JP2019184278A - Radiation detector - Google Patents

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Abstract

To provide a radiation detector that is able to cope with a defect correction process of a reflection layer while hindering a resolution decrease caused by the reflection layer.SOLUTION: A radiation detector 10 comprises an array substrate 11, a scintillator layer 12, a reflection layer 13 and a moisture-proof body 14. The array substrate 11 has a photoelectric conversion element 24. The scintillator layer 12 is formed on the photoelectric conversion element 24 of the array substrate 11. The reflection layer 13 is in the form of a sheet, is disposed on the scintillator 12, and reflects fluorescence from the scintillator 12. In the moisture-proof layer 14, the reflection layer 13 is fixed and covers the scintillator 12 and the reflection layer 13 between the array substrate 11 and itself.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明の実施形態は、シンチレータ層上に反射層を備えた放射線検出器に関する。   Embodiments described herein relate generally to a radiation detector including a reflective layer on a scintillator layer.

X線診断用検出器として、アクティブマトリクスを用いた平面形のX線検出器が開発されている。このX線検出器において、照射されたX線を検出することにより、X線撮影像、あるいはリアルタイムのX線画像がデジタル信号として出力される。そして、このX線検出器では、X線をシンチレータ層により可視光すなわち蛍光に変換させ、この蛍光をアモルファスシリコン(a−Si)フォトダイオード、あるいはCCD(Charge Coupled Device)などの光電変換素子で信号電荷に変換することで画像を取得している。   As an X-ray diagnostic detector, a planar X-ray detector using an active matrix has been developed. By detecting the irradiated X-rays with this X-ray detector, an X-ray image or a real-time X-ray image is output as a digital signal. In this X-ray detector, X-rays are converted into visible light, that is, fluorescence by a scintillator layer, and this fluorescence is signaled by an amorphous silicon (a-Si) photodiode or a photoelectric conversion element such as a CCD (Charge Coupled Device). Images are acquired by converting them into electric charges.

シンチレータ層は、材料として、一般的にヨウ化セシウム(CsI):ナトリウム(Na)、ヨウ化セシウム(CsI):タリウム(Tl)、ヨウ化ナトリウム(NaI)、あるいは酸硫化ガドリニウム(Gd22S)などが用いられ、ダイシングなどにより溝を形成したり、柱状構造が形成されるように蒸着法で堆積したりすることで、解像度特性を向上させることができる。 The scintillator layer is generally made of cesium iodide (CsI): sodium (Na), cesium iodide (CsI): thallium (Tl), sodium iodide (NaI), or gadolinium oxysulfide (Gd 2 O 2). S) or the like is used, and the resolution characteristics can be improved by forming grooves by dicing or the like, or by depositing by a vapor deposition method so that a columnar structure is formed.

そして、シンチレータからの蛍光の利用効率を高めて感度特性を改善するために、シンチレータ層上に反射層を形成する方法がある。すなわち、シンチレータ層で変換された蛍光のうち光電変換素子側に対して反対側に向かう蛍光を反射層で反射し、光電変換素子側に到達する蛍光を増大させるものである。   There is a method of forming a reflective layer on the scintillator layer in order to improve the use efficiency of fluorescence from the scintillator and improve the sensitivity characteristic. That is, of the fluorescence converted by the scintillator layer, the fluorescence going to the opposite side with respect to the photoelectric conversion element side is reflected by the reflection layer, and the fluorescence reaching the photoelectric conversion element side is increased.

反射層の例としては、銀合金やアルミニウムなどの蛍光反射率の高い金属をシンチレータ層上に成膜する方式や、TiO2などの光散乱性物質とバインダ樹脂とから成る拡散反射性の反射層をシンチレータ層上に塗布形成する方式などが一般に知られている。また、Al基板などの金属製の反射性基板上にシンチレータ層を形成したパネルを接着剤などにより光電変換素子を有するアレイ基板に貼り合せる方式がある。さらに、金属製の反射板を用い、この反射板とシンチレータ層とを固定せず面接触させる方式もある。 Examples of the reflective layer include a method in which a metal having a high fluorescence reflectance such as a silver alloy or aluminum is formed on the scintillator layer, or a diffuse reflective layer composed of a light scattering material such as TiO 2 and a binder resin. In general, a method of coating and forming on the scintillator layer is known. Further, there is a method in which a panel in which a scintillator layer is formed on a metal reflective substrate such as an Al substrate is bonded to an array substrate having photoelectric conversion elements with an adhesive or the like. Further, there is a method in which a metal reflector is used and the reflector and the scintillator layer are brought into surface contact without being fixed.

しかし、蛍光反射率の高い金属をシンチレータ層上に成膜する方式や、拡散反射性の反射層をシンチレータ層上に塗布形成する方式においては、反射層がシンチレータ層の柱間に侵入してシンチレータ層の柱間が分離されていることによるライトガイド効果を低減するなどにより、解像度の低下を招くことがある。   However, in a method in which a metal having a high fluorescence reflectance is formed on the scintillator layer or a method in which a diffuse reflection reflective layer is applied and formed on the scintillator layer, the reflective layer penetrates between the scintillator layer pillars. A reduction in resolution may be caused by, for example, reducing a light guide effect due to separation between columns of layers.

また、金属製の反射性基板上にシンチレータ層を形成したパネルを接着剤などにより光電変換素子を有するアレイ基板に貼り合せる方式においては、アレイ基板と金属製の反射性基板との熱膨張係数差によってアレイ基板に反りが生じる。   In addition, in a method in which a panel having a scintillator layer formed on a metal reflective substrate is bonded to an array substrate having a photoelectric conversion element with an adhesive or the like, the difference in thermal expansion coefficient between the array substrate and the metal reflective substrate As a result, the array substrate is warped.

さらに、反射板とシンチレータ層とを固定せず面接触させる方式においては、反射板がシンチレータ層の柱間に侵入せず、解像度の低下を抑えられ、かつ、光電変換素子を有するアレイ基板と反射板との熱膨張係数が異なっていても、反射板とシンチレータ層とが互いに拘束されずに変位できることによって、アレイ基板の反りを抑制することができる。しかし、反射板の一部に欠陥がある場合には取得した画像データを欠陥補正処理するが、反射板とシンチレータ層との相対位置が変化すると、その欠陥の位置が補正位置から動くため、欠陥補正処理できない。   Furthermore, in the method in which the reflector and the scintillator layer are in surface contact with each other without being fixed, the reflector does not enter between the pillars of the scintillator layer, the resolution can be suppressed, and the array substrate having the photoelectric conversion element is reflected. Even if the thermal expansion coefficient differs from that of the plate, the reflector plate and the scintillator layer can be displaced without being constrained to each other, thereby suppressing the warpage of the array substrate. However, if there is a defect in a part of the reflector, the acquired image data is corrected. However, if the relative position of the reflector and the scintillator layer changes, the defect moves from the correction position. Correction processing cannot be performed.

特許第5305996号公報Japanese Patent No. 5305996

本発明が解決しようとする課題は、反射層による解像度の低下を抑制しつつ、反射層の欠陥補正処理にも対応できる放射線検出器を提供することである。   The problem to be solved by the present invention is to provide a radiation detector that can cope with defect correction processing of a reflective layer while suppressing a decrease in resolution due to the reflective layer.

本実施形態の放射線検出器は、基板、シンチレータ層、反射層および防湿体を備える。基板は、光電変換素子を有する。シンチレータ層は、基板の光電変換素子上に形成される。反射層は、シート状で、シンチレータ層上に配置され、シンチレータ層からの蛍光を反射する。防湿体は、反射層が固定され、基板との間にシンチレータ層および反射層を覆う。   The radiation detector of this embodiment includes a substrate, a scintillator layer, a reflective layer, and a moisture barrier. The substrate has a photoelectric conversion element. The scintillator layer is formed on the photoelectric conversion element of the substrate. The reflection layer is in the form of a sheet, is disposed on the scintillator layer, and reflects fluorescence from the scintillator layer. The moisture-proof body has a reflective layer fixed thereto and covers the scintillator layer and the reflective layer with the substrate.

一実施形態を示す放射線検出器の防湿体が内外の差圧により変位した状態で反射層をシンチレータ層に密着させている断面図である。It is sectional drawing which has made the reflection layer closely_contact | adhere to the scintillator layer in the state which the moistureproof body of the radiation detector which shows one Embodiment displaced by the internal / external differential pressure. 同上放射線検出器の防湿体が変位する前の状態の断面図である。It is sectional drawing of the state before the moisture-proof body of a radiation detector same as the above is displaced. 同上放射線検出器の模式斜視図である。It is a model perspective view of a radiation detector same as the above. 同上放射線検出器の防湿体の断面図である。It is sectional drawing of the moisture-proof body of a radiation detector same as the above.

以下、一実施形態を、図面を参照して説明する。   Hereinafter, an embodiment will be described with reference to the drawings.

図1ないし図3に示すように、放射線検出器10は、放射線像であるX線像を検出するX線画像検出器(X線平面センサ)であり、例えば一般医療用途などに用いられる。   As shown in FIGS. 1 to 3, the radiation detector 10 is an X-ray image detector (X-ray planar sensor) that detects an X-ray image that is a radiation image, and is used for general medical applications, for example.

放射線検出器10は、蛍光を電気信号に変換する光源変換素子を有する基板(光電変換基板)であるアレイ基板11、このアレイ基板11の一主面である表面上に設けられ入射するX線を蛍光に変換するシンチレータ層12、このシンチレータ層12上に配置されてシンチレータ層12からの蛍光をアレイ基板11側へ反射させる反射層13、アレイ基板11との間にシンチレータ層12および反射層13を覆う防湿体14、防湿体14の周辺部をアレイ基板11に接着封止する接合体15、および反射層13を防湿体14に固定する固定体16を備えている。   The radiation detector 10 includes an array substrate 11 that is a substrate (photoelectric conversion substrate) having a light source conversion element that converts fluorescence into an electrical signal, and incident X-rays provided on a surface that is one main surface of the array substrate 11. A scintillator layer 12 that converts to fluorescence, a reflective layer 13 that is disposed on the scintillator layer 12 and reflects the fluorescence from the scintillator layer 12 toward the array substrate 11, and the scintillator layer 12 and the reflective layer 13 between the array substrate 11 A moisture-proof body 14 to be covered, a joined body 15 that adheres and seals the periphery of the moisture-proof body 14 to the array substrate 11, and a fixed body 16 that fixes the reflective layer 13 to the moisture-proof body 14 are provided.

そして、アレイ基板11は、シンチレータ層12によりX線から例えば可視光に変換された蛍光を電気信号に変換するものである。アレイ基板11は、例えばガラス材からなる絶縁基板20、この絶縁基板20上にマトリクス状に形成された複数の画素21、行方向に沿って配設された複数の制御線(またはゲートライン)22、および列方向に沿って配設された複数の信号線(またはシグナルライン)23などを備えている。   The array substrate 11 converts fluorescence converted from X-rays into, for example, visible light by the scintillator layer 12 into electric signals. The array substrate 11 includes an insulating substrate 20 made of, for example, a glass material, a plurality of pixels 21 formed in a matrix on the insulating substrate 20, and a plurality of control lines (or gate lines) 22 arranged along the row direction. And a plurality of signal lines (or signal lines) 23 arranged along the column direction.

各画素21内には、それぞれ光電変換素子(フォトダイオード)24が設けられている。これら光電変換素子24はシンチレータ層12の下側に配設されている。さらに、各画素21は、光電変換素子24に電気的に接続されたスイッチング素子としての薄膜トランジスタ(TFT)25、および光電変換素子24により変換した信号を蓄積する電荷蓄積部としての蓄積キャパシタ(図示せず)を備えている。ただし、蓄積キャパシタは、光電変換素子(フォトダイオード)24の容量が兼ねる場合もあり、必ずしも必要ではない。   In each pixel 21, a photoelectric conversion element (photodiode) 24 is provided. These photoelectric conversion elements 24 are disposed below the scintillator layer 12. Furthermore, each pixel 21 includes a thin film transistor (TFT) 25 as a switching element electrically connected to the photoelectric conversion element 24, and a storage capacitor (not shown) as a charge storage unit for storing a signal converted by the photoelectric conversion element 24. )). However, the storage capacitor may double as the capacity of the photoelectric conversion element (photodiode) 24, and is not necessarily required.

薄膜トランジスタ25は、光電変換素子24への蛍光の入射により発生した電荷を蓄積および放出させるスイッチング機能を担う。薄膜トランジスタ25は、非晶質半導体としてのa-Si、あるいは多結晶半導体であるポリシリコン(P−Si)などの半導体材料によって少なくとも一部が構成されている。   The thin film transistor 25 has a switching function for accumulating and discharging charges generated by the incidence of fluorescence on the photoelectric conversion element 24. The thin film transistor 25 is at least partially made of a semiconductor material such as a-Si as an amorphous semiconductor or polysilicon (P-Si) as a polycrystalline semiconductor.

そして、アレイ基板11上には、画素21、制御線22、信号線23などを被覆して保護するために保護層26が形成されている。保護層26は、例えば窒化珪素系の無機膜である。あるいは、保護層26は、シンチレータ層12との密着性の観点より、アレイ基板11のシンチレータ層12が設けられる領域では、無機膜上に有機樹脂が蓄積して形成されていてもよい。有機樹脂としては、例えばアクリル系、ポリエチレンやポリプロピレン、ブチラール系などの熱可塑性樹脂などが挙げられる。最も好ましくはアクリル系樹脂である。   A protective layer 26 is formed on the array substrate 11 to cover and protect the pixels 21, control lines 22, signal lines 23, and the like. The protective layer 26 is a silicon nitride based inorganic film, for example. Alternatively, from the viewpoint of adhesion to the scintillator layer 12, the protective layer 26 may be formed by accumulating an organic resin on the inorganic film in a region where the scintillator layer 12 of the array substrate 11 is provided. Examples of the organic resin include acrylic, polyethylene, polypropylene, butyral and other thermoplastic resins. Most preferred is an acrylic resin.

制御線22は、各画素21間に行方向に沿って配設され、同じ行の各画素21の薄膜トランジスタ25のゲート電極に電気的に接続されている。   The control line 22 is disposed between the pixels 21 along the row direction, and is electrically connected to the gate electrode of the thin film transistor 25 of each pixel 21 in the same row.

信号線23は、各画素21間に列方向に沿って配設され、同じ列の各画素21の薄膜トランジスタ25のソース電極に電気的に接続されている。   The signal line 23 is disposed between the pixels 21 along the column direction, and is electrically connected to the source electrode of the thin film transistor 25 of each pixel 21 in the same column.

このような放射線検出器10は、例えば鉛板のようなX線を吸収できる支持体27上に載置され、支持体27を挟んで放射線検出器10の裏側に配置される回路基板28と電気的に接続される。ここで、回路基板28には、一般に放射線耐性が低い制御回路、および増幅/変換回路などが搭載される。アレイ基板11の周辺エリアに配設される複数の配線パッド29が例えば図示しないACFを介してフレキシブルプリント基板30により回路基板28に電気接続されている。ここで、フレキシブルプリント基板30は、それぞれの制御線22、信号線23に接続される。そして、回路基板28の制御回路により、放射線検出器10は駆動制御される。例えば、制御回路は、各制御線22を通して各薄膜トランジスタ25の動作状態、すなわちオンオフを制御する。また、回路基板28の増幅/変換回路は、各信号線23に対応してそれぞれ配設された複数の電荷増幅器、およびこれら電荷増幅器が電気的に接続された並列/直列変換器、この並列/直列変換器が電気的に接続されたアナログ−デジタル変換器などを有している。このアナログ−デジタル変換器には、画像を転送する画像転送部31が接続されている。   Such a radiation detector 10 is placed on a support body 27 that can absorb X-rays, such as a lead plate, and is electrically connected to a circuit board 28 that is disposed on the back side of the radiation detector 10 with the support body 27 interposed therebetween. Connected. Here, the circuit board 28 is generally equipped with a control circuit having low radiation resistance, an amplification / conversion circuit, and the like. A plurality of wiring pads 29 arranged in the peripheral area of the array substrate 11 are electrically connected to the circuit substrate 28 by a flexible printed circuit board 30 through, for example, an ACF (not shown). Here, the flexible printed circuit board 30 is connected to the respective control lines 22 and signal lines 23. The radiation detector 10 is driven and controlled by the control circuit of the circuit board 28. For example, the control circuit controls the operation state of each thin film transistor 25 through each control line 22, that is, on / off. In addition, the amplification / conversion circuit of the circuit board 28 includes a plurality of charge amplifiers respectively disposed corresponding to the signal lines 23, and a parallel / serial converter in which these charge amplifiers are electrically connected. An analog-digital converter or the like to which a serial converter is electrically connected is included. The analog-digital converter is connected to an image transfer unit 31 that transfers an image.

また、シンチレータ層12は、入射するX線を蛍光に変換するもので、アレイ基板11において画素21が位置するエリアを被覆して設けられる。シンチレータ層12には、例えばヨウ化セシウム(CsI):タリウム(Tl)、ヨウ化ナトリウム(NaI):タリウム(Tl)または臭化セシウム(CsBr):ユーロピウム(Eu)などにより真空蒸着法で柱状構造に形成するものがある。これらの柱(ピラー)の間には、空間が存在し、アレイ基板11と防湿体14とにより囲まれるシンチレータ層12外の空間との間で気体の往来が可能である。つまり、シンチレータ層12外の空間の内圧があがることがあれば、その部分にあった気体は、シンチレータ層12の柱間の空間に逃げ、内圧の上昇が抑えられる。構造としては、例えばシンチレータ層12にCsI:Tlの蒸着膜を用い、膜厚は約600μm、CsI:Tlのピラーの太さが最表面で3〜8μm程度のものを用いることができる。間接的ではあるが柱状構造の結晶が形成される結果、同時に柱と柱の隙間の部分である空乏部分も形成される。全体から空乏部分の割合を減じた蛍光体が占める部分の割合を充填密度と呼ぶが、それは、シンチレータ層12を形成する真空蒸着法のプロセス条件に左右される。   The scintillator layer 12 converts incident X-rays into fluorescence, and is provided so as to cover the area where the pixels 21 are located on the array substrate 11. The scintillator layer 12 has a columnar structure formed by, for example, vacuum deposition using cesium iodide (CsI): thallium (Tl), sodium iodide (NaI): thallium (Tl), or cesium bromide (CsBr): europium (Eu). There is something to form. A space exists between these pillars (pillars), and gas can be transferred between the array substrate 11 and the space outside the scintillator layer 12 surrounded by the moisture-proof body 14. In other words, if the internal pressure of the space outside the scintillator layer 12 increases, the gas in that portion escapes to the space between the columns of the scintillator layer 12, and the increase of the internal pressure is suppressed. As the structure, for example, a CsI: Tl vapor deposition film is used for the scintillator layer 12, the film thickness is about 600 μm, and the CsI: Tl pillar thickness is about 3 to 8 μm on the outermost surface. As a result of the indirect but columnar crystal formation, a depletion portion, which is the gap between the columns, is also formed. The ratio of the portion occupied by the phosphor obtained by subtracting the ratio of the depletion portion from the whole is called the filling density, and it depends on the process conditions of the vacuum deposition method for forming the scintillator layer 12.

また、反射層13は、シンチレータ層12からアレイ基板11に対して反対側に向かう蛍光を反射させて、光電変換素子24に到達する蛍光の光量を増大させるものである。反射層13は、シート状であり、シンチレータ層12と防湿体14との間に配置されている。シート状の反射層13とは、単体でシートになりうるものであり、一般的にコストが安く、不良が発生した際に取り替えが可能であるものが好ましい。   The reflective layer 13 reflects the fluorescent light traveling from the scintillator layer 12 toward the opposite side with respect to the array substrate 11 to increase the amount of fluorescent light reaching the photoelectric conversion element 24. The reflection layer 13 has a sheet shape and is disposed between the scintillator layer 12 and the moisture-proof body 14. The sheet-like reflection layer 13 is preferably a single layer that can be a sheet, and is generally inexpensive and can be replaced when a defect occurs.

シート状の反射層13の材料としては、金属系材料のものや樹脂系材料を母体とするものが挙げられる。金属系材料としては、Al反射膜や、銀合金反射膜+MgO保護膜がある。樹脂系反射膜としては、発泡ポリエチレンテレフタレートや、ポリエステル系の樹脂に酸化チタンを分散させたものがある。   Examples of the material for the sheet-like reflective layer 13 include a metal-based material and a resin-based material. Examples of the metal material include an Al reflective film, a silver alloy reflective film + MgO protective film. Examples of the resin-based reflective film include foamed polyethylene terephthalate and those obtained by dispersing titanium oxide in a polyester-based resin.

本実施形態では、反射層13は、感度を高める観点や安定性から、ポリエステル樹脂にTiO2が分散した樹脂性反射シートの構成が用いられる。この樹脂性反射シートは、一般的に商品として存在し、例えば厚み0.19mmのTiO2分散型のPET反射シートが用いられる。 In the present embodiment, the reflective layer 13 uses a resinous reflective sheet structure in which TiO 2 is dispersed in a polyester resin from the viewpoint of increasing sensitivity and stability. This resinous reflection sheet generally exists as a commercial product. For example, a TiO 2 dispersed PET reflection sheet having a thickness of 0.19 mm is used.

そして、反射層13は、シンチレータ層12の表面に押し付ける形で配置することが好ましい。シンチレータ層12と反射層13との間に隙間があると、シンチレータ層12からの蛍光が隙間で散乱して、放射線検出器10から出力される画像の解像度が低下するからである。   The reflective layer 13 is preferably disposed so as to be pressed against the surface of the scintillator layer 12. This is because if there is a gap between the scintillator layer 12 and the reflective layer 13, the fluorescence from the scintillator layer 12 is scattered in the gap and the resolution of the image output from the radiation detector 10 decreases.

また、防湿体14は、アレイ基板11および接合体15とともに形成される包囲網でシンチレータ層12を取り囲み、シンチレータ層12を収納した内部空間33に外部から水蒸気が侵入することを防止する。同時に、防湿体14は、放射線検出器10のX線入射窓として、X線を透過させる機能がある。したがって、できるだけ軽元素で薄くピンホールの無い構造が望まれ、Al箔を包み込む構造に整形した構造体として作製するのが好適である。例えば防湿体14を一般的に入手される厚さ0.1mmのAl箔とする。この場合、防湿体14は形状保持能力が低く、外部からの圧力により簡単に変形しやすい。   Further, the moisture-proof body 14 surrounds the scintillator layer 12 with an enclosing net formed together with the array substrate 11 and the joined body 15, and prevents water vapor from entering the internal space 33 in which the scintillator layer 12 is stored. At the same time, the moisture-proof body 14 functions as an X-ray entrance window of the radiation detector 10 and transmits X-rays. Therefore, a light element as thin as possible and a structure free of pinholes is desired, and it is preferable to produce a structure that is shaped into a structure that wraps the Al foil. For example, the moisture-proof body 14 is a commonly available Al foil having a thickness of 0.1 mm. In this case, the moisture-proof body 14 has a low shape retention capability and is easily deformed by an external pressure.

防湿体14は、シンチレータ層12に対向される覆い部34、この覆い部34の周辺部からシンチレータ層12を包含する深さを有する側面部35、およびこの側面部35から外側方に突出する鍔部36を備えている。   The moisture-proof body 14 includes a cover portion 34 facing the scintillator layer 12, a side surface portion 35 having a depth including the scintillator layer 12 from a peripheral portion of the cover portion 34, and a flange projecting outward from the side surface portion 35. A portion 36 is provided.

図4に示すように、防湿体14の接合体15によりアレイ基板11に接合される鍔部36の幅である接着幅Aは、耐湿性能が確保できる限界付近の狭さに設定するのが好ましい。例えば接合体15の耐湿性能に応じて1〜10mm程度に設定できる。この接着幅Aは大きいほど接合体15の水蒸気が投下する経路が長くなるので、防湿体14の耐湿性能は向上するが、同時に放射線検出器10の画素21とアレイ基板11の端部との間の寸法が大きくなり、アレイ基板11を大きくしなければならないデメリットがある。   As shown in FIG. 4, the adhesive width A, which is the width of the flange portion 36 bonded to the array substrate 11 by the bonded body 15 of the moisture-proof body 14, is preferably set to a narrowness near the limit where moisture resistance performance can be secured. . For example, it can be set to about 1 to 10 mm according to the moisture resistance of the joined body 15. The larger the adhesion width A is, the longer the path through which the water vapor of the joined body 15 is dropped, so that the moisture resistance of the moisture-proof body 14 is improved, but at the same time, between the pixel 21 of the radiation detector 10 and the end of the array substrate 11. There is a demerit that the array substrate 11 must be enlarged.

防湿体14の側面部35の絞り深さBは、シンチレータ層12の厚みと反射層13の厚みとの合計とすることにより、封止後の防湿体14の変形を最小限に抑えることができる。しかし、シンチレータ層12の厚さのばらつきに許容を持たせるために、例えば0.1mm程度深めに絞ることが好ましい。   The drawing depth B of the side surface portion 35 of the moisture-proof body 14 is the sum of the thickness of the scintillator layer 12 and the thickness of the reflective layer 13, whereby deformation of the moisture-proof body 14 after sealing can be minimized. . However, in order to allow a variation in the thickness of the scintillator layer 12, it is preferable to narrow the scintillator layer 12 to about 0.1 mm deep, for example.

防湿体14の厚さCは、薄いほど防湿体14によるX線吸収が少なくなり好ましいが、ピンホールの発生率が上昇するため、0.1mm程度が好ましい。   The thinner the thickness C of the moisture-proof body 14, the less X-ray absorption by the moisture-proof body 14 is preferable. However, since the incidence of pinholes is increased, about 0.1 mm is preferable.

また、接合体15は、シンチレータ層12および反射層13などを覆う防湿体14の周辺部をアレイ基板11に接着封止するものである。接合体15は、添加剤を含有した接着剤をアレイ基板11と防湿体14の周辺部との界面にディスペンサーなどを用いて塗布することによって形成される。接合体15としては、エポキシ系でカチオン重合型の接着剤を用いることが好ましい。また、添加剤として、接着剤の透湿を抑制する無機材質のフィラーを用いることが好ましい。   The bonded body 15 is for bonding and sealing the peripheral portion of the moisture-proof body 14 covering the scintillator layer 12 and the reflective layer 13 to the array substrate 11. The joined body 15 is formed by applying an adhesive containing an additive to the interface between the array substrate 11 and the periphery of the moisture-proof body 14 using a dispenser or the like. As the bonded body 15, it is preferable to use an epoxy-based cationic polymerization type adhesive. Moreover, it is preferable to use the filler of the inorganic material which suppresses the moisture permeability of an adhesive agent as an additive.

また、固定体16は、アレイ基板11の光電変換素子24上から外れた位置にあり、シート状の反射層13の周辺部を防湿体14の内側に固定する。固定体16は、反射層13の周辺部の全周に亘って防湿体14に固定するものでもよいし、反射層13の周辺部の所々を防湿体14に固定するものでもよい。   The fixed body 16 is located at a position off the photoelectric conversion element 24 of the array substrate 11, and fixes the peripheral portion of the sheet-like reflective layer 13 to the inside of the moisture-proof body 14. The fixed body 16 may be fixed to the moisture-proof body 14 over the entire circumference of the peripheral portion of the reflective layer 13, or may be fixed to the moisture-proof body 14 at portions of the peripheral portion of the reflective layer 13.

固定体16としては、基材のあるテープ状のものより薄く塗布できる液状のものの方が、X線の減衰を防ぐことができるので好ましい。固定体16の厚さは、X線の減衰を防ぐために50μm以下であることが好ましい。   As the fixed body 16, a liquid material that can be applied thinner than a tape-like material having a base material is preferable because attenuation of X-rays can be prevented. The thickness of the fixed body 16 is preferably 50 μm or less in order to prevent X-ray attenuation.

固定体16は、例えば市販されている繰り返し貼れるタイプの粘着剤を用いた粘着層である。固定体16は、反射層13を防湿体14に粘着固定するとともに、反射層13または防湿体14から剥離した状態でも粘着力を維持する。   The fixed body 16 is an adhesive layer using, for example, a commercially available adhesive that can be repeatedly applied. The fixed body 16 adheres and fixes the reflective layer 13 to the moisture-proof body 14, and also maintains the adhesive force even when the reflective layer 13 is peeled off from the reflective layer 13 or the moisture-proof body 14.

そして、放射線検出器10の製造工程においては、真空槽内に、シンチレータ層12を形成したアレイ基板11、および固定体16で反射層13を固定した防湿体14を配置する。真空槽内を真空引きして例えば0.3気圧以下に減圧した状態で、防湿体14の周辺部を接合体15でアレイ基板11に接着封止する。   In the manufacturing process of the radiation detector 10, the array substrate 11 on which the scintillator layer 12 is formed and the moistureproof body 14 on which the reflecting layer 13 is fixed with the fixing body 16 are arranged in the vacuum chamber. In a state where the inside of the vacuum chamber is evacuated and reduced to, for example, 0.3 atm or less, the peripheral portion of the moisture-proof body 14 is bonded and sealed to the array substrate 11 with the joined body 15.

このとき、固定体16は、シート状の反射層13を防湿体14の内側に固定しているため、真空槽内を真空引きする際などに、反射層13が移動するのを阻止する。これにより、反射層13が画素21上から外れて解像度が低下することや、反射層13が接合体15に触れて汚染するのを防ぐことができる。   At this time, since the fixed body 16 fixes the sheet-like reflective layer 13 to the inside of the moisture-proof body 14, the reflective layer 13 is prevented from moving when the inside of the vacuum chamber is evacuated. As a result, it is possible to prevent the reflective layer 13 from coming off the pixel 21 and lowering the resolution, and preventing the reflective layer 13 from touching and contaminating the bonded body 15.

接合体15にUV硬化型の接着剤を使用している場合には、アレイ基板11と防湿体14との間を接合体15で接着封止した後、接合体15に紫外線を照射する。紫外線は防湿体14を透過しないので、アレイ基板11側から照射する。照射量はアレイ基板11の紫外線透過率に応じて調整する。   When a UV curable adhesive is used for the bonded body 15, the bonded body 15 is bonded and sealed between the array substrate 11 and the moisture-proof body 14, and then the bonded body 15 is irradiated with ultraviolet rays. Since the ultraviolet rays do not pass through the moisture-proof body 14, they are irradiated from the array substrate 11 side. The irradiation amount is adjusted according to the ultraviolet transmittance of the array substrate 11.

接合体15が硬化した後、製品全体を取り囲む真空槽の内部に大気を導入する。このとき、防湿体14の外側の大気圧よりも防湿体14の内側の圧力が低いため、図1に示すように、防湿体14は、大気圧(図1の矢印参照)で反射層13およびシンチレータ層12に押し付けられるように変位し、反射層13をシンチレータ層12に密着させる(なお、図1では反射層13はシンチレータ層12から離れている状態に図示しているが、実際には反射層13はシンチレータ層12に密着している)。そして、防湿体14の内部空間33の体積は減少するので、封止後の内部空間33の内圧は上昇する。また、Al箔のピンホールなどにより防湿体14の封止が破られている場合、防湿体14の変位がないため、封止されているか否かを工程内で確認することができる。   After the joined body 15 is cured, air is introduced into the vacuum chamber surrounding the entire product. At this time, since the pressure inside the moisture-proof body 14 is lower than the atmospheric pressure outside the moisture-proof body 14, the moisture-proof body 14 has the atmospheric pressure (see the arrow in FIG. 1) and the reflective layer 13 and the atmospheric pressure as shown in FIG. The reflective layer 13 is displaced so as to be pressed against the scintillator layer 12, and the reflective layer 13 is brought into close contact with the scintillator layer 12 (in FIG. 1, the reflective layer 13 is shown as being separated from the scintillator layer 12, but in actuality it is reflective Layer 13 is in intimate contact with scintillator layer 12). And since the volume of the internal space 33 of the moisture-proof body 14 decreases, the internal pressure of the internal space 33 after sealing increases. Further, when the sealing of the moisture-proof body 14 is broken by an Al foil pinhole or the like, since the moisture-proof body 14 is not displaced, it can be confirmed in the process whether or not it is sealed.

その後、接合体15の凝固をさらに促進するため、製品全体を40度以上の炉で加熱放置する。加熱時間は40度で10時間以上、80度で1時間以上など温度や接着剤に応じて調整する。   Thereafter, in order to further promote the solidification of the joined body 15, the entire product is left to stand in a furnace of 40 degrees or more. The heating time is adjusted according to the temperature and the adhesive, such as 40 degrees for 10 hours or longer, 80 degrees for 1 hour or longer.

以上の工程を経て、放射線検出器10のいわゆるモジュールの部分が完成する。このモジュールは、その後の工程で、アレイ基板11に回路基板28が電気接続されるとともに、筐体に組み込まれ、放射線検出器10が完成する。   Through the above steps, a so-called module part of the radiation detector 10 is completed. In this module, the circuit board 28 is electrically connected to the array substrate 11 in a subsequent process, and the module is incorporated into a housing, whereby the radiation detector 10 is completed.

なお、放射線検出器10の輸送時においては、航空機による輸送が想定されるが、この場合、放射線検出器10は0.7気圧の大気に晒されることになる。このとき、例えば、防湿体14の内部空間33の圧力が仮に1気圧であるとした場合、防湿体14の外側の圧力と内側の圧力との差圧により、防湿体14の内部空間33の気体が膨張し、防湿体14は膨れ上がり、アレイ基板11が破壊されるおそれがある。そのため、防湿体14の膨張を防止するためには、防湿体14の内部空間33の圧力は0.7気圧以下に維持することが好ましい。   When the radiation detector 10 is transported, it is assumed that the radiation detector 10 is transported by aircraft. In this case, the radiation detector 10 is exposed to the atmosphere of 0.7 atm. At this time, for example, if the pressure in the internal space 33 of the moisture-proof body 14 is 1 atm, the gas in the internal space 33 of the moisture-proof body 14 is caused by the differential pressure between the pressure outside the moisture-proof body 14 and the pressure inside. , The moisture-proof body 14 swells up, and the array substrate 11 may be destroyed. Therefore, in order to prevent the moisture-proof body 14 from expanding, the pressure in the internal space 33 of the moisture-proof body 14 is preferably maintained at 0.7 atm or less.

そして、放射線検出器10において、反射層13がシンチレータ層12に成膜または塗布によって形成されるものであると、反射層13がシンチレータ層12の柱間に侵入し、解像度を下げるが、シート状の反射層13を用いることにより、反射層13がシンチレータ層12の柱間に侵入することがなく、解像度特性を改善できる。   In the radiation detector 10, when the reflective layer 13 is formed on the scintillator layer 12 by film formation or application, the reflective layer 13 penetrates between the pillars of the scintillator layer 12 to reduce the resolution, but the sheet shape By using this reflective layer 13, the reflective layer 13 does not penetrate between the columns of the scintillator layer 12, and the resolution characteristics can be improved.

さらに、シート状の反射層13を用いた場合、反射層13が移動する可能性があるが、固定体16で反射層13を防湿体14に固定しているため、反射層13が移動するのを規制できる。そのため、製造工程における真空槽内を真空引きする際などに、反射層13が画素21上から外れて解像度が低下することや、反射層13が接合体15に触れて汚染するのを防ぐことができる。   Furthermore, when the sheet-like reflective layer 13 is used, the reflective layer 13 may move. However, since the reflective layer 13 is fixed to the moisture-proof body 14 by the fixed body 16, the reflective layer 13 moves. Can be regulated. Therefore, when evacuating the inside of the vacuum chamber in the manufacturing process, it is possible to prevent the reflection layer 13 from being removed from the pixel 21 and reducing the resolution, and preventing the reflection layer 13 from touching and contaminating the bonded body 15. it can.

また、反射層13の一部に黒点やむらなどによる欠陥がある場合には、取得した画像データの欠陥の位置を補正位置として欠陥補正処理している。この場合、シート状の反射層13が防湿体14に固定されていない状態であると、反射層13の欠陥の位置が補正位置から移動し、欠陥補正処理が正常にできないが、固定体16によって反射層13を防湿体14に固定していることにより、反射層13の欠陥の位置が補正位置から移動せず、欠陥補正処理ができる。   Further, when there is a defect due to a black spot or unevenness in a part of the reflective layer 13, the defect correction process is performed with the position of the defect in the acquired image data as the correction position. In this case, if the sheet-like reflective layer 13 is not fixed to the moisture-proof body 14, the position of the defect in the reflective layer 13 moves from the correction position, and the defect correction processing cannot be performed normally. By fixing the reflective layer 13 to the moisture-proof body 14, the defect position of the reflective layer 13 does not move from the correction position, and defect correction processing can be performed.

また、固定体16は、光電変換素子24上から外れた位置にあることにより、X線を入射した際の取得画像に影響が出ることを防ぐことができる。   In addition, the fixed body 16 can be prevented from being affected by the acquired image when the X-rays are incident because the fixed body 16 is located at a position off the photoelectric conversion element 24.

さらに、固定体16は、50μm以下の均一な厚みであることにより、X線を入射した際の取得画像に影響が出ることを防ぐことができる。   Furthermore, since the fixed body 16 has a uniform thickness of 50 μm or less, it is possible to prevent the acquired image from being affected when X-rays are incident.

さらに、固定体16は、反射層13を防湿体14に粘着固定する粘着層であり、反射層13または防湿体14から剥離した状態でも粘着力を維持することが好ましい。すなわち、粘着層の粘着力がある程度弱く、反射層13を防湿体14から剥離した後も粘着層の粘着力が維持していることが好ましい。このように、粘着力がある程度弱い粘着層であることにより、防湿体14上の反射層13の位置が適正でないために反射層13を貼り直す場合や、反射層13に欠陥があったために交換する場合に、反射層13や防湿体14を損傷させずに、反射層13を剥離することが可能になる。また、反射層13を防湿体14から剥離した後も粘着力が維持していることにより、粘着層を再利用できるため、粘着層を除去する必要がなくなり、粘着層の除去時における反射層13や防湿体14の変形や変質を防げるとともに、再度、粘着層を形成する工数を削減することができる。   Furthermore, the fixed body 16 is an adhesive layer that adheres and fixes the reflective layer 13 to the moisture-proof body 14, and it is preferable that the adhesive strength is maintained even when the reflective layer 13 or the moisture-proof body 14 is peeled off. That is, it is preferable that the adhesive strength of the adhesive layer is weak to some extent, and the adhesive strength of the adhesive layer is maintained even after the reflective layer 13 is peeled from the moisture-proof body 14. In this way, the adhesive layer is weak to some extent, so that the reflective layer 13 is not properly positioned on the moisture-proof body 14 so that the reflective layer 13 is reapplied, or the reflective layer 13 is defective and replaced. In this case, it is possible to peel off the reflective layer 13 without damaging the reflective layer 13 and the moisture-proof body 14. In addition, since the adhesive layer can be reused because the adhesive force is maintained even after the reflective layer 13 is peeled from the moisture-proof body 14, it is not necessary to remove the adhesive layer, and the reflective layer 13 at the time of removing the adhesive layer is removed. In addition, the deformation and alteration of the moisture-proof body 14 can be prevented, and the number of steps for forming the adhesive layer can be reduced again.

また、防湿体14は、外側の大気圧よりも内側の圧力が低く、外側の大気圧と内側の圧力との差圧により反射層13およびシンチレータ層12に押し付けられるように変位し、反射層13をシンチレータ層12に密着させている。そのため、シンチレータ層12と反射層13との間の光の散乱が抑えられ、放射線検出器10の解像度特性を改善できる。   Further, the moisture-proof body 14 has a lower inner pressure than the outer atmospheric pressure, and is displaced so as to be pressed against the reflective layer 13 and the scintillator layer 12 due to a differential pressure between the outer atmospheric pressure and the inner pressure. Is in close contact with the scintillator layer 12. Therefore, light scattering between the scintillator layer 12 and the reflective layer 13 is suppressed, and the resolution characteristics of the radiation detector 10 can be improved.

このように、外側の大気圧と内側の圧力との差圧で変位した防湿体14により反射層13をシンチレータ層12に押し付けている場合、押し付けていない状態と比較して解像度の向上が見込まれる。そして、反射層13のシンチレータ層12への押し付けによる解像度の向上を確認するために、下記の条件でサンプルを作製し、比較評価を行った。   As described above, when the reflection layer 13 is pressed against the scintillator layer 12 by the moisture-proof body 14 displaced by the differential pressure between the outer atmospheric pressure and the inner pressure, an improvement in resolution is expected compared to the state where the reflection layer 13 is not pressed. . Then, in order to confirm the improvement in resolution by pressing the reflective layer 13 against the scintillator layer 12, a sample was prepared under the following conditions, and a comparative evaluation was performed.

サンプル1:CsIのシンチレータ層12の上にシート状の反射層13を配置し、内部を真空引きせずに防湿体14を設けた。   Sample 1: A sheet-like reflective layer 13 was disposed on a CsI scintillator layer 12, and a moisture-proof body 14 was provided without evacuating the inside.

サンプル2:CsIのシンチレータ層12の上にシート状の反射層13を配置し、内部を真空引きして防湿体14を設けた。   Sample 2: A sheet-like reflective layer 13 was placed on a CsI scintillator layer 12, and the inside was evacuated to provide a moisture-proof body 14.

サンプル1およびサンプル2とも、共通で、シンチレータ層12には厚さ600μmの柱状構造結晶CsIを、反射層13にはPET樹脂にTiO2が分散された厚さ0.19mmのシートを用いた。 In both sample 1 and sample 2, a columnar structure crystal CsI having a thickness of 600 μm was used for the scintillator layer 12, and a sheet having a thickness of 0.19 mm in which TiO 2 was dispersed in PET resin was used for the reflective layer 13.

サンプル1、サンプル2において、シンチレータ層12の単独のCTF(Contrast Transfer Function)(1)と防湿体14の形成後のCTF(2)を測定し、(2)/(1)を計算することにより、解像度の変化を測定した。   In sample 1 and sample 2, the single CTF (Contrast Transfer Function) (1) of the scintillator layer 12 and the CTF (2) after formation of the moisture barrier 14 are measured, and (2) / (1) is calculated. The change in resolution was measured.

サンプル1においては(2)/(1)=0.693、サンプル2においては(2)/(1)=0.790という結果が得られた。この結果から、外側の大気圧と内側の圧力との差圧で変位した防湿体14により反射層13をシンチレータ層12に押し付けていることにより、解像度が向上することが示された。   In the sample 1, the result was (2) / (1) = 0.593, and in the sample 2, the result was (2) / (1) = 0.790. From this result, it was shown that the resolution is improved by pressing the reflective layer 13 against the scintillator layer 12 by the moisture-proof body 14 displaced by the differential pressure between the outside atmospheric pressure and the inside pressure.

また、外側の大気圧と内側の圧力との差圧で変位した防湿体14により反射層13をシンチレータ層12に押し付けているため、反射層13が移動するのを規制できる。そのため、反射層13の一部に黒点やむらなどによる欠陥がある場合でも、反射層13の欠陥の位置が補正位置から移動せず、欠陥補正処理ができる。   Further, since the reflection layer 13 is pressed against the scintillator layer 12 by the moisture-proof body 14 displaced by the differential pressure between the outside atmospheric pressure and the inside pressure, the movement of the reflection layer 13 can be restricted. Therefore, even if there is a defect due to black spots or unevenness in a part of the reflective layer 13, the defect position of the reflective layer 13 does not move from the correction position, and defect correction processing can be performed.

そして、外側の大気圧と内側の圧力との差圧で変位した防湿体14により反射層13をシンチレータ層12に押し付けていることにより、反射層13がシンチレータ層12に対して移動せず、つまり反射層13の欠陥の位置が移動しないことを確認した。   And, by pressing the reflective layer 13 against the scintillator layer 12 by the moisture-proof body 14 displaced by the differential pressure between the outer atmospheric pressure and the inner pressure, the reflective layer 13 does not move relative to the scintillator layer 12, that is, It was confirmed that the position of the defect in the reflective layer 13 did not move.

確認方法としては、油性ペンを用いてXマークをつけた反射層13を用いて、図1のような放射線検出器10のモジュールを作成し、このモジュールに対して60度と−20度の温度サイクルを30サイクル繰り返し、Xマークの座標変化を確認する方法をとった。その結果、Xマークの座標変化は確認できなかった。   As a confirmation method, a module of the radiation detector 10 as shown in FIG. 1 is prepared using a reflective layer 13 with an X mark using an oil-based pen, and temperatures of 60 ° C. and −20 ° C. are applied to this module. The cycle was repeated 30 times, and the method of confirming the coordinate change of the X mark was taken. As a result, no change in the coordinates of the X mark could be confirmed.

外側の大気圧と内側の圧力との差圧で変位した防湿体14によりシート状の反射層13をシンチレータ層12に押し付けていることにより、反射層13がシンチレータ層12に対して移動せず、つまり反射層13の欠陥の位置が移動しないことが示された。   By pressing the sheet-like reflective layer 13 against the scintillator layer 12 by the moisture-proof body 14 displaced by the differential pressure between the outer atmospheric pressure and the inner pressure, the reflective layer 13 does not move relative to the scintillator layer 12, That is, it was shown that the position of the defect in the reflective layer 13 does not move.

そして、固定体16でシート状の反射層13を防湿体14に固定していること、外側の大気圧と内側の圧力との差圧で変位した防湿体14によりシート状の反射層13をシンチレータ層12に押し付けていることの相乗作用により、反射層13がシンチレータ層12に対して移動せず、反射層13の一部に黒点やむらなどによる欠陥がある場合でも、反射層13の欠陥の位置が補正位置から移動せず、欠陥補正処理ができる。   Then, the sheet-like reflective layer 13 is fixed to the moisture-proof body 14 by the fixed body 16, and the sheet-like reflective layer 13 is scintillated by the moisture-proof body 14 displaced by the differential pressure between the outer atmospheric pressure and the inner pressure. Due to the synergistic effect of pressing against the layer 12, the reflective layer 13 does not move relative to the scintillator layer 12, and even if there is a defect due to black spots or unevenness in a part of the reflective layer 13, the defect of the reflective layer 13 The position does not move from the correction position, and defect correction processing can be performed.

なお、固定体16は、粘着層に限らず、接着層でもよく、あるいは機械的な固定手段でもよい。   The fixing body 16 is not limited to the adhesive layer, and may be an adhesive layer or a mechanical fixing means.

また、反射層13は、固定体16を用いず、防湿体14の内面に形成された反射面でもよい。   The reflective layer 13 may be a reflective surface formed on the inner surface of the moisture-proof body 14 without using the fixed body 16.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.

10 放射線検出器
11 基板であるアレイ基板
12 シンチレータ層
13 反射層
14 防湿体
16 固定体
24 光電変換素子
10 Radiation detector
11 Array substrate
12 Scintillator layer
13 Reflective layer
14 Moisture-proof body
16 Fixed body
24 photoelectric conversion element

Claims (6)

光電変換素子を有する基板と、
前記基板の前記光電変換素子上に形成されたシンチレータ層と、
前記シンチレータ層上に配置され、前記シンチレータ層からの蛍光を反射するシート状の反射層と、
前記反射層が固定され、前記基板との間に前記シンチレータ層および前記反射層を覆う防湿体と
を具備することを特徴とする放射線検出器。
A substrate having a photoelectric conversion element;
A scintillator layer formed on the photoelectric conversion element of the substrate;
A sheet-like reflective layer that is disposed on the scintillator layer and reflects fluorescence from the scintillator layer;
A radiation detector comprising: the reflective layer fixed; and a moisture barrier covering the scintillator layer and the reflective layer between the substrate and the substrate.
前記反射層を前記防湿体に固定する固定体を具備する
ことを特徴とする請求項1記載の放射線検出器。
The radiation detector according to claim 1, further comprising: a fixed body that fixes the reflective layer to the moisture-proof body.
前記固定体は、前記基板の前記光電変換素子上から外れた位置にある
ことを特徴とする請求項2記載の放射線検出器。
The radiation detector according to claim 2, wherein the fixed body is at a position off the photoelectric conversion element of the substrate.
前記固定体の厚さは、50μm以下である
ことを特徴とする請求項2または3記載の放射線検出器。
The radiation detector according to claim 2 or 3, wherein the fixed body has a thickness of 50 µm or less.
前記固定体は、前記反射層を前記防湿体に粘着固定する粘着層であり、前記反射層または前記防湿体から剥離した状態でも粘着力を維持する
ことを特徴とする請求項2ないし4いずれか一記載の放射線検出器。
The fixed body is an adhesive layer that sticks and fixes the reflective layer to the moisture-proof body, and maintains the adhesive force even in a state where the reflective layer is peeled off from the reflective layer or the moisture-proof body. One radiation detector.
前記防湿体は、外側の大気圧よりも内側の圧力が低く、外側の大気圧と内側の圧力との差圧により変位した状態で前記反射層を前記シンチレータ層に密着させている
ことを特徴とする請求項1ないし5いずれか一記載の放射線検出器。
The moisture-proof body is characterized in that the inner pressure is lower than the outer atmospheric pressure, and the reflective layer is closely attached to the scintillator layer in a state of being displaced by a differential pressure between the outer atmospheric pressure and the inner pressure. The radiation detector according to any one of claims 1 to 5.
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