JP2019126019A - 結像光学機構、読取モジュールおよび画像読取装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高コントラストおよび高解像度を得ることができる結像光学機構、読取モジュールおよび画像読取装置を提供する。【解決手段】原稿Ｄに対して相対的に移動する読取モジュールに搭載された結像光学機構５６は、原稿Ｄから入射した光を反射する第１凹面鏡８５と、第１凹面鏡８５とは、副走査方向Ｙにずれた位置で、第１凹面鏡８５に反射した光を反射する第２凹面鏡８６とを備える。第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６との間には、スリット８３１，８４１が形成された複数のアパーチャー部材８３，８４が配置されている。第１凹面鏡８５は、副走査方向Ｙにおいては原稿Ｄから入射した光が第２凹面鏡８６との間の位置で結像しないように反射し、主走査方向Ｘにおいては原稿Ｄから入射した光が第２凹面鏡８６との間の位置で結像するように反射する。第２凹面鏡８６は、第１凹面鏡８５で反射して入射した光をセンサー５７３の位置で結像するように反射する。【選択図】図７

Description

本発明は、読取対象または結像対象と相対移動する光学モジュールに搭載され、読取対象に反射した光または光源からの光を入射して結像対象に結像させる結像光学機構、読取モジュールおよび画像読取装置に関する。

従来から、画像読取装置の一例として、読取対象の原稿に対して相対的に移動して原稿を読み取る読取モジュールを有するキャリッジを備えるスキャナー装置が知られている。スキャナー装置は単独の装置、あるいは複合機の一部として構成される。読取モジュールは、原稿台の下方からガラス板上の原稿に光を照射する線状光源等の光源と、原稿に反射して入射した光を集光させる結像光学機構と、結像光学機構から出射された光の像が結像される受光用のセンサー（結像対象の一例）を有する。結像光学機構には、集光機能の部品としてレンズアレイを用いるものが知られている。レンズアレイを用いる構成は、光の屈折による収差の問題があるうえ製造コストが高くなる傾向にある。

例えば、特許文献１には、光源像の光を結像対象である感光ドラムに結像させ、像を回転する感光ドラムに書き込む書込モジュールを備えた光プリンターが開示されている。書込モジュールは、複数組の凹面鏡を備え、入射した光を複数の凹面鏡に反射させることで光を集光させる結像光学機構を備える。結像光学機構は、第１凹面鏡と第２凹面鏡とが互いの反射面が対向するとともに傾斜した状態で配置される。第１凹面鏡による結像位置における光源像の中間像を第２凹面鏡により所定の位置に結像させる。結像光学機構は、第１凹面鏡と第２凹面鏡とを含む１組の反射素子が複数組配列されて構成される。また、隣接する反射素子の間は薄板状の遮光部材によって仕切られており、任意の１組の反射素子における反射光が隣接する反射素子に迷光として入射するのを防止する。

特許文献１に記載の結像光学機構では、遮光部材を設けることで隣接する反射素子からの迷光を遮光し、結像される像のコントラストを高め、結像対象に書き込まれる解像度を高める効果が得られる。また、特許文献１に記載の結像光学機構を、画像読取装置の読取モジュールに適用した場合、遮光部材を設けることで隣接する反射素子からの迷光を遮光し、結像対象である受光用のセンサーに結像される像のコントラストを高め、センサーの読み取り解像度を高める効果が得られる。

特開２００６−６２２２７号公報

しかし、より高い読取解像度が要求される画像読取装置や、より高い書込解像度が要求される光プリンターなどの装置においては、結像対象に結像される光の像のコントラストが十分なものではなく、その結果、得られる解像度も十分なものではなかった。また、要求される解像度が高くなるに連れて反射素子の配列ピッチを短くする必要があるが、遮光部材を非常に細かなピッチで設けることは製造上困難でもある。

本発明の目的は、結像対象に光の像を高コントラストで結像でき、高解像度を得ることができる結像光学機構、読取モジュールおよび画像読取装置を提供することにある。

以下、上記課題を解決するための手段及びその作用効果について記載する。
上記課題を解決する結像光学機構は、読取対象または結像対象に対して相対的に移動する光学モジュールに搭載され、光源からの光が前記読取対象に対して反射または透過して入射した光、または前記読取対象である前記光源から入射した光を、前記結像対象に結像させる結像光学機構であって、前記結像光学機構は、前記読取対象から入射する光を反射する第１鏡面と、前記第１鏡面に対して前記光学モジュールの相対的な移動方向においてずれた位置に配置され前記第１鏡面で反射した光を反射して射出する第２鏡面と、前記読取対象から入射した前記光が前記第１鏡面へ向かう経路と、前記第１鏡面で反射した光が前記第２鏡面に向かう経路と、前記第２鏡面で反射した前記光が前記結像対象へ向かう経路と、に亘ってスリットが形成された複数のアパーチャー部材と、を有し、前記第１鏡面は、前記移動方向においては前記読取対象から広がって入射した前記光が前記第２鏡面との間の位置で結像しないように反射する第１曲率と、前記移動方向と交差する交差方向においては前記読取対象から広がって入射した前記光が前記第２鏡面との間の位置で結像するように反射する第２曲率と、を有し、前記第２鏡面は、前記移動方向においては前記第１鏡面から入射した前記光を前記結像対象の位置で結像するように反射する第３曲率と、前記交差方向においては前記第１鏡面から入射した前記光を前記結像対象の位置で結像するように反射する第４曲率と、を有する。

この構成によれば、光源から入射した光又は光源からの光が読取対象に反射して入射した光は、第１鏡面へ向かう経路と、第１鏡面で反射した光が第２鏡面に向かう経路と、第２鏡面で反射した光が結像対象へ向かう経路とを通って結像対象に結像する。このとき、光の各経路においてアパーチャー部材のスリットを通る光のみが結像対象に結像する。このため、迷光は複数のアパーチャー部材により遮光され、結像対象に至る迷光が抑制される。この結果、結像対象に結像される像のコントラストが高くなり、高い解像度が得られる。また、読取対象から広がって入射した光は、移動方向においては第１鏡面以外に入射する光は第１遮光部材で遮光され、さらに第２鏡面との間の位置で結像しないように第１鏡面で反射し、交差方向においては第２鏡面との間の位置で結像するように第１鏡面に反射する。移動方向において第１鏡面で反射して入射した光は第２鏡面で結像対象の位置で結像するように反射する。移動方向と交差する交差方向において第１鏡面で反射して入射した光は第２鏡面で結像対象の位置で結像するように反射する。よって、読取対象からの光は、移動方向においては結像対象に倒立像として結像し、交差方向においては結像対象に正立像として結像する。移動方向においては隣に凹面鏡が無いために像の重なりを考慮する必要がなく、そのため多少結像が甘くてもよく、その分第１鏡面と第２鏡面との移動方向における長さを相対的に長く確保できる。このため、結像対象に結像する光の量を多く確保できることから、像の明るさを確保できる。この結果、結像対象に高いコントラストの像を結像させることができ、高い解像度を得ることができる。また、第１鏡面と第２鏡面とに光を反射させることで、読取対象から結像対象までの光路長が長くなり焦点距離を長くすることができる。このため、焦点深度を深くすることができる。よって、結像対象に光の像を高コントラストで結像でき、高解像度を得ることができる。

上記結像光学機構において、前記第１鏡面および前記第２鏡面における前記移動方向の長さは、前記交差方向の長さよりも長いことが好ましい。
この構成によれば、第１鏡面および第２鏡面に入射および反射する光の量を多くできるので、結像対象に結像する像の明るさを確保できる。但し、あまり長いと移動方向での焦点深度が浅くなるので、焦点深度が浅くならない範囲で長くすることが好ましい。

上記結像光学機構において、入射した前記光が、複数の前記アパーチャー部材のうち最も前記光の入射側に配置された第１アパーチャー部材に向かう経路上に配置され、前記第１鏡面に対向する位置にスリットを有する第１遮光部材と、前記第２鏡面に反射した前記光が複数の前記アパーチャー部材のうち最も前記結像対象に近い側に配置された第２アパーチャー部材を通過して前記結像対象へ向かう経路上に配置され、前記第２鏡面に対向する位置にスリットを有する第２遮光部材と、を備えることが好ましい。

この構成によれば、入射する広がった光のうち第１遮光部材のスリットを通って入射した光が、複数のアパーチャー部材の各スリットを通って第１鏡面で反射する。第１遮光部材によって、入射する光を移動方向においてスリットで制限することにより、移動方向において第１鏡面で反射する光の量を多く確保しつつ、第１鏡面以外への迷光、特に原稿等の読取対象から直接結像面へ入射する迷光を減ずることができる。また、第２鏡面で反射した光は、複数のアパーチャー部材の各スリットを通り更に第２遮光部材のスリットを通って結像対象に結像する。第２鏡面で反射した光を移動方向において第２遮光部材のスリットで制限することにより、移動方向において第１遮光部材と協働して迷光を減ずることができる。よって、結像対象に結像する像の明るさを確保して高いコントラストが得られ、これにより高い解像度が得られる。

上記結像光学機構において、前記第１遮光部材及び前記第２遮光部材のそれぞれに形成されたスリットのうち少なくとも一方のスリットの前記移動方向における内側の端部は、それぞれに対向配置された前記鏡面以外に向かう前記光を遮る位置に配置されることが好ましい。

この構成によれば、迷光を低減してセンサーに結像した像のぼけを押さえつつ像の明るさを確保できるので、コントラストの高い結像を得ることができる。
上記結像光学機構において、前記第１遮光部材及び前記第２遮光部材のそれぞれに形成されたスリットのうち少なくとも一方のスリットの前記移動方向に配置された側面は、それぞれに対向配置された鏡面とは反対側に広がる傾斜形状であることが好ましい。

この構成によれば、原稿からの読み取り光を上記移動方向に配置された側面により遮ることがなく、同時に第１遮光部材のスリットから入射する迷光を遮光できるので、コントラストの高い結像を得ることができる。

上記結像光学機構において、前記第１遮光部材及び前記第２遮光部材のうち少なくとも一方には、前記第１遮光部材のスリットを通過し、前記第２遮光部材のスリットに向かう光を遮る位置に、第１遮光部が設けられていることが好ましい。

この構成によれば、凹面鏡で反射する経路を通ることなく、第１遮光部材のスリットから第２遮光部材のスリットへ直接通り抜ける直接迷光を、第１遮光部により遮ることで低減できる。よって、コントラストの高い結像を得ることができる。

上記結像光学機構において、前記第１アパーチャー部材と前記第２アパーチャー部材とのうち少なくとも一方には、前記第１遮光部材のスリットを通過し、前記第２遮光部材のスリットに向かう光を遮る位置に、第２遮光部が設けられていることが好ましい。

この構成によれば、凹面鏡で反射する経路を通ることなく、第１遮光部材のスリットから第２遮光部材のスリットへ直接通り抜ける直接迷光を、第２遮光部により低減できる。よって、コントラストの高い結像を得ることができる。

上記結像光学機構において、前記第２遮光部は、前記第１アパーチャー部材に設けられる場合は、前記第１アパーチャー部材に形成されたスリットには、前記第１遮光部材のスリットによって制限された光の経路と、前記第２鏡面に入射する光及び反射した光の経路との間の位置に設けられ、前記第２アパーチャー部材に設けられる場合は、前記第２アパーチャー部材に形成されたスリットには、前記第１鏡面に入射する光及び反射した光の経路と、前記第２鏡面に反射した光の経路との間の位置に設けられていることが好ましい。

この構成によれば、第２遮光部により、第１凹面鏡及び第２凹面鏡で反射する経路を通る光を一部も遮ることなく、直接迷光を効果的に低減できる。
上記結像光学機構において、前記第２遮光部の前記移動方向における側面は、前記第１遮光部材のスリットによって制限された光の経路と、前記第２鏡面に入射する光及び反射した光の経路との、それぞれの内側の端部に沿う形状であることが好ましい。

この構成によれば、第２遮光部により直接迷光を遮ることができる。
上記結像光学機構において、前記第１アパーチャー部材及び前記第２アパーチャー部材のうち少なくとも前記第１アパーチャー部材の前記読取対象側の面において、前記スリットにおける前記光が入射する領域に隣接する領域には、前記移動方向に対して前記第２鏡面とは反対側に傾斜した傾斜面が設けられていることが好ましい。

この構成によれば、第１遮光部材のスリットから第１アパーチャー部材のスリットに隣接する領域に入射した光が反射したことに起因する迷光を低減できる。
上記結像光学機構において、前記第１遮光部材のスリットの前記移動方向における幅は、前記読取対象から入射する光を、前記移動方向における前記第１鏡面の長さ範囲内の照射域に制限可能な長さであることが好ましい。

この構成によれば、読取対象から入射する光を第１遮光部材のスリットによって移動方向に制限し、移動方向における第１鏡面の長さ範囲以外への光を遮光できる。よって、結像対象に結像する光の像を明るくして高いコントラストが得られる。この結果、高い解像度が得られる。

上記結像光学機構において、前記第２遮光部材のスリットの前記移動方向における幅は、前記第２鏡面に反射した光が通過可能な長さであることが好ましい。
この構成によれば、第２鏡面に反射した光以外の光の全てまたは多くは第２遮光部材によって遮光される。よって、結像対象に結像する光の像の明るさと高いコントラストを確保し、高い解像度を得ることができる。

上記結像光学機構において、前記第１鏡面と前記第２鏡面とは、前記移動方向において重ならない位置、前記交差方向において重なる位置に配置されることが好ましい。
この構成によれば、第１鏡面で反射した光の全てまたは多くを第２鏡面に入射させることができ、第２鏡面に対して第１鏡面で反射した光以外の光が入射することを抑制できる。また、第１遮光部材と第２遮光部材との協働により、原稿等の読取対象の読取範囲外から直接結像面へ入射する迷光を遮光できる。よって、結像対象に結像する像の明るさと高いコントラストを確保し、高い解像度を得ることができる。

上記結像光学機構において、前記結像対象の位置において、前記移動方向においては前記読取対象の像を倒立結像し、前記交差方向においては前記読取対象の像を正立結像することが好ましい。

この構成によれば、第１鏡面、第２鏡面、結像対象を交差方向に複数組並べて配置した場合に、読取対象の像が交差方向では結像対象に正立結像されるので、結像対象の間で像をつなぐことができる。また、移動方向においては倒立結像なので、第１鏡面と第２鏡面との移動方向における曲率を小さくでき、収差を小さくできる。移動方向と交差方向での収差バランスを取るように移動方向での収差を少し許容すればその分凹面鏡の移動方向の寸法を長くでき、その分明るさを確保できる。

上記結像光学機構において、前記第１遮光部材は前記第２鏡面の前記移動方向における第１方向に隣接して一体に形成され、前記第２遮光部材は前記第１鏡面の前記移動方向における第２方向に隣接して一体に形成されることが好ましい。

この構成によれば、第１遮光部材と第２鏡面とが一体に形成された部品と、第２遮光部材と第１鏡面とが一体に形成された部品とを含む比較的少ない数の部品により、結像光学機構を製造できる。

上記結像光学機構において、前記第２鏡面は、前記反射した光を前記読取対象と前記第１鏡面との光学距離と同じ光学距離で結像させることが好ましい。
この構成によれば、第１遮光部材と第２鏡面とが一体に形成された部品と、第２遮光部材と第１鏡面とが一体に形成された部品との共通化が可能になり、結像光学機構を構成する部品の点数をさらに低減できる。

上記結像光学機構において、前記第１鏡面と前記第２鏡面とは共通の形状であることが好ましい。
この構成によれば、第１遮光部材と第２鏡面とが一体に形成された部品と、第２遮光部材と第１鏡面とが一体に形成された部品とを、共通の部品とすることができ、部品の点数をさらに低減できる。

上記結像光学機構において、前記第１遮光部材と前記第２遮光部材は、前記アパーチャー部材も一体に形成されることが好ましい。
この構成によれば、結像光学機構の部品の点数を一層低減できる。また、複数のアパーチャー部材の配置位置精度が高くなり、複数のアパーチャー部材を想定された設計どおりの位置に配置し易くなり、迷光を一層低減できる。この結果、結像対象に高いコントラストの像を結像させることができる。

上記課題を解決する読取モジュールは、上記結像光学機構と、前記交差方向に沿って前記読取対象に光を照射する前記光源としての線状光源と、前記結像対象としてのセンサーを複数配列したセンサー列と、を備えた前記光学モジュールの一例としての読取モジュールであって、前記結像光学機構は、前記第１鏡面を前記交差方向に複数配列した第１鏡面列と、前記第２鏡面を前記交差方向に複数配列した第２鏡面列と、前記スリットが前記第１鏡面列に光を入射可能に開口する前記第１遮光部材と、前記スリットが前記第２鏡面列に反射した光を前記センサー列に結像可能に開口する前記第２遮光部材と、を有する。

この構成によれば、読取対象に対して読取モジュールが相対的に移動することで、読取対象の明るい像をセンサー列に高いコントラストで結像させることができる。よって、読取モジュールによって、読取対象を高い解像度で読み取ることができる。

上記読取モジュールにおいて、前記第１遮光部材のスリットは、前記交差方向に前記第１鏡面列に光を入射可能な長さ範囲に亘って開口し、前記第２遮光部材のスリットは、前記交差方向に前記第２鏡面列に反射した光を前記センサー列に結像可能な長さ範囲に亘って開口することが好ましい。

この構成によれば、第１遮光部材と第２遮光部材にはスリットが交差方向に鏡面列の長さ範囲に亘り開口するので、例えば鏡面の個々に対応して開口する複数のスリットが形成された構成に比べ、結像光学機構への入射光量および結像光学機構からの射出光量を多く確保し、センサーに結像される像の明るさを確保できる。

上記課題を解決する画像読取装置において、上記読取モジュールと、読取対象としての原稿の位置を規定する透明部材と、前記原稿と前記光学モジュールとを相対的に移動させる搬送部と、を備え、前記読取モジュールは、前記透明部材を挟んで前記原稿とは反対側の位置で、前記原稿に照射した光の反射光を入射して前記原稿を読み取る。この構成によれば、画像読取装置は、読取対象である原稿を読取モジュールによって高い解像度で読み取ることができる。

一実施形態における複合機を示す斜視図。 原稿台カバーを開けた状態のスキャナー装置を示す模式平面図。 スキャナー装置の概略構成を示す部分側断面図。 読取モジュールの概略構成を示す模式側面図。 読取素子の概略構成を示す斜視図。 結像光学機構の概略構成を示す斜視図。 結像光学機構の構成を示す斜視図。 結像光学機構の構成を示す正断面図。 結像光学機構の構成を示す側断面図。 主走査方向において第１凹面鏡に反射した光を示す側断面図。 主走査方向において第２凹面鏡に反射した光を示す側断面図。 空間周波数とコントラストとの関係を示すグラフ。 読取画像を示す図。 凹面鏡長さ３．６ｍｍのときの明るさ比と焦点深度とを示すグラフ。 凹面鏡長さ４．８ｍｍのときの明るさ比と焦点深度とを示すグラフ。 比較例の結像光学機構を示す側断面図。 比較例の遮光隔壁板の減反射処理を評価したグラフ。 実施例のアパーチャー部材の減反射処理を評価したグラフ。 変更例における結像光学機構を示す側断面図。 第２実施形態における結像光学機構の構成を示す正断面図。 結像光学機構における迷光の低減を説明する正断面図。 第３実施形態における結像光学機構の構成を示す正断面図。 結像光学機構における迷光の低減を説明する正断面図。 第４実施形態におけるアパーチャー部材の構成を示す斜視図。 結像光学機構の構成を示す正断面図。 結像光学機構における迷光の低減を説明する正断面図。 第５実施形態におけるアパーチャー部材の構成を示す斜視図。 結像光学機構の構成を示す正断面図。 結像光学機構における迷光の低減を説明する正断面図。

以下、画像読取装置を具体化した一実施形態について、図面を参照して説明する。この第１実施形態における画像読取装置は、例えばスキャナー装置を備えた複合機である。
図１に示すように、複合機１１は、用紙などの媒体Ｐに印刷を行う印刷装置２１と、印刷装置２１の鉛直方向Ｚにおける上側に配置され、原稿Ｄを読み取り可能なスキャナー装置３１とを備える。複合機１１は、スキャン、コピー及び印刷の機能を備える。

複合機１１の装置本体１２に設けられた操作パネル１３は、メニュー画面等を表示するための表示部１４及び操作スイッチ等からなる操作部１５を備える。例えば操作部１５を操作することで、スキャン、コピー、印刷の要求が複合機１１に与えられる。また、複合機１１と通信ケーブルを通じて接続されたパーソナルコンピューター（ＰＣ）等からなる図示しないホスト装置からも、スキャン、印刷の要求が複合機１１に与えられる。複合機１１は、スキャン、コピーの要求時に、例えばスキャンジョブを受け付ける。

印刷装置２１は、装置本体１２の下部に挿着されたカセット１７から供給（給送）された媒体Ｐに印刷を施す。印刷後の媒体Ｐは装置本体１２の排出口２１Ａからスタッカー１８上に排出される。スキャナー装置３１が原稿Ｄを読み取り、その読み取った画像のデータを例えばホスト装置へ転送する。コピーは、スキャナー装置３１が読み取った原稿Ｄの画像データに基づく画像を、印刷装置２１が媒体Ｐに印刷することで行われる。このため、スキャンとコピーが行われるときにスキャナー装置３１による原稿Ｄの読み取りが行われる。

図１に示すように、スキャナー装置３１は、原稿を定置可能なフラットベッド型の原稿台３３（図２参照）を上部に有する本体３２と、原稿台３３に対して開閉可能な原稿台カバー３４とを備えている。そして、本例では、原稿台カバー３４の図１では上側となる背面部には、セットされた複数枚の原稿を自動で１枚ずつ搬送する原稿搬送部３５が装備されている。原稿搬送部３５は、複数枚の原稿Ｄをセット可能な載置台３６（セットトレイ）と、載置台３６上の原稿Ｄを一枚ずつ搬送する搬送機構部３７とを備える。搬送機構部３７は、載置台３６上の原稿を読取位置まで送り込む給送と、画像が読み取られた後の原稿Ｄを送り出す排出とを含む搬送を行う。画像読み取り後の原稿Ｄは、例えば載置台３６と原稿台カバー３４との間の排出領域に排出される。

図２、図３に示すように、スキャナー装置３１の本体３２は、図１に示す原稿台カバー３４と対向する部分に開口部を有する箱状のケース３８を有している。ケース３８の大きな開口部に四角板状の大きなガラス板４０Ａが嵌め込まれることにより原稿台３３が形成されている。また、ケース３８の小さな開口部に長四角板状の小さなガラス板４０Ｂが嵌め込まれることにより読取窓３９が形成されている。原稿台３３のガラス板４０Ａは、フラットベッド方式で読み取られる原稿Ｄが定置される領域であり、スキャナー装置３１が読取可能な最大原稿サイズよりも若干広いサイズを有している。また、読取窓３９のガラス板４０Ｂは、原稿搬送部３５から搬送された原稿Ｄの画像が読み取られる読取位置にある。本実施形態では、原稿Ｄの位置を規定するガラス板４０Ａ，４０Ｂを特に区別しない場合は、「ガラス板４０」という。なお、ガラス板４０は、原稿Ｄの位置を規定する透明部材の一例である。

図１に示す原稿台カバー３４は、図２、図３に示す原稿台３３に定置された原稿Ｄを押さえる閉位置と、原稿台３３に原稿Ｄをセットしたり読取り後の原稿Ｄを取り除いたりする際の開状態とに回動可能である。スキャナー装置３１は、フラットベット型の原稿台３３に定置された原稿Ｄを読み取る。また、図１に示す原稿搬送部３５によって搬送機構部３７内へ送り込まれた原稿Ｄは、閉状態にある原稿台カバー３４の裏面における読取窓３９（図３参照）とほぼ対向する位置へ送り出され、読取窓３９上で画像が読み取られた後、排出領域へ排出される。

このように本実施形態のスキャナー装置３１は、フラットベット型の原稿台３３に定置された原稿Ｄを読み取るＦＢ（Flatbed）モードと、原稿搬送部３５により載置台３６から搬送された原稿Ｄを搬送途中における読取窓３９と対応する読取位置で読み取るＡＤＦ（Auto Document Feeder）モードとの２種類のモードで動作する。

図２に示すように、ケース３８内には、主走査方向Ｘに沿って長く延びた光学モジュールの一例としての読取モジュール５０と、原稿Ｄ（図３参照）と読取モジュール５０とを副走査方向Ｙに相対移動させる搬送部６０とが設けられている。搬送部６０は、読取モジュール５０を搭載するセンシング用のキャリッジ６１と、キャリッジ６１を案内レール６２に沿って副走査方向Ｙに搬送（移送）させる動力をキャリッジ６１に与える駆動機構６３とを備える。

図２に示すように、読取モジュール５０は、ガラス板４０Ａ，４０Ｂを介して原稿Ｄ（図３参照）に光を照射する線状光源５２と、線状光源５２の延在方向である主走査方向Ｘに沿って配置され、原稿Ｄからの光を入射して原稿Ｄを読み取る読取素子５３とを備える。読取モジュール５０は、キャリッジ６１と共に副走査方向Ｙに移動して原稿Ｄを読み取る。読取モジュール５０は、長手方向（主走査方向Ｘ）に原稿Ｄの想定最大幅以上の長さを有する。一例として読取モジュール５０の長さは、原稿Ｄの想定最大幅である例えばＡ３サイズ（幅３２０ｍｍ）又はＡ４サイズ（幅２１０ｍｍ）よりも、若干長い値に設定されている。

図２に示すように、駆動機構６３は、キャリッジ６１の動力源となる電動モーター６４と、電動モーター６４の動力をキャリッジ６１に伝達する動力伝達機構６５とを備える。動力伝達機構６５は、電動モーター６４の動力で回転する駆動プーリー６６と案内レール６２に沿って延びる板金部材３２Ａの両端部に配置された２つの従動プーリー６７，６８とに巻き掛けられてキャリッジ６１を牽引する無端状のベルト６９を備える。キャリッジ６１は、ベルト６９における案内レール６２と平行に張設された部分の一部に連結部６１Ａを介して連結されている。そして、電動モーター６４が正転駆動すると、キャリッジ６１は往動方向Ｙ１に移動（往動）し、電動モーター６４が逆転駆動すると、キャリッジ６１が復動方向Ｙ２に移動（復動）する。読取モジュール５０は、キャリッジ６１が案内レール６２に沿って副走査方向Ｙに移動する途中で、原稿台３３に載置された原稿Ｄを読み取る。なお、キャリッジ６１上の読取モジュール５０は、フレキシブルケーブル５４を介して装置本体１２内に収容された制御部１００と電気的に接続されている。読取モジュール５０は、制御部１００からの指令信号に従って読取り動作を行い、原稿Ｄの画像を読み取った読取信号を制御部１００に出力する。制御部１００は、読取信号に基づく読取データを不図示のホスト装置に転送する。

一方、図３に示す原稿搬送部３５は、給送機構の一部を構成する不図示の給送ローラーおよび複数の給送ローラー対７３により原稿は給送経路ＳＰに沿って給送される。原稿は、その搬送途中の読取位置でガイド部３４Ａにより読取窓３９側へ押さえられ、キャリッジ６１上の読取モジュール５０により読取窓３９のガラス板４０Ｂを介して読み取られる。読み取られた原稿は複数の排出ローラー対７４により排出経路ＥＰに沿って搬送機構部３７から外側へ排出される。このようにＡＤＦモードでは、載置台３６（図１参照）にセットされた複数枚の原稿Ｄが一枚ずつ搬送機構部３７内へ給送され、搬送経路ＦＰの途中の読取位置でキャリッジ６１上の読取モジュール５０により読み取られる。

また、図３に示すように、搬送機構部３７内には、読取モジュール５０による原稿の読取面（表面）と反対側の面（裏面）を排出経路ＥＰの途中で読み取り可能な読取ユニット５１が配置されている。このため、スキャナー装置３１はＡＤＦモードにおいて原稿の両面の読取りも可能である。給送中の原稿を検知可能な第１検知部７６の検知信号に基づいて読取位置での読取モジュール５０による原稿の読取タイミングが決められる。また、排出中の原稿を検知可能な第２検知部７７の検知信号に基づいて読取ユニット５１による原稿の読取タイミングが決められる。また、読取ユニット５１には、キャリッジ６１上のものと同様の読取モジュール５０が内蔵されている。

また、図３に示すように、キャリッジ６１に搭載された読取モジュール５０は、ガラス板４０Ａ，４０Ｂにおける原稿Ｄの載置面と反対側に配置され、ガラス板４０Ａ，４０Ｂの裏面と対向して位置する。読取モジュール５０は、線状光源５２と、読取素子５３と、線状光源５２及び読取素子５３を投光及び受光が可能な状態に収容するハウジング５５とを有している。なお、スキャナー装置３１の本体３２（図１も参照）の上面部には、シェーディング補正に用いる白基準データを取得する際の読取対象とされる反射率の高い均一な反射面を有する２つの白基準板７８，７９が配置されている。

ＦＢモードで読取動作を行うときは、図３に二点鎖線で示すキャリッジ６１が往動方向Ｙ１へ移動することにより、ガラス板４０Ａ上の原稿Ｄを読取モジュール５０により読み取る。原稿Ｄを読み取った後のキャリッジ６１は、その読取終了位置から復動方向Ｙ２に移動して待機位置に復帰する。

このように複合機１１では、ＡＤＦモードでは原稿Ｄが読取モジュール５０に対して副走査方向Ｙに移動し、ＦＢモードでは読取モジュール５０がガラス板４０Ａ上の原稿Ｄに対して副走査方向Ｙに移動する。そして、ＡＤＦモードとＦＢモードとのいずれのモードにおいても、読取モジュール５０は、原稿Ｄに対して相対的に副走査方向Ｙに移動して原稿Ｄの画像を、図５に示すセンサー５７３により読み取る。本実施形態では、副走査方向Ｙが、読取モジュール５０が読取対象の一例としての原稿Ｄに対して相対的に移動する移動方向に相当し、主走査方向Ｘが移動方向と交差する交差方向に相当する。

次に、図４を参照して、読取モジュール５０の詳細な構成について説明する。図４に示すように、ガラス板４０上の原稿Ｄに対して相対的に移動する読取モジュール５０は、ガラス板４０を介して原稿Ｄに光を照射する線状光源５２と、原稿Ｄの読取面Ｄｐから反射した光を集光及び受光する読取素子５３とを備える。ガラス板４０と対向する部分の開口５５Ａを介して、線状光源５２の読取面Ｄｐへの投光と、読取素子５３の読取面Ｄｐからの反射光の受光とが可能になっている。

図４に示す線状光源５２は、線状光源５２の光の主軸Ｌ１が、ガラス板４０または読取面Ｄｐの法線Ｎ１の方向に対して角度θ１で傾斜する姿勢で配置されている。線状光源５２は、ＬＥＤ等の発光体５２１と、発光体５２１から出射された光を主走査方向Ｘに導きつつ角度θ１をなす方向へ導く導光部材としての例えばライトガイド５２２とを有している。ライトガイド５２２は、アクリル樹脂等の透明樹脂からなる棒形状を有する。ライトガイド５２２は、発光体５２１からの光を導いて、読取対象の帯状のエリアを均一な明るさで照明する。図４に示すように、ライトガイド５２２から導出される光の主軸Ｌ１は、ガラス板４０に対して所定角度をなす。このため、読取素子５３には原稿Ｄの正反射光は入射されず、原稿Ｄからの散乱反射光が入射される。原稿Ｄに反射して読取素子５３に入射する光Ｌ２の主軸の方向を、読取素子５３の光軸方向Ｚ１という。本例では、読取素子５３の光軸方向Ｚ１が、ガラス板４０と垂直な方向である鉛直方向Ｚと同じである。

図５は、読取モジュール５０として、コンタクトイメージセンサーモジュール５３０（以下、「ＣＩＳＭ（Contact Image Sensor Module）」ともいう。）を用いた例における読取素子５３を示す。ＣＩＳＭ５３０は、リニアイメージセンサーである。図５に示すように、ＣＩＳＭ５３０を構成する読取素子５３は、線状光源５２（図４参照）の延在方向である主走査方向Ｘに沿って配置され、原稿Ｄから反射した散乱光を入射して集光させる結像光学機構５６と、結像光学機構５６が集光させた光の像を受光する受光素子５７とを備える。結像光学機構５６および受光素子５７は、主走査方向Ｘに沿って延在する状態で、読取モジュール５０（ＣＩＳＭ５３０）に搭載されている。結像光学機構５６と受光素子５７は、ガラス板４０に近い側からこの順番に配置されている。結像光学機構５６は、ガラス板４０と比較的近接した位置で対向している。結像光学機構５６は、原稿Ｄの読取面Ｄｐから入射した散乱反射光を受光素子５７の受光面に結像させる機能を有する。結像光学機構５６は、スリット８１１に入射した光を受光素子５７に結像させるために設けられている。

図５に示す結像光学機構５６は、主走査方向Ｘに沿って延在するスリット８１１を有する筐体８０を備える。筐体８０内には、結像光学系の構成部品が収容されている。原稿Ｄに反射した散乱光はスリット８１１から入射する。スリット８１１から入射した光Ｌ２は、図５に一点鎖線の矢印で示す光路で筐体８０内の結像光学系で２回反射した後に、図７に示す第２スリット８２１から射出し、受光素子５７に結像される。つまり、原稿Ｄから受光素子５７までの光路長は焦点距離に設定され、読取面Ｄｐの像が受光素子５７に結像される。ＣＩＳＭ５３０は、入射光が筐体８０内で２回反射することで光路長が長く確保されるため、焦点深度が深くなっている。

図５に示す受光素子５７は、基板５７１と、基板５７１上に実装された複数のセンサー５７３が１列に配列されてなるセンサー列５７２とを有している。センサー列５７２は、主走査方向Ｘに沿って１列に配列された複数個（例えばＡ３サイズ（長さ３１０ｍｍ）であれば１５５００個）のセンサー５７３を有している。センサー列５７２により主走査方向Ｘの「１ライン」の像を撮像可能である。なお、本実施形態では、センサー５７３は、結像対象の一例を構成する。

図６に示す結像光学機構５６は、光入射用の第１スリット８１１を有する板状の第１遮光部材８１と、光出射用の第２スリット８２１を有する板状の第２遮光部材８２と、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２との間に光軸方向Ｚ１に間隔を開けて配置された複数のアパーチャー部材８３，８４とを有する。本例ではアパーチャー部材８３，８４は２つ設けられている。２つのアパーチャー部材８３，８４を、光の入射方向の上流側から順に、第１アパーチャー部材８３、第２アパーチャー部材８４とする。第１アパーチャー部材８３は、主走査方向Ｘに一定のピッチで開口する複数のスリット８３１を有する。第２アパーチャー部材８４も、主走査方向Ｘに一定のピッチで開口する複数のスリット８４１を有する。また、結像光学機構５６は、第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５が主走査方向Ｘに一定のピッチで１列に配列されてなる第１鏡面列の一例としての第１凹面鏡列８５１と、第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６が主走査方向Ｘに一定のピッチで１列に配列されてなる第２鏡面列の一例としての第２凹面鏡列８６１とを有する。

図６に示すように、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２は、原稿Ｄの読取面Ｄｐと直交する鉛直方向Ｚに対向し、２つの外壁部材８７，８８は副走査方向Ｙに対向している。これらの部材８１，８２，８７，８８により主走査方向Ｘに長く延びた四角筒状の筒体が構成される。

図７は、筐体８０のうち外壁部材８７，８８を省略し、結像光学機構５６において結像機能を担う主要構成を示す。なお、図７、図９等では、結像光学機構５６の主走査方向Ｘの全長を、実際よりも短く模式化した構成を示している。図６、図７に示すように、原稿Ｄが載置されるガラス板４０と対向する第１遮光部材８１は、四角板形状を有している。第１遮光部材８１には、主走査方向Ｘに延在するとともに光軸方向Ｚ１に貫通する光入射用の第１スリット８１１が開口している。本例の構成では、第１スリット８１１は、主走査方向Ｘに読取対象の原稿Ｄの幅に相当する長さを有し、副走査方向Ｙには例えば０．５〜１ｍｍの範囲内の所定値の幅を有する。また、第２遮光部材８２は、第１遮光部材８１と同様の四角板形状を有し、第１遮光部材８１に対してガラス板４０から離れる側に所定の距離を隔てて対向する位置に配置されている。第２遮光部材８２には、第１スリット８１１に対して副走査方向Ｙにずれた位置に主走査方向Ｘに延在する第２スリット８２１が開口している。第２スリット８２１は、第１スリット８１１と同様の開口形状および開口サイズを有する。すなわち、第２スリット８２１は、主走査方向Ｘに読取対象の原稿Ｄの幅に相当する長さを有し、副走査方向Ｙには例えば０．５〜１ｍｍの範囲内の所定値の幅を有する。

図７〜図９に示すように、第２遮光部材８２は、第１遮光部材８１の第１スリット８１１と対向する位置に、複数の第１凹面鏡８５が主走査方向Ｘに一定のピッチで１列に配列されてなる第１凹面鏡列８５１を有する。第１凹面鏡８５は、原稿Ｄから入射した光を反射する。

また、図７〜図９に示すように、第１遮光部材８１は、第２遮光部材８２の第２スリット８２１と対向する位置に、複数の第２凹面鏡８６が主走査方向Ｘに一定のピッチで１列に配列されてなる第２凹面鏡列８６１を有する。第２凹面鏡８６は、読取モジュール５０の相対的な移動方向である副走査方向Ｙにおいて、第１凹面鏡８５とは、ずれた位置に配置され、第１凹面鏡８５で反射した光を反射して射出する。

また、図７〜図９に示すように、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２との間には、格子状の第１アパーチャー部材８３と第２アパーチャー部材８４とが、所定の間隔を開けた状態で互いに平行に配置されている。第１遮光部材８１と第１アパーチャー部材８３との間隔Ｇ１（図９）と、第２アパーチャー部材８４と第２遮光部材８２との間隔Ｇ２（図９）と、第１アパーチャー部材８３と第２アパーチャー部材８４との間隔Ｇ３（図９）は、入射した光のうち読取対象位置Ｐ１の像をセンサー５７３に結像させるうえで妨げとなる迷光を抑制しうる距離に設定されている。すなわち、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２との間において、複数のアパーチャー部材８３，８４の光軸方向Ｚ１における相対位置は、迷光を効果的に抑制しうる位置に設定されている。第１遮光部材８１、第１アパーチャー部材８３、第２アパーチャー部材８４および第２遮光部材８２は、光軸方向Ｚ１に各間隔Ｇ１〜Ｇ３を隔てて互いに平行に配置されている。

第１アパーチャー部材８３は、主走査方向Ｘに所定の幅で一定のピッチで配置され且つ副走査方向Ｙに所定長さに延在する長孔よりなる複数のスリット８３１を有する。第２アパーチャー部材８４は、第１アパーチャー部材８３と同一形状および同一サイズを有し、主走査方向Ｘに所定の幅で一定のピッチで配置され且つ副走査方向Ｙに所定長さに延在する長孔よりなる複数のスリット８４１を有する。各凹面鏡８５，８６および各スリット８３１，８４１は、光軸方向Ｚ１に個々に対応して位置する。

図７、図８に示すように、第１遮光部材８１は、読取対象位置Ｐ１から入射した光が複数のアパーチャー部材８３，８４のうち光の入射側（原稿Ｄ側）に配置された第１アパーチャー部材８３に向かう経路上に配置され、第１凹面鏡８５に対向する位置にスリット８１１を有する。また、第２遮光部材８２は、第２凹面鏡８６に反射した光が複数のアパーチャー部材８３，８４のうちセンサー５７３に近い側に配置された第２アパーチャー部材８４を通過してセンサー５７３へ向かう経路上に配置され、第２凹面鏡８６に対向する位置にスリット８２１を有する。

第１遮光部材８１と第２遮光部材８２の各スリット８１１，８２１の副走査方向Ｙの幅Ｓ１，Ｓ２は、一例として、０．５〜１．０ｍｍの範囲内の値に設定されている。その幅は、例えば０．７ｍｍである。スリット８１１，８２１の副走査方向Ｙの幅Ｓ１が大きくなると、第１凹面鏡８５に当たらずスリット８２１をすり抜けてセンサー５７３に迷光が入射したり、第２遮光部材８２の第１凹面鏡８５以外の内壁面に反射した光が第２凹面鏡８６に入射して迷光の原因になったりする。一方、スリット８１１の幅Ｓ１を小さくし過ぎると、第１凹面鏡８５への入射光量が少なくなり、センサー５７３に結像される光の像が暗くなる。このため、スリット８１１の幅Ｓ１は、第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙの範囲の全域にスリット８１１からの光が照射可能な値に設定されている。第１遮光部材８１のスリット８１１は、主走査方向Ｘに第１凹面鏡列８５１に光を入射可能な長さ範囲に亘って開口している。なお、迷光はセンサー５７３が受光しなければ問題はない。

また、図８に示すように、複数のアパーチャー部材８３，８４には、副走査方向Ｙにおいて原稿Ｄから入射した光ＬＡが第１凹面鏡８５へ向かう経路と、第１凹面鏡８５で反射した光ＬＢが第２凹面鏡８６に向かう経路と、第２凹面鏡８６で反射した光ＬＣがセンサー５７３へ向かう経路とに亘る範囲でスリット８３１，８４１が開口している。

２つのアパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１は、光軸方向Ｚ１において第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６と対向して位置する。このため、スリット８３１，８４１は、主走査方向Ｘにおいてそれぞれの幅中心が、第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６のそれぞれの幅中心と一致し、且つ第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６と同一のピッチで配列されている。スリット８３１，８４１の主走査方向Ｘの幅は、スリット８１１から入射した散乱光のうちスリット８３１を通り抜け、更に主走査方向Ｘに同じ位置のスリット８４１を通り抜けた光が、第１凹面鏡８５の主走査方向Ｘの範囲に照射され且つこの範囲外に照射されない寸法に設定されている。

ここで、スリット８３１，８４１の主走査方向Ｘの幅は、広過ぎると迷光を抑制する効果が低下し、一方、狭くすると迷光を抑制できるもののセンサー５７３に結像される像が暗くなる。また、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２に対する２つのアパーチャー部材８３，８４の光軸方向Ｚ１の相対位置および間隔は、アパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１以外の部分で遮光しセンサー５７３に至る迷光を効果的に抑制可能に設定されている。

例えばアパーチャー部材を１つにすると、迷光を抑制するためにアパーチャー部材を光軸方向Ｚ１に厚くする必要があり、この場合、スリットの幅が１ｍｍ、厚さが１０ｍｍほどになってしまい、射出成形では製造が困難であり、また、スリット孔の壁面からの反射による迷光が増加する。そのため、本実施形態では、２つの遮光部材８１，８２の間に複数のアパーチャー部材８３，８４を光軸方向Ｚ１に間隔をおいて配置し、アパーチャー部材８３，８４の光軸方向Ｚ１の総厚を相対的に小さく抑え、１枚のアパーチャー部材をすり抜けた迷光はもう一枚のアパーチャー部材の前面で遮光する構成とした。なお、迷光を抑制して必要なコントラストの像を結像し必要な解像度が得られるのであれば、アパーチャー部材は１つでもよい。また、アパーチャー部材が複数とは、主走査方向Ｘよりも副走査方向Ｙの幅の長いスリットを有する板状の部分であるアパーチャー部が、光軸方向Ｚ１において第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６との間の位置に間隔をおいて配置される数が複数であることを指す。例えば、２つのアパーチャー部材８３，８４が一体成形された１部品で構成されても、本明細書では、アパーチャー部が光軸方向Ｚ１に間隔をおいて配置された数が２つであれば、複数のアパーチャー部材８３，８４の数は２つとみなす。

また、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２の内壁面、およびアパーチャー部材８３，８４の壁面には、表面で反射した光を散乱させて正反射光を抑制する減反射処理が施されている。減反射処理は、つや消し黒色処理またはサンドブラスト処理である。例えば、遮光部材８１，８２およびアパーチャー部材８３，８４を黒色の合成樹脂で成形したり、成形後の部材８１〜８４の表面にサンドブラスト処理あるいはつや消し黒色塗装を施したりする。サンドブラスト処理を施す場合は、成形する合成樹脂は任意の色でもよいが、明度の低い色が好ましい。また、黒色の合成樹脂で成形した後、表面にサンドブラスト処理を施すことがより好ましい。

図８に示すように、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６は、副走査方向Ｙにおいて重ならない程度にずれた位置に配置され、図９に示すように、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６は、主走査方向Ｘにおいて重なる位置に配置されている。図８に示すように、第１遮光部材８１は第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙにおける第１方向に第２凹面鏡８６と隣接する状態で第２凹面鏡８６と一体に形成されている。第２遮光部材８２は第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙにおける第２方向に第１凹面鏡８５と隣接する状態で第１凹面鏡８５と一体に形成されている。ここで、第１方向と第２方向は、副走査方向Ｙにおける互いに反対向きの方向であり、図２、図４に示す例では、第１方向が復動方向Ｙ２、第２方向が往動方向Ｙ１となっている。このため、第１凹面鏡８５が、第１遮光部材８１のスリット８１１と光軸方向Ｚ１に対向し、第２凹面鏡８６が、第２遮光部材８２のスリット８２１と光軸方向Ｚ１に対向する位置関係となっている。

第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６は、主走査方向Ｘにおいてセンサー５７３と同一のピッチでセンサー５７３の数と同数設けられている。つまり、図７、図９に示す凹面鏡列８５１，８６１を構成する凹面鏡８５，８６の主走査方向Ｘにおける位置およびピッチは、図５に示すセンサー列５７２を構成するセンサー５７３の主走査方向Ｘの位置およびピッチに合わせて設定されている。センサー５７３は１画素２０μｍ幅でＡ３サイズ（長さ３１０ｍｍ）であれば１５５００個配置される。主走査方向Ｘに隣接した凹面鏡で結像した光は隣接する凹面鏡で結像した像と一部重なって切れ目無く原稿幅一杯に結像することになる。例えば、ＲＧＢのカラーで画像を読み取る場合であれば、このセンサー列５７２がＲＧＢ独立で３列配置される。また、図８に示すように、両凹面鏡８５，８６は、入射光が第１凹面鏡８５で反射した反射光が第２凹面鏡８６へ向かい、その反射光が第２凹面鏡８６でさらに反射した反射光がセンサー５７３に向かうように、光軸方向Ｚ１と直交する仮想面に対して双方の凹面が互いに対向する側へ所定の傾斜角で傾いている。スリット８３１，８４１の主走査方向Ｘにおける位置およびピッチは、各凹面鏡８５，８６の主走査方向Ｘにおける位置およびピッチに等しい。

図９に示すように、本実施形態の結像光学機構５６では、主走査方向Ｘの位置が同じになる１組の凹面鏡８５，８６および１組のスリット８３１，８４１等よりなる主走査方向Ｘにアレイピッチの幅１つ分に相当する部分によって、単位結像素子ＳＬが構成される。結像光学機構５６は、複数の単位結像素子ＳＬが主走査方向Ｘに１列に配列されることにより構成される。なお、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６は、主走査方向Ｘに、例えば１．０〜３．０ｍｍの範囲内の値のピッチ寸法に設定され、一例として１．６ｍｍピッチで配列されている。また、スリット８３１，８４１の主走査方向Ｘのピッチは、凹面鏡８５，８６のピッチと同じで１．６ｍｍである。

図８に示すように、原稿の読取対象位置Ｐ１から第１スリット８１１を通過して広がった光ＬＡが、第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙの範囲に照射されるように、第１スリット８１１の副走査方向Ｙの幅Ｓ１（図７参照）と、第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙの長さＬＹ１とが設定されている。つまり、第１遮光部材８１のスリット８１１の副走査方向Ｙにおける幅Ｓ１は、原稿Ｄから入射する光を副走査方向Ｙに制限することで、副走査方向Ｙにおいて第１凹面鏡８５の範囲に照射される光の通過を許容し、かつ第１凹面鏡８５の範囲以外へ照射される光の通過を制限する長さに設定されている。つまり、図８に示すように、第１遮光部材８１に形成されたスリット８１１の副走査方向Ｙにおける内側の端部は、対向配置された第１凹面鏡８５以外に向かう光を遮る位置に配置される。また、図７、図９に示すように、第１遮光部材８１のスリット８１１は、主走査方向Ｘには第１凹面鏡列８５１に光を入射可能な長さ範囲に亘って開口している。

また、図８に示すように、第１凹面鏡８５で反射した平行光ＬＢが、第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙの範囲に照射されるように、第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ２が設定されている。また、第２遮光部材８２のスリット８２１の副走査方向Ｙにおける図７に示す幅Ｓ２は、第２凹面鏡８６に反射した光ＬＣが通過可能な長さに設定されている。つまり、第２遮光部材８２に形成されたスリット８２１の副走査方向Ｙにおける内側の端部は、対向配置された第２凹面鏡８６以外からの光を遮る位置に配置される。また、図７、図９、図１１に示すように、第２遮光部材８２のスリット８２１は、主走査方向Ｘには第２凹面鏡列８６１に反射した光をセンサー列５７２に結像可能な長さ範囲に亘って開口している。

図９に示すように、第１凹面鏡８５の主走査方向Ｘにおける長さＬＸ１は、センサー５７３の主走査方向Ｘのピッチの長さにほぼ等しい。また、第２凹面鏡８６は主走査方向Ｘにおける長さＬＸ２は、センサー５７３の主走査方向Ｘのピッチの長さにほぼ等しい。そして、図８、図９に示すように、第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６は、副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２が、主走査方向Ｘの長さＬＸ１，ＬＸ２よりも長く形成されている。

センサー５７３の位置において、副走査方向Ｙにおいては原稿Ｄの像を倒立結像し、主走査方向Ｘにおいては原稿Ｄの像を正立結像する。ラインセンサーを構成する受光素子５７では、センサー列５７２の列方向である主走査方向Ｘでは、隣接する各センサー５７３上の像をつなぐ必要があるため、等倍正立結像としている。これに対して、副走査方向Ｙ（移動方向）はその種の制限がないので、等倍倒立結像としている。結像光学機構５６は、副走査方向Ｙでは軸対称光学系ではなくＺ型光学系であるため、一般に光学設計が難しい。これに対して、本実施形態では、副走査方向Ｙでは倒立結像とし、凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙにおける曲率を小さくしている。このため、収差を小さくでき、結像光学機構５６の設計が容易である。

図９に示すように、複数のアパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１の主走査方向Ｘの幅は、原稿Ｄの読取対象位置Ｐ１から光軸方向Ｚ１に入射した光ＬＡが、対応する１組の複数のスリット８３１，８４１を通って第１凹面鏡８５の主走査方向Ｘの幅の範囲内に照射され、その幅の範囲外の迷光は遮光されるように設定されている。図９に示すように、例えば読取対象位置Ｐ１からの散乱光のうち第１遮光部材８１のスリット８１１を通過して入射した同図に一点鎖線で示す光は、複数のアパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１以外の部分によって遮光される。仮にスリット８３１，８４１を通過して第１凹面鏡８５で反射しても、その反射した迷光は、アパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１以外の部分によって遮光される。このため、最終的に第２遮光部材８２のスリット８２１を通過して、他の単位結像素子ＳＬに対応するセンサー５７３に至る迷光はほぼ無くなる。

図８に示すように、第１凹面鏡８５は、副走査方向Ｙにおいては原稿Ｄから広がって入射した光が平行光ＬＢとして反射することが可能な第１曲率Ｃ１の凹面よりなる第１凹面８５Ａを有する。また、図９に示すように、第１凹面鏡８５は、主走査方向Ｘにおいては原稿Ｄから広がって入射した光ＬＡが第１凹面鏡８５に反射し、図１０に示すように、その反射した光ＬＢが第２凹面鏡８６との間の中間に位置する集光位置Ｐ３で結像するように反射することが可能な第２曲率Ｃ２の凹面よりなる第２凹面８５Ｂを有する。ここで、図８に示す第１凹面８５Ａは、第１凹面鏡８５を主走査方向Ｘと直交する仮想面で切った断面での凹状の面形状を指す。また、図９、図１０に示す第２凹面８５Ｂは、第１凹面鏡８５を副走査方向Ｙと直交する仮想面で切った断面での凹状の面形状を指す。

また、図８に示すように、第２凹面鏡８６は、副走査方向Ｙにおいては第１凹面鏡８５で反射して入射した平行光ＬＢをセンサー５７３の位置Ｐ２で結像するように反射することが可能な第３曲率Ｃ３の凹面よりなる第３凹面８６Ａを有する。また、図１１に示すように、第２凹面鏡８６は、主走査方向Ｘ（交差方向）においては第１凹面鏡８５との間の集光位置Ｐ３で結像して入射した光ＬＢを、センサー５７３の結像位置Ｐ２に結像するように反射させることが可能な第４曲率Ｃ４の凹面よりなる第４凹面８６Ｂを有する。ここで、第３凹面８６Ａは、第２凹面鏡８６を主走査方向Ｘと直交する仮想面で切った断面での凹状の面形状を指し、第４凹面８６Ｂは、第２凹面鏡８６を副走査方向Ｙと直交する仮想面で切った断面での凹状の面形状を指す。

アパーチャー部材８３，８４においてスリット８３１，８４１の隣合う間隔の部分に相当する隔壁部の主走査方向Ｘの最低厚は、その成形上の限界および必要な強度を確保するうえで所定値に決まる。スリット８３１，８４１のピッチが大きいと、その主走査方向Ｘの開口幅を広くでき、明るい像が得られるが、被写界深度および焦点深度が浅くなり、光量むらが大きくなり、また迷光が発生してしまう。そのため、ピッチをなるべく小さくし、例えば１．０〜２．６ｍｍの範囲内の値にすることで、被写界深度および焦点深度を大きくし、高い解像度を得られるようにしている。このため、原稿Ｄがガラス板４０から少し浮くなどして読取面Ｄｐが光軸方向Ｚ１に多少ずれても、像のぼけを少なくでき、必要な高い解像度を確保できる。

ピッチの寸法からアパーチャー部材８３，８４の隔壁部の主走査方向Ｘの厚さを減算すると、スリット８３１，８４１の主走査方向Ｘの開口寸法になる。隔壁部の主走査方向Ｘの厚さは、成形上の制限から最小０．４ｍｍ程度であり、一例として０．４〜０．６ｍｍの範囲内の値である。もちろん、製造上可能で且つ必要な強度が得られれば、隔壁部の幅は０．２ｍｍや０．３ｍｍでもよいが、迷光が発生してしまい、画像にゴーストが発生する。このように隔壁部の最小厚の制限、要求される被写界深度および焦点深度、迷光抑制の理由から、スリット８３１，８４１の主走査方向Ｘの開口幅は、ピッチ幅以下であり、一例として０．４〜２．０ｍｍの範囲内の値としている。なお、アパーチャー部材８３，８４の光軸方向Ｚ１の厚さは、例えば１．０〜２．０ｍｍの範囲内の値であり、一例として１．５ｍｍである。厚いとアパーチャー部材８３，８４の内壁での反射による迷光が多くなり、薄いと前後のアパーチャー部材８３，８４だけでは迷光を遮断できなくなる。

一方、スリット８３１，８４１のピッチを小さくすると、それらの全数は増えるものの、アパーチャー部材８３，８４の隔壁部の最小厚は確保する必要があるため、主走査方向Ｘに隔壁部の占める割合が増し、その結果として、スリット８３１，８４１の占める割合が減る。これは、センサー５７３に結像される像が暗くなることに繋がる。また、アパーチャー部材８３，８４の内壁の総面積が増えるため、迷光量も増えることになる。

そのため、像の明るさは、スリット８３１，８４１の副走査方向Ｙの開口幅を長くするとともに、第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２を長くすることで補っている。第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２は、一例として、２．５〜４．５ｍｍの範囲内の値に設定されている。本実施形態では、長さＬＹ１，ＬＹ２は、一例として３．６ｍｍである。

各凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２が大きいので、必要な深さの被写界深度および焦点深度を確保するためには、各凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの凹面８５Ａ，８６Ａの曲率Ｃ１，Ｃ３をあまり大きくできない。つまり、各凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの凹面８５Ａ，８６Ａの曲率Ｃ１，Ｃ３は、大きくすると、像が副走査方向Ｙにぼけてしまうため、小さくする必要がある。

そのため、副走査方向Ｙの結像は、各凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの凹面８５Ａ，８６Ａの曲率Ｃ１，Ｃ３を小さくできる倒立結像にしている。例えば、副走査方向Ｙも主走査方向Ｘと同様に正立結像にすると、各凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの凹面８５Ａ，８６Ａの曲率Ｃ１，Ｃ３を大きくして、各凹面鏡８５，８６間の中間位置で光線をクロスさせて結像させなければならず、この場合、収差が大きくなり、また焦点深度が浅くなる。このため、本実施形態では、副走査方向Ｙは倒立結像にすることで、副走査方向Ｙに必要な深さの被写界深度および焦点深度を確保し、且つ収差を小さく抑えている。

また、例えばＳＬＡ等のレンズ方式であると、光を屈折させて集光させるので、色収差が発生する。色収差があると、ＲＧＢ光それぞれで焦点位置が異なり、ＲＧＢ光での最大公約数の焦点距離とする必要があるため、フルカラーでは焦点深度が浅くなる。これに対して、本実施形態の結像光学機構５６は、物質の屈折率によらず、凹面鏡８５，８６の反射による集光現象を用いるため色収差は発生しない。このため、レンズ方式に比べ色収差を原理的に無くすことができる。

ところで、結像光学機構５６の各部材８１〜８４の光軸方向Ｚ１の相対位置が、設計位置からずれると、単位結像素子ＳＬに、他の単位結像素子ＳＬから入射する迷光が発生し易くなる。このため、一体形成した２つの部品ＰＴ１，ＰＴ２を組み立てることで、各部材８１〜８４の光軸方向Ｚ１の相対位置の位置ずれを抑え、迷光の発生を抑制できる。一体形成した２つの部品ＰＴ１，ＰＴ２で構成するため、各種の寸法が設定されている。

図８に示すように、結像光学機構５６は等倍光学系であるため、主走査方向Ｘ（紙面に垂直方向）で光線ＬＢの中央線の中間点を通る軸に対して軸対称にできる。そのため、第１遮光部材８１と第１アパーチャー部材８３との間隔Ｇ１と、第２遮光部材８２と第２アパーチャー部材８４との間隔Ｇ２は等しくできる（Ｇ１＝Ｇ２）。また、複数のアパーチャー部材８３，８４の厚さも等しくできる。第２凹面鏡８６は、反射した光を原稿Ｄと第１凹面鏡８５との光学距離ＬＦ１と同じ光学距離ＬＦ２で結像させられる。また、図８、図９に示すように、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６とは共通の形状にできる。つまり、副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２が等しく（ＬＹ１＝ＬＹ２）、主走査方向Ｘの長さＬＸ１，ＬＸ２が等しい（ＬＸ１＝ＬＸ２）。さらに第１曲率Ｃ１と第３曲率Ｃ３とが等しく、第２曲率Ｃ２と第４曲率Ｃ４とが等しい。また、図６に示すように、第１遮光部材８１と第１アパーチャー部材８３とが一体に形成され、第２遮光部材８２と第２アパーチャー部材８４とが一体に形成されている。

図６に示す例では、結像光学機構５６は、第１部品ＰＴ１と第２部品ＰＴ２とにより構成される。第１部品ＰＴ１は、第１遮光部材８１と第２アパーチャー部材８４と板状の外壁部材８７とが一体に成形されることで構成される。第２部品ＰＴ２は、第２遮光部材８２と第１アパーチャー部材８３と板状の外壁部材８８とが一体に成形されることで構成される。第１部品ＰＴ１と第２部品ＰＴ２とは、同一形状および同一サイズを有する同一の部品である。つまり、２つの同一の部品ＰＴ１，ＰＴ２を組み立てることで、結像光学機構５６が製造されている。例えば合成樹脂で射出成形した樹脂成形部品における凹面鏡形成部の表面に金属を蒸着し、第１凹面鏡列８５１および第２凹面鏡列８６１を形成することで、２つの部品ＰＴ１，ＰＴ２は製造される。結像光学機構５６は、２つの部品ＰＴ１，ＰＴ２を組み立てる構成なので、第１遮光部材８１と第２アパーチャー部材８４との光軸方向Ｚ１の間隔、および第２遮光部材８２と第１アパーチャー部材８３との光軸方向Ｚ１の間隔の寸法精度が確保される。このため、光軸方向Ｚ１に並ぶ４つの部材８１〜８４の光軸方向Ｚ１の相対位置を精度良く位置決めできる。なお、図６は、結像光学機構５６の構造の一例を示したものであり、各部材８１〜８４および外壁部材８７，８８が、別々の部品であってもよい。また、第１遮光部材８１と外壁部材８７が一体、第２遮光部材８２と外壁部材８８が一体で、各アパーチャー部材８３，８４が別部品の構成であってもよい。

次に、本実施形態の結像光学機構５６を含む読取モジュール５０の読取り解像度を評価した。結像光学機構５６におけるスリット８３１，８４１および凹面鏡８５，８６の主走査方向Ｘのピッチであるアレイピッチは、１．６ｍｍである。また、スリット８１１，８２１の主走査方向Ｘの幅Ｓ１，Ｓ２は０．７ｍｍである。凹面鏡８５，８６の主走査方向Ｘの長さＬＸ１，ＬＸ２は１．６ｍｍであり、その副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２は３．６ｍｍである。評価のシミュレーションには、レンズ設計ソフトウェアとしてＳｙｎｏｐｓｉｓ社製の商品名「ＣｏｄｅＶ」を用いた。

図１２は、結像光学機構５６の解像度特性を評価する変調伝達関数（Modulated Transfer Function）曲線（ＭＴＦ曲線）を示す。ＭＴＦ曲線は、センサー５７３の撮像面上で像が読取対象を忠実に再現しているかを周波数特性で評価している。図１２のグラフにおいて、横軸は空間周波数（サイクル／ｍｍ）を示し、縦軸はコントラスト（Modulation）を示す。空間周波数は、撮像面上で１ｍｍ当たりの白黒パターンの本数で示される。コントラストは、最大輝度Ｌmaxと最小輝度Ｌminとを用いて、Modulation＝(Ｌmax−Ｌmin)／(Ｌmax＋Ｌmin)で示される。このＭＴＦ曲線は、解像度を示す指標である。

結像光学機構５６は、複数の単位結像素子ＳＬが主走査方向Ｘに複数配列されることにより構成される。単位結像素子ＳＬはアレイピッチが１．６ｍｍで配列され、且つ原稿Ｄの読取対象位置Ｐ１における１．６ｍｍ四方の実視野をセンサー５７３の撮像面に等倍結像させる。このため、実視野は、主走査方向Ｘで１．６ｍｍの範囲である。図１２には、実視野の中心からの主走査方向Ｘの距離０ｍｍ、０．４ｍｍ、０．８ｍｍの位置において空間周波数に対するコントラストを示す。図１２のグラフにおいて、曲線Ｆ１Ｘ，Ｆ１Ｙは、実視野の中心からの距離０ｍｍの位置におけるＭＴＦ曲線を示す。曲線Ｆ２Ｘ，Ｆ２Ｙは、実視野の中心からの距離０．４ｍｍの位置におけるＭＴＦ曲線を示す。曲線Ｆ３Ｘ，Ｆ３Ｙは、実視野の中心からの距離０．８ｍｍの位置におけるＭＴＦ曲線を示す。また、曲線Ｆ１Ｘ，Ｆ２Ｘ，Ｆ３Ｘは主走査方向ＸにおけるＭＴＦ曲線、曲線Ｆ１Ｙ，Ｆ２Ｙ，Ｆ３Ｙは、副走査方向ＹにおけるＭＴＦ曲線を示す。曲率の小さな副走査方向Ｙの解像度（破線の曲線）が高いことが分かる。

図１２のグラフにおいて、コントラストが約０．２であるときが許容可能な画質の最小コントラスト性能とされる。０．３以上のコントラストが得られれば必要な解像度が得られる。本実施形態の複合機１１におけるスキャナー装置３１では、６サイクル／ｍｍの読み取り解像度が要求される。図１２のグラフから分かるように、空間周波数６サイクル／ｍｍでは、実視野における主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの０〜０．８ｍｍの全ての位置で、０．８７以上の高いコントラストが得られる。また、空間周波数１２サイクル／ｍｍでは、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙともに０．６３以上のコントラストが得られ、１６サイクル／ｍｍでも主走査方向Ｘと副走査方向Ｙともに０．４２以上の比較的高いコントラストが得られる。この結果、結像光学機構５６を有する読取モジュール５０により、空間周波数で６〜１２サイクル／ｍｍの解像度が得られる。よって、スキャナー装置３１に要求される解像度は十分得られる。

次に、本実施形態の読取モジュール５０により、原稿Ｄを読み取った際にセンサー５７３の撮像面に結像した像を確認した。図１３は、読取モジュール５０により、原稿Ｄの画像として斜め４５度の６サイクル／ｍｍのストライプを読み取った際にセンサー５７３の撮像面に結像した像を示す。結像光学機構５６のアレイピッチは０．８ｍｍである。図１３では、主走査方向Ｘに中心から距離±０．６ｍｍの範囲、副走査方向Ｙに中心から距離±０．２ｍｍを含む範囲の像を示す。主走査方向Ｘに±０．４ｍｍの位置が、隣の単位結像素子ＳＬとの繋ぎ目となっている。図１３に示すように、単位結像素子ＳＬの繋ぎ目においても原稿Ｄを必要な解像度で読み取られていることを確認できた。

また、本実施例の結像光学機構５６を備えた読取モジュール５０について、センサー５７３に結像される像の明るさおよび焦点深度を評価した。実施例の結像光学機構５６は、凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２を３．６ｍｍと４．８ｍｍとの２種類とし、それぞれについてアレイピッチが１．４ｍｍ、１．６ｍｍ、１．８ｍｍである計６種類とした。また、レンズアレイ方式の結像光学系として、複写機用のセルフォック（登録商標）レンズアレイ（ＳＬＡ）を比較例とした。比較例のＳＬＡには、日本板硝子社製の商品名「ＳＬＡ−１２Ｅ」を用いた。

凹面鏡８５，８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２を凹面鏡長さＬＹと記すと、図１４が凹面鏡長さＬＹ＝３．６ｍｍである場合、図１５が凹面鏡長さＬＹ＝４．８ｍｍである場合の評価結果である。明るさ比は、線状光源５２の明るさ一定の条件の下で、比較例のＳＬＡで得られた像の明るさを１．０とした場合の明るさの比を示す。また、焦点深度は、主走査方向Ｘの焦点深度である主走査焦点深度と、副走査方向Ｙの焦点深度である副走査焦点深度とを示す。

図１４、図１５に示すように、明るさ比は、凹面鏡長さＬＹが３．６ｍｍと４．８ｍｍのどちらも、どのピッチ１．４ｍｍ、１．６ｍｍ、１．８ｍｍにおいても、比較例のＳＬＡよりも低く、約０．３３〜０．６８程度であった。凹面鏡長さＬＹが長いほど、また、ピッチ寸法が大きいほど、高い明るさ比が得られた。なお、実施例の明るさ比は、図１４に示す凹面鏡長さＬＹ＝３．６ｍｍの場合、ピッチ１．４ｍｍであるときに０．３３、ピッチ１．６ｍｍであるときに０．３８、ピッチ１．８ｍｍであるときに０．５であった。また、図１５に示す凹面鏡長さＬＹが４．８ｍｍである場合、明るさ比は、ピッチ１．４ｍｍであるときに０．４３、ピッチ１．６ｍｍであるときに０．５、ピッチ１．８ｍｍであるときに０．６８であった。

また、焦点深度については、比較例のＳＬＡは主走査焦点深度が０．５８ｍｍと浅く、副走査焦点深度が２ｍｍ以上と深い。これに対して、各実施例はいずれも、主走査焦点深度と副走査焦点深度との差が小さい。図１４に示すように、凹面鏡長さＬＹ＝３．６ｍｍの実施例では、主走査焦点深度は、ピッチが大きくなるほど徐々に浅くなり、０．８〜１．２ｍｍの範囲の値をとり、副走査焦点深度は、どのピッチも１．１５ｍｍ程度であった。一方、図１５に示すように、凹面鏡長さＬＹ＝４．８ｍｍの実施例では、主走査焦点深度は、ピッチが大きくなるほど徐々に浅くなり、０．７５〜１．０５ｍｍの範囲の値をとり、副走査焦点深度は、どのピッチも０．７ｍｍ程度であった。

このように実施例では、明るさが比較例のＳＬＡの１／２〜２／３程度であり、凹面鏡長さＬＹが長いほど、明るさは増すものの、焦点深度は浅くなる傾向がある。実施例では、凹面鏡長さＬＹ＝３．６ｍｍと４．８ｍｍで共に、ピッチ１．４〜１．８ｍｍの範囲で明るさではＳＬＡに劣るものの、ＳＬＡよりも特に主走査方向Ｘには深い焦点深度が得られた。実施例では、特に、凹面鏡長さＬＹ＝３．６ｍｍの場合においてピッチ１．４ｍｍと１．６ｍｍで、主走査方向Ｘと副走査方向Ｙの焦点深度が共に１．０ｍｍ以上得られている。

なお、凹面鏡長さＬＹが４．８ｍｍを超えると、焦点深度が比較例のＳＬＡよりも浅くなるので、凹面鏡長さＬＹは４．８ｍｍより短いことが好ましい。また、凹面鏡長さＬＹが２．０ｍｍ未満になると、像が暗くなるので、凹面鏡長さＬＹは２．０ｍｍ以上が好ましい。よって、凹面鏡長さＬＹは、２．０ｍｍ〜４．８ｍｍの範囲内の値が好ましい。

また、本実施例の結像光学機構５６において減反射処理の効果を評価した。図１６に示す遮光隔壁板９５を備えた結像光学機構９０を比較例とした。図１６に示すように、比較例の結像光学機構９０は、光軸方向Ｚ１に対向する１組の遮光部材９１，９２と、１組の凹面鏡９３，９４とを有する単位結像素子ＳＬ１を主走査方向Ｘに複数備え、各単位結像素子ＳＬ１の主走査方向Ｘの両側には遮光隔壁板９５が主走査方向Ｘに一定ピッチで配列されている。

表面で反射した光を散乱させて正反射光を抑制する減反処理は、実施例では、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２の内壁面、およびアパーチャー部材８３，８４の壁面に施されている。また、比較例では、減反射処理が、遮光部材９１，９２の内壁面と、遮光隔壁板９５の壁面に施されている。減反射処理面は、黒アルマイト処理面とし、理想の光吸収面、白散乱面、ミラー面と比較した。実施例と比較例とにおいてセンサー５７３の単位面積当たりの受光量（ミリワット／平方ミリメートル）により減反射処理の効果を評価した。

図１７は比較例の減反射処理の評価結果を示し、図１８は実施例の減反射処理の評価結果を示す。副走査方向Ｙに８ｍｍの位置に６ラインペア／ｍｍの縞領域が印刷された背景が黒色の原稿を配置し、センサー列の受光量を評価した。図１７、図１８の各グラフにおいて、横軸が受光量、縦軸が副走査方向Ｙにおける原稿位置である。図１７に示す比較例と図１８に示す実施例との両方で、黒アルマイト処理面は、光吸収面とほぼ同じ程度の光の減反射効果が得られた。白散乱面では、縞領域以外の位置でも僅かな光の受光が認められるので、減反射処理が低いことが分かる。また、ミラー面では、図１７に示す比較例では、原稿の縞領域以外の位置および縞領域の全域で光の受光が認められ、縞の識別が困難となっている。図１８に示す実施例でも、ミラー面では、原稿の縞領域以外の位置および縞領域に光の受光が認められるものの、比較例よりは受光量が少なく、縞領域では縞の黒の位置で受光量が０（零）に近く、比較例では不能であった縞の識別が可能である。

よって、黒アルマイト処理面は、減反射効果が高いことが分かる。また、加速評価に相当するミラー面では、減反射効果が実施例では比較例ほど低下しなかった。このことから、遮光隔壁板９５よりもアパーチャー部材８３，８４の方が、高い迷光抑制効果が得られることが分かる。なお、減反射処理として、黒アルマイト面などの黒色処理面の他に、サンドブラスト処理面も評価したところ高い減反射効果が得られた。サンドブラスト処理を施す場合は、合成樹脂は任意の色でもよいが、白色以外が好ましい。また、例えば、遮光部材８１，８２およびアパーチャー部材８３，８４を黒色の合成樹脂で成形した後、表面にサンドブラスト処理を施すことがより好ましい。また、つや消し塗装処理でもよい。

また、他の迷光対策としては、図１９に示すように、アパーチャー部材８９を追加する。図１９の例では、光軸方向Ｚ１において第１アパーチャー部材８３と第２アパーチャー部材８４との間に、第３アパーチャー部材８９を追加している。第３アパーチャー部材８９は、主走査方向Ｘに一定のピッチで開口する複数のスリット８９１を有する。図１９に示すように、迷光ＬＭは、図１９に示す追加したアパーチャー部材８９により遮光される。このため、センサー５７３に高いコントラストで像を結像させることができる。なお、アパーチャー部材の数を増やせば迷光対策上の効果は高まるが、センサー５７３に結像する像が暗くなる。そのため、迷光の遮光効果と明るさ確保の観点から、アパーチャー部材８３，８４，８９の数は、迷光を必要な程度に抑制できる範囲でなるべく少ない方が好ましい。

次に、複合機１１におけるスキャナー装置３１の作用を説明する。ユーザーがホスト装置でキーボード又はマウス等の操作部の操作でスキャンを指示すると、ホスト装置から通信を介して複合機１１はスキャンジョブを受信する。また、ユーザーが操作部１５の操作でスキャンの実行を指示すると、複合機１１はスキャンジョブを受け付ける。また、ユーザーが操作部１５の操作で原稿Ｄのコピーの実行を指示すると、複合機１１はスキャンジョブと印刷ジョブを受け付ける。制御部１００はスキャンジョブに基づきスキャナー装置３１を駆動制御し、スキャナー装置３１に原稿Ｄの読取動作を行わせる。

制御部１００は、載置台３６に原稿Ｄがあることを検知したときは、ＡＤＦモードで読取動作を行い、原稿台３３のガラス板４０Ａ上に原稿Ｄがあることを検知したときは、ＦＢモードで読取動作を行う。ＡＤＦモードでは、制御部１００は、キャリッジ６１を図３に実線で示す読取位置に配置するとともに、原稿搬送部３５を駆動させて原稿Ｄを搬送し、その搬送途中の原稿Ｄを、ガラス板４０Ｂを介して読取モジュール５０に読み取らせる。また、ＦＤモードでは、制御部１００は、キャリッジ６１を待機位置から副走査方向Ｙに一往復動させ、往動方向Ｙ１への移動過程でガラス板４０Ａを介して原稿台３３上の原稿Ｄを読取モジュール５０に読み取らせる。

読み取られた読取データは、制御部１００によりシェーディング補正等を含む所定処理が施され、画像データが生成される。スキャンが指示されているときは、複合機１１からホスト装置へ画像データが出力される。また、コピーが指示されているときは、画像データに基づく画像を印刷装置２１が印刷することで、コピー印刷された媒体Ｐが排出口２１Ａからスタッカー１８へ排出される。

ここで、読取モジュール５０では、以下のように原稿Ｄが読み取られる。図８に示すように、原稿Ｄの読取対象位置Ｐ１で反射した散乱光は、第１遮光部材８１のスリット８１１を通過して結像光学機構５６内へ入射する。このとき、第１遮光部材８１のスリット８１１により入射する光は副走査方向Ｙに制限される。入射した光のうち複数のアパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１を通過した光ＬＡは、読取対象位置Ｐ１と対向して位置する単位結像素子ＳＬにおける第１凹面鏡８５に反射する。

図１０に示すように、第１凹面鏡８５では第２凹面鏡８６へ光が反射する際、主走査方向Ｘでは正立像になるように第２凹面鏡８６との中間位置の集光位置Ｐ３で集光するように反射し、これに直交する副走査方向Ｙでは図８に示すように光ＬＢが平行光となるように反射する。こうして読取対象位置Ｐ１からの光が、対応する第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６に順次反射し、第２凹面鏡８６に反射した光ＬＣはセンサー列５７２のうち対応するセンサー５７３の結像位置Ｐ２に集光して像を結像する。このとき、図８、図９に示すように、第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６は、副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２が主走査方向Ｘの長さＬＸ１，ＬＸ２よりも長く、反射できる光ＬＡ，ＬＢの光量を相対的に多く確保できる。また、図８に示すように、読取対象位置Ｐ１から広がって入射した光のうち他の単位結像素子ＳＬに向かう迷光は、２つのアパーチャー部材８３，８４におけるスリット８３１，８４１以外の部分により遮光される。つまり、原稿Ｄの読取対象位置Ｐ１以外の位置からスリット８１１を通過して入射した迷光は、２つのアパーチャー部材８３，８４におけるスリット８３１，８４１以外の部分により遮光され、読取対象位置Ｐ１に対応する単位結像素子ＳＬを通って対応するセンサー５７３に至ることが抑制される。この結果、センサー５７３には高いコントラストで像が結像される。

図８に示すように、副走査方向Ｙにおいては第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６の間で光ＬＢは平行光となっており、センサー５７３上では倒立結像となる。凹面鏡８５，８６を副走査方向Ｙで倒立結像するように副走査方向Ｙの曲率Ｃ１，Ｃ３を小さく設定することにより、副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２を長くして光量を増やすことができるうえ、副走査方向Ｙにおける収差を小さくできる。一方、主走査方向Ｘでは、センサー５７３に像が正立結像する。凹面鏡列８５１，８６１を構成する凹面鏡８５，８６において隣り合う凹面鏡で結像した像が重なり合って連続した像となる。

センサー列５７２には、原稿Ｄを鏡に映した像が結像する。このため、制御部１００は、センサー列５７２から入力した画素信号に、読取画像を副走査方向Ｙに反転させる画像処理を施して画像データを生成する。こうして原稿Ｄを読み取った高解像度の画像データを得ることができる。また、結像光学機構５６の光軸方向Ｚ１の全長ＬＺは２０ｍｍ程度となり、レンズ方式の結像光学系と比べ少し大きくなるが、全長ＬＺの寸法の割に光路長を長く確保でき、被写界深度および焦点深度を深くすることができる。このため、原稿Ｄがガラス板４０から多少浮いても、センサー５７３に結像する像がぼけにくく、必要な解像度で原稿Ｄを読み取ることができる。

また、図６に示すように２つの部品ＰＴ１，ＰＴ２を組み立てる構成とした場合、各部材８１〜８４の位置精度を高くでき、迷光を確実に抑制でき、高コントラストおよび高解像度で原稿Ｄを読み取ることができる。また、図１６に示す遮光隔壁板９５を有する結像光学機構９０では、薄板よりなる遮光隔壁板９５の形成が製造上困難である。これに対して、本実施形態の結像光学機構５６は、格子状の板材よりなる複数のアパーチャー部材８３，８４を配置すればよいので、製造も比較的簡単である。

以上詳述した実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
（１）結像光学機構５６は、読取対象の一例である原稿Ｄに対して相対的に移動する光学モジュールの一例としての読取モジュール５０に搭載され、光源の一例としての線状光源５２からの光が原稿Ｄに対して反射して原稿Ｄから入射した光を、結像対象の一例としてのセンサー５７３に結像させる。結像光学機構５６は、原稿Ｄから入射する光を反射する第１凹面鏡８５と、第１凹面鏡８５とは、読取モジュール５０の相対的な移動方向である副走査方向Ｙにおいてずれた位置に配置され、第１凹面鏡８５で反射した光を反射して射出する第２凹面鏡８６とを備える。また、結像光学機構５６は、原稿Ｄから入射した光が第１凹面鏡８５へ向かう経路と、第１凹面鏡８５で反射した光が第２凹面鏡８６に向かう経路と、第２凹面鏡８６で反射した光がセンサー５７３へ向かう経路と、に亘ってスリット８３１，８４１が形成された複数のアパーチャー部材８３，８４とを備える。第１凹面鏡８５は、副走査方向Ｙにおいては原稿Ｄから広がって入射した光を平行光ＬＢとして反射する第１曲率Ｃ１と、主走査方向Ｘにおいては原稿Ｄから広がって入射した光が第２凹面鏡８６との間の位置で結像するように反射する第２曲率Ｃ２とを有する。第２凹面鏡８６は、副走査方向Ｙにおいては第１凹面鏡８５で反射して入射した平行光ＬＢをセンサー５７３の位置で結像するように反射する第３曲率Ｃ３と、主走査方向Ｘにおいては第１凹面鏡８５との間の位置で結像して入射した光をセンサー５７３の位置で結像するように反射する第４曲率Ｃ４とを有する。

よって、線状光源５２から入射した光又は線状光源５２からの光が原稿Ｄに反射して入射した光は、第１凹面鏡８５へ向かう経路と、第１凹面鏡８５で反射した光が第２凹面鏡８６に向かう経路と、第２凹面鏡８６で反射した光がセンサー５７３へ向かう経路とを通ってセンサー５７３に結像する。このとき、光の各経路においてアパーチャー部材８３，８４のスリット８３１，８４１を通る光のみがセンサー５７３に結像する。このため、迷光は複数のアパーチャー部材８３，８４により遮光され、センサー５７３に至る迷光が抑制される。この結果、センサー５７３に結像される像のコントラストが高くなり、高い解像度が得られる。また、原稿Ｄから広がって入射した光は、副走査方向Ｙにおいては第１凹面鏡８５以外に入射する光は第１遮光部材８１で遮光され、さらに第２凹面鏡８６との間で結像しない例えば平行光として第１凹面鏡８５で反射し、主走査方向Ｘにおいては第２凹面鏡８６との間の位置で結像するように第１凹面鏡８５に反射する。副走査方向Ｙにおいて第１凹面鏡８５に反射して入射した平行光は第２凹面鏡８６に反射してセンサー５７３に結像する。主走査方向Ｘにおいて第１凹面鏡８５との間の位置で結像して第２凹面鏡８６に入射した光は、第２凹面鏡８６でセンサー５７３の位置で結像するように反射する。よって、原稿Ｄからの光は、副走査方向Ｙにおいてはセンサー５７３に倒立像として結像し、主走査方向Ｘにおいてはセンサー５７３に正立像として結像する。副走査方向Ｙにおいては隣に凹面鏡が無いために像の重なりを考慮する必要がなく、そのため多少結像が甘くてもよく、その分第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６との副走査方向Ｙにおける長さＬＹ１，ＬＹ２を長く確保できる。このため、センサー５７３に結像する光の量を多く確保できることから、像の明るさを確保できる。この結果、センサー５７３に高いコントラストの像を結像させることができ、高い解像度を得ることができる。また、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６とに光を反射させることで、原稿Ｄからセンサー５７３までの光路長が長くなり焦点距離を長くすることができる。このため、焦点深度を深くすることができる。よって、センサー５７３に光の像を高コントラストで結像でき、高解像度を得ることができる。

（２）結像光学機構５６において、第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６における副走査方向Ｙの長さは、主走査方向Ｘの長さよりも長い。よって、第１凹面鏡８５および第２凹面鏡８６に入射および反射する光の量を多くできるので、センサー５７３に結像する像の明るさを確保できる。

（３）結像光学機構５６は、第１凹面鏡８５に対向する位置にスリット８１１を有する第１遮光部材８１と、第２凹面鏡８６に対向する位置にスリット８２１を有する第２遮光部材８２とを備える。第１遮光部材８１は、入射した光が複数のアパーチャー部材８３，８４のうち最も光の入射側に配置されたアパーチャー部材８３に向かう経路上に配置される。また、第２遮光部材８２は、第２凹面鏡８６に反射した光が複数のアパーチャー部材８３，８４のうち最もセンサー５７３に近い側に配置されたアパーチャー部材８４を通過してセンサー５７３へ向かう経路上に配置される。

よって、原稿Ｄに反射して広がる光のうち第１遮光部材８１のスリット８１１を通って入射した光が、複数のアパーチャー部材８３，８４の各スリット８３１，８４１を通って第１凹面鏡８５で反射する。第１遮光部材８１によって、入射する光を副走査方向Ｙにおいてスリット８１１で制限することにより、副走査方向Ｙにおいて第１凹面鏡８５で反射する光の量を多く確保しつつ、第１凹面鏡８５以外への迷光、特に原稿Ｄから直接結像面へ入射する迷光を減ずることができる。また、第２凹面鏡８６で反射した光は、複数のアパーチャー部材８３，８４の各スリット８３１，８４１を通り更に第２遮光部材８２のスリット８２１を通ってセンサー５７３に結像する。第２凹面鏡８６で反射した光を副走査方向Ｙにおいて第２遮光部材８２のスリット８２１で制限することにより、副走査方向Ｙにおいて第１遮光部材８１と協働して迷光を減ずることができる。よって、センサー５７３に結像する像の明るさを確保して高いコントラストが得られ、これにより高い解像度が得られる。

（４）結像光学機構５６において、第１遮光部材８１のスリット８１１の副走査方向Ｙにおける幅Ｓ１を、原稿Ｄから入射した光を副走査方向Ｙにおける第１凹面鏡８５の長さ範囲内の照射域に制限可能な長さとした。よって、原稿Ｄから入射する光を第１遮光部材８１のスリット８１１によって副走査方向Ｙに制限し、副走査方向Ｙにおける第１凹面鏡８５の長さ範囲以外への光を遮光できる。したがって、センサー５７３に結像する光の像を明るくして高コントラストを確保し、高解像度を得ることができる。

（５）結像光学機構５６において、第２遮光部材８２のスリット８２１の副走査方向Ｙにおける幅Ｓ２を、第２凹面鏡８６に反射した光が通過可能な長さとした。よって、第２凹面鏡８６に反射した光以外の光の全てまたは多くは第２遮光部材８２によって遮光され、第２凹面鏡８６に反射した光が副走査方向Ｙにおいてスリット８２１を通過する。よって、センサー５７３に結像する光の像の明るさと高いコントラストを確保し、高い解像度が得られる。

（６）結像光学機構５６では、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６とは、副走査方向Ｙにおいて重ならない位置、主走査方向Ｘにおいて重なる位置に配置される。よって、第１凹面鏡８５で反射した光の全てまたは多くを第２凹面鏡８６に入射させることができ、第２凹面鏡８６に対して第１凹面鏡８５に反射した光以外の光が入射することを抑制できる。したがって、センサー５７３に結像する像の明るさと高コントラストを確保し、高解像度を得ることができる。

（７）結像光学機構５６では、センサー５７３の位置において、副走査方向Ｙにおいては原稿Ｄの画像を倒立結像し、主走査方向Ｘにおいては原稿Ｄの画像を正立結像する。よって、第１凹面鏡８５、第２凹面鏡８６、センサー５７３を主走査方向Ｘに複数組並べて配置した場合に、主走査方向Ｘでは正立結像なので、センサー５７３間で像をつなぐことができる。また、副走査方向Ｙにおいては倒立結像なので、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６との副走査方向Ｙにおける曲率を小さくでき、収差を小さくできる。

（８）結像光学機構５６では、第１遮光部材８１は第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙにおける第１方向に隣接して一体に形成され、第２遮光部材８２は第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙにおける第２方向に隣接して一体に形成される。よって、第１遮光部材８１と第２凹面鏡８６とが一体に形成された部品と、第２遮光部材８２と第１凹面鏡８５とが一体に形成された部品とを含む比較的少ない数の部品により、結像光学機構５６を製造できる。

（９）結像光学機構５６では、第２凹面鏡８６は、反射した光を原稿Ｄと第１凹面鏡８５との光学距離ＬＦ１と同じ光学距離ＬＦ２で結像させる。よって、第１遮光部材８１と第２凹面鏡８６とが一体に形成された部品と、第２遮光部材８２と第１凹面鏡８５とが一体に形成された部品との共通化が可能になり、結像光学機構５６を構成する部品の点数をさらに低減できる。

（１０）結像光学機構５６では、第１凹面鏡８５と第２凹面鏡８６とは共通の形状である。よって、第１遮光部材８１と第２凹面鏡８６とが一体に形成された第１部品ＰＴ１と、第２遮光部材８２と第１凹面鏡８５とが一体に形成された第２部品ＰＴ２とを共通の部品とすることができ、部品の点数をさらに低減できる。

（１１）結像光学機構５６では、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２は、アパーチャー部材８３，８４も一体に形成される。よって、結像光学機構５６の部品点数を一層低減できる。また、複数のアパーチャー部材８３，８４の配置位置精度が高くなり、想定された設計どおりに迷光を低減できる。

（１２）光学モジュールの一例としての読取モジュール５０は、結像光学機構５６と、主走査方向Ｘに沿って原稿Ｄに光を照射する光源の一例としての線状光源５２と、結像対象の一例であるセンサー５７３を複数配列したセンサー列５７２と、を備える。結像光学機構５６は、第１凹面鏡８５を主走査方向Ｘに複数配列した第１凹面鏡列８５１と、第２凹面鏡８６を主走査方向Ｘに複数配列した第２凹面鏡列８６１とを備える。さらに、結像光学機構５６は、スリット８１１が第１凹面鏡列８５１に光を入射可能に開口する第１遮光部材８１と、スリット８２１が第２凹面鏡列８６１に反射した光をセンサー列５７２に結像可能に開口する第２遮光部材８２とを備える。よって、原稿Ｄに対して読取モジュール５０が相対的に移動することで、原稿Ｄの明るい像をセンサー列５７２に高いコントラストで結像させることができる。したがって、読取モジュール５０によって、原稿Ｄを高い解像度で読み取ることができる。

（１３）読取モジュール５０は、第１遮光部材８１のスリット８１１は、主走査方向Ｘに第１凹面鏡列８５１に光を入射可能な長さ範囲に亘って開口し、第２遮光部材８２のスリット８２１は、主走査方向Ｘに第２凹面鏡列８６１に反射した光をセンサー列５７２に結像可能な長さ範囲に亘って開口する。よって、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２にはスリット８１１，８２１が主走査方向Ｘに鏡面列の長さ範囲に亘り開口するので、例えば鏡面の個々に対応して開口する複数のスリットが形成された構成に比べ、結像光学機構５６への入射光量および結像光学機構５６からの射出光量を多く確保し、センサー５７３に結像される像の明るさを確保できる。

（１４）画像読取装置の一例である複合機１１は、読取モジュール５０と、読取対象の一例である原稿Ｄの位置を規定する透明部材の一例としてのガラス板４０と、原稿Ｄと読取モジュール５０とを相対的に移動させる搬送部と、を備える。読取モジュール５０は、ガラス板４０を挟んで原稿Ｄとは反対側の位置で、原稿Ｄに照射した光の反射光を入射して原稿Ｄを読み取る。よって、複合機１１は、原稿Ｄを読取モジュール５０によって高い解像度で読み取ることができる。

（１５）第１遮光部材８１に形成されたスリット８１１の副走査方向Ｙにおける内側の端部は、対向配置された第１凹面鏡８５以外に向かう光を遮る位置に配置される。また、第２遮光部材８２に形成されたスリット８２１の副走査方向Ｙにおける内側の端部は、対向配置された第２凹面鏡８６以外からの光を遮る位置に配置される。よって、センサー５７３の受光面に至る迷光を低減し、センサー５７３に結像した像のぼけを抑えつつ像の明るさを確保できるので、コントラストの高い結像を得ることができる。

（第２実施形態）
次に、図２０及び図２１を参照して、第２実施形態について説明する。第２実施形態では、迷光を低減するための構成を示す。

図２０に示すように、複数の遮光部材８１，８２に形成されたスリット８１１，８２１の移動方向、すなわち副走査方向Ｙにおける内側の端部は、それぞれに対向配置された鏡面の一例としての凹面鏡８５，８６以外に向かう光を遮る位置に配置される。すなわち、第１遮光部材８１に形成されたスリット８１１の副走査方向Ｙにおける内側の端部は、スリット８１１に対向配置された第１凹面鏡８５以外に向かう光を遮る位置に配置される。また、第２遮光部材８２に形成されたスリット８２１の移動方向、すなわち副走査方向Ｙにおける内側の端部は、スリット８２１に対向配置された鏡面の一例としての第２凹面鏡８６以外からの光を遮る位置に配置される。すなわち、第２遮光部材８２に形成されたスリット８２１の副走査方向Ｙにおける内側の端部は、スリット８２１に対向配置された第２凹面鏡８６からの光を遮る位置に配置される。

第１遮光部材８１の第１凹面鏡８５に対峙する面ではスリット８１１の副走査方向Ｙにおける開口幅は、第1凹面鏡８５の全面が原稿ラインを呑み込める幅としている。また、第２遮光部材８２の第２凹面鏡８６に対峙する面ではスリット８２１の副走査方向Ｙにおける開口幅は、ラインセンサーが第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙの全面幅で呑み込める幅としている。さらに遮光部材８１，８２のスリット８１１，８２１は、第1遮光部材８１のスリット８１１をすり抜けて第２遮光部材もすり抜けることができない形状である。

図２０に示すように、複数の遮光部材８１，８２に形成されたスリット８１１，８２１の移動方向、すなわち副走査方向Ｙに配置された側面は、それぞれに対向配置された鏡面の一例としての凹面鏡８５，８６とは反対側に広がる傾斜形状である。すなわち、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２とのスリット８１１，８２１には、それぞれ外側に向かって拡開する傾斜形状であるテーパー面８１２，８２２が形成されている。詳しくは、第１遮光部材８１のスリット８１１の内壁面のうち副走査方向Ｙに対向する二面が、原稿側に向かって拡開する一対のテーパー面８１２となっている。また、第２遮光部材８２のスリット８２１の内壁面のうち副走査方向Ｙに対向する二面が、センサー５７３側に向かって拡開する一対のテーパー面８２２となっている。

第１遮光部材８１におけるスリット８１１の原稿Ｄ側に開くテーパー面８１２と、第２遮光部材８２におけるセンサー５７３側に開くテーパー面８２２とでテーパー角を揃える必要はないが、コストダウンのためテーパー角を揃えて第１遮光部材８１と第２遮光部材８２とを共通部品にするとよい。また、第２凹面鏡８６と第１凹面鏡８５もそれぞれ第１遮光部材８１および第２遮光部材８２と一体成型すれば、部品の製造コストを一層低減できる。

ここで、迷光をテーパー面８１２で反射させてスリット８１１からの迷光の入射を抑制する観点からは、テーパー面８１２，８２２のテーパー角はできるだけ大きい方がよい。但し、テーパー角は、２０度未満であると、原稿Ｄからの直接光がテーパー面８１２で反射した一部の光がスリット８１１から入射して迷光になる虞がある。一方、テーパー角があまり大きいと遮光部材８１，８２が透けてしまい、透過光が迷光となる。このため、テーパー角は、２０度以上かつ６０度以下が好ましく、特に上記の弊害をより確実に排除するためには３０度以上かつ５０度以下がより好ましい。本実施形態では、テーパー角を一例として４０度としている。ここでいうテーパー角とは、光軸方向Ｚ１と主走査方向Ｘとの両方に平行な面に対するテーパー面８１２，８２２のなす角度を指す。また、遮光部材８１，８２及びアパーチャー部材８３，８４の表面には減反射処理が施されている。このため、本例ではテーパー面８１２，８２２を含むスリット８１１，８２１の内壁面にも減反射処理が施されている。ただし、凹面鏡８５，８６の表面は、この限りでなく、十分な鏡面で反射率が高いことが好ましい。

図２１において、原稿Ｄから第１遮光部材８１のスリット８１１へ入射した光のうち、第１凹面鏡８５とは反対側に広がるテーパー面８１２で反射した光は、そのテーパー角により原稿側へ反射する。このときの反射光の大部分は、テーパー角により原稿Ｄの読取位置から副走査方向Ｙにずれた位置に向かって反射される。また、原稿Ｄから第１遮光部材８１のスリット８１１から入射した入射光には、図２１に二点鎖線で示すように、凹面鏡８５，８６を通らず第２遮光部材８２のスリット８２１を通ってセンサー５７３へ向かう直接迷光Ｌｓが含まれる。本実施形態ではテーパー面８１２，８２２がそれぞれ原稿側、センサー５７３側に向かって拡開する。このため、副走査方向Ｙに最もセンサー５７３に近づく図２１に二点鎖線で示す直接迷光Ｌｓは、スリット８１１，８２１が本実施形態のテーパー面８１２，８２２と逆向きに広がる逆テーパーを有する構成に比べ、センサー５７３の受光面における結像位置Ｐ２から副走査方向Ｙにより離れた位置に到達する。例えば直接迷光Ｌｓは、センサー５７３の受光面における副走査方向Ｙの中心位置から約１ｍｍ離れた位置に到達する。本実施形態ではＣＩＳＭ５３０に用いるセンサー５７３はラインセンサーであり、その受光面の中心位置から副走査方向Ｙに約１ｍｍ離れた位置はセンサー５７３から外れた位置であるため、コントラストに対して大きな影響を及ぼさない。よって、直接迷光Ｌｓに起因する読取り画像のコントラストの低下を抑制できる。なお、図２１では、光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを説明の便宜上光軸のみ示している。

以上詳述したように第２実施形態によれば、前記第１実施形態における（１）〜（１５）の効果が同様に得られる他、下記の効果を得ることができる。
（１６）第１遮光部材８１及び第２遮光部材８２に形成されたスリット８１１，８２１の副走査方向Ｙに配置された側面は、それぞれに対向配置された凹面鏡８５，８６とは反対側に広がる傾斜形状である。詳しくは、スリット８１１，８２１は副走査方向Ｙに配置された側面が、スリット８１１，８２１のそれぞれに対向配置された凹面鏡８５，８６とは反対側に広がるテーパー面８１２，８２２となっている。このため、原稿Ｄからの読み取り光を副走査方向Ｙに配置された側面により遮ることがなく、同時に第１遮光部材８１のスリット８１１から入射する迷光を遮光できるか、あるいはスリット８１１から入射する迷光がセンサー５７３の受光面に到達してできる迷光領域を受光面上の結像箇所から効果的に遠ざけることができる。よって、コントラストの高い結像を得ることができる。

（第３実施形態）
次に、図２２及び図２３を参照して、第３実施形態について説明する。
図２２に示すように、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２との対向面には、スリット８１１，８２１の開口を副走査方向Ｙに挟む両側のうち副走査方向Ｙに互いに近い側の片側の周縁部から、スリット８１１，８２１が対向する凹面鏡８５，８６に向かって延出する第１遮光部の一例としての延出部８１３，８２３が形成されている。本実施形態では、延出部８１３，８２３は、スリット８１１，８２１の開口に対して副走査方向Ｙに互いに近い側の一端側の周縁部から、対向する凹面鏡８５，８６に向かって延出する。すなわち、第１遮光部材８１の原稿側と反対側となる内面には、スリット８１１の開口に対して副走査方向Ｙに第２凹面鏡８６側となる隣接部位から第１凹面鏡８５に向かって延出部８１３が延びている。また、第２遮光部材８２のセンサー５７３側と反対側となる内面には、スリット８２１の開口に対して副走査方向Ｙに第１凹面鏡８５側となる隣接部位から第２凹面鏡８６に向かって延出部８２３が延びている。延出部８１３，８２３は、主光は遮らず、直接迷光Ｌｓ（図２３を参照）を遮る位置、形状及びサイズに形成されている。なお、主光とは、原稿Ｄからスリット８１１を通って入射した入射光のうち第１凹面鏡で反射したのちに第２凹面鏡で反射しさらに第２スリット８２１を通過してセンサー５７３の受光面に至る光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを指す。なお、図２３では、光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを説明の便宜上光軸のみ示している。

第１遮光部材８１に形成されたスリット８１１には、第１遮光部材８１のスリット８１１によって制限された光ＬＡの経路と、第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６に入射する光ＬＢ及び反射した光ＬＣの経路との間に、延出部８１３，８２３が設けられる。

延出部８１３，８２３の移動方向の一例である副走査方向Ｙにおける側面は、第１遮光部材８１のスリット８１１によって制限された光ＬＡの経路と、第２凹面鏡８６に入射する光ＬＢ及び反射した光ＬＣの経路との、それぞれの内側の端部に沿う形状である。図２２に示す例では、延出部８１３，８２３は、光軸方向Ｚ１に沿う形状である。

また、延出部８１３，８２３の副走査方向Ｙにおける位置は、第１遮光部材８１のスリット８１１を通過し、第２遮光部材８２のスリット８２１に向かう光の一例としての直接迷光Ｌｓ（図２３参照）を遮る位置である。なお、遮光部材８１，８２及びアパーチャー部材８３，８４の表面には減反射処理が施されている。このため、本例では延出部８１３，８２３の表面にも減反射処理が施されている。但し、凹面鏡８５，８６の表面は、十分な鏡面で反射率が高いことが好ましい。

図２３において、原稿Ｄから結像光学機構５６内へ入射した入射光のうち凹面鏡８５，８６を通らずセンサー５７３の受光面に直接到達する同図に二点鎖線で示す直接迷光Ｌｓは、延出部８１３，８２３に遮られ、コントラスト等の品質上皆無と言えるレベルまで消失した。なお、延出部８１３，８２３は、スリット８１１，８２１の開口を副走査方向Ｙに挟む両側に形成してもよい。この場合、延出部８１３，８２３をスリット８１１，８２１の開口を囲んだ状態でそれぞれ対向する凹面鏡８５，８６に向かって延びる筒状に形成してもよい。また、延出部８１３，８２３は、両方設けることは必須ではなく、一方のみ設けてもよい。延出部８１３，８２３のうち一方のみ設けた場合も、図２３から明らかなように直接迷光Ｌｓを遮ることができる。

以上詳述したように第２実施形態によれば、前記第１実施形態における（１）〜（１５）の効果が同様に得られる他、下記の効果を得ることができる。
（１７）第１遮光部材８１及び第２遮光部材８２のうち少なくとも一方には、第１遮光部材８１のスリット８１１を通過し、第２遮光部材８２のスリット８２１に向かう光を遮る位置に、第１遮光部の一例としての延出部８１３，８２３が設けられている。よって、直接迷光Ｌｓを低減又は消失させてセンサー５７３に結像した像のぼけを抑えつつ像の明るさを確保できるので、コントラストの高い結像を得ることができる。

（第４実施形態）
次に、図２４〜図２６を参照して、第４実施形態について説明する。
図２４に示すように、第１アパーチャー部材８３と第２アパーチャー部材８４は、スリット８３１，８４１を主走査方向Ｘに挟む両側の部分に副走査方向Ｙに延びる複数の隔壁８３２，８４２を有している。また、第１アパーチャー部材８３と第２アパーチャー部材８４には、スリット８３１，８４１を副走査方向Ｙに所定の比率で２つに区画する位置にスリット８３１，８４１を主走査方向Ｘに沿って横切る第２遮光部の一例としての遮光桟８３３，８４３が形成されている。

図２５に示すように、遮光桟８３３は、第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５に入射する光ＬＡの経路と、第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６に入射した光ＬＢ及び反射した光ＬＣの経路との間に設けられている。遮光桟８４３は、第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５に入射する光ＬＡ及び反射した光ＬＢの経路と、第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６に反射した光ＬＣの経路との間に設けられている。また、遮光桟８３３の副走査方向Ｙにおける側面は、第１凹面鏡８５に入射する光ＬＡの経路と、第２凹面鏡８６に入射した光ＬＢ及び反射した光ＬＣの経路とのそれぞれの内側の端部に沿う形状である。また、遮光桟８４３の副走査方向Ｙにおける側面は、第１凹面鏡８５に入射する光ＬＡ及び反射した光ＬＢの経路と、第２凹面鏡８６に反射した光ＬＣの経路とのそれぞれの内側の端部に沿う形状である。図２５に示す例では、遮光桟８３３，８４３は、光軸方向Ｚ１に沿う形状である。

ここで、遮光桟８３３，８４３の側面が、それぞれが副走査方向Ｙに挟まれた両側の光の経路の内側の端部に沿う形状とは、両側の光の経路の内側の端部と遮光桟８３３，８４３の側面との図２５に示す主走査方向Ｘから見たときになす角度が、４５度未満となる形状であればよい。なお、第４実施形態では、主走査方向Ｘから見た図２５において遮光桟８３３，８４３の副走査方向Ｙの側面を、結像光学機構５６の光軸方向Ｚ１に沿う形状としたが、両側の光のそれぞれの経路の内側の端部と平行な面形状としてよい。要するに、遮光桟８３３，８４３が、直接迷光Ｌｓ（図２６参照）を遮ることができ、かつその副走査方向Ｙの側面が、光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを遮ることがないように両側の光の内側の端部に沿う形状であればよい。なお、遮光部材８１，８２及びアパーチャー部材８３，８４の表面には減反射処理が施されている。このため、本例では遮光桟８３３，８４３の表面にも減反射処理が施されている。ただし、凹面鏡８５，８６の表面は、十分な鏡面で反射率が高い。

図２６において、原稿Ｄから第１遮光部材８１のスリット８１１を通って入射した入射光のうち凹面鏡８５，８６を通らず第２遮光部材８２のスリット８２１を通ってセンサー５７３の受光面に直接到達する同図に二点鎖線で示す直接迷光Ｌｓは、遮光桟８３３，８４３に遮られ、コントラスト等の品質上皆無と言えるレベルまで消失した。なお、遮光桟８３３，８４３は、光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを遮らず、かつ直接迷光Ｌｓを遮る他の形状及びサイズに変更可能である。また、遮光桟８３３，８４３は両方が必須な訳ではなく、一方のみ設けてもよい。

以上詳述したように第４実施形態によれば、前記第１実施形態における（１）〜（１５）の効果が同様に得られる他、下記の効果を得ることができる。
（１８）第１アパーチャー部材８３と第２アパーチャー部材８４とのうち少なくとも一方には、第１遮光部材８１のスリット８１１を通過し、第２遮光部材８２のスリット８２１を直接通り抜ける光を遮る位置に、第２遮光部の一例としての遮光桟８３３，８４３が設けられている。２つのアパーチャー部材８３，８４に遮光桟８３３，８４３を形成するだけで、第１遮光部材８１のスリット８１１から第２遮光部材８２のスリット８２１へ直接通り抜ける直接迷光Ｌｓを効果的に低減又は消失できる。よって、センサー５７３の受光面における迷光領域を効果的に消失させ、コントラストの高い結像を得ることができる。よって、
（１９）第１アパーチャー部材８３に設けられた遮光桟８３３は、第１遮光部材８１のスリット８１１によって制限された光ＬＡの経路と、第２凹面鏡８６に入射する光ＬＢ及び反射した光ＬＣの経路との間に位置する。第２アパーチャー部材８４に第２遮光部の一例として設けられた遮光桟８４３は、第１凹面鏡８５に入射する光ＬＡ及び反射した光ＬＢの経路と、第２凹面鏡８６に反射した光ＬＣの経路との間に位置する。よって、第１凹面鏡及び第２凹面鏡で反射する経路を通る光ＬＡ，ＬＢ，ＬＣを一部も遮ることなく、直接迷光Ｌｓを効果的に低減できる。

（２０）遮光桟８３３の副走査方向Ｙにおける側面は、第１遮光部材８１のスリット８１１によって制限された光ＬＡの経路と、第２凹面鏡８６に入射する光ＬＢ及び反射した光ＬＣの経路とのそれぞれの内側の端部に沿う形状である。また、遮光桟８４３の副走査方向Ｙにおける側面は、第１凹面鏡８５に入射する光ＬＡ及び反射した光ＬＢの経路と、第２凹面鏡８６に反射した光ＬＣの経路とそれぞれの内側の端部に沿う形状である。よって、直接迷光Ｌｓを効果的に遮ることができるので、コントラストの高い結像を得ることができる。

（第５実施形態）
次に、図２７〜図２９を参照して、第５実施形態について説明する。
原稿Ｄの読取りラインからの光の一部は第１アパーチャー部材８３の原稿Ｄ側の面（前面）で反射し、第１遮光部材８１のスリット８１１から出射して再び原稿面で反射し、その反射光が第１遮光部材８１のスリット８１１からセンサー５７３の受光面に結像する虞がある。そこで、第５実施形態では、第１アパーチャー部材８３の前面に当たる画像光のうち、第１アパーチャー部材８３の隔壁８３２の前面からの反射光が原稿Ｄに戻らない構造を提供する。

図２７に示すように、第１アパーチャー部材８３における原稿台のガラス板４０と対向する側の面には、スリット８３１を主走査方向Ｘに挟む両側に三角柱状の突起８３４が突設されている。図２８に示すように、突起８３４は、主走査方向Ｘから見たときの形状が三角形の三角柱状である。突起８３４は、第２凹面鏡８６と反対側の面が傾斜面８３５となっている。傾斜面８３５は、原稿Ｄの読取りラインから第１遮光部材８１のスリット８１１を通って第１アパーチャー部材８３の原稿Ｄに対峙する面に対して約３０度の角度を持つ。つまり、傾斜面８３５の角度を原稿面に対して約３０度としている。傾斜面８３５の原稿面とのなす角度は、例えば２０〜５０度の範囲内の他の値でもよい。本実施形態では、傾斜面８３５の原稿面とのなす角度は、原稿Ｄの読取りラインから発した光が傾斜面８３５で反射した場合、その反射光が第１遮光部材８１のスリット８１１から外に出ない角度に設定されている。なお、傾斜面８３５の角度は、第１遮光部材８１のスリット８１１から原稿Ｄに反射光が戻らなければ適宜変更可能である。

ところで、突起８３４における第２凹面鏡８６側の面を傾斜面にすると、傾斜面で反射した反射光が第２凹面鏡８６に入射してコントラストの低下の原因になる心配があるため、この構成は好ましくない。第１アパーチャー部材８３における読取対象である原稿Ｄ側の面において、スリット８３１における光ＬＡが入射する領域に主走査方向Ｘに隣接する領域には、副走査方向Ｙに対して第２凹面鏡８６とは反対側の面を傾斜面８３５としている。

また、第２アパーチャー部材８４の原稿Ｄに向いた面においてもスリット８４１を主走査方向Ｘに挟む両側の隔壁８４２に突起８３４と同様の傾斜面を有する突起を設けてもよい。この場合、突起の傾斜面の角度は、第１遮光部材８１のスリット８１１から原稿Ｄに反射光が戻らなければよい。なお、遮光部材８１，８２及びアパーチャー部材８３，８４の表面には減反射処理が施されている。このため、本例では、傾斜面８３５を含む突起８３４の表面にも減反射処理が施されている。但し、凹面鏡８５，８６の表面は、十分な鏡面で反射率が高い。

図２９に示すように、第１遮光部材８１のスリット８１１から入射して第１アパーチャー部材８３の隔壁８３２の前面に向かう迷光Ｌｓの多くは、傾斜面８３５で反射する。傾斜面８３５で反射した迷光Ｌｓの進行方向は、図２９に示すように第２凹面鏡８６とは反対側となる方向となる。このため、第１アパーチャー部材８３の前面で反射してスリット８１１から原稿Ｄに戻る迷光Ｌｓが低減する。よって、原稿Ｄに戻った迷光Ｌｓが原稿面で反射し再びスリット８１１に入射してセンサー５７３へ至る光の量が大幅に減少する。

以上詳述したように第５実施形態によれば、前記第１実施形態における（１）〜（１５）の効果が同様に得られる他、下記の効果を得ることができる。
（２１）少なくとも第１アパーチャー部材８３の読取対象側の面には、スリット８３１における光が入射する領域に対し主走査方向Ｘに隣接する領域に傾斜面８３５が設けられている。傾斜面８３５は、移動方向の一例である副走査方向Ｙにおいて第２凹面鏡８６側とは反対側へ光を反射可能な向きに傾斜している。よって、第１遮光部材８１のスリット８１１から入射し第１アパーチャー部材８３のスリット８３１に隣接する領域に至った迷光Ｌｓが反射してスリット８１１から原稿Ｄに戻り原稿面で再び反射してスリット８１１から入射してセンサー５７３の受光面に至る迷光を低減できる。

（２２）２つのアパーチャー部材８３，８４のうち、少なくとも第１アパーチャー部材８３のスリット８３１の隔壁８３２の原稿Ｄに対峙する面に原稿面に平行でない傾斜面８３５を形成することにより、原稿Ｄからの画像光の一部が原稿Ｄに戻ることを避けることができる。そのため、例えば光沢のある原稿Ｄを用いてもセンサー５７３にコントラストの高い像を結像できる。

なお、上記実施形態は以下の形態に変更することもできる。
・第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５と第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６は、移動方向である副走査方向Ｙと交差方向である主走査方向Ｘとの一方または両方で曲率を異ならせてもよい。要するに、移動方向である副走査方向Ｙにおいて倒立結像でき、交差方向である主走査方向Ｘで正立結像できる曲率であればよい。

・第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５と第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６は、移動方向である副走査方向Ｙの長さＬＹ１，ＬＹ２と交差方向である主走査方向Ｘの長さＬＸ１，ＬＸ２との一方または両方で長さを異ならせてもよい。要するに、移動方向である副走査方向Ｙにおいて倒立結像でき、交差方向である主走査方向Ｘにおいて正立結像でき、第２凹面鏡８６が第１凹面鏡８５からの光を全て反射できればよい。

・第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５と第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６との傾斜角を異ならせてもよい。要するに、移動方向である副走査方向Ｙにおいて倒立結像でき、交差方向である主走査方向Ｘにおいて正立結像できればよい。

・第１鏡面の一例としての第１凹面鏡８５に反射した光を、移動方向である副走査方向Ｙにおいて第２凹面鏡８６との間で平行光としたが、第１凹面鏡８５と第２鏡面の一例としての第２凹面鏡８６との間の位置で結像しなければ、副走査方向Ｙにおいて第１凹面鏡８５から第２凹面鏡８６に向かって広がる広がり光あるいは狭まる狭まり光でもよい。この場合、センサー５７３に像を結像できるように、第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙにおける第３曲率Ｃ３を変更したり、センサー５７３の位置を変更したりしてもよい。なお、結像対象に結像される像の明るさを確保するうえでは、第１曲率Ｃ１を小さくして第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙの長さＬＹ１をより長く確保し易い平行光または広がり光が好ましい。また、第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙの長さＬＹ１を長くしつつ第２凹面鏡８６の副走査方向Ｙの長さＬＹ２を、長さＬＹ１よりも短くして結像光学機構５６の小型化を図る場合は、第１凹面鏡８５に反射する光が、第１凹面鏡８５から第２凹面鏡８６へ向かって狭まる狭まり光であることが好ましい。いずれの構成の結像光学機構によっても、結像対象に副走査方向Ｙに倒立像を結像し、主走査方向Ｘに正立像が結像される。

・第１遮光部材８１と第１アパーチャー部材８３との間隔と、第２アパーチャー部材８４と第２遮光部材８２との間隔とが異なってもよい。これらの間隔は迷光を低減できるように適宜調整できる。

・第１アパーチャー部材８３および第２アパーチャー部材８４の開口内壁は、凹面鏡アレイ方向（主走査方向Ｘ）でテーパーを適宜つけてもよい。つまり、各スリット８３１，８４１のアレイ方向両側の内壁面にテーパーを適宜つけてもよい。具体的には、第１アパーチャー部材８３では原稿Ｄ側に広く、第２アパーチャー部材８４ではセンサー５７３側に広くテーパー角２度つけるとゴーストを減らすことができる。もちろん、この構成に限られず適宜最適化してもよい。

・第１遮光部材８１のスリット８１１と第２遮光部材８２のスリット８２１は、移動方向である副走査方向Ｙにおける幅Ｓ１，Ｓ２が異なってもよい。第１凹面鏡８５の副走査方向Ｙにおける長さ範囲に光の照射域を制限しうる寸法にスリット８１１の副走査方向Ｙの幅Ｓ１を調整し、かつ第２凹面鏡８６に反射してセンサー５７３に結像する光に対する迷光の低減と光量の確保とが可能な寸法にスリット８２１の副走査方向Ｙの幅Ｓ２を調整する。この結果、スリット８１１，８２１の幅Ｓ１，Ｓ２にそれぞれ異なる寸法を設定してもよい。また、スリット８１１，８２１は光路方向に厚みを持つため開口に入射した光は開口内壁面で散乱され迷光となる。この迷光を減らすためにスリット８１１，８２１の開口内壁面にテーパーをつけるとよい。具体的には、スリット８１１の長手方向（主走査方向Ｘ）に延びる１組の内壁面には原稿Ｄ側に広い例えば４５度のテーパーを、スリット８２１の長手方向に延びる１組の内壁面にはセンサー５７３側に広い例えば４５度のテーパーをつけるとよい。但し、逆向きのテーパーでも迷光を減ずる効果はある。

・第１遮光部材８１と第２遮光部材８２の各スリット８１１，８２１は、第１凹面鏡列８５１を構成する第１凹面鏡８５の個々に対応する位置、第２凹面鏡列８６１を構成する第２凹面鏡８６の個々に対応する位置にそれぞれ個別に開口する複数ずつ設けられてもよい。また、第１遮光部材８１と第２遮光部材８２に、複数の凹面鏡８５，８６ごとに１つの割合でスリット８１１，８２１を設けてもよい。

・結像光学機構５６を、読取対象の読取面Ｄｐに対して垂直な方向を光軸方向Ｚ１とする姿勢に配置したが、読取面Ｄｐに対する垂直方向と所定の角度をなす方向が光軸方向Ｚ１となるように結像光学機構５６を傾斜した姿勢に配置してもよい。この場合、光軸を傾ける向きおよび角度は、線状光源５２からの光が読取面Ｄｐで反射した正反射光がスリット８１１に入射せず且つ反射した散乱光が入射する範囲において適宜設定できる。

・結像光学機構５６は、光源から読取対象を透過した光を入射してその光の像を結像対象の一例であるセンサー５７３に結像させる構成でもよい。この種の読取対象として例えばネガフィルムが挙げられ、光源からの光がネガフィルムを透過した光を結像光学機構に入射し、結像光学機構がその入射した光の像をセンサー５７３等の結像対象に結像させる構成でもよい。

・前記実施形態において、結像光学機構５６を構成する部品の寸法や間隔Ｇ１〜Ｇ３、スリット８１１，８２１，８３１，８４１の幅および長さの寸法、凹面鏡８５，８６の長さＬＹ１，ＬＸ１，ＬＹ１，ＬＸ１、曲率Ｃ１〜Ｃ４は、複合機１１に適用した場合の一例であり、適用する装置や要求される解像度などに応じて適宜変更してもよい。

・読取素子５３を構成する読取モジュール５０は、ＣＩＳＭに限らず、例えば縮小光学系に用いてもよい。
・線状光源５２を構成するライトガイド５２２は、図４に示す構成に限定されず、原稿Ｄを均一に照明できるものであればよい。ライトガイドは、例えばファイバ素線を複数本バンドルしてアッセンブリされた構成でもよい。また、線状光源５２は、発光体５２１とライトガイド５２２とを用いる構成に限定されず、例えば線状発光体でもよい。一般的に用いられているＬＥＤアレイで構成してもよい。

・発光体５２１はＬＥＤに限らず、キセノンランプ等の蛍光ランプを用いてもよい。
・画像読取装置は、印刷装置２１とスキャナー装置３１とを備えた複合機１１や複写機に限らず、原稿を搬送する原稿搬送部を備えたスキャナー装置であってもよいし、フラットベッド型のスキャナー装置であってもよい。

・読取モジュールおよび結像光学機構を、原稿以外の読取対象の画像を読み取る画像読取装置に適用してもよい。
・光学モジュールおよび結像光学機構を、画像読取装置以外の装置に適用してもよい。例えば、結像光学機構５６を搭載する光学モジュールが、結像対象に対して相対的に移動可能に設けられた装置に適用してもよい。例えば、光プリンターに適用してもよい。この場合、結像光学機構が搭載された光学モジュールの一例としての書込モジュールが、結像対象としての感光ドラム等の感光体に対して相対的に移動し、有機ＥＬ発光素子等の光源から入射した光を結像対象である感光体に結像させる。このように結像光学機構が適用される光学モジュールは、読取モジュールに限らず、光源像を感光体等の結像対象に書き込む書込モジュールでもよい。

１１…画像読取装置の一例としての複合機、１５…操作部、２１…印刷装置、３１…スキャナー装置、３２…装置本体、３３…原稿台、３４…原稿台カバー、３５…原稿搬送部、３６…載置台、３９…読取窓、４０，４０Ａ，４０Ｂ…透明部材の一例としてのガラス板、５０…光学モジュールの一例としての読取モジュール、５２…光源の一例としての線状光源、５３…読取素子、５５…筐体、５６…結像光学機構、５７…受光素子、５７２…センサー列、５７３…結像対象の一例としてのセンサー、６０…搬送部、８１…第１遮光部材、８１１…スリット、８１２…テーパー面、８１３…第１遮光部の一例である延出部、８２…第２遮光部材、８２１…スリット、８２２…テーパー面、８２３…第１遮光部の一例である延出部、８３…アパーチャー部材の一例としての第１アパーチャー部材、８３１…スリット、８３３…第２遮光部の一例である遮光桟、８３４…突起、８３５…傾斜面、８４…アパーチャー部材の一例としての第２アパーチャー部材、８４１…スリット、８４３…第２遮光部の一例である遮光桟、８５…第１鏡面の一例としての第１凹面鏡、８５Ａ…第１凹面、８５Ｂ…第２凹面、８５１…第１鏡面列の一例としての第１凹面鏡列、８６…第２鏡面の一例としての第２凹面鏡、８６Ａ…第３凹面、８６Ｂ…第４凹面、８６１…第２鏡面列の一例としての第２凹面鏡列、８７…外壁部材、８８…外壁部材、８９…アパーチャー部材の一例としての第３アパーチャー部材、８９１…スリット、９７…遮光部、１００…制御部、Ｄ…原稿、Ｄｐ…読取面、Ｘ…主走査方向、Ｙ…副走査方向、Ｚ…鉛直方向、Ｚ１…光軸方向、Ｌ１…線状光源の光の主軸、Ｌ２…光、Ｎ１…原稿面の法線、ＬＡ…光、ＬＢ…光（平行光）、ＬＣ…光、Ｓ１…第１遮光部材のスリットの幅、Ｓ２…第２遮光部材のスリットの幅、ＬＸ１…第１凹面鏡の主走査方向の長さ、ＬＹ１…第１凹面鏡の副走査方向の長さ、ＬＸ２…第２凹面鏡の主走査方向の長さ、ＬＹ２…第２凹面鏡の副走査方向の長さ、ＬＹ…凹面鏡長さ、Ｃ１…第１曲率、Ｃ２…第２曲率、Ｃ３…第３曲率、Ｃ４…第４曲率、ＬＦ１…光学距離、ＬＦ２…光学距離、ＰＴ１…第１部品、ＰＴ２…第２部品。

Claims (21)

1. 読取対象または結像対象に対して相対的に移動する光学モジュールに搭載され、光源からの光が前記読取対象に対して反射または透過して入射した光、または前記読取対象である前記光源から入射した光を、前記結像対象に結像させる結像光学機構であって、
   前記結像光学機構は、
   前記読取対象から入射する光を反射する第１鏡面と、
   前記第１鏡面に対して前記光学モジュールの相対的な移動方向においてずれた位置に配置され前記第１鏡面で反射した光を反射して射出する第２鏡面と、
   前記読取対象から入射した前記光が前記第１鏡面へ向かう経路と、前記第１鏡面で反射した光が前記第２鏡面に向かう経路と、前記第２鏡面で反射した前記光が前記結像対象へ向かう経路と、に亘ってスリットが形成された複数のアパーチャー部材と、を有し、
   前記第１鏡面は、
   前記移動方向においては前記読取対象から広がって入射した前記光が前記第２鏡面との間の位置で結像しないように反射する第１曲率と、
   前記移動方向と交差する交差方向においては前記読取対象から広がって入射した前記光が前記第２鏡面との間の位置で結像するように反射する第２曲率と、を有し、
   前記第２鏡面は、
   前記移動方向においては前記第１鏡面から入射した前記光を前記結像対象の位置で結像するように反射する第３曲率と、
   前記交差方向においては前記第１鏡面から入射した前記光を前記結像対象の位置で結像するように反射する第４曲率と、を有することを特徴とする結像光学機構。
2. 前記第１鏡面および前記第２鏡面における前記移動方向の長さは、前記交差方向の長さよりも長いことを特徴とする請求項１に記載の結像光学機構。
3. 入射した前記光が、複数の前記アパーチャー部材のうち最も前記光の入射側に配置された第１アパーチャー部材に向かう経路上に配置され、前記第１鏡面に対向する位置にスリットを有する第１遮光部材と、
   前記第２鏡面に反射した前記光が複数の前記アパーチャー部材のうち最も前記結像対象に近い側に配置された第２アパーチャー部材を通過して前記結像対象へ向かう経路上に配置され、前記第２鏡面に対向する位置にスリットを有する第２遮光部材と、を備えることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の結像光学機構。
4. 前記第１遮光部材及び前記第２遮光部材のそれぞれに形成されたスリットのうち少なくとも一方のスリットの前記移動方向における内側の端部は、それぞれに対向配置された前記鏡面以外に向かう前記光を遮る位置に配置される請求項３に記載の結像光学機構。
5. 前記第１遮光部材及び前記第２遮光部材のそれぞれに形成されたスリットのうち少なくとも一方のスリットの前記移動方向に配置された側面は、それぞれに対向配置された鏡面とは反対側に広がる傾斜形状である、ことを特徴とする請求項４に記載の結像光学機構。
6. 前記第１遮光部材及び前記第２遮光部材のうち少なくとも一方には、前記第１遮光部材のスリットを通過し、前記第２遮光部材のスリットに向かう光を遮る位置に、第１遮光部が設けられている、ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の結像光学機構。
7. 前記第１アパーチャー部材と前記第２アパーチャー部材とのうち少なくとも一方には、前記第１遮光部材のスリットを通過し、前記第２遮光部材のスリットに向かう光を遮る位置に、第２遮光部が設けられている、ことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の結像光学機構。
8. 前記第２遮光部は、前記第１アパーチャー部材に設けられる場合は、前記第１アパーチャー部材に形成されたスリットには、前記第１遮光部材のスリットによって制限された光の経路と、前記第２鏡面に入射する光及び反射した光の経路との間の位置に設けられ、前記第２アパーチャー部材に設けられる場合は、前記第２アパーチャー部材に形成されたスリットには、前記第１鏡面に入射する光及び反射した光の経路と、前記第２鏡面に反射した光の経路との間の位置に設けられている、ことを特徴とする請求項７に記載の結像光学機構。
9. 前記第２遮光部の前記移動方向における側面は、前記第１遮光部材のスリットによって制限された光の経路と、前記第２鏡面に入射する光及び反射した光の経路との、それぞれの内側の端部に沿う形状である請求項８に記載の結像光学機構。
10. 前記第１アパーチャー部材及び前記第２アパーチャー部材のうち少なくとも前記第１アパーチャー部材の前記読取対象側の面において、前記スリットにおける前記光が入射する領域に隣接する領域には、前記移動方向に対して前記第２鏡面とは反対側に傾斜した傾斜面が設けられている請求項７〜請求項９のいずれか一項に記載の結像光学機構。
11. 前記第１遮光部材のスリットの前記移動方向における幅は、前記読取対象から入射する光を、前記移動方向における前記第１鏡面の長さ範囲内の照射域に制限可能な長さであることを特徴とする請求項３〜請求項１０のいずれか一項に記載の結像光学機構。
12. 前記第２遮光部材のスリットの前記移動方向における幅は、前記第２鏡面に反射した光が通過可能な長さであることを特徴とする請求項３〜請求項１１のいずれか一項に記載の結像光学機構。
13. 前記第１鏡面と前記第２鏡面とは、前記移動方向において重ならない位置、前記交差方向において重なる位置に配置されることを特徴とする請求項３〜請求項１２のいずれか一項に記載の結像光学機構。
14. 前記結像対象の位置において、前記移動方向においては前記読取対象の像を倒立結像し、前記交差方向においては前記読取対象の像を正立結像することを特徴とする請求項３〜請求項１３のいずれか一項に記載の結像光学機構。
15. 前記第１遮光部材は前記第２鏡面の前記移動方向における第１方向に隣接して一体に形成され、前記第２遮光部材は前記第１鏡面の前記移動方向における第２方向に隣接して一体に形成されることを特徴とする請求項３〜請求項１４のいずれか一項に記載の結像光学機構。
16. 前記第２鏡面は、前記反射した光を前記読取対象と前記第１鏡面との光学距離と同じ光学距離で結像させることを特徴とする請求項１５に記載の結像光学機構。
17. 前記第１鏡面と前記第２鏡面とは共通の形状であることを特徴とする請求項１５又は請求項１６に記載の結像光学機構。
18. 前記第１遮光部材と前記第２遮光部材は、前記アパーチャー部材も一体に形成されることを特徴とする請求項１５〜請求項１７のいずれか一項に記載の結像光学機構。
19. 請求項３〜請求項１８のいずれか一項に記載の結像光学機構と、
    前記交差方向に沿って前記読取対象に光を照射する前記光源としての線状光源と、
    前記結像対象としてのセンサーを複数配列したセンサー列と、
    を備えた前記光学モジュールの一例としての読取モジュールであって、
    前記結像光学機構は、
    前記第１鏡面を前記交差方向に複数配列した第１鏡面列と、
    前記第２鏡面を前記交差方向に複数配列した第２鏡面列と、
    前記スリットが前記第１鏡面列に光を入射可能に開口する前記第１遮光部材と、
    前記スリットが前記第２鏡面列に反射した光を前記センサー列に結像可能に開口する前記第２遮光部材と、
    を有することを特徴とする読取モジュール。
20. 前記第１遮光部材のスリットは、前記交差方向に前記第１鏡面列に光を入射可能な長さ範囲に亘って開口し、
    前記第２遮光部材のスリットは、前記交差方向に前記第２鏡面列に反射した光を前記センサー列に結像可能な長さ範囲に亘って開口することを特徴とする請求項１９に記載の読取モジュール。
21. 請求項１９又は請求項２０に記載の読取モジュールと、
    読取対象としての原稿の位置を規定する透明部材と、
    前記原稿と前記光学モジュールとを相対的に移動させる搬送部と、
    を備え、
    前記読取モジュールは、前記透明部材を挟んで前記原稿とは反対側の位置で、前記原稿に照射した光の反射光を入射して前記原稿を読み取ることを特徴とする画像読取装置。