JP2019156684A - 複合セラミックス部材及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[1]グレインサイズ5〜20μmの多数の粒子を含む、ビッカース硬度2,000以上、相対密度95%以上の複合セラミックスで形成されており、前記複合セラミックスが、炭化ケイ素20〜50質量%と、ビッカース硬度2,000以上の炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかと、を含有し、開口径20μm以下、深さ10nm〜20μmの多数のクレーターを有する、中心線平均粗さRa20nm以下の加工面を備える複合セラミックス部材。
[2]前記炭化物が、炭化チタン、炭化バナジウム、炭化ジルコニウム、及び炭化ホウ素の少なくともいずれかであり、前記ホウ化物が、ホウ化チタン、ホウ化タンタル、及びホウ化ニオブの少なくともいずれかである前記[1]に記載の複合セラミックス部材。
[3]前記加工面を摺動面とする摺動部材である前記[1]又は[2]に記載の複合セラミックス部材。
[4]前記[1]〜[3]のいずれかに記載の複合セラミックス部材の製造方法であって、メジアン径(D50)0.2〜2.0μmの炭化ケイ素粉末と、ビッカース硬度2,000以上の、メジアン径(D50)0.5〜10.0μmの炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかの粉末と、を含有する、前記炭化ケイ素粉末の含有量が20〜50質量%の原料粉末を調製する工程と、前記原料粉末を成形して得た成形体を焼成して焼成体を得る工程と、前記焼成体の少なくとも一部を鏡面加工して、開口径20μm以下、深さ10nm〜20μmの多数のクレーターを有する、中心線平均粗さRa20nm以下の加工面を形成する工程と、を有する複合セラミックス部材の製造方法。
以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではない。本発明の複合セラミックス部材は、グレインサイズ5〜20μmの多数の粒子を含む、ビッカース硬度2,000以上、相対密度95%以上の複合セラミックスで形成されている。この複合セラミックスは、炭化ケイ素20〜50質量%と、ビッカース硬度2,000以上の炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかと、を含有する。そして、本発明の複合セラミックス部材は、開口径20μm以下、深さ10nm〜20μmの多数のクレーターを有する、中心線平均粗さRa20nm以下の加工面を備える。以下、本発明の複合セラミックス部材の詳細について説明する。
本発明の複合セラミックス部材を構成する複合セラミックスは、グレインサイズ5〜20μm、好ましくは6〜18μm、さらに好ましくは8〜15μmの多数の粒子(セラミックス粒子)によって実質的に形成されている。グレインサイズが上記範囲内であるセラミックス粒子により形成することで、所望とするサイズのクレーターを有する加工面を形成することができる。
複合セラミックス部材は、摺動面として好適な加工面を備える。加工面の中心線平均粗さRaは20nm以下、好ましくは18nm以下である。中心線平均粗さRaを20nm以下とすることで、摺動面として機能しうる摺動性(潤滑性)に優れた加工面とすることができる。本明細書における「中心線平均粗さRa」は、JIS B0601:2013で規定される「算術平均粗さ」を意味する。
次に、本発明の複合セラミックス部材の製造方法(以下、単に「本発明の製造方法」とも記す)について説明する。本発明の製造方法は、上述の複合セラミックス部材の製造方法であり、炭化ケイ素粉末と、ビッカース硬度2,000以上の炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかの粉末と、を含有する、炭化ケイ素粉末の含有量が20〜50質量%の原料粉末を調製する工程(工程(1))と、原料粉末を成形して得た成形体を焼成して焼成体を得る工程(工程(2))と、焼成体の少なくとも一部を鏡面加工して、所定のクレーターを有する加工面を形成する工程(工程(3))と、を有する。以下、その詳細について説明する。
工程(1)では、炭化ケイ素粉末と、炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかの粉末とを混合して原料粉末を調製する。炭化ケイ素粉末のメジアン径(D50)は0.2〜2.0μm、好ましくは0.5〜1.8μmである。また、炭化物やホウ化物の粉末のメジアン径(D50)は0.5〜10.0μmであり、好ましくは0.7〜8.0μmである。メジアン径(D50)が上記範囲内にある炭化ケイ素粉末、及び炭化物やホウ化物の粉末を用いることで、所望とするグレインサイズのセラミックス粒子を含むとともに、クレーターの開口径等が所望とする範囲に制御された加工面を有する複合セラミックス部材を得ることができる。なお、本明細書における「メジアン径(D50)」は、レーザー回折・散乱法により測定した体積累積粒度分布曲線における累積50%粒子径を意味する。
工程(2)では、まず、上記の工程(1)で調製した原料粉末を成形して成形体を得る。原料粉末を用いて成形体を成形する方法は特に限定されず、セラミックスの粉末を用いる一般的な成形方法を採用することができる。次いで、得られた成形体を、好ましくは常圧条件下で焼成することで、焼成体である複合セラミックスを得ることができる。
工程(3)では、上記の工程(2)で得た焼成体の少なくとも一部を鏡面加工して、中心線平均粗さRa20nm以下の加工面を形成する。鏡面加工の具体的な手法については特に限定されず、例えば、適度な粒径のダイヤモンド砥粒を用いて研摩する等の高硬度のセラミックスを鏡面加工するための手法を適用することができる。
焼成体の少なくとも一部を鏡面加工すると、複合セラミックスを構成するセラミックス粒子のうち、主として炭化ケイ素の粒子が脱落しやすい。これにより、所望とするサイズのクレーターを有する摺動面として機能しうる加工面が形成された複合セラミックス部材を得ることができる。
(セラミックス粉末(原料粉末)のメジアン径(D50))
セラミックス粉末、水、及び適当な分散剤を混合し、セラミックス粉末を水に均一に分散させたスラリーを調製した。調製したスラリーを試料とし、レーザー回折・散乱式の粒子径分布測定装置(商品名「LA−960」、堀場製作所社製)を使用して体積累積粒度分布曲線を測定して、累積50%粒子径を「メジアン径(D50)」とした。
試料(複合セラミックス)の表面を走査型電子顕微鏡で観察及び撮影して得た写真を使用し、JIS R1670:2006に準拠したインターセプト法により、セラミックス粒子のグレインサイズ(数平均粒子径)を測定及び算出した。
JIS R1610:2003に準拠した測定方法により、セラミックスのビッカース硬度を測定した。具体的には、市販のビッカース硬さ試験機(ミツトヨ社製)を使用し、室温下、荷重3〜10kgf、保持時間10秒の条件にてビッカース硬度を測定した。
炭化ケイ素製のボールと、試料(ディスク)を使用し、JIS R1613:2010に準拠した方法により試料の摩擦係数及び比摩耗量を測定した。
原子間力顕微鏡を使用して加工面を観察し、JIS R1683:2014に準拠した方法によりクレーターの開口径及び深さを測定した。
(製造例1)
炭化ケイ素の粉末(D50:0.2〜3.0μm、純度:99質量%、屋久島電工社製又は昭和電工社製)、及び炭化ホウ素の粉末(D50:0.3〜11.0μm、純度:99.5質量%(酸素含有量1.2%、窒素含有量0.2質量%を除く)、ビッカース硬度:3,000、H.S.Starck社製)を用意した。これらの粉末を、炭化ケイ素の含有量が20〜80質量%となるようにそれぞれ秤量し、エタノール中で混合した後、乾燥して原料粉末を得た。得られた原料粉末を直径50mmの金型にそれぞれ充填し、圧力98MPaを負荷して成形体を作製した。作製した成形体をそれぞれ容器に入れ、常圧条件下、2,100℃で焼成して複合セラミックスを得た。得られた複合セラミックスのビッカース硬度(Hv)及び相対密度を表1に示す。また、得られた複合セラミックスを構成するセラミックス粒子のグレインサイズを表1に示す。
以下に示す炭化物及びホウ化物のそれぞれの粉末を用意するとともに、エタノール中で粉砕して粒径を調整し、メジアン径(D50)1.0μmの各粉末を得た。
・炭化チタン(ビッカース硬度:3,000、日本新金属社製)
・炭化バナジウム(ビッカース硬度:2,400、日本新金属社製)
・炭化ジルコニウム(ビッカース硬度:2,800、日本新金属社製)
・炭化ホウ素(ビッカース硬度:3,000、H.S.Starck社製)
[ホウ化物]
・ホウ化チタン(ビッカース硬度:3,100、日本新金属社製)
・ホウ化タンタル(ビッカース硬度:2,300、日本新金属社製)
・ホウ化ニオブ(ビッカース硬度:2,400、日本新金属社製)
上述の製造例1で用いた炭化ケイ素の粉末(D50:1.0μm)及び炭化ホウ素の粉末(D50:0.8μm)を用意した。これらの粉末を炭化ケイ素の含有量が50質量%となるようにそれぞれ秤量して用いたことしたこと以外は、前述の製造例1と同様にして複合セラミックスを製造した。得られた複合セラミックスのビッカース硬度(Hv)及び相対密度を表3に示す。また、得られた複合セラミックスを構成するセラミックス粒子のグレインサイズを表3に示す。
上述の製造例1で用いた炭化ケイ素の粉末(D50:1.0μm)及び炭化チタンの粉末(D50:0.8μm)を用意した。これらの粉末を炭化ケイ素の含有量が50質量%となるようにそれぞれ秤量して用いたこと、及び焼成温度と時間を適宜変更したこと以外は、前述の製造例1と同様にして複合セラミックスを製造した。得られた複合セラミックスのビッカース硬度(Hv)及び相対密度を表4に示す。また、得られた複合セラミックスを構成するセラミックス粒子のグレインサイズを表4に示す。
Claims (4)
- グレインサイズ5〜20μmの多数の粒子を含む、ビッカース硬度2,000以上、相対密度95%以上の複合セラミックスで形成されており、
前記複合セラミックスが、炭化ケイ素20〜50質量%と、ビッカース硬度2,000以上の炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかと、を含有し、
開口径20μm以下、深さ10nm〜20μmの多数のクレーターを有する、中心線平均粗さRa20nm以下の加工面を備える複合セラミックス部材。 - 前記炭化物が、炭化チタン、炭化バナジウム、炭化ジルコニウム、及び炭化ホウ素の少なくともいずれかであり、
前記ホウ化物が、ホウ化チタン、ホウ化タンタル、及びホウ化ニオブの少なくともいずれかである請求項1に記載の複合セラミックス部材。 - 前記加工面を摺動面とする摺動部材である請求項1又は2に記載の複合セラミックス部材。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の複合セラミックス部材の製造方法であって、
メジアン径(D50)0.2〜2.0μmの炭化ケイ素粉末と、ビッカース硬度2,000以上の、メジアン径(D50)0.5〜10.0μmの炭化物及びホウ化物の少なくともいずれかの粉末と、を含有する、前記炭化ケイ素粉末の含有量が20〜50質量%の原料粉末を調製する工程と、
前記原料粉末を成形して得た成形体を焼成して焼成体を得る工程と、
前記焼成体の少なくとも一部を鏡面加工して、開口径20μm以下、深さ10nm〜20μmの多数のクレーターを有する、中心線平均粗さRa20nm以下の加工面を形成する工程と、
を有する複合セラミックス部材の製造方法。
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