JP2019183202A - 自溶炉及びその操業方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本実施形態における自溶炉の構成について説明する。図1は本実施形態における自溶炉の概略正面断面図である。図示された自溶炉1は、概略として、一端側に設けられた反応シャフト2と、他端側に設けられたアップテイク4と、反応シャフト2とアップテイク4の中間部に位置するセットラ3を備えて炉体が構成されており、自溶炉1の炉体全体は鋼材等の金属製材料によって形成されたシェル(缶体)によって形成されている。反応シャフト2は、略円筒形状とされ、その上部に精鉱バーナ7が配置されている。そして、精鉱バーナ7には酸素富化空気の供給部8が設けられている。反応シャフト2に精鉱バーナ7から酸素富化空気あるいは高温熱風と同時に精鉱(製錬原料)が吹き込まれると、瞬間的に化学反応が生起し、反応した精鉱(製錬原料)は比重差によってセットラ3の炉底部1a上でマット層3aとスラグ層3bとに分離される。セットラ3のマットレベルには不図示のマットタップホールが設けられ、セットラ3のスラグレベルには不図示のスラグタップホールが設けられる。スラグタップホールは不図示の錬かん炉に連結されており、スラグ層3bに含まれていた銅はマットとして回収される。一方、アップテイク4は、スラグ層3bの上部の排ガスを不図示の廃熱ボイラへ誘導して廃熱の回収を行い、冷却された排ガスは硫酸工場に送られる。
次に、本実施形態の自溶炉1の内壁面について説明する。図1に示されるとおり、反応シャフト2及びセットラ3の周壁には、互いに連結された複数の水冷ジャケット10が配置されている。反応シャフト2の周壁を構成する水冷ジャケット10の炉内側の端面が反応シャフト2の内壁面を構成する。符号30で示す部分が反応シャフト2の内壁面であり、円筒状をしている。また、セットラ3の周壁を構成する水冷ジャケット10の炉内側の端面がセットラ3の内壁面を構成し、概略角柱状をしている。符号30bで示すのは、セットラ3の長手方向において相対する一対の内壁面のうち反応シャフト2に近い側に位置する内壁面であり、図2(A)(B)において符号30aで示すのは、セットラ3の短手方向において相対する一対の内壁面である。
さらに、比較例の自溶炉の構成について説明する。図6に示す比較例の自溶炉200の構成は、図1に示す本実施形態の自溶炉1の構成と基本的に同様である。すなわち、図1に示す本実施形態の自溶炉1は、セットラ3の一方端側に配置された反応シャフト2で銅精鉱を加熱溶融することにより生成された高温融体をマット層3aとスラグ層3bとに分離するものであり、図6に示す比較例の自溶炉200も、セットラ202の一方端側に配置された反応シャフト201で銅精鉱を加熱溶融することにより生成された高温融体をマット層3aとスラグ層3bとに分離するものである。ここでは比較例の自溶炉200と本実施形態の自溶炉1との間ではセットラの寸法以外は共通であって操業条件も共通であるものとする。また、比較例の自溶炉200の構成のうち本実施形態の自溶炉1における構成と対応するものについては適宜に同一の符号を付して説明する。
続いて、上述した比較例のセットラの寸法について説明する。図2(A)は比較例におけるセットラの寸法の説明図、図3(A)は比較例におけるスラグ層とマット層の境界面の説明図である。
また、上述の比較例では、図3(A)に示すとおり、セットラ202の内壁面30a、30bと炉底部との角部(エッジ部)に鋳付3c形成されると、その鋳付3cが障害となってセットラ20の長手方向における端面側の懸濁領域A0の周縁部A1の位置までマット層3aが延在できないので、その周縁部A1においてはマット層3aとスラグ層3bの境界面3dが存在しないこととなる。このため、当該周縁部A1を浮遊するマット粒子3a’は、その落下後にマット層3aと接触することができず、スラグ層3bに留まる。そのため、当該マット粒子3a’はマットとして回収されずにスラグロスとなる可能性が高まる。
次に、本実施形態のセットラの寸法について説明する。図2(B)は本実施形態におけるセットラの寸法の説明図であり、図3(B)は本実施形態におけるスラグ層とマット層の境界面の説明図である。
上述の本実施形態では、図3(B)に示すとおり、セットラ3の内壁面30a、30bと炉底部との角部(エッジ部)に鋳付3cが形成されても、懸濁領域A0の周縁部A1に至るまでマット層3aが延在できるので、周縁部A1においてもマット層3aとスラグ層3bの境界面3dを存在させることができる。このため、当該周縁部A1を浮遊するマット粒子3a’は、その落下後にマット層3aと接触することが可能となり、マット層3aへ吸収が促進される。そして当該マット粒子3a’は最終的にスラグロスとならずにマットとして回収される。よって、本実施形態は比較例よりもスラグロスを確実に抑制することができる。
次に、本実施形態におけるスラグロスの低減効果を数値で説明する。図4、図5はそれぞれ比較例、実施例の自溶炉を用いて銅精鉱を処理した操業期間において、自溶炉から排出されるスラグをタップ時間帯に常時サンプリングする機器を用いてサンプリングし、1日分を縮分した1日の平均化サンプルとし、そのサンプルスラグに含まれるCu品位をスラグロスの指標としてある一定の操業期間の結果をプロットしたものであり、図4(A)は比較例におけるスラグロスを示すグラフ、図5(A)は比較例におけるスクリーニング後のスラグロスを示すグラフであり、図4(B)は本実施形態におけるスラグロスを示すグラフ、図5(B)は本実施形態におけるスクリーニング後のスラグロスを示すグラフである。グラフの横軸はいずれもスラグ中における酸化アルミニウムの含有量(%)であり、グラフの縦軸はスラグロス(%)である。なお、図5のデータは図4のデータと同じであるが、図5ではスラグロス軽減のための炭材の添加の有無を区別している点で図4とは異なる。また、図4、図5のデータの取得条件は、次のとおりである。比較例においては直径φ=6200mm、L1=715mm、L2=1150mm、本実施形態においては直径φ=6200mm、L1=1000mm、L2=1850mmである。
以上説明したとおり、本実施形態に係る自溶炉1は、セットラ3の内壁面30a、30bに鋳付3cが形成された場合であってもスラグ層3bとマット層3aの境界面3dが反応シャフト2直下の投影領域Aの外側まで延在できるように反応シャフト2の下部におけるセットラ3の内壁を位置させたので、懸濁領域A0における境界面3dの占める割合を増加させ、マット層3aとスラグ層3bの分離(マット層3aのトラップ)を促進することができる。
本発明は各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、各実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素からいくつかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態の構成要素を適宜組み合わせてもよい。
1a 炉底部
2 反応シャフト
3 セットラ
3a マット層
3a’ マット粒子
3b スラグ層
3b’ スラグ粒子
3c 鋳付
3d 境界面
4 アップテイク
7 精鉱バーナ
8 酸素富化空気供給部
10 水冷ジャケット
30 内壁面
30a 内壁面
30b 内壁面
200 自溶炉
201 反応シャフト
202 セットラ
205 マットタップホール
206 スラグタップホール
203 アップテイク
204 精鉱バーナ
220 練かん炉
A 投影領域
A0 懸濁領域
A1 周縁部
Claims (5)
- セットラの一方端側に配置された反応シャフトで精鉱を酸素と反応させて生成した高温融体をマットとスラグに分離する自溶炉において、
前記セットラの内壁面に鋳付が形成された場合であっても前記スラグと前記マットの境界面が前記反応シャフトの横断面を当該反応シャフト直下へ投影してできる投影領域の外側まで延在できるように前記反応シャフト下部における前記セットラの内壁面を位置させたことを特徴とする自溶炉。 - セットラの一方端側に配置された反応シャフトで精鉱を酸素と反応させて生成した高温融体をマットとスラグに分離する自溶炉において、
前記反応シャフトに近接する側の長手方向における前記セットラ内壁面から前記投影領域の端部までの最短距離を長手方向における前記投影領域の幅長さの20〜35%としたことを特徴とする自溶炉。 - セットラの一方端側に配置された反応シャフトで精鉱を酸素と反応させて生成した高温融体をマットとスラグに分離する自溶炉において、
前記反応シャフトに近接する側の短手方向における前記セットラ内壁面から前記投影領域の端部までの最短距離を短手方向における前記投影領域の幅長さの15〜20%としたことを特徴とする自溶炉。 - セットラの一方端側に配置された反応シャフトで精鉱を酸素と反応させて生成した高温融体をマットとスラグに分離する自溶炉において、
前記反応シャフトに近接する側の長手方向における前記セットラ内壁面から前記投影領域の端部までの最短距離を長手方向における前記投影領域の幅長さの20〜35%とし、前記反応シャフトに近接する側の短手方向における前記セットラ内壁面から前記投影領域の端部までの最短距離を短手方向における前記投影領域の幅長さの15〜20%としたことを特徴とする自溶炉。 - セットラの一方端側に配置された反応シャフトで精鉱を酸素と反応させて生成した高温融体をマットとスラグに分離する自溶炉の操業方法において、
前記セットラの内壁面に鋳付が形成された場合であっても前記スラグと前記マットの境界面が前記反応シャフトの横断面を前記反応シャフト直下へ投影してできる投影領域の外側まで延在できるように前記反応シャフト下部における前記セットラの内壁面を位置させることによりマットとスラグの分離を促進することを特徴とする自溶炉の操業方法。
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WO2023100954A1 (ja) | 2021-12-02 | 2023-06-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 物質状態の測定方法、物質状態の測定装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008202923A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-09-04 | Nikko Kinzoku Kk | 自溶炉の炉体水冷構造 |
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- 2018-04-04 JP JP2018072628A patent/JP7137336B2/ja active Active
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WO2023100954A1 (ja) | 2021-12-02 | 2023-06-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 物質状態の測定方法、物質状態の測定装置 |
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