha 2/2 the 21 ° through 22 °, the light beam acceptance angle V is 26 °, the second predetermined angle alpha 2/2 becomes 23 ° to 24 °. Also, when the objective lens 1 converging angle θ is using an optical system of 30 °, a light beam acceptance angle V of the eyepiece 4 is 18 °, the second predetermined angle alpha 2/2 is 23 ° to 24 °, the light beam in acceptance angle V is 26 °, the second predetermined angle alpha 2/2 becomes 25 ° ~ 26 °. This angle is the same when the ridge 133 is the V groove 134.

さらに、ガラスモールド加工や、注型成形などに適した基材においては、対物レンズ1として集光角θ=10°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は21°〜24°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は23°〜25°となる。また、対物レンズ1として集光角θが30°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は23°〜25°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は25°〜27°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 Further, in a base material suitable for glass mold processing, cast molding, and the like, when an optical system having a converging angle θ = 10 ° is used as the objective lens 1, the light flux capturing angle V of the eyepiece 4 is 18 °. the second predetermined angle alpha 2/2 is 21 ° to 24 °, the light beam acceptance angle V is 26 °, the second predetermined angle alpha 2/2 becomes 23 ° to 25 °. Also, when the objective lens 1 converging angle θ is using an optical system of 30 °, a light beam acceptance angle V of the eyepiece 4 is 18 °, the second predetermined angle alpha 2/2 is 23 ° to 25 °, the light beam in acceptance angle V is 26 °, the second predetermined angle alpha 2/2 becomes 25 ° ~ 27 °. This angle is the same when the ridge 133 is the V groove 134.

以上から、凸条133(V溝134)の傾斜面140の傾斜角度α/2は、第1所定角度α1/2以下であることが好ましく、さらに第2所定角度α2/2以上である角度範囲内(α2/2≦α/2≦α1/2)で設定することが好ましい。具体的には、傾斜面140の傾斜角度α/2を21°≦α/2≦70°に設定することで、ガラスモールド加工や注型成形に好適な比較的高屈折率基材のレチクルを用いたライフルスコープでパターン線32a,32bを明瞭に視認することが可能になる。また、傾斜面140の傾斜角度α/2を21°≦α/2≦58°に設定することで、射出成形に好適な基材のレチクルを用いたライフルスコープでパターン線32a,32bを明瞭に視認することが可能になる。 From the above, the inclination angle alpha / 2 of the inclined surface 140 of the ridge 133 (V grooves 134), it is preferably further second predetermined angle alpha 2/2 or more first the predetermined angle alpha 1/2 or less it is preferably set within an angle range (α 2/2 ≦ α / 2 ≦ α 1/2). Specifically, by setting the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 to 21 ° ≦ α / 2 ≦ 70 °, a reticle having a relatively high refractive index base material suitable for glass mold processing and cast molding can be obtained. The pattern lines 32a and 32b can be clearly visually recognized with the used rifle scope. In addition, by setting the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 to 21 ° ≦ α / 2 ≦ 58 °, the pattern lines 32a and 32b can be clearly defined with a rifle scope using a substrate reticle suitable for injection molding. It becomes possible to visually recognize.

また、傾斜面140の傾斜角度α/2を26°≦α/2≦42°に設定すれば、射出成形に好適な基材のレチクル及び、ガラスモールド加工や注型成形に好適なほとんどの基材のレチクルを用いたライフルスコープでコントラストが高いパターン線32a,32bを明瞭に視認することができる。さらに、傾斜面140の傾斜角度α/2を27°≦α/2≦39°に設定すれば、ガラスモールド加工や、樹脂材料を用いた射出成形、注型成形を含め、型を用いて成形加工により形成されるレチクルを用いたライフルスコープのほぼ全てについてコントラストが高いパターン線32a,32bを明瞭に視認することができる。   In addition, if the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is set to 26 ° ≦ α / 2 ≦ 42 °, the substrate reticle suitable for injection molding and most substrates suitable for glass molding and cast molding are used. The pattern lines 32a and 32b having high contrast can be clearly recognized with a rifle scope using a reticle of material. Furthermore, if the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is set to 27 ° ≦ α / 2 ≦ 39 °, molding is performed using a mold, including glass mold processing, injection molding using a resin material, and cast molding. The pattern lines 32a and 32b having high contrast can be clearly visually recognized for almost all rifle scopes using a reticle formed by processing.

[第2実施形態]
次に、第2実施形態のレチクル30Bについて説明する。第2実施形態のレチクル30Bは、パターン線32a,32bが暗黒ではなく、観察対象側からの光を一部透過して観察者がパターン線を透して観察対象を視認可能に構成される。第2実施形態のレチクル30Bは、凸部33a,33bを構成する構造体の凸条133、凹部34a,34bを構成する構造体のV溝134、凹凸部35a,35bを構成する構造体の凸条133及びV溝134の、断面形状の一部のみが異なり、他は既に説明した第1実施形態のレチクル30A(30A1,30A2,30A3)と同様である。そこで、以下では同様の構成要素に同一番号を付して重複説明を省略し、相違する部分を中心に説明する。
[Second Embodiment]
Next, the reticle 30B of the second embodiment will be described. The reticle 30B of the second embodiment is configured such that the pattern lines 32a and 32b are not dark, but part of the light from the observation target side is transmitted so that the observer can see the observation target through the pattern lines. The reticle 30B according to the second embodiment includes a convex ridge 133 of the structure constituting the convex portions 33a and 33b, a V groove 134 of the structural body constituting the concave portions 34a and 34b, and a convex of the structure constituting the concave and convex portions 35a and 35b. Only the cross sections of the stripe 133 and the V groove 134 are different, and the others are the same as the reticle 30A (30A 1 , 30A 2 , 30A 3 ) of the first embodiment already described. Therefore, in the following description, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted, and different portions will be mainly described.

図9に、パターン線32aに垂直な面で切断した模式的な断面図を示しており、この図を参照して第1構成形態のレチクル30B1について説明する。レチクル30B1は、凸条133を構成する一対の傾斜面140,140の間に、観察対象側から入射した光を観察者が視認し得るように透過する透過面145を設けて構成される。透過面145は、凸条133の頂部を平坦に削り落としたような態様であり、左右の傾斜面140、140の間を結んで透過面145がパターン形成面31aと略平行に形成される。 FIG. 9 shows a schematic cross-sectional view cut along a plane perpendicular to the pattern line 32a. With reference to this figure, the reticle 30B 1 of the first configuration will be described. The reticle 30B 1 is configured by providing a transmission surface 145 that transmits light incident from the observation target side between a pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 so that an observer can visually recognize the light. The transmission surface 145 is an aspect in which the top of the ridge 133 is scraped flat, and the transmission surface 145 is formed substantially parallel to the pattern formation surface 31a by connecting the left and right inclined surfaces 140, 140.

このような構成のレチクル30B1では、観察対象側からレチクル30B1に入射した光のうち傾斜面140に入射した光は、傾斜面140で屈折して光軸Zから離間する方向に偏向され光学部材の対向面31bから出射する。このように偏向された光は光路外に導出されるため観察者の目には見えず暗黒の線像として入射する。一方、観察対象側からレチクル30B1に入射した光のうち透過面145に入射した光は、透過面145でほとんど屈折されることなくライフルスコープRSの光軸Zに沿って対向面31bから出射する。対向面31bから出射した光は接眼レンズ4を通り、観察者の目5に観察対象の部分的な像が入射する。 In the reticle 30B 1 having such a configuration, the light incident on the inclined surface 140 out of the light incident on the reticle 30B 1 from the observation target side is deflected in a direction away from the optical axis Z by being refracted by the inclined surface 140 and optically. The light exits from the opposing surface 31b of the member. The light deflected in this way is led out of the optical path, so that it is not visible to the observer and enters as a dark line image. On the other hand, of the light incident on the reticle 30B 1 from the observation target side, the light incident on the transmission surface 145 is emitted from the facing surface 31b along the optical axis Z of the rifle scope RS with almost no refraction at the transmission surface 145. . The light emitted from the facing surface 31 b passes through the eyepiece lens 4 and a partial image of the observation target enters the observer's eye 5.

隣接する他の凸条133も同様であり、観察対象側から傾斜面140,140,140…に入射した光は光路外に偏向される。そのため観察者の目には複数の暗黒の線像が入射し、観察者にはこれらの複数の線像が一体になってパターン線32a,32bの像として認識される。また、観察対象側から透過面145,145,145…に入射した光は光軸Zに沿って透過する。そのため観察者の目には複数の観察対象の部分的な像が入射し、観察者にはこれらの部分的な像が一体になって観察対象の像として認識される。   The same applies to other adjacent ridges 133, and light incident on the inclined surfaces 140, 140, 140... From the observation target side is deflected out of the optical path. Therefore, a plurality of dark line images are incident on the observer's eyes, and the observer recognizes the plurality of line images together as an image of the pattern lines 32a and 32b. Further, light incident on the transmission surfaces 145, 145, 145... From the observation target side is transmitted along the optical axis Z. Therefore, partial images of a plurality of observation objects are incident on the observer's eyes, and these partial images are united and recognized as an image of the observation object by the observer.

図10は、パターン線32bと観察対象Tとが重なった状況で、これらの像が観察者にどのように認識されるかを説明するための説明図であり、図10(a)は第1実施形態のレチクル30Aの場合、図10(b)は第2実施形態のレチクル30Bの場合である。図10(a)に示すように、第1実施形態のレチクル30Aでは、パターン線32bが暗黒の線になり、観察者にはこのパターン線32bと重なった部分の観察対象Tの像は見えない。一方、図10(b)に示すように、第2実施形態のレチクル30Bでは、パターン線32bの部分は複数の暗黒の線像と観察対象Tの部分的な透過像とが合成された状態になる。そのため、観察者にはパターン線32bの像と観察対象Tの像の両方が視認され、薄暗いパターン線32bを透して観察対象Tが観察される。これは、透明なガラス板に、光を透過しない遮蔽部と光を透過するスリット部とを交互に密接して形成したスリット板を通して観察対象を見たときに似た状況といえる。   FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining how these images are recognized by the observer in a situation where the pattern line 32b and the observation target T overlap each other, and FIG. In the case of the reticle 30A of the embodiment, FIG. 10B shows the case of the reticle 30B of the second embodiment. As shown in FIG. 10A, in the reticle 30A of the first embodiment, the pattern line 32b is a dark line, and the observer cannot see the image of the observation target T in the portion overlapping the pattern line 32b. . On the other hand, as shown in FIG. 10B, in the reticle 30B of the second embodiment, the pattern line 32b is in a state where a plurality of dark line images and partial transmission images of the observation target T are combined. Become. Therefore, the observer sees both the image of the pattern line 32b and the image of the observation target T, and observes the observation target T through the dim pattern line 32b. This can be said to be a situation similar to that when the object to be observed is viewed through a slit plate in which a transparent glass plate is formed with shielding portions that do not transmit light and slit portions that transmit light alternately and closely.

図9には、凸条133を構成する一対の傾斜面140,140の間(凸条の頂部)に透過面145を設けた構成を例示したが、隣接する凸条133,133の対向する二つの傾斜面140,140の間(隣接する凸条間の底部)に透過面145を設けてもよく、凸条の頂部と凸条間の底部の両方に設けてもよい。   FIG. 9 illustrates the configuration in which the transmission surface 145 is provided between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 (the top of the ridge), but two adjacent ridges 133 and 133 are opposed to each other. The transmission surface 145 may be provided between the two inclined surfaces 140 and 140 (the bottom portion between adjacent ridges), or may be provided at both the top portion of the ridge and the bottom portion between the ridges.

図11に、第2構成形態のレチクル30B2をパターン線32aに垂直な面で切断した断面図を示す。レチクル30B2は、V溝134を構成する一対の傾斜面140,140の間(V溝の底部)に、観察対象側から入射した光を観察者が視認し得るように透過する透過面145を設けて構成される。透過面145は、V溝134の底部を平坦に埋めたような態様であり、左右の傾斜面140,140の間を結んで透過面145がパターン形成面31aと略平行に形成される。 Figure 11 shows a cross-sectional view taken along a plane perpendicular to the reticle 30B 2 pattern line 32a of the second configuration mode. The reticle 30B 2 has a transmission surface 145 that transmits light incident from the observation target side between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the V groove 134 (bottom portion of the V groove) so that the observer can visually recognize the light. Provided and configured. The transmission surface 145 is a mode in which the bottom of the V-groove 134 is filled flat, and the transmission surface 145 is formed substantially parallel to the pattern forming surface 31a by connecting the left and right inclined surfaces 140, 140.

このような構成のレチクル30B2においても、観察対象側から入射した光の挙動は第1構成形態のレチクル30B1と同様である。すなわち、観察対象側からレチクル30B2に入射した光のうち傾斜面140に入射した光は、傾斜面140で屈折してライフルスコープRSの光軸Zから離間する方向に偏向され光路外に出射するため、観察者の目には暗黒の線像として入射する。また、観察対象側からレチクル30B2に入射した光のうち透過面145に入射した光は、透過面145でほとんど屈折されることなく光軸Zに沿って進み観察者の目に観察対象の部分的な像が入射する。 Also in reticle 30B 2 having such a configuration, the behavior of light incident from the observation target side is the same as that of reticle 30B 1 in the first configuration form. That is, light incident on the inclined surface 140 of the light incident from the observation target side reticle 30B 2 is deflected in a direction away refracted by the inclined surface 140 from the optical axis Z of the riflescope RS emitted to outside the optical path Therefore, it enters the eyes of the observer as a dark line image. Of the light incident on the reticle 30B 2 from the observation target side, the light incident on the transmission surface 145 travels along the optical axis Z with almost no refraction at the transmission surface 145, and is the portion of the observation target in the eyes of the observer. Typical image is incident.

隣接する他のV溝134も同様であり、観察対象側から傾斜面140,140,140…に入射した光は光路外に偏向され、観察者の目には複数の暗黒の線像が入射する。観察者にはこれらの複数の線像が一体になってパターン線32a,32bの像として認識される。観察対象側から透過面145,145,145…に入射した光は光軸に沿って透過し、観察者の目には複数の観察対象の部分的な像が入射する。観察者にはこれらの部分的な像が一体になって観察対象の像として認識される。   The same applies to other adjacent V-grooves 134. Light incident on the inclined surfaces 140, 140, 140... From the observation target side is deflected out of the optical path, and a plurality of dark line images are incident on the eyes of the observer. . The observer recognizes these multiple line images together as an image of the pattern lines 32a and 32b. The light incident on the transmission surfaces 145, 145, 145... From the observation target side is transmitted along the optical axis, and partial images of the plurality of observation targets are incident on the observer's eyes. The observer recognizes these partial images together as an image to be observed.

そのため、例えばパターン線32bの部分は複数の暗黒の線像と観察対象Tの部分的な透過像とが合成された状態になり、図10(b)に示したように、観察者には薄暗いパターン線32bを透して観察対象Tが観察される。   Therefore, for example, the portion of the pattern line 32b is in a state in which a plurality of dark line images and a partial transmission image of the observation target T are combined, and as shown in FIG. The observation target T is observed through the pattern line 32b.

なお、図11には、V溝134を構成する一対の傾斜面140,140の間(V溝の底部)に透過面145を設けた構成を例示したが、隣接するV溝134,134の背中合わせの二つの傾斜面140,140の間(隣接するV溝間の頂部)に透過面145を設けてもよく、V溝の底部とV溝間の頂部の両方に設けてもよい。   11 illustrates the configuration in which the transmission surface 145 is provided between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the V-groove 134 (the bottom of the V-groove), but the back-to-back of the adjacent V-grooves 134 and 134 is illustrated. The transmission surface 145 may be provided between the two inclined surfaces 140 and 140 (the top between adjacent V grooves), or may be provided at both the bottom of the V groove and the top between the V grooves.

第3構成形態のレチクル30B3は、複数の凸条133及びV溝134からなるが凹凸部35における、凸条133の頂部及び/またはV溝134の底部に平坦な透過面145を設けて構成される。図12には、凸条133の頂部とV溝134の底部の両方に透過面145を形成した構成の凹凸部35aの断面図を例示する。これは、上述した第1構成形態のレチクル30B1と第2構成形態のレチクル30B2とを一体化させた構造であり、観察対象側から入射した光の挙動は、既述した第1,第2構成形態のレチクル30B1,30B2と同様である。 Reticle 30B 3 in the third configuration form includes a plurality of ridges 133 and V-grooves 134, and is configured by providing flat transmission surface 145 at the top of ridge 133 and / or the bottom of V-groove 134 in concavo-convex portion 35. Is done. FIG. 12 illustrates a cross-sectional view of the concavo-convex portion 35 a having a configuration in which a transmission surface 145 is formed on both the top of the ridge 133 and the bottom of the V-groove 134. This is a structure in which the reticle 30B 1 of the first configuration form described above and the reticle 30B 2 of the second configuration form are integrated, and the behavior of light incident from the observation target side is the first and first described above. This is the same as the two-configuration reticles 30B 1 and 30B 2 .

すなわち、観察対象側からレチクル30B3に入射した光のうち傾斜面140に入射した光は、ライフルスコープRSの光軸Zから離間する方向に偏向されて光路外に出射し観察者の目には暗黒の線像として入射する。観察者にはこれらの複数の線像が一体になってパターン線32a,32bの像として認識される。観察対象側からレチクル30B3に入射した光のうち透過面145に入射した光は、光軸Zに沿って進み観察者の目に観察対象の部分的な像が入射する。観察者にはこれらの部分的な像が一体になって観察対象の像として認識される。そのため、パターン線32bの部分は複数の暗黒の線像と観察対象Tの部分的な透過像とが合成された状態になり、図10(b)に示したように、観察者には薄暗いパターン線32bを透して観察対象Tが観察される。 That is, the light incident on the inclined surface 140 out of the light incident on the reticle 30B 3 from the observation target side is deflected in a direction away from the optical axis Z of the rifle scope RS, and is emitted out of the optical path. Incident as a dark line image. The observer recognizes these multiple line images together as an image of the pattern lines 32a and 32b. Of the light incident on the reticle 30B 3 from the observation target side, the light incident on the transmission surface 145 advances along the optical axis Z, and a partial image of the observation target enters the observer's eye. The observer recognizes these partial images together as an image to be observed. Therefore, the portion of the pattern line 32b is in a state in which a plurality of dark line images and a partial transmission image of the observation target T are combined, and as shown in FIG. The observation target T is observed through the line 32b.

なお、図12には、凸条133を構成する一対の傾斜面140,140の間(凸条の頂部)、及びV溝134を構成する一対の傾斜面140,140の間(V溝の底部)の両方に透過面145を設けた構成を例示したが、透過面145をいずれか一方(例えば凸条の頂部)にのみ設ける構成としても良い。   In FIG. 12, between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 (the top of the ridge) and between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the V groove 134 (the bottom of the V groove). However, it is also possible to provide the transmission surface 145 only on one of the surfaces (for example, the top of the ridge).

以上説明した第2実施形態のレチクル30B(30B1,30B2,30B3)において、凸部33(33a,33b),凹部34(34a,34b)、凹凸部35(35a,35b)における透過面145の構成比率ζは1%〜99%とすることができる。図9,図11,図12の各図中に示すように、光軸方向に見た傾斜面140の幅をs1,s2とし、透過面145の幅をt1,t2とする。このとき、凸部33における透過面145の構成比率ζはζ=t1/(2s1+t1)、凹部34における透過面145の構成比率はζ=t2/(2s2+t2)、凹凸部35にける透過面145の構成比率はζ=(t1+t2)/(2s1+t1+2s2+t2)で求められる。 In the reticle 30B (30B 1 , 30B 2 , 30B 3 ) of the second embodiment described above, the transmission surfaces in the convex portions 33 (33a, 33b), the concave portions 34 (34a, 34b), and the concave and convex portions 35 (35a, 35b). The component ratio ζ of 145 can be 1% to 99%. As shown in FIGS. 9, 11, and 12, the width of the inclined surface 140 viewed in the optical axis direction is s 1 and s 2, and the width of the transmission surface 145 is t 1 and t 2 . At this time, the constituent ratio ζ of the transmitting surface 145 in the convex portion 33 is ζ = t 1 / (2s 1 + t 1 ), the constituent ratio of the transmitting surface 145 in the concave portion 34 is ζ = t 2 / (2s 2 + t 2 ), and unevenness The component ratio of the transmission surface 145 in the portion 35 is obtained by ζ = (t 1 + t 2 ) / (2s 1 + t 1 + 2s 2 + t 2 ).

透過面145の構成比率ζを変化させたときの、観察対象Tとパターン線32bの見え方を模式的に示した説明図を図13(a),図13(b),図13(c)に示す。各図における透過面145の構成比率ζは、図13(a),図13(b),図13(c)の順にζ1<ζ2<ζ3である。図示するように、透過面145の構成比率ζが小さいほどパターン線32bが明瞭に視認され、透過面145の構成比率ζが大きくなるほど観察対象Tが明瞭に視認される。透過面145がパターン形成面31aと平行な平面である場合、透過面145の構成比率は光軸に沿った光の透過率とほぼ同義になる。 FIG. 13A, FIG. 13B, and FIG. 13C are explanatory diagrams schematically showing how the observation target T and the pattern line 32b appear when the component ratio ζ of the transmission surface 145 is changed. Shown in The composition ratio ζ of the transmission surface 145 in each figure is ζ 123 in the order of FIGS. 13 (a), 13 (b), and 13 (c). As shown in the drawing, the pattern line 32b is more clearly visible as the component ratio ζ of the transmissive surface 145 is smaller, and the observation target T is clearly visible as the component ratio ζ of the transmissive surface 145 is larger. When the transmission surface 145 is a plane parallel to the pattern formation surface 31a, the component ratio of the transmission surface 145 is almost synonymous with the light transmittance along the optical axis.

ここで、人間の目のコントラスト識別能力は1〜2%程度である(ウェーバー・フェヒナーの法則)。すなわち、人間の目は1%程度の輝度差がある2つの物体を識別することができる。そのため、明るい背景の中に1%程度暗いパターン線を識別することができ、暗いパターン線の中に1%程度明るい観察対象を認識することができる。従って、凸部33,凹部34、凹凸部35における透過面145の構成比率ζを1%〜99%とすることにより、観察対象Tとパターン線32a,32bの両方を視認することができる。なお、透過面145の構成比率ζは10%〜40%とすることが好ましい。ζ<10%では観察対象Tの細かい動きを視認しにくくなり、ζ>40ではパターン線32a,32bが薄くなってターゲットに照準を合わせづらくなるからである。また、構成比率ζを25%〜30%とすることがより好ましい。この範囲内で構成比率ζを設定すれば、快晴の昼光下のような明るい状況でも夕方や月光下のような薄暗い状況でも、観察対象T及びパターン線32a,32bを視認でき、容易にターゲットに照準を合わせられるからである。   Here, the contrast discrimination ability of the human eye is about 1-2% (Weber-Fechner's law). That is, the human eye can distinguish between two objects having a luminance difference of about 1%. Therefore, a pattern line that is about 1% dark in the bright background can be identified, and an observation object that is about 1% bright in the dark pattern line can be recognized. Therefore, by setting the composition ratio ζ of the transmission surface 145 in the convex portion 33, the concave portion 34, and the concave and convex portion 35 to 1% to 99%, it is possible to visually recognize both the observation target T and the pattern lines 32a and 32b. Note that the composition ratio ζ of the transmission surface 145 is preferably 10% to 40%. This is because when ζ <10%, it is difficult to visually recognize the detailed movement of the observation target T, and when ζ> 40, the pattern lines 32a and 32b become thin and it is difficult to aim at the target. Moreover, it is more preferable that the composition ratio ζ is 25% to 30%. If the composition ratio ζ is set within this range, the observation target T and the pattern lines 32a and 32b can be visually recognized in a bright situation such as in clear daylight or in a dim situation in the evening or moonlight, and the target can be easily set. This is because it can be aimed at.

また、人間の目は0.1mm程度の分解能を持つといわれる。例えば、暗黒の中に2本の明線が並んで形成された構造を裸眼で見たときに、明線の間隔が0.1mmよりも大きいと人間は2本の線として認識し、間隔が0.1mmよりも小さいと人間は1本の線として認識する。同様に、明るい背景の中に2本の暗線が並んで形成された構造を裸眼で見たときに、暗線の間隔が0.1mmよりも大きいと、人間は2本の線として認識し、暗線の間隔が0.1mmよりも小さいと、人間は1本の線として認識する。そのため、明線と暗線が繰り返されるレチクル30Bにおいては、観察者がレチクルパターン32を目視したときの隣接する透過面145の間隔及び隣接する傾斜面140の間隔が各々0.1mm以下となるように設定することが好ましい。   The human eye is said to have a resolution of about 0.1 mm. For example, when a structure in which two bright lines are formed side by side in darkness is viewed with the naked eye, if the distance between the bright lines is greater than 0.1 mm, the human will recognize the two lines as the distance between them. If it is smaller than 0.1 mm, a human recognizes it as a single line. Similarly, when a structure in which two dark lines are formed side by side in a bright background is viewed with the naked eye, if the distance between the dark lines is larger than 0.1 mm, the human recognizes the two lines as dark lines. If the interval is smaller than 0.1 mm, the human recognizes it as one line. Therefore, in reticle 30B in which bright and dark lines are repeated, the distance between adjacent transmission surfaces 145 and the distance between adjacent inclined surfaces 140 when the observer views reticle pattern 32 are each 0.1 mm or less. It is preferable to set.

ライフルスコープRSにおいては、レチクル30Bの像は接眼レンズ4で拡大され観察者の目に入射する。いま、接眼レンズ4の倍率を5倍と仮定すれば、透過面145の間隔及び傾斜面140の間隔は0.1/5=0.02mm=20μm以下に設定することが好ましい。また、レチクル30Bを第1焦点面に配設し最高倍率32倍のズーム光学系を組んだ場合には、透過面145の間隔及び傾斜面140の間隔を0.1/(32/5)=0.0156mm=15.6μm以下に設定することが好ましい。このように、透過面145の間隔及び傾斜面140の間隔、より端的には凸条133やV溝134の形成ピッチは、レチクル30を用いる光学系の構成に応じて設定することができる。   In the rifle scope RS, the image of the reticle 30B is magnified by the eyepiece 4 and enters the eyes of the observer. Assuming that the magnification of the eyepiece 4 is 5 times, it is preferable to set the interval between the transmission surface 145 and the interval between the inclined surfaces 140 to 0.1 / 5 = 0.02 mm = 20 μm or less. Further, when the reticle 30B is disposed on the first focal plane and a zoom optical system having a maximum magnification of 32 times is assembled, the interval between the transmission surface 145 and the interval between the inclined surfaces 140 is 0.1 / (32/5) = It is preferable to set it to 0.0156 mm = 15.6 μm or less. As described above, the interval between the transmission surface 145 and the interval between the inclined surfaces 140, more specifically, the formation pitch of the ridge 133 and the V-groove 134 can be set according to the configuration of the optical system using the reticle 30.

前述した透過面145の構成比率ζは、パターン線の幅方向の位置、あるいはパターン線の長さ方向の位置によって異なる比率に設定することができる。例えば、図14に示すレチクル30B4のように、パターン線32bについて、線幅方向の外側に位置する凸条133は透過面145の構成比率ζを低く(観察対象からの光の透過率を低く)、内側に位置する凸条133は透過面145の構成比率ζを高く(観察対象からの光の透過率を高く)設定する。具体的には、線幅方向の外縁に位置する1列〜数列の凸条133は外光強度・倍率が変化しても線を黒く保てる構成比率とし、その内側に位置する凸条133は外光強度・倍率が変化してもターゲットを視認できる構成比率に設定する。このような構成によれば、パターン線32bの輪郭が暗線で明確に視認されるためターゲットに容易に照準を合わせることができ、パターン線32bの内側でも観察対象が視認できるため、視野内に捕捉したターゲットが小さい場合でもターゲットを見失うことなく照準を合わせることができる。 The component ratio ζ of the transmission surface 145 described above can be set to a different ratio depending on the position in the width direction of the pattern line or the position in the length direction of the pattern line. For example, as in the reticle 30B 4 shown in FIG. 14, with respect to the pattern line 32b, the protrusion 133 positioned outside in the line width direction has a low component ratio ζ of the transmission surface 145 (low transmittance of light from the observation target). ), And the ridge 133 located on the inner side sets the component ratio ζ of the transmission surface 145 to be high (the light transmittance from the observation target is high). Specifically, the one to several rows of ridges 133 positioned at the outer edge in the line width direction have a composition ratio that can keep the lines black even when the external light intensity and magnification change, and the ridges 133 positioned inside thereof are outside. The composition ratio is set so that the target can be visually recognized even if the light intensity and magnification change. According to such a configuration, since the outline of the pattern line 32b is clearly visible with a dark line, it is possible to easily aim at the target, and the observation target can be visually recognized even inside the pattern line 32b. Even if the target is small, it can be aimed without losing sight of the target.

また、図15に示すレチクル30B5のように、パターン線32bについて、凸条133の透過面145の構成比率ζは、レチクルパターン32の外周側で低く、中心寄りで高く設定する。このような構成によれば、外周側でパターン線32bが明確に視認されるため容易にターゲットに照準を合わせることができ、中心寄りではパターン線32bの内側でもターゲットが視認できるため、視野内に捕捉したターゲットが小さい場合でもターゲットを見失うことなく照準を合わせることができる。以上は線幅が広いパターン線32bに適用した構成を例示したが、線幅が狭いパターン線32aに適用することもできる。 Further, as the reticle 30B 5 shown in FIG. 15, the pattern line 32b, the component ratio ζ transmission surface 145 of the ridge 133, lower on the outer peripheral side of the reticle pattern 32, is set to be higher at the center closer. According to such a configuration, since the pattern line 32b is clearly visible on the outer peripheral side, the target can be easily aimed, and the target can be visually recognized even inside the pattern line 32b near the center. Even if the captured target is small, it can be aimed without losing sight of the target. The above is an example of the configuration applied to the pattern line 32b having a wide line width, but it can also be applied to the pattern line 32a having a narrow line width.

なお、透過面145をパターン形成面31aと略平行な平面とした構成を説明したが、透過面145は曲率半径が所定以上の面であれば、曲面や放物面等であっても良い。具体的な構成例を図16に示す。図16における(a)は凸条133の頂部に曲率半径rの凸状の透過面145を形成した構成例、(b)は凸条133の頂部に曲率半径−rの凹状の透過面145を形成した構成例、(c)はV溝134の底部に曲率半径−rの凹状の透過面145を形成した構成例である。   In addition, although the structure which made the permeation | transmission surface 145 the plane substantially parallel to the pattern formation surface 31a was demonstrated, the permeation | transmission surface 145 may be a curved surface, a paraboloid, etc., if a curvature radius is a surface more than predetermined. A specific configuration example is shown in FIG. 16A is a configuration example in which a convex transmission surface 145 having a radius of curvature r is formed on the top of the ridge 133, and FIG. 16B is a configuration example in which a concave transmission surface 145 having a curvature radius −r is formed on the top of the ridge 133. The formed configuration example (c) is a configuration example in which a concave transmission surface 145 having a curvature radius of −r is formed at the bottom of the V-groove 134.

透過面145が曲面の場合、透過面145に入射した光は透過面の曲率に応じた広がり角で発散するが、入射光の一部は接眼レンズ4を通って観察者の目に入射する。観察者の目に入射する光は透過面145の曲率半径が小さいほど少なくなり、観察対象の部分像も歪んだ形になる。しかし、透過面145の曲率半径が所定以上であれば、観察対象の部分像は大きく歪むことなく観察者が視認できる。上記所定値はライフルスコープの構成や観察対象の明るさ等により相違するが、概ね2μm以上であれば観察対象の像を視認することができる。   When the transmission surface 145 is a curved surface, the light incident on the transmission surface 145 diverges with a spread angle corresponding to the curvature of the transmission surface, but part of the incident light enters the eye of the observer through the eyepiece 4. The light that enters the eyes of the observer decreases as the radius of curvature of the transmission surface 145 decreases, and the partial image to be observed becomes distorted. However, if the radius of curvature of the transmission surface 145 is equal to or greater than a predetermined value, the observer can visually recognize the partial image to be observed without being greatly distorted. The predetermined value varies depending on the configuration of the rifle scope, the brightness of the observation target, and the like, but if it is approximately 2 μm or more, the image of the observation target can be visually recognized.

[第3実施形態]
上記第1実施態様及び第2実施態様では、レチクルパターン32の直線パターン32a,32bを、凸条133またはV溝134という形態の、複数の構造体の集合体によって形成し、各構造体が有する傾斜面140による光の屈折作用によって、入射光を観察者がレチクルパターンを観察する光路の外側に導く構成としている。このような構成によって、各構造体の傾斜面140に入射した光が観察者の眼5に届かず、直線パターン32a,32bが黒線となってレチクルパターン32を認識することができる。すなわち、この構成の基本は、図5に示す通り、レチクルパターンを形成する「構造体」からの光が接眼レンズ4の観察光路外に導かれることにあり、パターンの方向と凸条またはV溝などの構造体の方向とは基本的には関係がない。このため、凸条133またはV溝134の方向は、直線パターンの長手方向に限らず、長手方向に垂直な配置とすることも可能であり、任意の方向とすることも可能である。また、凸条及びV溝は何れも稜線が延びる方向に長くこれと直交する方向には微細であるが、稜線の長さ(パターン線の長さ)は任意である。例えば、短い線状に形成することもできる。
[Third Embodiment]
In the first embodiment and the second embodiment, the linear patterns 32a and 32b of the reticle pattern 32 are formed by an assembly of a plurality of structures in the form of the ridge 133 or the V-groove 134, and each structure has. The light is refracted by the inclined surface 140 to guide the incident light to the outside of the optical path where the observer observes the reticle pattern. With such a configuration, the light incident on the inclined surface 140 of each structure does not reach the observer's eye 5, and the linear patterns 32a and 32b become black lines so that the reticle pattern 32 can be recognized. That is, the basis of this configuration is that light from the “structure” forming the reticle pattern is guided outside the observation optical path of the eyepiece 4 as shown in FIG. There is basically no relation with the direction of the structure. For this reason, the direction of the ridge 133 or the V-groove 134 is not limited to the longitudinal direction of the linear pattern, but may be arranged perpendicular to the longitudinal direction, or may be an arbitrary direction. The ridges and V-grooves are both long in the direction in which the ridgeline extends and fine in the direction perpendicular to the ridgeline, but the length of the ridgeline (the length of the pattern line) is arbitrary. For example, it can be formed in a short line shape.

第3実施形態のレチクル30Cは、凸部及び/または凹部を形成する構造体を錐体状とし、錐体の頂部から底部に延びる傾斜した側面すなわち錐体面を屈折面として用いる構成である。図17に、図2に示したものとパターンが幾分異なるレチクルを例示しており、この図17と図18〜図25の各図を参照しながら本実施形態のレチクル30Cについて説明する。なお、各図には既述した第1実施態様のレチクル30A(30A1〜30A3)及び第2実施態様のレチクル30B(30B1〜30B5)と同様の構成要素に同一番号を付しており、重複説明を省略する。 The reticle 30C of the third embodiment has a configuration in which a structure that forms a convex portion and / or a concave portion is formed in a cone shape, and an inclined side surface extending from the top to the bottom of the cone, that is, a cone surface is used as a refractive surface. FIG. 17 illustrates a reticle having a slightly different pattern from that shown in FIG. 2. The reticle 30C of this embodiment will be described with reference to FIGS. 17 and 18 to 25. In each figure, the same reference numerals are given to the same constituent elements as the reticle 30A (30A 1 to 30A 3 ) of the first embodiment and the reticle 30B (30B 1 to 30B 5 ) of the second embodiment described above. Therefore, duplicate explanation is omitted.

図17に示すレチクル30Cのレチクルパターン32は、図2を参照して説明したレチクル30A,30Bと同様に、細い直線パターン32aと太い直線パターン32bとにより視野を4分割する十字パターンに加えて、接眼レンズの視野内では比較的小径の円環状ないし輪帯状の部分パターン(円環パターンという)32cと、同様に比較的小型の十字状の部分パターン(クロスパターンという)32dとが、それぞれ複数設けられて構成される。円環パターン32c及びクロスパターン32dは、それぞれ複数の錐体状の構造体により構成される。   The reticle pattern 32 of the reticle 30C shown in FIG. 17 is similar to the reticles 30A and 30B described with reference to FIG. 2 in addition to the cross pattern that divides the field of view into four by the thin linear pattern 32a and the thick linear pattern 32b. Within the field of view of the eyepiece, a plurality of relatively small-diameter annular or ring-shaped partial patterns (referred to as annular patterns) 32c and a relatively small cross-shaped partial pattern (referred to as cross patterns) 32d are provided. Configured. Each of the annular pattern 32c and the cross pattern 32d includes a plurality of cone-shaped structures.

本実施形態に含まれる第1構成形態のレチクルとして、円環パターン32cをパターン形成面31aから突出する複数の円錐状の構造体により形成した構成を説明する。図18〜図20に円環パターン32cの第1構成例を示す。ここで、図18は図17に示す円環パターン32cの部分拡大図、図19は図18中の符号XIXで示す領域の斜視図、図20は図18中のXX−XX矢視の断面図である。円環パターン32cは、複数の円錐状の構造体135a,135b,135cにより構成される凸部33aであり、レチクルパターン32における曲線状の部分パターンである。   As a reticle of the first configuration form included in the present embodiment, a configuration in which an annular pattern 32c is formed by a plurality of conical structures protruding from the pattern forming surface 31a will be described. 18 to 20 show a first configuration example of the annular pattern 32c. Here, FIG. 18 is a partially enlarged view of the annular pattern 32c shown in FIG. 17, FIG. 19 is a perspective view of a region indicated by reference numeral XIX in FIG. 18, and FIG. 20 is a cross-sectional view taken along arrow XX-XX in FIG. It is. The annular pattern 32 c is a convex portion 33 a constituted by a plurality of conical structures 135 a, 135 b, 135 c, and is a curved partial pattern in the reticle pattern 32.

本構成例では、複数の円錐状の構造体を底辺が相互に接するように円形に配置して1列の円形パターンを形成し、さらに隣接する内・外周の円錐状の構造体の底辺が相互に接するように構造体を設定し円形パターンを同心円上に複数列(図では3列)形成して、円環パターン32cを構成している。換言すれば、3列中の中央列の円形パターンの構造体135bは、同じ列の左右の構造体135b,135bと底辺141bが相互に接していることに加え、内周側の列の二つの構造体135a,135aとも底辺141b,141aが相互に接し、さらに、外周側の二つの構造体135c,135cとも底辺141b,141cが相互に接する構成になっている。すなわち複数の円錐状の構造体を、部分パターンの形状に合わせて、各構造体の底辺141a,141b,141cが相互に接するように、稠密に配置した構成になっている。   In this configuration example, a plurality of conical structures are arranged in a circle so that the bases are in contact with each other to form a single circular pattern, and the bases of adjacent inner and outer conical structures are mutually connected. The structure is set so as to be in contact with the circular pattern, and a circular pattern is formed in a plurality of rows (three rows in the figure) on a concentric circle to constitute an annular pattern 32c. In other words, the structure 135b having the circular pattern in the center row of the three rows has two structures in the inner circumferential side in addition to the left and right structures 135b and 135b and the base 141b in the same row being in contact with each other. The bottoms 141b and 141a are in contact with each other in the structures 135a and 135a, and the bottoms 141b and 141c are in contact with each other in the two outer structures 135c and 135c. That is, a plurality of conical structures are arranged densely so that the bases 141a, 141b, and 141c of each structure are in contact with each other according to the shape of the partial pattern.

各列の構造体135a,135b,135cは円錐の頂角(円錐角)αが同一である一方、大きさ(底辺141a,141b,141cの直径、円錐の高さ)が異なっており、中央列の構造体135bを基準としたときに、内周側の構造体135aは円錐の高さが低く(底辺141aの直径が小さく)、外周側の構造体135cは円錐の高さが高く(底辺141cの直径が大きく)なっている。   The structures 135a, 135b, and 135c in each row have the same cone apex angle (cone angle) α, but have different sizes (diameters of bases 141a, 141b, and 141c, cone height), and the central row. With reference to the structure 135b, the inner peripheral structure 135a has a low cone height (the diameter of the base 141a is small), and the outer peripheral structure 135c has a high cone (the base 141c). Is larger).

各構造体135a,135b,135cの側面すなわち円錐の錐体面140a,140b,140cは、ライフルスコープRSの光軸Zに対して角度がα/2傾斜した傾斜面(軸対称な傾斜面)であり、対物レンズ1から入射した光を屈折させる屈折面である。そのため、図3,図5等を参照して説明したのと同様に、対物レンズ1から入射した光は構造体135a,135b,135cの側面140a,140b,140cで屈折し、光軸Zから離れて接眼レンズ4による観察光路外に導かれる。そのため、構造体135(135a,135b,135c)の側面140(140a,140b,140c)で屈折した光は接眼レンズ4を通して観察者の眼5に入射することはなく、観察者には観察対象の像と重畳して、円環パターン32cが暗黒のパターン像として視認される。   The side surfaces of the structures 135a, 135b, and 135c, that is, the conical cone surfaces 140a, 140b, and 140c are inclined surfaces (axisymmetric inclined surfaces) whose angles are inclined by α / 2 with respect to the optical axis Z of the rifle scope RS. The refractive surface refracts the light incident from the objective lens 1. Therefore, the light incident from the objective lens 1 is refracted by the side surfaces 140a, 140b, and 140c of the structures 135a, 135b, and 135c and separated from the optical axis Z, as described with reference to FIGS. Then, it is guided out of the observation optical path by the eyepiece 4. Therefore, the light refracted by the side surface 140 (140a, 140b, 140c) of the structure 135 (135a, 135b, 135c) does not enter the observer's eye 5 through the eyepiece 4, and the observer is not allowed to observe the object. The annular pattern 32c is visually recognized as a dark pattern image by being superimposed on the image.

このような構成のレチクル30Cにおいては、複数列の円形パターンからなる円環パターン32cは、各列を構成する構造体135a,135b,135cの底辺141a,141b,141cが相互に接するように稠密に配置されている。そのため、比較的簡明な構成で、円環パターン32cのような曲線状の部分パターンを有するレチクルを提供することができる。なお、本構成例の円環パターン32cでは、各列の構造体135a,135b,135cは、円錐の頂角αが同一で円錐の高さと底辺141a,141b,141cの直径が異なっている。後述するレチクルの製造方法(便宜的に圧痕法によるレチクル製造方法という)においては、成形用金型の金型面上に、頂角がαの円錐形状のダイヤモンド圧子を押圧して、構造体135a,135b,135cと反対形状の円錐状の窪みを形成する。このとき、各構造体135a,135b,135cに対応した円錐状の窪みは、金型面に押圧するダイヤモンド圧子の押圧力を調整し、金型面へのダイヤモンド圧子の貫入深さを制御することで容易に形成することができる。そのため、一つのダイヤモンド圧子で、大きさが異なる複数種類の構造体に対応した円錐上の窪み容易に形成することができ、金型の製作コストを低減することができる。   In the thus configured reticle 30C, the circular pattern 32c composed of a plurality of rows of circular patterns is dense so that the bases 141a, 141b, 141c of the structures 135a, 135b, 135c constituting each row are in contact with each other. Has been placed. Therefore, a reticle having a curved partial pattern such as an annular pattern 32c can be provided with a relatively simple configuration. In the circular pattern 32c of this configuration example, the structures 135a, 135b, and 135c in each row have the same cone apex angle α, and the cone height and the bases 141a, 141b, and 141c have different diameters. In a reticle manufacturing method to be described later (for convenience, a reticle manufacturing method by an indentation method), a cone-shaped diamond indenter with an apex angle α is pressed onto a mold surface of a molding die to form a structure 135a. , 135b, 135c are formed in a conical depression having the opposite shape. At this time, the conical depressions corresponding to the structures 135a, 135b, and 135c adjust the pressing force of the diamond indenter that presses against the mold surface, and control the penetration depth of the diamond indenter into the mold surface. Can be easily formed. Therefore, it is possible to easily form a depression on a cone corresponding to a plurality of types of structures having different sizes with a single diamond indenter, thereby reducing the manufacturing cost of the mold.

図21に円環パターン32cの第2構成例を示す。図21は本構成例の円環パターン32cの部分拡大図である。図示する円環パターンも、基本的には第1構成例の円環パターンと同様に、円錐状の構造体を円形に配置して1列の円形パターンを形成し、さらに直径が異なる円形パターンを同心円上に複数列(図では基本的には3列)形成して、円環パターン32cを構成している。但し、本構成例の円環パターン32cでは、円錐状の構造体135dの頂角α及び大きさ(円錐の高さ、底辺の直径)は列によらず全て同一で、周方向の方位及び角度ピッチも同一(本構成例では10°)である。また、各列の円形パターンにおいて、左右に隣接する円錐状の構造体135d,135dの底辺の仮想円141d,141dが相互に重複し、さらに、隣接する内・外周の円錐状の構造体135d,135dの底辺の仮想円141d,141dも相互に重複するように設定している。   FIG. 21 shows a second configuration example of the annular pattern 32c. FIG. 21 is a partially enlarged view of the annular pattern 32c of this configuration example. The annular pattern shown in the figure is basically similar to the annular pattern of the first configuration example, the conical structures are arranged in a circle to form a circular pattern of one row, and a circular pattern having a different diameter is formed. A plurality of rows (basically three rows in the figure) are formed on concentric circles to form an annular pattern 32c. However, in the annular pattern 32c of this configuration example, the apex angle α and the size (cone height, base diameter) of the conical structure 135d are all the same regardless of the row, and the circumferential direction and angle The pitch is also the same (10 ° in this configuration example). Further, in the circular pattern of each row, the virtual circles 141d and 141d on the bottom sides of the conical structures 135d and 135d adjacent to the left and right overlap each other, and the adjacent inner and outer conical structures 135d, The virtual circles 141d and 141d at the bottom of 135d are also set to overlap each other.

図21に例示する構成例では、上記内周列、中央列、外周列の3列に加えて、外周列の円形パターンと中央列の円形パターンとの間に、構造体135dの周方向の角度位置を上記3列の円形パターンと半ピッチ(5°)ずらせて、中間列の付加円形パターンを形成している。さらに、外周列の円形パターンと同一円周上に、構造体135dの周方向の角度位置を3列の円形パターンと半ピッチ(5°)ずらせて(中間列の付加円形パターンと同じ周方向の角度位置に)、外周列の付加円形パターンを形成している。換言すれば、外周列の円形パターンは、中央列や内周列の円形パターンと比べて構造体135dが1/2の角度ピッチで密に形成された構成になっている。また、外周列と中央列との間に中間列の付加円形パターンが設けられており、外周側に向かうにつれて構造体135dの密度が高くなる構成になっている。   In the configuration example illustrated in FIG. 21, in addition to the three rows of the inner circumferential row, the central row, and the outer circumferential row, an angle in the circumferential direction of the structure body 135d between the circular pattern of the outer circumferential row and the circular pattern of the central row. The position is shifted from the above-mentioned three rows of circular patterns by a half pitch (5 °) to form an intermediate row of additional circular patterns. Further, on the same circumference as the circular pattern of the outer circumferential row, the angular position of the circumferential direction of the structure 135d is shifted by a half pitch (5 °) from the circular row of the three rows (in the same circumferential direction as the additional circular pattern of the intermediate row). At the angular position), an additional circular pattern of the outer circumferential row is formed. In other words, the circular pattern in the outer circumferential row has a structure in which the structures 135d are densely formed at an angular pitch of ½ compared to the circular pattern in the central row and the inner circumferential row. Further, an intermediate circular additional circular pattern is provided between the outer peripheral row and the central row, and the density of the structures 135d increases toward the outer peripheral side.

各構造体135dの側面(円錐の錐体面)は、ライフルスコープRSの光軸Zに対して角度がα/2傾斜した傾斜面であり、対物レンズ1から入射した光を屈折させる屈折面である。そのため、対物レンズ1から入射した光は構造体の側面で屈折し、接眼レンズ4による観察光路外に導かれる。そのため、観察者には観察対象の像と重畳して、円環パターン32cが暗黒のパターン像として視認される。本構成例では、同一列で左右に隣接する円錐状の構造体135d,135dの底辺の仮想円141d,141dが相互に重複し、さらに、隣接する内・外周の円錐状の構造体135d,135dの底辺の仮想円141d,141dも相互に重複するように設定している。   The side surface (conical cone surface) of each structure 135d is an inclined surface whose angle is inclined by α / 2 with respect to the optical axis Z of the rifle scope RS, and is a refracting surface that refracts light incident from the objective lens 1. . Therefore, the light incident from the objective lens 1 is refracted on the side surface of the structure and is guided out of the observation optical path by the eyepiece 4. Therefore, the annular pattern 32c is visually recognized as a dark pattern image by being superimposed on the image to be observed by the observer. In this configuration example, the virtual circles 141d and 141d at the bottoms of the conical structures 135d and 135d adjacent in the left and right in the same row overlap with each other, and further, the adjacent inner and outer conical structures 135d and 135d. The virtual circles 141d and 141d on the bottom side are also set to overlap each other.

そのため、このような構成のレチクルによれば、隣接する円錐状の構造体の底辺同士が接する構成と比べて、円環パターン32c全体に占める屈折面(光軸Zに対して角度がα/2傾斜した傾斜面)140の構成比率を高めることができ、これにより、パターンの視認性を向上させることができる。さらに、外周側の円形パターンの構造体の配設ピッチを細かくしたこと(密度を高くしたこと)により、観察者に円環パターン32cの輪郭が滑らかな曲線として視認されるとともに、入射光を屈折させずにそのまま透過する透過面が無い構成のため、コントラストが高く視認性が良好なレチクルを提供することができる。   Therefore, according to the reticle having such a configuration, as compared with the configuration in which the bottoms of adjacent conical structures are in contact with each other, the refractive surface occupying the entire annular pattern 32c (the angle with respect to the optical axis Z is α / 2). The composition ratio of the inclined inclined surface 140) can be increased, thereby improving the visibility of the pattern. Furthermore, the arrangement pitch of the circular pattern structure on the outer peripheral side is made finer (the density is increased), so that the observer can visually recognize the outline of the annular pattern 32c as a smooth curve and refract incident light. Therefore, a reticle having high contrast and good visibility can be provided.

次に、本実施形態に含まれる第2構成形態のレチクルとして、パターン形成面31aから突出する複数の四角錐状の構造体136によりクロスパターン32dを形成した構成例を説明する。図22〜図24にクロスパターン32dの構成例を示す。ここで、図22は図17に示すクロスパターン32dの部分拡大図、図23は図22中の符号XXIIIで示す領域の斜視図、図24は図22中のXXIV−XXIV矢視の断面図である。クロスパターン32dは、複数の四角錐状の構造体136.136,136…により構成される凸部33aであり、レチクルパターン32における直線状の部分パターンである。   Next, a configuration example in which a cross pattern 32d is formed by a plurality of quadrangular pyramid structures 136 protruding from the pattern formation surface 31a will be described as a reticle of the second configuration form included in the present embodiment. 22 to 24 show configuration examples of the cross pattern 32d. Here, FIG. 22 is a partially enlarged view of the cross pattern 32d shown in FIG. 17, FIG. 23 is a perspective view of a region indicated by reference numeral XXIII in FIG. 22, and FIG. 24 is a cross-sectional view taken along the line XXIV-XXIV in FIG. is there. The cross pattern 32 d is a convex portion 33 a configured by a plurality of quadrangular pyramid-shaped structures 136.136, 136..., And is a linear partial pattern in the reticle pattern 32.

本構成例では、四角錐の構造体136を底辺143が相互に接するように直線状に配置して1列の微細線を形成し、これを複数列(図では3列)並列に並べて一本の短線を形成し、さらに2本の短線が十字状に直交するように配置して、クロスパターン32dを構成している。換言すれば、複数の四角錐状の構造体136,136,136…を、部分パターンの形状に合わせて、各構造体136の底辺141が相互に接するように稠密に配置した構成になっている。図示する構成例では、構造体136,136,136…を正四角錐としており、各部に配置される構造体136の頂角(対面角)α及び大きさ(底辺143の長さ、四角錐の高さ)は同一である。   In this configuration example, the quadrangular pyramid structures 136 are linearly arranged so that the bases 143 are in contact with each other to form one row of fine lines, which are arranged in parallel in a plurality of rows (three rows in the figure). The cross pattern 32d is formed by arranging the two short lines so as to be orthogonal to each other in a cross shape. In other words, a plurality of quadrangular pyramid-shaped structures 136, 136, 136,... Are arranged densely so that the bases 141 of the structures 136 are in contact with each other according to the shape of the partial pattern. . In the illustrated configuration example, the structures 136, 136, 136... Are regular pyramids, and the apex angle (facing angle) α and the size (the length of the base 143, the height of the quadrangular pyramids) of the structures 136 disposed in each part. Is the same.

各構造体136の4つの側面140,140,140,140、すなわち四角錐の錐体面は、何れもライフルスコープRSの光軸Zに対して角度がα/2傾斜した傾斜面であり、対物レンズ1から入射した光を屈折させる屈折面である。そのため、対物レンズ1から入射した光は構造体の各側面140で屈折し、光軸Zから離れて接眼レンズ4による観察光路外に導かれる。そのため、構造体136の側面140で屈折した光は接眼レンズ4を通して観察者の眼5に入射することはなく、観察者には観察対象の像と重畳して、クロスパターン32dが暗黒のパターン像として視認される。   The four side surfaces 140, 140, 140, 140 of each structure 136, that is, the pyramid surface of the quadrangular pyramid, are all inclined surfaces having an angle of α / 2 with respect to the optical axis Z of the rifle scope RS, and the objective lens 1 is a refracting surface that refracts light incident from 1; Therefore, the light incident from the objective lens 1 is refracted by each side surface 140 of the structure, and is guided away from the optical path Z by the eyepiece 4 away from the optical axis Z. For this reason, the light refracted by the side surface 140 of the structure 136 does not enter the observer's eye 5 through the eyepiece 4, and is superimposed on the image to be observed by the observer so that the cross pattern 32 d is a dark pattern image. As visible.

本実施形態に含まれる第3構成形態のレチクルとして、パターン形成面31aから突出する複数の四角錐状の構造体136で、文字や図形等の部分パターンを形成する構成を説明する。図25に、アルファベットの「F」という文字パターン32eをパターン形成面31aから突出する複数の四角錐状の構造体136,136,136…で形成した構成例を示す。この図は、図22と同様の文字パターン32eの部分拡大図である。図22に示したクロスパターン32dと、図25に示した文字パターン32eとを対比して明らかなように、文字パターン32eの形成方法はクロスパターン32dと同様であり、複数の四角錐状の構造体136,136,136…を、部分パターンの形状に合わせて、各構造体136の底辺143が接するように稠密に配置することにより達成される。   As a reticle of the third configuration form included in the present embodiment, a configuration will be described in which partial patterns such as characters and figures are formed by a plurality of quadrangular pyramid structures 136 protruding from the pattern formation surface 31a. FIG. 25 shows a configuration example in which a letter pattern 32e “F” of the alphabet is formed by a plurality of quadrangular pyramid structures 136, 136, 136... Protruding from the pattern forming surface 31a. This figure is a partially enlarged view of a character pattern 32e similar to FIG. As apparent from the comparison between the cross pattern 32d shown in FIG. 22 and the character pattern 32e shown in FIG. 25, the formation method of the character pattern 32e is the same as that of the cross pattern 32d, and has a plurality of quadrangular pyramid structures. This is achieved by arranging the bodies 136, 136, 136,... Densely so that the base 143 of each structure 136 is in contact with the shape of the partial pattern.

各構造体136の側面140は何れもライフルスコープRSの光軸Zに対して角度がα/2傾斜した傾斜面であり、対物レンズ1から入射した光を屈折させる屈折面である。そのため、対物レンズ1から入射した光は構造体の各側面140で屈折し、光軸Zから離れて接眼レンズ4による観察光路外に導かれる。そのため、各側面140で屈折した光は接眼レンズ4を通して観察者の眼5に入射することはなく、観察者には観察対象の像と重畳して、文字パターン32eが暗黒のパターン像として視認される。   Each side surface 140 of each structure 136 is an inclined surface whose angle is inclined by α / 2 with respect to the optical axis Z of the rifle scope RS, and is a refracting surface that refracts light incident from the objective lens 1. Therefore, the light incident from the objective lens 1 is refracted by each side surface 140 of the structure, and is guided away from the optical path Z by the eyepiece 4 away from the optical axis Z. Therefore, the light refracted at each side surface 140 does not enter the observer's eye 5 through the eyepiece lens 4, and the observer sees the character pattern 32e as a dark pattern image superimposed on the image to be observed. The

以上説明したクロスパターン32d、文字パターン32eは、凸部を形成する構造体136,136,136…の形状を四角錐とし、隣接する構造体136,136の底辺143,143が隙間無く接するように配置して、所望形状の部分パターンを形成している。そのため、部分パターン32d,32e全体に占める屈折面(光軸Zに対して角度がα/2傾斜した傾斜面)140の構成比率ηをほぼ100%(η≒100%)にすることができる。また、構造体136が部分パターンの内部及び輪郭に沿って隙間無く稠密に配置される。そのため、パターン形状が明確でコントラストが高く、視認性が良好なレチクルを提供することができる。   In the cross pattern 32d and the character pattern 32e described above, the shapes of the structures 136, 136, 136,... That form the convex portions are quadrangular pyramids, and the bases 143, 143 of the adjacent structures 136, 136 are in contact with each other without a gap. A partial pattern having a desired shape is formed by arranging the patterns. Therefore, the component ratio η of the refracting surface (the inclined surface inclined at an angle of α / 2 with respect to the optical axis Z) 140 occupying the entire partial patterns 32d and 32e can be almost 100% (η≈100%). Further, the structures 136 are densely arranged with no gap along the inside and outline of the partial pattern. Therefore, a reticle with a clear pattern shape, high contrast, and good visibility can be provided.

以上では、錐体状の構造体として、形状が円錐状の構造体135(135a,135b,135c,135d)と、形状が正四角錐状の構造体136を例示したが、構造体の形状はこれらに限定されるものではない。すなわち、錐体の側面であり屈折面を形成する傾斜面の光軸Zに対する傾斜角度がα/2となる構造体であれば良く、例えば、三角錐や底辺の長さが異なる四角錐、あるいは5角錐、六角錐などの多角形の錐体であってもよい。また、複数の錐体状の構造体によって、接眼レンズの視野内では比較的小さい部分パターンを形成した構成を例示したが、複数の錐体状の構造体によって視野内で比較的大きい部分パターンを形成することも可能である。例えば、クロスパターン32dで説明した「短線」を適宜な列数として延長することによって、既述した直線パターン32a,32bを構成することもできる。   In the above, the cone-shaped structures 135 (135a, 135b, 135c, 135d) and the structure 136 having a regular quadrangular pyramid shape are illustrated as the cone-shaped structures. It is not limited to. That is, any structure may be used as long as the inclination angle with respect to the optical axis Z of the inclined surface that forms the refracting surface is α / 2, such as a triangular pyramid or a quadrangular pyramid having different base lengths, or It may be a polygonal pyramid such as a pentagonal pyramid or a hexagonal pyramid. In addition, a configuration in which a relatively small partial pattern is formed in the field of view of the eyepiece by using a plurality of cone-shaped structures is illustrated. However, a relatively large partial pattern in the field of view is formed by the plurality of cone-shaped structures. It is also possible to form. For example, the above-described straight line patterns 32a and 32b can be configured by extending the “short line” described in the cross pattern 32d as an appropriate number of columns.

なお、本実施形態では円環パターン32c、クロスパターン32d、文字パターン32eを、パターン形成面31aから突出する凸部33aとして形成した構成を例示したが、これらの部分パターンをパターン形成面31aよりも凹んだ凹部34として構成することも可能であり、同様の機能を達成できることは言うまでもない。そして、図8を参照して説明した屈折面としての傾斜面140の角度α/2に関する詳細構成も同様に成り立つ。さらに、第2実施形態として図9〜図16を参照して説明したように、構造体の頂部または底部を部分的に平面とすることによって、パタ−ン部分の明るさを制御することが可能であることも同様に、本実施形態のレチクル30Cに適用可能であることは明かである。   In the present embodiment, the ring pattern 32c, the cross pattern 32d, and the character pattern 32e are exemplified as the protrusions 33a protruding from the pattern formation surface 31a. However, these partial patterns are formed more than the pattern formation surface 31a. Needless to say, the concave portion 34 can be configured, and the same function can be achieved. And the detailed structure regarding angle (alpha) / 2 of the inclined surface 140 as a refractive surface demonstrated with reference to FIG. 8 is formed similarly. Furthermore, as described with reference to FIGS. 9 to 16 as the second embodiment, it is possible to control the brightness of the pattern portion by partially making the top or bottom of the structure a plane. Similarly, it is obvious that the present invention can be applied to the reticle 30C of the present embodiment.

[第4実施形態]
次に、以上説明してきた、第1〜第3実施形態のレチクル30A,30B,30Cの製造方法について説明する。これらのレチクル30(30A,30B,30C)は、光学部材31の材質やレチクルパターン32の形態に応じて複数種類の製造方法で作成することができる。本実施形態では、光学部材31の材質を、光学機器で一般的に用いられる透明な樹脂材料とし、成形金型を用いた射出成形で製作する場合の製造方法について説明する。
[Fourth Embodiment]
Next, a method for manufacturing the reticles 30A, 30B, and 30C of the first to third embodiments described above will be described. These reticles 30 (30A, 30B, 30C) can be produced by a plurality of types of manufacturing methods according to the material of the optical member 31 and the form of the reticle pattern 32. In the present embodiment, a manufacturing method in the case where the optical member 31 is made of a transparent resin material generally used in optical equipment and manufactured by injection molding using a molding die will be described.

レチクル30の製造方法は、以下に示すステップ(工程・手順)を含んで構成される。
・レチクルの外形形状に対応した構造を金型材に機械加工で形成するステップ、
・上記金型面に金属メッキを行うステップ、
・金属メッキされた金型面上に、構造体に対応する微細構造を形成して凸部及び/または凹部を形成するステップ、
・凸部及び/または凹部が形成された金型を成形機にセットして、レチクルを成形するステップ、
The method for manufacturing the reticle 30 includes the following steps (processes / procedures).
A step of forming a structure corresponding to the outer shape of the reticle on the mold material by machining;
A step of performing metal plating on the mold surface,
A step of forming a convex portion and / or a concave portion by forming a fine structure corresponding to the structure on the metal-plated mold surface;
A step of setting a mold having a convex part and / or a concave part on a molding machine and molding a reticle;

金型材は、射出成形で一般的に用いられる材料を用いることができ、例えば、ボーラー・ウッデホルム社(BOHLER・UDDEHOLM)のSTAVAXが例示される。金型面に行う金属メッキは、比較的表面硬度が高く(例えば、ビッカース硬さHvが450以上、より好ましくは800以上)、構造体の高さよりも厚い膜厚のメッキ層を形成できるものであれば良く、例えば、無電解ニッケルメッキ、硬質クロムメッキなどが例示される。   As the mold material, a material generally used in injection molding can be used, for example, STAVAX of BOHLER UDDEHOLM is exemplified. Metal plating performed on the mold surface has a relatively high surface hardness (for example, Vickers hardness Hv of 450 or more, more preferably 800 or more), and can form a plating layer with a thickness greater than the height of the structure. For example, electroless nickel plating, hard chrome plating and the like are exemplified.

金型面状に構造体に対応する微細構造を形成する手段は、レチクルパターンを構成する構造体の形状に応じて適宜に選択することができる。例えば、第1実施形態のレチクル30Aあるいは第2実施形態のレチクル30Bのように、構造体が、パターン直交方向の幅bに対してパターン方向の長さlが長い(b≪l)直線状の凸条133やV溝144などの場合、これらの構造体に対応する微細構造は切削加工によって形成する工法(便宜的に「切削法」という)が好適である。一方、第3実施形態のレチクル30Cのように、構造体が、パターン形状に合わせて配置した円錐や角錐等の錐体の集合体であるような場合には、頂角がαとなるように(錐体面の傾斜角度がα/2となるように)先端を錐体状に加工したダイヤモンド圧子を用い、このダイヤモンド圧子を金型表面に押圧して、構造体の形状を反転した微細構造(圧痕)を形成する工法(便宜的に「圧痕法」という)が好適である。切削法と圧痕法はレチクルパターン32の構成に応じて、適宜組み合わせて用いることができる。   The means for forming the fine structure corresponding to the structure on the mold surface can be appropriately selected according to the shape of the structure constituting the reticle pattern. For example, like the reticle 30A of the first embodiment or the reticle 30B of the second embodiment, the structure has a linear shape with a length l in the pattern direction (b << l) longer than the width b in the pattern orthogonal direction. In the case of the ridge 133, the V-groove 144, and the like, a fine structure corresponding to these structures is preferably formed by cutting (referred to as a “cutting method” for convenience). On the other hand, when the structure is an aggregate of cones such as a cone and a pyramid arranged according to the pattern shape as in the reticle 30C of the third embodiment, the apex angle is set to α. Using a diamond indenter whose tip is processed into a cone shape (so that the inclination angle of the cone surface is α / 2), this diamond indenter is pressed against the mold surface to reverse the structure of the structure ( A method of forming an indentation) (referred to as “indentation method” for convenience) is preferable. The cutting method and the indentation method can be used in appropriate combination depending on the configuration of the reticle pattern 32.

このようにして製作された金型を射出成形機にセットし、透明な樹脂材料を金型に注入して、レチクル30(30A,30B,30C)を成形する。レチクル等の光学機器に好適な透明な樹脂材料として、例えば、旭化成株式会社のデルペット(登録商標)80Nが例示される。   The mold thus manufactured is set in an injection molding machine, and a transparent resin material is injected into the mold to mold the reticle 30 (30A, 30B, 30C). As a transparent resin material suitable for an optical device such as a reticle, for example, Delpet (registered trademark) 80N manufactured by Asahi Kasei Corporation is exemplified.

最後に、凸部33,凹部34,凹凸部35を構成する構造体群に、反射防止膜を形成するステップを付加することができる。反射防止膜はレチクル30面前面に形成しても良い。   Finally, a step of forming an antireflection film can be added to the structure group constituting the convex portion 33, the concave portion 34, and the concave and convex portion 35. The antireflection film may be formed on the front surface of the reticle 30.

以上の工程で製造されたレチクルを、実際に望遠鏡に装着して視野の確認をしたところ、レチクル上に形成されたレチクルパターン32を鮮明な暗黒パターンとして観察することができた。   When the reticle manufactured in the above steps was actually mounted on a telescope and the field of view was confirmed, the reticle pattern 32 formed on the reticle could be observed as a clear dark pattern.

[第5実施形態]
次に、第5の実施形態として、レチクルパターン32の中心にポインターを有するレチクルユニット3について、図26〜図28を参照して説明する。これらの図面は、レチクルユニット3の構成を説明するための説明図であり、図26は照明光の光路を示す説明図、図27はレチクルのパターン形成面31aに形成される反射部の斜視図、図28はレチクルパターン32に対する照明光の投射状態を示すレチクルユニットの正面図である。
[Fifth Embodiment]
Next, as a fifth embodiment, a reticle unit 3 having a pointer at the center of a reticle pattern 32 will be described with reference to FIGS. These drawings are explanatory views for explaining the configuration of the reticle unit 3, FIG. 26 is an explanatory view showing an optical path of illumination light, and FIG. 27 is a perspective view of a reflecting portion formed on the pattern forming surface 31a of the reticle. FIG. 28 is a front view of the reticle unit showing a projection state of illumination light onto the reticle pattern 32.

レチクルユニット3は、レチクル30Dと、照明光を放射する光源38と、光源38から放射された光を集光する集光部(例えば、コンデンサレンズ)39と、を有して構成される。レチクル30Dは、第1実施形態として説明したレチクル30A1〜30A3、及び第2の実施形態として説明したレチクル30B1〜30B5、あるいは第3実施形態として説明したレチクル30Cのいずれかを基礎とし、さらに光学部材のパターン形成面31aに、反射面を有する反射部37が設けられて構成される。 The reticle unit 3 includes a reticle 30D, a light source 38 that emits illumination light, and a condensing unit (for example, a condenser lens) 39 that collects light emitted from the light source 38. The reticle 30D is based on one of the reticles 30A 1 to 30A 3 described as the first embodiment, the reticles 30B 1 to 30B 5 described as the second embodiment, or the reticle 30C described as the third embodiment. Further, a reflection part 37 having a reflection surface is provided on the pattern forming surface 31a of the optical member.

反射部37は、光学部材31のパターン形成面31aの略中央部に開口する凹部37aとして形成され、この凹部37aを構成する面の一部が反射面37cを構成する。反射部37は、概観的には、円柱を斜めに切断したような形状で、反射面37cをパターン形成面31aに射影したときの形状は円形である。反射部37は、十字線状のレチクルパターン32においてx軸方向に延びるパターン線とy軸方向に延びるパターン線の交点、すなわち円板状のレチクル30Dの中心に位置し、光学部材31のパターン形成面31a側(観察対象側)に形成される。   The reflecting portion 37 is formed as a concave portion 37a that opens at a substantially central portion of the pattern forming surface 31a of the optical member 31, and a part of the surface constituting the concave portion 37a constitutes the reflecting surface 37c. The reflecting portion 37 is generally shaped like a cylinder cut obliquely, and the shape when the reflecting surface 37c is projected onto the pattern forming surface 31a is circular. The reflecting portion 37 is located at the intersection of the pattern line extending in the x-axis direction and the pattern line extending in the y-axis direction in the cross-shaped reticle pattern 32, that is, at the center of the disc-shaped reticle 30 </ b> D. It is formed on the surface 31a side (observation target side).

光源38から放射された照明光は集光部39で集光され、その像が反射部37の反射面37c上に形成される。光源38の像は反射面37cでライフルスコープRSの光軸方向(z軸方向)に反射され、学部材の対向面31bから出射する。既述したように、接眼レンズ4は二次像IM2と重ね合わせてレチクルパターン32の像を視認可能に構成される。反射面37cは接眼レンズ4の焦点深度内に設けられており、反射面37cで反射された光源38の像も合わせて観察することができる。そのため、観察者はレチクルパターン32の中心、すなわち、ライフルスコープRSの光軸上に、光源38の像をドット像として視認することができる。   The illumination light emitted from the light source 38 is collected by the light collecting unit 39, and an image thereof is formed on the reflection surface 37 c of the reflection unit 37. The image of the light source 38 is reflected by the reflecting surface 37c in the optical axis direction (z-axis direction) of the rifle scope RS and is emitted from the facing surface 31b of the learning member. As described above, the eyepiece 4 is configured to be visible with the image of the reticle pattern 32 superimposed on the secondary image IM2. The reflection surface 37c is provided within the depth of focus of the eyepiece lens 4, and the image of the light source 38 reflected by the reflection surface 37c can also be observed. Therefore, the observer can visually recognize the image of the light source 38 as a dot image on the center of the reticle pattern 32, that is, on the optical axis of the rifle scope RS.

ここで、集光部39は、光源38から放射された照明光を、少なくとも延長線が交差する2本のパターン線に挟まれた角度位置から反射部37(反射面37c)に導くように構成される。レチクルパターンが十字線の場合には、図28に示すように、集光部39は、光源38から放射された光が、x軸方向に延びるパターン線及びy軸方向に延びるパターン線に対して略45°傾いた角度位置から光学部材31に入射し、反射面37cに入射するように構成される。換言すれば、集光部39から反射部37に向かう照明光の光軸が、x軸及びy軸に対して略45°となるように設定される。そのため、照明光がパターン線を構成する凸部や凹部等に入射して相互作用を生じるようなことがほとんど無く、これにより明るいドット像(輝点)を表示でき、かつコントラストが高いレチクルパターン像を表示するレチクルユニットを得ることができる。   Here, the condensing part 39 is comprised so that the illumination light radiated | emitted from the light source 38 may be guide | induced to the reflection part 37 (reflecting surface 37c) from the angular position pinched | interposed by the two pattern lines which an extension line cross | intersects at least. Is done. When the reticle pattern is a crosshair, as shown in FIG. 28, the light converging unit 39 causes the light emitted from the light source 38 to correspond to the pattern line extending in the x-axis direction and the pattern line extending in the y-axis direction. It is configured to enter the optical member 31 from an angular position inclined by approximately 45 ° and to enter the reflecting surface 37c. In other words, the optical axis of the illumination light traveling from the light collecting unit 39 to the reflecting unit 37 is set to be approximately 45 ° with respect to the x axis and the y axis. For this reason, the illumination light is hardly incident on the convex portions or concave portions constituting the pattern line, causing an interaction, thereby enabling a bright dot image (bright spot) to be displayed and a reticle pattern image with high contrast. Can be obtained.

また、図26に示すように、集光部39は、光源38から放射された照明光を、パターン形成面31aと対向面31bとの間に位置する光学部材31の側面から入射して、反射部37に導くように構成される。図示する構成例では、照明光の光軸は反射面37c上でライフルスコープRSの光軸Zと交わるが、この照明光の光軸とライフルスコープの光軸Zとの交差角を直角ではなく、照明光の光軸を延長した延長線がパターン形成面31aと交差するような角度にしてレチクルユニットを構成している。このような構成によれば、照明光が凸部や凹部等に入射することを抑止することができ、これにより、ドット像の輝度を向上させるとともに、レチクルパターン像のコントラストを更に高めたレチクルユニットを得ることができる。   Further, as shown in FIG. 26, the condensing unit 39 reflects the illumination light emitted from the light source 38 from the side surface of the optical member 31 located between the pattern forming surface 31a and the opposing surface 31b. It is configured to lead to the part 37. In the illustrated configuration example, the optical axis of the illumination light intersects the optical axis Z of the rifle scope RS on the reflection surface 37c, but the crossing angle between the optical axis of the illumination light and the optical axis Z of the rifle scope is not a right angle, The reticle unit is configured at an angle such that an extension line obtained by extending the optical axis of the illumination light intersects the pattern forming surface 31a. According to such a configuration, it is possible to prevent illumination light from entering the convex portion, the concave portion, and the like, thereby improving the brightness of the dot image and further increasing the contrast of the reticle pattern image. Can be obtained.

第5実施形態のレチクル30Dについても、第4実施形態として説明したのと同様に、型を用いた成形加工により形成することができる。型を用いた成形加工として、ガラスモールド加工や、樹脂材料を用いた射出成形、注型成形などが例示される。樹脂材料としては、既に例示した特定材料の他、アクリル樹脂とも称されるメタクリル樹脂(PMMA)やポリカーボネート(PC)、環状オレフィンポリマー(COP)などが例示される。型を用いて成形加工を行うことにより、高精度のレチクルを容易に製作することができ、さらに樹脂材料を用いた成形加工によれば、高い生産性で安価にレチクルを製作することができる。   The reticle 30D of the fifth embodiment can also be formed by molding using a die, as described in the fourth embodiment. Examples of the molding process using the mold include glass molding, injection molding using a resin material, and casting molding. Examples of the resin material include methacrylic resin (PMMA), polycarbonate (PC), and cyclic olefin polymer (COP), which are also called acrylic resins, in addition to the specific materials already exemplified. By performing molding using a mold, a highly accurate reticle can be easily manufactured. Further, according to molding using a resin material, a reticle can be manufactured with high productivity and at low cost.

さらに、レチクル30Dにおいては、レチクルパターン32に加えて照明光を反射する反射部37が成形加工により一体に形生成される。そのため、従来においては、レチクルパターンが形成されたガラス製のレチクル部と、反射部が形成された樹脂製の光学部材との複合構造であり、両者の製造及び組み立てが必要であった焦点板を、本構成のレチクル30Dでは一回の成形加工で一体に形成することができる。これにより、従来では比較的高価であったポインター機能を備えたレチクルを低廉な価格で提供することができる。   Further, in the reticle 30D, in addition to the reticle pattern 32, a reflecting portion 37 that reflects illumination light is integrally formed by molding. Therefore, in the past, a focusing plate that is a composite structure of a glass reticle portion on which a reticle pattern is formed and a resin optical member on which a reflection portion is formed, and both of which have to be manufactured and assembled, is used. The reticle 30D having this configuration can be integrally formed by a single molding process. Accordingly, a reticle having a pointer function that has been relatively expensive in the past can be provided at a low price.

なお、凸部33や凹部34等をパターン形成面31a側にのみ設けた構成を例示したが、凸部及び/または凹部をパターン形成面31a側及び対向面31b側に形成しても良い。また、凸条133やV溝134等の傾斜面140の傾斜角度は、凸条133を構成する二つの傾斜面140,140の傾斜角度が同一の構成を例示したが、ライフルスコープの光軸Zに対するパターン線の形成位置等に応じて、二つの傾斜面140,140の傾斜角度が異なるように構成しても良い。さらに、凸条133やV溝134等を構成する面の一方を傾斜面とし他方を光軸Zに平行な面としても良い。   In addition, although the structure which provided the convex part 33, the recessed part 34, etc. only in the pattern formation surface 31a was illustrated, you may form a convex part and / or a recessed part in the pattern formation surface 31a side and the opposing surface 31b side. In addition, the inclination angle of the inclined surface 140 such as the ridge 133 and the V-groove 134 is exemplified by a configuration in which the inclination angles of the two inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 are the same, but the optical axis Z of the rifle scope. Depending on the formation position of the pattern line with respect to the two, the inclination angles of the two inclined surfaces 140 and 140 may be different. Further, one of the surfaces constituting the ridge 133, the V groove 134, etc. may be an inclined surface and the other may be a surface parallel to the optical axis Z.

また、凸条133やV溝134等に入射した光が屈折して偏向する形態を例示したが、凸条133やV溝134等に入射した光が反射して偏向するように構成しても良く、反射と屈折とを組み合わせて偏向するように構成しても良い。   In addition, although the mode in which the light incident on the ridge 133, the V-groove 134, etc. is refracted and deflected is exemplified, the light incident on the ridge 133, the V-groove 134, etc. may be reflected and deflected. Alternatively, it may be configured to deflect by combining reflection and refraction.

また、実施形態では、レチクル30(30A,30B,30C,30D)を備えた光学機器としてライフルスコープRSについて説明したが、ライフルスコープは、実施形態に係るレチクルを利用する光学機器の一例であり、フィールドスコープや双眼鏡等の望遠鏡、測距計やトランシット等の測量器、眼球検査装置やファイバースコープ等の医療用スコープ、各種顕微鏡など、様々な光学機器に適用可能である。   In the embodiment, the rifle scope RS has been described as an optical device including the reticle 30 (30A, 30B, 30C, 30D). However, the rifle scope is an example of an optical device that uses the reticle according to the embodiment. It can be applied to various optical devices such as telescopes such as field scopes and binoculars, surveying instruments such as rangefinders and transits, medical scopes such as eye examination devices and fiberscopes, and various microscopes.

RS ライフルスコープ(光学機器)
Z ライフルスコープの光軸(観察光路の光軸)
1 対物レンズ
3 レチクルユニット
4 接眼レンズ
30 レチクル
30A 第1実施形態のレチクル(30A1,30A2,30A3
30B 第2実施形態のレチクル(30B1,30B2,30B3,30B4,30B5
30C 第3実施形態のレチクル
30D 第5実施形態のレチクルユニットのレチクル
31 光学部材
31a パターン形成面(光学部材の一方の面)
31b 対向面(光学部材の他方の面)
32 レチクルパターン(パターン)
32a 細い直線パターン(直線状の部分パターン)
32b 太い直線パターン(直線状の部分パターン)
32c 円環パターン(曲線状の部分パターン)
32d クロスパターン(直線状の部分パターン)
32e 文字パターン
33a,33b 凸部
34a,34b 凹部
35a,35b 凹凸部
37 反射部
37c 反射面
38 光源
39 集光部
133 凸条
134 V溝(溝)
135a,135b,135c,135d 円錐状の構造体
136 四角錐状の構造体
140 傾斜面
141 円錐状の構造体の底辺
143 四角錐状の構造体の底辺
145 透過面
RS rifle scope (optical equipment)
Z Optical axis of rifle scope (optical axis of observation optical path)
1 the objective lens 3 reticle unit 4 eyepiece 30 reticle 30A reticle of the first embodiment (30A 1, 30A 2, 30A 3)
30B Reticle of second embodiment (30B 1 , 30B 2 , 30B 3 , 30B 4 , 30B 5 )
30C Reticle 30D of Third Embodiment Reticle 31 of Reticle Unit of Fifth Embodiment Optical Member 31a Pattern Formation Surface (One Surface of Optical Member)
31b Opposing surface (the other surface of the optical member)
32 Reticle pattern (pattern)
32a Thin linear pattern (linear partial pattern)
32b Thick linear pattern (linear partial pattern)
32c Annular pattern (curved partial pattern)
32d cross pattern (linear partial pattern)
32e Character pattern 33a, 33b Convex part 34a, 34b Concave part 35a, 35b Concave part 37 Reflecting part 37c Reflecting surface 38 Light source 39 Condensing part 133 Convex stripe 134 V groove (groove)
135a, 135b, 135c, 135d Conical structure 136 Square pyramid structure 140 Inclined surface 141 Conical structure base 143 Square pyramid structure base 145 Transmission surface

Claims (32)

対物レンズと接眼レンズとの間の観察光路内における前記対物レンズの像位置に配置され、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクルであって、
前記パターンは、板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部及び/または凹部を備え、
前記凸部及び前記凹部は、それぞれ複数の構造体により構成され、
各前記構造体は前記対物レンズから入射する光を屈折する屈折面を有し、
前記複数の構造体における各前記屈折面の傾きは、前記対物レンズ側から入射した光を前記観察光路外に屈折することにより、前記パターンの像が前記観察対象の像に重畳した暗パターンとして前記観察者に視認されるように構成されることを特徴とするレチクル。
A reticle that is arranged at an image position of the objective lens in an observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and in which a pattern serving as an index is formed when an observer visually recognizes an observation target,
The pattern includes a convex portion and / or a concave portion provided on at least one surface of a plate-like optical member,
The convex part and the concave part are each constituted by a plurality of structures.
Each of the structures has a refracting surface that refracts light incident from the objective lens,
The inclination of each refracting surface in the plurality of structures is obtained by refracting light incident from the objective lens side out of the observation optical path as a dark pattern in which the image of the pattern is superimposed on the image of the observation target. A reticle configured to be viewed by an observer.
前記構造体は錐体状であり、
前記屈折面は錐体面であることを特徴とする請求項1に記載のレチクル。
The structure is cone-shaped,
The reticle according to claim 1, wherein the refractive surface is a cone surface.
前記構造体は、前記少なくとも一方の面に突出して形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のレチクル。   The reticle according to claim 1, wherein the structure is formed to protrude from the at least one surface. 前記構造体は、前記少なくとも一方の面に窪んで形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のレチクル。   The reticle according to claim 1, wherein the structure is formed to be recessed in the at least one surface. 前記凸部及び前記凹部は、前記屈折面の高さが異なる複数の前記構造体により構成されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のレチクル。   The reticle according to any one of claims 1 to 4, wherein the convex portion and the concave portion are configured by a plurality of the structures having different refractive surface heights. 前記屈折面は、前記観察光路の光軸に対して傾斜した傾斜面であり、
前記光軸に対する前記傾斜面の傾斜角度は、前記観察光路を経て前記傾斜面に入射して屈折された光が、前記接眼レンズに直接入射し得る第1の所定角度以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のレチクル。
The refractive surface is an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path,
An inclination angle of the inclined surface with respect to the optical axis is equal to or less than a first predetermined angle at which light refracted by being incident on the inclined surface through the observation optical path can be directly incident on the eyepiece. The reticle according to any one of claims 1 to 5.
前記屈折面は、前記観察光路の光軸に対して傾斜した傾斜面であり、
前記光軸に対する前記傾斜面の傾斜角度は、前記観察光路を経て前記傾斜面に入射して屈折された光が、前記傾斜面と対向する他の傾斜面に入射し得る第2の所定角度以上であることを特徴とする請求項6に記載のレチクル。
The refractive surface is an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path,
The inclination angle of the inclined surface with respect to the optical axis is equal to or greater than a second predetermined angle at which light refracted by being incident on the inclined surface through the observation optical path can enter another inclined surface facing the inclined surface. The reticle according to claim 6, wherein:
前記傾斜面の前記光軸に対する傾斜角度は、21°以上70°以下であることを特徴とする請求項6または7に記載のレチクル。   The reticle according to claim 6 or 7, wherein an inclination angle of the inclined surface with respect to the optical axis is not less than 21 ° and not more than 70 °. 前記錐体の頂部に、前記観察対象側から入射した光を前記観察者が視認し得るように透過する透過面を設けたことを特徴とする請求項2〜8のいずれか一項に記載のレチクル。   The transmission surface which permeate | transmits so that the said observer can visually recognize the light which injected from the said observation object side was provided in the top part of the said cone, The Claim 2 characterized by the above-mentioned. Reticle. 請求項1〜9のいずれか一項に記載のレチクルに、さらに前記光学部材のいずれか一方の面に、少なくとも構成面の一部を反射面とする反射部が形成されたレチクルと、
前記反射部の側方に配置されて光を放射する光源と、
前記光源と前記反射部との間に配設されて前記光源から放射された光を集光して前記反射面に導く集光部とを備え、
前記光源から放射され前記集光部により集光されて前記反射面で反射された光を前記光学部材の他方の面から出射させて、前記パターンの像とともに視認されるように構成したことを特徴とするレチクルユニット。
The reticle according to any one of claims 1 to 9, and a reticle in which a reflecting portion having at least a part of a constituent surface as a reflecting surface is formed on any one surface of the optical member;
A light source disposed on the side of the reflecting portion to emit light;
A condensing part disposed between the light source and the reflecting part and condensing the light emitted from the light source and guiding it to the reflecting surface;
The light emitted from the light source, condensed by the condensing unit, and reflected by the reflecting surface is emitted from the other surface of the optical member so that it can be visually recognized together with the image of the pattern. Reticle unit.
前記パターンは少なくとも延長線が交差する2本の線を有し、
前記反射部は前記延長線を含む前記2本の線の交点に設けられ、
前記集光部は、前記光源から放射された光を前記2本の線に挟まれた角度位置から前記反射面に導くことを特徴とする請求項10に記載のレチクルユニット。
The pattern has at least two lines intersecting an extension line;
The reflection portion is provided at an intersection of the two lines including the extension line,
The reticle unit according to claim 10, wherein the condensing unit guides the light emitted from the light source to the reflecting surface from an angular position sandwiched between the two lines.
前記パターンは少なくとも延長線が前記光学部材の中心部で直角に交差する2本の前記線を有し、
前記反射部は前記光学部材の中心部に設けられ、
前記集光部は、前記光源から放射された光を前記2本の線に対して略45°の角度位置から前記反射面に導くことを特徴とする請求項10に記載のレチクルユニット。
The pattern has at least two lines whose extension lines intersect at right angles at the center of the optical member;
The reflecting portion is provided at the center of the optical member,
The reticle unit according to claim 10, wherein the condensing unit guides light emitted from the light source to the reflecting surface from an angular position of approximately 45 ° with respect to the two lines.
対物レンズと、
前記対物レンズにより形成される前記観察対象の像若しくは前記像と略共役な位置に、前記凸部及び/または凹部が設けられた面が配置された請求項1〜9のいずれか一項に記載のレチクルまたは請求項10〜12のいずれか一項に記載のレチクルユニットと、
前記観察対象の像及び前記凸部及び/または凹部により形成される前記パターンの像を重ね合わせて観察する接眼レンズと、
を有することを特徴とする光学機器。
An objective lens;
10. The image according to claim 1, wherein a surface provided with the convex portion and / or a concave portion is arranged at a position substantially conjugate with the image of the observation target formed by the objective lens. Or a reticle unit according to any one of claims 10 to 12,
An eyepiece for observing the image of the observation object and the image of the pattern formed by the convex part and / or the concave part,
An optical apparatus comprising:
対物レンズと、
前記対物レンズにより形成される前記観察対象の像若しくは前記像と略共役な位置に、前記凸部及び/または凹部が設けられた面が配置された請求項1〜9のいずれか一項に記載のレチクルまたは請求項10〜12のいずれか一項に記載のレチクルユニットと、
前記観察対象の像及び前記凸部及び/または凹部により形成される前記パターンの像を重ね合わせて観察する接眼レンズと、
を有することを特徴とするライフルスコープ。
An objective lens;
10. The image according to claim 1, wherein a surface provided with the convex portion and / or a concave portion is arranged at a position substantially conjugate with the image of the observation target formed by the objective lens. Or a reticle unit according to any one of claims 10 to 12,
An eyepiece for observing the image of the observation object and the image of the pattern formed by the convex part and / or the concave part,
Rifle scope characterized by having.
請求項1〜9のいずれか一項に記載されたレチクルの製造方法は、
金型面に金属メッキを行うステップと、
前記金属メッキされた金型面上に、前記構造体に対応する微細構造を形成して前記凸部及び/または凹部を形成するステップと、
前記凸部及び/または凹部が形成された金型を成形機にセットしてレチクルを成形するステップと、
を含むことを特徴とするレチクルの製造方法。
The method for producing a reticle according to any one of claims 1 to 9,
Performing metal plating on the mold surface;
Forming a microscopic structure corresponding to the structure on the metal-plated mold surface to form the convex portion and / or the concave portion;
Setting the mold formed with the convex part and / or concave part on a molding machine and molding a reticle;
A method for producing a reticle, comprising:
請求項15に記載されたレチクルの製造方法は、さらに以下を含む;
前記構造体を構成する各面に反射防止膜を設けるステップ。
The method for producing a reticle according to claim 15 further includes:
Providing an antireflection film on each surface constituting the structure;
対物レンズと接眼レンズとの間の観察光路内における前記対物レンズの像位置に配置され、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクルであって、
前記パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部及び/または凹部を備え、
前記凸部及び凹部は、それぞれ複数の構造体により構成され、
前記パターンは、前記複数の構造体により構成される部分パターンを有し、
前記部分パターンを形成する個々の前記構造体は、前記観察光路の光軸に対して傾斜した傾斜面を有する凸または凹の錐体状であり、錐体面である前記傾斜面は前記対物レンズから入射する光を前記接眼レンズの光路外へ屈折させる
ように構成されることを特徴とするレチクル。
A reticle that is arranged at an image position of the objective lens in an observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and in which a pattern serving as an index is formed when an observer visually recognizes an observation target,
The pattern includes a convex portion and / or a concave portion provided on at least one surface of a plate-like optical member,
Each of the convex portion and the concave portion is constituted by a plurality of structures.
The pattern has a partial pattern composed of the plurality of structures,
Each of the structures forming the partial pattern has a convex or concave cone shape having an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path, and the inclined surface, which is a cone surface, is formed from the objective lens. A reticle configured to refract incident light out of an optical path of the eyepiece.
前記部分パターンは曲線状の部分パターンであり、
前記曲線状の部分パターンを形成する個々の前記構造体は円錐状であり、錐体面である前記傾斜面は円錐面である
ことを特徴とする請求項17に記載のレチクル。
The partial pattern is a curved partial pattern,
The reticle according to claim 17, wherein each of the structures forming the curved partial pattern is conical, and the inclined surface that is a cone surface is a conical surface.
前記曲線状の部分パターンは複数の前記円錐状の構造体が同心円状に配列されて形成された円環形状であり、前記同心円の外側を形成する前記円錐状の構造体の配列ピッチは、前記同心円の内側を形成する前記円錐状の構造体の配列ピッチよりも小さい
ことを特徴とする請求項18に記載のレチクル。
The curved partial pattern is an annular shape formed by concentrically arranging a plurality of the conical structures, and the arrangement pitch of the conical structures forming the outside of the concentric circles is The reticle according to claim 18, wherein the reticle is smaller than an arrangement pitch of the conical structures forming an inner side of a concentric circle.
前記曲線状の部分パターンを形成する前記円錐状の構造体は凸面形状である
ことを特徴とする請求項18または19に記載のレチクル。
The reticle according to claim 18 or 19, wherein the conical structure forming the curved partial pattern has a convex shape.
対物レンズと接眼レンズとの間の観察光路内における前記対物レンズの像位置に配置され、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクルであって、
前記パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部及び/または凹部を備え、
前記凸部及び凹部は、それぞれ複数の構造体により構成され、
前記パターンは、各々前記複数の構造体により構成される直線状の部分パターンと曲線状の部分パターンとを有し、
前記直線状の部分パターンを形成する個々の前記構造体は、前記直線状の部分パターンが延びる方向に垂直方向の断面で前記観察光路の光軸に対して傾斜する傾斜面を有するとともに、当該部分パターンが延びる方向に平行な凸または凹の直線状であり、前記凸または凹の側面である前記傾斜面は前記対物レンズから入射する光を前記観察光路外へ屈折させ、
前記曲線状の部分パターンを形成する個々の前記構造体は、前記観察光路の光軸に対して傾斜した傾斜面を有する凸または凹の錐体状であり、錐体面である前記傾斜面は前記対物レンズから入射する光線を前記観察光路外へ屈折させる
ように構成されることを特徴とするレチクル。
A reticle that is arranged at an image position of the objective lens in an observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and in which a pattern serving as an index is formed when an observer visually recognizes an observation target,
The pattern includes a convex portion and / or a concave portion provided on at least one surface of a plate-like optical member,
Each of the convex portion and the concave portion is constituted by a plurality of structures.
The pattern has a linear partial pattern and a curved partial pattern each constituted by the plurality of structures,
Each of the structures forming the linear partial pattern has an inclined surface that is inclined with respect to the optical axis of the observation optical path in a cross section perpendicular to the direction in which the linear partial pattern extends. A convex or concave straight line parallel to the direction in which the pattern extends, and the inclined surface which is the convex or concave side surface refracts light incident from the objective lens out of the observation optical path,
Each of the structures forming the curved partial pattern has a convex or concave cone shape having an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the observation optical path, and the inclined surface which is a cone surface is A reticle configured to refract light incident from an objective lens out of the observation optical path.
前記曲線状の部分パターンを形成する個々の前記構造体は円錐状であり、錐体面である前記傾斜面は円錐面である
ことを特徴とする請求項21に記載のレチクル。
The reticle according to claim 21, wherein each of the structures forming the curved partial pattern has a conical shape, and the inclined surface which is a cone surface is a conical surface.
前記曲線状の部分パターンは複数の前記円錐状の構造体が同心円状に配列されて形成された円環形状であり、前記同心円の外側を形成する前記円錐状の構造体の配列ピッチは、前記同心円の内側を形成する前記円錐状の構造体の配列ピッチよりも小さい
ことを特徴とする請求項22に記載のレチクル。
The curved partial pattern is an annular shape formed by concentrically arranging a plurality of the conical structures, and the arrangement pitch of the conical structures forming the outside of the concentric circles is The reticle according to claim 22, wherein the reticle is smaller than an arrangement pitch of the conical structures forming an inner side of a concentric circle.
前記曲線状の部分パターンを形成する前記円錐状の構造体は凸面形状である
ことを特徴とする請求項22または23に記載のレチクル。
The reticle according to claim 22 or 23, wherein the conical structure forming the curved partial pattern has a convex shape.
対象物体の像を形成する対物レンズと、
前記対物レンズによる対象物体の像を観察するための接眼レンズと、
前記対物レンズと前記接眼レンズとの間の観察光路内における前記対物レンズの像位置に配置され、観察者が前記接眼レンズを通して観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成された板状の光学部材を有する、請求項17〜24のいずれか一項に記載のレチクルと
を備えたことを特徴とする光学機器。
An objective lens that forms an image of the target object;
An eyepiece for observing an image of a target object by the objective lens;
A plate-like pattern that is disposed at the image position of the objective lens in the observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and has a pattern that serves as an index when the observer visually recognizes the observation target through the eyepiece lens. An optical apparatus comprising the reticle according to any one of claims 17 to 24 having an optical member.
対象物体の像を形成する対物レンズと、
前記対物レンズによる対象物体の像を観察するための接眼レンズと、
前記対物レンズと前記接眼レンズとの間の観察光路内における前記対物レンズの像位置に配置され、観察者が前記接眼レンズを通して観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成された板状の光学部材を有する、請求項17〜24のいずれか一項に記載のレチクルと
を備えたことを特徴とするライフルスコープ。
An objective lens that forms an image of the target object;
An eyepiece for observing an image of a target object by the objective lens;
A plate-like pattern that is disposed at the image position of the objective lens in the observation optical path between the objective lens and the eyepiece lens, and has a pattern that serves as an index when the observer visually recognizes the observation target through the eyepiece lens. A riflescope comprising the reticle according to any one of claims 17 to 24, which has an optical member.
観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたライフルスコープ用のレチクルは以下を含む;
透明な2つの透過面を持つ板状の光学部材、
前記透過面上に形成された第1パターンと第2パターン、
前記第1パターン及び前記第2パターンは、それぞれ前記透過面に対して傾斜した傾斜面を有する複数の構造体により形成され、
前記ライフルスコープの光軸に対する前記傾斜面の傾斜角度α/2は、以下の条件を満足する;
21°≦α/2≦70°。
A rifle scope reticle in which a pattern that serves as an indicator when an observer visually recognizes an observation target includes:
A plate-like optical member having two transparent surfaces,
A first pattern and a second pattern formed on the transmission surface;
The first pattern and the second pattern are each formed by a plurality of structures having inclined surfaces inclined with respect to the transmission surface,
The inclination angle α / 2 of the inclined surface with respect to the optical axis of the rifle scope satisfies the following conditions;
21 ° ≦ α / 2 ≦ 70 °.
請求項27に記載のライフルスコープ用のレチクルにおいて、前記傾斜面の傾斜角度α/2はさらに次の条件を満たす;
21°≦α/2≦58°。
The rifle scope reticle according to claim 27, wherein the inclination angle α / 2 of the inclined surface further satisfies the following condition;
21 ° ≦ α / 2 ≦ 58 °.
請求項28に記載のライフルスコープ用のレチクルにおいて、前記傾斜面の傾斜角度α/2はさらに下記の条件を満たす;
26°≦α/2≦42°。
The reticle for a riflescope according to claim 28, wherein the inclination angle α / 2 of the inclined surface further satisfies the following condition;
26 ° ≦ α / 2 ≦ 42 °.
前記第1パターンは直線状のパターンであり、前記第2パターンは曲線状のパターンであり、
前記第1パターンを形成する個々の前記構造体と前記第2パターンを形成する個々の前記構造体とは同一形状であり、共通した形状の前記傾斜面を有する凸または凹の錐体状である
ことを特徴とする請求項27〜29のいずれか一項に記載のライフルスコープ用のレチクル。
The first pattern is a linear pattern, the second pattern is a curved pattern,
The individual structures that form the first pattern and the individual structures that form the second pattern have the same shape, and have a convex or concave cone shape having the inclined surface with a common shape. 30. The rifle scope reticle according to any one of claims 27 to 29.
前記第1パターンは直線状のパターンであり、前記第2パターンは曲線状のパターンであり、
前記第1パターンを形成する個々の前記構造体と前記第2パターンを形成する個々の前記構造体とは異なる形状の前記傾斜面を有する
ことを特徴とする請求項27〜29のいずれか一項に記載のライフルスコープ用のレチクル。
The first pattern is a linear pattern, the second pattern is a curved pattern,
30. Each of the structures forming the first pattern and each of the structures forming the second pattern has the inclined surfaces having different shapes. A reticle for the rifle scope described in 1.
直線状の前記第1パターンを形成する個々の前記構造体は、前記直線状のパターンに垂直方向の断面で前記ライフルスコープの光軸に対して傾斜する傾斜面を有して当該直線状のパターンが延びる方向に平行な凸または凹の直線状であり、
前記曲線状の前記第2パターンを形成する個々の前記構造体は、前記ライフルスコープの光軸に対して傾斜した傾斜面を有する凸または凹の錐体状である
ことを特徴とする請求項31に記載のライフルスコープ用のレチクル。
Each of the structures forming the linear first pattern has an inclined surface that is inclined with respect to the optical axis of the rifle scope in a cross section perpendicular to the linear pattern. Is a convex or concave straight line parallel to the direction in which
32. Each of the structures forming the curved second pattern is a convex or concave cone shape having an inclined surface inclined with respect to the optical axis of the rifle scope. A reticle for the rifle scope described in 1.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114659406A (en) * 2022-04-11 2022-06-24 重庆爱特光电有限公司 High-precision laser ranging method and device combined with reflective optical system

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1302353A (en) * 1917-09-20 1919-04-29 Conrad Friedrich Luminous hair-line.
JPS58205125A (en) * 1982-05-26 1983-11-30 Tech Res & Dev Inst Of Japan Def Agency Aiming mechanism
JPH05259020A (en) * 1992-03-10 1993-10-08 Nikon Corp Projection aligner
JP2011017884A (en) * 2009-07-09 2011-01-27 Nikon Vision Co Ltd Reticle unit and optical device
WO2012057010A1 (en) * 2010-10-25 2012-05-03 株式会社ニコンビジョン Reticle unit, optical device and rifle scope
US8541713B1 (en) * 2010-02-17 2013-09-24 Translume, Inc. Subsurface glass reticles
US20140007486A1 (en) * 2012-07-06 2014-01-09 Carl Zeiss Sports Optics Gmbh Reticle for a telescope

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1302353A (en) * 1917-09-20 1919-04-29 Conrad Friedrich Luminous hair-line.
JPS58205125A (en) * 1982-05-26 1983-11-30 Tech Res & Dev Inst Of Japan Def Agency Aiming mechanism
JPH05259020A (en) * 1992-03-10 1993-10-08 Nikon Corp Projection aligner
JP2011017884A (en) * 2009-07-09 2011-01-27 Nikon Vision Co Ltd Reticle unit and optical device
US8541713B1 (en) * 2010-02-17 2013-09-24 Translume, Inc. Subsurface glass reticles
WO2012057010A1 (en) * 2010-10-25 2012-05-03 株式会社ニコンビジョン Reticle unit, optical device and rifle scope
US20140007486A1 (en) * 2012-07-06 2014-01-09 Carl Zeiss Sports Optics Gmbh Reticle for a telescope

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114659406A (en) * 2022-04-11 2022-06-24 重庆爱特光电有限公司 High-precision laser ranging method and device combined with reflective optical system

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