JP2019178258A - 研磨パッド及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
〔1〕
硬化性組成物を硬化してなる研磨層を有する研磨パッドの製造方法であって、
支持体と前記支持体上に設けられた感光性樹脂層とを備える版材の前記感光性樹脂層上にマスクを形成し、前記マスク側から前記感光性樹脂層へ光を照射し、該感光性樹脂層の光が照射された部分又は光が照射されなかった部分を選択的に取り除くことにより凹凸パターンを形成した凹凸版を作製する版作製工程と、
得られた前記凹凸版に形成された前記凹凸パターンに対して、成形型用樹脂組成物を接触させた状態で硬化させた後、前記凹凸版から剥離することにより、前記凹凸パターンを転写した成形型を作製する成形型作製工程と、
前記成形型に対して、前記硬化性組成物を接触させた状態で硬化させることにより、前記成形型の前記凹凸パターンが転写された前記硬化性組成物の硬化物を得る硬化工程と、
硬化した前記硬化物を前記成形型から剥離することにより、研磨層を得る剥離工程と、を有する、
研磨パッドの製造方法。
〔2〕
前記成形型作製工程において、前記凹凸版の温度が130℃以下である、
〔1〕に記載の研磨パッドの製造方法。
〔3〕
前記成形型作製工程において、成形型用樹脂組成物が芯材に接触した状態で硬化させる、又は、前記成形型の凹凸パターンの転写面とは反対側の面に芯材を接着させる、
〔1〕又は〔2〕に記載の研磨パッドの製造方法。
〔4〕
硬化性組成物を硬化してなる研磨層を備え、
前記研磨層の曲げ強さが50MPa以上である、
研磨パッド。
〔5〕 前記研磨層が、支持領域と、該支持領域上に形成された凸部とが一体成型された凹凸パターンを有するものである、
〔4〕に記載の研磨パッド。
本実施形態の研磨パッドの製造方法は、硬化性組成物を硬化してなる研磨層を有する研磨パッドの製造方法であって、支持体と前記支持体上に設けられた感光性樹脂層とを備える版材の前記感光性樹脂層上にマスクを形成し、前記マスク側から前記感光性樹脂層へ光を照射し、該感光性樹脂層の光が照射された部分又は光が照射されなかった部分を選択的に取り除くことにより凹凸パターンを形成した凹凸版を作製する版作製工程と、得られた前記凹凸版に形成された前記凹凸パターンに対して、成形型用樹脂組成物を接触させた状態で硬化させた後、前記凹凸版から剥離することにより、前記凹凸パターンを転写した成形型を作製する成形型作製工程と、前記成形型に対して、前記硬化性組成物を接触させた状態で硬化させることにより、前記成形型の前記凹凸パターンが転写された前記硬化性組成物の硬化物を得る硬化工程と、硬化した前記硬化物を前記成形型から剥離することにより、研磨層を得る剥離工程と、を有する。
版作製工程は、支持体と支持体上に設けられた感光性樹脂層とを備える版材の感光性樹脂層上にマスクを形成し、マスク側から感光性樹脂層へ光を照射し、該感光性樹脂層の光が照射された部分又は光が照射されなかった部分を選択的に取り除くことにより凹凸パターンを形成した凹凸版を作製する工程である。
成形型作製工程は、版作製工程で得られた凹凸版に形成された凹凸パターンに対して、成形型用樹脂組成物を接触させた状態で硬化させた後、凹凸版から硬化物を剥離することにより、凹凸パターンを転写した成形型を作製する工程である。
硬化工程は、得られた成形型に形成された凹凸パターンに対して、硬化性組成物を接触させた状態で硬化させることにより、凹凸パターンが転写された硬化性組成物の硬化物を得る工程である。この工程で得られる硬化物の凹凸パターンの表面(凸部の表面)は、被研磨物を研磨するための研磨面となる。
剥離工程は、硬化した硬化物を成形型から剥離することにより、研磨層を得る工程である。この工程で得られる研磨層は成形型から転写された凹凸パターンを有し、その凹凸パターンの凸部の表面は、被研磨物を研磨するための研磨面となる。
本実施形態の研磨パッドは、上記製造方法により得られたものであって、硬化性組成物を硬化してなる研磨層を備え、該研磨層は任意の形状と十分な高さのある凹凸パターンを有するものである。研磨層の曲げ強さは、50MPaであり、好ましくは50〜1000MPaであり、より好ましくは55〜900MPaであり、さらに好ましくは60〜800MPaである。曲げ強さは、JIS K7203に準じて行った測定により得られるものである。曲げ強さが上記範囲内であることにより、剥離工程において成形型から研磨層を剥離する際に研磨層の破損や変形を抑制することができる。
Claims (5)
- 硬化性組成物を硬化してなる研磨層を有する研磨パッドの製造方法であって、
支持体と前記支持体上に設けられた感光性樹脂層とを備える版材の前記感光性樹脂層上にマスクを形成し、前記マスク側から前記感光性樹脂層へ光を照射し、該感光性樹脂層の光が照射された部分又は光が照射されなかった部分を選択的に取り除くことにより凹凸パターンを形成した凹凸版を作製する版作製工程と、
得られた前記凹凸版に形成された前記凹凸パターンに対して、成形型用樹脂組成物を接触させた状態で硬化させた後、前記凹凸版から剥離することにより、前記凹凸パターンを転写した成形型を作製する成形型作製工程と、
前記成形型に対して、前記硬化性組成物を接触させた状態で硬化させることにより、前記成形型の前記凹凸パターンが転写された前記硬化性組成物の硬化物を得る硬化工程と、
硬化した前記硬化物を前記成形型から剥離することにより、研磨層を得る剥離工程と、を有する、
研磨パッドの製造方法。 - 前記成形型作製工程において、前記凹凸版の温度が130℃以下である、
請求項1に記載の研磨パッドの製造方法。 - 前記成形型作製工程において、成形型用樹脂組成物が芯材に接触した状態で硬化させる、又は、前記成形型の凹凸パターンの転写面とは反対側の面に芯材を接着させる、
請求項1又は2に記載の研磨パッドの製造方法。 - 硬化性組成物を硬化してなる研磨層を備え、
前記研磨層の曲げ強さが50MPa以上である、
研磨パッド。 - 前記研磨層が、支持領域と、該支持領域上に形成された凸部とが一体成型された凹凸パターンを有するものである、
請求項4に記載の研磨パッド。
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