JP6990047B2 - Reticle, reticle unit, optical equipment - Google Patents

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本発明は、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクル、レチクルユニット、及び該レチクルまたはレチクルユニットを備えた光学機器に関する。 The present invention relates to a reticle, a reticle unit, and an optical device provided with the reticle or a reticle unit having a pattern formed as an index when an observer visually recognizes an observation object.

上記のようなレチクルを備えた光学機器として、ライフルスコープ、フィールドスコープ、測量機器、望遠鏡、顕微鏡などが例示される。例えば、ライフルスコープに代表される射撃照準用スコープ(以下、「ライフルスコープ」と呼ぶ)では、目標を狙うための十字線や弾丸降下補正線、ドット、若しくはこれらが複合されたパターンが形成されたレチクルが用いられている。このようなレチクルは、一般的に薄い光学ガラスを基板とし、ガラス基板上に2本のワイヤーを十字状に張り渡して接着したり、ガラス基板に溝を掘ってインクを固着したり、電鋳で十字線を形成したりする等により、入射光を遮光してパターンの像が視認されるように構成されていた(例えば、特許文献1~3を参照)。 Examples of optical instruments equipped with the above reticle include rifle scopes, field scopes, surveying instruments, telescopes, microscopes, and the like. For example, in a shooting aiming scope represented by a rifle scope (hereinafter referred to as "rifle scope"), a crosshair, a bullet descent correction line, a dot, or a pattern in which these are combined is formed to aim at a target. Reticles are used. Such a reticle generally uses thin optical glass as a substrate, and two wires are stretched in a cross shape on the glass substrate to bond them, or a groove is dug in the glass substrate to fix ink, or electroforming. It is configured so that the image of the pattern can be visually recognized by blocking the incident light by forming a crosshair or the like (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

特開平8-285598号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-285598 特開2009-174845号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-174845 米国特許第1302353号明細書U.S. Pat. No. 1302353

しかしながら、上記のような従来のレチクルにはそれぞれ課題があった。例えば、2本のワイヤーを十字状に張り渡すような構成のレチクルでは、十字線の線幅を途中で大きく変化させることが困難であった。また、電鋳では外周の円環に繋がる十字線については線幅を含めて比較的自由に形成できるが、弾丸降下補正線やドット、記号のように線の端部または図形全体が宙に浮いたようなパターンを形成することは困難であった。 However, each of the conventional reticle as described above has a problem. For example, in a reticle having a structure in which two wires are stretched in a cross shape, it is difficult to greatly change the line width of the cross line on the way. Also, in electroforming, the crosshairs connected to the outer ring can be formed relatively freely, including the line width, but the ends of the lines or the entire figure float in the air like bullet drop correction lines, dots, and symbols. It was difficult to form such a pattern.

上記課題を解決する第1の態様は、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターン(例えば、実施形態におけるレチクルパターン32)が形成されたレチクルである。このレチクルでは、パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部を備え、凸部は、パターンを構成する線(例えば、実施形態におけるパターン線32a,32b)の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条により構成され、レチクルを通して観察対象を見たときに、観察対象側からレチクルに入射した光が凸部により偏向されることによってパターンの像が視認されるように構成される。 The first aspect of solving the above problems is a reticle in which a pattern (for example, the reticle pattern 32 in the embodiment) is formed as an index when the observer visually recognizes the observation target. In this reticle, the pattern comprises convex portions provided on at least one surface of the plate-shaped optical member, the convex portions in the width direction of the lines constituting the pattern (for example, the pattern lines 32a and 32b in the embodiment). It is composed of multiple protrusions extending in parallel in the length direction, and when the observation target is viewed through the reticle, the light incident on the reticle from the observation target side is deflected by the protrusions, so that the image of the pattern is visually recognized. It is configured to be.

なお、前記の凸部は、前記レチクルの前側に設けられた光学系を経て凸部に入射した光の少なくとも一部が、レチクルの後側(観察者側)に設けられた光学系(例えば、実施形態における接眼レンズ4)を出射し得る角度よりも大きな角度で、凸部にて偏向されるように構成することができる。 In the convex portion , at least a part of the light incident on the convex portion through the optical system provided on the front side of the reticle is provided on the rear side (observer side) of the reticle (for example, the optical system). It can be configured to be deflected at the convex portion at an angle larger than the angle at which the eyepiece 4) in the embodiment can be emitted.

また、前記のパターンは幅が異なる線(例えば、実施形態におけるパターン線32a,32b)を有し、この幅が異なる線は線幅に応じた複数の前記凸条により形成することができる。 Further, the pattern has lines having different widths (for example, pattern lines 32a and 32b in the embodiment), and the lines having different widths can be formed by a plurality of the protrusions according to the line width.

また、前記の凸条は、前記レチクルの前側(観察対象側)に設けられた光学系(例えば、実施形態における正立レンズ2)の光軸に対して傾斜した傾斜面を有して構成することができる。ここで、傾斜面の光軸に対する傾斜角は、レチクルの前側に設けられた光学系を経て傾斜面に入射して偏向された光の少なくとも一部が、レチクルの後側に設けられた光学系に直接入射し得る第1の所定角度(例えば、実施形態における第1所定角度α1/2)以下とすることができる。また、傾斜面の光軸に対する傾斜角は、レチクルの前側に設けられた光学系を経て傾斜面に入射して偏向された光の少なくとも一部が、傾斜面と対向する他の傾斜面に入射し得る第2の所定角度(例えば、実施形態における第2所定角度α2/2)以上とすることができる。例えば、傾斜面の光軸に対する傾斜角は21°以上70°以下とすることができる。 Further, the ridge is configured to have an inclined surface inclined with respect to the optical axis of an optical system (for example, an upright lens 2 in the embodiment) provided on the front side (observation target side) of the reticle. be able to. Here, the angle of inclination of the inclined surface with respect to the optical axis is such that at least a part of the light incident on the inclined surface via the optical system provided on the front side of the reticle and deflected is provided on the rear side of the reticle. It can be less than or equal to the first predetermined angle (for example, the first predetermined angle α1 / 2 in the embodiment) that can be directly incident on the optical axis. Further, the angle of inclination of the inclined surface with respect to the optical axis is such that at least a part of the light incident on the inclined surface via the optical system provided on the front side of the reticle and deflected is incident on the other inclined surface facing the inclined surface. It can be a second predetermined angle (for example, the second predetermined angle α2 / 2 in the embodiment) or more. For example, the inclination angle of the inclined surface with respect to the optical axis can be 21 ° or more and 70 ° or less.

なお、前記凸条を構成する一対の傾斜面の間、及び/または隣接する前記凸条の二つの傾斜面の間に、観察対象側から入射した光を観察者が視認し得るように透過する透過面を設けることができる。 It should be noted that the light incident from the observation target side is transmitted between the pair of inclined surfaces constituting the ridge and / or between the two inclined surfaces of the adjacent ridges so that the observer can visually recognize the light. A transmission surface can be provided.

前記凸部における透過面の構成比率は1%~99%とすることができる。透過面は曲率半径が2μm以上の面とすることができ、隣接する透過面の間隔及び隣接する傾斜面の間隔は観察者が目視したときの間隔が0.1mm以下となるように設定することができる。前記透過面の構成比率は、パターンを構成する線の幅方向の位置によって異なるように設定することができ、例えば、パターンを構成する線の幅方向中央部の構成比率を高く、幅方向外側の構成比率を低く設定することができる。また、前記透過面の構成比率は、パターンを構成する線の長さ方向の位置によって異なるように設定することができる。例えば、パターンの中心に位置する部分の構成比率を高く、外側に位置する部分の構成比率を低く設定することができる。 The composition ratio of the transmission surface in the convex portion can be 1% to 99%. The transmission surface can be a surface with a radius of curvature of 2 μm or more, and the distance between adjacent transmission surfaces and the distance between adjacent inclined surfaces shall be set so that the distance when viewed by the observer is 0.1 mm or less. Can be done. The composition ratio of the transmission surface can be set to be different depending on the position in the width direction of the lines constituting the pattern. The composition ratio can be set low. Further, the composition ratio of the transmission surface can be set so as to be different depending on the position in the length direction of the lines constituting the pattern. For example, the composition ratio of the portion located at the center of the pattern can be set high, and the composition ratio of the portion located outside can be set low.

以上のレチクルは、型を用いた成形加工に好適な材料で構成することができ、樹脂材料により一体に構成することは好ましい態様の一つである。 The above reticle can be made of a material suitable for molding using a mold, and it is one of the preferable embodiments that the reticle is integrally made of a resin material.

本発明を例示する第2の態様はレチクルユニットである。このレチクルユニットは、以上に記載したいずれかのレチクルに、さらに光学部材のいずれか一方の面に少なくとも構成面の一部を反射面とする反射部が形成されたレチクルと、反射部の側方に配置されて光を放射する光源と、光源と反射部との間に配設されて光源から放射された光を集光して反射面に導く集光部とを備え、光源から放射され集光部により集光されて反射面で反射された光を光学部材の他方の面から出射させて、パターンの像とともに視認されるように構成される。ここで、本明細書において「集光する」とは、光源から出射した発散光を集めて略平行光若しくは収斂光にすることをいう。 The second aspect illustrating the present invention is a reticle unit. This reticle unit includes a reticle in which a reflective portion having at least a part of a constituent surface as a reflective surface is formed on one of the reticle described above, and a lateral portion of the reflective portion. It is provided with a light source that is arranged in the light source and emits light, and a condensing part that is arranged between the light source and the reflecting part and collects the light radiated from the light source and guides it to the reflecting surface. The light collected by the light unit and reflected by the reflecting surface is emitted from the other surface of the optical member so that it can be visually recognized together with the image of the pattern. Here, "condensing" in the present specification means collecting divergent light emitted from a light source into substantially parallel light or convergent light.

なお、前記のパターンは少なくとも延長線が交差する2本の前記線を有し、反射部はこの延長線を含む2本の線の交点に設けられ、集光部は光源から放射された光を2本の線に挟まれた角度位置から反射面に導くように構成することができる。 The pattern has at least two lines where extension lines intersect, a reflection section is provided at the intersection of the two lines including the extension lines, and a condensing section receives light radiated from a light source. It can be configured to lead to the reflecting surface from an angular position sandwiched between two lines.

また、前記のパターンは少なくとも延長線が光学部材の中心部で直角に交差する2本の線を有し、反射部は光学部材の中心部に設けられ、集光部は光源から放射された光を2本の線に対して略45°の角度位置から反射面に導くように構成することができる。 Further, the above pattern has at least two lines whose extension lines intersect at right angles at the center of the optical member, the reflecting portion is provided at the center of the optical member, and the condensing portion is the light emitted from the light source. Can be configured to guide the two lines from a position at an angle of approximately 45 ° to the reflective surface.

本発明を例示する第3の態様は光学機器である。この光学機器は、対物レンズと、対物レンズにより形成される観察対象の像若しくはこの像と略共役な位置に、前記の凸部及び/または凹部が設けられた面が配置された上記いずれかのレチクルまたはレチクルユニットと、観察対象の像及び凸部及び/または凹部により形成されるパターンの像を重ね合わせて観察する接眼レンズとを有して構成される。 A third aspect illustrating the present invention is an optical instrument. In this optical instrument, the objective lens and the image of the object to be observed formed by the objective lens or any of the above-mentioned ones in which the surface provided with the convex portion and / or the concave portion is arranged at a position substantially conjugate with the image. It is composed of a reticle or a reticle unit and an eyepiece for observing an image of an object to be observed and an image of a pattern formed by convex portions and / or concave portions in an superimposed manner.

本発明を例示する他の態様は、観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターン(例えば、実施形態におけるレチクルパターン32)が形成されたレチクルであって、パターンは板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凹部を備え、凹部はパターンを構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の溝により構成され、パターンは幅が異なる線(例えば、実施形態におけるパターン線32a,32b)を有し、幅が異なる線は線幅に応じた複数の溝により形成され、レチクルを通して観察対象を見たときに、観察対象側からレチクルに入射した光が、凹部により偏向されることによってパターンの像が観察者に視認されるように構成される。Another aspect illustrating the present invention is a reticle in which a pattern (for example, the reticle pattern 32 in the embodiment) is formed as an index when the observer visually recognizes the observation target, and the pattern is a plate-shaped optical member. The recesses are provided on at least one surface of the pattern and are composed of a plurality of grooves extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the pattern, and the pattern is a line having a different width (for example, an embodiment). 32a, 32b), the lines having different widths are formed by a plurality of grooves according to the line width, and when the observation target is viewed through the reticle, the light incident on the reticle from the observation target side is concave. The image of the pattern is configured to be visible to the observer by being deflected by.

本発明によれば、所望のパターンが形成可能な新たな構成のレチクル、レチクルユニット、及びこのようなレチクルまたはレチクルユニットを備えた新たな光学機器を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is possible to provide a reticle, a reticle unit having a new configuration capable of forming a desired pattern, and a new optical device provided with such a reticle or a reticle unit.

光学機器の一例であるライフルスコープの構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of the rifle scope which is an example of an optical device. レチクルパターンを説明するための説明図であって、(a)はレチクルの斜視図、(b)はレチクルパターン形成面側から見た図である。It is explanatory drawing for demonstrating a reticle pattern, (a) is a perspective view of a reticle, (b) is a view seen from the reticle pattern formation surface side. 第1実施形態における第1構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、(a)(b)はパターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 1st structure in 1st Embodiment, and (a) (b) are schematic sectional views which cut the reticle in the plane perpendicular to the pattern line. パターン線の部分を拡大した顕微鏡写真である。It is a micrograph which enlarged the part of the pattern line. 観察対象側からレチクルの凸部に入射した光の出射状況を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the emission state of the light incident on the convex part of the reticle from the observation object side. 第1実施形態における第2構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、(a)(b)はパターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 2nd configuration form in 1st Embodiment, and (a) (b) is a schematic cross-sectional view which cut the reticle in the plane perpendicular to the pattern line. 第1実施形態における第3構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 3rd structural form in 1st Embodiment, and is the schematic sectional drawing which cut the reticle in the plane perpendicular to the pattern line. 傾斜面の傾斜角度について説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the inclination angle of an inclined surface. 第2実施形態における第1構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 1st structure in 2nd Embodiment, and is the schematic cross-sectional view which cut the reticle in the plane perpendicular to the pattern line. パターン線と観察対象Tとが重なった状況で、これらの像が観察者にどのように認識されるかを説明するための説明図であり、(a)は第1実施形態のレチクル30Aの場合、(b)は第2実施形態のレチクル30Bの場合である。It is explanatory drawing for demonstrating how these images are perceived by an observer in the situation where the pattern line and the observation object T overlap, and (a) is the case of the reticle 30A of 1st Embodiment. , (B) is the case of the reticle 30B of the second embodiment. 第2実施形態における第2構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 2nd configuration form in 2nd Embodiment, and is the schematic cross-sectional view which cut the reticle in the plane perpendicular to the pattern line. 第2実施形態における第3構成形態のレチクルを説明するための説明図であり、パターン線に垂直な面でレチクルを切断した模式的な断面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the reticle of the 3rd structural form in 2nd Embodiment, and is the schematic sectional drawing which cut the reticle in the plane perpendicular to the pattern line. 透過面の構成比率を変化させたときの、観察対象とパターン線の見え方を模式的に示した説明図である。It is explanatory drawing which shows typically the appearance of an observation object and a pattern line when the composition ratio of a transmission surface is changed. 透過面の構成比率をパターン線の幅方向の位置によって異なる比率とした構成を例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the structure which made the composition ratio of a transmission surface a different ratio depending on the position in the width direction of a pattern line. 透過面の構成比率をパターン線の長さ向の位置によって異なる比率とした構成を例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the structure which made the composition ratio of a transmission surface a different ratio depending on the position of the length direction of a pattern line. 透過面に曲率を設けた場合の構成を例示する説明図である。It is explanatory drawing which illustrates the structure when the curvature is provided in the transmission surface. レチクルユニットの構成を説明するための説明図であり、照明光の光路を示す説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the reticle unit, and is explanatory drawing which shows the optical path of the illumination light. 第3実施形態として示すレチクルユニットの構成を説明するための説明図であり、レチクルのパターン形成面に形成される反射部の斜視図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the reticle unit shown as 3rd Embodiment, and is the perspective view of the reflection part formed on the pattern formation surface of a reticle. 上記レチクルユニットの構成を説明するための説明図であり、レチクルパターンに対する照明光の投射状態を示すレチクルユニットの正面図である。It is explanatory drawing for demonstrating the structure of the said reticle unit, and is the front view of the reticle unit which shows the projection state of the illumination light with respect to the reticle pattern.

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。本実施形態に係るレチクルが用いられる光学機器の一例として、図1にライフルスコープRSの概要構成を示すとともに、図2にライフルスコープに用いられるレチクルの構成例を示しており、まずこれらの図面を参照して、ライフルスコープRSの概要から説明する。ライフルスコープRSは、観察対象側から順に、対物レンズ1と、正立レンズ2と、レチクルユニット3と、接眼レンズ4とを有して構成される。対物レンズ1、正立レンズ2、接眼レンズ4は、それぞれ単一のレンズまたは複数のレンズ(レンズ群)により構成することができる。本明細書においては、図1及び図2の図中に座標軸を示すように、ライフルスコープRSの光軸方向をz軸とする。そしてz軸に垂直に交わる面内で直交する2方向をx軸及びy軸とし、図1における紙面に垂直な方向をx軸、紙面に沿った方向をy軸とする。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. As an example of an optical device in which the reticle according to the present embodiment is used, FIG. 1 shows an outline configuration of the riflescope RS, and FIG. 2 shows a configuration example of the reticle used for the riflescope. Reference will be given from the outline of the riflescope RS. The riflescope RS includes an objective lens 1, an upright lens 2, a reticle unit 3, and an eyepiece 4 in order from the observation target side. The objective lens 1, the upright lens 2, and the eyepiece 4 can each be composed of a single lens or a plurality of lenses (lens groups). In the present specification, as shown in the drawings of FIGS. 1 and 2, the optical axis direction of the riflescope RS is defined as the z-axis. The two directions orthogonal to each other in the plane perpendicular to the z-axis are the x-axis and the y-axis, the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 1 is the x-axis, and the direction along the paper surface is the y-axis.

対物レンズ1は、観察対象側からの光を集光して観察対象の倒立像(一次像)IM1を形成し、また、正立レンズ2は、対物レンズ1により形成された倒立像である一次像IM1を正立像である二次像IM2に変換する。そして、対物レンズ1の一次像IM1と共役な位置に二次像IM2と略一致するように、レチクルユニット3のレチクル30が配置されている。なお、レチクルユニット3のレチクル30は、一次像IM1と略一致するように配置されていてもよい。 The objective lens 1 collects light from the observation target side to form an inverted image (primary image) IM1 of the observation target, and the upright lens 2 is a primary image formed by the objective lens 1. The image IM1 is converted into a secondary image IM2 which is an upright image. The reticle 30 of the reticle unit 3 is arranged at a position conjugate with the primary image IM1 of the objective lens 1 so as to substantially coincide with the secondary image IM2. The reticle 30 of the reticle unit 3 may be arranged so as to substantially coincide with the primary image IM1.

レチクル30は、可視領域を含む所望波長の光を透過する円板状の光学部材31を主体とし、この光学部材31の一方の面31aに、標的に狙いを合わせる際に指標となるレチクルパターン32が形成されている。レチクルパターンには様々な形態があるが、本実施形態では、光学部材31の中心部から周縁部に向かってx軸方向及びy軸方向に延びる十字線状のレチクルパターン32を形成した構成を示す。また、x軸方向に延びるパターン線及びy軸方向における中心から下方に延びるパターン線は、中心近傍のパターン線を細く(線幅を狭く)外側のパターン線を太く(線幅を広く)し、y軸方向における中心から上方に延びるパターン線を細くした構成を例示する。細いパターン線をパターン線32a、太いパターン線をパターン線32bと表記する。パターン線32a,32bの具体的な線幅はレチクルの用途や機能、観察者の好みなどにより様々であるが、ライフルスコープ用のレチクルの場合には、細いパターン線32aの線幅は5~50μm程度、太いパターン線32bの線幅は50~250μm程度の範囲で設定される。 The reticle 30 is mainly composed of a disk-shaped optical member 31 that transmits light of a desired wavelength including a visible region, and a reticle pattern 32 that serves as an index when aiming at a target on one surface 31a of the optical member 31. Is formed. There are various forms of the reticle pattern, but in the present embodiment, a configuration is shown in which a cross-shaped reticle pattern 32 extending in the x-axis direction and the y-axis direction from the central portion of the optical member 31 toward the peripheral portion is formed. .. Further, for the pattern line extending in the x-axis direction and the pattern line extending downward from the center in the y-axis direction, the pattern line near the center is thinned (the line width is narrowed) and the outer pattern line is thickened (the line width is widened). An example is a configuration in which a pattern line extending upward from the center in the y-axis direction is thinned. The thin pattern line is referred to as a pattern line 32a, and the thick pattern line is referred to as a pattern line 32b. The specific line widths of the pattern lines 32a and 32b vary depending on the use and function of the reticle, the preference of the observer, etc., but in the case of the riflescope reticle, the line width of the thin pattern line 32a is 5 to 50 μm. The line width of the thick pattern line 32b is set in the range of about 50 to 250 μm.

レチクル30は、x軸方向及びy軸方向に延びるパターン線の交点がライフルスコープRSの光軸Zに略一致するように配置される。また、レチクル30は、レチクルパターン32が形成された面(以下、「パターン形成面」という)31aが、正立レンズ2により形成される二次像IM2(または対物レンズ1により形成される一次像IM1)と略一致するように配置され、パターン形成面31aは接眼レンズ4の物体側焦点面と略一致している。そのため、観察者が接眼レンズ4側からレチクル30を通して観察対象を見たときに、観察対象の二次像IM2(または一次像IM1)とレチクルパターン32の像とが重畳して視認される。これにより、標的である観察対象(ターゲット)に対してライフルスコープRSの光軸Zを正確に合わせ、ターゲットに照準を合わせることができるようになっている。 The reticle 30 is arranged so that the intersections of the pattern lines extending in the x-axis direction and the y-axis direction substantially coincide with the optical axis Z of the riflescope RS. Further, in the reticle 30, the surface on which the reticle pattern 32 is formed (hereinafter referred to as “pattern forming surface”) 31a is a secondary image IM2 formed by the upright lens 2 (or a primary image formed by the objective lens 1). It is arranged so as to substantially coincide with IM1), and the pattern forming surface 31a substantially coincides with the object-side focal plane of the eyepiece 4. Therefore, when the observer looks at the observation target through the reticle 30 from the eyepiece 4 side, the secondary image IM2 (or the primary image IM1) of the observation target and the image of the reticle pattern 32 are superposed and visually recognized. As a result, the optical axis Z of the riflescope RS can be accurately aligned with the observation target (target), which is the target, and the target can be aimed at.

レチクル30において、レチクルパターン32は、レチクル30の基材ないし基板である光学部材31の少なくともパターン形成面31aに設けられた凸部及び/または凹部により構成される。凸部は、レチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条により構成され、凹部は、レチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の溝により構成される。そして、レチクル30を通して観察対象を見たときに、観察対象側からレチクル30に入射した光が、凸部及び/または凹部により偏向されて、レチクルパターン32の像が視認されるように構成される。以下、このような特徴を有するレチクル30の実施形態について説明する。 In the reticle 30, the reticle pattern 32 is composed of convex portions and / or concave portions provided on at least the pattern forming surface 31a of the optical member 31 which is the base material or the substrate of the reticle 30. The convex portion is composed of a plurality of convex strips extending in the length direction in parallel with the width direction of the line constituting the reticle pattern 32, and the concave portion has a length in parallel in the width direction of the line constituting the reticle pattern 32. It is composed of a plurality of grooves extending in a direction. Then, when the observation target is viewed through the reticle 30, the light incident on the reticle 30 from the observation target side is deflected by the convex portion and / or the concave portion so that the image of the reticle pattern 32 can be visually recognized. .. Hereinafter, embodiments of the reticle 30 having such characteristics will be described.

[第1実施形態]
第1実施形態のレチクル30Aについて、本実施形態に含まれる第1構成形態のレチクル30A1を例示する図3~図5を参照して説明する。ここで、図3(a),(b)は、パターン線32a,32bに垂直に交わる面でレチクル30A1を切断した模式的な断面図、図4はパターン線32a,32bの部分を拡大した顕微鏡写真、図5は観察対象側からレチクル30A1の凸部に入射した光の出射状況を説明するための説明図である。
[First Embodiment]
The reticle 30A of the first embodiment will be described with reference to FIGS. 3 to 5 illustrating the reticle 30A 1 of the first configuration embodiment included in the present embodiment. Here, FIGS. 3A and 3B are schematic cross-sectional views obtained by cutting the reticle 30A 1 at a plane perpendicularly intersecting the pattern lines 32a and 32b, and FIG. 4 is an enlarged portion of the pattern lines 32a and 32b. The micrograph and FIG. 5 are explanatory views for explaining the emission state of the light incident on the convex portion of the reticle 30A 1 from the observation target side.

第1構成形態のレチクル30A1は、レチクルパターン32のパターン線32a,32bが、光学部材31のパターン形成面31aに設けられた凸部33a,33bにより構成される。凸部33aは線幅が狭いパターン線32aに対応し、凸部33bは線幅が広いパターン線32bに対応する。凸部33a及び凸部33bは、ともに、パターン線の幅方向に並列しパターン線の長さ方向に延びる複数の微細な凸条(ridge)133,133,133…により構成される。換言すれば、凸部33a,33bは、パターン線の線幅よりも幅が狭い複数の凸条133により構成される。各凸条133は、パターン線に直交方向の断面形状がパターン形成面31aから観察対象側に突出する三角プリズム状で、パターン線の長さ方向に延びて形成される。 In the reticle 30A 1 of the first configuration form, the pattern lines 32a and 32b of the reticle pattern 32 are composed of the convex portions 33a and 33b provided on the pattern forming surface 31a of the optical member 31. The convex portion 33a corresponds to the pattern line 32a having a narrow line width, and the convex portion 33b corresponds to the pattern line 32b having a wide line width. Both the convex portion 33a and the convex portion 33b are composed of a plurality of fine ridges 133, 133, 133, etc., which are parallel to each other in the width direction of the pattern line and extend in the length direction of the pattern line. In other words, the protrusions 33a and 33b are composed of a plurality of protrusions 133 having a width narrower than the line width of the pattern line. Each ridge 133 has a triangular prism shape having a cross-sectional shape orthogonal to the pattern line protruding from the pattern forming surface 31a toward the observation target side, and is formed so as to extend in the length direction of the pattern line.

凸条133を構成する二つの傾斜面140,140の光軸Zに対する傾斜角度は、各傾斜面に入射して屈折により偏向し、パターン形成面31aに対向する光学部材の他方の面(以下、「対向面」という)31bから出射する光の少なくとも一部が、レチクル30A1の後側に設けられる接眼レンズ4を透過する角度よりも大きくなるように設定される。端的には、凸条133,133,133…により偏向されてレチクル30A1から出射する光が、接眼レンズ4を透過して観察者の眼に入射しないように設定される。 The inclination angles of the two inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 with respect to the optical axis Z are incident on each inclined surface and deflected by refraction, and the other surface of the optical member facing the pattern forming surface 31a (hereinafter referred to as “the other surface”). At least a part of the light emitted from the (referred to as "opposing surface") 31b is set to be larger than the angle transmitted through the eyepiece 4 provided on the rear side of the reticle 30A 1 . In short, the light emitted from the reticle 30A 1 deflected by the ridges 133, 133, 133, etc. is set so as not to pass through the eyepiece 4 and enter the observer's eyes.

凸部33a,33bは、パターン線の線幅に応じた本数の凸条133で構成することができる。すなわち、線幅が狭いパターン線32aを形成する凸部33aは、少ない本数の凸条133で構成し、線幅が広いパターン線32bを形成する凸部33bは、多い本数の凸条133で構成することができる。図4に示すパターン線の構成例では、線幅がwの狭いパターン線32aの凸部33aを5本の凸条133で構成し、線幅が5wの広いパターン線32bの凸部33bは25本の凸条133で構成している。本構成例における個々の凸条133の幅は約10μmである。 The protrusions 33a and 33b can be composed of a number of protrusions 133 according to the line width of the pattern line. That is, the convex portion 33a forming the pattern line 32a having a narrow line width is composed of a small number of ridges 133, and the convex portion 33b forming the pattern line 32b having a wide line width is composed of a large number of ridges 133. can do. In the configuration example of the pattern line shown in FIG. 4, the convex portion 33a of the pattern line 32a having a narrow line width w is composed of five ridges 133, and the convex portion 33b of the wide pattern line 32b having a line width of 5w is 25. It is composed of the convex strips 133 of the book. The width of each ridge 133 in this configuration example is about 10 μm.

このような構成のレチクル30A1を備えたライフルスコープRSでは、観察対象側(図3における左側)からパターン形成面31aに入射した光が、凸条133,133,133…の傾斜面140で屈折し、ライフルスコープRSの光軸Zから離間する方向に偏向されて、光学部材の対向面31bから出射する。このとき、光学部材の対向面31bから出射する光の出射角度は、接眼レンズ4を透過し得る出射角度よりも大きいため接眼レンズ4から観察者の眼に入射しない。傾斜面140で屈折し対向面31bから出射した光(便宜的に、「偏向光」という)は、例えば図5に示すように、レチクル30A1や接眼レンズ4等を保持する鏡筒の内周面に吸収される。そのため、接眼レンズ4側から標的となる観察対象を目視する観察者には、凸部33a,33bが設けられた部分からの光が見えず、パターン線32a,32bが暗黒の線として視認されてレチクルパターン32の像が明瞭に観察される。 In the riflescope RS provided with the reticle 30A 1 having such a configuration, the light incident on the pattern forming surface 31a from the observation target side (left side in FIG. 3) is refracted by the inclined surface 140 of the ridges 133, 133, 133 ... Then, it is deflected in a direction away from the optical axis Z of the riflescope RS and emitted from the facing surface 31b of the optical member. At this time, since the emission angle of the light emitted from the facing surface 31b of the optical member is larger than the emission angle that can be transmitted through the eyepiece lens 4, the light emitted from the eyepiece lens 4 does not enter the observer's eye. The light refracted by the inclined surface 140 and emitted from the facing surface 31b (for convenience, referred to as “deflected light”) is the inner circumference of the lens barrel that holds the reticle 30A 1 , the eyepiece 4, and the like, as shown in FIG. 5, for example. Absorbed on the surface. Therefore, the observer who visually observes the target observation target from the eyepiece 4 side cannot see the light from the portion where the convex portions 33a and 33b are provided, and the pattern lines 32a and 32b are visually recognized as dark lines. The image of the reticle pattern 32 is clearly observed.

本実施形態のレチクル30A1においては、1本のパターン線が、線幅に応じた複数の凸条133により構成される。そのため、凸部33a,33bを単一の凸条で構成した場合と比較して、パターン形成面31aから突出する凸部の高さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄く構成できるとともに、凸部33a,33bの損傷を抑制して保管時や組み付け時等の取り扱いが容易なレチクルを提供することができる。さらに、パターン線32a,32bを線幅に比例した本数の凸条133で構成すれば(単位線幅当たりの凸条の形成密度を同一とすれば)、線幅によらずコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。 In the reticle 30A 1 of the present embodiment, one pattern line is composed of a plurality of ridges 133 according to the line width. Therefore, the height of the convex portion protruding from the pattern forming surface 31a can be significantly suppressed as compared with the case where the convex portions 33a and 33b are composed of a single convex strip. As a result, the thickness of the reticle can be reduced, and it is possible to provide a reticle that can be easily handled during storage, assembly, etc. by suppressing damage to the convex portions 33a and 33b. Further, if the pattern lines 32a and 32b are composed of ridges 133 having a number proportional to the line width (assuming that the ridge formation density per unit line width is the same), a reticle having a uniform contrast regardless of the line width. You can get a pattern.

本実施形態に含まれる第2構成形態のレチクル30A2について説明する、レチクル30A2は、第1構成形態のレチクル30A1における凸条をV溝(V字状の溝)とした構成形態である。図6(a),(b)は、図3(a),(b)に対応し、パターン線32a,32bに垂直に交わる面でレチクル30A1を切断した模式的な断面図である。 The reticle 30A 2 of the second configuration included in the present embodiment will be described. The reticle 30A 2 is a configuration in which the ridges of the reticle 30A 1 of the first configuration are V-grooves (V-shaped grooves). .. 6 (a) and 6 (b) are schematic cross-sectional views corresponding to FIGS. 3 (a) and 3 (b), in which the reticle 30A 1 is cut at a plane perpendicularly intersecting the pattern lines 32a and 32b.

レチクル30A2では、レチクルパターン32のパターン線32a,32bが、光学部材のパターン形成面31aに形成された凹部34a,34bにより構成される。凹部34aは線幅が狭いパターン線32aに対応し、凹部34bは線幅が広いパターン線32bに対応する。凹部34a及び凹部34bは、ともに、パターン線の幅方向に並列しパターン線の長さ方向に延びる複数の微細なV溝134,134,134…により構成される。すなわち、凹部34a,34bは、パターンの線幅よりも幅が狭い複数のV溝134により構成される。各V溝134は、パターン線に直交する方向の断面形状がパターン形成面31aに向けて開くV字状で、パターン線の長さ方向に延びて形成される。 In the reticle 30A 2 , the pattern lines 32a and 32b of the reticle pattern 32 are composed of recesses 34a and 34b formed on the pattern forming surface 31a of the optical member. The recess 34a corresponds to the pattern line 32a having a narrow line width, and the recess 34b corresponds to the pattern line 32b having a wide line width. Both the recess 34a and the recess 34b are composed of a plurality of fine V-grooves 134, 134, 134, etc., which are parallel to each other in the width direction of the pattern line and extend in the length direction of the pattern line. That is, the recesses 34a and 34b are composed of a plurality of V-grooves 134 having a width narrower than the line width of the pattern. Each V-groove 134 has a V-shape whose cross-sectional shape in the direction orthogonal to the pattern line opens toward the pattern forming surface 31a, and is formed so as to extend in the length direction of the pattern line.

V溝134を構成する二つの傾斜面140,140の光軸Zに対する傾斜角度は、各傾斜面に入射して屈折により偏向し、対向面31bから出射する偏向光の少なくとも一部が、レチクルの後側に設けられる接眼レンズ4を透過する角度よりも大きくなるように設定される。端的には、V溝134,134,134…により偏向されてレチクル30A1から出射する光が、接眼レンズ4を透過して観察者の眼に入射しないように設定される。 The inclination angles of the two inclined surfaces 140 and 140 constituting the V-groove 134 with respect to the optical axis Z are incident on each inclined surface and deflected by refraction, and at least a part of the deflected light emitted from the facing surface 31b is a reticle. It is set so as to be larger than the angle transmitted through the eyepiece 4 provided on the rear side. In short, the light emitted from the reticle 30A 1 deflected by the V-grooves 134, 134, 134, etc. is set so as not to pass through the eyepiece 4 and enter the observer's eyes.

凹部34a,34bは、パターン線の線幅に応じた本数のV溝134で構成することができる。すなわち、線幅が狭いパターン線32aを形成する凹部34aは、少ない本数のV溝134構成し、線幅が広いパターン線32bを形成する凹部34bは、多い本数のV溝134で構成することができる。例えば、線幅がwの狭いパターン線32aの凹部34aを3本のV溝134で構成し、線幅が4wの広いパターン線32bの凹部34bを12本のV溝134で構成する。 The recesses 34a and 34b can be composed of a number of V-grooves 134 according to the line width of the pattern line. That is, the recess 34a forming the pattern line 32a having a narrow line width may be composed of a small number of V-grooves 134, and the recess 34b forming the pattern line 32b having a wide line width may be formed by a large number of V-grooves 134. can. For example, the recess 34a of the pattern line 32a having a narrow line width w is composed of three V-grooves 134, and the recess 34b of the pattern line 32b having a wide line width of 4w is composed of 12 V-grooves 134.

このような構成のレチクル30A2を備えたライフルスコープRSにおいても、観察対象側からパターン形成面31aに入射した光が、V溝134,134,134…の傾斜面140で屈折し、ライフルスコープの光軸Zから離間する方向に偏向されて、光学部材の対向面31bから出射する。このとき、光学部材の対向面31bから出射する偏向光の出射角度は、接眼レンズ4を透過し得る出射角度よりも大きいため接眼レンズ4から観察者の眼に入射しない。そのため、接眼レンズ4側から標的となる観察対象を目視する観察者には、凹部34a,34bが設けられた部分からの光が見えず、パターン線32a,32bが暗黒の線として視認されてレチクルパターン32の像が明瞭に観察される。 Even in the riflescope RS provided with the reticle 30A 2 having such a configuration, the light incident on the pattern forming surface 31a from the observation target side is refracted by the inclined surface 140 of the V grooves 134, 134, 134 ... It is deflected in a direction away from the optical axis Z and exits from the facing surface 31b of the optical member. At this time, since the emission angle of the deflected light emitted from the facing surface 31b of the optical member is larger than the emission angle that can be transmitted through the eyepiece 4, the eyepiece 4 does not enter the observer's eye. Therefore, the observer who visually observes the target observation target from the eyepiece 4 side cannot see the light from the portion where the recesses 34a and 34b are provided, and the pattern lines 32a and 32b are visually recognized as dark lines and the reticle. The image of pattern 32 is clearly observed.

レチクル30A2においては、1本のパターン線が、線幅に応じた複数のV溝134により構成される。このため、凹部を単一のV溝で構成した場合と比較して、凹部の深さを大幅に抑制することができ、これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、発射時の衝撃や外力に対する抗力を向上させたレチクルを提供することができる。さらに、パターン線32a,32bを線幅に比例した本数のV溝134で構成すれば(単位線幅当たりのV溝の形成密度を同一とすれば)、線幅によらずコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。 In the reticle 30A 2 , one pattern line is composed of a plurality of V-grooves 134 according to the line width. For this reason, the depth of the recess can be significantly suppressed as compared with the case where the recess is composed of a single V-groove, whereby the thickness of the reticle can be reduced, and the impact and external force at the time of launch can be reduced. It is possible to provide a reticle with improved drag against. Further, if the pattern lines 32a and 32b are composed of the number of V-grooves 134 proportional to the line width (assuming that the formation density of the V-grooves per unit line width is the same), the reticle has a uniform contrast regardless of the line width. You can get a pattern.

本実施形態に含まれる第3構成形態のレチクル30A3では、パターン線32a,32bは、光学部材のパターン形成面31aに設けられた凹凸部35a,35b(凹凸部35bは不図示)により構成される。図3(a)及び図6(a)に対応するパターン線32aの模式的な断面図を図7に示す。凹凸部35aは、パターン形成面31aから観察対象側に突出する凸条133と、パターン形成面31aに開くV溝134とが交互に連結された複合構成になっている。すなわち、凹凸部35a(及び35b)は、パターンの線幅よりも幅が狭い凸条133とV溝134が線幅方向に交互に設けられて構成される。このようなレチクル30A3においては、1本のパターン線が、線幅に応じた複数の凸条133とV溝134の連結構造により構成される。 In the reticle 30A 3 of the third configuration form included in the present embodiment, the pattern lines 32a and 32b are composed of uneven portions 35a and 35b (concave and convex portions 35b are not shown) provided on the pattern forming surface 31a of the optical member. Ru. FIG. 7 shows a schematic cross-sectional view of the pattern line 32a corresponding to FIGS. 3A and 6A. The uneven portion 35a has a composite structure in which the ridges 133 protruding from the pattern forming surface 31a toward the observation target side and the V grooves 134 opening in the pattern forming surface 31a are alternately connected. That is, the uneven portion 35a (and 35b) is configured by providing ridges 133 and V grooves 134 having a width narrower than the line width of the pattern alternately in the line width direction. In such a reticle 30A 3 , one pattern line is composed of a connecting structure of a plurality of ridges 133 and V-grooves 134 according to the line width.

このため、凹凸部を単一の凸条またはV溝からなる構成、または一組の凸条及びV溝からなる構成とした場合と比較して、パターン形成面31aから突出する凸条部の高さを大幅に抑制でき、かつパターン形成面31aから陥没するV溝部の深さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄く構成できる。また、凸条の損傷を抑制して保管時や組み付け時等の取り扱いを容易とし、発射時の衝撃や外力に対する抗力が高いレチクルを提供することができる。さらに、パターン線32a,32bを線幅に比例した本数の凸条133とV溝134で構成すれば、線幅によらずコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。 Therefore, the height of the convex portion protruding from the pattern forming surface 31a is higher than that in the case where the uneven portion is composed of a single convex or V-groove or a set of the convex and V-groove. The depth of the V-groove portion recessed from the pattern forming surface 31a can be significantly suppressed. As a result, the thickness of the reticle can be reduced. In addition, it is possible to provide a reticle that suppresses damage to the ridges, facilitates handling during storage, assembly, and the like, and has high drag against impact and external force at the time of launch. Further, if the pattern lines 32a and 32b are composed of the number of ridges 133 and the V-groove 134 in proportion to the line width, a reticle pattern having a uniform contrast can be obtained regardless of the line width.

ライフルスコープRSの光軸Zに対する凸条133の傾斜面140の傾斜角度と、光軸Zに対するV溝134の傾斜面140の傾斜角度は、既述した構成形態と同様に設定され、レチクル30A3から出射する偏向光が、接眼レンズ4を透過して観察者の眼に入射しないように設定される。凹凸部35a,35bを構成する凸条133及びV溝134の本数は、パターン線の線幅に応じて設定することができ、線幅が狭いパターン線32aを形成する凹凸部35aの凸条133及びV溝134の本数は少なく、線幅が広いパターン線32bを形成する凹凸部35bの凸条133及びV溝134の本数は多く設定される。 The inclination angle of the inclined surface 140 of the protrusion 133 with respect to the optical axis Z of the riflescope RS and the inclination angle of the inclined surface 140 of the V groove 134 with respect to the optical axis Z are set in the same manner as the above-described configuration, and the reticle 30A 3 The polarized light emitted from the eyepiece is set so as not to pass through the eyepiece 4 and enter the observer's eye. The number of ridges 133 and V-grooves 134 constituting the uneven portions 35a and 35b can be set according to the line width of the pattern line, and the ridges 133 of the uneven portion 35a forming the pattern line 32a having a narrow line width can be set. The number of the V-grooves 134 is small, and the number of the ridges 133 and the V-grooves 134 of the uneven portion 35b forming the pattern line 32b having a wide line width is set to be large.

このように構成さるレチクル30A3では、観察対象側(図7における左側)からパターン形成面31aに入射した光が、凸条133の傾斜面140及びV溝134の傾斜面140で屈折し、いずれもライフルスコープの光軸Zから離間する方向に偏向されてレチクル30A3から出射する。レチクル30A3から出射する偏向光の出射角度は、接眼レンズ4を透過し得る出射角度よりも大きいため接眼レンズ4から観察者の眼に入射せず、レチクル30A3や接眼レンズ4等を保持する鏡筒の内周面などに吸収される。そのため、観察者には凹凸部35a,35bが設けられた部分からの光が見えず、パターン線32a,32bが暗黒の線として視認されるレチクルパターン32の像が明瞭に観察される。 In the reticle 30A 3 configured in this way, the light incident on the pattern forming surface 31a from the observation target side (left side in FIG. 7) is refracted by the inclined surface 140 of the ridge 133 and the inclined surface 140 of the V groove 134, and eventually. Is also deflected in a direction away from the optical axis Z of the rifle scope and emitted from the reticle 30A 3 . Since the emission angle of the deflected light emitted from the reticle 30A 3 is larger than the emission angle that can be transmitted through the eyepiece 4, the eyepiece 4 does not enter the observer's eye and holds the reticle 30A 3 and the eyepiece 4. It is absorbed by the inner peripheral surface of the lens barrel. Therefore, the observer cannot see the light from the portion where the uneven portions 35a and 35b are provided, and the image of the reticle pattern 32 in which the pattern lines 32a and 32b are visually recognized as dark lines is clearly observed.

以上説明したレチクル30A(30A1,30A2,30A3)においては、レチクルパターン32が、光学部材のパターン形成面31aに設けられた凸部及び/または凹部により構成される。凸部33a,33bはレチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条133により構成され、凹部34a,34bはレチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数のV溝134により構成される。凹凸部35a,35bは、レチクルパターン32を構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条133及びV溝134の複合体により構成される。 In the reticle 30A (30A 1 , 30A 2 , 30A 3 ) described above, the reticle pattern 32 is composed of convex portions and / or concave portions provided on the pattern forming surface 31a of the optical member. The convex portions 33a and 33b are composed of a plurality of protrusions 133 extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the reticle pattern 32, and the concave portions 34a and 34b are formed in the width direction of the lines constituting the reticle pattern 32. It is composed of a plurality of V-grooves 134 extending in parallel in the length direction. The uneven portions 35a and 35b are composed of a composite of a plurality of ridges 133 and V-grooves 134 extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the reticle pattern 32.

このため、凸部を複数の凸条で構成したレチクル30A1においては、パターン形成面31aから突出する凸部の高さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、凸部の損傷を抑制して取り扱いが容易なレチクルを提供することができる。凹部を複数のV溝で構成したレチクル30A2においては、凹部の深さを大幅に抑制することができ、これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、発射時の衝撃や外力に対する抗力を向上させたレチクルを提供することができる。凹凸部を凸条とV溝の複合構造としたレチクル30A3においては、パターン形成面31aから突出する凸条部の高さを大幅に抑制でき、パターン形成面31aから陥没するV溝部の深さを大幅に抑制することができる。これにより、レチクルの厚さを薄くできるとともに、凸条の損傷を抑制して保管時や組み付け時等の取り扱いを容易とし、発射時の衝撃や外力に対する抗力が高いレチクルを提供することができる。 Therefore, in the reticle 30A 1 in which the convex portion is composed of a plurality of convex portions, the height of the convex portion protruding from the pattern forming surface 31a can be significantly suppressed. As a result, the thickness of the reticle can be reduced, and damage to the convex portion can be suppressed to provide a reticle that is easy to handle. In the reticle 30A 2 in which the recess is composed of a plurality of V-grooves, the depth of the recess can be significantly suppressed, whereby the thickness of the reticle can be reduced and the drag against impact and external force at the time of launch is improved. It is possible to provide a reticle that has been made. In the reticle 30A 3 in which the uneven portion has a composite structure of ridges and V-grooves, the height of the ridges protruding from the pattern forming surface 31a can be significantly suppressed, and the depth of the V-grooves recessed from the pattern forming surface 31a can be significantly suppressed. Can be significantly suppressed. As a result, the thickness of the reticle can be reduced, damage to the ridges can be suppressed, handling during storage and assembly can be facilitated, and a reticle having high resistance to impact and external force at the time of launch can be provided.

さらに、本実施の形態に係るレチクル30Aでは、パターン線を構成する凸条やV溝等の本数を適宜変更することにより、所望線幅のパターン線を容易に形成できる。そのため、レチクルパターンの基本構成は同一であるが、レチクルパターンを構成する各パターン線の線幅や組み合わせが異なる複数種類のレチクルを、光学部材31の板厚等を変更することなく容易に構成することができる。さらに、凸部や凹部等を単一の凸条やV溝等で構成した場合と比較して、パターンの明暗ムラを抑制してコントラストが均一なレチクルパターンを得ることができる。なお、傾斜面140を平坦な面とした構成を例示したが、傾斜面は曲面や放物面等であっても良い。 Further, in the reticle 30A according to the present embodiment, a pattern line having a desired line width can be easily formed by appropriately changing the number of ridges, V-grooves, etc. constituting the pattern line. Therefore, although the basic configuration of the reticle pattern is the same, a plurality of types of reticles having different line widths and combinations of the pattern lines constituting the reticle pattern can be easily configured without changing the plate thickness of the optical member 31. be able to. Further, as compared with the case where the convex portion or the concave portion is composed of a single convex or V-groove, it is possible to suppress unevenness in brightness of the pattern and obtain a reticle pattern having a uniform contrast. Although the configuration in which the inclined surface 140 is a flat surface is exemplified, the inclined surface may be a curved surface, a paraboloid, or the like.

次に、以上のようなレチクル30Aにおいて、傾斜面140で偏向された偏向光が観察者の眼に入射しないように設定される傾斜面140の傾斜角度について、レチクル30A1を例として説明する。 Next, in the reticle 30A as described above, the inclination angle of the inclined surface 140 set so that the deflected light deflected by the inclined surface 140 does not enter the observer's eyes will be described by taking the reticle 30A 1 as an example.

図8に示すように、レチクル30A1における凸条133の頂角をα、光軸Zに対する傾斜面140の傾斜角をα/2とする。このとき傾斜面140に入射した光は、傾斜角α/2が大きいほど光軸に近く、傾斜角α/2が小さいほど光軸Zから離れる方向に屈折する。そのため、傾斜面140に入射して屈折した光が接眼レンズ4に入射しないようにするためには、基本的には、傾斜面140の傾斜角α/2は所定角度以下とすることが好ましい。この所定角度(便宜的に「第1所定角度」という。)α1/2は、主として、対物レンズ1の集光角θとレチクル30A1の基材(光学部材31)の屈折率nと接眼レンズ4の開口(光束取り込み角)Vとに基づいて求めることができる。 As shown in FIG. 8, the apex angle of the ridge 133 in the reticle 30A 1 is α, and the inclination angle of the inclined surface 140 with respect to the optical axis Z is α / 2. At this time, the light incident on the inclined surface 140 is refracted in the direction closer to the optical axis as the inclination angle α / 2 is larger, and away from the optical axis Z as the inclination angle α / 2 is smaller. Therefore, in order to prevent the light incident on the inclined surface 140 and refracted from entering the eyepiece 4, basically, the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is preferably set to a predetermined angle or less. This predetermined angle (referred to as "first predetermined angle" for convenience) α 1/2 is mainly the focusing angle θ of the objective lens 1 and the refractive index n of the base material (optical member 31) of the reticle 30A 1 and the eyepiece. It can be obtained based on the aperture (light beam capture angle) V of the lens 4.

ライフルスコープの場合、対物レンズ1の集光角θは10°~30°程度、射出成形に適したレチクルの基材の屈折率nは1.46~1.53程度、接眼レンズ4の光束取り込み角Vは18°~26°程度である。そのため、上記第1所定角度α1/2は、接眼レンズ4の光束取り込み角Vに応じてほぼ定まる。接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°の光学系を用いた場合に第1所定角度α1/2は54°~58°、光束取り込み角Vが26°の光学系を用いた場合に第1所定角度α1/2は42°~47°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 In the case of a riflescope, the focusing angle θ of the objective lens 1 is about 10 ° to 30 °, the refractive index n of the base material of the reticle suitable for injection molding is about 1.46 to 1.53, and the light beam capture of the eyepiece lens 4. The angle V is about 18 ° to 26 °. Therefore, the first predetermined angle α 1/2 is substantially determined according to the light flux capture angle V of the eyepiece lens 4. When an optical system having a luminous flux capture angle V of 18 ° is used for the eyepiece lens 4, the first predetermined angle α 1/2 is 54 ° to 58 °, and when an optical system having a luminous flux capture angle V of 26 ° is used, the first predetermined angle α 1/2. 1 The predetermined angle α 1/2 is 42 ° to 47 °. This angle is the same when the ridge 133 is a V-groove 134.

さらに、レチクル基材の材料としてガラスモールド加工や、注型成形などに適した材料においてはレチクル基材の屈折率nは1.43~1.8程度である。このような基材を用いた場合、上記第1所定角度α1/2は、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°の光学系で52°~70°、光束取り込み角Vが26°の光学系で39°~62°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 Further, in a material suitable for glass molding or casting as a material for the reticle base material, the refractive index n of the reticle base material is about 1.43 to 1.8. When such a base material is used, the first predetermined angle α 1/2 has an optical system having a luminous flux capture angle V of 18 ° of the eyepiece lens 4 of 52 ° to 70 ° and a luminous flux capture angle V of 26 °. It is 39 ° to 62 ° in the optical system. This angle is the same when the ridge 133 is a V-groove 134.

一方、傾斜面140の傾斜角α/2が小さくなると、傾斜面140に入射して屈折した光の光軸Zに対する傾斜角が大きくなり、一方の傾斜面(傾斜角がα/2の傾斜面)140に入射して屈折した光が、他方の傾斜面(傾斜角が-α/2の傾斜面)140に入射するようになる。このような光は他方の傾斜面への入射角が大きいために他方の傾斜面で全反射され、いわゆる迷光となって接眼レンズ4に入射し得る。そのため、このような迷光の発生を抑制するためには、傾斜面140の傾斜角α/2は所定角度以上とすることが好ましい。この所定角度(便宜的に「第2所定角度」という。)α2/2は、主として、対物レンズ1の集光角θとレチクル30A1の基材の屈折率nと接眼レンズ4の光束取り込み角Vとに基づいて求めることができる。 On the other hand, when the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 becomes small, the inclined angle of the light incident on the inclined surface 140 with respect to the optical axis Z becomes large, and one inclined surface (inclined surface having an inclined angle of α / 2) becomes large. ) 140, the light refracted is incident on the other inclined surface (inclined surface having an inclination angle of −α/2) 140. Since such light is incident on the other inclined surface at a large angle, it is totally reflected by the other inclined surface and becomes so-called stray light, which can be incident on the eyepiece 4. Therefore, in order to suppress the generation of such stray light, it is preferable that the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is a predetermined angle or more. This predetermined angle (referred to as "second predetermined angle" for convenience) α 2/2 mainly captures the focusing angle θ of the objective lens 1, the refraction coefficient n of the base material of the reticle 30A 1 , and the light beam of the eyepiece lens 4. It can be obtained based on the angle V.

射出成型に適した基材においては、対物レンズ1として集光角θ=10°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は21°~22°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は23°~24°となる。また、対物レンズ1として集光角θが30°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は23°~24°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は25°~26°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 In a substrate suitable for injection molding, when an optical system having a focusing angle θ = 10 ° is used as the objective lens 1, the light beam capture angle V of the eyepiece lens 4 is 18 ° and the second predetermined angle α 2/2 . Is 21 ° to 22 °, and when the light beam capture angle V is 26 °, the second predetermined angle α 2/2 is 23 ° to 24 °. Further, when an optical system having a focusing angle θ of 30 ° is used as the objective lens 1, the light beam capture angle V of the eyepiece lens 4 is 18 °, the second predetermined angle α 2/2 is 23 ° to 24 °, and the light beam. When the capture angle V is 26 °, the second predetermined angle α 2/2 is 25 ° to 26 °. This angle is the same when the ridge 133 is a V-groove 134.

さらに、ガラスモールド加工や、注型成形などに適した基材においては、対物レンズ1として集光角θ=10°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は21°~24°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度はα2/223°~25°となる。また、対物レンズ1として集光角θが30°の光学系を用いた場合、接眼レンズ4の光束取り込み角Vが18°で、第2所定角度α2/2は23°~25°、光束取り込み角Vが26°では、第2所定角度α2/2は25°~27°となる。この角度は凸条133をV溝134とした場合についても同様である。 Further, in a substrate suitable for glass molding or casting, when an optical system having a focusing angle θ = 10 ° is used as the objective lens 1, the light beam capture angle V of the eyepiece lens 4 is 18 °. When the second predetermined angle α 2/2 is 21 ° to 24 ° and the light beam capture angle V is 26 °, the second predetermined angle is α 2/223 ° to 25 °. Further, when an optical system having a focusing angle θ of 30 ° is used as the objective lens 1, the light beam capture angle V of the eyepiece lens 4 is 18 °, the second predetermined angle α 2/2 is 23 ° to 25 °, and the light beam. When the capture angle V is 26 °, the second predetermined angle α 2/2 is 25 ° to 27 °. This angle is the same when the ridge 133 is a V-groove 134.

以上から、凸条133(V溝134)の傾斜面140の傾斜角度α/2は、第1所定角度α1/2以下であることが好ましく、さらに第2所定角度α2/2以上である角度範囲内(α2/2≦α/2≦α1/2)で設定することが好ましい。具体的には、傾斜面140の傾斜角度α/2を21°≦α/2≦70°に設定することで、ガラスモールド加工や注型成形に好適な比較的高屈折率基材のレチクルを用いたライフルスコープでパターン線32a,32bを明瞭に視認することが可能になる。また、傾斜面140の傾斜角度α/2を21°≦α/2≦58°に設定することで、射出成形に好適な基材のレチクルを用いたライフルスコープでパターン線32a,32bを明瞭に視認することが可能になる。 From the above, the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 of the ridge 133 (V groove 134) is preferably the first predetermined angle α 1/2 or less, and further is the second predetermined angle α 2/2 or more. It is preferable to set within the angle range (α 2/2 ≦ α / 2 ≦ α 1/2 ). Specifically, by setting the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 to 21 ° ≤ α / 2 ≤ 70 °, a reticle of a relatively high refractive index base material suitable for glass molding and casting can be obtained. The pattern lines 32a and 32b can be clearly visually recognized with the used riflescope. Further, by setting the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 to 21 ° ≤ α / 2 ≤ 58 °, the pattern lines 32a and 32b can be clearly defined by the rifle scope using the reticle of the base material suitable for injection molding. It becomes possible to visually recognize.

また、傾斜面140の傾斜角度α/2を26°≦α/2≦42°に設定すれば、射出成形に好適な基材のレチクル及び、ガラスモールド加工や注型成形に好適なほとんどの基材のレチクルを用いたライフルスコープでコントラストが高いパターン線32a,32bを明瞭に視認することができる。さらに、傾斜面140の傾斜角度α/2を27°≦α/2≦39°に設定すれば、ガラスモールド加工や、樹脂材料を用いた射出成形、注型成形を含め、型を用いて成形加工により形成されるレチクルを用いたライフルスコープのほぼ全てについてコントラストが高いパターン線32a,32bを明瞭に視認することができる。 Further, if the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is set to 26 ° ≤ α / 2 ≤ 42 °, the reticle of the base material suitable for injection molding and most of the bases suitable for glass molding and casting. The pattern lines 32a and 32b with high contrast can be clearly visually recognized by the rifle scope using the reticle of the material. Further, if the inclination angle α / 2 of the inclined surface 140 is set to 27 ° ≤ α / 2 ≤ 39 °, molding using a mold is included, including glass molding, injection molding using a resin material, and casting molding. The pattern lines 32a and 32b having high contrast can be clearly visually recognized for almost all of the rifle scopes using the reticle formed by processing.

[第2実施形態]
次に、第2実施形態のレチクル30Bについて説明する。第2実施形態のレチクル30Bは、パターン線32a,32bが暗黒ではなく、観察対象側からの光を一部透過して観察者が観察対象を視認可能に構成される。第2実施形態のレチクル30Bは、凸部33a,33bにおける凸条133、凹部34a,34bにおけるV溝134、凹凸部35a,35bにおける凸条133及びV溝134の、断面形状の一部のみが異なり、他は既に説明した第1実施形態のレチクル30Aと同様である。そこで、以下では相違する部分を中心に説明する。
[Second Embodiment]
Next, the reticle 30B of the second embodiment will be described. In the reticle 30B of the second embodiment, the pattern lines 32a and 32b are not dark, and a part of the light from the observation target side is transmitted so that the observer can visually recognize the observation target. The reticle 30B of the second embodiment has only a part of the cross-sectional shape of the ridges 133 in the convex portions 33a and 33b, the V grooves 134 in the concave portions 34a and 34b, and the ridges 133 and the V grooves 134 in the concave and convex portions 35a and 35b. Other than that, it is the same as the reticle 30A of the first embodiment described above. Therefore, the differences will be mainly described below.

図9に、レチクル30B1をパターン線32aに垂直な面で切断した模式的な断面図を示しており、この図を参照して第1構成形態のレチクル30B1について説明する。レチクル30B1は、凸条133を構成する一対の傾斜面140,140の間に、観察対象側から入射した光を観察者が視認し得るように透過する透過面145を設けて構成される。透過面145は、凸条133の頂部を平坦に削り落としたような態様であり、左右の傾斜面140、140の間を結んで透過面145がパターン形成面31aと略平行に形成される。 FIG. 9 shows a schematic cross-sectional view of the reticle 30B 1 cut along a plane perpendicular to the pattern line 32a, and the reticle 30B 1 of the first configuration form will be described with reference to this figure. The reticle 30B 1 is configured by providing a transmission surface 145 that transmits light incident from the observation target side so that the observer can visually recognize it between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the protrusion 133. The transmission surface 145 has a mode in which the top of the ridge 133 is scraped off flatly, and the transmission surface 145 is formed substantially parallel to the pattern forming surface 31a by connecting the left and right inclined surfaces 140 and 140.

このような構成のレチクル30B1では、観察対象側からレチクル30B1に入射した光のうち傾斜面140に入射した光は、傾斜面140で屈折して光軸Zから離間する方向に偏向され光学部材の対向面31bから出射する。このように偏向された光は光路外に導出されるため観察者の目には見えず暗黒の線像として入射する。一方、観察対象側からレチクル30B1に入射した光のうち透過面145に入射した光は、透過面145でほとんど屈折されることなく光軸Zに沿って対向面31bから出射する。対向面31bから出射した光は接眼レンズ4を通り、観察者の目に観察対象の部分的な像が入射する。 In the reticle 30B 1 having such a configuration, among the light incident on the reticle 30B 1 from the observation target side, the light incident on the inclined surface 140 is refracted by the inclined surface 140 and deflected in a direction away from the optical axis Z to be optical. It emits from the facing surface 31b of the member. Since the light deflected in this way is led out of the optical path, it is invisible to the observer's eyes and is incident as a dark line image. On the other hand, among the light incident on the reticle 30B 1 from the observation target side, the light incident on the transmission surface 145 is emitted from the facing surface 31b along the optical axis Z with almost no refraction by the transmission surface 145. The light emitted from the facing surface 31b passes through the eyepiece 4 and a partial image of the observation target is incident on the observer's eyes.

隣接する他の凸条133も同様であり、観察対象側から傾斜面140,140,140…に入射した光は光路外に偏向される。そのため観察者の目には複数の暗黒の線像が入射し、観察者にはこれらの複数の線像が一体になってパターン線32a,32bの像として認識される。また、観察対象側から透過面145,145,145…に入射した光は光軸Zに沿って透過する。そのため観察者の目には複数の観察対象の部分的な像が入射し、観察者にはこれらの部分的な像が一体になって観察対象の像として認識される。 The same applies to the other adjacent ridges 133, and the light incident on the inclined surfaces 140, 140, 140 ... From the observation target side is deflected to the outside of the optical path. Therefore, a plurality of dark line images are incident on the observer's eyes, and the observer recognizes these plurality of line images as an image of the pattern lines 32a and 32b. Further, the light incident on the transmission surfaces 145, 145, 145 ... From the observation target side is transmitted along the optical axis Z. Therefore, a plurality of partial images of the observation target are incident on the observer's eyes, and these partial images are collectively recognized as an observation target image by the observer.

図10は、パターン線32bと観察対象Tとが重なった状況で、これらの像が観察者にどのように認識されるかを説明するための説明図であり、(a)は第1実施形態のレチクル30Aの場合、(b)は第2実施形態のレチクル30Bの場合である。図10(a)に示すように、第1実施形態のレチクル30Aでは、パターン線32bが暗黒の線になり、観察者にはこのパターン線32bと重なった部分の観察対象Tの像は見えない。一方、図10(b)に示すように、第2実施形態のレチクル30Bでは、パターン線32bの部分は複数の暗黒の線像と観察対象Tの部分的な透過像とが合成された状態になる。そのため、観察者にはパターン線32bの像と観察対象Tの像の両方が視認され、薄暗いパターン線32bを通して観察対象Tが見えるように認識される。これは、透明なガラス板に、光を透過しない遮蔽部と光を透過するスリット部とを交互に密接して形成したスリット板を通して観察対象を見たときに似た状況といえる。 FIG. 10 is an explanatory diagram for explaining how these images are perceived by the observer in a situation where the pattern line 32b and the observation target T overlap each other, and FIG. 10A is an explanatory diagram for explaining the first embodiment. In the case of the reticle 30A, (b) is the case of the reticle 30B of the second embodiment. As shown in FIG. 10A, in the reticle 30A of the first embodiment, the pattern line 32b becomes a dark line, and the observer cannot see the image of the observation target T in the portion overlapping the pattern line 32b. .. On the other hand, as shown in FIG. 10B, in the reticle 30B of the second embodiment, the portion of the pattern line 32b is in a state where a plurality of dark line images and a partially transmitted image of the observation target T are combined. Become. Therefore, both the image of the pattern line 32b and the image of the observation target T are visually recognized by the observer, and the observation target T is recognized so as to be visible through the dim pattern line 32b. It can be said that this is a similar situation when the observation target is viewed through a slit plate formed by alternately and closely forming a shielding portion that does not transmit light and a slit portion that transmits light on a transparent glass plate.

図9には、凸条133を構成する一対の傾斜面140,140の間(凸条の頂部)に透過面145を設けた構成を例示したが、隣接する凸条133,133の対向する二つの傾斜面140,140の間(隣接する凸条間の底部)に透過面145を設けてもよく、凸条の頂部と凸条間の底部の両方に設けてもよい。 FIG. 9 illustrates a configuration in which the transmission surface 145 is provided between the pair of inclined surfaces 140 and 140 (the top of the ridge) constituting the ridge 133, but the two adjacent ridges 133 and 133 face each other. The transmission surface 145 may be provided between the two inclined surfaces 140 and 140 (the bottom portion between the adjacent ridges), or may be provided on both the top of the ridges and the bottom between the ridges.

図11に、第2構成形態のレチクル30B2をパターン線32aに垂直な面で切断した断面図を示す。レチクル30B2は、V溝134を構成する一対の傾斜面140,140の間(V溝の底部)に、観察対象側から入射した光を観察者が視認し得るように透過する透過面145を設けて構成される。透過面145は、V溝134の底部を平坦に埋めたような態様であり、左右の傾斜面140,140の間を結んで透過面145がパターン形成面31aと略平行に形成される。 FIG. 11 shows a cross-sectional view of the reticle 30B 2 of the second configuration form cut along a plane perpendicular to the pattern line 32a. The reticle 30B 2 has a transmission surface 145 that transmits light incident from the observation target side between the pair of inclined surfaces 140 and 140 (bottom of the V groove) constituting the V groove 134 so that the observer can visually recognize the light. It is provided and configured. The transmission surface 145 is such that the bottom of the V-groove 134 is flatly filled, and the transmission surface 145 is formed substantially parallel to the pattern forming surface 31a by connecting the left and right inclined surfaces 140 and 140.

このような構成のレチクル30B2においても、観察対象側から入射した光の挙動は第1構成形態のレチクル30B1と同様である。すなわち、観察対象側からレチクル30B2に入射した光のうち傾斜面140に入射した光は、傾斜面140で屈折して光軸Zから離間する方向に偏向され光路外に出射するため、観察者の目には暗黒の線像として入射する。また、観察対象側からレチクル30B2に入射した光のうち透過面145に入射した光は、透過面145でほとんど屈折されることなく光軸Zに沿って進み観察者の目に観察対象の部分的な像が入射する。 Even in the reticle 30B 2 having such a configuration, the behavior of the light incident from the observation target side is the same as that of the reticle 30B 1 in the first configuration form. That is, among the light incident on the reticle 30B 2 from the observation target side, the light incident on the inclined surface 140 is refracted by the inclined surface 140, deflected in a direction away from the optical axis Z, and emitted out of the optical path. It is incident on the eyes as a dark line image. Further, among the light incident on the reticle 30B 2 from the observation target side, the light incident on the transmission surface 145 travels along the optical axis Z with almost no refraction on the transmission surface 145, and the portion to be observed by the observer's eyes. Image is incident.

隣接する他のV溝134も同様であり、観察対象側から傾斜面140,140,140…に入射した光は光路外に偏向され、観察者の目には複数の暗黒の線像が入射する。観察者にはこれらの複数の線像が一体になってパターン線32a,32bの像として認識される。観察対象側から透過面145,145,145…に入射した光は光軸に沿って透過し、観察者の目には複数の観察対象の部分的な像が入射する。観察者にはこれらの部分的な像が一体になって観察対象の像として認識される。 The same applies to the other adjacent V-grooves 134, and the light incident on the inclined surfaces 140, 140, 140 ... From the observation target side is deflected out of the optical path, and a plurality of dark line images are incident on the observer's eyes. .. The observer recognizes these plurality of line images as an image of the pattern lines 32a and 32b as a unit. The light incident on the transmission surfaces 145, 145, 145 ... from the observation target side is transmitted along the optical axis, and a plurality of partial images of the observation target are incident on the observer's eyes. The observer recognizes these partial images as an image to be observed.

そのため、例えばパターン線32bの部分は複数の暗黒の線像と観察対象Tの部分的な透過像とが合成された状態になり、図10(b)に示したように、観察者には薄暗いパターン線32bを通して観察対象Tが見えるように認識される。 Therefore, for example, the portion of the pattern line 32b is in a state in which a plurality of dark line images and a partially transmitted image of the observation target T are combined, and as shown in FIG. 10B, it is dim to the observer. The observation target T is recognized so as to be visible through the pattern line 32b.

なお、図11には、V溝134を構成する一対の傾斜面140,140の間(V溝の底部)に透過面145を設けた構成を例示したが、隣接するV溝134,134の背中合わせの二つの傾斜面140,140の間(隣接するV溝間の頂部)に透過面145を設けてもよく、V溝の底部とV溝間の頂部の両方に設けてもよい。 Although FIG. 11 illustrates a configuration in which the transmission surface 145 is provided between the pair of inclined surfaces 140 and 140 (the bottom of the V groove) constituting the V groove 134, the adjacent V grooves 134 and 134 are back-to-back. The transmission surface 145 may be provided between the two inclined surfaces 140 and 140 (the top between adjacent V-grooves), or may be provided at both the bottom of the V-groove and the top between the V-grooves.

第3構成形態のレチクル30B3は、複数の凸条133及びV溝134からなるが凹凸部35における、凸条133の頂部及び/またはV溝134の底部に平坦な透過面145を設けて構成される。図12には、凸条133の頂部とV溝134の底部の両方に透過面145を形成した構成の凹凸部35aの断面図を例示する。これは、上述した第1構成形態のレチクル30B1と第2構成形態のレチクル30B2とを一体化させた構造であり、観察対象側から入射した光の挙動は、既述した第1,第2構成形態のレチクル30B1,30B2と同様である。 The reticle 30B 3 of the third configuration form is composed of a plurality of protrusions 133 and V-grooves 134, but is configured by providing a flat transmission surface 145 at the top of the protrusions 133 and / or the bottom of the V-groove 134 in the uneven portion 35. Will be done. FIG. 12 illustrates a cross-sectional view of a concave-convex portion 35a having a structure in which a transmission surface 145 is formed on both the top of the ridge 133 and the bottom of the V-groove 134. This is a structure in which the reticle 30B 1 of the first configuration and the reticle 30B 2 of the second configuration are integrated as described above, and the behavior of the light incident from the observation target side is the first and the first described above. It is the same as the reticle 30B 1 and 30B 2 having two configurations.

すなわち、観察対象側からレチクル30B3に入射した光のうち傾斜面140に入射した光は、光軸Zから離間する方向に偏向されて光路外に出射し観察者の目には暗黒の線像として入射する。観察者にはこれらの複数の線像が一体になってパターン線32a,32bの像として認識される。観察対象側からレチクル30B3に入射した光のうち透過面145に入射した光は、光軸Zに沿って進み観察者の目に観察対象の部分的な像が入射する。観察者にはこれらの部分的な像が一体になって観察対象の像として認識される。そのため、パターン線32bの部分は複数の暗黒の線像と観察対象Tの部分的な透過像とが合成された状態になり、図10(b)に示したように、観察者には薄暗いパターン線32bを通して観察対象Tが見えるように認識される。 That is, of the light incident on the reticle 30B 3 from the observation target side, the light incident on the inclined surface 140 is deflected in the direction away from the optical axis Z and emitted out of the optical path, and is a dark line image to the observer's eyes. Incident as. The observer recognizes these plurality of line images as an image of the pattern lines 32a and 32b as a unit. Of the light incident on the reticle 30B 3 from the observation target side, the light incident on the transmission surface 145 travels along the optical axis Z, and a partial image of the observation target is incident on the observer's eyes. The observer recognizes these partial images as an image to be observed. Therefore, the portion of the pattern line 32b is in a state in which a plurality of dark line images and a partially transmitted image of the observation target T are combined, and as shown in FIG. 10 (b), the pattern is dim to the observer. The observation target T is recognized so as to be visible through the line 32b.

なお、図12には、凸条133を構成する一対の傾斜面140,140の間(凸条の頂部)、及びV溝134を構成する一対の傾斜面140,140の間(V溝の底部)の両方に透過面145を設けた構成を例示したが、透過面145をいずれか一方(例えば凸条の頂部)にのみ設ける構成としても良い。 In addition, in FIG. 12, between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 (the top of the ridge) and between the pair of inclined surfaces 140 and 140 constituting the V groove 134 (the bottom of the V groove). ), But the transmission surface 145 may be provided only on one of them (for example, the top of the ridge).

以上説明した第2実施形態のレチクル30B(30B1,30B2,30B3)において、凸部33(33a,33b),凹部34(34a,34b)、凹凸部35(35a,35b)における透過面145の構成比率ζは1%~99%とすることができる。図9,図11,図12の各図中に示すように、光軸方向に見た傾斜面140の幅をs1,s2とし、透過面145の幅をt1,t2とする。このとき、凸部33における透過面145の構成比率ζはζ=t1/(2s1+t1)、凹部34における透過面145の構成比率はζ=t2/(2s2+t2)、凹凸部35にける透過面145の構成比率はζ=(t1+t2)/(2s1+t1+2s2+t2)で求められる。 In the reticle 30B (30B 1 , 30B 2 , 30B 3 ) of the second embodiment described above, the transmission surface in the convex portion 33 (33a, 33b), the concave portion 34 (34a, 34b), and the uneven portion 35 (35a, 35b). The composition ratio ζ of 145 can be 1% to 99%. As shown in FIGS. 9, 11, and 12, the widths of the inclined surface 140 seen in the optical axis direction are s 1 and s 2 , and the widths of the transmission surface 145 are t 1 and t 2 . At this time, the composition ratio ζ of the transmission surface 145 in the convex portion 33 is ζ = t 1 / (2s 1 + t 1 ), and the composition ratio of the transmission surface 145 in the concave portion 34 is ζ = t 2 / (2s 2 + t 2 ). The composition ratio of the transmission surface 145 in the portion 35 is obtained by ζ = (t 1 + t 2 ) / (2s 1 + t 1 + 2s 2 + t 2 ).

透過面145の構成比率ζを変化させたときの、観察対象Tとパターン線32bの見え方を模式的に示した説明図を図13(a),(b),(c)に示す。各図における透過面145の構成比率ζは、(a),(b),(c)の順にζ1<ζ2<ζ3である。図示するように、透過面145の構成比率ζが小さいほどパターン線32bが明瞭に視認され、透過面145の構成比率ζが大きくなるほど観察対象Tが明瞭に視認される。透過面145がパターン形成面31aと平行な平面である場合、透過面145の構成比率は光軸に沿った光の透過率とほぼ同義になる。 13 (a), 13 (b), and 13 (c) show explanatory diagrams schematically showing the appearance of the observation target T and the pattern line 32b when the composition ratio ζ of the transmission surface 145 is changed. The composition ratio ζ of the transmission surface 145 in each figure is ζ 123 in the order of (a), (b), and (c). As shown in the figure, the smaller the composition ratio ζ of the transmission surface 145 is, the more clearly the pattern line 32b is visually recognized, and the larger the composition ratio ζ of the transmission surface 145 is, the more clearly the observation target T is visually recognized. When the transmitting surface 145 is a plane parallel to the pattern forming surface 31a, the composition ratio of the transmitting surface 145 is substantially synonymous with the transmittance of light along the optical axis.

ここで、人間の目のコントラスト識別能力は1~2%程度である(ウェーバー・フェヒナーの法則)。すなわち、人間の目は1%程度の輝度差がある2つの物体を識別することができる。そのため、明るい背景の中に1%程度暗いパターン線を識別することができ、暗いパターン線の中に1%程度明るい観察対象を認識することができる。従って、凸部33,凹部34、凹凸部35における透過面145の構成比率ζを1%~99%とすることにより、観察対象Tとパターン線32a,32bの両方を視認することができる。なお、透過面145の構成比率ζは10%~40%とすることが好ましい。ζ<10%では観察対象Tの細かい動きを視認しにくくなり、ζ>40ではパターン線32a,32bが薄くなってターゲットに照準を合わせづらくなるからである。また、構成比率ζを25%~30%とすることがより好ましい。この範囲内で構成比率ζを設定すれば、快晴の昼光下のような明るい状況でも夕方や月光下のような薄暗い状況でも、観察対象T及びパターン線32a,32bを視認でき、容易にターゲットに照準を合わせられるからである。 Here, the contrast discrimination ability of the human eye is about 1 to 2% (Weber-Fechner's law). That is, the human eye can distinguish between two objects having a brightness difference of about 1%. Therefore, it is possible to identify a pattern line that is about 1% dark in a bright background, and it is possible to recognize an observation target that is about 1% bright in a dark pattern line. Therefore, by setting the composition ratio ζ of the transmission surface 145 in the convex portion 33, the concave portion 34, and the uneven portion 35 to 1% to 99%, both the observation target T and the pattern lines 32a and 32b can be visually recognized. The composition ratio ζ of the transmission surface 145 is preferably 10% to 40%. This is because when ζ <10%, it becomes difficult to visually recognize the fine movement of the observation target T, and when ζ> 40, the pattern lines 32a and 32b become thin and it becomes difficult to aim at the target. Further, it is more preferable that the composition ratio ζ is 25% to 30%. If the composition ratio ζ is set within this range, the observation target T and the pattern lines 32a and 32b can be visually recognized even in a bright situation such as sunny daylight or in a dim situation such as evening or moonlight, and the target can be easily targeted. Because you can aim at.

また、人間の目は0.1mm程度の分解能を持つといわれる。例えば、暗黒の中に2本の明線が並んで形成された構造を裸眼で見たときに、明線の間隔が0.1mmよりも大きいと人間は2本の線として認識し、間隔が0.1mmよりも小さいと人間は1本の線として認識する。同様に、明るい背景の中に2本の暗線が並んで形成された構造を裸眼で見たときに、暗線の間隔が0.1mmよりも大きいと、人間は2本の線として認識し、暗線の間隔が0.1mmよりも小さいと、人間は1本の線として認識する。そのため、明線と暗線が繰り返されるレチクル30Bにおいては、観察者がレチクルパターン32を目視したときの隣接する透過面145の間隔及び隣接する傾斜面140の間隔が各々0.1mm以下となるように設定することが好ましい。 Further, the human eye is said to have a resolution of about 0.1 mm. For example, when a structure formed by arranging two bright lines side by side in darkness is viewed with the naked eye, humans recognize that the distance between the bright lines is larger than 0.1 mm as two lines, and the distance is large. Humans recognize it as a single line if it is smaller than 0.1 mm. Similarly, when a structure formed by arranging two dark lines side by side in a bright background is viewed with the naked eye, if the distance between the dark lines is larger than 0.1 mm, humans recognize it as two lines and the dark lines. If the distance between the lines is smaller than 0.1 mm, humans recognize it as a single line. Therefore, in the reticle 30B in which bright lines and dark lines are repeated, the distance between the adjacent transmission surfaces 145 and the distance between the adjacent inclined surfaces 140 when the observer visually observes the reticle pattern 32 is 0.1 mm or less, respectively. It is preferable to set it.

ライフルスコープRSにおいては、レチクル30Bの像は接眼レンズ4で拡大され観察者の目に入射する。いま、接眼レンズ4の倍率を5倍と仮定すれば、透過面145の間隔及び傾斜面140の間隔は0.1/5=0.02mm=20μm以下に設定することが好ましい。また、レチクル30Bを第1焦点面に配設し最高倍率32倍のズーム光学系を組んだ場合には、透過面145の間隔及び傾斜面140の間隔を0.1/(32/5)=0.0156mm=15.6μm以下に設定することが好ましい。このように、透過面145の間隔及び傾斜面140の間隔、より端的には凸条133やV溝134の形成ピッチは、レチクル30を用いる光学系の構成に応じて設定することができる。 In the riflescope RS, the image of the reticle 30B is magnified by the eyepiece 4 and incident on the observer's eyes. Assuming that the magnification of the eyepiece 4 is 5 times, it is preferable to set the distance between the transmission surfaces 145 and the distance between the inclined surfaces 140 to 0.1 / 5 = 0.02 mm = 20 μm or less. Further, when the reticle 30B is arranged on the first focal plane to form a zoom optical system having a maximum magnification of 32 times, the spacing between the transmission surfaces 145 and the spacing between the inclined surfaces 140 is 0.1 / (32/5) =. It is preferable to set it to 0.0156 mm = 15.6 μm or less. As described above, the spacing between the transmission surfaces 145 and the spacing between the inclined surfaces 140, and more simply, the formation pitch of the ridges 133 and the V-groove 134 can be set according to the configuration of the optical system using the reticle 30.

前述した透過面145の構成比率ζは、パターン線の幅方向の位置、あるいはパターン線の長さ方向の位置によって異なる比率に設定することができる。例えば、図14に示すように、パターン線32bについて、線幅方向の外側に位置する凸条133は透過面145の構成比率ζを低く(観察対象からの光の透過率を低く)、内側に位置する凸条133は透過面145の構成比率ζを高く(観察対象からの光の透過率を高く)設定する。具体的には、線幅方向の外縁に位置する1列~数列の凸条133は外光強度・倍率が変化しても線を黒く保てる構成比率とし、その内側に位置する凸条133は外光強度・倍率が変化してもターゲットを視認できる構成比率に設定する。このような構成によれば、パターン線32bの輪郭が暗線で明確に視認されるためターゲットに容易に照準を合わせることができ、パターン線32bの内側でも観察対象が視認できるため、視野内に捕捉したターゲットが小さい場合でもターゲットを見失うことなく照準を合わせることができる。 The composition ratio ζ of the transmission surface 145 described above can be set to a different ratio depending on the position in the width direction of the pattern line or the position in the length direction of the pattern line. For example, as shown in FIG. 14, for the pattern line 32b, the ridges 133 located outside in the line width direction have a low constituent ratio ζ of the transmission surface 145 (low transmittance of light from the observation target) and inside. The ridge 133 to be located sets the constituent ratio ζ of the transmitting surface 145 to be high (the transmittance of light from the observation target is high). Specifically, the ridges 133 of one to several rows located on the outer edge in the line width direction have a composition ratio that can keep the line black even if the external light intensity / magnification changes, and the ridges 133 located inside the ridges 133 are outside. Set the composition ratio so that the target can be visually recognized even if the light intensity and magnification change. According to such a configuration, since the outline of the pattern line 32b is clearly visible as a dark line, it is possible to easily aim at the target, and the observation target can be visually recognized even inside the pattern line 32b, so that the object can be captured in the field of view. Even if the target is small, you can aim without losing sight of the target.

また、図15に示すように、パターン線32bについて、凸条133の透過面145の構成比率ζは、レチクルパターン32の外周側で低く、中心寄りで高く設定する。このような構成によれば、外周側でパターン線32bが明確に視認されるため容易にターゲットに照準を合わせることができ、中心寄りではパターン線32bの内側でもターゲットが視認できるため、視野内に捕捉したターゲットが小さい場合でもターゲットを見失うことなく照準を合わせることができる。以上は線幅が広いパターン線32bに適用した構成を例示したが、線幅が狭いパターン線32aに適用することもできる。 Further, as shown in FIG. 15, for the pattern line 32b, the composition ratio ζ of the transmission surface 145 of the ridge 133 is set low on the outer peripheral side of the reticle pattern 32 and high on the outer peripheral side. According to such a configuration, since the pattern line 32b is clearly visible on the outer peripheral side, the target can be easily aimed at, and the target can be visually recognized even inside the pattern line 32b near the center, so that the target can be seen in the field of view. Even if the captured target is small, you can aim without losing sight of the target. Although the configuration applied to the pattern line 32b having a wide line width has been illustrated above, it can also be applied to the pattern line 32a having a narrow line width.

なお、透過面145をパターン形成面31aと略平行な平面とした構成を説明したが、透過面145は曲率半径が所定以上の面であれば、曲面や放物面等であっても良い。具体的な構成例を図16に示す。図16における(a)は凸条133の頂部に曲率半径rの凸状の透過面145を形成した構成例、(b)は凸条133の頂部に曲率半径-rの凹状の透過面145を形成した構成例、(c)はV溝134の底部に曲率半径-rの凹状の透過面145を形成した構成例である。 Although the configuration in which the transmission surface 145 is a plane substantially parallel to the pattern forming surface 31a has been described, the transmission surface 145 may be a curved surface, a parabolic surface, or the like as long as the radius of curvature is a predetermined surface or more. A specific configuration example is shown in FIG. In FIG. 16, (a) is a configuration example in which a convex transmission surface 145 having a radius of curvature r is formed on the top of the protrusion 133, and (b) is a configuration example in which a concave transmission surface 145 having a radius of curvature −r is formed on the top of the protrusion 133. The formed configuration example, (c) is a configuration example in which a concave transmission surface 145 having a radius of curvature −r is formed at the bottom of the V groove 134.

透過面145が曲面の場合、透過面145に入射した光は透過面の曲率に応じた広がり角で発散するが、入射光の一部は接眼レンズ4を通って観察者の目に入射する。観察者の目に入射する光は透過面145の曲率半径が小さいほど少なくなり、観察対象の部分像も歪んだ形になる。しかし、透過面145の曲率半径が所定以上であれば、観察対象の部分像は大きく歪むことなく観察者が視認できる。上記所定値はライフルスコープの構成や観察対象の明るさ等により相違するが、概ね2μm以上であれば観察対象の像を視認することができる。 When the transmitting surface 145 is a curved surface, the light incident on the transmitting surface 145 is diverged at a spreading angle according to the curvature of the transmitting surface, but a part of the incident light is incident on the observer's eyes through the eyepiece 4. The smaller the radius of curvature of the transmission surface 145, the smaller the amount of light incident on the observer's eyes, and the partial image to be observed becomes distorted. However, if the radius of curvature of the transmission surface 145 is at least a predetermined value, the partial image to be observed can be visually recognized by the observer without being significantly distorted. The predetermined value differs depending on the configuration of the rifle scope, the brightness of the observation target, and the like, but the image of the observation target can be visually recognized if the value is approximately 2 μm or more.

次に、第3の実施形態として、レチクルパターン32の中心にポインターを有するレチクルユニット3について図17~図19を参照して説明する。これらの図面は、レチクルユニット3の構成を説明するための説明図であり、図17は照明光の光路を示す説明図、図18はレチクルのパターン形成面31aに形成される反射部の斜視図、図19はレチクルパターン32に対する照明光の投射状態を示すレチクルユニットの正面図である。 Next, as a third embodiment, the reticle unit 3 having the pointer at the center of the reticle pattern 32 will be described with reference to FIGS. 17 to 19. These drawings are explanatory views for explaining the configuration of the reticle unit 3, FIG. 17 is an explanatory view showing an optical path of illumination light, and FIG. 18 is a perspective view of a reflection portion formed on the pattern forming surface 31a of the reticle. FIG. 19 is a front view of the reticle unit showing the projection state of the illumination light with respect to the reticle pattern 32.

レチクルユニット3は、レチクル30Cと、照明光を放射する光源38と、光源38から放射された光を集光する集光部(例えば、コンデンサレンズ)39と、を有して構成される。レチクル30Cは、第1実施形態として説明したレチクル30A1~30A3、及び第2の実施形態として説明したレチクル30B1~30B3のいずれかを基礎とし、さらに光学部材のパターン形成面31aに、反射面を有する反射部37が設けられて構成される。 The reticle unit 3 includes a reticle 30C, a light source 38 that emits illumination light, and a condensing unit (for example, a condenser lens) 39 that condenses the light emitted from the light source 38. The reticle 30C is based on either the reticle 30A 1 to 30A 3 described as the first embodiment or the reticle 30B 1 to 30B 3 described as the second embodiment, and is further formed on the pattern forming surface 31a of the optical member. A reflecting portion 37 having a reflecting surface is provided and configured.

反射部37は、光学部材31のパターン形成面31aの略中央部に開口する凹部37aとして形成され、この凹部37aを構成する面の一部が反射面37cを構成する。反射部37は、概観的には、円柱を斜めに切断したような形状で、反射面37cをパターン形成面31aに射影したときの形状は円形である。反射部37は、十字線状のレチクルパターン32においてx軸方向に延びるパターン線とy軸方向に延びるパターン線の交点、すなわち円板状のレチクル30Cの中心に位置し、光学部材31のパターン形成面31a側(観察対象側)に形成される。 The reflecting portion 37 is formed as a recess 37a that opens in a substantially central portion of the pattern forming surface 31a of the optical member 31, and a part of the surface constituting the recess 37a constitutes the reflecting surface 37c. The reflecting portion 37 is generally shaped like a cylinder cut diagonally, and the shape when the reflecting surface 37c is projected onto the pattern forming surface 31a is circular. The reflective portion 37 is located at the intersection of the pattern line extending in the x-axis direction and the pattern line extending in the y-axis direction in the cross-shaped reticle pattern 32, that is, at the center of the disk-shaped reticle 30C, and forms the pattern of the optical member 31. It is formed on the surface 31a side (observation target side).

光源38から放射された照明光は集光部39で集光され、その像が反射部37の反射面37c上に形成される。光源38の像は反射面37cでライフルスコープRSの光軸方向(z軸方向)に反射され、学部材の対向面31bから出射する。既述したように、接眼レンズ4は二次像IM2と重ね合わせてレチクルパターン32の像を視認可能に構成される。反射面37cは接眼レンズ4の焦点深度内に設けられており、反射面37cで反射された光源38の像も合わせて観察することができる。そのため、観察者はレチクルパターン32の中心、すなわち、ライフルスコープRSの光軸上に、光源38の像をドット像として視認することができる。 The illumination light emitted from the light source 38 is collected by the condensing unit 39, and the image is formed on the reflecting surface 37c of the reflecting unit 37. The image of the light source 38 is reflected by the reflecting surface 37c in the optical axis direction (z-axis direction) of the riflescope RS, and is emitted from the facing surface 31b of the academic member. As described above, the eyepiece 4 is superposed on the secondary image IM2 so that the image of the reticle pattern 32 can be visually recognized. The reflecting surface 37c is provided within the depth of focus of the eyepiece 4, and the image of the light source 38 reflected by the reflecting surface 37c can also be observed. Therefore, the observer can visually recognize the image of the light source 38 as a dot image on the center of the reticle pattern 32, that is, on the optical axis of the riflescope RS.

ここで、集光部39は、光源38から放射された照明光を、少なくとも延長線が交差する2本のパターン線に挟まれた角度位置から反射部37(反射面37c)に導くように構成される。レチクルパターンが十字線の場合には、図19に示すように、集光部39は、光源38から放射された光が、x軸方向に延びるパターン線及びy軸方向に延びるパターン線に対して略45°傾いた角度位置から光学部材31に入射し、反射面37cに入射するように構成される。換言すれば、集光部39から反射部37に向かう照明光の光軸が、x軸及びy軸に対して略45°となるように設定される。そのため、照明光がパターン線を構成する凸部や凹部等に入射して相互作用を生じるようなことがほとんど無く、これにより明るいドット像(輝点)を表示でき、かつコントラストが高いレチクルパターン像を表示するレチクルユニットを得ることができる。 Here, the condensing unit 39 is configured to guide the illumination light emitted from the light source 38 to the reflecting unit 37 (reflecting surface 37c) from an angle position sandwiched between at least two pattern lines where extension lines intersect. Will be done. When the reticle pattern is a cross line, as shown in FIG. 19, the condensing unit 39 receives light emitted from the light source 38 with respect to a pattern line extending in the x-axis direction and a pattern line extending in the y-axis direction. It is configured to be incident on the optical member 31 from an angle position inclined by approximately 45 ° and incident on the reflection surface 37c. In other words, the optical axis of the illumination light from the condensing unit 39 to the reflecting unit 37 is set to be approximately 45 ° with respect to the x-axis and the y-axis. Therefore, there is almost no possibility that the illumination light is incident on the convex portions or concave portions constituting the pattern line to cause an interaction, so that a bright dot image (bright spot) can be displayed and the reticle pattern image has high contrast. You can get a reticle unit to display.

また、図17に示すように、集光部39は、光源38から放射された照明光を、パターン形成面31aと対向面31bとの間に位置する光学部材31の側面から入射して、反射部37に導くように構成される。図示する構成例では、照明光の光軸は反射面37c上でライフルスコープRSの光軸Zと交わるが、この照明光の光軸とライフルスコープの光軸Zとの交差角を直角ではなく、照明光の光軸を延長した延長線がパターン形成面31aと交差するような角度にしてレチクルユニットを構成している。このような構成によれば、照明光が凸部や凹部等に入射することを抑止することができ、これにより、ドット像の輝度を向上させるとともに、レチクルパターン像のコントラストを更に高めたレチクルユニットを得ることができる。 Further, as shown in FIG. 17, the condensing unit 39 reflects the illumination light radiated from the light source 38 by incident on the side surface of the optical member 31 located between the pattern forming surface 31a and the facing surface 31b. It is configured to lead to the part 37. In the illustrated configuration example, the optical axis of the illumination light intersects the optical axis Z of the riflescope RS on the reflection surface 37c, but the intersection angle between the optical axis of the illumination light and the optical axis Z of the riflescope is not perpendicular. The reticle unit is configured at an angle such that an extension line extending the optical axis of the illumination light intersects the pattern forming surface 31a. According to such a configuration, it is possible to prevent the illumination light from entering the convex portion or the concave portion, thereby improving the brightness of the dot image and further enhancing the contrast of the reticle pattern image. Can be obtained.

第1実施形態のレチクル30A、第2実施形態のレチクル30B、第3実施形態のレチクル30Cは、型を用いた成形加工により形成することができる。型を用いた成形加工として、ガラスモールド加工や、樹脂材料を用いた射出成形、注型成形などが例示される。樹脂材料としては、アクリル樹脂とも称されるメタクリル樹脂(PMMA)やポリカーボネート(PC)、環状オレフィンポリマー(COP)などが例示される。型を用いて成形加工を行うことにより、高精度のレチクルを容易に製作することができ、さらに樹脂材料を用いた成形加工によれば、高い生産性で安価にレチクルを製作することができる。 The reticle 30A of the first embodiment, the reticle 30B of the second embodiment, and the reticle 30C of the third embodiment can be formed by molding using a mold. Examples of molding processing using a mold include glass molding processing, injection molding using a resin material, and casting molding. Examples of the resin material include methacrylic resin (PMMA), which is also called acrylic resin, polycarbonate (PC), and cyclic olefin polymer (COP). High-precision reticle can be easily manufactured by molding using a mold, and further, molding using a resin material makes it possible to manufacture a reticle with high productivity and low cost.

さらに、レチクル30Cにおいては、レチクルパターン32に加えて照明光を反射する反射部37が成形加工により一体に形生成される。そのため、従来においては、レチクルパターンが形成されたガラス製のレチクル部と、反射部が形成された樹脂製の光学部材との複合構造であり、両者の製造及び組み立てが必要であった焦点板を、本構成のレチクル30Cでは一回の成形加工で一体に形成することができる。これにより、従来では比較的高価であったポインター機能を備えたレチクルを低廉な価格で提供することができる。 Further, in the reticle 30C, in addition to the reticle pattern 32, the reflecting portion 37 that reflects the illumination light is integrally formed by molding. Therefore, in the past, the focal plate had a composite structure of a glass reticle portion on which a reticle pattern was formed and a resin optical member on which a reflective portion was formed, and both had to be manufactured and assembled. The reticle 30C having this configuration can be integrally formed by a single molding process. As a result, it is possible to provide a reticle having a pointer function, which has been relatively expensive in the past, at a low price.

なお、凸部33や凹部34等をパターン形成面31a側にのみ設けた構成を例示したが、凸部及び/または凹部をパターン形成面31a側及び対向面31b側に形成しても良い。また、凸条133やV溝134等の傾斜面140の傾斜角度は、凸条133を構成する二つの傾斜面140,140の傾斜角度が同一の構成を例示したが、ライフルスコープの光軸Zに対するパターン線の形成位置等に応じて、二つの傾斜面140,140の傾斜角度が異なるように構成しても良い。さらに、凸条133やV溝134等を構成する面の一方を傾斜面とし他方を光軸Zに平行な面としても良い。 Although the configuration in which the convex portion 33, the concave portion 34, and the like are provided only on the pattern forming surface 31a side is exemplified, the convex portion and / or the concave portion may be formed on the pattern forming surface 31a side and the facing surface 31b side. Further, the inclination angle of the inclined surface 140 such as the ridge 133 and the V groove 134 exemplifies the configuration in which the inclination angles of the two inclined surfaces 140 and 140 constituting the ridge 133 are the same, but the optical axis Z of the riflescope is illustrated. The inclination angles of the two inclined surfaces 140 and 140 may be different depending on the formation position of the pattern line with respect to the above. Further, one of the surfaces constituting the ridge 133, the V groove 134 and the like may be an inclined surface, and the other may be a surface parallel to the optical axis Z.

また、凸条133やV溝134等に入射した光が屈折して偏向する形態を例示したが、凸条133やV溝134等に入射した光が反射して偏向するように構成しても良く、反射と屈折とを組み合わせて偏向するように構成しても良い。また、凸部の例としてパターン線の長さ方向に稜線が延びる凸条133を示したが、凸部33は多数の四角錐状(ピラミッド状)の突起がパターン線の延びる方向(及び幅方向)に並ぶような構成であっても良い。凹部34についても同様である。 Further, although the embodiment in which the light incident on the ridges 133 and the V-groove 134 is refracted and deflected is illustrated, the light incident on the ridges 133 and the V-groove 134 may be configured to be reflected and deflected. It may be configured to deflect by combining reflection and refraction. Further, as an example of the convex portion, the convex strip 133 in which the ridge line extends in the length direction of the pattern line is shown, but in the convex portion 33, a large number of quadrangular pyramid-shaped protrusions extend in the direction (and width direction) of the pattern line. ) May be arranged. The same applies to the recess 34.

また、実施形態では、レチクル30を備えた光学機器としてライフルスコープRSについて説明したが、ライフルスコープは、実施形態に係るレチクルを利用する光学機器の一例であり、フィールドスコープや双眼鏡等の望遠鏡、測距計やトランシット等の測量器、眼球検査装置やファイバースコープ等の医療用スコープ、各種顕微鏡など、様々な光学機器に適用可能である。 Further, in the embodiment, the riflescope RS has been described as an optical device provided with the reticle 30, but the riflescope is an example of an optical device using the reticle according to the embodiment, and is an example of an optical device such as a field scope or binoculars. It can be applied to various optical instruments such as measuring instruments such as telescopes and transits, medical scopes such as eyeball inspection devices and fiber scopes, and various microscopes.

RS ライフルスコープ(光学機器)
Z ライフルスコープの光軸
1 対物レンズ
3 レチクルユニット
4 接眼レンズ
30 レチクル
30A 第1実施形態のレチクル(30A1,30A2,30A3
30B 第2実施形態のレチクル(30B1,30B2,30B3
30C 第3実施形態のレチクルユニットのレチクル
31 光学部材
31a 光学部材の一方の面(パターン形成面)
31b 光学部材の他方の面(対向面)
32 レチクルパターン(パターン)
32a 線幅が狭いパターン線(パターンを構成する線)
32b 線幅が広いパターン線(パターンを構成する線)
33a,33b 凸部
34a,34b 凹部
35a,35b 凹凸部
37 反射部
37c 反射面
38 光源
39 集光部
133 凸条
134 V溝(溝)
140 傾斜面
145 透過面
RS rifle scope (optical equipment)
Optical axis of Z riflescope 1 Objective lens 3 Reticle unit 4 Eyepiece 30 Reticle 30A Reticle of the first embodiment (30A 1 , 30A 2 , 30A 3 )
30B Second embodiment reticle (30B 1 , 30B 2 , 30B 3 )
30C Reticle 31 of the reticle unit of the third embodiment Optical member 31a One surface of the optical member (pattern forming surface)
31b The other surface (opposing surface) of the optical member
32 Reticle pattern (pattern)
32a Pattern line with narrow line width (line that composes the pattern)
32b Pattern line with wide line width (line that composes the pattern)
33a, 33b Convex part 34a, 34b Concave part 35a, 35b Concavo-convex part 37 Reflective part 37c Reflective surface 38 Light source 39 Condensing part 133 Convex 134 V groove (groove)
140 Inclined surface 145 Permeable surface

Claims (24)

観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクルにおいて、
前記パターンは、板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凸部を備え、
前記凸部は、前記パターンを構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の凸条により構成され、
前記レチクルを通して前記観察対象を見たときに、前記観察対象側から前記レチクルに入射した光が、前記凸部により偏向されることにより前記パターンの像が前記観察者に視認されるように構成したことを特徴とするレチクル。
In a reticle in which a pattern is formed that serves as an index when the observer visually recognizes the observation target.
The pattern comprises protrusions provided on at least one surface of the plate-like optical member.
The convex portion is composed of a plurality of convex stripes extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the pattern.
When the observation target is viewed through the reticle, the light incident on the reticle from the observation target side is deflected by the convex portion so that the image of the pattern can be visually recognized by the observer. A reticle characterized by that.
前記凸部は、前記レチクルの前側に設けられた光学系を経て前記凸部に入射した光の少なくとも一部が、前記レチクルの後側に設けられた光学系を出射し得る角度よりも大きな角度で、前記凸部にて偏向されるように構成したことを特徴とする請求項1に記載のレチクル。 The convex portion has an angle larger than an angle at which at least a part of the light incident on the convex portion through the optical system provided on the front side of the reticle can emit the optical system provided on the rear side of the reticle. The reticle according to claim 1, wherein the reticle is configured to be deflected by the convex portion . 前記パターンは、幅が異なる線を有し、
前記幅が異なる線は、線幅に応じた複数の前記凸条により形成されることを特徴とする請求項1または2に記載のレチクル。
The pattern has lines of different widths
The reticle according to claim 1 or 2, wherein the lines having different widths are formed by the plurality of protrusions according to the line width.
前記凸条は、前記レチクルの前側に設けられた光学系の光軸に対して傾斜した傾斜面を有することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載のレチクル。 The reticle according to any one of claims 1 to 3, wherein the ridge has an inclined surface inclined with respect to an optical axis of an optical system provided on the front side of the reticle. 前記傾斜面の前記光軸に対する傾斜角は、前記レチクルの前側に設けられた光学系を経て前記傾斜面に入射して偏向された光の少なくとも一部が、前記レチクルの後側に設けられた光学系に直接入射し得る第1の所定角度以下であることを特徴とする請求項4に記載のレチクル。 The tilt angle of the inclined surface with respect to the optical axis is such that at least a part of the light incident on the inclined surface and deflected through the optical system provided on the front side of the reticle is provided on the rear side of the reticle. The reticle according to claim 4, wherein the reticle is not more than or equal to a first predetermined angle that can be directly incident on the optical system. 前記傾斜面の前記光軸に対する傾斜角は、前記レチクルの前側に設けられた光学系を経て前記傾斜面に入射して偏向された光の少なくとも一部が、前記傾斜面と対向する他の傾斜面に入射し得る第2の所定角度以上であることを特徴とする請求項5に記載のレチクル。 The angle of inclination of the inclined surface with respect to the optical axis is such that at least a part of the light incident on the inclined surface via the optical system provided on the front side of the reticle and deflected is another inclination facing the inclined surface. The reticle according to claim 5, wherein the reticle is at least a second predetermined angle that can be incident on the surface. 前記傾斜面の前記光軸に対する傾斜角は、21°以上70°以下であることを特徴とする請求項4~6のいずれか一項に記載のレチクル。 The reticle according to any one of claims 4 to 6, wherein the inclination angle of the inclined surface with respect to the optical axis is 21 ° or more and 70 ° or less. 前記凸条を構成する一対の前記傾斜面の間、及び/または隣接する前記凸条の二つの前記傾斜面の間に、前記観察対象側から入射した光を前記観察者が視認し得るように透過する透過面を設けたことを特徴とする請求項4~7のいずれか一項に記載のレチクル。 The observer can visually recognize the light incident from the observation target side between the pair of inclined surfaces constituting the ridge and / or between the two inclined surfaces of the adjacent ridges. The reticle according to any one of claims 4 to 7, wherein a transparent surface is provided. 前記凸部における前記透過面の構成比率は1%~99%であることを特徴とする請求項8に記載のレチクル。 The reticle according to claim 8 , wherein the composition ratio of the transmission surface in the convex portion is 1% to 99%. 前記透過面は、曲率半径が2μm以上の面であることを特徴とする請求項8または9に記載のレチクル。 The reticle according to claim 8 or 9 , wherein the transmission surface is a surface having a radius of curvature of 2 μm or more. 隣接する前記透過面の間隔及び隣接する前記傾斜面の間隔は、前記観察者が目視したときの間隔が0.1mm以下となるように設定されることを特徴とする請求項8~10のいずれか一項に記載のレチクル。 Any of claims 8 to 10 , wherein the distance between the adjacent transmission surfaces and the distance between the adjacent inclined surfaces are set so that the distance when visually observed by the observer is 0.1 mm or less. The reticle described in item 1. 前記凸部における前記透過面の構成比率は、前記パターンを構成する線の幅方向の位置によって異なることを特徴とする請求項8~11のいずれか一項に記載のレチクル。 The reticle according to any one of claims 8 to 11 , wherein the composition ratio of the transmission surface in the convex portion differs depending on the position in the width direction of the line constituting the pattern. 前記透過面の構成比率は、前記パターンを構成する線の幅方向中央部の構成比率が高く、幅方向外側の構成比率が低いことを特徴とする請求項12に記載のレチクル。 The reticle according to claim 12 , wherein the composition ratio of the transmission surface is such that the composition ratio of the central portion in the width direction of the lines constituting the pattern is high and the composition ratio of the outside in the width direction is low. 前記凸部における前記透過面の構成比率は、前記パターンを構成する線の長さ方向の位置によって異なることを特徴とする請求項8~13のいずれか一項に記載のレチクル。 The reticle according to any one of claims 8 to 13 , wherein the composition ratio of the transmission surface in the convex portion differs depending on the position in the length direction of the line constituting the pattern. 前記透過面の構成比率は、前記パターンの中心に位置する部分の構成比率が高く、外側に位置する部分の構成比率が低いことを特徴とする請求項14に記載のレチクル。 The reticle according to claim 14 , wherein the composition ratio of the transmission surface is high in the composition ratio of the portion located at the center of the pattern and low in the composition ratio of the portion located outside. 前記レチクルは、型を用いた成形加工に好適な材料で構成されることを特徴とする請求項1~15のいずれか一項に記載のレチクル。 The reticle according to any one of claims 1 to 15 , wherein the reticle is made of a material suitable for molding using a mold. 前記レチクルは、樹脂材料により構成されることを特徴とする請求項16に記載のレチクル。 The reticle according to claim 16 , wherein the reticle is made of a resin material. 請求項1~17のいずれか一項に記載のレチクルに、さらに前記光学部材のいずれか一方の面に少なくとも構成面の一部を反射面とする反射部が形成されたレチクルと、
前記反射部の側方に配置されて光を放射する光源と、
前記光源と前記反射部との間に配設されて前記光源から放射された光を集光して前記反射面に導く集光部とを備え、
前記光源から放射され前記集光部により集光されて前記反射面で反射された光を前記光学部材の他方の面から出射させて、前記パターンの像とともに視認されるように構成したことを特徴とするレチクルユニット。
A reticle according to any one of claims 1 to 17 , further comprising a reticle in which a reflective portion having at least a part of a constituent surface as a reflective surface is formed on one surface of the optical member.
A light source that is arranged on the side of the reflective part and emits light,
It is provided with a condensing unit disposed between the light source and the reflecting unit to collect the light radiated from the light source and guide it to the reflecting surface.
The feature is that the light emitted from the light source, collected by the condensing unit, and reflected by the reflecting surface is emitted from the other surface of the optical member so as to be visually recognized together with the image of the pattern. The reticle unit to be.
前記パターンは少なくとも延長線が交差する2本の前記線を有し、
前記反射部は前記延長線を含む前記2本の線の交点に設けられ、
前記集光部は、前記光源から放射された光を前記2本の線に挟まれた角度位置から前記反射面に導くことを特徴とする請求項18に記載のレチクルユニット。
The pattern has at least two of the lines where the extension lines intersect.
The reflective portion is provided at the intersection of the two lines including the extension line.
The reticle unit according to claim 18 , wherein the light collecting unit guides the light radiated from the light source to the reflecting surface from an angular position sandwiched between the two lines.
前記パターンは少なくとも延長線が前記光学部材の中心部で直角に交差する2本の前記線を有し、
前記反射部は前記光学部材の中心部に設けられ、
前記集光部は、前記光源から放射された光を前記2本の線に対して略45°の角度位置から前記反射面に導くことを特徴とする請求項18に記載のレチクルユニット。
The pattern has at least two of the lines whose extension lines intersect at right angles to the center of the optical member.
The reflecting portion is provided in the central portion of the optical member, and the reflecting portion is provided at the center of the optical member.
The reticle unit according to claim 18 , wherein the condensing unit guides light emitted from the light source to the reflecting surface from an angle position of approximately 45 ° with respect to the two lines.
対物レンズと、
前記対物レンズにより形成される前記観察対象の像若しくは前記観察対象の像と略共役な位置に、前記凸部が設けられた面が配置された請求項1~17のいずれか一項に記載のレチクルまたは請求項18~20のいずれか一項に記載のレチクルユニットと、
前記観察対象の像及び前記凸部により形成される前記パターンの像を重ね合わせて観察する接眼レンズと
を有することを特徴とする光学機器。
With the objective lens
The invention according to any one of claims 1 to 17 , wherein a surface provided with the convex portion is arranged at a position substantially conjugate with the image of the observation target formed by the objective lens or the image of the observation target. The reticle or the reticle unit according to any one of claims 18 to 20 and the reticle unit.
An optical instrument comprising an eyepiece for observing an image of an observation target and an image of the pattern formed by the convex portions in an overlapping manner.
観察者が観察対象を視認する際に指標となるパターンが形成されたレチクルにおいて、In a reticle in which a pattern is formed that serves as an index when the observer visually recognizes the observation target.
前記パターンは、板状の光学部材の少なくとも一方の面に設けられた凹部を備え、The pattern comprises recesses provided on at least one surface of the plate-like optical member.
前記凹部は、前記パターンを構成する線の幅方向に並列して長さ方向に延びる複数の溝により構成され、The recess is composed of a plurality of grooves extending in the length direction in parallel with the width direction of the lines constituting the pattern.
前記パターンは幅が異なる線を有し、前記幅が異なる線は線幅に応じた複数の前記溝により形成され、The pattern has lines of different widths, and the lines of different widths are formed by the plurality of grooves according to the line width.
前記レチクルを通して前記観察対象を見たときに、前記観察対象側から前記レチクルに入射した光が、前記凹部により偏向されることにより前記パターンの像が前記観察者に視認されるように構成したことを特徴とするレチクル。When the observation target is viewed through the reticle, the light incident on the reticle from the observation target side is deflected by the recess so that the image of the pattern can be visually recognized by the observer. A reticle featuring.
前記溝は、前記レチクルの前側に設けられた光学系の光軸に対して傾斜した傾斜面を有することを特徴とする請求項22に記載のレチクル。22. The reticle according to claim 22, wherein the groove has an inclined surface inclined with respect to an optical axis of an optical system provided on the front side of the reticle. 前記溝を構成する一対の前記傾斜面の間、及び/または隣接する前記溝の二つの前記傾斜面の間に、前記観察対象側から入射した光を前記観察者が視認しうるように透過する透過面を設けたことを特徴とする請求項23に記載のレチクル。

Light incident from the observation target side is transmitted so as to be visible to the observer between the pair of inclined surfaces constituting the groove and / or between the two inclined surfaces of the adjacent grooves. 23. The reticle according to claim 23, wherein a transparent surface is provided.

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