JP2019204058A - 評価方法、露光方法、および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、基板上に形成された複数のショット領域のそれぞれに順次露光を行う露光装置100の構成を示す図である。光源1は、複数の波長帯域の光を露光光として出力することができる。光源1より射出した光は、照明光学系4の整形光学系(不図示)を介して所定のビーム形状に整形される。整形されたビームは更に、オプティカルインテグレータ(不図示)に入射され、ここで、後述する原版としてのレチクル9(マスク)を均一な照度分布で照明するために多数の2次光源が形成される。照明光学系4の光路上には、マスキングブレードとも呼ばれる視野絞り5が設けられており、照明系制御部8によってその絞り開口の位置および大きさが制御される。例えば、マスキングブレードは、照明領域を四角い形状に制限する視野絞りであって、その四辺が移動できるように構成されている。それにより、マスク上の任意の領域を照明することができる。
次に、第2実施形態における露光方法について説明する。図9は、本実施形態で用いるマルチレイヤレチクルであるレチクル9を例示したものである。露光に用いる複数の領域91,92それぞれの周囲に、フォーカス・像ずれを計測するための複数のマークMが設けられている。本実施形態は、マルチレイヤレチクル使用時の非対称な露光収差の評価および補正を行う点は第1実施形態と同じである。しかし、本実施形態では、主制御部3が露光シーケンスの間に非対称な収差を計測し、非対称な収差の予測係数にフィードバックする点が、第1実施形態と異なる。
本発明の実施形態に係る物品製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (9)
- 露光装置における投影光学系の収差を評価する評価方法であって、
前記投影光学系の光軸に対して対称な収差の予測式である第1予測式の予測係数である第1予測係数を取得するとともに、前記投影光学系の光軸に対して非対称な収差の予測式である第2予測式の予測係数である第2予測係数を取得する取得工程と、
マスクの照明領域の形状が前記光軸に対して対称か非対称かを判定する判定工程と、
前記第1予測係数と前記第2予測係数の少なくとも一方を用いて前記投影光学系の収差を評価する評価工程と、を有し、
前記評価工程において、
前記判定工程で前記マスクの照明領域の形状が前記光軸に対して対称であると判定された場合には、前記第1予測係数を用いて前記投影光学系の収差を評価し、
前記判定工程で前記マスクの照明領域の形状が前記光軸に対して非対称であると判定された場合には、前記第1予測係数と前記第2予測係数とを用いて前記投影光学系の収差を評価する
ことを特徴とする評価方法。 - 前記取得工程は、
複数の露光処理のそれぞれにおいてフォーカス誤差および像ずれ誤差を計測する工程と、
前記計測の結果に基づいて前記対称な収差および前記非対称な収差の時系列データを取得する工程と、
前記対称な収差の時系列データに対して前記第1予測式をフィッティングすることにより前記第1予測係数を取得し、前記非対称な収差の時系列データに対して前記第2予測式をフィッティングすることにより前記第2予測係数を取得する工程と、
を含むことを特徴とする請求項1に記載の評価方法。 - 前記複数の露光処理は、それぞれ照明領域が異なる複数の露光処理を含むことを特徴とする請求項2に記載の評価方法。
- 前記判定工程は、露光領域の重心が前記光軸の近傍にある場合、前記マスクの照明領域の形状が前記光軸に対して対称であると判定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の評価方法。
- 前記判定工程は、前記マスクが複数の領域にそれぞれ異なるレイヤのパターンが形成されたマルチレイヤレチクルである場合、前記マスクの照明領域の形状が非対称であると判定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の評価方法。
- 露光シーケンスの間にフォーカス誤差および像ずれ誤差を計測し、該計測の結果に基づいて前記対称な収差および前記非対称な収差のデータを取得し、該取得したデータに基づいて、前記第1予測係数および前記第2予測係数を補正する工程を更に有することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の評価方法。
- 前記非対称な収差は、軸ずれ、偏心ディストーション、片ボケ、軸上コマ、片ボケアスの少なくともいずれか1つを含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の評価方法。
- マスクに形成されているパターンを投影光学系を介して基板に投影して該基板を露光する露光装置によって行われる露光方法であって、
請求項1乃至7のいずれか1項に記載の評価方法を用いて前記投影光学系の収差を評価する工程と、
前記評価の結果に基づいて前記露光装置を調整する工程と、
前記調整された前記露光装置を用いて前記基板を露光する工程と、
を有することを特徴とする露光方法。 - 請求項8に記載の露光方法に従い基板を露光する工程と、
前記工程で前記露光された基板を現像する工程と、
を有し、
前記現像された基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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