JP2019120930A - Alignment substrate with electrode and liquid crystal display element - Google Patents

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Abstract

To provide a liquid crystal display element having both a region showing a high low-drive voltage property and a region showing high display responsiveness when a voltage is in an OFF state in a single liquid crystal display element.SOLUTION: The liquid crystal display element includes an alignment substrate having both a region having a weak anchoring ability and a region having a strong anchoring ability.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、液晶表示素子、及び液晶表示素子に用いられる電極付き配向基板に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display element and an alignment substrate with an electrode used for the liquid crystal display element.

液晶表示素子は、薄型、軽量、低消費電力などの特性を有していることから、携帯電話、コンピュータ及びテレビの表示素子等の幅広い領域に用途が拡大している。液晶表示素子の表示原理として、TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)等様々な表示モードが提案されているが、そのほとんどは、配向基板によって液晶分子の配向方向を予め規制する必要がある。   Since liquid crystal display elements have characteristics such as thinness, lightness, and low power consumption, their application is being expanded to a wide range of display elements of mobile phones, computers, and televisions. Various display modes such as TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), FLC (Ferroelectric Liquid Crystal), etc. have been proposed as display principles of liquid crystal display elements, but most of them are liquid crystal molecules depending on the alignment substrate. The orientation direction needs to be regulated in advance.

液晶分子の配向方向を規制する方法として、基板上にポリイミド又はポリイミド前駆体を含む溶液を用いて形成される配向膜を形成した後に、レーヨンや綿などの布を巻いたローラーを、回転数並びにローラー及び基板の距離を一定に保った状態で回転させ、配向膜の表面を一方向に擦る手法(ラビング法)や、直線偏光紫外線を照射してポリイミドの分子配向に異方性を発生させる手法(光配向法)等が採用されている。これらの配向処理により、液晶分子は配向膜付き基板表面に強く束縛され、一定方向に配向するようになる。以下、この液晶分子が配向膜付き基板表面に束縛され、配向する方向を、「配向容易軸」と表記する。   As a method of regulating the alignment direction of liquid crystal molecules, after forming an alignment film formed using a solution containing a polyimide or a polyimide precursor on a substrate, a roller wound with a cloth such as rayon or cotton is rotated at A method in which the surface of the alignment film is rubbed in one direction by rotating while keeping the distance between the roller and the substrate constant (rubbing method) or a method of generating anisotropy in molecular orientation of polyimide by irradiating linearly polarized ultraviolet light (Photo alignment method) etc. are adopted. By these alignment processes, liquid crystal molecules are strongly bound to the surface of the alignment film-attached substrate, and are aligned in a certain direction. Hereinafter, the direction in which the liquid crystal molecules are bound to the surface of the alignment film-attached substrate and aligned is referred to as “alignment easy axis”.

近年、液晶表示素子の低駆動電圧性を高めるための改善策として、基板の一方に強アンカリング膜を有し、他方に弱アンカリング膜を有する液晶表示素子(例えば、特許文献1参照)が提案されている。尚、本明細書では、上述の配向膜のような液晶分子の配向方向を規制する膜を「強アンカリング膜」と表記し、規制する能力を「強アンカリング能」と表記する。同様に、基板表面の配向規制力(アンカリング)が弱く、膜近傍でも電界等によって液晶分子の向きを変化させることができる膜を「弱アンカリング膜」と表記し、膜近傍でも電界等によって液晶分子の向きを変化させることができる能力を「弱アンカリング能」と表記する。即ち、「強アンカリング膜」とは「強アンカリング能を有する膜」である。「弱アンカリング膜」とは「弱アンカリング能を有する膜」である。又、強アンカリング能を有する膜を形成可能な材料「強アンカリング膜形成用材料」と表記し、弱アンカリング能を有する膜を形成可能な材料を「弱アンカリング膜形成用材料」と表記する。   In recent years, as an improvement measure for improving the low drive voltage property of a liquid crystal display element, a liquid crystal display element having a strong anchoring film on one side of the substrate and a weak anchoring film on the other side (see, for example, Patent Document 1) Proposed. In the present specification, a film that regulates the alignment direction of liquid crystal molecules, such as the alignment film described above, is referred to as “strong anchoring film”, and the ability to regulate is referred to as “strong anchoring ability”. Similarly, a film having weak alignment control force (anchoring) on the surface of the substrate and capable of changing the direction of liquid crystal molecules by an electric field or the like in the vicinity of the film is referred to as a "weak anchoring film". The ability to change the orientation of liquid crystal molecules is referred to as "weak anchoring ability". That is, the "strong anchoring membrane" is a "membrane having a strong anchoring ability". "Weak anchoring membrane" is a "membrane having weak anchoring ability". In addition, a material capable of forming a film having strong anchoring ability is referred to as “material for forming a strong anchoring film”, and a material capable of forming a film having weak anchoring ability is referred to as a “material for forming weak anchoring film”. write.

又、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する層のことを「両アンカリング層」と表記する。尚、通常、液晶表示素子用「配向膜」とは上述の強アンカリング膜を表すが、本明細書では両アンカリング層も「配向膜」の一つの形態であるとする。   In addition, a layer having both a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability is referred to as “both anchoring layers”. In addition, although the "alignment film" for liquid crystal display elements usually represents the above-mentioned strong anchoring film, in this specification, both anchoring layers also assume one form of an "alignment film".

特許文献1の実施例では、一方に基板表面にポリマーブラシを形成した弱アンカリング膜、及び他方にラビング処理を施したポリイミド膜である強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が記載されている。弱アンカリング膜は、液晶分子の配向規制力が弱いため、一方に弱アンカリング膜、他方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子は、両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子と比較して、低駆動電圧性が高いというメリットがあるが、同時に電圧OFF時の表示応答性が低いというデメリットがある。   The example of Patent Document 1 describes a liquid crystal display device including a weak anchoring film in which a polymer brush is formed on the substrate surface on one side and a strong anchoring film which is a polyimide film on which the other is rubbed. . The weak anchoring film is weak in the alignment control power of liquid crystal molecules, so a liquid crystal display element provided with a weak anchoring film on one side and a strong anchoring film on the other side is a liquid crystal display element provided with a strong anchoring film on both sides In comparison, there is an advantage that the low drive voltage property is high, but at the same time there is a disadvantage that the display response at the time of voltage OFF is low.

情報端末に用いられる液晶表示素子では、動画を再生する等の電圧OFF時の表示応答性を重視する領域、及び時刻を表示する等の電圧OFF時の表示応答性はさほど重要ではないが、使用時間が長く省電力性を重視する領域が存在する。   In the liquid crystal display element used for the information terminal, the area that emphasizes the display responsiveness at voltage OFF such as reproducing a moving image, and the display responsiveness at voltage OFF such as displaying time are not so important, but they are used There are areas where time is long and power saving is important.

電圧OFF時の表示応答性が高いことに対しては両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が有効であり、省電力性に優れることに対しては一方に強アンカリング膜、他方に弱アンカリング膜を備えた液晶表示素子が有効である。   A liquid crystal display element provided with a strong anchoring film on both sides is effective for high display response when the voltage is off, and a strong anchoring film on one side and the other for excellent power saving. A liquid crystal display element provided with a weak anchoring film is effective.

通常、単一の液晶表示素子中において、電圧OFF時の表示応答性及び省電力性をそれぞれ重視する2種類の領域が存在する場合には、電圧OFF時の表示応答性を優先し、両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が用いられている。そのため、弱アンカリング膜を備えていることによる液晶表示素子の低駆動電圧性向上のメリットは知られていたが、電圧OFF時の表示応答性低下が障壁となり、その特性を重視する領域の存在する液晶表示素子には弱アンカリング膜を使用できない状況であった。   In general, in a single liquid crystal display element, when there are two types of regions that emphasize display responsiveness at the time of voltage OFF and power saving, priority is given to display responsiveness at the time of voltage OFF. A liquid crystal display element provided with a strong anchoring film is used. Therefore, although the merit of the low drive voltage property improvement of the liquid crystal display element by having a weak anchoring film was known, the display responsiveness fall at the time of voltage OFF becomes a barrier, and the existence of the field which emphasizes the characteristic In such a liquid crystal display element, a weak anchoring film can not be used.

特開2017−010030Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-010030

本発明の課題は、単一の液晶表示素子中において、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域が存在する液晶表示素子、及びその液晶表示素子に用いられる電極付き配向基板を提供することである。   It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display element in which both a region having a high low drive voltage property and a region having a high display response at the time of voltage OFF exist in a single liquid crystal display element and the liquid crystal display element An object of the present invention is to provide an alignment substrate with electrodes used.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、基板上に電極並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた電極付き配向基板であって、電極が前記基板と平行な電界を生成可能であり、且つ基板と平行な電界を生成する電極領域上における両アンカリング層の面積に占める弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40〜100%である画素を備えた電極付き配向基板を備えた液晶表示素子により、上記目的を達することができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive investigations to solve the above problems, the present inventor found that the electrode and the electrode provided with both anchoring layers having both an area having weak anchoring ability and an area having strong anchoring ability on the substrate. An oriented substrate in which the electrodes can generate an electric field parallel to the substrate and which has weak anchoring ability in the area of both anchoring layers on the electrode area generating an electric field parallel to the substrate It has been found that the above object can be achieved by a liquid crystal display device provided with an alignment substrate with an electrode provided with pixels whose area ratio is 40 to 100%, and the present invention has been completed.

本発明は以下の構成を含む。
[1] 基板上に、少なくとも電極、並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた、電極付き配向基板であって;
前記電極は前記基板と平行な電界を生成可能であり;
前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40〜100%である画素を備えた電極付き配向基板。
The present invention includes the following configurations.
[1] An electroded alignment substrate comprising, on a substrate, both anchoring layers having at least an electrode, and both an area having weak anchoring ability and an area having strong anchoring ability;
The electrode is capable of generating an electric field parallel to the substrate;
The electrode is provided with a pixel in which the ratio of the area of the region having the weak anchoring ability to the area of both anchoring layers on the electrode region generating an electric field parallel to the substrate is 40 to 100%. Alignment substrate.

[2] 前記電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0〜20%である画素を更に備えた、[1]項に記載の電極付き配向基板。 [2] The image display device according to [1], further comprising a pixel in which the ratio of the area of the weakly anchoring area to the area of the both anchoring layers on the electrode area is 0 to 20%. Electroded alignment substrate.

[3] 前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、両アンカリング層の面積に占める、弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40〜100%である画素において、前記電極領域以外の、非電極領域上の前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0〜20%である、[1]項に記載の電極付き配向基板。 [3] The pixel in which the ratio of the area of the region having weak anchoring ability to the area of both anchoring layers on the electrode region generating an electric field parallel to the substrate is 40 to 100% The electrode-equipped alignment substrate according to item [1], wherein the ratio of the area of the weakly anchoring area to the area of both the anchoring layers on the non-electrode area other than the area is 0 to 20%. .

[4] [1]〜[3]のいずれか1項に記載の電極付き配向基板、及び液晶層を挟んでこれと対向する第2の配向基板を備えた液晶表示素子であって;
前記第2の配向基板が強アンカリング膜を備えた液晶表示素子。
[4] A liquid crystal display device comprising the alignment substrate with electrode according to any one of [1] to [3], and a second alignment substrate opposed to the alignment substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween;
The liquid crystal display element in which said 2nd orientation board | substrate was equipped with the strong anchoring film | membrane.

本発明の好ましい態様に係る電極付き配向基板は、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する。そのために低駆動電圧性に優れる領域及び電圧OFF時の表示応答性に優れる領域の両方の領域を有する液晶表示素子を作製することができる。特に、IPS表示モードの液晶表示素子の2枚の強アンカリング膜の内、一方を両アンカリング層に置き換えた液晶表示素子として有用である。   The electroded alignment substrate according to the preferred embodiment of the present invention has both a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability. Therefore, a liquid crystal display element having both a region excellent in low driving voltage property and a region excellent in display response at the time of voltage OFF can be manufactured. In particular, it is useful as a liquid crystal display element in which one of the two strong anchoring films of the liquid crystal display element in the IPS display mode is replaced with both anchoring layers.

画素、電極領域、及び非電極領域の例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of a pixel, an electrode area | region, and a non-electrode area. 本発明の電極付き配向基板の領域パターン例を示す平面図である。It is a top view which shows the area | region pattern example of the orientation board | substrate with an electrode of this invention. 本発明の電極付き配向基板の領域パターン例において、電極形状に合わせた前記領域パターンの形状の具体例を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a specific example of the shape of the region pattern in accordance with the shape of the electrodes in the region pattern example of the alignment substrate with electrodes of the present invention. 本発明の液晶表示素子10の第1実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット11、偏光板12A、及び偏光板12Bの概略構成を示す断面図である。尚、両アンカリング層13が、弱アンカリング能を有する領域13Aである場合及び強アンカリング能を有する領域13Bである場合の、いずれの場合も図4のように表される。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a first embodiment of a liquid crystal display element 10 of the present invention, a backlight unit 11 for display, a polarizing plate 12A, and a polarizing plate 12B. In both cases where both anchoring layers 13 are the region 13A having weak anchoring ability and the region 13B having strong anchoring ability, both cases are represented as shown in FIG. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す断面図である。In the first embodiment, a liquid crystal using a liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy and applying an electric field E, and in the case where both anchoring layers 13 are the region 13A having weak anchoring ability It is sectional drawing which shows distribution of the orientation direction of a molecule | numerator. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す断面図である。In the first embodiment, a liquid crystal using a liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy and applying an electric field E, and in the case where both anchoring layers 13 are the region 13B having strong anchoring ability It is sectional drawing which shows distribution of the orientation direction of a molecule | numerator. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界を印加しない状態における、電極線の配線方向及び弱アンカリング膜近傍の液晶分子の配向方向の関係を示す平面図である。尚、両アンカリング層13が、弱アンカリング能を有する領域13Aである場合及び強アンカリング能を有する領域13Bである場合の、いずれの場合も図7のように表される。In the first embodiment, a plane showing the relationship between the wiring direction of the electrode lines and the alignment direction of the liquid crystal molecules in the vicinity of the weak anchoring film in the state where no electric field is applied using the liquid crystal compound Lp with positive dielectric anisotropy. FIG. In both cases where both anchoring layers 13 are the region 13A having weak anchoring ability and the region 13B having strong anchoring ability, both cases are represented as shown in FIG. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す平面図である。In the first embodiment, an electrode using a liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy and in the state where an electric field E is applied and in which both anchoring layers 13 are regions 13A having weak anchoring ability It is a top view which shows the relationship of the wiring direction of a line, and the orientation of a liquid crystal molecule. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す平面図である。In the first embodiment, an electrode using a liquid crystal compound Lp with positive dielectric anisotropy and in the state where an electric field E is applied, and in the case where both anchoring layers 13 are regions 13B having strong anchoring ability, It is a top view which shows the relationship of the wiring direction of a line, and the orientation of a liquid crystal molecule. 実施例のIPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び二区画パターンの両アンカリング層の配置の関係を示す平面図である。1つの電極付き配向基板上に画素18が2つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。It is a top view which shows the relationship of arrangement | positioning of Cr comb-tooth electrode for IPS cells of an Example, and arrangement | positioning of both anchoring layers of a two-section pattern. Two pixels 18 are formed on one alignment substrate with electrodes. The comb-tooth electrodes are arranged at regular intervals along the direction X in a plane parallel to the substrate. 実施例のIPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び第1のストライプパターンの両アンカリング層の配置の関係を示す平面図である。1つの電極付き配向基板上に画素18が2つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。It is a top view which shows the relationship between arrangement | positioning of Cr comb-tooth electrode for IPS cells of an Example, and arrangement | positioning of both anchoring layers of a 1st stripe pattern. Two pixels 18 are formed on one alignment substrate with electrodes. The comb-tooth electrodes are arranged at regular intervals along the direction X in a plane parallel to the substrate. 実施例のIPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び第2のストライプパターンの両アンカリング層の配置の関係を示す平面図である。1つの電極付き配向基板上に画素18が2つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。It is a top view which shows the relationship between arrangement | positioning of Cr comb-tooth electrode for IPS cells of an Example, and arrangement | positioning of both anchoring layers of a 2nd stripe pattern. Two pixels 18 are formed on one alignment substrate with electrodes. The comb-tooth electrodes are arranged at regular intervals along the direction X in a plane parallel to the substrate.

<1.本発明の電極付き配向基板>
本発明の電極付き配向基板は、基板上に少なくとも電極並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えることを特徴とする配向基板である。
<1. Alignment Substrate with Electrode of the Present Invention>
The electroded alignment substrate of the present invention is characterized by comprising on the substrate at least an electrode and both anchoring layers having both a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability. is there.

<1−1.電極付き配向基板の構成>
前記電極付き配向基板における基板、電極、及び両アンカリング層の構成は、基板上に前記電極、前記両アンカリング層の順に積層された構成である。
<1-1. Configuration of Alignment Substrate with Electrode>
The configuration of the substrate, the electrode, and both anchoring layers in the alignment substrate with electrodes is a configuration in which the electrode and both anchoring layers are laminated in this order on the substrate.

前記電極は、画素に分割されている。尚、本明細書では、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の3原色の表示用の場合、各色それぞれを「1画素」、R、G、B合わせて「3画素」のように表記することとする。更に、液晶表示素子で表示される画素に対応する、電極付き配向基板の領域も「画素」と表記することとする。   The electrodes are divided into pixels. In the present specification, for example, in the case of display of three primary colors of R (red), G (green) and B (blue), each color is combined into “1 pixel”, R, G, B “3 pixels” It shall be written as Furthermore, the region of the alignment substrate with electrodes corresponding to the pixel displayed by the liquid crystal display element is also referred to as "pixel".

前記電極は、1画素当り複数本の櫛歯電極で構成されていることが好ましい。この櫛歯電極上及び櫛歯電極間で構成される基板に平行な電界を生成可能な領域を「電極領域」と表記し、電極領域以外の領域を「非電極領域」と表記することとする。即ち、本発明の電極付き配向基板における画素は、電極領域及び非電極領域の両方を有する。   It is preferable that the electrode is configured of a plurality of comb-like electrodes per pixel. A region capable of generating an electric field parallel to the substrate formed on and between the comb electrodes and the comb electrodes is referred to as "electrode region", and a region other than the electrode region is referred to as "non-electrode region". . That is, the pixel in the electroded alignment substrate of the present invention has both an electrode region and a non-electrode region.

前記画素、前記電極領域、及び前記非電極領域の例を図1に示す。なお、図1中の画素電極は一部省略している。   Examples of the pixel, the electrode area, and the non-electrode area are shown in FIG. The pixel electrodes in FIG. 1 are partially omitted.

本発明の電極付き配向基板に用いられる電極の例は、実施例で用いられたCr等の金属電極;並びにITO(Indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、AZO(aluminum doped zinc oxide)、GZO(gallium doped zinc oxide)、及びATO(antimony tin oxide)等の透明電極である。金属電極は透明電極より安価に電極を形成可能である。透明電極を用いることで、金属電極を用いる場合より液晶表示素子の光透過率を向上させることができる。   Examples of electrodes used for the alignment substrate with electrodes of the present invention include metal electrodes such as Cr used in the examples; and ITO (Indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), AZO (aluminum doped zinc oxide), Transparent electrodes such as GZO (gallium doped zinc oxide) and ATO (antimony tin oxide). A metal electrode can form an electrode cheaper than a transparent electrode. By using a transparent electrode, the light transmittance of the liquid crystal display element can be improved as compared to the case of using a metal electrode.

<1−2.両アンカリング層の面積に占める弱アンカリング能を有する領域の面積の割合>
本発明の電極付き配向基板は、電極領域上における前記両アンカリング層の面積に占める前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合(以下「弱アンカリング面積割合」と表記)が40〜100%である画素を備える。
<1-2. Ratio of area of area having weak anchoring ability to area of both anchoring layers>
In the alignment substrate with an electrode according to the present invention, the ratio of the area of the region having the weak anchoring ability to the area of the two anchoring layers on the electrode region (hereinafter referred to as “weak anchoring area ratio”) is 40 to 100. With pixels that are%.

電極領域上において、弱アンカリング面積割合の大きい領域は、対応する液晶表示素子の領域の低駆動電圧性が高く、弱アンカリング面積割合の小さい領域は電圧OFF時の表示応答性が高い。   In the electrode region, the region with a large weak anchoring area ratio has high low driving voltage property of the region of the corresponding liquid crystal display element, and the region with a small weak anchoring area ratio has a high display response when the voltage is OFF.

そのため、電極領域上の弱アンカリング面積割合の大きい画素及び電極領域上の弱アンカリング面積割合の小さい画素の両方の画素を有する電極付き配向基板を用いることで、単一の液晶表示素子中において、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域が存在する液晶表示素子を作製可能である。   Therefore, in a single liquid crystal display element, an alignment substrate with an electrode is used which has both a pixel with a large area of weak anchoring area on the electrode area and a pixel with a small area of weak anchoring area on the electrode area. It is possible to manufacture a liquid crystal display element in which both a region having a high low drive voltage and a region having a high display response when the voltage is off exist.

低駆動電圧性が高い領域を有する液晶表示素子を作製するためには、電極領域上の弱アンカリング面積割合が40〜100%である画素を備えることが好ましく、電圧OFF時の表示応答性が高い領域を作製するためには、電極領域上の弱アンカリング面積割合が0〜20%である画素を備えることが好ましい。低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域を有する液晶表示素子の好ましい例は、電極領域上の弱アンカリング面積割合が80〜100%である画素、及び電極領域上の弱アンカリング面積割合が0〜20%である画素の両方の画素を備える液晶表示素子である。   In order to manufacture a liquid crystal display element having a region with a high low driving voltage property, it is preferable to include a pixel in which the weak anchoring area ratio on the electrode region is 40 to 100%, and the display response at the time of voltage OFF In order to produce a high area | region, it is preferable to provide the pixel whose weak anchoring area ratio on an electrode area is 0 to 20%. A preferred example of a liquid crystal display element having both a region with high low driving voltage and a region with high display response when the voltage is off is a pixel in which the percentage of weak anchoring area on the electrode region is 80 to 100%. And the liquid crystal display element provided with both pixels of a pixel whose weak anchoring area ratio on an electrode area is 0 to 20%.

更に、電極領域上の弱アンカリング面積割合の大きい画素の周辺部において、非電極領域の弱アンカリング面積割合を小さくすることで、低駆動電圧性及び電圧OFF時の表示応答性のバランスの良好な領域を有する液晶表示素子を作製可能である。   Furthermore, by reducing the weak anchoring area ratio of the non-electrode area in the peripheral part of the pixel where the weak anchoring area ratio is large on the electrode area, the balance between the low drive voltage property and the display response at the voltage OFF is good. It is possible to manufacture a liquid crystal display element having a narrow area.

好ましくは、電極領域上の弱アンカリング面積割合が60〜100%であり、非電極領域上の弱アンカリング面積割合が0〜20%である。   Preferably, the percentage of weak anchoring area on the electrode region is 60 to 100%, and the percentage of weak anchoring area on the non-electrode region is 0 to 20%.

<1−3.電極付き配向基板の領域パターン>
本発明の電極付き配向基板の両アンカリング層の領域のパターン(以下、「領域パターン」と表記)は、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域が、1次元又は2次元に規則的に構成されていることが望ましい。領域パターンの規則性があることで、領域パターン作製時の生産性、再現性に優れたものとなる。
<1-3. Area pattern of alignment substrate with electrodes>
In the pattern of the region of both anchoring layers of the alignment substrate with electrodes of the present invention (hereinafter referred to as "region pattern"), the region having weak anchoring ability and the region having strong anchoring ability are one-dimensional or two-dimensional It is desirable to be regularly organized. The regularity of the area pattern makes it excellent in productivity and reproducibility in area pattern production.

前記領域パターンの形状の例は、二区画形状(2a)、ストライプ形状(2b)、格子形状(2c)、水玉形状(2d)である。これらの例を図2に示す。図2の領域(2α)及び(2β)がそれぞれ弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域、又は強アンカリング能を有する領域及び弱アンカリング能を有する領域である。   Examples of the shape of the area pattern are a two-section shape (2a), a stripe shape (2b), a lattice shape (2c), and a water dot shape (2d). Examples of these are shown in FIG. Regions (2α) and (2β) in FIG. 2 are a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability, or a region having strong anchoring ability and a region having weak anchoring ability, respectively.

電極形状に合わせた前記領域パターンの形状の具体例として、電極領域上の弱アンカリング面積割合が100%である画素、及び電極領域上の弱アンカリング面積割合が0%である画素の両方の画素を有する二区画形状の例(3a)、並びに電極領域上の弱アンカリング面積割合が80%であり、且つ非電極領域の弱アンカリング面積割合が0%である画素を有するストライプ形状の例(3b)及び(3c)を図3に示す。図3の領域(3α)及び(3β)は、それぞれ弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域である。   As a specific example of the shape of the area pattern according to the electrode shape, both a pixel having a weak anchoring area ratio of 100% on the electrode area and a pixel having a weak anchoring area ratio on the electrode area of 0% An example (3a) of a two-section shape having pixels, and an example of a stripe shape having pixels in which the weak anchoring area ratio on the electrode area is 80% and the weak anchoring area ratio in the non-electrode area is 0% (3b) and (3c) are shown in FIG. Regions (3α) and (3β) in FIG. 3 are a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability, respectively.

<2.電極付き配向基板の作製方法>
本発明の電極付き配向基板の作製では、少なくとも電極を備えた基板(以下「電極付き基板」と表記する)上に、両アンカリング層を形成する。
<2. Method of Producing Alignment Substrate with Electrode>
In the preparation of the alignment substrate with electrode of the present invention, both anchoring layers are formed on a substrate provided with at least an electrode (hereinafter referred to as “substrate with electrode”).

電極付き配向基板の作製方法の例は、
電極付き基板上に弱アンカリング能を有するベタ膜を形成した後に、紫外線のパターン照射等を用いて部分的にベタ膜のリコート性を変化させ、リコート性の良好な領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで、電極付き配向基板を作製する方法(以下、「作製方法A」と表記);
電極付き基板上にグラビアオフセット印刷及びフレキソ印刷等の印刷方法を用いて弱アンカリング能を有するパターン体を形成した後に、弱アンカリング能を有しない領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで電極付き配向基板を作製する方法(以下、「作製方法B」と表記);
電極付き基板上に弱アンカリング能を有するベタ膜を形成した後に、フォトレジストを使用し、エッチング工程を経ることで弱アンカリング能を有するパターン体を形成し、弱アンカリング能を有しない領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで電極付き配向基板を作製する方法;
電極付き基板上に感光性材料を使用し、フォトリソグラフィ法において弱アンカリング能を有するパターン体を形成した後に、弱アンカリング能を有しない領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで電極付き配向基板を作製する方法(以下、「作製方法C」と表記);
並びに、電極付き基板上に強アンカリング能を有するベタ膜を形成した後に、インクジェット法において弱アンカリング能を有するパターン体を形成することで、電極付き配向基板を作製する方法である。
An example of a method for producing an alignment substrate with electrodes is
After forming a solid film with weak anchoring ability on a substrate with an electrode, the recoating property of the solid film is partially changed using ultraviolet pattern irradiation etc., and strong anchoring ability is achieved in the area of good recoatability. A method of producing an alignment substrate with electrodes by forming a patterned body (hereinafter referred to as “production method A”);
After forming a pattern having weak anchoring ability on a substrate with an electrode using a printing method such as gravure offset printing and flexo printing, a pattern having strong anchoring ability is formed in a region having no weak anchoring ability A method of producing an alignment substrate with electrodes by conducting the following (hereinafter referred to as “production method B”);
After forming a solid film having weak anchoring ability on a substrate with electrode, a photoresist is used, and a pattern body having weak anchoring ability is formed through an etching process, and a region having no weak anchoring ability Method of producing an alignment substrate with electrodes by forming a pattern body having strong anchoring ability on the
Forming a pattern having strong anchoring ability in a region having no weak anchoring ability after using a photosensitive material on a substrate with an electrode and forming a pattern having weak anchoring ability in a photolithography method A method for producing an alignment substrate with electrodes (hereinafter referred to as “production method C”);
And, after forming a solid film having strong anchoring ability on a substrate with electrode, it is a method of producing an alignment substrate with electrode by forming a pattern body having weak anchoring ability by the ink jet method.

いずれの方法においても、強アンカリング能を有するパターン体又は強アンカリング能を有するベタ膜に対して、配向処理工程を行うことで、強アンカリング能を有する領域近傍の液晶分子が一定方向に配向するようになる。   In any of the methods, the alignment treatment step is performed on the pattern body having strong anchoring ability or the solid film having strong anchoring ability so that liquid crystal molecules in the vicinity of the region having strong anchoring ability are in a certain direction. It becomes to be oriented.

本明細書中の「リコート性」とは、膜上への塗液の塗布に対する膜の特性であり、膜が塗液をはじくことで、塗膜が形成できない膜の状態を「リコート性が不良である」と表し、膜上の塗液の塗れ広がり性が高く、塗膜が形成できる膜の状態を「リコート性が良好である」と表す。上述の作製方法Aでは、リコート性の不良なベタ膜上に紫外線を照射することにより、リコート性を向上させている。   "Recoatability" in the present specification is the property of the film to the application of the coating solution on the film, and the film can not form a coating when the film repels the coating solution. The state of the film on which the coating liquid spreads on the film is high and the coating film can be formed is expressed as "good recoatability". In the above-mentioned preparation method A, the recoating property is improved by irradiating the ultraviolet light onto the solid film having poor recoating property.

これらの電極付き配向基板の作製方法の例の内、領域パターン作製時の生産性を考慮すると、現像工程を用いない作製方法A及び作製方法Bが好ましく、領域パターンの精細性を考慮すると、パターン露光工程を用いる作製方法A及び作製方法Cが好ましい。尚、後述の実施例では、作製方法A、作製方法B、及び作製方法Cの3つの作製方法を用いている。   Among the examples of the method for producing the alignment substrate with electrodes, in consideration of the productivity at the time of producing the area pattern, the producing method A and the producing method B which do not use the developing step are preferable. The preparation method A and the preparation method C which use an exposure step are preferable. In addition, in the below-mentioned Example, three preparation methods, the preparation method A, the preparation method B, and the preparation method C, are used.

<2−1.弱アンカリング能を発現させる方法>
弱アンカリング能を発現させる方法の例は、フッ素含有材料等の低表面自由エネルギー材料を用いることにより形成膜表面の液晶材料に対する相互作用を低減させる方法(例えば、特開平6−202086、以下「低表面自由エネルギー材料使用方法」と表記)、並びにポリマーブラシを形成し、ポリマーブラシ及び液晶材料の共存部のTg(ガラス転移温度)よりも高く、且つ共存部の形状を自由に変動させ得る温度に加熱することにより共存部の液晶材料に対する相互作用を低減させる方法(例えば、特開2014−215421、以下「ポリマーブラシ形成方法」と表記)である。尚、後述の実施例では低表面自由エネルギー材料使用方法を用いている。
<2-1. Method to develop weak anchoring ability>
An example of a method of developing weak anchoring ability is a method of reducing the interaction of the formed film surface with the liquid crystal material by using a low surface free energy material such as a fluorine-containing material (for example, JP-A-6-202086, Method of using low surface free energy materials), and a temperature that forms a polymer brush, is higher than the Tg (glass transition temperature) of the coexisting portion of the polymer brush and the liquid crystal material, and can freely change the shape of the coexisting portion The method of reducing the interaction with the liquid crystal material of a coexistence part by heating to (For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-215421, and the following "polymer brush formation methods" description). In the embodiment described later, a method of using a low surface free energy material is used.

低表面自由エネルギー材料使用方法の具体例は、多官能カルボキシル化合物、多官能エポキシ化合物、及び重合性界面活性剤を含有する弱アンカリング膜形成用材料を調製し、該材料を基板上に塗布し、焼成することで、弱アンカリング能を有する膜を形成する方法、並びに多官能カルボキシル化合物、多官能エポキシ化合物、重合性界面活性剤、多官能アクリレート化合物、及び光重合開始剤を含有する弱アンカリング膜形成用材料を調製し、該材料を基板上に塗布し、露光し、焼成することで、弱アンカリング能を有する膜を形成する方法である。尚、多官能アクリレート化合物及び光重合開始剤を含む弱アンカリング膜形成用材料を使用する場合には、該材料を基板上に塗布し、パターン露光し、現像し、焼成することで弱アンカリング能を有するパターン体を形成可能である。   A specific example of the low surface free energy material application method is to prepare a material for forming a weak anchoring film containing a polyfunctional carboxyl compound, a polyfunctional epoxy compound, and a polymerizable surfactant, and apply the material on a substrate And a method of forming a film having weak anchoring ability by baking, and a weak anchor containing a polyfunctional carboxyl compound, a polyfunctional epoxy compound, a polymerizable surfactant, a polyfunctional acrylate compound, and a photopolymerization initiator A material for forming a ring film is prepared, the material is coated on a substrate, exposed to light, and baked to form a film having a weak anchoring ability. In the case of using a material for forming a weak anchoring film containing a polyfunctional acrylate compound and a photopolymerization initiator, the material is coated on a substrate, exposed to a pattern, developed, and baked to obtain weak anchoring. It is possible to form a functional pattern.

ポリマーブラシ形成方法の具体例は、基板をラジカル重合性モノマー含有液に浸漬し、基板表面にリビングラジカル重合させることによりポリマーブラシを形成することで、弱アンカリング能を有する膜を形成する方法である。   A specific example of the method of forming a polymer brush is a method of forming a film having weak anchoring ability by immersing a substrate in a solution containing a radically polymerizable monomer and causing living radical polymerization on the surface of the substrate to form a polymer brush. is there.

これらの弱アンカリング能を発現させる方法の例の内、上述の作製方法A、作製方法B、又は作製方法Cで電極付き配向基板を作製する場合に、強アンカリング能を有するパターン体を形成しやすい低表面自由エネルギー材料使用方法が好ましい。   In the case of producing an alignment substrate with an electrode by the above-mentioned preparation method A, preparation method B, or preparation method C among the examples of the methods for expressing weak anchoring ability, a pattern body having strong anchoring ability is formed Preferred is the use of low surface free energy materials which are easy to do.

<2−2.強アンカリング能を発現させる方法>
強アンカリング能は、液晶表示素子用配向膜の既知の形成方法で発現可能である。液晶表示素子用配向膜の形成方法の例は、上述のラビング法及び光配向法である。これらの2つの方法の内、配向処理工程時に本発明の配向基板の弱アンカリング能を有する領域の弱アンカリング能の低下を抑えることのできる光配向法が好ましい。
2-2. Method to develop strong anchoring ability>
The strong anchoring ability can be expressed by a known method of forming an alignment film for a liquid crystal display element. Examples of a method of forming an alignment film for a liquid crystal display element are the rubbing method and the photoalignment method described above. Among these two methods, a photoalignment method which can suppress a decrease in the weak anchoring ability of the region having weak anchoring ability of the alignment substrate of the present invention during the alignment treatment step is preferable.

光配向法の例は、光異性化型の材料を使用する方法(例えば、特開2005−275364)、光二量化型の材料を使用する方法(例えば、特開平10−251646)、及び光分解型の材料を使用する方法(例えば、特開平9−297313)である。弱アンカリング能を有する領域の弱アンカリング能を保つためには、これらの光配向法の内、露光波長300nm以上で感度の高い光異性化型の材料を使用する方法及び光二量化型の材料を使用する方法が好ましく、露光波長350nm以上で感度の高い光異性化型の材料を使用する方法が特に好ましい。尚、後述の実施例では光異性化型の材料を使用する方法を用いている。   Examples of the photoalignment method include a method using a photoisomerization-type material (for example, JP-A-2005-275364), a method using a photodimerization-type material (for example, JP-A-10-251646), and a photolysis type The method of using the material of (For example, Unexamined-Japanese-Patent No. 9-297313). In order to maintain weak anchoring ability of the region having weak anchoring ability, a method using a photoisomerization type material having high sensitivity at an exposure wavelength of 300 nm or more and a light dimerization type material among these light alignment methods The method of using a photoisomerization type material having high sensitivity at an exposure wavelength of 350 nm or more is particularly preferable. In the following examples, a method of using a photoisomerization type material is used.

<3.本発明の電極付き配向基板を用いた液晶表示素子>
液晶化合物には誘電率異方性が正であるポジ型、及び誘電率異方性が負であるネガ型が存在する。ポジ型の液晶化合物は、誘電的性質が液晶分子の長軸方向に大きく、長軸方向に直交する方向に小さい。ネガ型の液晶化合物は、誘電的性質が液晶分子の長軸方向に小さく、長軸方向に直交する方向に大きい。以下の液晶表示素子の説明では、ポジ型の液晶化合物を用いた事例について説明する。
<3. Liquid Crystal Display Device Using Alignment Substrate with Electrode of the Present Invention>
The liquid crystal compounds include a positive type in which the dielectric anisotropy is positive and a negative type in which the dielectric anisotropy is negative. In the positive type liquid crystal compound, dielectric properties are large in the long axis direction of liquid crystal molecules and small in the direction orthogonal to the long axis direction. In a negative liquid crystal compound, dielectric properties are small in the long axis direction of liquid crystal molecules and large in the direction orthogonal to the long axis direction. In the following description of the liquid crystal display element, an example using a positive liquid crystal compound will be described.

液晶表示素子には液晶分子の配向方向を制御するための配向膜として、上述の強アンカリング膜、上述の弱アンカリング膜、及び上述の両アンカリング層が存在する。本発明の液晶表示素子は、互いに対向する2つの配向膜の一方が強アンカリング膜であり、他方が両アンカリング層である。   In the liquid crystal display element, the above-mentioned strong anchoring film, the above-mentioned weak anchoring film, and the above-mentioned both anchoring layers are present as an alignment film for controlling the alignment direction of liquid crystal molecules. In the liquid crystal display element of the present invention, one of two alignment films facing each other is a strong anchoring film, and the other is both anchoring layers.

本発明の電極付き配向基板は、上記の両アンカリング層を有する基板として使用することができる。   The electroded alignment substrate of the present invention can be used as a substrate having both of the above-mentioned anchoring layers.

<3−1.第1実施形態>
図4は、本発明の液晶表示素子10の第1実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット11、偏光板12A、及び偏光板12Bの概略構成を示す断面図である。図5は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す図である。図6は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す図である。図7は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界を印加しない状態における電極線の配線方向、及び両アンカリング層近傍の液晶分子の配向方向の関係を示す図である。図8は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す図である。図9は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す図である。
<3-1. First embodiment>
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the first embodiment of the liquid crystal display element 10 of the present invention, the backlight unit 11 for display, the polarizing plate 12A, and the polarizing plate 12B. FIG. 5 is a region 13A in which both anchoring layers 13 have weak anchoring ability in the state where an electric field E is applied using the liquid crystal compound Lp having positive dielectric anisotropy in the first embodiment. It is a figure which shows distribution of the orientation direction of a liquid crystal molecule in a case. FIG. 6 is a region 13B in which both anchoring layers 13 have strong anchoring ability in a state where an electric field E is applied using the liquid crystal compound Lp having positive dielectric anisotropy in the first embodiment. It is a figure which shows distribution of the orientation direction of a liquid crystal molecule in a case. FIG. 7 shows the wiring directions of the electrode lines and the alignment directions of liquid crystal molecules in the vicinity of both anchoring layers in the state where no electric field is applied, using the liquid crystal compound Lp having positive dielectric anisotropy in the first embodiment. It is a figure which shows a relation. FIG. 8 is a region 13A in which both anchoring layers 13 have weak anchoring ability in a state where an electric field E is applied using the liquid crystal compound Lp having positive dielectric anisotropy in the first embodiment. It is a figure which shows the relationship of the wiring direction of an electrode wire, and the orientation of a liquid crystal molecule in a case. FIG. 9 is a region 13B in which both anchoring layers 13 have strong anchoring ability in a state where an electric field E is applied using the liquid crystal compound Lp having positive dielectric anisotropy in the first embodiment. It is a figure which shows the relationship of the wiring direction of an electrode wire, and the orientation of a liquid crystal molecule in a case.

図4に示すように、本発明の液晶表示素子は、両アンカリング層13が形成された第1基板(LCP−1)、前記両アンカリング層との間に間隔を空けて対向配置される強アンカリング膜14が形成された第2基板(LCP−2)、前記両アンカリング層及び前記強アンカリング膜の間に配置され、液晶分子が駆動されることによって前記光を透過又は遮断する液晶層(LCP−3)、並びに前記液晶分子に前記第1基板(LCP−1)及び第2基板(LCP−2)に沿った方向の電界を印加する駆動電極層(LCP−4)を備えている。   As shown in FIG. 4, the liquid crystal display device of the present invention is disposed opposite to the first substrate (LCP-1) on which both anchoring layers 13 are formed and the both anchoring layers with an interval. It is disposed between the second substrate (LCP-2) on which the strong anchoring film 14 is formed, the two anchoring layers and the strong anchoring film, and transmits or blocks the light by driving liquid crystal molecules. A liquid crystal layer (LCP-3), and a drive electrode layer (LCP-4) for applying an electric field in a direction along the first substrate (LCP-1) and the second substrate (LCP-2) to the liquid crystal molecules ing.

第1基板(LCP−1)及び第2基板(LCP−2)は、それぞれガラス等の基板からなり、所定の間隔を空けて互いに平行に配置されている。   The first substrate (LCP-1) and the second substrate (LCP-2) are each made of a substrate such as glass and are arranged in parallel with each other at a predetermined interval.

偏光板12A及び12Bは、クロスニコルに配置されている。例えば、偏光板12Aの偏光方向は方向Yであり、偏光板12Bの偏光方向は方向Xである。   The polarizing plates 12A and 12B are disposed in cross nicol. For example, the polarization direction of the polarizing plate 12A is the direction Y, and the polarization direction of the polarizing plate 12B is the direction X.

駆動電極層(LCP−4)は、前記第1基板(LCP−1)及び第2基板(LCP−2)のいずれか一方に設けられる。図4に示すように、第1実施形態において駆動電極層(LCP−4)は、前記第1基板(LCP−1)に設けられている。駆動電極層(LCP−4)は、前記第1基板(LCP−1)の表面に沿って、複数本の電極線15Aが並設されることで形成されている。図4において、各電極線15Aは、その配線方向が第1基板(LCP−1)表面に平行な面内で方向Yに沿って延びるよう直線状に形成されている。駆動電極層(LCP−4)は、このような電極線15Aが、第1基板(LCP−1)の表面に平行な面内で方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。   The drive electrode layer (LCP-4) is provided on one of the first substrate (LCP-1) and the second substrate (LCP-2). As shown in FIG. 4, in the first embodiment, the drive electrode layer (LCP-4) is provided on the first substrate (LCP-1). The drive electrode layer (LCP-4) is formed by arranging a plurality of electrode lines 15A along the surface of the first substrate (LCP-1). In FIG. 4, each electrode line 15A is formed in a straight line so that the wiring direction extends in the direction Y within a plane parallel to the surface of the first substrate (LCP-1). In the drive electrode layer (LCP-4), such electrode lines 15A are arranged at regular intervals along the direction X in a plane parallel to the surface of the first substrate (LCP-1).

次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、何ら限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will now be described in more detail by way of examples, which should not be construed as limiting the invention.

<実施例1:二区画パターン電極付き配向基板を備えた液晶表示素子>
[弱アンカリング膜形成用材料(W1)の調製]
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた1,000mLの4つ口フラスコに、重合溶剤として脱水精製したプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下PGMEAと表記)を604.80g、テトラカルボン酸二無水物である1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物を34.47g、スチレン−無水マレイン酸共重合体であるSMA1000(商品名、川原油化株式会社)を164.11g、1価アルコールであるベンジルアルコールを50.17g、多価ヒドロキシ化合物である1,4−ブタンジオールを10.45g仕込み、乾燥窒素気流下130℃で3時間攪拌した。その後、反応後の溶液を25℃まで冷却し、ジアミンである3,3’−ジアミノジフェニルスルホンを10.80g、PGMEAを25.20g投入し、20〜30℃で2時間攪拌した後、115℃で1時間攪拌、30℃以下に冷却することにより淡黄色透明な固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA−1)を得た。GPCで測定した固形分の重量平均分子量は10,000であった。
Example 1 Liquid Crystal Display Device Comprising an Alignment Substrate with Two Section Pattern Electrodes>
[Preparation of material for forming weak anchoring film (W1)]
In a 1,000 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging port, and a nitrogen gas inlet, 604.80 g of dehydrated and purified propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) as a polymerization solvent 34.47 g of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride which is a carboxylic acid dianhydride, SMA 1000 (trade name, Kawa Crude Oil Co., Ltd.) which is a styrene-maleic anhydride copolymer .11 g, 50.17 g of benzyl alcohol which is a monohydric alcohol, and 10.45 g of 1,4-butanediol which is a polyhydroxy compound are charged, and the mixture is stirred at 130 ° C. for 3 hours under a stream of dry nitrogen. Thereafter, the solution after reaction is cooled to 25 ° C., and 10.80 g of diamine 3,3′-diaminodiphenyl sulfone and 25.20 g of PGMEA are added and stirred at 20 to 30 ° C. for 2 hours, and then 115 ° C. The mixture was stirred for 1 hour, and cooled to 30 ° C. or less to obtain a polyesteramide acid solution (PEA-1) having a pale yellow transparent solid content concentration of 30% by weight. The weight average molecular weight of the solid content measured by GPC was 10,000.

本明細書中の重量平均分子量は、GPC法(カラム温度:35℃、流速:1mL/min)により求めたポリスチレン換算での値である。標準のポリスチレンには分子量が645〜132,900のポリスチレン(例えば、アジレント・テクノロジー株式会社のポリスチレンキャリブレーションキットPL2010−0102)、カラムにはPLgel MIXED−D(商品名、アジレント・テクノロジー株式会社)を用い、移動相としてテトラヒドロフランを使用して測定することができる。尚、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。   The weight average molecular weight in the present specification is a value in terms of polystyrene calculated by the GPC method (column temperature: 35 ° C., flow rate: 1 mL / min). Standard polystyrene includes polystyrene having a molecular weight of 645 to 132,900 (for example, polystyrene calibration kit PL2010-0102 from Agilent Technologies, Inc.), and PLgel MIXED-D (trade name, Agilent Technologies, Inc.) for columns. It can be used and measured using tetrahydrofuran as the mobile phase. In addition, the weight average molecular weight of the commercial item in this specification is a catalog published value.

弱アンカリング膜形成用材料(W1)を以下の重量で仕込んで調製した。多官能カルボキシル化合物として、固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA−1)1.00g、多官能エポキシ化合物として、テクモアVG3101L(商品名、株式会社プリンテック、以下「VG3101L」と略記)0.30g、重合性界面活性剤として、メガファックRS−72−K(商品名、DIC株式会社、以下「RS−72−K」と略記)0.20g、及び溶剤として、PGMEA24.90g。   The material for forming a weak anchoring film (W1) was prepared by charging the following weight. As a polyfunctional carboxyl compound, 1.00 g of a polyesteramide acid solution (PEA-1) having a solid content concentration of 30% by weight, and as a polyfunctional epoxy compound, abbreviated as Techmore VG 3101 L (trade name, Printech Co., Ltd., hereinafter "VG 3 101 L" 0.30 g, Megafac RS-72-K (trade name, DIC Corporation, hereinafter abbreviated as “RS-72-K”) 0.20 g as a polymerizable surfactant, and 24.90 g of PGMEA as a solvent.

[強アンカリング膜形成用材料(S1)の調製]
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた200mLの4つ口フラスコに、4,4’−ジアミノアゾベンゼン1.4184g、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ブタン0.5736g、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ピペラジン0.1281g、及び脱水N−メチルピロリドン(以下「NMP」と略記)44.0gを仕込み、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いで、1,8−ビス(3,4−ジカルボン酸)オクタン二無水物3.8799g及び脱水NMP20.0gを仕込み、室温で24時間攪拌を続け、反応溶液を得た。この反応溶液にエチレングリコールモノブチルエーテル20.0gを加えて、固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液を(PA1)とする。(PA1)に含まれるポリアミド酸の重量平均分子量は10,000であった。
[Preparation of a material for forming a strong anchoring film (S1)]
In a 200 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging inlet, and a nitrogen gas inlet, 1.4184 g of 4,4'-diaminoazobenzene, 1,4-bis (4-aminophenyl) butane, 0.1. 5736 g, 0.1281 g of 1,4-bis (4-aminophenyl) piperazine, and 44.0 g of dehydrated N-methylpyrrolidone (hereinafter abbreviated as "NMP") were charged, and dissolved by stirring under a stream of dry nitrogen. Next, 3.8799 g of 1,8-bis (3,4-dicarboxylic acid) octane dianhydride and 20.0 g of dehydrated NMP were charged, and stirring was continued at room temperature for 24 hours to obtain a reaction solution. To the reaction solution was added 20.0 g of ethylene glycol monobutyl ether to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 6% by weight. This polyamic acid solution is referred to as (PA1). The weight average molecular weight of the polyamic acid contained in (PA1) was 10,000.

温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた200mLの4つ口フラスコに、1,4−ビス(4−アミノフェニル)ピペラジン1.9123g、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル0.8561g、1,4−フェニレンジアミン0.3082g、及び脱水NMP44.0gを入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物1.8354g、ピロメリット酸二無水物1.0880g、さらに脱水NMP20.0gを入れ、室温で24時間攪拌を続けた。この反応溶液にエチレングリコールモノブチルエーテル30.0gを加えて、ポリマー固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液を(PA2)とする。(PA2)に含まれるポリアミド酸の重量平均分子量は50,000であった。   In a 200 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material charging inlet, and a nitrogen gas inlet, 1.9123 g of 1,4-bis (4-aminophenyl) piperazine, 4,4'-diaminodiphenyl ether 0. 8561 g, 0.3082 g of 1,4-phenylenediamine, and 44.0 g of dehydrated NMP were added, and dissolved by stirring under a stream of dry nitrogen. The mixture was charged with 1.8354 g of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid dianhydride, 1.0880 g of pyromellitic dianhydride, and 20.0 g of dehydrated NMP, and stirring was continued at room temperature for 24 hours. To the reaction solution was added 30.0 g of ethylene glycol monobutyl ether to obtain a polyamic acid solution having a polymer solid concentration of 6% by weight. This polyamic acid solution is referred to as (PA2). The weight average molecular weight of the polyamic acid contained in (PA2) was 50,000.

ポリアミド酸溶液(PA1)、ポリアミド酸溶液(PA2)、及びNMPを下記の重量で仕込み、混合溶解することでポリマー固形分濃度4重量%の強アンカリング膜形成用材料(S1)を調製した。

固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液(PA1) 9.00g
固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液(PA2) 21.00g
NMP 15.00g
A polyamic acid solution (PA1), a polyamic acid solution (PA2), and NMP were charged at the following weight, mixed and dissolved to prepare a material (S1) for forming a strong anchoring film having a polymer solid concentration of 4% by weight.

9.00 g of polyamic acid solution (PA1) with a solid concentration of 6% by weight
Polyamide acid solution (PA2) with a solid concentration of 6% by weight 21.00 g
NMP 15.00g

[液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aの作製]
上述の作製方法Aを用いて、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aを以下のように作製した。
[Production of Alignment Substrate 1a with Electrode for Producing Liquid Crystal Display Element]
The alignment substrate 1a with electrodes for producing a liquid crystal display element was produced as follows by using the above-mentioned production method A.

前記の弱アンカリング膜形成用材料(W1)をIPSセル用Cr櫛歯電極付き基板上に2,000rpmで10秒間スピンコートし、100℃のホットプレート上で2分間プリベークし、次に、230℃のオーブン中で30分間ポストベークすることで、膜厚略40nmである弱アンカリング能を有する膜付き基板を得た。   The material for forming a weak anchoring film (W1) is spin coated at 2,000 rpm for 10 seconds on a substrate with Cr comb electrode for IPS cell, prebaked on a hot plate at 100 ° C. for 2 minutes, and then 230 By post-baking in an oven at 30 ° C. for 30 minutes, a film-coated substrate having a film thickness of about 40 nm and having weak anchoring ability was obtained.

得られた膜付き基板に、波長185nmの光及び波長254nmの光を含む紫外線を照射する低圧水銀灯EUV200WS−60(商品名、セン特殊光源株式会社)を備えた露光装置PHOTO SURFACE PROCESSOR PL2003N−12(商品名、セン特殊光源株式会社)及び二区画パターンのフォトマスクを使用してパターン露光し、露光部及び未露光部でリコート性が異なるパターン露光膜付き基板を得た。露光量は紫外線積算光量計UIT−150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD−S254(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長254nmの光換算で10J/cmとした。 Exposure apparatus PHOTO SURFACE PROCESSOR PL2003N-12 equipped with a low pressure mercury lamp EUV 200 WS-60 (trade name, Sen Special Light Source Co., Ltd.) for irradiating the obtained film-coated substrate with ultraviolet light including light of wavelength 185 nm and light of wavelength 254 nm. Pattern exposure was carried out using a trade name, Sen Special Light Source Co., Ltd.) and a two-zone pattern photomask, to obtain a substrate with a pattern exposure film having different recoatability in the exposed area and the unexposed area. The exposure dose was measured with a UV integrated actinometer UIT-150 (trade name, Ushio Electric Co., Ltd.) and a light receiver UVD-S254 (trade name, Ushio Electric Co., Ltd.) and was 10 J / cm 2 in light conversion at a wavelength of 254 nm. .

得られた露光部及び未露光部でリコート性が異なるパターン露光膜付き基板上に、前記の強アンカリング膜形成用材料(S1)を3,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、パターン露光膜付き基板の露光領域上に強アンカリング膜形成用材料の塗膜を形成した。   The above-mentioned strong anchoring film forming material (S1) is spin-coated at 3,000 rpm for 10 seconds on a substrate with a pattern exposure film having different recoatability in the obtained exposed area and unexposed area, and a hot plate at 70 ° C. By prebaking on the above for 80 seconds, a coating film of a material for forming a strong anchoring film was formed on the exposed region of the substrate with a patterned exposure film.

次に超高圧水銀灯を備えたマルチライトML−501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)及び偏光板を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT−150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD−S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で2J/cmとした。直線偏光紫外線の偏光方向は、Cr櫛歯電極の配線方向に垂直とした。この方向にすることで、作製される液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸は、Cr櫛歯電極の配線方向に平行となる。 Next, using a multilight ML-501C / B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp and a polarizing plate, linearly polarized ultraviolet light was irradiated from the vertical direction to the coated substrate. The exposure dose was measured with a UV integrated actinometer UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a light receiver UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.), and it was 2 J / cm 2 in light conversion at a wavelength of 365 nm. . The polarization direction of the linearly polarized ultraviolet light was perpendicular to the wiring direction of the Cr comb electrode. In this direction, the alignment easy axis of the region having strong anchoring ability in both anchoring layers of the alignment substrate 1a with electrodes for manufacturing a liquid crystal display element manufactured is parallel to the wiring direction of the Cr comb electrode. It becomes.

更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークすることで、二区画パターンの両アンカリング層を有する電極付き配向基板(以下、「液晶表示素子作製用電極付き配向基板1a」という)を得た。IPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び二区画パターンの両アンカリング層の配置の関係、並びに2箇所の光透過率測定箇所(T1)及び(T2)を、図10に示す。図10に記載のパターンは、図3における(3a)に対応している。   Furthermore, post-baking was carried out in an oven at 230 ° C. for 20 minutes to obtain an alignment substrate with electrodes (hereinafter, referred to as “alignment substrate with electrodes for manufacturing liquid crystal display element”) having both anchoring layers of a two-section pattern. The relationship between the arrangement of Cr comb electrodes for IPS cell and the arrangement of both anchoring layers in the two-section pattern, and two light transmittance measurement points (T1) and (T2) are shown in FIG. The pattern shown in FIG. 10 corresponds to (3a) in FIG.

図10に記載のパターンの内、光透過率測定箇所(T1)のある画素における弱アンカリング面積割合は、電極領域及び非電極領域のいずれも0%であり、光透過率測定箇所(T2)のある画素における弱アンカリング面積割合は、電極領域及び非電極領域のいずれも100%である。   Among the patterns described in FIG. 10, the weak anchoring area ratio at the pixel having the light transmittance measurement point (T1) is 0% in both the electrode region and the non-electrode region, and the light transmittance measurement point (T2) The weak anchoring area ratio in one pixel is 100% in both the electrode area and the non-electrode area.

[液晶表示素子作製用配向基板2の作製]
強アンカリング膜形成用材料(S1)をガラス基板上に2,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、塗膜付き基板を得た。次いで、超高圧水銀灯を備えたマルチライトML−501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)及び偏光板を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT−150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD−S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で2J/cmとした。更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークし、膜厚略100nmの強アンカリング膜付き基板を得た。以下、得られたこの強アンカリング膜付き基板を、「液晶表示素子作製用配向基板2」という。
[Production of Alignment Substrate 2 for Producing Liquid Crystal Display Element]
The strong anchoring film forming material (S1) was spin-coated at 2,000 rpm for 10 seconds on a glass substrate, and prebaked on a 70 ° C. hot plate for 80 seconds to obtain a coated substrate. Then, using a multilight ML-501C / B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp and a polarizing plate, linearly polarized ultraviolet light was irradiated from the vertical direction to the coated substrate. The exposure dose was measured with a UV integrated actinometer UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a light receiver UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.), and it was 2 J / cm 2 in light conversion at a wavelength of 365 nm. . Further, the substrate was post-baked in an oven at 230 ° C. for 20 minutes to obtain a substrate with a strongly anchoring film having a film thickness of about 100 nm. Hereinafter, the obtained substrate with a strong anchoring film is referred to as “alignment substrate 2 for producing a liquid crystal display element”.

[ポジ型液晶組成物(LC−1)の調製]
下記一般式(2−1)〜(2−9)の化合物を記載の重量比で混合溶解することで、ポジ型液晶組成物(LC−1)を調製した。

Figure 2019120930
[Preparation of Positive Liquid Crystal Composition (LC-1)]
The positive type liquid crystal composition (LC-1) was prepared by mixing and dissolving the compounds of the following general formulas (2-1) to (2-9) in the weight ratio described.
Figure 2019120930

[液晶表示素子1a1の作製]
液晶表示素子作製用電極付き配向基板1a及び液晶表示素子作製用配向基板2の2枚の基板を、それぞれ両アンカリング層側及び強アンカリング膜側を向き合わせ、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aのCr櫛歯電極の配線方向及び液晶表示素子作製用配向基板2の強アンカリング膜の配向容易軸が平行になるように配置した。このように配置することで、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸及び液晶表示素子作製用配向基板2の強アンカリング膜の配向容易軸が平行となる。更に両アンカリング層及び強アンカリング膜の間にポジ型液晶組成物(LC−1)を注入させるための空隙を形成して貼り合わせ、セル厚4μmの空セルを作製した。作製した空セルにポジ型液晶組成物(LC−1)を真空注入し、120℃で5分間のアニール処理をすることで、液晶表示素子1a1を作製した。尚、この液晶表示素子を図4に対応させると、電極線15Aの配線方向及び強アンカリング膜14の配向容易軸が方向Yである。
[Production of Liquid Crystal Display Element 1a1]
The two substrates of the alignment substrate 1a with electrodes for producing a liquid crystal display element and the alignment substrate 2 for producing a liquid crystal display element are facing each other with both anchoring layers and the strong anchoring film side, respectively. The wiring direction of the Cr comb electrode of the substrate 1 a and the easy alignment axis of the strong anchoring film of the alignment substrate 2 for producing a liquid crystal display element were arranged in parallel. By arranging in this way, of both anchoring layers of the alignment substrate 1a with electrodes for producing a liquid crystal display element, the easy alignment axis of the region having strong anchoring ability and the strong anchoring of the alignment substrate 2 for producing a liquid crystal display element The easy orientation axis of the film is parallel. Further, an air gap for injecting a positive liquid crystal composition (LC-1) was formed between the two anchoring layers and the strong anchoring film, and they were bonded to each other to prepare an empty cell having a cell thickness of 4 μm. The positive type liquid crystal composition (LC-1) was vacuum-injected into the produced empty cell, and annealing treatment was performed at 120 ° C. for 5 minutes to produce a liquid crystal display element 1a1. When the liquid crystal display element is made to correspond to FIG. 4, the wiring direction of the electrode lines 15A and the alignment easy axis of the strong anchoring film 14 are the direction Y.

[低駆動電圧性の評価]
作製した液晶表示素子1a1の光透過率測定箇所(T1)及び(T2)における、最大光透過率となる電圧(以下、「Vmax」と表記)を測定した。測定にはハロゲンランプを備えた大塚電子株式会社製LCD5100型輝度計を用いた。測定時、液晶表示素子1a1はクロスニコルに配置した2枚の偏光板の間に挟持されており、偏光子の偏光方向に対する液晶表示素子1a1の櫛歯電極の配線方向のなす角度は、電圧無印加時の光透過率が最小となる角度であった。印加電圧は矩形波(60Hz)である。Vmaxが8.0V未満の場合を、低駆動電圧特性「高」、8.0V以上の場合を「低」と評価した。測定結果及び評価結果を表1に示す。
[Evaluation of low drive voltage property]
The voltage (hereinafter, referred to as "Vmax") which is the maximum light transmittance at the light transmittance measurement points (T1) and (T2) of the manufactured liquid crystal display element 1a1 was measured. An Otsuka Electronics LCD 5100 luminance meter equipped with a halogen lamp was used for measurement. At the time of measurement, the liquid crystal display element 1a1 is sandwiched between two polarizing plates disposed in cross nicol, and the angle formed by the wiring direction of the comb electrodes of the liquid crystal display element 1a1 with respect to the polarization direction of the polarizer is when no voltage is applied. Is the angle at which the light transmittance of the The applied voltage is a rectangular wave (60 Hz). The case where Vmax was less than 8.0 V was evaluated as the low drive voltage characteristic "high", and the case of 8.0 V or more as "low". The measurement results and the evaluation results are shown in Table 1.

[電圧OFF時の表示応答性の評価]
作製した液晶表示素子1a1の光透過率測定箇所(T1)及び(T2)における、立下り時間τf(fall time)を測定した。測定には光源にハロゲンランプを備えた大塚電子株式会社製LCD5100型輝度計を用いた。測定時、液晶表示素子1a1はクロスニコルに配置した2枚の偏光板の間に挟持されており、偏光子の偏光方向及び液晶表示素子1a1のCr櫛歯電極の配線方法のなす角度は、電圧無印加時の光透過率が最小となる角度であった。印加電圧は矩形波(60Hz、上述のVmax)である。ここでτfは、最大透過率電圧時の光透過率を100%、無印加時の透過率を0%とした際の、光透過率90%から10%に変化するまでの時間である。立下り時間τfが23.5ms未満の場合を、電圧OFF時の表示応答性「高」、23.5ms以上の場合を「低」と評価した。測定結果及び評価結果を表1に示す。
[Evaluation of display responsiveness at voltage OFF]
The fall time τf (fall time) at the light transmittance measurement points (T1) and (T2) of the manufactured liquid crystal display element 1a1 was measured. For measurement, an LCD 5100 luminance meter manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. equipped with a halogen lamp as a light source was used. At the time of measurement, the liquid crystal display element 1a1 is sandwiched between two polarizing plates disposed in cross nicol, and the polarization direction of the polarizer and the angle formed by the wiring method of the Cr comb electrode of the liquid crystal display element 1a1 are no voltage application. The angle at which the light transmittance at the time is minimum. The applied voltage is a rectangular wave (60 Hz, Vmax described above). Here, τf is the time until the light transmittance changes from 90% to 10% when the light transmittance at the maximum transmittance voltage is 100% and the transmittance at no application is 0%. When the fall time τf was less than 23.5 ms, the display response “high” when the voltage was off was evaluated as “high”, and the case with 23.5 ms or more was evaluated as “low”. The measurement results and the evaluation results are shown in Table 1.

<実施例2:第1のストライプパターン電極付き配向基板を備えた液晶表示素子>
二区画パターンのフォトマスクを図11に示すようなパターンを形成可能な第1のストライプパターンのフォトマスクに変更した以外は、実施例1と同様にして液晶表示素子1a2を作製した。図11に記載のパターンは、図3における(3b)に対応している。
<Example 2: Liquid Crystal Display Device Having First Alignment Substrate with Striped Pattern Electrode>
A liquid crystal display element 1a2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the two-section pattern photomask was changed to a first stripe pattern photomask capable of forming a pattern as shown in FIG. The pattern shown in FIG. 11 corresponds to (3b) in FIG.

図11に記載のパターンの電極領域における弱アンカリング面積割合は(7.0mm/9.8mm)=71%であり、非電極領域における弱アンカリング面積割合は0%である。   The weak anchoring area ratio in the electrode area of the pattern shown in FIG. 11 is (7.0 mm / 9.8 mm) = 71%, and the weak anchoring area ratio in the non-electrode area is 0%.

得られた液晶表示素子1a2の測定箇所(T3)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。評価には液晶表示素子1a1と同様の評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。   The measurement of Vmax, the measurement of fall time τf, the evaluation of low drive voltage property, and the evaluation of display responsiveness at the time of voltage OFF were performed at the measurement point (T3) of the obtained liquid crystal display element 1a2. In the evaluation, the same evaluation method as that of the liquid crystal display element 1a1 was used. The respective measurement results and evaluation results are shown in Table 1.

<実施例3:第2のストライプパターン電極付き配向基板を備えた液晶表示素子>
二区画パターンのフォトマスクを図12に示すようなパターンを形成可能な第2のストライプパターンのフォトマスクに変更した以外は、実施例1と同様にして液晶表示素子1a3を作製した。図12に記載のパターンは、図3における(3c)に対応している。
<Example 3: Liquid Crystal Display Device Having Alignment Substrate with Second Stripe Pattern Electrode>
A liquid crystal display element 1a3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the photomask of the two-partition pattern was changed to a photomask of the second stripe pattern capable of forming a pattern as shown in FIG. The pattern shown in FIG. 12 corresponds to (3c) in FIG.

図12に記載のパターンの電極領域における弱アンカリング面積割合は[(9.8mm−5.0mm)/9.8mm]=49%であり、非電極領域における弱アンカリング面積割合は[(2×3.5mm+5.0mm−9.8mm)/(23.8mm−9.8mm)]=16%である。   The weak anchoring area ratio in the electrode area of the pattern shown in FIG. 12 is [(9.8 mm−5.0 mm) /9.8 mm] = 49%, and the weak anchoring area ratio in the non-electrode area is [(2 X 3.5 mm + 5.0 mm-9.8 mm) / (23.8 mm-9.8 mm)] = 16%.

得られた液晶表示素子1a3の測定箇所(T4)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。評価には液晶表示素子1a1と同様の評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。   The measurement of Vmax, the measurement of fall time τf, the evaluation of low drive voltage property, and the evaluation of display responsiveness at the time of voltage OFF were performed at the measurement point (T4) of the obtained liquid crystal display element 1a3. In the evaluation, the same evaluation method as that of the liquid crystal display element 1a1 was used. The respective measurement results and evaluation results are shown in Table 1.

<実施例4:作製方法Bを用いて作製した液晶表示素子>
[弱アンカリング膜形成用材料(W2)の調製]
弱アンカリング膜形成用材料(W2)を以下の重量で仕込んで調製した。多官能カルボキシル化合物として、固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA−1)1.00g、多官能エポキシ化合物として、VG3101L0.30g、重合性界面活性剤として、RS−72−K0.20g、並びに溶剤として、PGMEA12.03g、及びジエチレングリコールモノブチルエーテル12.87g。
Example 4 Liquid Crystal Display Device Produced Using Production Method B
[Preparation of material for forming weak anchoring film (W2)]
The material for forming a weak anchoring film (W2) was prepared by charging it at the following weight. As a polyfunctional carboxyl compound, 1.00 g of a polyesteramide acid solution (PEA-1) having a solid concentration of 30% by weight, 0.30 g of VG3101L as a polyfunctional epoxy compound, and RS-72-K0. 20 g, and 12.03 g of PGMEA and 12.87 g of diethylene glycol monobutyl ether as solvent.

[液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bの作製]
前記の弱アンカリング膜形成用材料(W2)をIPSセル用Cr櫛歯電極付き基板上にグラビアオフセット法で図10に示すような二区画パターンを形成するようにパターン印刷し、100℃のホットプレート上で2分間プリベークすることで、パターン塗膜付き電極付き基板を得た。次に、230℃のオーブン中で30分間ポストベークし、膜厚略40nmである弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板を得た。
[Production of Alignment Substrate 1b with Electrode for Producing Liquid Crystal Display Element]
The above weak anchoring film forming material (W2) was pattern printed on a Cr comb electrode-attached substrate for IPS cell by the gravure offset method so as to form a two-section pattern as shown in FIG. The substrate with a pattern-coated electrode was obtained by prebaking on a plate for 2 minutes. Next, it was post-baked in an oven at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a substrate with a patterned body having a weak anchoring ability and a film thickness of about 40 nm.

得られた弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板上に、前記の強アンカリング膜形成用材料(S1)を3,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板における、パターン体未形成領域上に強アンカリング膜形成用材料(S1)の塗膜を形成した。   The material for forming a strong anchoring film (S1) is spin-coated at 3,000 rpm for 10 seconds on the patterned substrate with an electrode having a weak anchoring ability obtained, and the resultant is for 80 seconds on a 70 ° C. hot plate. By pre-baking, a coating film of the material for forming a strong anchoring film (S1) was formed on the area where no pattern body is formed in the substrate with a pattern body having weak anchoring ability.

次に超高圧水銀灯を備えたマルチライトML−501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT−150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD−S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し2J/cmとした。直線偏光紫外線の偏光方向は、Cr櫛歯電極の配線方向に垂直とした。この方向にすることで、作製される液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸は、Cr櫛歯電極の配線方向に平行となる。 Next, linearly polarized ultraviolet light was irradiated from the vertical direction to the coated substrate using Multilight ML-501C / B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp. The amount of exposure was 2 J / cm 2 as measured with a UV integrated actinometer UIT-150 (trade name, Ushio Electric Co., Ltd.) and a light receiver UVD-S365 (trade name, Ushio Electric Co., Ltd.). The polarization direction of the linearly polarized ultraviolet light was perpendicular to the wiring direction of the Cr comb electrode. In this direction, the alignment easy axis of the region having strong anchoring ability in both anchoring layers of the alignment substrate 1b with electrodes for producing a liquid crystal display element manufactured is parallel to the wiring direction of the Cr comb electrode. It becomes.

更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークすることで、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bを得た。   Further, post-baking was performed in an oven at 230 ° C. for 20 minutes to obtain an alignment substrate 1b with electrodes for producing a liquid crystal display element.

[液晶表示素子1b1の作製]
液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aを液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bに変更した以外は、液晶表示素子1a1と同様の作製方法を用いて液晶表示素子1b1を作製した。
[Production of Liquid Crystal Display Element 1b1]
A liquid crystal display element 1b1 was produced using the same production method as the liquid crystal display element 1a1 except that the alignment substrate 1a with electrodes for liquid crystal display element production was changed to the alignment substrate 1b with electrodes for liquid crystal display element production.

得られた液晶表示素子1b1の測定箇所(T1)及び(T2)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。測定及び評価には液晶表示素子1a1と同様の測定方法及び評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。   At the measurement points (T1) and (T2) of the obtained liquid crystal display element 1b1, measurement of Vmax, measurement of fall time τf, evaluation of low drive voltage property, and evaluation of display response at the time of voltage OFF were performed. . The same measurement method and evaluation method as those of the liquid crystal display element 1a1 were used for measurement and evaluation. The respective measurement results and evaluation results are shown in Table 1.

<実施例5:作製方法Cを用いて作製した液晶表示素子>
[弱アンカリング膜形成用材料(W3)の調製]
弱アンカリング膜形成用材料(W3)を以下の重量で仕込んで調製した。多官能カルボキシル化合物として、固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA−1)1.00g、多官能エポキシ化合物として、VG3101L0.30g、重合性界面活性剤として、RS−72−K0.30g、多官能アクリレート化合物として、アロニックス M−402(商品名、東亞合成株式会社)0.30g、光重合開始剤として、アデカアークルズ NCI−930(商品名、株式会社ADEKA)0.09g、並びに溶剤として、PGMEA24.36g。
Example 5 Liquid Crystal Display Device Produced Using Production Method C
[Preparation of material for forming weak anchoring film (W3)]
The material for forming a weak anchoring film (W3) was prepared with the following weight. As a polyfunctional carboxyl compound, 1.00 g of a polyesteramide acid solution (PEA-1) having a solid concentration of 30% by weight, 0.30 g of VG3101L as a polyfunctional epoxy compound, and RS-72-K0. 30 g, 0.30 g of Alonics M-402 (trade name, Toagosei Co., Ltd.) as a multifunctional acrylate compound, 0.08 g of Adeka ARKules NCI-930 (trade name, ADEKA) as a photopolymerization initiator, and As a solvent, 24.36 g of PGMEA.

[液晶表示素子作製用電極付き配向基板1cの作製]
前記の弱アンカリング膜形成用材料(W3)をIPSセル用Cr櫛歯電極付き基板上に1,000rpmで10秒間スピンコートし、100℃のホットプレート上で2分間プリベークすることで、塗膜付き電極付き基板を得た。次に、空気中にて、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー露光機TME−150PRC(商品名、株式会社トプコン)を使用して、図10に示すような二区画パターンを形成するようなフォトマスクを介してパターン露光した。露光量は積算光量計UIT−102(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD−365PD(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で100mJ/cmとした。続いて25℃の2.38%TMAH水溶液で10秒間現像し、超純水で60秒間流水リンスし、更に230℃のオーブン中で30分間ポストベークすることで、露光部の膜厚略100nm、未露光部の膜厚略50nmである弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板(以下、「液晶表示素子作製用電極付き配向基板1c」)を得た。
[Production of Alignment Substrate 1c with Electrode for Producing Liquid Crystal Display Element]
The above-mentioned weak anchoring film forming material (W3) is spin-coated at 1,000 rpm for 10 seconds on a substrate with Cr comb electrode for IPS cell, and pre-baked for 2 minutes on a hot plate at 100 ° C. An electroded substrate was obtained. Next, a photomask such as shown in FIG. 10 is used to form a two-section pattern as shown in FIG. 10 using a proximity exposure machine TME-150PRC (trade name, Topcon Co., Ltd.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp in the air. The pattern was exposed through the The exposure amount was measured with an integrated actinometer UIT-102 (trade name, Ushio Inc.) and a light receiver UVD-365PD (trade name, Ushio Inc.), and was 100 mJ / cm 2 in light conversion at a wavelength of 365 nm. Subsequently, the film is developed with an aqueous 2.38% TMAH solution at 25 ° C. for 10 seconds, rinsed with running ultrapure water for 60 seconds in running water, and post-baked in an oven at 230 ° C. for 30 minutes. A substrate with an electrode with a pattern body having a weak anchoring ability with a film thickness of about 50 nm of the unexposed area (hereinafter, “alignment substrate with electrode for producing liquid crystal display element”) was obtained.

得られた弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板上に、前記の強アンカリング形成用材料(S1)を3,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、弱アンカリング能を有するパターン体付き基板における、未露光部上に強アンカリング膜形成用材料(S1)の塗膜を形成した。   The above-mentioned strong anchoring material (S1) is spin-coated at 3,000 rpm for 10 seconds on the patterned substrate with an electrode having weak anchoring ability obtained, and prebaked on a 70 ° C. hot plate for 80 seconds. By doing this, a coating film of the material for forming a strong anchoring film (S1) was formed on the unexposed area of the substrate with a patterned body having weak anchoring ability.

次に超高圧水銀灯を備えたマルチライトML−501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)及び偏光板を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT−150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD−S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で2J/cmとした。 Next, using a multilight ML-501C / B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp and a polarizing plate, linearly polarized ultraviolet light was irradiated from the vertical direction to the coated substrate. The exposure dose was measured with a UV integrated actinometer UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a light receiver UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.), and it was 2 J / cm 2 in light conversion at a wavelength of 365 nm. .

更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークすることで、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1cを得た。   Further, post-baking was performed in an oven at 230 ° C. for 20 minutes to obtain an alignment substrate 1c with an electrode for producing a liquid crystal display element.

[液晶表示素子1c1の作製]
液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aを液晶表示素子作製用電極付き配向基板1cに変更した以外は同様の作製方法を用いて液晶表示素子1c1を作製した。
[Production of Liquid Crystal Display Element 1c1]
A liquid crystal display element 1c1 was produced using the same production method except that the alignment substrate 1a with electrodes for producing a liquid crystal display element was changed to the alignment substrate 1c with electrodes for producing a liquid crystal display element.

得られた液晶表示素子1c1の測定箇所(T1)及び(T2)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。測定及び評価には液晶表示素子1a1と同様の測定方法及び評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。   At the measurement points (T1) and (T2) of the obtained liquid crystal display element 1c1, measurement of Vmax, measurement of fall time τf, evaluation of low drive voltage property, and evaluation of display response at the time of voltage OFF were performed. . The same measurement method and evaluation method as those of the liquid crystal display element 1a1 were used for measurement and evaluation. The respective measurement results and evaluation results are shown in Table 1.

Figure 2019120930
Figure 2019120930

実施例1、4及び5から明らかなように、本発明の電極付き配向基板を備えた液晶表示素子は、単一液晶表示素子中で、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域が存在することが分かる。   As is clear from Examples 1, 4 and 5, the liquid crystal display device provided with the alignment substrate with electrode of the present invention is a single liquid crystal display device, a display response when a region with high low driving voltage and a voltage OFF. It can be seen that there are both areas of high sex area.

実施例2の光透過率測定箇所(T3)の結果、実施例3の光透過率測定箇所(T4)の結果、及び実施例1の光透過率測定箇所(T2)の結果から明らかなように、本発明の電極付き配向基板を備えた液晶表示素子において、電極領域上の弱アンカリング面積割合が大きく且つ非電極領域上の弱アンカリング面積割合が小さい場合は、電極領域上の弱アンカリング面積割合が大きく且つ非電極領域上の弱アンカリング面積割合も大きい場合と比較して、Vmaxはさほど増加せず、電圧OFF時の表示応答性が改善することが分かる。   As a result of the light transmittance measurement point (T3) of Example 2, as a result of the light transmittance measurement point (T4) of Example 3 and a result of the light transmittance measurement point (T2) of Example 1, In the liquid crystal display device including the alignment substrate with electrodes of the present invention, when the ratio of weak anchoring area on the electrode region is large and the ratio of weak anchoring area on the non-electrode region is small, weak anchoring on the electrode region As compared with the case where the area ratio is large and the weak anchoring area ratio on the non-electrode area is also large, Vmax does not increase so much, and it can be seen that display responsiveness at the time of voltage OFF is improved.

本発明の電極付き配向基板を備えた液晶表示素子は、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方が存在する単一液晶表示素子を作製可能である。更に、それらの領域のパターンを制御することにより、弱アンカリング能を有する領域の電圧OFF時の表示応答性を調整可能である。   The liquid crystal display device including the alignment substrate with electrodes of the present invention can produce a single liquid crystal display device in which both a region with high low drive voltage and a region with high display response when the voltage is off exist. Furthermore, by controlling the pattern of those areas, it is possible to adjust the display responsiveness at the time of voltage OFF of the area having weak anchoring ability.

10 液晶表示素子
11 バックライトユニット
12A、12B 偏光板
LCP−1 第1基板
LCP−2 第2基板
LCP−3 液晶層
LCP−4 駆動電極層
13 両アンカリング層
13A 両アンカリング層の弱アンカリング能を有する領域
13B 両アンカリング層の強アンカリング能を有する領域
14 強アンカリング膜
15A 電極線
16 画素電極
17 共通電極
18 画素
19 電極領域
20 非電極領域
Lp 液晶化合物
X、Y 第1基板及び第2基板に平行な平面上に仮想する座標軸
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Liquid crystal display element 11 Backlight unit 12A, 12B Polarizer LCP-1 1st board | substrate LCP-2 2nd board | substrate LCP-3 Liquid crystal layer LCP-4 Driving electrode layer 13 Double anchoring layer 13A Weak anchoring of double anchoring layer Area 13B having a function of strong anchoring area 14 of both anchoring layers 14 having a strong anchoring film 15A electrode line 16 pixel electrode 17 common electrode 18 pixel 19 electrode area 20 non-electrode area Lp liquid crystal compound X, Y first substrate and Coordinate axis assumed on a plane parallel to the second substrate

Claims (4)

基板上に、少なくとも電極、並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた、電極付き配向基板であって;
前記電極は前記基板と平行な電界を生成可能であり;
前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40〜100%である画素を備えた電極付き配向基板。
An electroded alignment substrate comprising, on a substrate, both anchoring layers having at least electrodes and both regions with weak anchoring ability and regions with strong anchoring ability;
The electrode is capable of generating an electric field parallel to the substrate;
The electrode is provided with a pixel in which the ratio of the area of the region having the weak anchoring ability to the area of both anchoring layers on the electrode region generating an electric field parallel to the substrate is 40 to 100%. Alignment substrate.
前記電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0〜20%である画素を更に備えた、請求項1に記載の電極付き配向基板。   The electroded alignment according to claim 1, further comprising a pixel in which the ratio of the area of the region having the weak anchoring ability to the area of the both anchoring layers on the electrode region is 0 to 20%. substrate. 前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、両アンカリング層の面積に占める、弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40〜100%である画素において、前記電極領域以外の、非電極領域上の前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0〜20%である、請求項1に記載の電極付き配向基板。   In a pixel having an area of 40% to 100% of the area having weak anchoring ability on the area of both anchoring layers on the electrode area generating an electric field parallel to the substrate, in a pixel other than the electrode area The electrode-oriented alignment substrate according to claim 1, wherein the ratio of the area of the weakly anchoring region to the area of both the anchoring layers on the non-electrode region is 0 to 20%. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の電極付き配向基板、及び液晶層を挟んでこれと対向する第2の配向基板を備えた液晶表示素子であって;
前記第2の配向基板が強アンカリング膜を備えた液晶表示素子。
A liquid crystal display device comprising: the alignment substrate with electrodes according to any one of claims 1 to 3; and a second alignment substrate opposed to the alignment substrate with the liquid crystal layer interposed therebetween;
The liquid crystal display element in which said 2nd orientation board | substrate was equipped with the strong anchoring film | membrane.
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