JP2019204088A - ナノ構造材料の構造体及び方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】照明及び表示技術に対して、例えば光源の指向性または拡散率は、視野角やプライバシー等の利便性に影響を与え、種々の照明条件下で使用者の快適性に影響する。そのような用途固有の必要性を満たす量子ドットデバイスを含む改善した発光構造体を提供する。【解決手段】一態様において、中に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を備える光子結晶を含む構造体が提供される。更なる態様において、誘電層内部の異なる深さに、第1及び第2の組の発光ナノ構造材料を含む誘電層を備える構造体が提供される。【選択図】なし

Description

一態様において、今回我々は、1つ以上の発光ナノ構造材料を中に含む誘電層を備える光子結晶を備える構造体を提供する。更なる態様において、誘電層内部の異なる深さに、第1及び第2の組の発光ナノ構造材料を含む誘電層を備える構造体が提供される。
家庭、職場、及び消費者製品で使用される照明及び表示技術に対して広範囲に渡る用途固有の必要性が存在する。照明及び表示用途は、色純度とそれらの出力の光学的特性の調整された制御とを必要とする。例えば、光源の指向性または拡散率は、種々の照明条件下で使用者の快適性に影響を与え、表示部からの光出力の方向性は、視野角に影響を与え、群に対するプライバシーまたは利便性のいずれかを可能にする。
量子ドットを含有する光子発光デバイスは、特定の総スペクトル出力を操作するために組み合わせられ得る、それらの高い量子効率、光退色の欠如、及び多くの放射波長の可用性のために、照明及び映像表示における用途に関して重要性を増している。
改善した量子ドットデバイスを含む改善した発光構造体を有することが望ましい。
今回我々は新たな発光構造体及びデバイス、ならびにかかる構造体及びデバイスを作成する方法を提供する。
一態様において、今回我々は、1つ以上の発光ナノ構造材料を中に含む誘電層を備える光子結晶を備える構造体を提供する。好ましい態様において、光子結晶は、効果的なコントラストを提供することができる、異なる(例えば相対的により高いまたはより低い)屈折率の材料の周期的変化を含む。
更なる態様において、中に発光ナノ構造材料を含む誘電層を備える構造体が提供され、発光ナノ構造材料の第1の組が、誘電層の第1の深度に位置付けられ、発光ナノ構造材料の第2の組が、第1の深度とは異なる誘電層の第2の深度に位置付けられる。ある特定の実施形態において、放射波長は、発光ナノ構造材料の第1の組と第2の組との間で好適に異なり得る。したがって、ある特定の実施形態において、発光ナノ構造材料の第1及び第2の組は、異なる組成物である。ある特定の好ましい実施形態において、ナノ構造材料の第1及び第2の組は、発光ナノ構造材料を有しないか、または少なくとも実質的に有しない、誘電層の厚さ(例えば1nm、2nm、3nm、4nm、5nmの厚さまたはそれ以上)により分離される。挿入する誘電材料は、少なくとも実質的に発光ナノ構造材料を有さず、挿入する誘電材料は、発光ナノ構造材料の第1の組または発光ナノ構造材料の第2の組を含有する、隣接する領域の同じ体積で存在するナノ構造材料よりも、所与の体積において少なくとも25、50、75、または100重量パーセント少ないナノ構造材料を含有する。
好ましい系において、ナノ構造材料は誘電材料層内部に埋め込まれる。本明細書で参照される場合、ナノ構造材料の各表面が異なる誘電材料と接触しているとき、ナノ構造材料は、誘電層内部に埋め込まれると見なされ得る。
我々はまた、光子結晶の誘電層内部の、ナノ構造材料の所望の配置を含む方法を提供する。具体的には、本発明の系及び方法は、量子ドットなどのナノ構造材料を、光子結晶構造体の光学定常波モードの空間体積内部に含まれる、高い屈折率の誘電膜層の画定された断面内へ組み込むことを備える。光子結晶の誘電層内部の量子ドットなどの、ナノ構造材料の標的配置において、ナノ構造材料は、それらの電子基底状態からの励起のためのより強い電界を経験することができ、光子結晶厚板状表面に対して垂直の方向において、最も効率的なそれらの放射の励起を可能にする。
具体的には、我々は比較的平坦な構造体(光子結晶ではない)に対する誘電層内部に埋め込まれた量子ドットを有する光子結晶の量子ドット放射における、実質的な増加(3〜5倍の増加を含む)を発見した。非正常な出力角度のためのより強い放射の増加(例えば、最大で8倍の増加)でさえも、比較的平坦な構造体(光子結晶ではない)に関して埋め込まれた量子ドットを有する本発明の光子結晶のために、観察された。
概して光子結晶系を提供するための本発明の好ましい方法は、基材表面上に1つ以上の誘電材料内部に配置される1つ以上の発光ナノ構造材料を有する層を適用することを含む。一つの好ましい態様において、1)誘電材料が基材上に適用され、2)1つ以上のナノ構造材料が適用された誘電材料上に適用され、3)誘電材料が適用されたナノ構造材料に適用される。
本発明の特に好ましい方法は、誘電膜上への1つ以上のナノ構造材料の浸漬または浸しコーティング適用を含む。ナノ構造材料の液体組成物の、かかる浸漬または浸しコーティングが、ナノ構造材料の単層−スケール層を提供できることが発見された。
一次元、二次元、及び他の複数次元の光子結晶構造体を含む種々の構造体及びデバイスが、本発明に従って提供され得る。例えば、一態様において、本発明の構造体は、誘電層(例えば金属酸化物)を備える光子結晶を含み得、かかる誘電層内部に1つ以上の発光ナノ構造材料が埋め込まれ、光子結晶は、1)第1の方向での第1の周期性を含む第1の領域、及び2)第1の方向と異なる第2の方向での第2の周期性を含む。
本明細書で提供される構造体及びデバイスはまた、一緒に入れ子になった複数の構造体、例えば垂直に積重した及び/または側方に交互配置した、同じかもしくは異なる光子結晶を含み得る複数の構造体を含み得る。かかる構造体、デバイス、または光子結晶系は、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を好適に含み得、各光子結晶構造体は、内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を備える。かかる構造体、デバイス、または光子結晶系は、異なるナノ構造材料を、1つ以上の誘電層内部の異なる深さに好適に提供し得る。
ある特定の態様において、本発明の好ましい構造体が、例えば40、50、100、200、300、400、500、600、700、800パーセントまたはそれ以上、制御構造体に関して増加する出力放射を提供することができる。制御構造体は本発明の構造体に相当し、同じ誘電層及び本発明の構造体として発光ナノ構造材料を含有するが、制御構造体は平坦な構造体(光子結晶ではない)である。
好ましい方法において、ポリマー層が、成形マスター基材上に堆積され得、光子結晶のための周期的パターンを含むデバイス特性を画定する。かかる成形基材上の堆積後、ポリマー層は基材から除去され得、除去されたポリマー層は別個の基材へと移される。好適に、成形基材または他の基材上への堆積後、ポリマー層は熱処理などによって硬化され得る。
1つ以上のナノ構造材料が種々の構造体位置内部に位置付けられ得る。好適に、1つ以上のナノ構造材料が、構造体の屈折率差界面に対して近位に位置付けられ得、それにより効果的な放射出力を提供する。
本発明はまた、種々の発光デバイス、光検出器、化学センサ、光起電力デバイス(例えば太陽電池)、トランジスタ及びダイオード、生物センサ、病理学的検出器、ならびに本明細書に開示される系を含む生物学的に活性な表面を含む、本明細書に開示される方法により得られるか、または得ることができるデバイスを提供する。
本明細書で参照される場合、ナノ構造材料としては、数ある中でも、量子ドット材料、ならびに制限なく、ナノ結晶質ナノ粒子、染料、及び蛍光物質が挙げられる。
本明細書で使用される場合、「1つの(a)」、「1つの(an)」、及び「その(the)」という用語は、文脈がそうではないことを明確に示さない限り、複数形変形を含む。したがって、「1つの(a)」、「1つの(an)」、及び「その(the)」は各々、文脈がそうではないことを明確に示さない限り、「1つ以上の」を指す。
具体的に記載されているか、または文脈から明らかでない限り、本明細書で使用される場合、「または(or)」という用語は包括的であると理解される。
本発明の他の態様は、以下に開示される。
本発明に従う例示的なデバイスを示す。 本発明に従う例示的なデバイスを示す。 本発明に従う例示的なデバイスを示す。 本発明に従う例示的なデバイスを示す。 本発明に従う例示的なデバイスを示す。 以下に示される実施例1のデバイスの種々の描写を示す。図6(a)は、以下に示され、x及びy方向での異なる光子結晶(PC)周期を有する2つの交互配置した領域を示す実施例1のデバイス構造体の上面図である。 以下に示される実施例1のデバイスの種々の描写を示す。図6(b)は、TiO誘電層に埋め込まれた量子ドット(QD)を有する光子結晶(PC)の横断面概略図である。 以下に示される実施例1のデバイスの種々の描写を示す。図6(c)は、λ=615nmで、QD放射を増強するように設計されたPC領域の走査電子顕微鏡写真(SEM)画像である。 以下に示される実施例1のデバイスの種々の描写を示す。図6(d)は、λ=615nm(左)及びλ=550nm(右)で、PCのためにモデル化された電界強度を示し、電界内部のQDの波長及び位置の両方が、増強条件に影響を与えるであろうことを図示している。 以下に示される実施例1のデバイスの種々の描写を示す。図6(e)は、チェッカーボードPC構造体内に埋め込まれたQDの写真であり、橙色の位置は増強された放射領域(領域1)を示す一方で、領域2及び周囲のバルク面積内のQD放射は増強されていない。 製作の種々の段階でのPCの正規化した伝送効率スペクトル、及びチェッカーボードデバイスの50%有効な面積のために正規化したモデル化された伝送スペクトルを示す。最も大きい浸漬は共振モードであり、それはQD放射と連結するように意図されるが、追加の共振が構造体内に存在し、伝送スペクトル内のより浅い浸漬として観察される。QD層の追加は、モデル化された結果と比較したとき、λ=20〜25nmの共振変化及び誘電層内部の連続的な電界の妨害をもたらし、最終デバイス構造体の計測された共振条件における変化の原因となる。 同一の製作ステップで、平坦な構造体と比較したとき、λ=615nmでの、QD放射のPC増強された出力を示す。構造体内のQD層の位置は、計測した放射の強度及び角出力の両方に影響を与える。最も大きい増強は、h=60nmで、TiO層内部に埋め込まれたQDのために発生したが、しかしながら直角入射での増強要因のみは、h=90nmで発生した。
我々はここで、光子結晶の誘電層内部の量子ドットが、ナノ構造材料の放射を増強できることを含む、ナノ構造材料の堆積を実証する。したがって、例えば、以下に示される実施例に示されるように、量子ドットの液相適用は、誘電膜層内部の量子ドットの標的深さ配置を可能にすることができる。量子ドットの増強された放射は、誘電膜内部の特定の深さでの量子ドットの配置により、達成され得る。誘電体内部に埋め込まれた半電導性材料が、共振モードとのその空間的重なりを変化させるように、光子結晶において、誘電層内部の量子ドットの深さが光子結晶の共振波長及び放射増強効率を変調することが発見された。
好ましい構造体は、もう1つの埋め込まれたナノ構造材料を含む隣接するかまたはオーバーコーティングされた誘電層を有する、第1の基材層(例えばガラス、ポリマー、または他の材料の層)を含み得る。第1の層及び誘電層は、効果的なコントラストを提供するように、異なる屈折率を好適に有する。上述のように、好ましい態様において、光子結晶は、効果的なコントラストを提供することができる、異なる(相対的により高い及びより低い)屈折率の材料の周期的変化を含み得る。
ここで図面を参照すると、図面の図1はデバイスまたは基材11上にポリマー層12を含む構造体10の概略図である。層12は、成形基材から好適に複製成形される。誘電材料層14は、発光量子ドットなどのナノ構造材料16と共に埋め込まれる。上述のように、ナノ構造材料は、ナノ構造材料の各表面が異なる誘電材料と接触しているとき、誘電層内部に埋め込まれていると見なされ得る。例えば、ナノ構造材料は、少なくとも0.2、0.5、または1nmの厚さの誘電材料(例えばTiOなどの金属酸化物)でコーティングされ得る。
層14は、層12に関する屈折率差を提供し、それにより効果的なコントラストを提供する。したがって、層14は層12の屈折率よりも低い屈折率を有し得るか、または層14は層12の屈折率よりも高い屈折率を有し得る。少なくともある特定の用途について、層14のために好ましい材料としては、二酸化チタン(TiO)または他の好適な高い屈折率の無機酸化物が挙げられる。好適な誘電体としては、例えば金属酸化物、関連する硫黄及び/またはセレン材料が挙げられる。層14は、コーティング(例えば、スピンコーティング、スプレーコーティング、浸漬コーティング)、スパッタリング、またはポリマー層12のパターン化を妨げることなく材料の層をポリマー層上に堆積させるための他の方法により、堆積され得る。層14の厚さは、周期的陥凹の共振波長を調整するために使用され得る。層14がTiOであるとき、好適な厚さは約50nm〜約500nmである。
図1に示される光源18(また、光源18として図2〜5の各々にも示される)は、LEDを含む、紫外線(UV)または例えば、200nm<λ<700nmの範囲の可視光の、任意の好適な光源であり得る。
基材11は、任意の剛性または可塑性材料で作成され得、所望の波長範囲内で光学的に透明である材料が好適である。例えば、基材は、ガラス、セルロースアセテート、またはポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリウレタン等のポリマー材料で作成され得る。基材は、任意の好適な厚さ、例えば1ミクロン〜1mmの厚さを有することができる。
層12のポリマーのうちの1つ以上は、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリウレタン等を含む、任意の好適なポリマー材料から選択され得る。好ましいポリマー材料としては、ラウリルメタクリレート(LMA)、エチルグリコールジメタクリレート(EGDMA)及びそれらの混合物が挙げられる。ポリマー層は、NOA 61(Norland Products,Inc.)などの光学的に透明な接着剤で、基材と随意に接着され得る。
光子結晶構造体を提供するために、デバイスはポリマー層、基材層、及び/または誘電層を含む周期的パターンを含むことができる。
したがって、ポリマー層12は好適にパターン化され得、例えば層12は複数の陥凹12’を含み得る。本明細書で参照される場合、陥凹は線状プリズム、引き延ばされた隆起、及び線状格子などの種々の構成を有する周期的構造体を含むことができる。パターン化領域において、好ましくは、複数の陥凹は、周期性、例えば、複数の陥凹が均等に離間されているかまたは表面上の規定寸法に沿った、他の規則的または反復する配置を有する。複数の陥凹が、例えば、ポリマー溶液をパターン化マスターテンプレート上にコーティングすることにより、ポリマー層と一体形成され得る。代替として、複数の陥凹は、まず、実質的に平らであるかまたは平坦なポリマー層を基材上に形成し、次いで、例えばパターン化された金型で圧縮成形することによって、ポリマー層をパターン化することにより形成され得る。更なる代替として、隆起、小型レンズ、ピラミッド、台形、円形状または正方形状の柱、もしくは曲線の辺を有する錐体構造体(例えば、米国特許出願第2010/0128351号を参照)などのミクロ構造体は、ポリマー層表面上の材料の堆積により、ポリマー層上に形成または適用され、これによりポリマー層上に複数の陥凹を画定する。
陥凹は、基材に適用された層上内の基材と、好適に一体形成され得る。例えば、陥凹は、コーティング層を基材に適用し、その後適用した層をパターン化することによって基材上に形成され得る。
誘電層の各部分の厚さ(図1で14a及び14bとして例示される)は、好適に変化することができる。かかる誘電層部分の各々の厚さ(図1で14a’、14b’として示される)は、異なり得、挿入するナノ構造材料層16の増強された放射のために選択され得る。例えば、ナノ構造材料層16は、誘電層部分14aの厚さ14a’を選択することによって、ポリマー層12からの距離17aに位置付けられ得る。選択された誘電層部分の厚さの正確な堆積は、スパッタリングを含む、種々の適用技術により達成され得る。
下にある基材表面の間の、例示的で好適な誘電層部分の厚さ(ポリマー層12の表面12’’とナノ構造材料層16との間の厚さなど)は、好適に幅広く変化し得、例えば約1nm〜約1000nm、より典型的には約2または3nm〜約100、150、もしくは200nmを含む。
ナノ構造材料層16と誘電層の頂部表面14’との間の、例示的で好適な頂部誘電層部分の厚さ14b’はまた、好適に幅広く変化し得、例えば約1nm〜約1000nm、より典型的には約2または3nm〜約100、150、もしくは200nmを含み得る。
図面の図2は、基材11上にポリマー層12を含む本発明の別のデバイスまたは構造体を示す。層12は、好適に、成形基材上に複製成形される。誘電材料層14は、発光量子ドットなどのナノ構造材料16と共に埋め込まれる。図1に示されるデバイスに関して論じられるように、層14は、層12に関する屈折率差を提供し、それにより効果的なコントラストを提供する。したがって、層14は層12の屈折率よりも低い屈折率を有し得るか、または層14は層12の屈折率よりも高い屈折率を有し得る。少なくともある特定の用途について、層14のための好ましい材料としては、二酸化チタン(TiO)または他の好適な高い屈折率の無機酸化物が挙げられる。
例えば、ナノ構造材料層が誘電層14内部の深さ配置で異なる場合、及び/または層内部に存在する種類または混合ナノ構造材料がデバイスの複数の領域間で異なる場合、図2のデバイス10は、1つ以上の箇所で異なる複数のナノ構造材料16a及び16bを有するナノ構造材料層を有する、複数の領域(A及びBとして例示される)を有する。例えば、図2で例示されるデバイスにおいて、領域A(すなわちハッシュ化された垂直線まで延在するデバイスの左側)は、図2に示される深さ16a(すなわち誘電層14から層16aまでの厚さ)に位置付けられる、ナノ構造材料の第1の種類(例えば、赤色発光量子ドット)を有し得る。領域B(すなわちハッシュ化された垂直線まで延在するデバイスの左側)において、領域Aのナノ構造材料の第1の組とは異なり、図2に示される深さ16b(すなわち誘電層14から層16bまでの厚さ)に位置付けられる、ナノ構造材料(例えば青色発光量子ドット)の第2の種類を有し得る。
図2に示される、かかる複数の領域構成により、異なるナノ構造材料は、ナノ構造材料の最適な出力を提供するために誘電層内部で選択的に位置付けられ得る。図2の構成が、誘電層内部の異なる深さに、第1及び第2のナノ構造材料を含む誘電層を提供することもまた理解され得る。第1及び第2のナノ構造材料は、好適に同じであるかまたは異なり得る。
図3は、複数のデバイスまたは構造体10及び20が一緒に入れ子になった、描写されるように特に垂直に積重した、別の好適な構成を例示する。図3において、デバイス10は、上に陥凹12’を有するコーティングされたポリマー層12がある、基材層11を含む。誘電層14(例えば、TiOまたは所望の屈折率差を提供するための他の金属酸化物などの、他の好適な材料を含む層)が、ポリマー層12上にコーティングされる。量子ドットなどのナノ構造材料16は、図1及び2に関して上で開示される手順により、誘電層14内部に好適に埋め込まれる。次いで、デバイス20の基材21は、誘電層14を覆い、デバイス20のポリマー層22が続き、次いで、誘電層24(例えば、TiOまたは所望の屈折率差を提供するための他の金属酸化物などの他の好適な材料を含む層)が陥凹22’を有するポリマー層22上にコーティングされる。量子ドットなどのナノ構造材料26は、図1及び2に関して上で開示される手順により、誘電層24内部に好適に埋め込まれる。
理解されるように、追加のデバイスまたは構造体は、図3に描写されたものと一緒に入れ子にされ得、例えば図3に描写される例示的なデバイスに対して、側方及び/または更に垂直のいずれかで隣接しているデバイスを入れ子にする。
図4は、複数のデバイスまたは構造体10及び20は、特に描写されたように交互配置した側方に、一緒に入れ子にされる、別の好適な構成を例示する。図4において、デバイス10は、上に陥凹12’を有するコーティングされたポリマー層12がある、基材層11を含む。誘電層14(例えば、TiOまたは所望の屈折率差を提供するための他の金属酸化物などの、他の好適な材料を含む層)が、ポリマー層12上にコーティングされる。量子ドットなどのナノ構造材料16は、図1及び2に関して上で開示される手順により、誘電層14内部に好適に埋め込まれる。デバイス20の基材21は、デバイス10の基材11と好適に側方に接するが、基材21がデバイス10のポリマー層12と接しているような、他の配置もまた好適である。図4に示されるように、好適に重なる基材21は、陥凹22’を有するポリマー層22であり、次いで誘電層24(例えば、TiOまたは所望の屈折率差を提供するための他の金属酸化物などの他の好適な材料を含む層)がポリマー層22上にコーティングされる。量子ドットなどのナノ構造材料26は、図1及び2に関して上で開示される手順により、誘電層24内部に好適に埋め込まれる。
図3及び4の構成が、誘電層内部の異なる深さに、第1及び第2のナノ構造材料を含む誘電層を提供することもまた理解され得る。第1及び第2のナノ構造材料は、好適に同じであるかまたは異なり得る。
図面の図5は、単一の誘電層内に複数のナノ構造材料層を含む、本発明の別の例示的なデバイスまたは構造体を示す。図5に示されるように、デバイス構造体10は、基材11上にポリマー層12を含む。層12は、好適に、成形基材上に複製成形される。
誘電材料層14は、発光量子ドットなどのナノ構造材料16a、16bと共に埋め込まれる。図1〜4に例示される構造体と同様に、図5内の層14は、層12に関する屈折率差を提供し、それにより効果的なコントラストを提供する。したがって、層14は層12の屈折率よりも低い屈折率を有し得るか、または層14は層12の屈折率よりも高い屈折率を有し得る。少なくともある特定の用途について、層14のために好ましい材料としては、二酸化チタン(TiO)または他の好適な高い屈折率の無機酸化物が挙げられる。再び、層14は、コーティング(例えば、スピンコーティング、スプレーコーティング、浸漬コーティング)、スパッタリング、またはポリマー層12のパターン化を妨げることなく材料の層をポリマー層上に堆積させるための他の方法により、堆積され得る。層14の厚さは、周期的陥凹の共振波長を調整するために使用され得る。層14がTiOであるとき、好適な厚さは約50nm〜約500nmである。光源18は、好適なLEDであり得る。基材11は、上述したような、任意の剛性または可塑性材料で作成することができる。上述したような、層12のポリマーのうちの1つ以上はまた、任意の好適なポリマー材料から選択され得る。ポリマー層12は、好適にパターン化され得、例えば層12は複数の陥凹12’を含み得る。
誘電層の各部分の厚さ(図5で14a、14b、及び14cとして例示される)は、好適に変化することができる。各かかる誘電層部分の厚さ(図5で、14a’、14b’、14c’として示される)は、異なり得、挿入するナノ構造材料層の放射(図5で、16a、16bとして例示される)を増強するために選択される。例えば、ナノ構造材料層16aは、誘電層部分14aの厚さ14a’を選択することにより、ポリマー層12からの距離17aに位置付けられ得る。同様に、ナノ構造材料層16bは、誘電層部分14a及び14bの厚さ14a’及び14b’を選択することにより、ポリマー層12からの距離17bに位置付けられ得る。選択された誘電層部分の厚さの正確な堆積は、スパッタリングを含む、種々の適用技術により達成され得る。
下にある基材表面の間の、例示的で好適な誘電層部分の厚さ(ポリマー層12の表面12’’とナノ構造材料層16との間の厚さなど)は、好適に幅広く変化し得、例えば約1nm〜約1000nm、より典型的には約2または3nm〜約100、150、もしくは200nmを含む。
デバイスが、図5の例示的なデバイス10に示されるような複数のナノ構造材料層を含む場合、複数のナノ構造材料層16a及び16bが、好適に、所望の通りに離間される。連続的なナノ構造材料層(すなわち、図5を参照して、ナノ構造材料層16aと16bとの間の厚さ14b’)の間の、例示的で好適な誘電層部分の厚さは、好適に幅広く変化し得、例えば約1nm〜約1000nm、より典型的には約2または3nm〜約100、150、もしくは200nmを含む。
ナノ構造材料層の堆積後(例えば16a)、更なる誘電材料層14bが、かかるスパッタリング、スピンコーティング、または他の技術などで好適に適用され、スパッタリングでの適用が多くの場合好まれる。論じたように、その後、量子ドットなどのナノ構造材料の1つ以上の追加の層が、図5でナノ構造材料層16bにより例示されるように、連続的に適用され得る。誘電材料は、各ナノ構造材料層の間に挿入される。好ましくは、図5で層14cにより例示される誘電材料は、頂部ナノ構造材料層(図5内の16b)をオーバーコーティングし、それにより誘電材料内部にナノ構造材料を埋め込む。
図5の構成が、誘電層内部の異なる深さに、第1及び第2のナノ構造材料を含む誘電層を提供することもまた理解され得る。第1及び第2のナノ構造材料は、好適に同じであるかまたは異なり得る。
頂部ナノ構造材料層16bと誘電層の頂部表面14’との間の、例示的で好適な頂部誘電層部分の厚さ14c’はまた、好適に幅広く変化し得、例えば約1nm〜約1000nm、より典型的には約2または3nm〜約100、150、もしくは200nmを含み得る。
追加の実施形態において、本明細書で開示されるような埋め込まれたナノ構造体を有する1つ以上の誘電層を有する複数の光子結晶は、より大きなデバイス構造体を提供するように凝集され得る。例えば、かかる複数の光子結晶構造体は、より大きなデバイス構造体を製造するために、積重などの隣接する形状で入れ子にされ得る。
本発明の系及びデバイスにおいて、デバイスの誘電層内部に埋め込まれていることに加えて、他の位置で入れ子になったナノ構造材料、または誘電層上の表面の実施例、もしくはポリマー層12及び/または22内部(図1、2、3、4、及び5に示される)、またはデバイス内部の他の位置を有することもまた、好適であり得る。
デバイスのナノ構造体層(複数可)の厚さ(図5の層16a及び/または16bの厚さなどの)はまた、好適に、本明細書で開示される浸漬コーティング適用により提供され得るような単層であり得ることが、一般的に好適である。
論じたように、ナノ構造材料層の最適な放射出力が、ナノ構造材料層が誘電層内部に埋め込まれる位置(深さ)の選択により達成され得ることが発見された。光子結晶内部の発光ナノ構造材料の深さ配置は、放出された光子の強度及び角出力の両方を制御するために使用され得ることが発見された。
したがって、発光ナノ構造材料を光子結晶構造体内部の異なる位置に埋め込むことにより、調整された照明出力を作成することができる。発光ナノ構造材料の複数の深さでの配置はまた、特定の波長の角出力を制御するために用いられ得、例えば、画面及び共有表示部、または標的の狭く角度付けられた出力のために望ましい、幅広い角度視野を作り出し、視聴者のために、例えばプライバシーまたは奥行き感覚を提供する。
具体的な発光ナノ構造材料のために、誘電層内部の最適な配置位置が、経験的に、容易に決定され得る。例えば、デバイスのいくつかの試料は、誘電層内部の異なる深さに位置付けられるナノ構造材料で製造され得、変化した試料の放射出力を評価した。異なるナノ構造材料は、最適な所望の放射を提供するように、誘電層内部の異なる配置深さを有し得る。誘電層内部の、特定のナノ構造材料のピーク電界位置は、ナノ構造材料の発光波長に依存し得る。
上述のように、本構造体及び方法において、ポリマー層、ナノ構造材料、誘電材料層、及び異なる屈折率を有する層などの他の層は、数ある中でも、液体浸漬コーティング、転写、スピンコーティング、及びスパッタリングを含む、流体または液体適用を含む種々の堆積方法により、適用され得る。
少なくともある特定の構造体を製造するために、ナノ構造材料層の浸漬コーティング適用が好ましい場合がある。本明細書で参照される場合、浸漬コーティングは、浸漬した表面に適用される流体組成物内へコーティングされる、基材または基材表面の部分的または完全な浸漬を含む。したがって、本明細書に開示される量子ドットなどのナノ構造材料を適用する場合には、上に誘電材料層を好適に有する基材は、少なくとも部分的にナノ構造材料を含む流体組成物内に浸漬される。かかる浸漬コーティングは、基材表面上のナノ構造材料の特に効果的な層を提供することができる。ナノ構造材料は、上に誘電層を有する基材が浸漬される流体有機組成物内で、溶解または分散することができる。かかる基材の浸漬の後、基材は流体組成物から除去され得、乾燥させられる。
上述のように、本明細書で使用される場合、「ナノ構造材料」という用語は、ヘテロ接合ナノロッドなどの1つ以上のヘテロ接合を含む、量子ドット材料及びナノ結晶質ナノ粒子(ナノ粒子またはナノ結晶)を含む。ナノ結晶及び量子ドットを含むナノ構造材料は、ナノ結晶構造を有し、量子力学的特性を表示するために十分に小さい半導体材料を包含する。米国公開出願第2013/0056705号及び米国特許第8,039,847号を参照されたい。米国公開出願第2012/0234460号及び米国公開出願第2013/0051032号もまた参照されたい。ナノ構造材料はまた、アップコンバートした蛍光物質を含む、蛍光染料及び蛍光物質を含み得る。
量子ドットは、好適に、II〜VI族の材料、III〜V族の材料、V族の材料、またはそれらの組み合わせであり得る。量子ドットは、例えば、CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、HgTe、GaN、GaP、GaAs、InP、及びInAsから選択される、少なくとも1つを好適に含み得る。異なる条件下で、量子ドットは上の材料のうちの2つ以上を含む化合物を含み得る。例えば、化合物は、混合状態のみで存在する2つ以上の量子ドット、同じ結晶内で2つ以上の化合物結晶が部分的に分けられた混晶、例えばコアシェル構造体、または勾配構造体、もしくは2つ以上のナノ結晶を含む化合物を有する結晶を含み得る。例えば、量子ドットは、貫通孔を有するコア構造体またはコア及びコアを包むシェルを有する容器入り構造体(encased structure)を有し得る。かかる実施形態において、コアは、例えばCdSe、CdS、ZnS、ZnSe、CdTe、CdSeTe、CdZnS、PbSe、AgInZnS、及びZnOのうちの1つ以上の材料を含み得る。シェルは、例えばCdSe、ZnSe、ZnS、ZnTe、CdTe、PbS、TiO、SrSe、及びHgSeから選択される、1つ以上の材料を含み得る。
複数のヘテロ結合を含む、不動態化したナノ結晶質ナノ粒子(ナノ粒子)は、デバイスとして使用されるとき、光放射を増強する電荷担体注入工程を好適に促進する。かかるナノ粒子はまた、半電導性ナノ粒子として参照され得、各端部、一次元のナノ粒子に接触する、単一の端部キャップまたは複数の端部キャップに配置された一次元のナノ粒子を含み得る。端部キャップはまた、互いに接触し得、一次元のナノ粒子を不動態化するように機能する。ナノ粒子は、少なくとも1つの軸に対して対称または非対称であることができる。ナノ粒子は、組成物、幾何学的構造体、及び電子的構造体、または両方の組成物ならびに構造体内で非対称であり得る。ヘテロ結合という用語は、別の半導体材料の結晶格子上で成長する1つの半導体材料を有する構造体を意味する。一次元のナノ粒子という用語は、ナノ粒子の質量が、第1の力へのナノ粒子の特性寸法(例えば長さ)と共に変化する物体を含む。これは以下の式(1):MαLdに示され、式中、Mは粒子の質量であり、Lは粒子の長さであり、dは粒子の次元数を決定する指数である。したがって、例えば、d=1であるとき、粒子の質量は粒子の長さに直接比例し、粒子は一次元のナノ粒子と命名される。d=2であるとき、粒子は、板などの2次元の物体であるが、一方d=3は、円柱または球体などの3次元の物体を画定する。一次元のナノ粒子(d=1である粒子)としては、ナノロッド、ナノチューブ、ナノワイヤ、ナノウィスカ、ナノリボン等が挙げられる。一実施形態において、一次元のナノ粒子は、湾曲しているかまたは波状でもよく(曲がりくねったように)、すなわち1〜1.5の間にある、dの値を有する。例示的な好ましい材料は、米国特許第8,937,294号に開示され、参照により本明細書に組み込まれる。
一次元のナノ粒子は、直径が約1nm〜10000ナノメートル(nm)、好ましくは2nm〜50nm、及びより好ましくは5nm〜20nm(約6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、または20nmなど)の横断面積または特性厚さ寸法(例えば、円形の横断面積についての直径または正方形または長方形の横断面積の2乗についての対角線)を、好適に有する。ナノロッドは、好適に、特性寸法が前述の範囲内である円形の横断面積を有する、剛性ロッドである。ナノワイヤまたはナノウィスカは曲線であり、異なるかまたはぜん虫様の形状を有する。ナノリボンは、4つまたは5つの線状側面によって結合される横断面積を有する。かかる横断面積の例は、正方形、長方形、平行六面体、菱面体等である。ナノチューブは、ナノチューブの全長を横切る、実質的に同心円状の孔を有し、それによりそれがチューブ様になる原因となる。これらの一次元のナノ粒子のアスペクト比は、2以上であり、好ましくは5以上であり、及び更に好ましくは10以上である。
一次元のナノ粒子は、II〜VI族(ZnS、ZnSe、ZnTe、CdS、CdTe、HgS、HgSe、HgTe等)、及びIII〜V(GaN、GaP、GaAs、GaSb、InN、InP、InAs、InSb、AlAs、AlP、AlSb等)、ならびにIV(Ge、Si、Pb等)材料、それらの合金、またはそれらの混合物であるものを好適に含む半導体を含む。
量子ドット材料を含むナノ構造材料は市販されており、また例えば、金属前駆体を使用する標準的化学湿式方法、及び金属前駆体を有機溶液内へ注入し金属前駆体を成長させることにより、調製され得る。量子ドットを含むナノ構造材料の大きさは、赤色(R)、緑色(G)、及び青色(B)波長の光を吸収または発するように調節され得る。したがって、発光ナノ結晶は、選択された波長または波長範囲の光を吸収または発するように選択され得る。
以下の実施例は本発明を例示する。
以下の実施例1の材料及び方法:
デバイス製作:これらの実施例において、光子結晶(PC)製作は、PC格子のために所望の複製成形された構造体のネガ画像を含む「マスター」シリコンウエハを利用した。鋳型は、反応性イオンエッチング(PlasmaLab Freon/O反応性イオンエッチング装置)で80nmの柱を製造する電子線リソグラフィー(JEOL JBX−6000FS)パターンを持つ熱酸化物SiO層を含む。エッチングされた面積を、20分間、ピラニアエッチング液の溶液(硫酸と過酸化水素との3:1(v/v)混合物)で洗浄し、次いで脱イオン水ですすぎ、Nで乾燥させ、2滴のNo−Stick溶液を用いて密閉容器内で、(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリクロロシラン(No−Stick、Alfa Aesar)の気相堆積で1時間処理した。エッチング後処理は、マスターウエハからの複製物の一貫した除去を可能にする。
PCの複製成形した層を、フラスコ内で混合した91μLのラウリルメタクリレート(LMA)と9μLのエチレングリコールジメタクリレート(EGDMA)とを含有するUV硬化性ポリマーで形成し、続いて1μLの開始剤(Darocur 1173、Sigma−Aldrich)を追加した。溶液をマスターウエハ上に液滴コーティングし、ポリマー接着力を増大させるために3−(トリメトキシシリル)プロピルメタクリレート(Sigma Aldrich)の気相堆積で前もって処理したOptigrafixのアセテートシートによって覆った。液滴は広がり、シリコン基材とアセテートシートとの間に連続的な薄層を形成した。それを高強度UVランプの下で、アルゴン雰囲気中で30分間重合し、次いでアセテート基材に付着した複製された格子構造体を含有する膜を、マスターから除去することができた。
スパッタリングを使用し、所望の厚さの高い屈折率のTiO層(K.J.Lesker Dual−Gun Sputter System)を、複製成形したポリマー層上に堆積させる。セレン化カドミウム(CdSe)量子ドット(QD)浸漬コーティング溶液を、オレイン酸リガンドコーティングで合成し、エタノール及びメタノールを使用した沈殿及び遠心分離により2回精製し、次いでヘキサン中に最初の濃度で再分散させた。PCを溶液に15秒間浸漬し、取り出し、少なくとも5分間乾燥させた。堆積が均一でない場合、PCをヘキサンに浸漬して、量子ドットを除去し、浸漬手順を繰り返すことができる。最後に、ヘキサンを使用して、基材の後側表面からQDを除去し、PCデバイス面積の外側のいかなる交絡放射をも排除する。次いで、追加のスパッタリングを行い、TiO2層を完成させる。
測定及び特性決定:
各試験構造体の出力を特性付けるために使用される試験設定を、LabVIEW OmniDriverインターフェースによって操作した。QDのための励起源は、λ=375nmの中心波長を有する、コリメートしたUV発光ダイオード(Thor Labs、高輝度濃紫LED)である。LEDは20nmの全幅半値を有し、また350<λ<390nmの帯域フィルタを、試験下の構造体に達すること及びQD放射の測定を妨げることから、いかなる非UV波長をも排除するために使用した。試験のため、構造体を、試験設定の光軸に対する構造体の表面の配向において、0.1°の段階増量を可能にするモータ付きの回転ステージ上に乗せた。UVフィルタ及び光ファイバー上のコリメートレンズを通過した後の各位置での出力放射を収集し、次いでUSB2000+Ocean Optics分光計により分析した。
光源として広帯域の、無偏光ハロゲン電球(LED及び帯域フィルタに替わって)を使用することにより、構造体を通る伝送スペクトルもまた計測できる。照明光源が、光子結晶試験構造体への同一の工程を経験したバルク試料を通過し、種々の層に渡る光減衰についての対照測定を提供する。次いで、同一の測定を試験構造体で行い、対照測定で正規化し、光子帯構造体及び出力放射の角度依存性を決定した。
実施例1:デバイス製作
製造したデバイス構造体は、埋め込まれたQDの発光波長を有するPC共振波長と、一致または不一致のいずれかである領域から、QD放射強度の対照比較を可能にする2つの別個の2次元のPC領域を含む。図6(a)で示されるように、領域をチェッカーボード形式で交互配置し、その交互領域は別個の共振波長を有する。各領域は、図6(a)の挿入画に示されるように2つの直交性の周期を有し、2つの周期は、埋め込まれたQDの励起及び発光波長の両方を増強するように設計された。例えば、チェッカーボードの領域1内の2D−PCは、X方向において短周期(L=200nm、40%使用率)を有し、Y方向においてはより長い周期(L=340nm)を有する。短周期を、QD励起のために使用する350<λ<390nmのUV波長で、導波モード共振を産するように設計する一方で、より長い周期を、QD放射のλ=615nmの波長で共振を産するように設計する。チェッカーボードの領域4は、X方向においてL=200nm(70%使用率)の短周期、及びY方向においてはL=250nmの長周期を有し、短周期を、QD励起波長で導波モード共振を産するように設計するが、長周期はλ=480nmの波長で共振を産する。したがって、λ=615nmで中心の発光波長を有するQDを構造体全体の内部に埋め込んだとき、全てのQD(チェッカーボードの両部分内の)は、共振増強効果で励起するが、領域1内部のQDのみが増強した抽出効果に関与する。差分時間領域電磁コンピュータシミュレーション(Lumerical、FDTD)を使用して、95nmの厚さのTiO(n=2.35、Metricon Model 2010/Mプリズム結合器)層が、λ=615nmでの無偏光QD放射への連結を最適化するであろうことを決定する。これは、同じ格子構造体を使用して製造した前のPCデバイス内の共振条件から推定される値と一致したが、TiO層の交互堆積の厚さとは一致しなかった。
λ=615nmのQD放射を増強するように標的された共振を有する領域は、60%使用率を有する340nmの周期と、70%使用率を有する140nmの周期を有する直交性の格子とを有する。交互PCチェッカーボード領域は、λ=490nmのより短い波長で光学共振を有するが、それはQD放射とは重ならず、QD放射増強を提供する有効なデバイス面積を半分にする。出力強度における差異は裸眼に対して可視であり、図6(e)内のPCに埋め込まれたQDの写真に示されるように、QD増強の視認を可能にする。本研究を平易にするための、λ=615nmの共振付近の光学特性が、結果の重点である。
図6(b)に示されるように、PCは、上にTiOの特定の厚さ、hが堆積した、複製成形したポリマー格子構造体を有する。QDの層を、次いで、TiO表面上の浸漬コーティングにより適用し、所望のTiOの厚さの剰余をQD上に堆積させる。最終TiO堆積後の頂部表面のSEM画像を、図6(c)に示す。λ=615nm及びλ=550nmでの共振モードのためのモデル化された電界を、図6(d)に示し、ピーク電界強度の位置が、同じPC構造体内部の入射光の波長で変化することを実証する。TiO層内部のQD放射体の深さを変化させることにより、QD放射強度の増強もまた変化するであろうことを我々は予測する。TiO領域内部のQD配置の影響を調査するために、以下の表1に記載される形状、3つのPC試料からなる各バッチ、及び同じ手順で作成した平坦な「対照」試料で、しかし周期的格子構造体無しで、我々はデバイスを製造した。
Figure 2019204088
デバイスの伝送効率スペクトルを、上述したような、製作工程の各段階の後に計測した。直角入射で計測した伝送効率の最小値を、共振モードの報告した波長を決定するために使用した。図7で黒い線として示される、連続的なTiO誘電層のためのモデル化された伝送効率を、計測した伝送スペクトルとの比較のために使用されるチェッカーボードパターンの50%有効な面積に関して正規化した。
図面の図7に示されるように、堆積したTiO材料の各層は、伝送効率最小値における赤色移動の原因となる。全ての試料において観察される、QDの追加によって引き起こされるλ=20〜25nmの偏移もまた存在する。h=90nmで添加したQDを有し、QD層上に堆積した5nmのみのTiOを有する、それらの構造体のついての伝送効率最小値は、λ=620nmで発生した。Δλ=5nm、λ=615nmの値よりも大きい波長でのみ発生するこの最小値は、埋め込まれたQDを有しない連続的な誘電層についてモデル化された結果により予想された。しかしながら、他のデバイス条件のため、QD上に最終TiO層が堆積した後、他の深さhへの共振波長が、h=30nmのためのΔλ =40nmにより、及びh=60nmのためのΔλ=15nmにより、モデル化された波長から青色移動する。これらのPCにおいて、TiO層の連続的な屈折率は妨害され、PCの有効屈折率はQDのより高い屈折率の材料(サイズに応じて、n=2.5〜2.64、により変化する。電界の高いかまたは低い強度部分内部のQDの位置で変化する屈折率上のQDの影響は、光子結晶の有効屈折率を更に改変する。
また、製造したデバイスの出力強度を、角度範囲に渡って計測し、QD放射の増強に関する誘電層内部のQD位置の影響を決定した。共振がPCの外で連結する光の引出し角度及び波長の両方に依存するため、図面の図8に示されるような出力強度を、λ=615nmのピークQD放射での、直角入射(0°)〜20°の角度範囲に渡って計測した。出力強度を、各実験条件で計測した3つのPC構造体に関して平均化した。PC内部の平均QD出力強度を、各実験条件に関する平坦な制御構造体出力強度で除算することにより、増強要因を決定した。QDの発光波長に適合する共振を有するチェッカーボード領域への実際の増強要因は、交互チェッカーボード領域内のQD放射を増強していないため、本明細書で我々が報告する値よりも実際は2倍高くなるであろう。
図面の図8は、光子結晶の誘電層内部に埋め込まれたQDの深さが、QD放射の増強に影響を与えることを明確に示す。直角入射での最も高い増強要因は5倍であり、深さh=90nmに置かれる、TiO表面に最も近いQD層を有する構造体内で発生する。これは、図面の図6(d)に示される、直角入射で抽出される、λ=615nmの光へのモデル化された結果から予想され、最も強い電界は高い屈折率の層の頂部表面に沿って集中する。しかしながら、他の製造した構造体は、h=60nmのTiOに置かれたQDへの4°の引出し角度及びh=30nmのQDへの7°の引出し角度で、より高い増強要因(最大で8倍まで)を実証する。
論じたように、ピーク増強が発生する変化する角度は、PC内部の放射体の深さ配置を、放出した光子の強度及び角出力の両方を制御するために使用できることを示す。この方法論は、PC構造体内部の異なる位置に埋め込まれた複数のQD放射波長を同時に増強し、調整された照明出力を作成するために有用である。複数の深さでのQDの配置はまた、特定の波長の角出力を特に制御するために使用され得、画面及び共有表示部、または標的の狭く角度付けられた出力のために望ましい、幅広い角度視野を作り出し、視聴者のために、例えばプライバシーまたは奥行き感覚を提供する。

Claims (18)

  1. 誘電層内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む前記誘電層を備える光子結晶を含む構造体であって、
    前記構造体が、垂直に積重した、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が、内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を含み、前記光子結晶が、第1の方向での第1の周期性を含む第1の領域、及び第1の方向と異なる第2の方向での第2の周期性を含む、構造体。
  2. 中に発光ナノ構造材料を含む誘電層を備え、
    発光ナノ構造材料の第1の組が、前記誘電層の第1の深度に位置付けられ、発光ナノ構造材料の第2の組が、前記誘電層の前記第1の深度とは異なる第2の深度に位置付けられる、構造体であって、
    前記構造体が光子結晶を含み、前記構造体が、垂直に積重した、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が、内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を含み、前記光子結晶が、第1の方向での第1の周期性を含む第1の領域、及び第1の方向と異なる第2の方向での第2の周期性を含む、構造体。
  3. 中に発光ナノ構造材料を含む誘電層を備え、
    発光ナノ構造材料の第1の組の層が、単一の誘電層の第1の深度に位置付けられ、発光ナノ構造材料の第2の組の層が、前記単一の誘電層の前記第1の深度とは異なる第2の深度に位置付けられる、構造体であって、
    放射波長が、前記発光ナノ構造材料の第1の組と第2の組との間で異なる、構造体。
  4. 中に発光ナノ構造材料を含む誘電層を備え、
    発光ナノ構造材料の第1の組が、前記誘電層の第1の深度に位置付けられ、発光ナノ構造材料の第2の組が、前記誘電層の前記第1の深度とは異なる第2の深度に位置付けられる、構造体であって、
    前記構造体が光子結晶を含み、前記構造体が、垂直に積重した、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が、内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を含み、前記光子結晶が、第1の方向での第1の周期性を含む第1の領域、及び第1の方向と異なる第2の方向での第2の周期性を含み、
    放射波長が、前記発光ナノ構造材料の第1の組と第2の組との間で異なる、構造体。
  5. 誘電層内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む前記誘電層を備える光子結晶を含む構造体であって、単一の誘電層内に複数のナノ構造材料層を含む、構造体であって、
    前記構造体が、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が誘電層内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む前記誘電層を備える、構造体。
  6. 中に発光ナノ構造材料を含む誘電層を備え、
    発光ナノ構造材料の第1の組の層が、単一の誘電層の第1の深度に位置付けられ、発光ナノ構造材料の第2の組の層が、前記単一の誘電層の前記第1の深度とは異なる第2の深度に位置付けられる、構造体であって、
    前記構造体が、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が誘電層内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む前記誘電層を備える、構造体。
  7. 前記発光ナノ構造材料が前記誘電層内部に埋め込まれている、請求項1または2に記載の構造体。
  8. 前記誘電層が金属酸化物を含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の構造体。
  9. 前記ナノ構造材料が量子ドット、蛍光染料、または蛍光物質を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の構造体。
  10. 前記構造体が、発光デバイス、光検出デバイス、化学センサ、光起電力デバイス、蛍光バックライトフィルム、ダイオード、トランジスタ、生物センサ、または病理学的検出器を提供する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の構造体。
  11. 光子結晶系を形成する方法であって、
    1つ以上の誘電材料と共に配置される1つ以上の発光ナノ構造材料を有する層を、基材表面上に適用することを含む、方法であって、
    前記構造体が、垂直に積重した、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が、内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を含み、前記光子結晶が、第1の方向での第1の周期性を含む第1の領域、及び第1の方向と異なる第2の方向での第2の周期性を含む、方法。
  12. 1)誘電材料が前記基材上に適用され、2)1つ以上のナノ構造材料が、前記適用された誘電材料上に適用され、3)誘電材料が前記適用されたナノ構造材料上に適用される、請求項11に記載の方法。
  13. 構造体を形成する方法であって、
    誘電表面を有する基材を、1つ以上のナノ構造材料を含む組成物で浸漬コーティングすることを含み、
    前記構造体または光子結晶系が、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が、内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む誘電層を含む、方法。
  14. 前記浸漬コーティング後に、誘電材料を前記基材に適用することを更に含む、請求項13に記載の方法。
  15. 前記構造体が光子結晶である、請求項13または14に記載の方法。
  16. 構造体を形成する方法であって、
    誘電表面を有する基材を、1つ以上のナノ構造材料を含む組成物で浸漬コーティングすること、前記浸漬コーティング後に誘電材料を前記基材に適用することを含み、前記構造体が、単一の誘電層内に複数のナノ構造材料層を含む、方法。
  17. 前記構造体が光子結晶である、請求項16に記載の方法。
  18. 前記構造体または光子結晶系が、一緒に入れ子になった複数の光子結晶構造体を含み、各光子結晶構造体が、誘電層内部に1つ以上の発光ナノ構造材料を含む前記誘電層を備える、請求項16または17に記載の方法。
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