JP2019135499A - 遠赤外分光装置 - Google Patents
遠赤外分光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019135499A JP2019135499A JP2019084299A JP2019084299A JP2019135499A JP 2019135499 A JP2019135499 A JP 2019135499A JP 2019084299 A JP2019084299 A JP 2019084299A JP 2019084299 A JP2019084299 A JP 2019084299A JP 2019135499 A JP2019135499 A JP 2019135499A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- far
- infrared light
- light
- sample
- infrared
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001413 far-infrared spectroscopy Methods 0.000 title abstract description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 273
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 78
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 56
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 46
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 45
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 11
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 10
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 8
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 6
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003327 LiNbO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002146 bilateral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 2
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
Description
図1A及び図1Bは、第1実施例による遠赤外分光装置の全体構成の例を示す。一例として、遠赤外分光装置は、試料200を透過した光を用いて試料200の吸収スペクトルを測定する装置である。
図6は、第2実施例における分光装置の構成を示す。上述の実施例で説明した構成要素については、同じ符号を付して説明を省略する。図1の第1実施例との違いは、主に、(i)照明光学系150及び遠赤外光結像光学系170の構成、(ii)検出用非線形光学結晶132の配置、及び(iii)非線形光学結晶130を抜けてくる遠赤外光発生に用いたポンプ光を検出用非線形光学結晶132に導いて再利用する点である。
図9A及び図9Bは、第3実施例による遠赤外分光装置の全体構成の例を示す。図9Cは、第3実施例における試料の照射領域を示す平面図である。上述の実施例で説明した構成要素については、同じ符号を付して説明を省略する。
図10A及び図10Bは、第4実施例による遠赤外分光装置の全体構成の例を示す。図10Cは、第4実施例における試料の照射領域を示す平面図である。上述の実施例で説明した構成要素については、同じ符号を付して説明を省略する。
図11Aは、第5実施例による遠赤外分光装置の全体構成の例を示す。上述の実施例で説明した構成要素については、同じ符号を付して説明を省略する。
110 …光源
111 …QスイッチYAGレーザ
112 …レンズ
114 …偏光ビームスプリッタ
115 …ポンプ光
116 …4分の1波長板
118 …固体アンプ(増幅器ユニット)
119a …凹レンズ(熱レンズ補正レンズ)
119b …凸レンズ(熱レンズ補正レンズ)
120 …波長可変光源
121 …入射角調整光学系
122 …レンズ
123 …光偏向器
124 …結像光学素子
125 …シード光
126 …ミラー
130 …非線形光学結晶
132 …検出用非線形光学結晶
140,142 …Siプリズム
150 …照明光学系
170 …遠赤外光結像光学系
178a,178b …ステージ
200,200a,200b …試料
202,202a,202b …ステージ
Claims (3)
- 遠赤外分光装置であって、
試料を搭載するステージと、
第1の遠赤外光を発生する波長可変遠赤外光源と、
少なくとも1枚のレンズを有し、前記第1の遠赤外光を前記ステージに搭載された試料上に照射する照明光学系と、
前記試料からの第2の遠赤外光を波長変換用のポンプ光を用いて近赤外光に変換する検出用非線形光学結晶と、
前記試料の像を前記検出用非線形光学結晶に結像する遠赤外光結像光学系と、
制御部と、
を備え、
前記波長可変遠赤外光源は、
波長の異なる2つのレーザ光源と、
前記2つの光源からそれぞれ出るレーザ光を入射させる遠赤外光発生用非線形光学結晶と、を有し、
前記2つのレーザ光を前記遠赤外光発生用非線形光学結晶に照射して差周波発生あるいはパラメトリック発生により遠赤外光を発生させる構成であって、且つ、前記2つのレーザ光のうちの第1のレーザ光は、レーザ光の波長及び前記遠赤外光発生用非線形光学結晶への入射角度が可変であり、
前記制御部は、前記第1の遠赤外光の波長が変化した時の前記試料上での照射位置変化を無くすように前記ステージを移動させることを特徴とする、遠赤外分光装置。 - 請求項1記載の遠赤外光分光装置において、
前記照明光学系は、
波長可変遠赤外光源と試料の間に、前記波長可変遠赤外光源から出射された遠赤外光を平行光束にするシリンドリカルレンズと、前記平行光束となった遠赤外光を試料面に集光するレンズと、を配置してなる、
遠赤外分光装置。 - 請求項2に記載の遠赤外分光装置において、
前記波長可変遠赤外光源は、
光偏向器と、前記光偏向器の面を前記遠赤外光発生用非線形光学結晶の入射面に結像させる単一の結像光学素子と、前記結像光学素子の前側焦点面付近に入射ビームのビームウエストを形成するレンズと、からなる入射角調整光学系を備え、
前記2つのレーザ光のうちの前記第1のレーザ光はシード光としての波長可変レーザの出力光であって、
前記入射角調整光学系は、
前記光偏向器を用いて、前記第1のレーザ光であるシード光の前記遠赤外光発生用非線形結晶への入射角を調整する、遠赤外分光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019084299A JP7012045B2 (ja) | 2019-04-25 | 2019-04-25 | 遠赤外分光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019084299A JP7012045B2 (ja) | 2019-04-25 | 2019-04-25 | 遠赤外分光装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017529225A Division JP6605603B2 (ja) | 2015-07-22 | 2015-07-22 | 遠赤外分光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019135499A true JP2019135499A (ja) | 2019-08-15 |
JP7012045B2 JP7012045B2 (ja) | 2022-01-27 |
Family
ID=67623704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019084299A Active JP7012045B2 (ja) | 2019-04-25 | 2019-04-25 | 遠赤外分光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7012045B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021131014A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外分光装置、遠赤外分光方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003302666A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-24 | Inst Of Physical & Chemical Res | テラヘルツ波発生装置とその同調方法 |
JP2004108905A (ja) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Inst Of Physical & Chemical Res | テラヘルツ波を用いた差分イメージング方法及び装置 |
WO2005073795A1 (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Zaidan Hojin Handotai Kenkyu Shinkokai | 電磁波発生装置 |
JP2006084422A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Pentax Corp | 透過画像生成方法及び透過画像生成装置 |
JP2006084423A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Pentax Corp | 透過画像生成方法及び透過画像生成装置 |
JP2006102896A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-04-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 分子構造制御方法および分子構造制御装置 |
JP2010096729A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-04-30 | Ricoh Co Ltd | 分光装置 |
JP2011075583A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-04-14 | Institute Of Physical & Chemical Research | 単色波長可変型テラヘルツ波発生/検出システム及び方法 |
JP2015127699A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-07-09 | キヤノン株式会社 | 情報取得装置、及び情報取得方法 |
JP2015152405A (ja) * | 2014-02-14 | 2015-08-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 遠赤外撮像装置、および遠赤外撮像方法 |
-
2019
- 2019-04-25 JP JP2019084299A patent/JP7012045B2/ja active Active
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003302666A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-24 | Inst Of Physical & Chemical Res | テラヘルツ波発生装置とその同調方法 |
JP2004108905A (ja) * | 2002-09-18 | 2004-04-08 | Inst Of Physical & Chemical Res | テラヘルツ波を用いた差分イメージング方法及び装置 |
WO2005073795A1 (ja) * | 2004-01-29 | 2005-08-11 | Zaidan Hojin Handotai Kenkyu Shinkokai | 電磁波発生装置 |
JP2006084422A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Pentax Corp | 透過画像生成方法及び透過画像生成装置 |
JP2006084423A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-03-30 | Pentax Corp | 透過画像生成方法及び透過画像生成装置 |
JP2006102896A (ja) * | 2004-10-07 | 2006-04-20 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 分子構造制御方法および分子構造制御装置 |
JP2010096729A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-04-30 | Ricoh Co Ltd | 分光装置 |
JP2011075583A (ja) * | 2009-09-03 | 2011-04-14 | Institute Of Physical & Chemical Research | 単色波長可変型テラヘルツ波発生/検出システム及び方法 |
JP2015127699A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-07-09 | キヤノン株式会社 | 情報取得装置、及び情報取得方法 |
JP2015152405A (ja) * | 2014-02-14 | 2015-08-24 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 遠赤外撮像装置、および遠赤外撮像方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021131014A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外分光装置、遠赤外分光方法 |
JPWO2021131014A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | ||
JP7240528B2 (ja) | 2019-12-27 | 2023-03-15 | 株式会社日立ハイテク | 遠赤外分光装置、遠赤外分光方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7012045B2 (ja) | 2022-01-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6605603B2 (ja) | 遠赤外分光装置 | |
JP6324963B2 (ja) | 固体照射光源及び検査システム | |
US7898668B2 (en) | Terahertz spectrometer | |
JP6386655B2 (ja) | テラヘルツ波発生装置及びそれを用いた分光装置 | |
CN107860742B (zh) | 一种反射式太赫兹时域近场扫描显微镜 | |
US11644418B2 (en) | Far-infrared light source and far-infrared spectrometer | |
JP2012047668A (ja) | 分光測定装置、及び分光測定方法 | |
US10613026B2 (en) | Far-infrared imaging device and far-infrared imaging method | |
JP2010048721A (ja) | テラヘルツ計測装置 | |
WO2012014727A1 (ja) | 遠赤外撮像装置およびそれを用いた撮像方法 | |
JP6720383B2 (ja) | 遠赤外分光装置 | |
JP7012045B2 (ja) | 遠赤外分光装置 | |
WO2021131014A1 (ja) | 遠赤外分光装置、遠赤外分光方法 | |
CN108489613A (zh) | 一种体全息光栅型空间外差拉曼成像光谱仪光路结构 | |
WO2022185615A1 (ja) | 分光測定装置 | |
CN117949089A (zh) | 基于集成片上宽谱光源的相干光学层析成像装置及方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190425 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200226 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200331 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200601 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210702 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7012045 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |