JP2019192756A - レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置、レーザ装置の点検方法 - Google Patents

レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置、レーザ装置の点検方法 Download PDF

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Abstract

【課題】簡便な構成で、レーザモジュールの状態をモニターする。【解決手段】レーザ装置20は、複数のレーザモジュール30及びコリメートレンズSACと、複数のレーザモジュール30のそれぞれから出射され、コリメートレンズSACを透過したレーザ光を結合する回折格子DFPと、複数のレーザモジュール30を収容する第1筐体22と、複数のコリメートレンズSAC及び回折格子DFPを収容する第2筐体23とを備えている。第1筐体22と第2筐体23との連通口24がレーザモジュール30毎に設けられ、連通口24は、レーザ光の一部を反射する光学部材25で封止されている。フォトダイオードPDは、光学部材25で反射されたレーザ光を受光するようにレーザモジュール毎に配置され、フォトダイオードPDの出力信号に基づいてレーザモジュール30の状態がモニターされる。【選択図】図2

Description

本発明は、レーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置、レーザ装置の点検方法に関する。
従来、複数のレーザモジュールからそれぞれ出射されたレーザ光を光学的に結合して、高出力の加工用レーザ光を得るレーザ加工装置が知られている。このようなレーザ加工装置において、個々のレーザモジュールで異常が発生すると加工用レーザ光の品質が低下してしまう。
そこで、個々のレーザモジュールの交換を容易にする構成がいくつか提案されている。例えば、特許文献1には、複数のレーザモジュールが収容された筐体内に予備のレーザモジュールを予め配置して、点検時には複数のレーザモジュールを順次レーザ発振させてその光量を測定し、この測定結果に基づいて、交換が必要なレーザモジュールを予備のレーザモジュールと交換する構成が開示されている。
国際公開2015−115301号
しかし、特許文献1に開示された従来の構成では、複数のレーザモジュールを順次レーザ発振させてその光量を測定するため、点検作業に時間がかかっていた。また、筐体内に予備のレーザモジュールと交換用の搬送機構とを設けているため、レーザモジュールが大きくなってしまうとともに、複雑な機構となっていた。
本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、その目的は、簡便な構成で複数のレーザモジュールの状態をモニター可能なレーザ装置及びそれを用いたレーザ加工装置、レーザ装置の点検方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明に係るレーザ装置は、複数のレーザモジュールと、該複数のレーザモジュールのそれぞれから出射されたレーザ光の光路に設けられ、前記レーザ光を整形する複数の第1光学部品と、前記複数の第1光学部品を透過したレーザ光を光軸が同じになるように結合する第2光学部品と、を備えたレーザ装置であって、前記複数のレーザモジュールを収容する第1筐体と、前記第1光学部品及び前記第2光学部品とを収容し、前記第1筐体に接して設けられた第2筐体とを備え、前記第1筐体と前記第2筐体とを互いに連通する連通口が前記複数のレーザモジュールのそれぞれに対応して設けられ、前記連通口は、レーザモジュールから出射されたレーザ光の一部を透過し、残部を反射するように構成された光学部材で封止されており、前記第1筐体には、前記光学部材で反射された前記レーザ光を受光するように受光部が前記複数のレーザモジュールのそれぞれに対して配置され、前記受光部の出力信号に基づいて前記レーザモジュールの状態をモニターするように構成されていることを特徴とする。
この構成によれば、簡便な構成で、複数のレーザモジュールのそれぞれの状態を、これらレーザモジュールに対応してそれぞれ設けられた受光部の出力信号に基づいてモニターすることができる。このことにより、それぞれのレーザモジュールの劣化度合い及びその交換時期を的確に見極めることができる。
また、本発明に係るレーザ加工装置は、上記のレーザ装置を複数有し、複数の前記レーザ装置から出射されたレーザ光を結合して出射するレーザ発振器と、前記レーザ発振器に接続され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を導光する伝送ファイバと、該伝送ファイバの出射端に取付けられたレーザ光出射ヘッドと、を少なくとも備えたことを特徴とする。
この構成によれば、高出力のレーザ光が得られるとともに、装置のダウンタイムを低減することができる。
本発明のレーザ装置によれば、簡便な構成で、複数のレーザモジュールのそれぞれの状態をモニターし、その劣化度合いを見極めることができる。
本発明の一実施形態に係るレーザ加工装置の構成を示す模式図である。 本発明の一実施形態に係るレーザ装置の内部構成を示す模式図である。 レーザモジュールの構成を示す模式図である。 レーザ装置の点検手順を示すフローチャートである。 変形例に係るレーザ装置の点検手順を示すフローチャートである。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものでは全くない。
(実施形態)
[レーザ加工装置の構成]
図1は、本実施形態に係るレーザ加工装置の構成の模式図を示し、レーザ加工装置100は、レーザ発振器10とレーザ光出射ヘッド40と伝送ファイバ50と制御部60と電源70と表示部80とを備えている。レーザ発振器10と伝送ファイバ50のレーザ光が入射される端部(以下、単に入射端という。また、伝送ファイバ50のレーザ光が出射される端部を、以下、単に出射端という。)とは筐体11内に収容されている。
レーザ発振器10は、複数のレーザ装置20とビーム結合器12と集光ユニット13と、を有している。
レーザ装置20は、互いに異なる波長のレーザ光を発する複数のレーザモジュール30と、複数のレーザモジュール30からそれぞれ出射されたレーザ光を整形し、これらを波長合成するとともに光軸が同じになるように結合する光学系21とを有している(図2参照)。レーザ装置20の構成の詳細及び各部の詳細については後で述べる。後述する制御部60がレーザ装置20に含まれていてもよい。また、一つのレーザ装置20が有するレーザモジュール30の個数は、レーザ装置10に関する要求仕様に応じて適宜変更されうる。
ビーム結合器12は、複数のレーザ装置20からそれぞれ出射されたレーザ光LB1〜LB4(図2参照)を一つのレーザ光(以下、レーザ光LBという)に結合して集光ユニット13に出射する。具体的には、各々のレーザ光の光軸を近接又は一致させるとともに、互いの光軸が平行になるように結合する。
集光ユニット13は、内部に配設された集光レンズ(図示せず)によって、入射されたレーザ光LBを集光し、集光されたレーザ光LBは、所定の倍率でビーム径が縮小されて伝送ファイバ50に入射される。また、集光ユニット13は図示しないコネクタを有し、コネクタには伝送ファイバ50の入射端が接続されている。
レーザ発振器10をこのような構成とすることで、レーザ光出力が数kWを超える高出力のレーザ加工装置100を得ることができる。また、レーザ発振器10は、後述する電源70から電力が供給されてレーザ発振を行い、結合レーザ光LBが伝送ファイバ50の出射端から出射される。なお、本実施形態では、4つのレーザ装置20でレーザ発振器10を構成しているが、特にこれに限定されない。レーザ装置20の搭載個数は、レーザ加工装置100に要求される出力仕様や、個々のレーザ装置20の出力仕様によって適宜変更されうる。
伝送ファイバ50は、集光ユニット13の集光レンズに光学的に結合され、集光レンズを介してレーザ発振器10から受け取ったレーザ光LBをレーザ光出射ヘッド40に導光する。また、図示しないが、伝送ファイバ50は、軸心にレーザ光LBを導光するためのコアと、コアの外周面に接して、コアの屈折率よりも低い屈折率を有するクラッドとで構成されており、クラッドはレーザ光LBをコア内に閉じ込める機能を有している。また、クラッドの外周面は、外光の遮蔽と機械的なダメージ保護のために図示しない皮膜で覆われている。
レーザ光出射ヘッド40は、伝送ファイバ50で導光されたレーザ光LBを外部に向けて照射する。例えば、図1に示すレーザ加工装置100では、所定の位置に配置された加工対象物であるワークWに向けてレーザ光LBを出射する。このようにすることで、ワークWがレーザ加工される。
制御部60は、レーザ発振器10のレーザ発振を制御する。具体的には、レーザ発振器10に接続された電源70に対して出力電圧やオン時間等の制御信号を供給することにより、各々のレーザ装置20のレーザ発振制御を行う。各々のレーザ装置20に対して個別にレーザ発振制御を行うことも可能である。例えば、レーザ装置20にレーザ発振出力やオン時間等を異ならせるようにしてもよい。また、制御部60は、レーザ装置20内に配置されたフォトダイオードPD(図2参照)からの出力信号を受け取って、この出力信号に基づいて、レーザモジュール30の劣化度合いを判定する劣化判定部としても機能する。また、制御部60は、レーザ光出射ヘッド40が取り付けられたマニピュレータ(図示せず)の動作を制御してもよい。
電源70は、上述したように、レーザ発振を行うための電力をレーザ発振器10、具体的には、複数のレーザ装置20のそれぞれに対して供給する。制御部60からの指令により、各々のレーザ装置20に供給される電力を異ならせるようにしてもよい。また、電源70は、レーザ加工装置100の可動部、例えば、上記のマニピュレータに対して電力を供給するようにしてもよいし、レーザ加工装置100の可動部向けには別の電源(図示せず)から電力を供給するようにしてもよい。
表示部80は、制御部60で判定されたレーザモジュール30の劣化度合いを表示するように構成されている。また、劣化したと判定されたレーザモジュール30の交換要否についても表示するように構成されている。なお、表示部80には、上記以外のデータを表示させてもよい。例えば、レーザ光LBの出力を表示させるようにしてもよい。レーザ加工時の加工パラメータと実測値とを同時に表示させるようにしてもよい。表示部80は、通常、ブラウン管や液晶ディスプレイ等の表示デバイスを含んでいる。
[レーザ装置の内部構成及びレーザモジュールの構成]
図2は、レーザ装置の内部構成の模式図を、図3は、レーザモジュールの構成の模式図をそれぞれ示す。なお、以降の説明において、図1におけるビーム結合器12内でのレーザ光の進行方向をX方向、レーザ装置20の配列方向をY方向、Z方向及びY方向と直交する方向をZ方向とそれぞれ呼ぶことがある。また、図3に示すレーザモジュール30において、放熱ブロック30が配設された側を「下」または「下側」と、レーザバー31が配設された側を「上」または「上側」とそれぞれ呼ぶことがある。また、レーザモジュール30またはレーザバー31において、レーザ光出射面30aが設けられた側を「前」または「前側」と、レーザ光出射面30aと反対側を「後」または「後側」とそれぞれ呼ぶことがある。なお、図2において、説明の便宜上、レーザ装置20の第2筐体23とビーム結合器12との間に間隔を設けているが、実際にはこれらは接して設けられている。
レーザ装置20において、複数のレーザモジュール30は第1筐体22内に、光学系21は第2筐体23内にそれぞれ設けられている。第1筐体22と第2筐体23とは互いに接して設けられている。また、第1筐体22と第2筐体23とが接する部分には、これらを互いに連通する連通口24が設けられている。連通口24は、複数のレーザモジュール30のそれぞれから出射されたレーザ光が透過するように、レーザモジュール30毎に設けられている。また、連通口24の各々は、ウインドウ(光学部材)25で封止されている。ウインドウ25は、石英ガラスからなる板材に入射されたレーザ光に対して所定の透過率を有するようにコーティングがなされた光学部材である。本願明細書において、この透過率は99.9%、反射率は0.1%になるように調整されているが特にこれに限定されない。例えば、透過率を99.5%とし、反射率が0.5%となるように調整してもよい。ウインドウ25に入射したレーザ光の99.9%は、ウインドウ25を透過して第2筐体23内に入射される一方、0.1%は反射されて第1筐体22内に戻り、この戻り光の光路上に受光部であるフォトダイオードPDが配置されて、戻り光の光量に比例した出力信号を制御部60に出力する。フォトダイオードPDは、レーザモジュール30毎に設けられている。また、ウインドウ25は、反射した戻り光がそれぞれのフォトダイオードPDで受光されるように、レーザモジュール30からそれぞれ出射されたレーザ光の光路に対して所定の角度をなして設けられている。
また、第1筐体22内には、レーザモジュール30から出射されたレーザ光のファースト軸方向成分(レーザバー31のpn接合(図示せず)に垂直な方向の成分)をコリメートするコリメートレンズFACと、コリメートレンズFACを透過したレーザ光の偏光を90°回転させる偏光板DPPとが、レーザモジュール30のレーザ光出射面30aの前方に配置されている。また、第1筐体22内には、隣り合うレーザモジュール30の間に仕切り板22aが設けられており、異なるレーザモジュール30における戻り光が他のフォトダイオードPDのいずれかに入射されるのを防止している。また、第1筐体22には開口26が設けられており、開口26は封止板27で封止されている。後述するように、レーザモジュール30が劣化して交換が必要と判定された場合、封止板27が取り払われて、劣化したレーザモジュール30が開口26から取り出されるとともに、新しいレーザモジュール30が第1筐体22の所定の位置に設置される。また、複数の連通口24のそれぞれがウインドウ(光学部材)25で封止され、かつ開口26が封止板27で封止されていることで、第1筐体22の内部は気密が保たれている。
第2筐体23内には、ウインドウ25を透過したレーザ光のスロー軸方向成分(レーザバー31のpn接合と平行な方向の成分)をコリメートする複数のコリメートレンズSACと、コリメートレンズSACを透過したそれぞれのレーザ光が入射されるとともに、入射されたレーザ光をそれぞれ所定の方向に回折することで、複数のレーザモジュール30からそれぞれ出射されたレーザ光の光軸が同じになるように結合する回折格子DFPと、外部共振ミラーECMとが所定の位置関係を保って配置されている。複数のレーザモジュール30のそれぞれから出射されたレーザ光は、互いに波長が異なるため、回折格子DFPでの回折角が異なる。このため、回折格子DFPに入射されるレーザ光の入射角度をそれぞれ異ならせることで、複数のレーザ光の光軸が同じになるように結合させることができる。外部共振ミラーECMは、レーザモジュール30のレーザ光出射面30a(図3参照)とそれぞれレーザ共振構造を構成しており、また、複数のレーザ光出射面30aよりも反射率が低くなるように構成されている。回折格子DFPで結合されたレーザ光は、所定の出力を越えると、外部共振ミラーECMを透過して第2筐体23に設けられたレーザ光出射口23aからビーム結合器12に出射される。図示しないが、ビーム結合器12には4つの異なるレーザ光出射口23aが接続されており、ビーム結合器12内で空間結合又は偏波結合あるいはその両方がなされて一つのレーザ光LBとして集光ユニット13に出射される。
レーザモジュール30は、レーザバー31と、ヒートシンク32と、放熱ブロック33とを有しており、レーザバー31は、並列に配置された複数のエミッターを有する半導体レーザアレイである。また、レーザ光出射面30aはレーザバー31のレーザ光出射端面である。また、レーザバー31の上面及び下面にそれぞれ接して電極34が設けられており、それぞれの電極34に接続された配線35を介して電源70から電力が供給される。なお、一つのレーザバー31に含まれるエミッターの個数は、レーザモジュール30に要求される最大出力やレーザバー31の価格等に応じて適宜決められる。
放熱ブロック33は、銅等の高熱伝導性の金属材料からなり、所定の温度に調整された冷却水が流れる図示しない冷却管に直接又は間接的に接している。あるいは、放熱ブロック33の内部を冷却管が通るようにしてもよい。レーザバー31で発生した熱は、ヒートシンク32を介して放熱ブロック31に排出され、また、放熱ブロック31に排出された熱は、冷却管を介して外部に運ばれる。このことにより、レーザバー31が動作中に所定の温度を超えないように冷却される。
ヒートシンク32は、断面視でC字形状の銅等の金属材料からなり、上面に、レーザバー31の下面に設けられた電極34が接着されている。つまり、ヒートシンク32の上面にレーザバー31が位置決め固定されている。また、レーザバー31の載置面を除くヒートシンク32の上面に測温体36が設けられている。測温体36で測定された温度は、レーザモジュール30の温度として制御部60に入力される。これについては後述する。
また、ヒートシンク32には、ヨー角調整機構37とピッチ角調整機構38とが設けられている。ヨー角調整機構37及びピッチ角調整機構38はそれぞれ、レーザモジュール30から出射されるレーザ光の光軸を調整するための機構であり、また、ヨー角調整機構37は、ヒートシンク32を放熱ブロック33に固定するための機構でもある。
ヨー角調整機構37は、ヒートシンク32を上下方向に貫通する図示しないねじ孔と、このねじ孔に連通され、放熱ブロック31に形成された別のねじ孔と、これらに螺合されるヨー角調整ねじ37aとで構成されている。ヨー角調整ねじ37aは偏心ねじであり、所定の角度締め込むことで、レーザバー31の上面と交差する軸、この場合は、ヨー角調整ねじ37aの偏心軸の周りにヒートシンク32が回転する角度を調整する。また、前述したように、レーザバー31はヒートシンク32の上面に固定され、レーザバー31の前端面からレーザ光が出射される。従って、ヨー角調整機構37は、ヒートシンク32の上面に平行な面内をレーザ光の光軸が回転する角度を調整している。なお、放熱ブロック33にヒートシンク32を固定するために図示しない別の固定機構(ねじ孔とねじの組合わせ)を設けるようにしてもよい。この場合、別の固定機構で放熱ブロック33に対してヒートシンク32の位置決めを大まかに行い、ヨー角調整機構37でヨー角調整を含めた細かな位置決めを行うこともできる。
ピッチ角調整機構38は、ヒートシンク32の開口32aの前端部近傍に設けられた2つのねじ孔と、これらのねじ孔に螺合されるピッチ角調整ねじ38aとで構成されている。ねじ孔は、開口32aの前端部の角部にそれぞれ設けられている。ねじ孔は、開口32aの上側に位置するヒートシンク32を貫通する一方、開口32aの上側に位置するヒートシンク32の厚み方向の途中まで形成されている。このようにすることで、ピッチ角調整ねじ38aを締め込むと、ヒートシンク32における開口32aの上側の前端部が下方に変位する。つまり、ヒートシンク32の後端近傍を中心として、ヒートシンク32の上面は、前端部が下方に向かうように回転する。言いかえると、ピッチ角調整機構38は、ヒートシンク32の側面と交差する軸の周りにレーザ光の光軸が回転する角度を調整している。
なお、図示しないが、放熱ブロック33の下面には高熱伝導性の材料からなるシートと絶縁性材料からなるシートとが積層されて貼り付けられている。これにより、放熱ブロック33が載置された第1筐体22又は第1筐体22に取付けられた冷却機構に対して放熱ブロック33から熱が排出されるとともに、放熱ブロック33との電気的絶縁が図れる。同様に、図示しないが、放熱ブロック33とヒートシンク32との間にも、これらに接して、高熱伝導性の材料からなるシートと絶縁性材料からなるシートとの積層体が設けられている。これにより、放熱ブロック33に対してヒートシンク32から熱が排出されるとともに、ヒートシンク32と放熱ブロック33との電気的絶縁が図れる。なお、上記の積層体の代わりに、高熱伝導性かつ絶縁性の材料からなる単層のシートを用いてもよい。また、シートの代わりに同様の性質を有する塗膜を用いるようにしてもよい。
[レーザ装置20の点検手順]
図4は、レーザ装置の点検手順のフローチャートを示す。
レーザ加工装置100を作動して、制御部60からの制御信号によって電源70を立ち上げる。電源70からレーザ装置20のレーザモジュール30にそれぞれ電力を供給して、レーザ発振器10からレーザ光LBを出射させる(ステップS1)。また、レーザモジュール30のそれぞれに応じて設けられたフォトダイオードPDによって、ウインドウ25で反射された戻り光が受光され、戻り光の光量に応じた信号が制御部60に出力される。この信号の時間変化を表示部80に表示させるようにしてもよい。また、測温体36で測定されたレーザモジュール30の温度も制御部60に出力される。
また、個々のレーザモジュール30が正常な場合に受光されるフォトダイオードPDの信号を基準として、しきい値が設けられている。例えば、基準となる信号の大きさに対して20%低下した値をしきい値とする。ただし、しきい値の設定については特にこれに限定されず、他の値を採用してもよい。フォトダイオードPDの出力信号に基づいて各々のレーザモジュール30の状態がモニターされる。また、測温体36で測定された温度によってもレーザモジュール30の状態がモニターされる。
次に、測温体36で測定された温度が所定値を越えているレーザモジュール30の有無を判定する(ステップS2)。この判定は制御部60で行われる。測温体36で測定された温度が所定値を越えている場合、対応するレーザモジュール30に何らかの異常が発生していると推定される。例えば、レーザバー31が劣化して、発熱量が大きくなっていることが考えられる。また、すべてのレーザモジュール30の温度が所定値を超えている場合には、レーザ発振器10の冷却機構に何らかの異常が発生していると推定される。このように、測温体36で測定された温度が所定値を越えているレーザモジュール30がある場合は、制御部60からの制御信号によって、電源70から全てのレーザ装置20への電力供給を停止し、レーザ発振を停止する(ステップS4)。同時に、レーザ加工装置100も停止させるかスタンバイ状態にする。さらに、異常原因を調べるためにレーザ発振器10の各部の点検を行う。すべてのレーザモジュール30の温度が所定値よりも低い場合は、ステップS3に進む。なお、ステップS2において、測温体36で測定された温度が所定値を越えているレーザモジュール30があると判定された場合にも、そのままステップS3に進むようにしてもよい。
レーザ装置20内のすべてのフォトダイオードPDの中で出力信号が低下して、所定のしきい値以下となっているフォトダイオードの有無を判定する(ステップS3)。この判定は制御部60で行われる。フォトダイオードPDの出力信号が低下して、しきい値以下の場合、対応するレーザモジュール30に何らかの異常が発生していることが推定される。例えば、レーザバー31が劣化して、エミッターの全部又は一部が破壊された場合には、レーザ光の光量が低下するため、その戻り光の光量に基づくフォトダイオードPDの出力信号も低下する。また、レーザ装置20内でレーザモジュール30の配置が所定の位置からずれている場合にも、ウインドウ25で反射された戻り光の光軸がずれるため、フォトダイオードPDの出力信号が低下する。
出力信号がしきい値以下となっているフォトダイオードPDがある場合は、ステップS4に進んで、レーザ発振を停止する。同時に、レーザ加工装置100も停止させるかスタンバイ状態にする。すべてのフォトダイオードPDの出力信号がしきい値よりも大きい場合は、各々のレーザモジュール30及びレーザ装置20は正常であると推定されるため、点検作業を終了する。具体的には、レーザ発振器10をスタンバイ状態にするか、あるいはレーザモジュール30への電力供給を停止する。
ステップS4でレーザ発振を停止した後、第1筐体22の封止板27を取り外し、異常が発生していると推定されるレーザモジュール30を取り外して第1筐体22の外に取り出し、別途準備したレーザモジュール30を第1筐体22内の所定の位置に設置する(ステップS5)。場合によっては、第1筐体22と第2筐体23とを切り離して、レーザモジュール30の交換を行うようにしてもよい。また、交換されたレーザモジュール30には調整用配線(図示せず)を接続する。通常、レーザ装置20内のレーザモジュール30は、電源70に対して並列接続されている。このため、電源70からレーザ装置20の電力が供給されると、レーザ装置20内のレーザモジュール30のすべてに電力が供給されてレーザ発振してしまう。これを回避し、交換したレーザモジュール30のみに電力を供給するために調整用配線が接続される。
次に、調整用配線を介して電源70から交換したレーザモジュール30に所定の電力を供給し、当該レーザモジュール30からレーザ光が出射される。なお、第1筐体22と第2筐体23とを切り離した場合は、これらを元の状態に戻してから電力の供給を行う。また、電源70から電力を供給する前に、集光ユニット13の光出射部以降、例えば、伝送ファイバ50の出射端に出力モニター(図示せず)を配置し、交換されたレーザモジュール30から出射されたレーザ光の出力を測定する(ステップS6)。
ヨー角調整ねじ37aとピッチ角調整ねじ38aとをそれぞれ回して、出力モニターの値が最大になるようにレーザ光の光軸を調整する(ステップS7)。光軸調整が完了したら、電力の供給を停止し、調整用配線を電極34から取り外し、もとの配線35を接続する。また、出力モニターも撤去する。封止板27を開口26に取付けて第1筐体22を封止する。再びステップS1からステップS3までを行い、ステップS3での判定が否定的になるまで一連の作業を繰り返す。なお、ステップS7の終了後に、そのまま点検作業を終了するようにしてもよい。
なお、ステップS2における所定値及びステップS3におけるしきい値は、各々のレーザモジュール30の最大出力や使用保証温度等によって適宜変更されうる。
[効果等]
本実施形態に係るレーザ装置20は、複数のレーザモジュール30と、複数のレーザモジュール30のそれぞれから出射されたレーザ光の光路に設けられ、これらのレーザ光を整形する複数のコリメートレンズ(第1光学部品)SACと、複数のコリメートレンズSACを透過したレーザ光を光軸が同じになるように結合する回折格子(第2光学部品)DFPと、を備えている。
また、レーザ装置20は、複数のレーザモジュール30を収容する第1筐体22と、複数のコリメートレンズSACを及び回折格子DFPとを収容し、前記第1筐体22に接して設けられた第2筐体23とを備えている。
第1筐体22と第2筐体23とを互いに連通する連通口24が複数のレーザモジュール30のそれぞれに対応して設けられている。また、連通口24は、レーザモジュール30から出射されたレーザ光の一部を透過し、残部を反射するように構成されたウインドウ(光学部材)25で封止されている。第1筐体22には、ウインドウ25で反射されたレーザ光を受光するようにフォトダイオード(受光部)PDが複数のレーザモジュール30のそれぞれに対して配置されている。
また、レーザ装置20は、フォトダイオードPDの出力信号に基づいてレーザモジュール30の状態をモニターするように構成されている。
レーザ装置20をこのように構成することで、複数のレーザモジュール30のそれぞれの状態を、これらレーザモジュール30に対応してそれぞれ設けられたフォトダイオードPDの出力信号に基づいてモニターすることができる。例えば、フォトダイオードPDの出力信号が低下して、所定のしきい値以下である場合、対応するレーザモジュール30に何らかの異常が発生していると考えられるため、レーザ発振を停止して点検を行うことができる。また、点検の結果、交換が必要であれば、対応するレーザモジュール30を交換して、レーザ装置20を正常な状態に復することができる。また、レーザモジュール30から出射されたレーザ光を透過させるウインドウ25によって、一部のレーザ光をレーザモジュール30側に戻し、その戻り光をフォトダイオードPDで受光しているため、新たな光学部材を設ける必要が無い。このように簡便な構成で、各々のレーザモジュール30の状態をモニターでき、レーザ装置20のコストを低減できる。
また、第1筐体22が、レーザモジュール30を取り出し可能に設けられた開口26と開口27を封止する封止板とを有するようにしてもよい。このようにすることで、レーザモジュール30の交換を容易に行うことができる。
また、レーザ装置20に制御部60の一機能が含まれるようにしてもよい。その場合、レーザ装置20に含まれる制御部60の機能は、レーザモジュール30の劣化度合いを判定する劣化判定機能であり、レーザモジュール30の交換要否を判定するように構成されている。このようにすることで、レーザモジュール30の交換要否の判断を容易に行うことができる。
また、レーザ装置20において、複数のレーザモジュール30のそれぞれに対して、レーザモジュール30の温度を測定する測温体36が設けられ、測温体36で測定されたレーザモジュール30の温度とフォトダイオードPDの出力信号とに基づいてレーザモジュール30の状態をモニターするように構成されていてもよい。このようにすることで、レーザモジュール30の異常とレーザ発振器10の冷却機構の異常とを切り分けて把握することができる。例えば、冷却機構に異常が生じているのみと判断できれば、第1筐体22を開封することなく、レーザ装置20を正常な状態に復することができるため、点検作業や修理作業を短縮し、レーザ加工装置100のダウンタイムを低減できる。
また、レーザモジュール30は、放熱ブロック33と、放熱ブロック33の上面に載置されたヒートシンク32と、上面及び下面にそれぞれ電極34が接して設けられる一方、ヒートシンク32の上面に載置されたレーザバー31と、を少なくとも有している。ヒートシンク32には、レーザモジュール30から出射されたレーザ光の光軸を調整する光軸調整機構が設けられている。この光軸調整機構は、ヒートシンク32の上面に平行な面内をレーザ光の光軸が回転する角度を調整するヨー角調整機構37と、ヒートシンク32の側面と交差する軸の周りにレーザ光の光軸が回転する角度を調整するピッチ角調整機構38とで構成されている。
ヒートシンク32にこのような光軸調整機構を設けることにより、交換されたレーザモジュール30において、出射されるレーザ光の光軸を容易に調整することができる。このため、レーザ装置20の点検作業や交換作業を短縮でき、ひいてはレーザ加工装置100のダウンタイムを低減できる。
ヒートシンク32を、断面視でC字形状の金属部材とし、ピッチ角調整機構38は、ヒートシンク32に設けられた開口32aの開度を調整してピッチ角を設定するように構成されていてもよい。このようにすることで、ヒートシンク32とレーザバー31あるいは放熱ブロック33との相対位置を変えることなく、ピッチ角の調整を行うことができ、レーザ光の光軸調整が容易になる。
また、本実施形態に係るレーザ装置の点検方法は、フォトダイオードPDの出力信号に基づいて、レーザモジュール30の交換が必要と判定された場合は、劣化したレーザモジュール30を別のレーザモジュール30に交換し、交換された別のレーザモジュール30からレーザ光を出射させるとともに、ヒートシンク32に設けられた上記の光軸調整機構を用いてレーザ光の光軸が所定の位置、この場合は、第2筐体23に設けられた回折光子DFP上の所定の位置に来るように調整する。このようにすることで、レーザモジュール30の交換時期を的確に把握するとともに、交換が必要なレーザモジュール30を速やかに交換して、レーザ装置20を正常な状態に復することができる。また、光軸調整機構を用いてレーザ光の光軸を正確に調整することができる。このことにより、レーザ装置20で結合されたレーザ光の品質、ひいてはレーザ発振器120から出射されるレーザ光LBの品質を維持することができる。
また、本実施形態に係るレーザ加工装置100は、レーザ装置20を複数有し、複数のレーザ装置20から出射されたレーザ光を結合して出射するレーザ発振器10と、レーザ発振器10に接続され、レーザ発振器10から出射されたレーザ光LBを導光する伝送ファイバ50と、伝送ファイバ50の出射端に取付けられたレーザ光出射ヘッド40と、を少なくとも備えている。
レーザ加工装置100をこのように構成することで、高出力のレーザ光LBが得られ、また、ダウンタイムを低減することができる。さらに、レーザモジュール30の劣化を的確に把握できるため、加工用のレーザ光LBの品質が低下するのを抑制できる。
<変形例>
図5は、本変形例に係るレーザ装置の点検手順のフローチャートを示す。
図4に示すステップS1,S2及びS4〜S7と、図5に示すステップS11,S12及びS16〜S19とは、それぞれ同様であるため、これらのステップについては詳細な説明を省略する。
本変形例に示す点検手順と、実施形態に示す点検手順とでは、フォトダイオードPDの出力信号に対して複数のしきい値を設け、それぞれのしきい値以下の信号を出力している、出力信号が低下したフォトダイオードPDがあるかどうかを判定している点で大きく異なる。
具体的には、ステップS12の終了後、ステップS13において、レーザ装置20内のすべてのフォトダイオードPDの中で出力信号が第1しきい値以下となっているフォトダイオードの有無を判定する。この判定は制御部60で行われる。また、第1しきい値は、レーザモジュール30の劣化が始まっているが、まだ、最大出力が要求仕様の範囲内にあるような場合に、フォトダイオードPDで受光される戻り光の光量に基づいている。
出力信号が第1しきい値以下となっているフォトダイオードPDがある場合は、ステップS14に進んで、交換用のレーザモジュール30を準備する。ただし、この時点では、対応するレーザモジュール30の点検や交換を行わなくてもよい。出力信号が第1しきい値以下となっているフォトダイオードPDが無い場合は点検作業を終了する。
ステップS14の後に、レーザ装置20内のすべてのフォトダイオードPDの中で出力信号が第2しきい値以下となっているフォトダイオードの有無を判定する(ステップS15)。この判定は制御部60で行われる。また、第2しきい値は、図4を用いて説明したしきい値に相当し、第1しきい値よりも低い値である。従って、出力信号が第2しきい値以下となっているフォトダイオードPDがある場合は、ステップS16に進んで、レーザ発振を停止し、ステップS17〜S18に示す一連の作業を行う。すべてのフォトダイオードPDの出力信号が第2しきい値よりも大きい場合は、点検作業を終了する。
このように、劣化判定部である制御部60は、フォトダイオードPDの出力信号に対して設定された複数のしきい値に応じて、レーザモジュール30の劣化度合いを判定するように構成されている。
また、本変形例のレーザ装置20の点検方法では、制御部60によってレーザモジュール30が劣化しているが交換不要と判定された場合、つまり、フォトダイオードPDの出力信号が第1しきい値以下であるが第2しきい値を超えている場合は、交換用のレーザモジュール30を準備する。制御部60によってレーザモジュール30の交換が必要と判定された場合は、劣化したレーザモジュール30を準備された交換用のレーザモジュール30に交換する。
このようにすることで、レーザモジュール30の劣化度合いをきめ細かく把握するとともに、その交換時期を精度良く見極めることができる。このことにより、レーザモジュール30の交換頻度を減らして、レーザ装置20、ひいてはレーザ加工装置100のダウンタイムを低減できる。
なお、本変形例において、フォトダイオードPDの出力信号に対して2つのしきい値を設けたが、特にこれに限定されず、3つ以上のしきい値を設けるようにしてもよい。その場合、フォトダイオードPDの出力信号とレーザモジュール30の劣化度合いとの関係を予め取得し、制御部60に設けられた記憶部(図示せず)、あるいは別に設けられた記憶部に格納しておくと、この関係と、点検時に取得されたフォトダイオードPDの出力信号とに基づいて、交換用のレーザモジュール30を手配する時期を見極めることができる。例えば、フォトダイオードPDの出力信号が第1しきい値以下で、かつ第2しきい値を超えている場合、1ヶ月以内に交換用のレーザモジュール30を準備し、当該出力信号が第2しきい値以下で、かつ第3しきい値を超えている場合、10日以内に交換用のレーザモジュール30を準備する。このようにすることで、不要な在庫を抱えることがなく、レーザ装置20、ひいてはレーザ加工装置100の保守費用を低減することができる。
本発明の
10 レーザ発振器
12 ビーム結合器
13 集光ユニット
20 レーザ装置
22 第1筐体
23 第2筐体
24 連通口
25 ウインドウ(光学部材)
26 第1筐体22の開口
27 封止板
30 レーザモジュール
31 レーザバー
32 ヒートシンク
32a ヒートシンク32の開口
33 放熱ブロック
36 測温体
37 ヨー角調整機構(光軸調整機構)
37a ヨー角調整ねじ
38 ピッチ角調整機構(光軸調整機構)
38a ピッチ角調整ねじ
40 レーザ光出射ヘッド
50 伝送ファイバ
60 制御部(劣化判定部)
70 電源
80 表示部
100 レーザ加工装置
DFP 回折格子(第2光学部品)
ECM 外部共振ミラー
FAC ファースト軸方向のコリメータレンズ
PD フォトダイオード(受光部)
SAC スロー軸方向のコリメートレンズ(第2光学部品)

Claims (12)

  1. 複数のレーザモジュールと、該複数のレーザモジュールのそれぞれから出射されたレーザ光の光路に設けられ、前記レーザ光を整形する複数の第1光学部品と、前記複数の第1光学部品を透過したレーザ光を光軸が同じになるように結合する第2光学部品と、を備えたレーザ装置であって、
    前記複数のレーザモジュールを収容する第1筐体と、前記第1光学部品及び前記第2光学部品とを収容し、前記第1筐体に接して設けられた第2筐体とを備え、
    前記第1筐体と前記第2筐体とを互いに連通する連通口が前記複数のレーザモジュールのそれぞれに対して設けられ、
    前記連通口は、レーザモジュールから出射されたレーザ光の一部を透過し、残部を反射するように構成された光学部材で封止されており、
    前記第1筐体には、前記光学部材で反射された前記レーザ光を受光するように受光部が前記複数のレーザモジュールのそれぞれに対応して配置され、
    前記受光部の出力信号に基づいて前記レーザモジュールの状態をモニターするように構成されていることを特徴とするレーザ装置。
  2. 請求項1に記載のレーザ装置において、
    前記第1筐体は、前記レーザモジュールを取り出し可能に設けられた開口と該開口を封止する封止板とを有していることを特徴とするレーザ装置。
  3. 請求項1または2に記載のレーザ装置において、
    前記複数のレーザモジュールのそれぞれに対して、前記レーザモジュールの温度を測定する測温体が設けられており、
    前記測温体で測定された前記レーザモジュールの温度と前記受光部の出力信号とに基づいて前記レーザモジュールの状態をモニターするように構成されていることを特徴とするレーザ装置。
  4. 請求項1または2に記載のレーザ装置において、
    前記レーザモジュールの劣化度合いを判定する劣化判定部をさらに備え、
    前記劣化判定部は、前記受光部の出力信号に基づいて前記レーザモジュールの交換要否を判定するように構成されていることを特徴とするレーザ装置。
  5. 請求項3に記載のレーザ装置において、
    前記レーザモジュールの劣化度合いを判定する劣化判定部をさらに備え、
    前記劣化判定部は、前記受光部の出力信号及び前記測温体で測定された温度に基づいて前記レーザモジュールの交換要否を判定するように構成されていることを特徴とするレーザ装置。
  6. 請求項4または5に記載のレーザ装置において、
    前記劣化判定部は、前記受光部の出力信号に対して設定された複数のしきい値に応じて、前記レーザモジュールの劣化度合いを判定するように構成されていることを特徴とするレーザ装置。
  7. 請求項1ないし6のいずれか1項に記載のレーザ装置において、
    前記レーザモジュールは、放熱ブロックと、該放熱ブロックの上面に載置されたヒートシンクと、上面及び下面にそれぞれ接した一対の電極を有し、該ヒートシンクの上面に載置されたレーザバーと、を少なくとも有し、
    前記ヒートシンクには、前記レーザモジュールから出射されたレーザ光の光軸を調整する光軸調整機構が設けられていることを特徴とするレーザ装置。
  8. 請求項7に記載のレーザ装置において、
    前記光軸調整機構は、前記ヒートシンクの上面に平行な面内をレーザ光の光軸が回転する角度を調整するヨー角調整機構と、前記ヒートシンクの側面と交差する軸の周りにレーザ光の光軸が回転する角度を調整するピッチ角調整機構と、を有していることを特徴とするレーザ装置。
  9. 請求項8に記載のレーザ装置において、
    前記ヒートシンクは、断面視でC字形状の金属部材からなり、
    前記ピッチ角調整機構は、前記ヒートシンクに設けられた開口の開度を調整してピッチ角を設定するように構成されていることを特徴とするレーザ装置。
  10. 請求項6に記載のレーザ装置の点検方法であって、
    前記劣化判定部によって前記レーザモジュールが劣化しているが交換不要と判定された場合は、別のレーザモジュールを準備し、
    前記劣化判定部によって前記レーザモジュールの交換が必要と判定された場合は、劣化したレーザモジュールを前記別のレーザモジュールに交換することを特徴とするレーザ装置の点検方法。
  11. 請求項7ないし9のいずれか1項に記載のレーザ装置の点検方法であって、
    前記受光部の出力信号に基づいて、前記レーザモジュールの交換が必要と判定された場合は、劣化したレーザモジュールを別のレーザモジュールに交換し、
    交換された前記別のレーザモジュールからレーザ光を出射させるとともに、前記光軸調整機構を用いてレーザ光の光軸が所定の位置に来るように調整することを特徴とするレーザ装置の点検方法。
  12. 請求項1ないし9のいずれか1項に記載のレーザ装置を複数有し、複数の前記レーザ装置から出射されたレーザ光を結合して出射するレーザ発振器と、
    前記レーザ発振器に接続され、前記レーザ発振器から出射されたレーザ光を導光する伝送ファイバと、
    該伝送ファイバの出射端に取付けられたレーザ光出射ヘッドと、を少なくとも備えたことを特徴とするレーザ加工装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2022190763A1 (ja) * 2021-03-09 2022-09-15 浜松ホトニクス株式会社 レーザ装置
US11757258B2 (en) 2020-02-25 2023-09-12 Nichia Corporation Light source device and direct diode laser system
JP7387077B1 (ja) * 2023-04-24 2023-11-27 三菱電機株式会社 レーザ装置およびレーザ加工機
DE112022002113T5 (de) 2021-04-13 2024-02-08 Mitsubishi Electric Corporation Halbleiterlasermodul und Laserbearbeitungsvorrichtung

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