JP2019136711A - 積層造形物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】凸形状のベース面に対してトーチを的確にウィービングさせて溶着ビードを形成し、高品質な造形物を製造することが可能な積層造形物の製造方法を提供する。【解決手段】積層造形物Ｗを造形するために予め設定された造形計画データを読み込む造形計画データ読み込み工程と、読み込んだ造形計画データに基づいて、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対してトーチ１７をウィービングさせるためのウィービング経路Ｗｒを求めるウィービング経路算出工程と、求めたウィービング経路Ｗｒに沿ってトーチ１７の先端が通るようにトーチ１７をウィービングさせることで、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａにトーチ１７によって溶着ビード２５を形成するウィービング工程と、を含む。【選択図】図４

Description

本発明は、積層造形物の製造方法に関する。

近年、生産手段としての３Ｄプリンタのニーズが高まっており、特に金属材料への適用については航空機業界等で実用化に向けて研究開発が行われている。金属材料を用いた３Ｄプリンタは、レーザやアーク等の熱源を用いて、金属粉体や金属ワイヤを溶融させ、溶融金属を積層させて造形物を造形する。

このような造形物を溶接で造形する技術としては、ウィービング量を含む溶接条件を設定した上で、溶接トーチの溶接パスを自動生成する溶接造形制御方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、ウィービングに関する技術として、立向き上進溶接において、ウィービングの移動経路を規定して開先部を溶接することが知られている（例えば、特許文献２参照）。

特開２０１６−１９６０１２号公報 特許第３１４０２７５号公報

ところで、円弧等の凸形状の母材のベース面に積層造形を行う場合、１列の造形幅を稼ぐためにウィービングを用いて溶着ビードを形成することが考えられる。しかしながら、トーチの平行移動運動によるウィービングでは、ベース面に対する狙い位置にズレが生じてしまう。そのため、ベース面への溶着ビードの溶け込み量や溶着ビードの形状にばらつきが生じるうえ、電流や電圧が変動してスパッタが増加し、品質が低下してしまうおそれがある。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、凸形状のベース面に対してトーチを的確にウィービングさせて溶着ビードを形成し、高品質な造形物を製造することが可能な積層造形物の製造方法を提供することにある。

本発明は下記構成からなる。
（１） 凸形状のベース面に対して、溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを形成するトーチをウィービングさせて前記ベース面に溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
前記積層造形物を造形するために予め設定された造形計画データを読み込むデータ読み込み工程と、
読み込んだ前記造形計画データに基づいて、前記ベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対して前記トーチをウィービングさせるためのウィービング経路を求めるウィービング経路算出工程と、
求めた前記ウィービング経路に沿って前記トーチの先端が通るように前記トーチをウィービングさせることで、前記ベース面又は下層の前記溶着ビード層の上面に前記トーチによって前記溶着ビードを形成するウィービング工程と、
を含む積層造形物の製造方法。

本発明によれば、凸形状のベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対してトーチを的確にウィービングさせて溶着ビードを形成し、高品質な造形物を製造することができる。

本発明の積層造形物の製造方法が適用される製造システムの模式的な概略構成図である。 溶着ビードが積層された積層造形物の概略正面図である。 トーチのウィービング時に生じるズレを説明する母材の概略正面図である。 本実施形態に係るウィービングの設定を説明するフローチャートである。 溶着ビードが形成されるベース面を説明する母材の概略正面図である。 ウィービング経路を説明する母材の概略正面図である。 傾斜固定ウィービングを説明する母材の概略正面図である。 傾斜変動ウィービングを説明する母材の概略正面図である。 二層目の溶着ビード層となる溶着ビードを傾斜固定ウィービングで形成する場合について説明する母材の概略正面図である。 下層の溶着ビード層の上面の形状を補正したウィービング経路の設定を説明する下層の溶着ビード層の上面の概略正面図である。 ノズル幅とウィービング幅との関係を説明するための図である。 二列の溶着ビードを形成する形成方法を説明する母材の概略正面図である。 二列の溶着ビードが積層された積層造形物を示す概略正面図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明の積層造形物の製造方法が適用される製造システムの模式的な概略構成図である。

本構成の製造システム１００は、積層造形装置１１と、積層造形装置１１を統括制御するコントローラ１５と、を備える。

積層造形装置１１は、先端軸にトーチ１７を有する溶接ロボット１９と、トーチ１７に溶加材（溶接ワイヤ）Ｍを供給する溶加材供給部２３とを有する。トーチ１７は、溶加材Ｍを先端から突出した状態に保持する。

コントローラ１５は、ＣＡＤ／ＣＡＭ部３１と、軌道演算部３３と、記憶部３５と、これらが接続される制御部３７と、を有する。

溶接ロボット１９は、多関節ロボットであり、先端軸に設けたトーチ１７には、溶加材Ｍが連続供給可能に支持される。トーチ１７の位置や姿勢は、ロボットアームの自由度の範囲で３次元的に任意に設定可能となっている。

トーチ１７は、不図示のシールドノズルを有し、シールドノズルからシールドガスが供給される。本構成で用いられるアーク溶接法としては、被覆アーク溶接や炭酸ガスアーク溶接等の消耗電極式、ＴＩＧ溶接やプラズマアーク溶接等の非消耗電極式のいずれであってもよく、作製する積層造形物Ｗに応じて適宜選定される。

例えば、消耗電極式の場合、シールドノズルの内部にはコンタクトチップが配置され、溶融電流が給電される溶加材Ｍがコンタクトチップに保持される。トーチ１７は、溶加材Ｍを保持しつつ、シールドガス雰囲気で溶加材Ｍの先端からアークを発生する。溶加材Ｍは、ロボットアーム等に取り付けた不図示の繰り出し機構により、溶加材供給部２３からトーチ１７に送給される。そして、トーチ１７を移動しつつ、連続送給される溶加材Ｍを溶融及び凝固させると、溶加材Ｍの溶融凝固体である線状の溶着ビード２５が形成される。

なお、溶加材Ｍを溶融させる熱源としては、上記したアークに限らない。例えば、アークとレーザとを併用した加熱方式、プラズマを用いる加熱方式、電子ビームやレーザを用いる加熱方式等、他の方式による熱源を採用してもよい。電子ビームやレーザにより加熱する場合、加熱量を更に細かく制御でき、溶着ビードの状態をより適正に維持して、積層構造物の更なる品質向上に寄与できる。

ＣＡＤ／ＣＡＭ部３１は、作製しようとする造形物Ｗの形状データを作成した後、複数の層に分割して各層の形状を表す層形状データを生成する。軌道演算部３３は、生成された層形状データに基づいてトーチ１７の移動軌跡を求める。記憶部３５は、生成された層形状データやトーチ１７の移動軌跡等のデータを記憶する。

制御部３７は、記憶部３５に記憶された層形状データやトーチ１７の移動軌跡に基づく駆動プログラムを実行して、溶接ロボット１９を駆動する。つまり、溶接ロボット１９は、コントローラ１５からの指令により、軌道演算部３３で生成したトーチ１７の移動軌跡に基づき、溶加材Ｍをアークで溶融させながらトーチ１７を移動する。なお、図１においては、円弧状の凸形状に形成された母材２０の上面からなるベース面２０ａに沿ってトーチ１７をウィービングさせて幅広の溶着ビード２５を形成して積層造形物Ｗを造形する様子を示している。

上記構成の製造システム１００は、設定された層形状データから生成されるトーチ１７の移動軌跡に沿って、トーチ１７を溶接ロボット１９の駆動によりウィービングさせながら、溶加材Ｍを溶融させ、溶融した溶加材Ｍを母材２０上に供給する。そして、図２に示すように、母材２０のベース面２０ａに対して、トーチ１７をウィービングさせることで、幅広の溶着ビード２５からなる溶着ビード層３４が形成され、さらに、この溶着ビード層３４が複数層に積層された積層造形物Ｗが造形される。

ところで、図３に示すように、母材２０の凸形状のベース面２０ａに対して、トーチ１７をウィービングさせて溶着ビード２５を形成する場合、単にトーチ１７を平行移動させるウィービングでは、トーチ１７の先端（溶加材Ｍの先端）の狙い位置とベース面２０ａとの間にズレＳが生じてしまう。そのため、溶着ビード２５のベース面２０ａへの溶け込み量や溶着ビード２５の形状にばらつきが生じるうえ、狙い高さのズレＳにより電流や電圧が変動しスパッタが増加してしまう。

このため、本実施形態では、コントローラ１５の軌道演算部３３が、ベース面２０ａの形状に応じてウィービング経路を設定し、ウィービング時におけるトーチ１７の先端（溶加材Ｍの先端）の狙い位置とベース面２０ａとの間のズレＳを抑制する。以下、ウィービングの設定を行い、ベース面２０ａに溶着ビード２５を形成する場合について説明する。

図４は本実施形態に係るウィービングの設定を説明するフローチャートである。図５Ａは溶着ビードが形成されるベース面を説明する母材の概略正面図である。図５Ｂはウィービング経路を説明する母材の概略正面図である。図５Ｃは傾斜固定ウィービングを説明する母材の概略正面図である。図５Ｄは傾斜変動ウィービングを説明する母材の概略正面図である。図５Ｅは二層目の溶着ビード層となる溶着ビードを傾斜固定ウィービングで形成する場合について説明する母材の概略正面図である。

（計画データ読み込み工程）
まず、軌道演算部３３が造形計画データを読み込む（ステップＳ１）。この造形計画データは、積層造形物Ｗを造形するために予め設定されたもので、積層造形物Ｗの形状、及び溶着ビード２５を形成するベース面２０ａの形状データ、造形する溶着ビード２５の幅・高さを含み、例えば、ＣＡＤデータとして記憶部３５に記憶されている。本例では、図５Ａに示すように、母材２０のベース面２０ａは、上方へ円弧状に突出する円弧面である。

（ウィービング経路算出工程）
さらに、軌道演算部３３は、トーチ１７をウィービングさせるウィービング経路Ｗｒを求める（ステップＳ２）。このウィービング経路Ｗｒは、読み込んだ造形計画データに基づいて、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに溶着ビード２５を形成する際にウィービングさせる経路である。例えば、図５Ｂに示すように、本例では、ベース面２０ａが円弧状に形成されているので、ウィービング経路Ｗｒは、このベース面２０ａの外周側を通る経路となる。したがって、ウィービング経路Ｗｒは、ベース面２０ａの円弧の曲率半径よりも大きな曲率半径の円弧を通る経路とする。

（ウィービング工程）
その後、制御部３７は、軌道演算部３３で求めたウィービング経路Ｗｒに沿ってトーチ１７の先端（溶加材Ｍの先端）が通るように、溶接ロボット１９を制御してトーチ１７をウィービングさせる（ステップＳ３）。これにより、トーチ１７によってベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに幅広の溶着ビード２５を形成する。そして、トーチ１７をウィービングさせながら母材２０の長手方向へ移動させることで、幅広の溶着ビード２５からなる溶着ビード層３４を母材２０の長手方向に沿って形成する。

このウィービング工程では、例えば、トーチの姿勢を一定に維持するウィービングまたはトーチの姿勢をベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対する位置に応じて変動させるウィービングでトーチ１７をウィービングさせる。

例えば、図５Ｃに示すように、姿勢固定ウィービングでは、ベース面２０ａに対するトーチ１７の傾き及び間隔を一定に維持させながら溶着ビード２５を形成させる。この姿勢固定ウィービングでは、ウィービング工程において、ベース面２０ａに対するトーチ１７の傾き及び間隔を一定に維持させるので、トーチ１７のウィービングの制御を簡略にでき、しかも、溶着ビード２５を形状のばらつきなく形成することができる。

図５Ｄに示すように、姿勢変動ウィービングでは、トーチ１７がベース面２０ａに対して常に法線方向に配置されるようにトーチ１７の傾きを変動させながら溶着ビード２５を形成させる。また、この姿勢変動ウィービングにおいても、ベース面２０ａに対する間隔を一定に維持させる。この姿勢変動ウィービングでは、トーチ１７の傾きを変動させてトーチ１７をベース面２０ａに対して常に法線方向に配置させ、さらにベース面２０ａとの間隔を一定に維持させるので、ベース面２０ａに対して溶着ビード２５を形状のばらつきなくさらに高精度に形成することができる。

さらに、図５Ｅに示すように、形成した幅広の溶着ビード２５からなる一層目である下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに二層目の溶着ビード層３４となる幅広の溶着ビード２５を形成する。

その後も、下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対して、上層の溶着ビード層３４となる幅広の溶着ビード２５を、所定層数となるまで順次積層させて積層造形物Ｗを造形する。

このように、下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに上層の溶着ビード層３４となる幅広の溶着ビード２５を形成するときも、下層の溶着ビード層３４の上面３４ａの形状を求め、この上面３４ａに対してトーチ１７をウィービングさせるためのウィービング経路Ｗｒを求める。そして、このウィービング経路Ｗｒに沿ってトーチ１７の先端が通るようにトーチ１７をウィービングさせることで、トーチ１７によって上面３４ａに幅広の溶着ビード２５を形成する。

なお、上記実施形態では、ウィービング経路算出工程においては、複数の溶着ビード層３４のウィービング経路Ｗｒは一度に形成され、求められたウィービング経路Ｗｒから複数の溶着ビード層３４をウィービングにより形成しながら積層してもよい。
また、ウィービング経路算出工程は、下層の溶着ビード２５を形成するウィービング工程を行う度に行われようにしてもよく、その場合、下層の溶着ビード２５の形状計測を行いながら、次の溶着ビード２５を形成するため、より高精度に溶着ビードを形成することができる。
また、造形計画データにおける下層の溶着ビード層と、実際に形成された下層の溶着ビード層とは、通常、異なる形状となる。このため、造形計画データにおける下層の溶着ビード層と、実際に形成された下層の溶着ビード層の形状を予め対応付けすることで、この形状ずれをウィービング経路算出工程の際に考慮するようにしてもよく、或いは、造形計画データにフィードバックするようにしてもよい。

ところで、二層目以降の溶着ビード層３４を形成する場合、図６に示すように、下層の溶着ビード層３４の上面３４ａは表面が粗く微細な凹凸を有している場合がある。

このような凹凸を考慮してウィービング経路Ｗｒを求める場合、軌道演算部３３は、溶着ビード層３４の上面３４ａの形状を補正してウィービング経路Ｗｒを求める。次に、この溶着ビード層３４の上面３４ａの補正について説明する。

（ベース面形状検出工程）
まず、溶着ビード層３４の上面３４ａの形状を検出する。この上面３４ａの形状の検出は、例えば、タッチセンサ等によって検出する。

（補正ビード上面形状算出工程）
次に、軌道演算部３３は、検出した上面３４ａの形状を基に、近似補正した補正ビード上面形状３４ｂを求める。この補正ビード上面形状３４ｂは、例えば、検出した上面３４ａに対して多項式曲線で円弧または直線に近似補正した形状となる。

その後、軌道演算部３３は、補正ビード上面形状３４ｂに基づいて、ウィービング経路算出工程において、ウィービング経路Ｗｒを求める。そして、制御部３７は、求めたウィービング経路Ｗｒに沿ってトーチ１７の先端（溶加材Ｍの先端）が通るように、溶接ロボット１９を制御してトーチ１７をウィービングさせる。これにより、トーチ１７によって下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに幅広の溶着ビード２５を形成する。

このように、検出した溶着ビード層３４の上面３４ａの形状を近似補正した補正ビード上面形状３４ｂに基づいてウィービング経路Ｗｒを求める。したがって、例えば、凹凸を有する下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対しても的確にトーチ１７をウィービングさせて幅広の溶着ビード２５を形成し、高品質な積層造形物Ｗを製造することができる。

以上、説明したように、本実施形態に係る造形物の製造方法によれば、積層造形物Ｗを造形するために予め設定された造形計画データに基づいて、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対してウィービングさせるためのウィービング経路Ｗｒを求める。そして、このウィービング経路Ｗｒに沿ってトーチ１７の先端（溶加材Ｍの先端）が通るようにトーチ１７をウィービングさせることで、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａにトーチ１７によって溶着ビード２５を形成する。したがって、凸形状のベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対するウィービング時におけるトーチ１７の狙い位置のズレＳを極力抑制でき、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａへの溶着ビード２５の溶け込み量や溶着ビード２５の形状のばらつきを抑えつつ幅広の溶着ビード２５を形成し、高品質な積層造形物Ｗを製造することができる。

しかも、下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに溶着ビード２５を形成する場合は、検出した上面３４ａの形状を近似補正した補正ビード上面形状３４ｂに基づいてウィービング経路Ｗｒを求める。したがって、凹凸を有する上面３４ａに対しても的確にトーチ１７をウィービングさせて溶着ビード２５を形成し、高品質な積層造形物Ｗを製造することができる。

また、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａが上方へ膨出する円弧面からなる場合、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａの曲率半径よりもウィービング経路Ｗｒの曲率半径を大きくすることで、円弧面からなるベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対して幅広の溶着ビード２５を正確に積層させることができる。

また、傾斜固定ウィービングでは、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対するトーチ１７の傾き及び間隔を一定に維持させながらウィービングさせて溶着ビード２５を形成させるので、トーチ１７のウィービングの制御を簡略にでき、しかも、溶着ビード２５を形状のばらつきなく形成することができる。

更に、傾斜変動ウィービングでは、トーチ１７をベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対して常に法線方向に配置させ、しかもベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対する間隔を一定に維持させながらウィービングさせて溶着ビード２５を形成させるので、ベース面２０ａ又は下層の溶着ビード層３４の上面３４ａに対して溶着ビード２５を形状のばらつきなくさらに高精度に形成することができる。

なお、本発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、実施形態の各構成を相互に組み合わせることや、明細書の記載、並びに周知の技術に基づいて、当業者が変更、応用することも本発明の予定するところであり、保護を求める範囲に含まれる。

また、本発明は、ベース面２０ａに対して複数列の溶着ビード２５を形成して積層させる場合も含まれる。ここで、図７に示すように、ウィービングの幅Ｌ１は、溶接金属のシールド性を確保するために、トーチ１７のノズルの幅Ｌ２の１〜１．５倍程度に設定される必要がある。このため、作成しようとする造形物Ｗの幅がこのウィービングの幅Ｌ１より大きい場合には、図８Ａに示すように、ベース面２０ａの幅方向に隣接する二か所でトーチ１７をウィービングさせながら幅広の溶着ビード２５を形成する。このようにすれば、図８Ｂに示すように、ベース面２０ａの幅方向に隣接する二か所で溶着ビード２５が積層された積層造形物Ｗを容易に造形することができる。つまり、ウィービングによって幅広に形成される溶着ビード２５を並べることで、溶着ビード２５からなる溶着ビード層３４の幅をさらに広くすることができる。

また、上記実施形態では、母材２０の円弧状に突出するベース面２０ａに溶着ビード２５を形成する場合を例示したが、本発明は、例えば、２直線で表現できる尖った山型や多次多項式で表現可能な曲線、または曲率が徐々に変化する螺旋の一部を切り取った曲線などの凸形状のベース面に幅広の溶着ビード２５を形成する場合にも適用可能である。

以上の通り、本明細書には次の事項が開示されている。
（１） 凸形状のベース面に対して、溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを形成するトーチをウィービングさせて前記ベース面に溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
前記積層造形物を造形するために予め設定された造形計画データを読み込むデータ読み込み工程と、
読み込んだ前記造形計画データに基づいて、前記ベース面又は下層の前記溶着ビード層の上面に対して前記トーチをウィービングさせるためのウィービング経路を求めるウィービング経路算出工程と、
求めた前記ウィービング経路に沿って前記トーチの先端が通るように前記トーチをウィービングさせることで、前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面に前記トーチによって前記溶着ビードを形成するウィービング工程と、
を含む積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、積層造形物を造形するために予め設定された造形計画データに基づいて、ベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対してウィービングさせるためのウィービング経路を求める。そして、このウィービング経路に沿ってトーチの先端が通るようにトーチをウィービングさせることで、ベース面にトーチによって溶着ビードを形成する。したがって、凸形状のベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対するウィービング時におけるトーチの狙い位置のズレを極力抑制でき、ベース面又は下層の溶着ビード層の上面への溶着ビードの溶け込み量や溶着ビードの形状のばらつきを抑えつつ幅広の溶着ビードを形成し、高品質な積層造形物を製造することができる。

（２） 前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面は、上方へ膨出する円弧面からなり、前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面の曲率半径よりも前記ウィービング経路の曲率半径を大きくする（１）に記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、円弧面からなるベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対して幅広の溶着ビードを正確に積層させることができる。

（３） 前記ベース面に対して複数列の前記溶着ビードを形成する（１）又は（２）に記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、ベース面に対して複数列の溶着ビードを形成する。つまり、ウィービングによって幅広に形成される溶着ビードを並べることで、溶着ビードからなる溶着ビード層の幅をさらに広くすることができる。

（４） 前記ウィービング工程において、前記トーチの傾き及び前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面に対する間隔を一定に維持させながら前記溶着ビードを形成させる（１）から（３）のいずれか一つに記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、ベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対するトーチの傾き及び間隔を一定に維持させながらウィービングさせて溶着ビードを形成させるので、トーチのウィービングの制御を簡略にでき、しかも、溶着ビードを形状のばらつきなく形成することができる。

（５） 前記ウィービング工程において、前記トーチを前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面に対して常に法線方向に配置させて前記ベース面に対する間隔を一定に維持させながら前記溶着ビードを形成させる（１）から（３）のいずれか一つに記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、トーチをベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対して常に法線方向に配置させ、しかもベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対する間隔を一定に維持させながらウィービングさせて溶着ビードを形成させるので、ベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対して溶着ビードを形状のばらつきなくさらに高精度に形成することができる。

（６） 前記下層の溶着ビード層の上面の形状を検出するベース面形状検出工程と、
検出した前記下層の溶着ビード層の上面の形状を近似補正した補正ビード上面形状を求める補正ビード上面形状算出工程と、
をさらに含み、
前記ウィービング経路算出工程において、前記補正ビード上面形状に基づいて、前記ウィービング経路を求める（１）から（５）のいずれか一つに記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、検出した下層の溶着ビード層の上面の形状を近似補正した補正ビード上面形状に基づいてウィービング経路を求める。したがって、例えば、下層の溶着ビード層の上面が凹凸を有していても、その上面に対しても的確にトーチをウィービングさせて溶着ビードを形成し、高品質な造形物を製造することができる。

（７） 前記ウィービング経路算出工程は、前記下層の溶着ビードを形成する前記ウィービング工程を行う度に行われる（１）から（６）のいずれか一項に記載の積層造形物の製造方法。
この積層造形物の製造方法によれば、ウィービング経路算出工程は、下層の溶着ビードを形成するウィービング工程を行う度に行われるので、溶着ビードをより高精度に形成することができる。

１７ トーチ
２０ａ ベース面
２５ 溶着ビード
３４ 溶着ビード層
３４ａ 上面
３４ｂ 補正ビード上面形状
Ｍ 溶加材
Ｗ 積層造形物
Ｗｒ ウィービング経路

Claims (7)

1. 凸形状のベース面に対して、溶加材を溶融及び凝固させた溶着ビードを形成するトーチをウィービングさせて前記ベース面に溶着ビードを積層させて積層造形物を造形する積層造形物の製造方法であって、
   前記積層造形物を造形するために予め設定された造形計画データを読み込むデータ読み込み工程と、
   読み込んだ前記造形計画データに基づいて、前記ベース面又は下層の溶着ビード層の上面に対して前記トーチをウィービングさせるためのウィービング経路を求めるウィービング経路算出工程と、
   求めた前記ウィービング経路に沿って前記トーチの先端が通るように前記トーチをウィービングさせることで、前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面に前記トーチによって前記溶着ビードを形成するウィービング工程と、
   を含む積層造形物の製造方法。
2. 前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面は、上方へ膨出する円弧面からなり、前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面の曲率半径よりも前記ウィービング経路の曲率半径を大きくする請求項１に記載の積層造形物の製造方法。
3. 前記ベース面に対して複数列の前記溶着ビードを形成する請求項１又は請求項２に記載の積層造形物の製造方法。
4. 前記ウィービング工程において、前記トーチの傾き及び前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面に対する間隔を一定に維持させながら前記溶着ビードを形成させる請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の積層造形物の製造方法。
5. 前記ウィービング工程において、前記トーチを前記ベース面又は前記下層の溶着ビード層の上面に対して常に法線方向に配置させて前記ベース面に対する間隔を一定に維持させながら前記溶着ビードを形成させる請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の積層造形物の製造方法。
6. 前記下層の溶着ビード層の上面の形状を検出する形状検出工程と、
   検出した前記下層の溶着ビード層の上面の形状を近似補正した補正ビード上面形状を求める補正ビード上面形状算出工程と、
   をさらに含み、
   前記ウィービング経路算出工程において、前記補正ビード上面形状に基づいて、前記ウィービング経路を求める請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の積層造形物の製造方法。
7. 前記ウィービング経路算出工程は、前記下層の溶着ビードを形成する前記ウィービング工程を行う度に行われる請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の積層造形物の製造方法。

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