JP2019134104A - Mounting method for plate body - Google Patents

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Masahiro Yamaguchi
正洋 山口
高橋 昭博
Akihiro Takahashi
昭博 高橋
佐藤 光晴
Mitsuharu Sato
光晴 佐藤
吉田 栄吉
Eikichi Yoshida
栄吉 吉田
近藤 幸一
Koichi Kondo
幸一 近藤
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Abstract

To enable high-density mounting.SOLUTION: A mounting method for a plate includes preparing a coated transfer body which is a transfer body coated with an adhesive that is cured by a predetermined method in an uncured liquid state (S2a), transferring the adhesive applied to the transfer body to a plate body or a mounted object (S3a), interposing the transferred adhesive between the plate body and the mounted object, and placing the plate body on the mounted object (S4), and curing the adhesive interposed between the plate body and the mounted object (S5).SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明は、板状体の実装方法に関する。   The present invention relates to a method for mounting a plate-like body.

スマートフォン、携帯電話、タブレット型コンピュータなどの携帯情報機器では、ユーザの携帯を容易にするため、携帯情報機器の小型化の要請がある。また、充電をせずに長時間の連続使用を可能とするため、携帯情報機器に実装される充電池の大型化が望まれている。さらに、近時では、IoT(Internet of Things)の普及、高機能化・多機能化の要求のため、携帯情報機器に実装されるデバイスが大幅に増加している。   In portable information devices such as smartphones, mobile phones, and tablet computers, there is a demand for miniaturization of portable information devices in order to facilitate the carrying of users. In addition, in order to enable continuous use for a long time without charging, it is desired to increase the size of a rechargeable battery mounted on a portable information device. Furthermore, recently, due to the popularization of IoT (Internet of Things) and the demand for higher functionality and multi-function, devices mounted on portable information devices are greatly increasing.

このような背景の下、携帯情報機器に採用されるデバイス、実装基板においては、デバイスの小型化、実装基板における実装の高密度化などが強く望まれている。   Under such circumstances, in devices and mounting boards employed in portable information devices, there is a strong demand for miniaturization of devices and high density mounting on mounting boards.

このような要求に応えるため、一般的に、チップ部品では、半導体集積回路の微細化による実装面積の縮小が進められてきた。しかし、微細化は限界に近付いており、平面的な実装密度の向上は困難な状況にある。   In order to meet such a demand, in general, in a chip component, the mounting area has been reduced by miniaturization of a semiconductor integrated circuit. However, miniaturization is approaching its limit, and it is difficult to improve planar mounting density.

そこで、立体的に実装密度の向上を図るべく、複数のチップ部品を積層したCoC(Chip on Chip)などが採用されている。そして、CoCにて積層するチップ部品の数を増やし、或いは積層したCoCの厚みを薄くするため、機械的又は化学的な研磨によるチップ部品の各々の薄型化が図られている。しかし、チップ部品を薄くすると、機械的な強度不足によるクラック、研磨時の残留応力に伴うチップ部品の誤作動などの問題がある。   Therefore, CoC (Chip on Chip) in which a plurality of chip components are stacked is adopted in order to improve the mounting density three-dimensionally. In order to increase the number of chip parts laminated with CoC or reduce the thickness of the laminated CoC, each chip part is thinned by mechanical or chemical polishing. However, if the chip component is made thin, there are problems such as cracks due to insufficient mechanical strength and malfunction of the chip component due to residual stress during polishing.

ところで、実装基板において一般的に、基板などの被実装物にチップ部品などの板状体が接着により実装されることがある。   By the way, generally, in a mounting substrate, a plate-like body such as a chip component may be mounted on an object to be mounted such as a substrate by adhesion.

例えば特許文献1には、EMC(Electro−Magnetic Compatibility)ノイズ遮蔽カバーの片面に接着層を設け、この面を電子部品に対向させて取り付けることが記載されている。この場合、電子部品を被実装物として、板状体であるEMCノイズ遮蔽カバーが接着されることになる。   For example, Patent Document 1 describes that an adhesive layer is provided on one surface of an EMC (Electro-Magnetic Compatibility) noise shielding cover and this surface is attached to face an electronic component. In this case, the EMC noise shielding cover, which is a plate-like body, is bonded using the electronic component as an object to be mounted.

特開2000−294975号公報JP 2000-294975 A

しかしながら、特許文献1には、接着層の厚さを薄くする技術は何ら開示されていない。そのため、特許文献1に記載の技術では、実装の高密度化の要請に応えることが困難である。   However, Patent Document 1 does not disclose any technique for reducing the thickness of the adhesive layer. Therefore, it is difficult for the technique described in Patent Document 1 to meet the demand for higher mounting density.

本発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、高密度な実装を可能とする板状体の実装方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a plate-shaped body mounting method that enables high-density mounting.

上記目的を達成するため、本発明に係る板状体の実装方法は、
予め定められた方法で硬化する接着剤が未硬化の液体の状態で塗布された転写体である塗布転写体を準備することと、
前記転写体に塗布された接着剤を板状体又は被実装物に転写することと、
前記転写された接着剤を前記板状体と前記被実装物との間に介在させて、前記板状体を前記被実装物に配置することと、
前記板状体と前記被実装物との間に介在する前記接着剤を硬化させることとを含む。
In order to achieve the above object, the mounting method of the plate-shaped body according to the present invention is as follows.
Preparing an application transfer body, which is a transfer body in which an adhesive that is cured by a predetermined method is applied in an uncured liquid state;
Transferring the adhesive applied to the transfer body to a plate-like body or an object to be mounted;
Interposing the transferred adhesive between the plate-like body and the mounted object, and arranging the plate-like body on the mounted object;
Curing the adhesive interposed between the plate-like body and the mounted object.

本発明によれば、高密度な実装が可能になる。   According to the present invention, high-density mounting is possible.

本発明の実施の形態1に係るチップ実装基板の側面図である。It is a side view of the chip mounting substrate concerning Embodiment 1 of the present invention. 実施の形態1に係るチップ実装方法に含まれる工程の流れを示すフローチャートである。4 is a flowchart showing a flow of steps included in the chip mounting method according to the first embodiment. 図3(a)は、実施の形態1に係るウェハ準備工程で準備されるウェハを示す斜視図であり、図3(b)は、ダイシング工程でウェハから個体化されたチップを示す斜視図である。3A is a perspective view showing a wafer prepared in the wafer preparation process according to the first embodiment, and FIG. 3B is a perspective view showing chips individualized from the wafer in the dicing process. is there. 実施の形態1に係る転写体の斜視図である。3 is a perspective view of a transfer body according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る塗布工程を説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a coating process according to the first embodiment. 実施の形態1に係る転写工程及び配置工程で利用されるフリップチップボンダの構成を示す正面図である。3 is a front view showing a configuration of a flip chip bonder used in a transfer process and an arrangement process according to Embodiment 1. FIG. 実施の形態1に係る転写工程を説明するため、フリップチップボンダの一部を拡大した正面図である。FIG. 5 is an enlarged front view of a part of the flip chip bonder for explaining a transfer process according to the first embodiment. 実施の形態1に係る配置工程を説明するため、フリップチップボンダの一部を拡大した正面図である。FIG. 5 is an enlarged front view of a part of the flip chip bonder for explaining the arrangement process according to the first embodiment. 実施の形態1に係る硬化工程で利用される加熱器の構成を示す正面図である。3 is a front view showing a configuration of a heater used in the curing step according to Embodiment 1. FIG. 本発明の実施の形態2に係るチップ実装方法に含まれる工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the process included in the chip | tip mounting method which concerns on Embodiment 2 of this invention. 実施の形態2に係る塗布工程及び1次転写工程で利用される塗布装置の構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure of the coating device utilized at the application | coating process and primary transfer process which concern on Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る塗布転写体の正面図である。6 is a front view of a coated transfer body according to Embodiment 2. FIG. 実施の形態2に係る2次転写工程及び配置工程で利用されるフリップチップボンダの構成を示す正面図である。10 is a front view showing a configuration of a flip chip bonder used in a secondary transfer process and an arrangement process according to Embodiment 2. FIG. 本発明の実施の形態3に係るチップ実装方法に含まれる工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the process included in the chip | tip mounting method which concerns on Embodiment 3 of this invention. 実施の形態3に係る1次転写工程及び2次転写工程で利用されるプレ転写装置の構成を示す正面図である。FIG. 10 is a front view showing a configuration of a pre-transfer apparatus used in a primary transfer process and a secondary transfer process according to Embodiment 3. 実施の形態3に係る1次転写工程及び2次転写工程を説明するため、プレ転写装置の一部を拡大した正面図である。FIG. 10 is a front view in which a part of a pre-transfer apparatus is enlarged to explain a primary transfer process and a secondary transfer process according to Embodiment 3. 実施の形態3の一変形例に係る転写体の斜視図である。FIG. 10 is a perspective view of a transfer body according to a modification of the third embodiment. 本発明の実施の形態4に係るチップ実装方法に含まれる工程の流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of the process included in the chip | tip mounting method which concerns on Embodiment 4 of this invention. 実施の形態4に係るウェハ準備工程で準備されるウェハを示す図であって、(a)は斜視図であり、(b)は側方断面図である。It is a figure which shows the wafer prepared by the wafer preparation process which concerns on Embodiment 4, Comprising: (a) is a perspective view, (b) is a sectional side view. 実施の形態4に係るダイシング工程後のウェハを示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a wafer after a dicing process according to a fourth embodiment. 実施の形態4に係る転写工程及び配置工程で利用されるフリップチップボンダの構成を示す正面図である。It is a front view which shows the structure of the flip-chip bonder utilized at the transcription | transfer process and arrangement | positioning process which concern on Embodiment 4. 実施の形態4に係る転写工程を説明するため、フリップチップボンダの一部を拡大した正面図である。FIG. 10 is an enlarged front view of a part of a flip chip bonder for explaining a transfer process according to Embodiment 4;

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。全図を通じて同一の要素には同一の符号を付す。また、本発明の実施の形態の説明及び図面では、上・下・左・右の用語を用いるが、これらは、方向を説明するために用いるのであって、本発明を限定する趣旨ではない。さらに、各図では、分かり易くするため、構成要素の縦横などの大きさの比率を変更している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The same elements are denoted by the same reference symbols throughout the drawings. In the description of the embodiments of the present invention and the drawings, the terms “up”, “down”, “left”, and “right” are used, but these are used to describe directions and are not intended to limit the present invention. Furthermore, in each figure, the ratio of the size of components, such as length and width, is changed for easy understanding.

(実施の形態1)
本発明の実施の形態1に係る板状体被実装物としてのチップ実装基板100は、側面図である図1に示すように、チップ101が極めて薄い接着層103により接着された基板102である。チップ実装基板100は、図1に示すように、チップ101と、基板102と、接着層103とを備える。
(Embodiment 1)
A chip mounting substrate 100 as a plate-shaped object to be mounted according to Embodiment 1 of the present invention is a substrate 102 to which a chip 101 is bonded by an extremely thin adhesive layer 103 as shown in FIG. 1 which is a side view. . As shown in FIG. 1, the chip mounting substrate 100 includes a chip 101, a substrate 102, and an adhesive layer 103.

チップ101は、いわゆるIC(Integrated Circuit)チップであって、シリコンなどの半導体に多数の素子が作り込まれた薄板状の電子部品である。   The chip 101 is a so-called IC (Integrated Circuit) chip, and is a thin plate-like electronic component in which a number of elements are formed in a semiconductor such as silicon.

なお、本実施の形態に係るチップ101は、薄い板状の部材である板状体の一例であって、樹脂でモールドされるなど適宜の方法でパッケージされていてもよい。また、板状体は、チップ101に限られない。板状体は、例えば、薄板状のシリコン又はセラッミクス、各種の磁性体、金属などを材料とする薄い板状の部材などであってもよい。   The chip 101 according to the present embodiment is an example of a plate-like body that is a thin plate-like member, and may be packaged by an appropriate method such as being molded with a resin. Further, the plate-like body is not limited to the chip 101. The plate-like body may be, for example, a thin plate-like member made of thin-plate silicon or ceramics, various magnetic bodies, metal, or the like.

基板102は、2つの主面を有する板である。基板102が有する2つの主面のうちの一方である上面に、チップ101が実装される。基板102には、典型的には、チップ101の他に、図示しない各種の電子部品が実装され、適宜の回路パターンが設けられる。基板102の材料は、典型的には、PCB(ポリ塩化ビフェニル)であるが、これに限られず適宜変更されてもよい。   The substrate 102 is a plate having two main surfaces. The chip 101 is mounted on the upper surface that is one of the two main surfaces of the substrate 102. Typically, in addition to the chip 101, various electronic components (not shown) are mounted on the substrate 102, and an appropriate circuit pattern is provided. The material of the substrate 102 is typically PCB (polychlorinated biphenyl), but is not limited thereto and may be changed as appropriate.

なお、本実施の形態に係る基板102は、板状体が接着される部材である被実装物の一例であって、被実装物は、基板102に限られない。被実装物は、例えば、チップなどであってもよい。   Note that the substrate 102 according to the present embodiment is an example of a mounted object that is a member to which a plate-like body is bonded, and the mounted object is not limited to the substrate 102. The mounted object may be, for example, a chip.

接着層103は、後述する接着剤108を硬化させることによって、チップ101と基板102とを接着する層である。本実施の形態に係る接着層103の厚さは、例えば、1μm(マイクロメートル)〜10μmである。図1では分かり易くするため、接着層103の厚さは、一般的なチップ101及び基板102の厚さに比べて、厚く表されている。   The adhesive layer 103 is a layer that bonds the chip 101 and the substrate 102 by curing an adhesive 108 described later. The thickness of the adhesive layer 103 according to the present embodiment is, for example, 1 μm (micrometer) to 10 μm. In FIG. 1, the thickness of the adhesive layer 103 is expressed thicker than the thickness of the general chip 101 and the substrate 102 for easy understanding.

本実施の形態に係るチップ実装基板100では、接着層103の厚さが極めて薄い。これにより、チップ101が取り付けられる基板102の上面からチップ101の上面までの上下方向の長さを小さくすることができるので、チップ実装基板100の全体的な体積を小さくすることができる。従って、高密度な実装が可能となる。   In the chip mounting substrate 100 according to the present embodiment, the thickness of the adhesive layer 103 is extremely thin. Accordingly, the vertical length from the upper surface of the substrate 102 to which the chip 101 is attached to the upper surface of the chip 101 can be reduced, so that the entire volume of the chip mounting substrate 100 can be reduced. Therefore, high-density mounting is possible.

これまで、本実施の形態に係るチップ実装基板100の構成について説明した。ここから、本実施の形態に係るチップ実装基板100を製造するための方法(チップ101の実装方法)について説明する。   So far, the configuration of the chip mounting substrate 100 according to the present embodiment has been described. From here, a method for manufacturing the chip mounting substrate 100 according to the present embodiment (a mounting method of the chip 101) will be described.

チップ101の実装方法に含まれる工程の流れを示す図2を参照する。図2に示すように、チップ101が準備される(チップ準備工程;S1a)。チップ準備工程(S1a)は、詳細には、ウェハ準備工程(S11a)とダイシング工程(S12a)とを含む。   Reference is made to FIG. 2 showing a flow of steps included in the mounting method of the chip 101. As shown in FIG. 2, a chip 101 is prepared (chip preparation step; S1a). Specifically, the chip preparation step (S1a) includes a wafer preparation step (S11a) and a dicing step (S12a).

ウェハ準備工程(S11a)では、図3(a)に示すように、多数の素子が作り込まれたウェハ104が準備される。このとき、ウェハ104は、この後に行われるダイシング時にチップ101が飛散しないように、ダイシングテープ105に保持されている。詳細には、ウェハ104は、ダイシングフレーム106に取り付けられたダイシングテープ105に載せ置かれており、ダイシングテープ105の粘着力によって保持されている。   In the wafer preparation step (S11a), as shown in FIG. 3A, a wafer 104 in which a large number of elements are fabricated is prepared. At this time, the wafer 104 is held on the dicing tape 105 so that the chips 101 are not scattered during the subsequent dicing. Specifically, the wafer 104 is placed on a dicing tape 105 attached to a dicing frame 106 and held by the adhesive force of the dicing tape 105.

ダイシング工程(S12a)では、図3(b)に示すように、ダイシングテープ105に保持された状態でウェハ104がダイシングソーで予め定められた大きさ及び形状に切り分けられる。これにより、ダイシングテープ105に保持された状態で複数のチップ101が準備される。   In the dicing step (S12a), as shown in FIG. 3B, the wafer 104 is cut into a predetermined size and shape by a dicing saw while being held on the dicing tape 105. Thereby, a plurality of chips 101 are prepared while being held on the dicing tape 105.

図2に示すように、塗布転写体107aが準備される(塗布転写体の準備工程;S2a)。塗布転写体107a(図5(e)参照)は、未硬化の液体の状態の接着剤108が塗布された転写体109aである。塗布転写体の準備工程(S2a)では、未硬化の液体の状態の接着剤108が均一な厚さで塗布された転写体109aが塗布転写体107aとして準備される。   As shown in FIG. 2, a coating transfer body 107a is prepared (preparation step of coating transfer body; S2a). The coated transfer body 107a (see FIG. 5E) is a transfer body 109a to which an adhesive 108 in an uncured liquid state is applied. In the coating transfer body preparation step (S2a), a transfer body 109a coated with an uncured liquid adhesive 108 with a uniform thickness is prepared as the coating transfer body 107a.

本実施の形態に係る接着剤108は、加圧及び加熱により硬化する。なお、接着剤108は、予め定められた方法で硬化して異なる部材を接着する物質であればよい。例えば、接着剤を硬化させる方法は、加圧及び加熱に限られず、紫外線の照射などであってもよい。   The adhesive 108 according to the present embodiment is cured by pressing and heating. The adhesive 108 may be any substance that is cured by a predetermined method and adheres different members. For example, the method of curing the adhesive is not limited to pressurization and heating, and may be irradiation with ultraviolet rays.

塗布転写体の準備工程(S2a)は、詳細には、転写体準備工程(S21a)と、塗布工程(S22a)とを含む。   The coating transfer body preparation step (S2a) includes, in detail, a transfer body preparation step (S21a) and an application step (S22a).

本実施の形態に係る転写体準備工程(S21a)では、図4に示すように、予め定められた部分に窪みを形成する凹部110を含む転写体109aが準備される。転写体109aは、例えば矩形の平板状の部材である。転写体109aの一面には、凹部110が設けられている。   In the transfer body preparation step (S21a) according to the present embodiment, as shown in FIG. 4, a transfer body 109a including a recess 110 that forms a recess in a predetermined portion is prepared. The transfer body 109a is, for example, a rectangular flat plate member. A recess 110 is provided on one surface of the transfer body 109a.

本実施の形態に係る凹部110が形成する窪みの深さ(上下方向の長さ)は、例えば1μm〜10μmである。凹部110は、上方から見て、チップ101よりも大きい。凹部110を上方から見た形状は、本実施の形態では矩形であるが、円形などに適宜変更されてもよい。転写体109の材料は、例えば、樹脂、金属などである。   The depth (length in the vertical direction) of the recess formed by the recess 110 according to the present embodiment is, for example, 1 μm to 10 μm. The recess 110 is larger than the chip 101 when viewed from above. The shape of the recess 110 viewed from above is a rectangle in the present embodiment, but may be appropriately changed to a circle or the like. The material of the transfer body 109 is, for example, resin or metal.

なお、図4では、分かり易くするため、一般的な転写体109aの厚さに比べて、凹部110が形成する窪みの深さを大きく表している。   In FIG. 4, for the sake of easy understanding, the depth of the recess formed by the recess 110 is shown larger than the thickness of the general transfer body 109a.

本実施の形態に係る塗布工程(S22a)では、液状で未硬化の接着剤108が転写体109aの凹部110に塗布される。   In the applying step (S22a) according to the present embodiment, a liquid uncured adhesive 108 is applied to the recess 110 of the transfer body 109a.

まず、図5(a)に示すように、液状で未硬化の接着剤108が転写体109aの上に滴下される。接着剤108が滴下される位置は、凹部110が設けられた転写体109aの一面であればよく、好ましくは凹部110の近傍である。接着剤108は、例えば液状で未硬化の接着剤108を保持するシリンジ(図示せず)を用いて、予め定められた量が滴下されるとよい。   First, as shown in FIG. 5A, a liquid uncured adhesive 108 is dropped onto the transfer body 109a. The position where the adhesive 108 is dropped may be on one surface of the transfer body 109 a provided with the recess 110, and is preferably in the vicinity of the recess 110. The adhesive 108 may be dropped in a predetermined amount using, for example, a syringe (not shown) that holds the liquid uncured adhesive 108.

次に、本実施の形態に係る塗布工程(S22a)では、図5(b)〜(d)に示すように、液状で未硬化の接着剤108がスキージ111によって凹部110に塗布される。   Next, in the coating step (S22a) according to the present embodiment, as shown in FIGS. 5B to 5D, the liquid uncured adhesive 108 is applied to the recess 110 by the squeegee 111.

詳細には、図5(b)に示すように、スキージ111が配置される。このとき、スキージ111は、滴下された接着剤108を挟んで凹部110から離れた位置で、その先端が転写体109aに接触するように配置される。   Specifically, as shown in FIG. 5B, a squeegee 111 is arranged. At this time, the squeegee 111 is disposed at a position away from the recess 110 with the dropped adhesive 108 interposed therebetween so that the tip of the squeegee 111 contacts the transfer body 109a.

図5(c)に示すように、スキージ111が上下方向の高さを維持して、凹部110に近づく方向へ移動する。そして、図5(d)に示すように、スキージ111は、凹部110の上方を移動する。スキージ111が凹部110の上方を通り過ぎると、図5(e)に示すように、液状で未硬化の接着剤108が凹部110に充填される。これによって、液状で未硬化の接着剤108が凹部110に平滑に塗布され、塗布転写体107aが準備される。   As shown in FIG. 5 (c), the squeegee 111 moves in a direction approaching the recess 110 while maintaining the height in the vertical direction. Then, as shown in FIG. 5 (d), the squeegee 111 moves above the recess 110. When the squeegee 111 passes over the concave portion 110, the concave portion 110 is filled with the liquid uncured adhesive 108 as shown in FIG. As a result, the liquid and uncured adhesive 108 is smoothly applied to the recesses 110 to prepare a coated transfer body 107a.

なお、図5では、分かり易くするため、一般的な転写体109の厚さに比べて、凹部110が形成する窪みの深さを大きく表しており、後に参照する図6、7、15及び16でも同様である。また、図5(c)〜(e)に示す凹部110においてハッチングが施された部分は、液状で未硬化の接着剤108が塗布された部分を表しており、後に参照する図6、7、15及び16でも同様である。   In FIG. 5, for the sake of clarity, the depth of the recess formed by the recess 110 is shown larger than the thickness of a general transfer body 109. FIGS. 6, 7, 15 and 16 to be referred to later. But the same is true. 5 (c) to 5 (e), the hatched portion represents a portion to which the liquid uncured adhesive 108 is applied, which will be described later with reference to FIGS. The same applies to 15 and 16.

図2に示すように、塗布転写体107aの接着剤108がチップ101に転写され(転写工程;S3a)、接着剤108が転写されたチップ101が基板102に配置される(配置工程;S4)。   As shown in FIG. 2, the adhesive 108 of the coating transfer body 107a is transferred to the chip 101 (transfer process; S3a), and the chip 101 to which the adhesive 108 has been transferred is placed on the substrate 102 (placement process; S4). .

本実施の形態に係る転写工程(S3a)と配置工程(S4)とは、例えば、正面図である図6に示すフリップチップボンダ112aを用いて行われる。   The transfer step (S3a) and the placement step (S4) according to the present embodiment are performed using, for example, a flip chip bonder 112a shown in FIG. 6 which is a front view.

本実施の形態に係るフリップチップボンダ112aは、図6に示すように、第1設置領域113と、第2設置領域114と、第3設置領域115と、マウントツール116と、第1移動機構117とを備える。   As shown in FIG. 6, the flip chip bonder 112a according to the present embodiment includes a first installation area 113, a second installation area 114, a third installation area 115, a mount tool 116, and a first moving mechanism 117. With.

第1設置領域113は、チップ準備工程(S1a)で準備された複数のチップ101、すなわち、ダイシングテープ105に保持された複数のチップ101が設置される領域である。   The first installation area 113 is an area where the plurality of chips 101 prepared in the chip preparation step (S1a), that is, the plurality of chips 101 held on the dicing tape 105 are installed.

なお、第1設置領域113には、本実施の形態とは異なり、第1設置領域113に1つのチップ101が設置されてもよく、適宜のトレイに載せ置かれてチップ101が設置されてもよい。   Note that, unlike the present embodiment, one chip 101 may be installed in the first installation area 113, or the chip 101 may be installed on an appropriate tray. Good.

第2設置領域114は、塗布転写体の準備工程(S2a)で準備された塗布転写体107aが設置される領域である。   The second installation area 114 is an area in which the coating transfer body 107a prepared in the coating transfer body preparation step (S2a) is installed.

第3設置領域115は、基板102が設置される領域である。基板102は、チップ101が実装される基板であって、その実装箇所は、適宜予め定められている。   The third installation area 115 is an area where the substrate 102 is installed. The board | substrate 102 is a board | substrate with which the chip | tip 101 is mounted, The mounting location is predetermined suitably.

マウントツール116は、チップ101を搬送するための器具である。本実施の形態に係るマウントツール116は、吸着によってチップ101を保持して搬送し、チップ101を基板上に配置する。   The mount tool 116 is an instrument for transporting the chip 101. The mounting tool 116 according to the present embodiment holds and conveys the chip 101 by suction, and places the chip 101 on the substrate.

第1移動機構117は、マウントツール116を移動させるための機構である。本実施の形態に係る第1移動機構117は、第1設置領域113、第2設置領域114及び第3設置領域115の上方でマウントツール116を移動させる。   The first moving mechanism 117 is a mechanism for moving the mount tool 116. The first moving mechanism 117 according to the present embodiment moves the mounting tool 116 above the first installation area 113, the second installation area 114, and the third installation area 115.

転写工程(S3a)では、図7(a)に示すように、マウントツール116が複数のチップ101のうちの1つを保持する。詳細には、マウントツール116は、複数のチップ101のうちの1つに先端を接触させる。マウントツール116は、先端が接触したチップ101を吸着することによって保持した後に、上方へ移動する。   In the transfer step (S3a), as shown in FIG. 7A, the mount tool 116 holds one of the plurality of chips 101. Specifically, the mount tool 116 makes the tip contact with one of the plurality of chips 101. The mounting tool 116 moves upward after holding the chip 101 with its tip in contact by suction.

チップ101を保持したマウントツール116は、右方へ移動して、塗布転写体107aに含まれる接着剤108の上方に位置付けられる。その後、マウントツール116は、図7(b)に示すように、チップ101の下面が、転写体109aの凹部110に塗布された接着剤108に接触するまで下方へ移動する。   The mounting tool 116 holding the chip 101 moves to the right and is positioned above the adhesive 108 included in the coating transfer body 107a. Thereafter, as shown in FIG. 7B, the mount tool 116 moves downward until the lower surface of the chip 101 contacts the adhesive 108 applied to the recess 110 of the transfer body 109a.

チップ101の下面が接着剤108に接触すると、マウントツール116は、図7(c)に示すように上方へ移動する。これにより、転写体109aの凹部110に塗布された液状で未硬化の接着剤108の一部又はそのほとんどが、チップ101の下面に移動する。   When the lower surface of the chip 101 comes into contact with the adhesive 108, the mount tool 116 moves upward as shown in FIG. As a result, a part or most of the liquid uncured adhesive 108 applied to the recess 110 of the transfer body 109 a moves to the lower surface of the chip 101.

このように、転写体109aの凹部110に塗布された液状で未硬化の接着剤108にチップ101の下面を接触させることによって、当該接着剤108がチップ101の下面に転写される。   In this way, the adhesive 108 is transferred to the lower surface of the chip 101 by bringing the lower surface of the chip 101 into contact with the liquid uncured adhesive 108 applied to the recess 110 of the transfer body 109a.

チップ101に転写される接着剤108の厚さは、凹部110が形成する窪みの寸法、チップ101の下面を接着剤108に押し付ける力などを調整することで制御することができる。チップ101に転写される接着剤108の厚さは、例えば1μm〜10μmである。   The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 can be controlled by adjusting the size of the recess formed by the recess 110, the force pressing the lower surface of the chip 101 against the adhesive 108, and the like. The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 is, for example, 1 μm to 10 μm.

配置工程(S4)では、マウントツール116は、図8(a)に示すように、接着剤108が転写されたチップ101を保持した状態で移動し、当該チップ101を基板102の実装箇所に配置する。   In the placement step (S4), the mounting tool 116 moves while holding the chip 101 to which the adhesive 108 has been transferred, as shown in FIG. 8A, and places the chip 101 on the mounting position of the substrate 102. To do.

そして、マウントツール116は、吸着を停止して、図8(b)に示すように上方へ移動する。これにより、チップ101に転写された接着剤108を当該チップ101と基板102との間に介在させて、当該チップ101が当該基板102に配置される。   Then, the mount tool 116 stops sucking and moves upward as shown in FIG. Thereby, the chip 101 is disposed on the substrate 102 with the adhesive 108 transferred to the chip 101 interposed between the chip 101 and the substrate 102.

なお、本実施の形態では、未硬化の液状の状態の接着剤108がチップ101に転写される例により説明したが、未硬化の液状の状態の接着剤108は基板上に予め定められた実装箇所に転写されてもよい。この場合例えば、接着剤108が転写された基板102の実装箇所にチップ101が配置されるとよい。   In this embodiment, the example in which the uncured liquid state adhesive 108 is transferred to the chip 101 has been described. However, the uncured liquid state adhesive 108 is mounted on the substrate in advance. It may be transferred to a location. In this case, for example, the chip 101 may be disposed at the mounting position of the substrate 102 onto which the adhesive 108 has been transferred.

図2に示すように、チップ101と基板102との間に介在する接着剤108が硬化させられる(硬化工程;S5)。硬化工程(S5)は、例えば、正面図である図9に示す加熱器118を利用して行われる。加熱器118の内部では、基板102が基板設置台119の上に載せ置かれ、チップ101が加圧部材120によって、上方から予め定められた力で押されている。この状態で、加熱器118は、接着剤108を挟んだチップ101と基板102とを加熱する。この加熱の温度及び時間は、それぞれ、接着剤108の性質、チップ101及び基板102の耐熱性などに応じて適宜定められるとよい。   As shown in FIG. 2, the adhesive 108 interposed between the chip 101 and the substrate 102 is cured (curing step; S5). The curing step (S5) is performed using, for example, the heater 118 shown in FIG. 9 which is a front view. Inside the heater 118, the substrate 102 is placed on the substrate mounting table 119, and the chip 101 is pushed by the pressing member 120 from above with a predetermined force. In this state, the heater 118 heats the chip 101 and the substrate 102 sandwiching the adhesive 108. The heating temperature and time may be appropriately determined according to the properties of the adhesive 108 and the heat resistance of the chip 101 and the substrate 102, respectively.

なお、フリップチップボンダ112aが加熱器118の機能を備えてもよい。この場合の硬化工程(S5)では、例えば、加熱したマウントツール116によりチップ101を下方へ押圧した状態でフリップチップボンダ112aの中の温度を上昇させるとよい。これによっても、接着剤108を挟んだチップ101と基板102とを加熱することができる。   Note that the flip chip bonder 112 a may have the function of the heater 118. In the curing step (S5) in this case, for example, the temperature in the flip chip bonder 112a may be raised while the chip 101 is pressed downward by the heated mount tool 116. Also by this, the chip 101 and the substrate 102 sandwiching the adhesive 108 can be heated.

硬化工程(S5)が行われることにより、未硬化の液状の状態であった接着剤が硬化し、チップ101は接着層103によって基板102に固定される。すなわち、チップ101が基板102に実装されて、図1に示すチップ実装基板100が製造される。   By performing the curing step (S <b> 5), the adhesive that has been in an uncured liquid state is cured, and the chip 101 is fixed to the substrate 102 by the adhesive layer 103. That is, the chip 101 is mounted on the substrate 102, and the chip mounting substrate 100 shown in FIG. 1 is manufactured.

本実施の形態によれば、転写体109aに接着剤108を塗布することにより塗布転写体107aが準備される(塗布転写体の準備工程;S2a)。そして、塗布転写体107aに含まれる接着剤108がチップ101に転写される(転写工程;S3a)。これにより、未硬化の液体の状態の接着剤108を極めて薄い厚さでチップ101に付着させることができる。その後、このチップ101を基板102に配置して接着剤108を硬化させること(S4及びS5)によって、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を製造することができる。従って、高密度な実装が可能になる。   According to the present embodiment, the coated transfer body 107a is prepared by applying the adhesive 108 to the transfer body 109a (preparation process of coated transfer body; S2a). Then, the adhesive 108 contained in the coating transfer body 107a is transferred to the chip 101 (transfer process; S3a). As a result, the adhesive 108 in an uncured liquid state can be attached to the chip 101 with a very thin thickness. Thereafter, the chip 101 is placed on the substrate 102 and the adhesive 108 is cured (S4 and S5), whereby the chip mounting substrate 100 with the extremely thin adhesive layer 103 can be manufactured. Therefore, high-density mounting is possible.

また本実施の形態によれば、塗布転写体の準備工程(S2a)では、未硬化の液体の状態の接着剤108が均一な厚さで塗布された転写体109aが塗布転写体107aとして準備される。これによって、転写工程(S3a)において接着剤108をチップ101に均一な厚さで転写することができる。その後、このチップ101を基板102に配置して接着剤108を硬化させるので(S4及びS5)、均一に分布した接着剤108によってチップ101を基板102に安定して確実に固定することができる。従って、安定した実装が可能になる。   Further, according to the present embodiment, in the coating transfer body preparation step (S2a), the transfer body 109a coated with an uncured liquid adhesive 108 with a uniform thickness is prepared as the coating transfer body 107a. The Accordingly, the adhesive 108 can be transferred to the chip 101 with a uniform thickness in the transfer step (S3a). Thereafter, since the chip 101 is disposed on the substrate 102 and the adhesive 108 is cured (S4 and S5), the chip 101 can be stably and reliably fixed to the substrate 102 by the uniformly distributed adhesive 108. Therefore, stable mounting is possible.

さらに本実施の形態によれば、接着剤108が転写体109aの凹部110に塗布された塗布転写体107aが準備される(塗布転写体の準備工程;S2a)。そして、塗布転写体107aに含まれる接着剤108がチップ101に転写される(転写工程;S3a)。   Further, according to the present embodiment, the coated transfer body 107a in which the adhesive 108 is applied to the concave portion 110 of the transfer body 109a is prepared (preparation process of coated transfer body; S2a). Then, the adhesive 108 contained in the coating transfer body 107a is transferred to the chip 101 (transfer process; S3a).

これにより、未硬化の液体の状態の接着剤108を極めて薄い均一な厚さでチップ101に付着させることができる。その後、このチップ101を基板102に配置して接着剤108を硬化させる(S4及びS5)。そのため、極めて薄く均一に分布した接着剤108によってチップ101を基板102に安定して確実に固定することができる。その結果、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を安定して製造することができる。従って、安定した高密度な実装が可能になる。   As a result, the adhesive 108 in an uncured liquid state can be attached to the chip 101 with a very thin uniform thickness. Thereafter, the chip 101 is placed on the substrate 102 to cure the adhesive 108 (S4 and S5). Therefore, the chip 101 can be stably and reliably fixed to the substrate 102 by the adhesive 108 that is extremely thin and uniformly distributed. As a result, it is possible to stably manufacture the chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 is extremely thin. Therefore, stable and high-density mounting is possible.

さらに本実施の形態によれば、転写工程(S3a)において接着剤108は1μm〜10μmの厚さでチップ101に転写される。そのため、後続する配置工程(S4)及び硬化工程(S5)では、未硬化の液体の状態の接着剤108が1μm〜10μmの極めて薄い厚さで付着したチップ101を基板102に配置して接着剤108を硬化させることになる。これにより、接着層103の厚さが1μm〜10μm程度の極めて薄いチップ実装基板100を製造することができる。従って、高密度な実装が可能になる。   Furthermore, according to the present embodiment, the adhesive 108 is transferred to the chip 101 with a thickness of 1 μm to 10 μm in the transfer step (S3a). Therefore, in the subsequent arrangement step (S4) and curing step (S5), the chip 101 to which the uncured liquid state adhesive 108 is attached to the substrate 102 with an extremely thin thickness of 1 μm to 10 μm is disposed on the substrate 102. 108 will be cured. Thereby, it is possible to manufacture a very thin chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 has a thickness of about 1 μm to 10 μm. Therefore, high-density mounting is possible.

なお、未硬化の液体の状態の接着剤108の粘度は、適宜選択されてよく、粘度を適宜選択することによって転写される割合を制御することができる。例えば、未硬化の液体の状態の接着剤108の粘度は、摂氏25度において50Pa・s(パスカル秒)以下が好ましい。   The viscosity of the adhesive 108 in an uncured liquid state may be selected as appropriate, and the transfer ratio can be controlled by appropriately selecting the viscosity. For example, the viscosity of the adhesive 108 in an uncured liquid state is preferably 50 Pa · s (Pascal second) or less at 25 degrees Celsius.

このような粘度の接着剤108を選択することによって、例えば1μm〜10μmの極めて薄い厚さで接着剤108をチップ101に転写することが容易になる。これにより、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を容易に製造することができる。従って、高密度な実装を容易にすることが可能になる。   By selecting the adhesive 108 having such a viscosity, it becomes easy to transfer the adhesive 108 to the chip 101 with a very thin thickness of, for example, 1 μm to 10 μm. Thereby, the chip mounting substrate 100 in which the thickness of the adhesive layer 103 is extremely thin can be easily manufactured. Therefore, it becomes possible to facilitate high-density mounting.

なお、未硬化の液体の状態の接着剤108に含まれるフィラーの粒径は、適宜選択されてよい。例えば、未硬化の液体の状態の接着剤108に含まれるフィラーの粒径は、1μm以下であることが好ましい。   The particle size of the filler contained in the uncured liquid adhesive 108 may be selected as appropriate. For example, the particle size of the filler contained in the adhesive 108 in an uncured liquid state is preferably 1 μm or less.

粒径が1μm以下のフィラーを含む接着剤108を選択することによって、例えば1μm〜10μmの極めて薄い厚さで接着剤108をチップ101に転写することが容易になる。これにより、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を容易に製造することができる。従って、高密度な実装を容易にすることが可能になる。   By selecting the adhesive 108 containing a filler having a particle size of 1 μm or less, it becomes easy to transfer the adhesive 108 to the chip 101 with a very thin thickness of, for example, 1 μm to 10 μm. Thereby, the chip mounting substrate 100 in which the thickness of the adhesive layer 103 is extremely thin can be easily manufactured. Therefore, it becomes possible to facilitate high-density mounting.

(実施の形態2)
実施の形態1では、転写体109aの凹部110に塗布された接着剤108をチップ101に転写してチップ実装基板100を製造する例により説明した。本実施の形態では、転写体の凸部に塗布された接着剤108をチップ101に転写してチップ実装基板100を製造する例を説明する。
(Embodiment 2)
In the first embodiment, the example in which the chip mounting substrate 100 is manufactured by transferring the adhesive 108 applied to the concave portion 110 of the transfer body 109a to the chip 101 has been described. In the present embodiment, an example in which the chip mounting substrate 100 is manufactured by transferring the adhesive 108 applied to the convex portion of the transfer body onto the chip 101 will be described.

なお、本実施の形態に係るチップ実装基板100は、実施の形態1に係るチップ実装基板100(図1参照)と同じである。そのため、本実施の形態に特徴的なチップ101の実装方法について説明する。   The chip mounting substrate 100 according to the present embodiment is the same as the chip mounting substrate 100 according to the first embodiment (see FIG. 1). Therefore, a mounting method of the chip 101 that is characteristic of the present embodiment will be described.

本実施の形態に係るチップ101の実装方法では、図10に示すように、実施の形態1と同様のチップ準備工程(S1a)の後に、塗布転写体の準備工程(S2b)と転写工程(S3b)が行われる。   In the mounting method of the chip 101 according to the present embodiment, as shown in FIG. 10, after the chip preparation step (S1a) similar to that of the first embodiment, the coating transfer body preparation step (S2b) and the transfer step (S3b). ) Is performed.

塗布転写体の準備工程(S2b)は、実施の形態1に係る塗布転写体の準備工程(S2a)と同様に、未硬化の液体の状態の接着剤108が均一な厚さで塗布された転写体109bを塗布転写体107bとして準備する工程である。塗布転写体の準備工程(S2b)は、詳細には、転写体準備工程(S21b)と、塗布工程(S22b)とを含む。   In the coating transfer body preparation step (S2b), similarly to the coating transfer body preparation step (S2a) according to the first embodiment, the transfer in which the adhesive 108 in an uncured liquid state is applied with a uniform thickness is performed. This is a step of preparing the body 109b as the coating transfer body 107b. The coating transfer body preparation step (S2b) includes, in detail, a transfer body preparation step (S21b) and an application step (S22b).

本実施の形態に係る転写体準備工程(S21b)では、図11に示すように、予め定められた部分に突き出た面を形成する凸部121を含む転写体109bが準備される。   In the transfer body preparation step (S21b) according to the present embodiment, as shown in FIG. 11, a transfer body 109b including a convex portion 121 that forms a surface protruding from a predetermined portion is prepared.

本実施の形態に係る転写体109bは、回転軸を中心に回転するローラであり、例えば樹脂製である。転写体109bには、回転軸方向に延びる突条が凸部121として外周面に設けられている。すなわち、凸部121は、回転軸方向から見て、半径方向の外方に突き出た面を形成する。本実施の形態では2つの凸部121が、回転軸方向から見て対称な位置に設けられている。   The transfer body 109b according to the present embodiment is a roller that rotates about a rotation axis, and is made of, for example, resin. On the transfer body 109b, protrusions extending in the rotation axis direction are provided as convex portions 121 on the outer peripheral surface. That is, the convex portion 121 forms a surface protruding outward in the radial direction when viewed from the rotation axis direction. In the present embodiment, the two convex portions 121 are provided at symmetrical positions when viewed from the rotation axis direction.

本実施の形態に係る塗布工程(S22b)は、例えば、正面図である図11に示す塗布装置122を用いて行われる。塗布装置122は、転写体109bに加えて、第1ローラ123と、第2ローラ124と、第3ローラ125と、転写版設置台126とを備える。   The coating process (S22b) according to the present embodiment is performed using, for example, a coating apparatus 122 shown in FIG. 11 which is a front view. The coating device 122 includes a first roller 123, a second roller 124, a third roller 125, and a transfer plate setting table 126 in addition to the transfer body 109b.

第1ローラ123、第2ローラ124及び第3ローラ125の各々は、転写体109bの回転軸と平行な回転軸を中心に回転するローラであり、例えば樹脂製である。第1ローラ123と第2ローラ124とは、外周面が回転軸方向に互いに接触するように設けられている。第2ローラ124及び第3ローラ125とは、外周面が回転軸方向に互いに接触するように設けられている。第3ローラ125と転写体109bとは、それぞれの外周面と凸部121が形成する突き出た面とが回転軸方向に互いに接触するように設けられている。   Each of the first roller 123, the second roller 124, and the third roller 125 is a roller that rotates around a rotation axis parallel to the rotation axis of the transfer body 109b, and is made of, for example, resin. The first roller 123 and the second roller 124 are provided such that their outer peripheral surfaces are in contact with each other in the rotation axis direction. The second roller 124 and the third roller 125 are provided such that their outer peripheral surfaces are in contact with each other in the rotation axis direction. The third roller 125 and the transfer body 109b are provided such that their outer peripheral surfaces and the protruding surfaces formed by the convex portions 121 are in contact with each other in the rotation axis direction.

転写版設置台126は、転写版127が設置される台である。転写版設置台126に設置される転写版127は、樹脂などで作られた転写用の器具であり、その上面が転写体109bの凸部121が形成する突き出た面と接触するように設置されている。   The transfer plate installation table 126 is a table on which the transfer plate 127 is installed. The transfer plate 127 installed on the transfer plate mounting table 126 is a transfer device made of resin or the like, and is installed so that the upper surface thereof is in contact with the protruding surface formed by the convex portion 121 of the transfer body 109b. ing.

本実施の形態に係る塗布工程(S22b)では、液状で未硬化の接着剤108が転写体109bの凸部121に塗布される。   In the coating step (S22b) according to the present embodiment, the liquid and uncured adhesive 108 is applied to the convex portion 121 of the transfer body 109b.

本実施の形態では、まず、例えば刷毛、シリンジなどを用いて第1ローラ123の外周面に未硬化の液体の状態の接着剤108が塗布される。図11に矢印で示すように、第1ローラ123と第3ローラ125とを左回りで回転させ、第2ローラ124と転写体109bとを右回りで回転させる。これにより、第1ローラ123に塗布された接着剤108は、第2ローラ124、第3ローラに順次塗布される。複数のローラ123〜125に順次塗布することによって外周面に塗布される接着剤108の厚さが平滑化される。   In the present embodiment, first, the uncured liquid adhesive 108 is applied to the outer peripheral surface of the first roller 123 using, for example, a brush or a syringe. As shown by arrows in FIG. 11, the first roller 123 and the third roller 125 are rotated counterclockwise, and the second roller 124 and the transfer body 109b are rotated clockwise. As a result, the adhesive 108 applied to the first roller 123 is sequentially applied to the second roller 124 and the third roller. By sequentially applying to the plurality of rollers 123 to 125, the thickness of the adhesive 108 applied to the outer peripheral surface is smoothed.

そして、接着剤108は、第3ローラから転写体109bの凸部121が形成する突き出た面に平滑に塗布される。これにより、正面図である図12に示すように、未硬化の液体の状態の接着剤108が塗布された転写体109bである塗布転写体107bが準備される。   Then, the adhesive 108 is smoothly applied to the protruding surface formed by the convex portion 121 of the transfer body 109b from the third roller. As a result, as shown in FIG. 12, which is a front view, a coated transfer body 107b, which is a transfer body 109b coated with an uncured adhesive 108, is prepared.

図10を参照して、転写工程(S3b)は、塗布転写体107bの接着剤108をチップ101に転写する工程である。本実施の形態に係る転写工程(S3b)は、詳細には、1次転写工程(S31b)と2次転写工程(S32b)とを含む。   Referring to FIG. 10, the transfer step (S3b) is a step of transferring the adhesive 108 of the coating transfer body 107b to the chip 101. The transfer process (S3b) according to the present embodiment includes a primary transfer process (S31b) and a secondary transfer process (S32b) in detail.

1次転写工程(S31b)は、未硬化の液体の状態の接着剤108を転写版127に転写する工程である。   The primary transfer step (S31b) is a step of transferring the adhesive 108 in an uncured liquid state onto the transfer plate 127.

本実施の形態に係る1次転写工程(S31b)は、図11を参照して上述した塗布装置122を利用して行われる。上述の通り、塗布装置122の転写版設置台126には、転写版127の上面と転写体109bの凸部121が形成する突き出た面とが接触するように転写版127が設置されている。そのため、未硬化の液体の状態の接着剤108が塗布された転写体109bが回転すると、凸部121に塗布された接着剤108が転写版127の上面に転写される(1次転写)。   The primary transfer step (S31b) according to the present embodiment is performed using the coating apparatus 122 described above with reference to FIG. As described above, the transfer plate 127 is installed on the transfer plate mounting table 126 of the coating device 122 so that the upper surface of the transfer plate 127 and the protruding surface formed by the convex portion 121 of the transfer body 109b are in contact with each other. Therefore, when the transfer body 109b applied with the uncured liquid state adhesive 108 is rotated, the adhesive 108 applied to the convex portion 121 is transferred to the upper surface of the transfer plate 127 (primary transfer).

図10を参照して、2次転写工程(S32b)は、未硬化の液体の状態の接着剤108を転写版127からチップ101に転写する工程である。   Referring to FIG. 10, the secondary transfer step (S32b) is a step of transferring adhesive 108 in an uncured liquid state from transfer plate 127 to chip 101.

本実施の形態に係る2次転写工程(S32b)は、正面図である図13に示すように、実施の形態1に係るフリップチップボンダ112aと同様の構成を備えるフリップチップボンダ112bを用いて行われる。本実施の形態では、フリップチップボンダ112bの第2設置領域114に、1次転写によって未硬化の液体の状態の接着剤108が転写された転写版127が設置される。   The secondary transfer step (S32b) according to the present embodiment is performed using a flip chip bonder 112b having the same configuration as the flip chip bonder 112a according to the first embodiment, as shown in FIG. Is called. In the present embodiment, the transfer plate 127 onto which the adhesive 108 in an uncured liquid state is transferred by primary transfer is installed in the second installation region 114 of the flip chip bonder 112b.

なお、図13では、分かり易くするため、一般的な転写版127の大きさに比べて、転写された接着剤108の厚さを大きく表している。   In FIG. 13, the thickness of the transferred adhesive 108 is shown larger than the size of a general transfer plate 127 for easy understanding.

フリップチップボンダ112bは、実施の形態1と同様に動作する。   The flip chip bonder 112b operates in the same manner as in the first embodiment.

すなわち、2次転写工程(S32b)では、実施の形態1と同様に、マウントツール116が複数のチップ101のうちの1つを保持する。   That is, in the secondary transfer step (S32b), the mount tool 116 holds one of the plurality of chips 101 as in the first embodiment.

そして、マウントツール116は、保持しているチップ101の下面が、転写版127に転写された接着剤108に接触するように移動する。このとき、マウントツール116は、予め定められた圧力で、チップ101の下面を接着剤108に押し付けてもよい。   Then, the mount tool 116 moves so that the lower surface of the chip 101 held in contact with the adhesive 108 transferred to the transfer plate 127. At this time, the mounting tool 116 may press the lower surface of the chip 101 against the adhesive 108 with a predetermined pressure.

これにより、転写版127に転写された液状で未硬化の接着剤108の一部又はそのほとんどが、チップ101の下面に移動する。   Thereby, a part or most of the liquid uncured adhesive 108 transferred to the transfer plate 127 moves to the lower surface of the chip 101.

このように、転写版127に転写された液状で未硬化の接着剤108にチップ101の下面を接触させることによって、当該接着剤108がチップ101の下面に転写される(2次転写)。   Thus, the adhesive 108 is transferred to the lower surface of the chip 101 by making the lower surface of the chip 101 contact the liquid uncured adhesive 108 transferred to the transfer plate 127 (secondary transfer).

チップ101に転写される接着剤108の厚さは、第1ローラ123に塗布する接着剤108の量、ローラ123〜125の構成、凸部121の硬さ、チップ101の下面を接着剤108に押し付ける力などを調整することで制御することができる。ローラ123〜125の構成とは、転写体109bに転写するまでに介在するローラ123〜125の数、互いに接触する外周面間に掛かる力の大きさ、ローラ123〜125の外周面の硬さなどである。チップ101に転写される接着剤108の厚さは、例えば1μm〜10μmである。   The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 is the amount of the adhesive 108 applied to the first roller 123, the configuration of the rollers 123 to 125, the hardness of the convex portion 121, and the lower surface of the chip 101 to the adhesive 108. It can be controlled by adjusting the pressing force. The configurations of the rollers 123 to 125 include the number of rollers 123 to 125 that are interposed before transferring to the transfer body 109b, the magnitude of the force applied between the outer peripheral surfaces that are in contact with each other, the hardness of the outer peripheral surfaces of the rollers 123 to 125, and the like. It is. The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 is, for example, 1 μm to 10 μm.

その後、図10に示すように、フリップチップボンダ112bを用いて実施の形態1と同様の配置工程(S4)が行われる。すなわち、マウントツール116が、接着剤108が転写されたチップ101を保持した状態で移動し、当該チップ101を基板102の実装箇所に配置する。そして、硬化工程(S5)が行われることによってチップ101が基板102に実装されて、図1に示すチップ実装基板100が製造される。   Thereafter, as shown in FIG. 10, the same arrangement step (S4) as that of the first embodiment is performed using the flip chip bonder 112b. That is, the mounting tool 116 moves while holding the chip 101 to which the adhesive 108 has been transferred, and places the chip 101 on the mounting position of the substrate 102. And the chip | tip 101 is mounted in the board | substrate 102 by performing a hardening process (S5), and the chip mounting board | substrate 100 shown in FIG. 1 is manufactured.

本実施の形態によれば、転写体109bに接着剤108を塗布することにより塗布転写体107bが準備される(塗布転写体の準備工程;S2b)。そして、塗布転写体107bに含まれる接着剤108がチップ101に転写される(転写工程;S3b)。そのため、実施の形態1と同様に、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を製造することができる。従って、高密度な実装が可能になる。   According to the present embodiment, the application transfer body 107b is prepared by applying the adhesive 108 to the transfer body 109b (preparation step of application transfer body; S2b). Then, the adhesive 108 contained in the coating transfer body 107b is transferred to the chip 101 (transfer process; S3b). Therefore, similarly to the first embodiment, the chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 is extremely thin can be manufactured. Therefore, high-density mounting is possible.

また本実施の形態によれば、塗布転写体の準備工程(S2b)では、未硬化の液体の状態の接着剤108が均一な厚さで塗布された転写体109bが塗布転写体107bとして準備される。これによって、転写工程(S3b)において接着剤108をチップ101に均一な厚さで転写することができる。そのため、実施の形態1と同様に、均一に分布した接着剤108によってチップ101を基板102に安定して確実に固定することができる。従って、安定した実装が可能になる。   Further, according to the present embodiment, in the coated transfer body preparation step (S2b), the transfer body 109b to which the uncured liquid state adhesive 108 is coated with a uniform thickness is prepared as the coated transfer body 107b. The Thus, the adhesive 108 can be transferred to the chip 101 with a uniform thickness in the transfer step (S3b). Therefore, as in the first embodiment, the chip 101 can be stably and reliably fixed to the substrate 102 by the uniformly distributed adhesive 108. Therefore, stable mounting is possible.

さらに本実施の形態によれば、接着剤108が転写体109bの凸部121に塗布された塗布転写体107が準備される(塗布転写体の準備工程;S2b)。そして、塗布転写体107bに含まれる接着剤108がチップ101に転写される(転写工程;S3b)。   Further, according to the present embodiment, the coated transfer body 107 in which the adhesive 108 is applied to the convex portion 121 of the transfer body 109b is prepared (preparation process of coated transfer body; S2b). Then, the adhesive 108 contained in the coating transfer body 107b is transferred to the chip 101 (transfer process; S3b).

これにより、未硬化の液体の状態の接着剤108を極めて薄い均一な厚さでチップ101に付着させることができる。そのため、実施の形態1と同様に、極めて薄く均一に分布した接着剤108によってチップ101を基板102に安定して確実に固定することができる。その結果、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を安定して製造することができる。従って、安定した高密度な実装が可能になる。   As a result, the adhesive 108 in an uncured liquid state can be attached to the chip 101 with a very thin uniform thickness. Therefore, as in the first embodiment, the chip 101 can be stably and reliably fixed to the substrate 102 by the adhesive 108 that is extremely thin and uniformly distributed. As a result, it is possible to stably manufacture the chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 is extremely thin. Therefore, stable and high-density mounting is possible.

さらに本実施の形態によれば、転写工程(S3b)において接着剤108は1μm〜10μmの厚さでチップ101に転写される。そのため、実施の形態1と同様に、接着層103の厚さが1μm〜10μm程度の極めて薄いチップ実装基板100を製造することができる。従って、高密度な実装が可能になる。   Further, according to the present embodiment, the adhesive 108 is transferred to the chip 101 with a thickness of 1 μm to 10 μm in the transfer step (S3b). Therefore, as in the first embodiment, an extremely thin chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 has a thickness of about 1 μm to 10 μm can be manufactured. Therefore, high-density mounting is possible.

(実施の形態3)
実施の形態1では、転写体109aの凹部110に塗布された接着剤108をチップ101に直接転写してチップ実装基板100を製造する例により説明した。本実施の形態では、パッド及び実施の形態2と同様の転写版127を介して、転写体109aの凹部110に塗布された接着剤108をチップ101に転写してチップ実装基板100を製造する例を説明する。
(Embodiment 3)
In the first embodiment, the example in which the chip mounting substrate 100 is manufactured by directly transferring the adhesive 108 applied to the concave portion 110 of the transfer body 109a to the chip 101 has been described. In this embodiment, the chip mounting substrate 100 is manufactured by transferring the adhesive 108 applied to the concave portion 110 of the transfer body 109a to the chip 101 through the pad and the transfer plate 127 similar to that of the second embodiment. Will be explained.

なお、本実施の形態に係るチップ実装基板100は、実施の形態1に係るチップ実装基板100(図1参照)と同じである。そのため、本実施の形態に特徴的なチップ101の実装方法について説明する。   The chip mounting substrate 100 according to the present embodiment is the same as the chip mounting substrate 100 according to the first embodiment (see FIG. 1). Therefore, a mounting method of the chip 101 that is characteristic of the present embodiment will be described.

図14を参照して、本実施の形態に係るチップ101の実装方法では、実施の形態1と同様のチップ準備工程(S1a)及び塗布転写体の準備工程(S2a)の後に、転写工程(S3c)が行われる。   Referring to FIG. 14, in the mounting method of chip 101 according to the present embodiment, the transfer process (S3c) is performed after the chip preparation process (S1a) and the coating transfer body preparation process (S2a) similar to those in the first embodiment. ) Is performed.

転写工程(S3c)は、実施の形態1に係る転写工程(S3a)と同様に、塗布転写体107aの接着剤108をチップ101に転写する工程である。本実施の形態に係る転写工程(S3c)は、詳細には、1次転写工程(S31c)と2次転写工程(S32c)と3次転写工程(S33c)とを含む。   The transfer step (S3c) is a step of transferring the adhesive 108 of the coated transfer body 107a to the chip 101, similarly to the transfer step (S3a) according to the first embodiment. In detail, the transfer step (S3c) according to the present embodiment includes a primary transfer step (S31c), a secondary transfer step (S32c), and a tertiary transfer step (S33c).

1次転写工程(S31c)は、未硬化の液体の状態の接着剤108をパッド128に転写する工程である。   The primary transfer step (S31c) is a step of transferring the uncured liquid state adhesive 108 to the pad 128.

本実施の形態に係る1次転写工程(S31c)は、例えば、正面図である図15に示すプレ転写装置129を利用して行われる。プレ転写装置129は、第4設置領域130と、第5設置領域131と、パッドツール132と、第2移動機構133とを備える。   The primary transfer process (S31c) according to the present embodiment is performed using, for example, a pre-transfer device 129 shown in FIG. 15 which is a front view. The pre-transfer device 129 includes a fourth installation area 130, a fifth installation area 131, a pad tool 132, and a second moving mechanism 133.

第4設置領域130は、塗布転写体の準備工程(S2a)で準備された塗布転写体107aが設置される領域である。   The fourth installation area 130 is an area in which the coating transfer body 107a prepared in the coating transfer body preparation step (S2a) is installed.

第5設置領域131は、転写版127が設置される領域である。   The fifth installation area 131 is an area where the transfer plate 127 is installed.

パッドツール132は、柔軟性を有するパッド128を下方に有する器具である。   The pad tool 132 is an instrument having a flexible pad 128 below.

第2移動機構133は、パッドツール132を移動させるための機構である。本実施の形態に係る第2移動機構133は、第4設置領域130及び第5設置領域131の上方でパッドツール132を移動させる。   The second moving mechanism 133 is a mechanism for moving the pad tool 132. The second moving mechanism 133 according to the present embodiment moves the pad tool 132 above the fourth installation area 130 and the fifth installation area 131.

1次転写工程(S31c)では、パッドツール132が、第4設置領域130に設置された塗布転写体107aの接着剤108の上方に位置付けられた後に、図16(a)に示すようにパッド128の下面が接着剤108に接触するまで下方へ移動する。このとき、パッドツール132は、予め定められた圧力でパッド128の下面を接着剤108に押し付けてもよい。   In the primary transfer step (S31c), after the pad tool 132 is positioned above the adhesive 108 of the coating transfer body 107a installed in the fourth installation region 130, as shown in FIG. The lower surface of the plate moves downward until it contacts the adhesive 108. At this time, the pad tool 132 may press the lower surface of the pad 128 against the adhesive 108 with a predetermined pressure.

パッド128の下面が接着剤108に接触すると、パッドツール132は、図16(b)に示すように上方へ移動する。これにより、転写体109aの凹部110に塗布された液状で未硬化の接着剤108の一部又はそのほとんどが、パッド128の下面に移動する。   When the lower surface of the pad 128 contacts the adhesive 108, the pad tool 132 moves upward as shown in FIG. As a result, a part or most of the liquid uncured adhesive 108 applied to the recess 110 of the transfer body 109 a moves to the lower surface of the pad 128.

このように、転写体109aの凹部110に塗布された液状で未硬化の接着剤108にパッド128の下面を接触させることによって、当該接着剤108がパッド128の下面に転写される(1次転写)。   Thus, the adhesive 108 is transferred to the lower surface of the pad 128 by bringing the lower surface of the pad 128 into contact with the liquid uncured adhesive 108 applied to the recess 110 of the transfer body 109a (primary transfer). ).

なお、図16では、分かり易くするため、接着剤108の厚さを、一般的なパッド128に比べて大きく表している。   In FIG. 16, the thickness of the adhesive 108 is shown larger than that of a general pad 128 for easy understanding.

図14を参照し、2次転写工程(S32c)は、実施の形態2に係る1次転写工程(S31b)と同様に、未硬化の液体の状態の接着剤108を転写版127に転写する工程である。   Referring to FIG. 14, the secondary transfer step (S32c) is a step of transferring the uncured liquid state adhesive 108 to the transfer plate 127 in the same manner as the primary transfer step (S31b) according to the second embodiment. It is.

本実施の形態に係る2次転写工程(S32c)は、例えば、図15を参照して上述したプレ転写装置129を利用して行われる。   The secondary transfer step (S32c) according to the present embodiment is performed using, for example, the pre-transfer device 129 described above with reference to FIG.

2次転写工程(S32c)では、接着剤108がパッド128の下面に転写されたパッドツール132が、第5設置領域131に設置された転写版127の上方に位置付けられる。その後に、パッドツール132は、図16(c)に示すように、パッド128の下面が転写版127の上面に接触するまで下方へ移動する。このとき、パッドツール132は、予め定められた圧力でパッド128の下面を転写版127に押し付けてもよい。   In the secondary transfer step (S32c), the pad tool 132 having the adhesive 108 transferred to the lower surface of the pad 128 is positioned above the transfer plate 127 installed in the fifth installation region 131. Thereafter, as shown in FIG. 16C, the pad tool 132 moves downward until the lower surface of the pad 128 contacts the upper surface of the transfer plate 127. At this time, the pad tool 132 may press the lower surface of the pad 128 against the transfer plate 127 with a predetermined pressure.

パッド128の下面が転写版127に接触すると、パッドツール132は、図16(d)に示すように上方へ移動する。これにより、パッド128に転写された液状で未硬化の接着剤108の一部又はそのほとんどが、転写版127の上面に移動する。   When the lower surface of the pad 128 contacts the transfer plate 127, the pad tool 132 moves upward as shown in FIG. As a result, part or most of the liquid uncured adhesive 108 transferred to the pad 128 moves to the upper surface of the transfer plate 127.

このように、パッド128に転写された液状で未硬化の接着剤108に転写版127の上面を接触させることによって、当該接着剤108が転写版127の上面に転写される(2次転写)。   Thus, the adhesive 108 is transferred onto the upper surface of the transfer plate 127 by bringing the upper surface of the transfer plate 127 into contact with the liquid uncured adhesive 108 transferred to the pad 128 (secondary transfer).

図14を参照し、3次転写工程(S33c)は、実施の形態2に係る2次転写工程(S32b)と同様に、未硬化の液体の状態の接着剤108を転写版127からチップ101に転写する工程である。   Referring to FIG. 14, in the tertiary transfer step (S33c), as in the secondary transfer step (S32b) according to Embodiment 2, the uncured liquid state adhesive 108 is transferred from the transfer plate 127 to the chip 101. This is a transfer process.

本実施の形態に係る3次転写工程(S33c)は、実施の形態2に係る2次転写工程(S32b)と同様にフリップチップボンダ112bを用いて行われる。本実施の形態では、フリップチップボンダ112bの第2設置領域114に、2次転写によって未硬化の液体の状態の接着剤108が転写された転写版127が設置される。この状態で、実施の形態2に係る2次転写工程(S32b)と同様にフリップチップボンダ112bが動作する。これによって、転写版127に転写された液状で未硬化の接着剤108がチップ101の下面に転写される(3次転写)。   The tertiary transfer step (S33c) according to the present embodiment is performed using the flip chip bonder 112b, similarly to the secondary transfer step (S32b) according to the second embodiment. In the present embodiment, the transfer plate 127 on which the adhesive 108 in an uncured liquid state is transferred by secondary transfer is installed in the second installation region 114 of the flip chip bonder 112b. In this state, the flip chip bonder 112b operates in the same manner as in the secondary transfer step (S32b) according to the second embodiment. As a result, the liquid uncured adhesive 108 transferred to the transfer plate 127 is transferred to the lower surface of the chip 101 (third transfer).

本実施の形態では、チップ101に転写される接着剤108の厚さは、凹部110が形成する窪みの寸法、パッド128の材質、パッド128の下面を接着剤108又は転写版127に押し付ける力などを調整することで制御することができる。チップ101に転写される接着剤108の厚さは、例えば1μm〜10μmである。   In the present embodiment, the thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 is the size of the recess formed by the recess 110, the material of the pad 128, the force pressing the lower surface of the pad 128 against the adhesive 108 or the transfer plate 127, etc. It can be controlled by adjusting. The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 is, for example, 1 μm to 10 μm.

その後、図14に示すように、実施の形態1と同様の配置工程(S4)以降の工程が行われる。これにより、チップ101が基板102に実装されて、図1に示すチップ実装基板100が製造される。   Thereafter, as shown in FIG. 14, the steps after the arrangement step (S4) similar to those in the first embodiment are performed. Thereby, the chip 101 is mounted on the substrate 102, and the chip mounting substrate 100 shown in FIG. 1 is manufactured.

本実施の形態によれば、実施の形態1と同様の効果を奏する。   According to the present embodiment, the same effects as those of the first embodiment are obtained.

また本実施の形態によれば、転写工程(S3c)において接着剤108が複数回の転写を経てチップ101に転写される。これによって、転写工程(S3c)において接着剤108をチップ101に、実施の形態1に比べてより均一な厚さで転写することができる。そのため、より均一に分布した接着剤108によって、実施の形態1に比べてより安定して確実にチップ101を基板102に固定することができる。従って、より一層安定した実装が可能になる。   Further, according to the present embodiment, the adhesive 108 is transferred to the chip 101 through a plurality of times of transfer in the transfer step (S3c). Thus, the adhesive 108 can be transferred to the chip 101 with a more uniform thickness than in the first embodiment in the transfer step (S3c). Therefore, the chip 101 can be fixed to the substrate 102 more stably and reliably than the first embodiment by the adhesive 108 distributed more uniformly. Therefore, more stable mounting is possible.

なお、実施の形態3において、凹部110を含む転写体109aに代えて、図17に示すように、突き出た面を形成する凸部Pを含む転写体109cが採用されてもよい。   In the third embodiment, instead of the transfer body 109a including the concave portion 110, as shown in FIG. 17, a transfer body 109c including a convex portion P that forms a protruding surface may be employed.

この場合、塗布工程(S22a)において、未硬化の液体の状態の接着剤108は、凸部Pが形成する突き出た面(上面)に塗布されるとよい。また、1次転写工程(S31c)では、凸部Pの上面に塗布された未硬化の液体の状態の接着剤108にパッド128の下面を接触させることによって、当該接着剤108がパッド128の下面に転写されるとよい。   In this case, in the applying step (S22a), the uncured liquid adhesive 108 may be applied to the protruding surface (upper surface) formed by the convex portion P. In the primary transfer step (S31c), the adhesive 108 is brought into contact with the lower surface of the pad 128 by bringing the lower surface of the pad 128 into contact with the uncured liquid adhesive 108 applied to the upper surface of the convex portion P. It is good to be transferred to.

このような変形例によっても、実施の形態3と同様の効果を奏する。   Even in such a modification, the same effect as in the third embodiment can be obtained.

(実施の形態4)
本実施の形態では、絶縁性のフィルム状接着剤であるDAF(Die Attach Film)を塗布転写体として利用して、チップ実装基板100を製造する例を説明する。
(Embodiment 4)
In the present embodiment, an example in which the chip mounting substrate 100 is manufactured using DAF (Die Attach Film), which is an insulating film adhesive, as a coating transfer body will be described.

なお、本実施の形態に係るチップ実装基板100は、実施の形態1に係るチップ実装基板100(図1参照)と同じである。そのため、本実施の形態に特徴的なチップ101の実装方法について説明する。   The chip mounting substrate 100 according to the present embodiment is the same as the chip mounting substrate 100 according to the first embodiment (see FIG. 1). Therefore, a mounting method of the chip 101 that is characteristic of the present embodiment will be described.

本実施の形態に係るチップ101の実装方法では、図18に示すように、塗布転写体107dが準備される(塗布転写体の準備工程;S2d)。本実施の形態に係る塗布転写体107dは、接着剤108が転写体109dの一面に塗布されたものである(図19参照)。   In the mounting method of the chip 101 according to the present embodiment, as shown in FIG. 18, a coated transfer body 107d is prepared (preparation process of coated transfer body; S2d). The coated transfer body 107d according to the present embodiment is obtained by applying an adhesive 108 to one surface of the transfer body 109d (see FIG. 19).

転写体109dは、可撓性を有するフィルムである。転写体109dの材料は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレンなどである。転写体109dの厚さは、20μm〜100μmであることが好ましい。   The transfer body 109d is a flexible film. The material of the transfer body 109d is, for example, polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, or the like. The thickness of the transfer body 109d is preferably 20 μm to 100 μm.

転写体109dには、未硬化の液体の状態の接着剤108が均一な厚さで塗布されている。このような塗布転写体107dは、一般的にDAFなどとも称される。   An adhesive 108 in an uncured liquid state is applied to the transfer body 109d with a uniform thickness. Such a coated transfer body 107d is generally called DAF or the like.

なお、塗布転写体の準備工程(S2d)が、転写体109dを準備する転写体準備工程と、転写体109dに接着剤108をする塗布工程とを含んでもよい。この場合、塗布工程では、グラビアコーター、ダイコーターなどを用いて、1μm〜20μmで均一に塗布されるとよい。   Note that the coating transfer body preparation step (S2d) may include a transfer body preparation step for preparing the transfer body 109d and an application step for applying the adhesive 108 to the transfer body 109d. In this case, in the coating step, it may be applied uniformly at 1 μm to 20 μm using a gravure coater, a die coater or the like.

図18を参照して、チップ101が準備される(チップ準備工程;S1d)。チップ準備工程(S1d)は、詳細には、ウェハ準備工程(S11d)とダイシング工程(S12d)とを含む。   Referring to FIG. 18, chip 101 is prepared (chip preparation step; S1d). Specifically, the chip preparation step (S1d) includes a wafer preparation step (S11d) and a dicing step (S12d).

ウェハ準備工程(S11d)では、図19に示すように、多数の素子が作り込まれたウェハ104が準備される。図19(a)は、本実施の形態に係るウェハ準備工程(S11d)で準備されるウェハ104の斜視図であり、図19(b)はその側方断面図である。   In the wafer preparation step (S11d), as shown in FIG. 19, a wafer 104 in which a large number of elements are formed is prepared. FIG. 19A is a perspective view of the wafer 104 prepared in the wafer preparation step (S11d) according to the present embodiment, and FIG. 19B is a side sectional view thereof.

ウェハ104は、この後に行われるダイシング時にチップ101が飛散しないように、塗布転写体107dに保持されている。   The wafer 104 is held on the coating transfer body 107d so that the chip 101 does not scatter during subsequent dicing.

詳細には、ウェハ104は、転写体109dに塗布された接着剤108の上に載せ置かれており、接着剤108の粘着力によって塗布転写体107dに保持されている。   Specifically, the wafer 104 is placed on the adhesive 108 applied to the transfer body 109 d and is held on the application transfer body 107 d by the adhesive force of the adhesive 108.

また、転写体109dは、例えば接着剤108とともにダイシングフレーム106に挟持される。このとき、ダイシングフレーム106を加熱することによって、ダイシングフレーム106に接触する接着剤108を部分的に硬化させることで、転写体109dがダイシングフレーム106に固定されてもよい。   Further, the transfer body 109d is sandwiched between the dicing frame 106 and the adhesive 108, for example. At this time, the transfer body 109 d may be fixed to the dicing frame 106 by heating the dicing frame 106 to partially cure the adhesive 108 that contacts the dicing frame 106.

なお、図19では、分かり易くするため、接着剤108の厚さを、一般的なダイシングフレーム106やウェハ104の厚さに比べて大きく表しており、後に参照する図21及び22でも同様である。   In FIG. 19, for the sake of clarity, the thickness of the adhesive 108 is shown larger than the thickness of a general dicing frame 106 or wafer 104, and the same applies to FIGS. 21 and 22 to be referred to later. .

ダイシング工程(S12d)では、図20に示すように、塗布転写体107dに保持された状態でウェハ104がダイシングソーで予め定められた大きさ及び形状に切り分けられる。これにより、塗布転写体107dに保持された状態で複数のチップ101が準備される。   In the dicing step (S12d), as shown in FIG. 20, the wafer 104 is cut into a predetermined size and shape by a dicing saw while being held by the coating transfer body 107d. Thus, the plurality of chips 101 are prepared while being held on the coating transfer body 107d.

図18を参照して、塗布転写体107dの接着剤108がチップ101に転写される(転写工程;S3d)。   Referring to FIG. 18, the adhesive 108 of the coated transfer body 107d is transferred to the chip 101 (transfer process; S3d).

本実施の形態に係る転写工程(S3d)は例えば、後続する配置工程(S4)とともに、正面図である図21に示すフリップチップボンダ112dを用いて行われる。   The transfer step (S3d) according to the present embodiment is performed, for example, using the flip chip bonder 112d shown in FIG. 21, which is a front view, together with the subsequent arrangement step (S4).

本実施の形態に係るフリップチップボンダ112dは、第2設置領域114を備えておらず、この点を除いて実施の形態1に係るフリップチップボンダ112aと同様に構成される。   The flip chip bonder 112d according to the present embodiment does not include the second installation region 114, and is configured in the same manner as the flip chip bonder 112a according to the first embodiment except for this point.

転写工程(S3d)では、マウントツール116が複数のチップ101のうちの1つを吸着により保持した後に上方へ移動する。このとき、マウントツール116は、チップ101を保持する際に、予め定められた圧力でチップ101の下面を接着剤108に押し付けてもよい。これにより、図22に示すように、接着剤108は、転写体109から引き離されてチップ101の下面に転写される。   In the transfer step (S3d), the mount tool 116 moves upward after holding one of the plurality of chips 101 by suction. At this time, the mounting tool 116 may press the lower surface of the chip 101 against the adhesive 108 with a predetermined pressure when holding the chip 101. Thereby, as shown in FIG. 22, the adhesive 108 is separated from the transfer body 109 and transferred to the lower surface of the chip 101.

チップ101に転写される接着剤108の厚さは、塗布転写体107dに含まれる接着剤108の厚さ、チップ101の下面を接着剤108に押し付ける力などを調整することで制御することができる。チップ101に転写される接着剤108の厚さは、例えば1μm〜10μmである。   The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 can be controlled by adjusting the thickness of the adhesive 108 included in the coating transfer body 107d, the force pressing the lower surface of the chip 101 against the adhesive 108, and the like. . The thickness of the adhesive 108 transferred to the chip 101 is, for example, 1 μm to 10 μm.

その後、図18に示すように、フリップチップボンダ112dを用いて実施の形態1と同様の配置工程(S4)が行われる。すなわち、マウントツール116が、接着剤108が転写されたチップ101を保持した状態で移動し、当該チップ101を基板102の実装箇所に配置する。そして、硬化工程(S5)が行われることによってチップ101が基板102に実装されて、図1に示すチップ実装基板100が製造される。   Thereafter, as shown in FIG. 18, the same arrangement step (S4) as that of the first embodiment is performed using the flip chip bonder 112d. That is, the mounting tool 116 moves while holding the chip 101 to which the adhesive 108 has been transferred, and places the chip 101 on the mounting position of the substrate 102. And the chip | tip 101 is mounted in the board | substrate 102 by performing a hardening process (S5), and the chip mounting board | substrate 100 shown in FIG. 1 is manufactured.

本実施の形態によれば、接着剤108が転写体109dに塗布された塗布転写体107dが準備される(塗布転写体の準備工程;S2d)。そして、塗布転写体107dに含まれる接着剤108がチップ101に転写される(転写工程;S3d)。そのため、実施の形態1と同様に、接着層103の厚さが極めて薄いチップ実装基板100を製造することができる。従って、高密度な実装が可能になる。   According to the present embodiment, the coated transfer body 107d in which the adhesive 108 is applied to the transfer body 109d is prepared (preparation process of coated transfer body; S2d). Then, the adhesive 108 contained in the coating transfer body 107d is transferred to the chip 101 (transfer process; S3d). Therefore, similarly to the first embodiment, the chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 is extremely thin can be manufactured. Therefore, high-density mounting is possible.

また本実施の形態によれば、塗布転写体の準備工程(S2d)では、未硬化の液体の状態の接着剤108が均一な厚さで塗布された転写体109dが塗布転写体107dとして準備される。これによって、転写工程(S3d)において接着剤108をチップ101に均一な厚さで転写することができる。そのため、実施の形態1と同様に、均一に分布した接着剤108によってチップ101を基板102に安定して確実に固定することができる。従って、安定した実装が可能になる。   Further, according to the present embodiment, in the coating transfer body preparation step (S2d), the transfer body 109d coated with an uncured liquid adhesive 108 with a uniform thickness is prepared as the coating transfer body 107d. The Thus, the adhesive 108 can be transferred to the chip 101 with a uniform thickness in the transfer step (S3d). Therefore, as in the first embodiment, the chip 101 can be stably and reliably fixed to the substrate 102 by the uniformly distributed adhesive 108. Therefore, stable mounting is possible.

さらに本実施の形態によれば、一般的なDAFを塗布転写体107dとして利用して、チップ実装基板100を製造することができる。そのため、塗布転写体107dを容易に準備することができる。従って、高密度な実装を容易に実現することが可能になる。   Furthermore, according to the present embodiment, it is possible to manufacture the chip mounting substrate 100 using a general DAF as the coating transfer body 107d. Therefore, the coating transfer body 107d can be easily prepared. Therefore, high-density mounting can be easily realized.

さらに本実施の形態によれば、転写工程(S3d)において接着剤108は1μm〜10μmの厚さでチップ101に転写される。そのため、実施の形態1と同様に、接着層103の厚さが1μm〜10μm程度の極めて薄いチップ実装基板100を製造することができる。従って、高密度な実装が可能になる。   Further, according to the present embodiment, the adhesive 108 is transferred to the chip 101 with a thickness of 1 μm to 10 μm in the transfer step (S3d). Therefore, as in the first embodiment, an extremely thin chip mounting substrate 100 in which the adhesive layer 103 has a thickness of about 1 μm to 10 μm can be manufactured. Therefore, high-density mounting is possible.

なお、実施の形態1において、塗布転写体107aに代えて実施の形態4に係る塗布転写体107dが採用されてもよい。これによれば、実施の形態4と同様の効果を奏する。   In the first embodiment, the coating transfer body 107d according to the fourth embodiment may be employed instead of the coating transfer body 107a. According to this, the same effect as in the fourth embodiment can be obtained.

以上、本発明の実施の形態、変形例などについて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。本発明は、例えば、実施の形態に変更を加えた態様、実施の形態と変形例とを適宜組み合わせた態様、この態様に適宜変更を加えた態様などを含む。   As mentioned above, although embodiment of this invention, the modification, etc. were demonstrated, this invention is not limited to these. The present invention includes, for example, an aspect obtained by changing the embodiment, an aspect obtained by appropriately combining the embodiment and the modification, an aspect obtained by appropriately changing this aspect, and the like.

本発明に係る板状体の実装方法は、基板、チップなどの被実装物に薄い板状の部材を実装するためなどに利用することができる。   The method for mounting a plate-like body according to the present invention can be used for mounting a thin plate-like member on an object to be mounted such as a substrate or a chip.

100 チップ実装基板
101 チップ
102 基板
103 接着層
104 ウェハ
105 ダイシングテープ
106 ダイシングフレーム
107a,107b,107d 塗布転写体
108 接着剤
109a,109b,109c,109d 転写体
110 凹部
111 スキージ
112a,112b,112d フリップチップボンダ
113 第1設置領域
114 第2設置領域
115 第3設置領域
116 マウントツール
117 第1移動機構
118 加熱器
119 基板設置台
120 加圧部材
121 凸部
122 塗布装置
123 第1ローラ
124 第2ローラ
125 第3ローラ
126 転写版設置台
127 転写版
128 パッド
129 プレ転写装置
130 第4設置領域
131 第5設置領域
132 パッドツール
133 第2移動機構
100 Chip mounting substrate 101 Chip 102 Substrate 103 Adhesive layer 104 Wafer 105 Dicing tape 106 Dicing frames 107a, 107b, 107d Application transfer body 108 Adhesive 109a, 109b, 109c, 109d Transfer body 110 Recessed part 111 Squeegee 112a, 112b, 112d Flip chip Bonder 113 First installation area 114 Second installation area 115 Third installation area 116 Mount tool 117 First moving mechanism 118 Heater 119 Substrate installation table 120 Pressure member 121 Protruding part 122 Coating device 123 First roller 124 Second roller 125 Third roller 126 Transfer plate setting table 127 Transfer plate 128 Pad 129 Pre-transfer device 130 Fourth setting area 131 Fifth setting area 132 Pad tool 133 Second moving mechanism

Claims (9)

予め定められた方法で硬化する接着剤が未硬化の液体の状態で塗布された転写体である塗布転写体を準備することと、
前記転写体に塗布された接着剤を板状体又は被実装物に転写することと、
前記転写された接着剤を前記板状体と前記被実装物との間に介在させて、前記板状体を前記被実装物に配置することと、
前記板状体と前記被実装物との間に介在する前記接着剤を硬化させることとを含む
ことを特徴とする板状体の実装方法。
Preparing an application transfer body, which is a transfer body in which an adhesive that is cured by a predetermined method is applied in an uncured liquid state;
Transferring the adhesive applied to the transfer body to a plate-like body or an object to be mounted;
Interposing the transferred adhesive between the plate-like body and the mounted object, and arranging the plate-like body on the mounted object;
Curing the adhesive interposed between the plate-like body and the object to be mounted. A method of mounting a plate-like body, comprising:
前記塗布転写体を準備することでは、前記未硬化の液体の状態の接着剤が均一な厚さで塗布された前記転写体が前記塗布転写体として準備される
ことを特徴とする請求項1に記載の板状体の実装方法。
2. The preparation of the application transfer body, wherein the transfer body on which the uncured liquid adhesive is applied with a uniform thickness is prepared as the application transfer body. The mounting method of the plate-shaped body of description.
前記塗布転写体を準備することは、
突き出た面を形成する凸部を含む前記転写体を準備することと、
前記未硬化の液体の状態の接着剤を前記凸部に塗布することとを含み、
前記板状体又は前記被実装物に転写することでは、前記凸部に塗布された前記未硬化の液体の状態の接着剤が前記板状体又は前記被実装物に転写される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の板状体の実装方法。
Preparing the coating transfer body includes
Preparing the transfer body including a protrusion that forms a protruding surface;
Applying the uncured liquid state adhesive to the projections,
In transferring to the plate-like body or the mounted object, the uncured liquid adhesive applied to the convex portion is transferred to the plate-like body or the mounted object. The mounting method of the plate-shaped body according to claim 1 or 2.
前記塗布転写体を準備することは、
窪みを形成する凹部を含む前記転写体を準備することと、
前記未硬化の液体の状態の接着剤を前記凹部に塗布することとを含み、
前記板状体又は前記被実装物に転写することでは、前記凹部に塗布された前記接着剤が前記板状体又は前記被実装物に転写される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の板状体の実装方法。
Preparing the coating transfer body includes
Preparing the transfer body including a recess that forms a depression;
Applying the uncured liquid adhesive to the recess,
The said adhesive agent apply | coated to the said recessed part is transcribe | transferred to the said plate-shaped object or the said to-be-mounted object by transferring to the said plate-shaped object or the to-be-mounted object. Mounting method for plate.
前記塗布転写体を準備することは、
突き出た面を形成する凸部又は窪みを形成する凹部を含む前記転写体を準備することと、
前記未硬化の液体の状態の接着剤を前記凸部又は前記凹部に塗布することとを含み、
前記板状体又は前記被実装物に転写することは、
前記凸部又は前記凹部に塗布された前記接着剤をパッドに転写することと、
前記パッドに転写された前記接着剤を前記板状体又は前記被実装物に転写することとを含む
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の板状体の実装方法。
Preparing the coating transfer body includes
Preparing the transfer body including a convex portion forming a protruding surface or a concave portion forming a depression;
Applying the uncured liquid state adhesive to the convex part or the concave part,
Transferring to the plate-like body or the mounted object,
Transferring the adhesive applied to the convex part or the concave part to a pad;
The method for mounting a plate-like body according to claim 1, further comprising: transferring the adhesive transferred to the pad to the plate-like body or the mounted object.
前記塗布転写体を準備することでは、前記未硬化の液体の状態の接着剤が塗布された可撓性を有するフィルム状の転写体が前記塗布転写体として準備され、
前記転写することでは、前記転写体に塗布された接着剤に前記板状体又は前記被実装物を加圧接触させることによって、前記転写体に塗布された接着剤が板状体又は被実装物に転写される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の板状体の実装方法。
In preparing the coating transfer body, a flexible film-like transfer body coated with the uncured liquid adhesive is prepared as the coating transfer body,
In the transfer, the adhesive applied to the transfer body is brought into contact with the adhesive applied to the transfer body by pressing the plate-like body or the mounting object to the plate-like body or the mounting object. The plate-shaped body mounting method according to claim 1, wherein the plate-shaped body is mounted on the plate-like body.
前記転写体に塗布された接着剤を板状体又は被実装物に転写することでは、前記転写体に塗布された接着剤が1μm〜10μmの厚さで前記板状体又は前記被実装物に転写される
を特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の板状体の実装方法。
By transferring the adhesive applied to the transfer body to a plate-like body or an object to be mounted, the adhesive applied to the transfer body has a thickness of 1 μm to 10 μm to the plate-like body or the object to be mounted. The plate-shaped body mounting method according to claim 1, wherein the plate-like body is transferred.
前記未硬化の液体の状態の接着剤は、摂氏25度における粘度が50Pa・s以下である
ことを特徴とする請求項1から7のいずれか1項に記載の板状体の実装方法。
The method for mounting a plate-shaped body according to any one of claims 1 to 7, wherein the uncured liquid adhesive has a viscosity at 25 degrees Celsius of 50 Pa · s or less.
前記未硬化の液体の状態の接着剤に含まれるフィラーは、粒径が1μm以下である
ことを特徴とする請求項1から8のいずれか1項に記載の板状体の実装方法。
The method for mounting a plate-shaped body according to any one of claims 1 to 8, wherein the filler contained in the uncured liquid adhesive has a particle size of 1 µm or less.
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