JP2003005187A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2003005187A
JP2003005187A JP2002100921A JP2002100921A JP2003005187A JP 2003005187 A JP2003005187 A JP 2003005187A JP 2002100921 A JP2002100921 A JP 2002100921A JP 2002100921 A JP2002100921 A JP 2002100921A JP 2003005187 A JP2003005187 A JP 2003005187A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal display
display device
alignment film
substrate
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Application number
JP2002100921A
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Japanese (ja)
Inventor
Junji Kajita
純司 梶田
Takanori Watase
貴則 渡瀬
Tetsuya Goto
哲哉 後藤
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a display defect caused by so-called burning in a liquid crystal display device. SOLUTION: In the liquid crystal display device having a liquid crystal layer 7, two substrates 2 for the liquid crystal display device holding the liquid crystal layer and an alignment layer 6 on the side of the surface coming in contact with the liquid crystal of the substrate for the liquid crystal display device, the burning can be prevented by making the volumetric resistance value Ra1 of the alignment layer and the volumetric resistance value R1c of the liquid crystal satisfy the desired relational formula 0.98xR1c>=Ra1. The resistance value of the liquid crystal and the resistance value of the alignment layer are adjusted by adding an additive such as an organic matter and by adding conductive fine particles of a metal oxide coated with an organic film, respectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、いわゆる表示の焼き付きのない液晶表示装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a so-called display-free liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】TVやパソコン、ワープロ、その他の情
報機器の表示デバイスとして、近年、液晶表示装置を用
いた薄型、軽量かつ低消費電力の表示装置が多用される
ようになった。
2. Description of the Related Art In recent years, as a display device for a TV, a personal computer, a word processor, and other information devices, a thin, lightweight and low power consumption display device using a liquid crystal display device has been widely used.

【0003】この液晶表示装置はその駆動法により大き
く単純マトリックス駆動型とアクティブ駆動型の2つに
分けられる。単純マトリックス駆動型は直接駆動型やパ
ッシブマトリックス型と呼ばれ、2枚の基板上にスリッ
ト状の電極を直交配置し、その電極間に液晶を挟む構成
で、上下の透明電極の重なり部分が単位画素となる。代
表的な表示モードとして、超ねじれネマチック(ST
N:Super−Twisted Nematic)モ
ードや強誘電性液晶(FLC:Ferroelectr
ic Liquid Crystal)モードがある。
いずれも画素部にアクティブ素子を持たないため、ST
Nでは電圧に対する急峻な電気光学特性を利用した電圧
平均化法により、FLCでは液晶自身のメモリー性を利
用して多数ライン駆動を可能にしている。STNでは表
示ライン数が増加するとコントラスト比が低下していく
ことと、動画に対応できるほどの応答速度が得られにく
いことからノートPCやモニター用途などの特に大型高
精細ディスプレイでの地位をアクティブ駆動型に譲りつ
つある。
This liquid crystal display device is roughly classified into a simple matrix drive type and an active drive type according to the driving method. The simple matrix drive type is called a direct drive type or a passive matrix type, in which slit-shaped electrodes are arranged orthogonally on two substrates and a liquid crystal is sandwiched between the electrodes, and the overlapping parts of the upper and lower transparent electrodes are the unit. It becomes a pixel. As a typical display mode, super twisted nematic (ST
N: Super-Twisted Nematic mode or ferroelectric liquid crystal (FLC: Ferroelectric)
ic Liquid Crystal) mode.
Since neither has an active element in the pixel part, ST
In N, a voltage averaging method that uses steep electro-optical characteristics with respect to voltage is used, and in FLC, a large number of lines can be driven by utilizing the memory property of the liquid crystal itself. In STN, the contrast ratio decreases as the number of display lines increases, and it is difficult to obtain a response speed that can support moving images. Therefore, it is possible to drive the status of especially large and high-definition displays such as notebook PCs and monitors. It is being handed over to the mold.

【0004】一方、アクティブ駆動はアクティブ素子の
もつ電流−電圧特性の非線形性を制御スイッチとして利
用して、アクティブ素子がON状態では画素への高速電
圧書き込み、OFF状態では高抵抗による電圧保持がで
きる機能を組み合わせることにより表示する方式であ
る。
On the other hand, in active driving, the non-linearity of the current-voltage characteristic of the active element is used as a control switch to enable high-speed voltage writing to the pixel when the active element is in the ON state and voltage retention by a high resistance when the active element is in the OFF state. It is a method of displaying by combining functions.

【0005】アクティブ駆動方式は、用いるアクティブ
素子の構造によりいくつかの方式に分けられる。大きく
は構造が比較的簡単な2端子型と薄膜トランジスタ(T
FT:Thin−Film−Transistor)な
どを用いる3端子型に分類される。2端子型のアクティ
ブ素子としては、ダイオード型、MIM(Metal−
Insulator−Metal)型、ZnOバリスタ
ー型などがあり、構造が簡単で低コストという特徴を生
かした開発が進められている。
The active driving method is divided into several methods depending on the structure of the active element used. The two-terminal type and the thin film transistor (T
FT: Thin-Film-Transistor) and the like are classified into a three-terminal type. The two-terminal type active element is a diode type or MIM (Metal-type).
There are Insulator-Metal type, ZnO varistor type and the like, and development utilizing the features of simple structure and low cost is under way.

【0006】3端子型のアクティブ素子としては、Cd
SeTFT、非晶質シリコンを用いたa−Si TFT
(Polycrystalline Silicon)
や単結晶シリコン上に回路を形成したLCOS(Liq
uid Crystal on Silicon)等が
ある。現在最も多く使われている3端子型のアクティブ
素子は、a−Si TFTで主にノートPCやモニタ
ー、TV用途向けに適用されている。最近では、高性能
のp−Si TFTや連続粒界結晶Si TFTを、ガ
ラス基板が使える低温プロセスで作製することが可能と
なり、従来の高温プロセスによる透過型プロジェクター
用のライトバルブや小型のビューファインダーに加え、
高精細ノートPCへと用途が拡大しつつある。このほか
にも、反射型のプロジェクターやビューファインダー用
途として、LCOS構造のライトバルブや小型ディスプ
レイが積極的に開発されている。
As a three-terminal type active element, Cd
SeTFT, a-Si TFT using amorphous silicon
(Polycrystalline Silicon)
And LCOS (Liq
uid Crystal on Silicon). The three-terminal active element that is most frequently used at present is an a-Si TFT, which is mainly used for notebook PCs, monitors, and TVs. Recently, it has become possible to fabricate high-performance p-Si TFTs and continuous grain boundary crystal Si TFTs by a low-temperature process that can use a glass substrate, and a light valve for a transmissive projector or a small viewfinder by a conventional high-temperature process. In addition to
Applications are expanding to high definition notebook PCs. In addition, LCOS structured light valves and small displays are being actively developed for use as reflective projectors and viewfinders.

【0007】アクティブ駆動方式の一例としてTFTを
用いたアクティブ素子駆動の液晶ディスプレイについて
簡単に説明をする。一方の基板上に絶縁層により電気的
に分離された走査配線(Gate Line)と信号配
線(Drain Line)を設け、その交点付近にT
FTを介して信号配線と接続された画素電極を配置した
構成となっており、TFTを介して各画素電極に独立に
電圧を書き込むことができる。アクティブ駆動では、画
素に電圧を書き込んだ電圧を安定に保持するため、画素
部の液晶容量に接続した保持容量(Strage Ca
pacitor)も必要となる。
As an example of the active drive system, an active element drive liquid crystal display using a TFT will be briefly described. A scan line (Gate Line) and a signal line (Drain Line), which are electrically separated by an insulating layer, are provided on one substrate, and a T line is provided near the intersection.
The pixel electrode connected to the signal wiring via the FT is arranged, and the voltage can be independently written to each pixel electrode via the TFT. In the active driving, in order to stably hold the voltage in which the voltage is written to the pixel, a storage capacitor (Storage Ca connected to the liquid crystal capacitor of the pixel portion is used.
(Pacator) is also required.

【0008】ゲート電極にTFTの閾値電圧Vth以上
の電圧を加えることにより、TFTがON状態となり、
ドレイン−ソース間に電流が流れて信号電圧と液晶容量
と保持容量に書き込む。その後、ゲート電圧をVth以
下に戻すことにより、TFTがOFF状態(高抵抗状
態)となり、画素部の液晶容量と保持容量に電圧を保持
することができる。TFTのOFF状態においては、信
号配線上に他の画素への信号電圧が与えられても高抵抗
で遮られているため信号配線上の電圧変動の影響を直接
受けることが無く、スタティック駆動に近い一定電圧を
液晶に加えることができる。
By applying a voltage higher than the threshold voltage Vth of the TFT to the gate electrode, the TFT is turned on,
A current flows between the drain and the source to write the signal voltage, the liquid crystal capacitance and the storage capacitance. After that, by returning the gate voltage to Vth or less, the TFT is turned off (high resistance state), and the voltage can be held in the liquid crystal capacitance and the storage capacitance of the pixel portion. When the TFT is in the OFF state, even if a signal voltage is applied to another pixel on the signal line, it is blocked by the high resistance and is not directly affected by the voltage fluctuation on the signal line. A constant voltage can be applied to the liquid crystal.

【0009】TFT駆動型は、液晶に常に一定電圧を加
えることができるスタティック駆動をアクティブマトリ
ックスで実現する駆動方式であることから、液晶の表示
モードに対する制約もほとんどない。これにより、高コ
ントラスト比、高速応答、広視野角などを特徴とするT
N(Twisted Nematic)モード、ECB
(Electrically Controlled
Briefringence)モード、OCB(Opt
ically Controlled Briefri
ngence)、IPS(In Plane Swit
ching)、MVA(Multi−domain V
ertical Alignment)モードなど多く
の表示モードとの組み合わせが用いられている。
Since the TFT drive type is a drive system which realizes static drive in which a constant voltage can be always applied to the liquid crystal by an active matrix, there is almost no restriction on the display mode of the liquid crystal. As a result, the T featuring high contrast ratio, high-speed response, wide viewing angle, etc.
N (Twisted Nematic) mode, ECB
(Electrically Controlled
Briefingence) mode, OCB (Opt
ically Controlled Briefri
and IPS (In Plane Switch)
ching), MVA (Multi-domain V)
A combination with many display modes such as an optical alignment mode is used.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置は駆動法
の観点から単純マトリックス駆動型とアクティブ駆動型
に分かれることは前述したが、液晶材料の誘電率異方性
や双極子モーメントを利用して外部からの電圧印加によ
り液晶の方向(ダイレクター)を制御する点において共
通している。したがって、液晶材料中に荷電粒子が存在
する場合には液晶表示装置の内部電場が荷電粒子の変位
により時間と共に変化するため、単純マトリックス駆動
型、アクティブ駆動型を問わず表示特性にその影響がで
る。アクティブ駆動型の代表であるTFT液晶表示装置
では、短期間の書き込み信号印加後に液晶層の電圧が一
定時間保持されねばならず、荷電粒子を除去することに
よる電気的高抵抗性の付与がTFT用液晶材料に求めら
れている。TFT液用表示装置において焼き付きは液晶
材料中の不純物イオンが配向膜表面に吸着することによ
って発生すると考えている。
As described above, the liquid crystal display device is divided into a simple matrix drive type and an active drive type from the viewpoint of the driving method. However, the dielectric anisotropy of the liquid crystal material and the dipole moment are used. It is common in that the direction (director) of the liquid crystal is controlled by applying a voltage from the outside. Therefore, when charged particles are present in the liquid crystal material, the internal electric field of the liquid crystal display device changes with time due to the displacement of the charged particles, which affects the display characteristics of both the simple matrix drive type and the active drive type. . In the TFT liquid crystal display device, which is a typical active drive type, the voltage of the liquid crystal layer must be maintained for a certain period of time after a write signal is applied for a short period of time, and it is necessary to provide electrically high resistance to the TFT by removing charged particles. Required for liquid crystal materials. It is considered that image sticking occurs in a display device for a TFT liquid due to adsorption of impurity ions in the liquid crystal material on the surface of the alignment film.

【0011】一方単純マトリックス駆動型においては電
圧保持機能が必要でない分TFT用液晶材料用の高抵抗
性は必要がないと言われているが、STNで特徴的に現
れるON−OFF領域境界での表示焼き付きについては
液晶中との不純物イオンとの関連を考えらている。
On the other hand, it is said that the simple matrix drive type does not need a high resistance for the liquid crystal material for TFT because the voltage holding function is not required. However, at the ON-OFF region boundary which appears characteristically in STN. Regarding the image sticking, the relation with the impurity ions in the liquid crystal is considered.

【0012】焼き付きとは、液晶表示装置に同一パター
ンを長時間表示し続けたとき、画面を切り替えても前の
表示パターンが残る現象である。これは画像の濃淡に応
じて選択的に直流成分が重畳されることにより発生し、
液晶中の不純物イオンを除去すれば焼き付きが低減され
ることが判ってきた。すなわち、同一パターンを表示し
続けると液晶中でイオンに解離した不純物が駆動電圧に
よって(例えば電気泳動的に)配向膜表面に偏るように
なり、配向膜表面に電荷が溜まるのである。
Burn-in is a phenomenon in which the previous display pattern remains even when the screen is switched when the same pattern is continuously displayed on the liquid crystal display device for a long time. This occurs because the DC component is selectively superimposed according to the contrast of the image,
It has been found that removing the impurity ions in the liquid crystal reduces the image sticking. That is, when the same pattern is continuously displayed, the impurities dissociated into ions in the liquid crystal are biased toward the alignment film surface by the driving voltage (for example, electrophoretically), and the charge is accumulated on the alignment film surface.

【0013】しかしこれら液晶中の不純物イオン量の低
減・制御することは工業的に困難であり、さらに不純物
イオンを完全に除去することは困難であった。結果、焼
き付け防止の観点から十分な対策ができず、液晶表示装
置の設計で大きな制約となっていた。一方、年々液晶表
示装置に求められる表示品位が高くなってきていた。
However, it is industrially difficult to reduce and control the amount of impurity ions in these liquid crystals, and it is difficult to completely remove the impurity ions. As a result, sufficient measures cannot be taken from the viewpoint of prevention of image sticking, which is a major limitation in the design of the liquid crystal display device. On the other hand, the display quality required for liquid crystal display devices has been increasing year by year.

【0014】本発明は、かかる背景に鑑み、焼き付きが
防止された生産性の高い液晶表示装置を提供せんとする
ものである。
In view of the above background, the present invention is to provide a liquid crystal display device with high productivity in which burn-in is prevented.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の液晶表示装置は以下の構成からなる。すなわち、 (1)2枚の液晶表示装置用基板間に液晶を介してな
り、該液晶表示装置用基板の液晶に接する面の側に配向
膜を有している液晶表示装置において、液晶の体積抵抗
値をRlc、配向膜の体積抵抗値をRalとすると、 0.98×Rlc≧Ral の関係を満足することを特徴とする液晶表示装置。
The liquid crystal display device of the present invention which achieves the above object has the following constitution. That is, (1) In a liquid crystal display device having an alignment film on the side of a surface of the liquid crystal display device substrate in contact with the liquid crystal, the liquid crystal volume is formed between the two liquid crystal display device substrates. A liquid crystal display device characterized by satisfying the relationship of 0.98 × Rlc ≧ Ral, where Rlc is the resistance value and Ral is the volume resistance value of the alignment film.

【0016】(2)2枚の液晶表示装置用基板間に液晶
を介してなり、該液晶表示装置用基板の液晶に接する面
の側に配向膜を有しており、一方の液晶表示装置用基板
の液晶に接する面の側にアクティブ素子及び画素電極を
有している液晶表示装置において、液晶の体積抵抗値を
Rlc、アクティブ素子および画素電極を有している基板
上の配向膜の体積抵抗値をRal1、対向する基板上の配
向膜の体積抵抗値をRal2とすると、 0.98×Rlc≧Ral1,Ral2 の関係を満足することを特徴とする液晶表示装置。
(2) Liquid crystal is interposed between two liquid crystal display device substrates, and an alignment film is provided on the side of the liquid crystal display device substrate in contact with the liquid crystal. In a liquid crystal display device having an active element and a pixel electrode on the side of the substrate in contact with the liquid crystal, the volume resistance value of the liquid crystal is Rlc, and the volume resistance of the alignment film on the substrate having the active element and the pixel electrode. A liquid crystal display device characterized by satisfying the relationship of 0.98 × Rlc ≧ Ral1, Ral2, where Ral1 is the value and Ral2 is the volume resistance value of the alignment film on the opposing substrate.

【0017】(3)0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2であ
ることを特徴とする前記(2)に記載の液晶表示装置。
(3) The liquid crystal display device as described in (2) above, wherein 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0018】(4)配向膜中に導電性粒子を含むことを
特徴とする前記(1)から(3)のいずれかに記載の液
晶表示装置。
(4) The liquid crystal display device according to any one of (1) to (3), wherein the alignment film contains conductive particles.

【0019】(5)導電性粒子として、酸化インジウ
ム、酸化錫、酸化インジウム錫、カドニウムドープ酸化
錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸化亜鉛のうちの一種
または複数種を使用することを特徴とする前記(4)に
記載の液晶表示装置。
(5) One or more of indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide and zinc oxide are used as the conductive particles. The liquid crystal display device according to (4).

【0020】(6)配向膜中に金属アルコキシドを含む
ことを特徴とする前記(1)から(3)のいずれかに記
載の液晶表示装置。
(6) The liquid crystal display device according to any one of (1) to (3) above, wherein the alignment film contains a metal alkoxide.

【0021】(7)液晶表示方式がIPS方式であるこ
とを特徴とする前記(1)から(6)のいずれかに記載
の液晶表示装置。
(7) The liquid crystal display device according to any one of (1) to (6), wherein the liquid crystal display system is an IPS system.

【0022】(8)液晶表示方式が垂直配向方式である
ことを特徴とする前記(1)から(6)のいずれかに記
載の液晶表示装置。
(8) The liquid crystal display device according to any one of (1) to (6), wherein the liquid crystal display system is a vertical alignment system.

【0023】(9)低温多結晶シリコンTFTまたは連
続粒界結晶シリコンTFTを用いたことを特徴とする
(1)から(8)のいずれかに記載の液晶表示装置。
(9) The liquid crystal display device according to any one of (1) to (8), which uses a low temperature polycrystalline silicon TFT or a continuous grain boundary crystalline silicon TFT.

【0024】(10)2枚の液晶表示装置用基板のうち
の少なくとも一方が、着色画素を有するカラーフィルタ
基板であることを特徴とする前記(1)から(9)のい
ずれかに記載の液晶表示装置。
(10) The liquid crystal according to any one of (1) to (9), wherein at least one of the two liquid crystal display device substrates is a color filter substrate having colored pixels. Display device.

【0025】(11)カラーフィルタ基板が額縁または
ブラックマトリックスを有し、該額縁またはブラックマ
トリックスが、顔料を含有した樹脂であることを特徴と
する前記(10)に記載の液晶表示装置。
(11) The liquid crystal display device as described in (10) above, wherein the color filter substrate has a frame or a black matrix, and the frame or the black matrix is a resin containing a pigment.

【0026】(12)額縁またはブラックマトリックス
を構成する顔料が、金属酸化物であることを特徴とする
前記(11)に記載の液晶表示装置。
(12) The liquid crystal display device as described in (11) above, wherein the pigment constituting the frame or the black matrix is a metal oxide.

【0027】(13)金属酸化物として、少なくとも酸
窒化チタンを含有することを特徴とする前記(12)に
記載の液晶表示装置。
(13) The liquid crystal display device according to the above (12), wherein the metal oxide contains at least titanium oxynitride.

【0028】本発明においては、かかる液晶表示装置に
より焼き付きに対して改善された、より高い信頼性が得
られる。
In the present invention, such a liquid crystal display device can obtain higher reliability which is improved against burn-in.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】本発明の液晶表示装置は、2枚の
液晶表示装置用基板間に液晶を介してなり、該液晶表示
装置用基板の液晶に接する面の側に配向膜を有してい
る。配向膜は液晶分子を所定の方向に揃えるための有機
薄膜である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The liquid crystal display device of the present invention comprises a liquid crystal interposed between two substrates for liquid crystal display devices, and has an alignment film on the side of the liquid crystal display device substrate which is in contact with the liquid crystal. ing. The alignment film is an organic thin film for aligning liquid crystal molecules in a predetermined direction.

【0030】本液晶表示装置はその駆動法により限定さ
れない。駆動法としては、単純マトリックス駆動型とア
クティブ駆動型の2つに分けられる。
The liquid crystal display device is not limited by its driving method. The driving method is divided into a simple matrix driving type and an active driving type.

【0031】単純マトリックス駆動型としてはSTN、
FLCモードといった表示方式に好適に用いられる。一
方、アクティブ駆動型としてはそのアクティブ素子とし
ては、2端子型(ダイオード型、MIM型、ZnOバリ
スター型)、3端子型(CdSeTFT、a−Si T
FT、p−Si TFT、連続粒界Si TFT、LC
OSなどが好ましい。TN(Twisted Nema
tic)モード、ECB(Electrically
Controlled Briefringence)
モード、OCB(Optically Control
led Briefringence)、IPS(In
Plane Switching、文献としては例え
ば、LCD PDPインターナショナル2000 液晶
パネル技術テキストC−4 デジタルメディア対応Su
per IPS方式TFT液晶パネルの最新動向)、垂
直配向モード(垂直配向は配向膜にたいしてほぼ垂直に
液晶を配向させた状態を用いた表示モード。垂直配向モ
ードとしては、いくつかあるが例えば、MVA(Mul
ti−domain Vertical Alignm
ent、文献としては例えば(1) MVA液晶ディスプレ
イにおける配向制御技術、P117 EKISHO V
ol.3 No.2 1999、(2)SID2000
25.3:An Ultra−high−qualit
y MVA−LCD Using a New Mul
ti−Layer CF ResinSpacer a
nd Black−Matrix、(3)SID2000
23.1:Fast−Switching LCD
with Multi−Domain Vertica
l Alignment Driven by anO
blique Electric Field、(4)特
許第2947350号公報)モード、PVA(Patt
erned Vertical Alignment)
モード、ASV(Advanced Super V)
といった表示方式(文献としては例えば21世紀の液晶
ディスプレイの動向、P408 EKISHO Vo
l.4 No.4 2000)に好適に用いられる。こ
れら表示モードにおいて、(1)分割配向用に樹脂突起
を設ける方法、(2)駆動用の電極をジグザク状や櫛歯
状にパターニングし、電圧のかかる方向を多様化する方
法、(3)配向方向を光配向をもちいて画素内で分割さ
せる方法、等を用いて液晶の配向を複数ドメイン化して
もよい。
As a simple matrix drive type, STN,
It is preferably used for a display method such as FLC mode. On the other hand, as an active driving type, the active element is a 2-terminal type (diode type, MIM type, ZnO varistor type), 3-terminal type (CdSeTFT, a-SiT).
FT, p-Si TFT, continuous grain boundary Si TFT, LC
OS or the like is preferable. TN (Twisted Nema)
tic) mode, ECB (Electrically)
Controlled Briefing)
Mode, OCB (Optically Control)
led Briefringence), IPS (In
Plane Switching, for example, LCD PDP International 2000 Liquid crystal panel technology text C-4 Digital media compatible Su.
Per IPS TFT liquid crystal panel latest trend), vertical alignment mode (vertical alignment is a display mode in which liquid crystal is aligned almost vertically to the alignment film. There are several vertical alignment modes, for example, MVA ( Mul
ti-domain Vertical Alignment
ent, for example, (1) Alignment control technology in MVA liquid crystal display, P117 EKISHO V
ol. 3 No. 2 1999, (2) SID2000
25.3: An Ultra-high-qualit
y MVA-LCD Using a New Mul
ti-Layer CF ResinSpacer a
nd Black-Matrix, (3) SID2000
23.1: Fast-Switching LCD
with Multi-Domain Vertica
l Alignment Driven by anO
Blique Electric Field, (4) Japanese Patent No. 2947350) mode, PVA (Patt)
ered Vertical Alignment)
Mode, ASV (Advanced Super V)
Such a display method (for example, as a reference, the trend of liquid crystal displays in the 21st century, P408 EKISHO Vo
l. 4 No. 4 2000). In these display modes, (1) a method of providing a resin protrusion for divided orientation, (2) a method of patterning a driving electrode in a zigzag shape or a comb tooth shape to diversify the direction in which a voltage is applied, (3) orientation The orientation of the liquid crystal may be made into a plurality of domains by using a method in which the direction is divided within a pixel by using optical orientation.

【0032】本発明の液晶表示装置は反射型液晶表示装
置、透過型液晶表示装置を問わず、また最近携帯情報端
末等に用いられている反射透過型液晶表示装置にも好適
に用いられる。
The liquid crystal display device of the present invention can be suitably applied to a reflective liquid crystal display device and a transmissive liquid crystal display device, and also to a reflective transmissive liquid crystal display device which has recently been used for a portable information terminal or the like.

【0033】これら表示方式においても低温p−Si
(すなわち、低温多結晶シリコン)TFT(文献として
は例えば低温多結晶シリコンTFT技術と液晶パネルへ
の応用、P131 EKISHO Vol.4 No.
2 2000)や連続粒界結晶Si(シリコン) TF
Tを使用した液晶表示装置で、SRAM(Static
Random Access Memory)を液晶
表示装置用基板の画素部に内蔵し静止画像表示時に周辺
回路へのアクセスデータの読みとり、画素への書き込み
が不要となるタイプの表示装置においては、静止画像時
常に液晶に電圧がかかることになるため焼き付きが生じ
やすいため、特に本発明の構成の液晶表示装置が好適に
用いられる。低温多結晶シリコンや連続粒界結晶は、ア
モルファスシリコンに比して、電子移動度が大きい。ア
モルファスシリコンの電子移動度は、0.5〜1μm2
/V・secに対し、低温ポリ多結晶シリコンや連続粒
界結晶シリコンでは、30μm2/V・sec以上、さ
らには50μm2/V・sec以上である。低温ポリシ
リコン、または連続粒界結晶シリコンを用いることで、
高開口率化あるいは低省電力化、高精細化、システムオ
ングラス化が可能になる。
Also in these display systems, low temperature p-Si is used.
(That is, low-temperature polycrystalline silicon) TFT (for reference, for example, low-temperature polycrystalline silicon TFT technology and application to liquid crystal panel, P131 EKISHO Vol.
2 2000) and continuous grain boundary crystal Si (silicon) TF
A liquid crystal display device using a T, which is an SRAM (Static
Random Access Memory) is built in the pixel part of the liquid crystal display device substrate, and in the case of a type of display device that does not need to read access data to the peripheral circuit and write to the pixel when displaying a still image, the liquid crystal is always displayed when the still image is displayed. Since a voltage is applied, image sticking is likely to occur, so that the liquid crystal display device having the configuration of the present invention is particularly preferably used. Low-temperature polycrystalline silicon and continuous grain boundary crystals have higher electron mobility than amorphous silicon. The electron mobility of amorphous silicon is 0.5 to 1 μm 2.
In contrast to / V · sec, low-temperature poly-polycrystalline silicon and continuous grain boundary crystal silicon have a thickness of 30 μm 2 / V · sec or more, further 50 μm 2 / V · sec or more. By using low temperature polysilicon or continuous grain boundary crystal silicon,
High aperture ratio, low power consumption, high definition, and system-on-glass are possible.

【0034】液晶の体積抵抗値と配向膜の体積抵抗値と
の関係は次のようにすることで配向膜上の電荷が蓄積し
にくくなり、焼き付きの防止能が高くなる。すなわち、
液晶の体積抵抗値をRlc、配向膜の体積抵抗値をRalと
すると、0.98×Rlc≧Ralが好ましく、さらに焼き
付きを低減させるためには0.90×Rlc≧Ralが好ま
しく、さらには0.1×Rlc≧Ralが好ましい。
The relationship between the volume resistance value of the liquid crystal and the volume resistance value of the alignment film is set as follows, so that the charge on the alignment film is less likely to be accumulated and the burn-in prevention capability is enhanced. That is,
When the volume resistance value of the liquid crystal is Rlc and the volume resistance value of the alignment film is Ral, 0.98 × Rlc ≧ Ral is preferable, and 0.90 × Rlc ≧ Ral is further preferable to further reduce image sticking, and further 0 It is preferable that 1 × Rlc ≧ Ral.

【0035】また、一方の液晶表示装置用基板の液晶に
接する面の側にアクティブ素子および画素電極を有して
いる液晶表示装置においては、液晶の体積抵抗値をRl
c、アクティブ素子および画素電極を有している基板上
の配向膜の体積抵抗値をRal1、対向する基板上の配向
膜の体積抵抗値をRal2とすると、0.98×Rlc≧Ra
l1,Ral2が好ましく、さらに焼き付きを低減させるた
めには0.90×Rlc≧Ral1,Ral2が好ましく、さら
には0.1×Rlc≧Ral1,Ral2が好ましい。
In a liquid crystal display device having an active element and a pixel electrode on the side of one of the liquid crystal display device substrates which is in contact with the liquid crystal, the volume resistance value of the liquid crystal is Rl.
When the volume resistance value of the alignment film on the substrate having the active element and the pixel electrode is Ral1 and the volume resistance value of the alignment film on the opposing substrate is Ral2, 0.98 × Rlc ≧ Ra
l1 and Ral2 are preferable, and 0.90 × Rlc ≧ Ral1 and Ral2 are preferable to further reduce image sticking, and further 0.1 × Rlc ≧ Ral1 and Ral2 are preferable.

【0036】一方、配向膜の体積抵抗値が低すぎると、
特定画素にのみに電圧がかかりにくくなり、表示品位が
悪くなることがある。配向膜の体積抵抗値としては、1
6Ω・cm以上が好ましく、さらに好ましくは107Ω
・cm以上、最も好ましいのは108Ω・cm以上であ
る。特に低温多結晶シリコンTFTや連続粒界結晶シリ
コンTFTを用いた液晶表示装置においては、配向膜
が、液晶表示装置用基板上に形成された駆動回路の浮遊
容量となって誤動作の原因となることがあり、108Ω
・cm以上が好ましい。
On the other hand, if the volume resistance of the alignment film is too low,
It may be difficult to apply a voltage only to a specific pixel, and the display quality may deteriorate. The volume resistance of the alignment film is 1
It is preferably 0 6 Ω · cm or more, more preferably 10 7 Ω.
-Cm or more, most preferably 10 8 Ω-cm or more. Especially in a liquid crystal display device using a low temperature polycrystal silicon TFT or a continuous grain boundary crystal silicon TFT, the alignment film causes a stray capacitance of a drive circuit formed on the liquid crystal display device substrate, which may cause a malfunction. There is 10 8 Ω
・ It is preferably cm or more.

【0037】液晶の体積抵抗値には特に限定はないが、
良好な表示品位を得るためには、108Ω・cm以上が
好ましく、また液晶を工業的に生産するうえで1019Ω
・cm以下が好ましい。したがって、108Ω・cm〜
1019Ω・cmの間のRal1、Ral2が好ましい。
The volume resistance value of the liquid crystal is not particularly limited,
In order to obtain good display quality, 10 8 Ω · cm or more is preferable, and in industrial production of liquid crystal, 10 19 Ω · cm.
-It is preferably not more than cm. Therefore, 10 8 Ω · cm
Ral1 and Ral2 between 10 19 Ω · cm are preferred.

【0038】また特にアクティブ素子および画素電極を
有している液晶表示装置用基板上に形成する配向膜にお
いては、該配向膜の抵抗値が低いと表示品位の低下が起
こることがある。したがって、一方の液晶表示装置用基
板の液晶に接する面の側にアクティブ素子および画素電
極を有している液晶表示装置においては焼き付けの設計
のマージンを保ち、かつ配向膜の抵抗値が低すぎること
に対するマージンを保った設計をするには、アクティブ
素子および画素電極を有している基板上の配向膜の体積
抵抗値をRal1、対向する基板上の配向膜の体積抵抗値
をRal2とすると、Ral1≧Ral2とすることが好まし
い。したがって、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2が好ま
しく、さらに焼き付きを低減させるためには0.90×
Rlc≧Ral1≧Ral2が好ましく、さらには0.1×Rlc
≧Ral1≧Ral2が好ましい。
Further, particularly in an alignment film formed on a substrate for a liquid crystal display device having an active element and a pixel electrode, the display quality may be deteriorated when the resistance value of the alignment film is low. Therefore, in a liquid crystal display device having an active element and a pixel electrode on the side of one of the liquid crystal display device substrates that comes into contact with the liquid crystal, the design margin for printing is maintained and the resistance value of the alignment film is too low. In order to maintain a margin with respect to, a volume resistance value of the alignment film on the substrate having the active element and the pixel electrode is Ral1, and a volume resistance value of the alignment film on the opposing substrate is Ral2. It is preferable that ≧ Ral2. Therefore, 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2 is preferable, and 0.90 × is required to further reduce image sticking.
Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2 is preferable, and further 0.1 × Rlc
≧ Ral1 ≧ Ral2 is preferable.

【0039】配向膜の体積抵抗値(ρ)はガードリング
付きの3端子法で配向膜(電極面積(S)、配向膜の膜
厚(d))の上下に設けられた電極面に電圧(V)を印
加し、流れた電流(I)から、次式を用いて求められ
る。
The volume resistance value (ρ) of the alignment film is measured by a three-terminal method with a guard ring by a voltage (electrode area (S), film thickness (d) of the alignment film) above and below the alignment film. V) is applied, and it is calculated from the flowing current (I) using the following equation.

【0040】ρ = (V/I)・(d/S) 測定したρをもって、RalまたはRal1またはRal2とす
る。
Ρ = (V / I) · (d / S) The measured ρ is defined as Ral or Ral1 or Ral2.

【0041】液晶の体積抵抗値(ρ)は、ガードリング
付きの3端子法で液晶を満たしたセル(電極面積
(S)、液晶層のギャップ(d))の上下に設けられた
電極面に電圧(V)を印加し、流れた電流(I)から、
次式を用いて求められる。
The volume resistance value (ρ) of the liquid crystal is measured on the electrode surfaces provided above and below the cell (electrode area (S), gap (d) of the liquid crystal layer) filled with liquid crystal by the three-terminal method with a guard ring. A voltage (V) is applied, and from the flowing current (I),
It is calculated using the following formula.

【0042】ρ = (V/I)・(d/S) 測定したρをもって、Rlcとする。Ρ = (V / I) · (d / S) Let ρ be the measured ρ.

【0043】配向膜の表面抵抗値としては、表面抵抗が
107 〜1014Ω/□であることが好ましい。低抵抗材
料の場合、表面抵抗値は材料の膜厚が厚いほど低下する
が、本発明の配向膜の場合、抵抗値が高いため膜厚には
必ずしも一次関数的に変化はしない。表面抵抗値はリン
グ電極を用いて、JISK6911に従って測定する。
簡易的には測定したい配向膜の抵抗に応じ、三菱油化株
式会社(製)表面抵抗測定機“Loresta”また
は”Hiresta”を用いて、4探針法やリング電極
を用いた2端子法や3端子法によって表面抵抗値(シー
ト抵抗)を測定することができる。
The surface resistance of the alignment film is preferably 10 7 to 10 14 Ω / □. In the case of a low resistance material, the surface resistance value decreases as the film thickness of the material increases, but in the case of the alignment film of the present invention, the film resistance does not necessarily change linearly because the resistance value is high. The surface resistance value is measured according to JIS K6911 using a ring electrode.
Depending on the resistance of the alignment film to be measured in a simple manner, using a surface resistance measuring device “Loresta” or “Hiresta” manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd., a four-point probe method or a two-terminal method using a ring electrode The surface resistance value (sheet resistance) can be measured by the three-terminal method.

【0044】本発明に用いられる基板としては、特に限
定されるものでないが、石英ガラス、ホウケイ酸ガラ
ス、アルミノケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートした
ソーダライムガラスなどの無機ガラス類、プラスチック
のフィルムまたはシートなどの透明基板が好ましく用い
られる。この基板上に、赤青緑といった着色層、駆動用
の電極や、遮光膜などが必要に応じて形成された液晶表
示装置用基板を用いて液晶表示装置は構成されている。
The substrate used in the present invention is not particularly limited, but inorganic glass such as quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass whose surface is coated with silica, a plastic film or A transparent substrate such as a sheet is preferably used. A liquid crystal display device is configured by using a substrate for a liquid crystal display device in which colored layers such as red, blue and green, driving electrodes, and a light shielding film are formed on the substrate as necessary.

【0045】液晶表示装置に使用される液晶としては、
配向膜の体積抵抗値との関係により適宜選択することが
できる。また表示方式、駆動方式に応じて液晶を選択す
ることとなる。例えば、ネマチック液晶やスメクチック
液晶が良好な表示を得るために用いられる。スメクチッ
ク液晶には強誘電性液晶や反強誘電性液晶や無しきい値
反強誘電性液晶などが含まれる。ネマチック液晶として
は、表示方式に応じて誘電異方性の正のもの、負のもの
を適宜用いることができる。
As the liquid crystal used in the liquid crystal display device,
It can be appropriately selected depending on the relationship with the volume resistance value of the alignment film. Further, the liquid crystal is selected according to the display method and the driving method. For example, nematic liquid crystals and smectic liquid crystals are used to obtain good display. Smectic liquid crystals include ferroelectric liquid crystals, antiferroelectric liquid crystals, thresholdless antiferroelectric liquid crystals, and the like. As the nematic liquid crystal, those having a positive or negative dielectric anisotropy can be appropriately used depending on the display system.

【0046】液晶中には適宜添加物をいれてその抵抗値
を調整することができる。例えば、4−シアノ−3−フ
ルオロフェニル−トランス−4−エチルフェニルカルボ
キシレート、1−[4−(3,4,5−トリフルオロフ
ェニル)シクロヘキシル]−2−(4−メチルシクロヘ
キシル)エタン、4−シアノ−3−フルオロフェニル−
4−(4−プロピルシクロヘキシル)フェニルカルボキ
シレート、3,4−ジシアノ−5−フルオロフェニル−
トランス−4−プロピルシクロヘキシルカルボキシレー
ト、3,4−ジシアノ−5−フルオロフェニル−トラン
ス−4−プロピルシクロヘキシルカルボキシレート、3
−シアノ−4−トリフルオロメトキシ−5−フルオロフ
ェニル−トランス−4−エチルシクロヘキシルカルボキ
シレート、3−シアノ−2−フルオロフェニル−トラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシルカルボキシレート、2
−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)−1−
[トランス−4−(2,3−ジシアノフェニル)シクロ
ヘキシル]エタンなどを用いることができる。
The resistance value can be adjusted by appropriately adding additives to the liquid crystal. For example, 4-cyano-3-fluorophenyl-trans-4-ethylphenylcarboxylate, 1- [4- (3,4,5-trifluorophenyl) cyclohexyl] -2- (4-methylcyclohexyl) ethane, 4 -Cyano-3-fluorophenyl-
4- (4-propylcyclohexyl) phenylcarboxylate, 3,4-dicyano-5-fluorophenyl-
Trans-4-propylcyclohexylcarboxylate, 3,4-dicyano-5-fluorophenyl-trans-4-propylcyclohexylcarboxylate, 3
-Cyano-4-trifluoromethoxy-5-fluorophenyl-trans-4-ethylcyclohexylcarboxylate, 3-cyano-2-fluorophenyl-trans-4-pentylcyclohexylcarboxylate, 2
-(Trans-4-propylcyclohexyl) -1-
[Trans-4- (2,3-dicyanophenyl) cyclohexyl] ethane or the like can be used.

【0047】配向膜は液晶表示装置用基板の液晶に接す
る面の側に形成される膜であり、液晶を所定の方向(ダ
イレクター)に配向させる性質をもつ。
The alignment film is a film formed on the side of the liquid crystal display device substrate that is in contact with the liquid crystal, and has the property of aligning the liquid crystal in a predetermined direction (director).

【0048】配向膜の材料としては、ポリイミド系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂な
どの感光性または非感光性のものが好ましく用いられる
が、これらに限られるものではない。ただし、配向膜の
耐熱性・信頼性の点からポリイミド系樹脂が好ましい。
As a material for the alignment film, a photosensitive or non-photosensitive material such as a polyimide resin, a polyamide resin, or a polyvinyl alcohol resin is preferably used, but the material is not limited to these. However, a polyimide resin is preferable from the viewpoint of heat resistance and reliability of the alignment film.

【0049】ポリイミド系樹脂は、可溶性ポリイミド型
の配向膜溶液やポリアミック酸型の配向膜溶液を液晶表
示装置用基板上に形成した後に、必要に応じて乾燥、焼
成や光照射してえられる。配向膜材料は基板上に、フレ
キソ印刷、スピンコート、ロールコート、スリットダイ
コート、シルク印刷などにより液晶表示装置用基板上に
形成される。
The polyimide resin can be obtained by forming a soluble polyimide type alignment film solution or a polyamic acid type alignment film solution on a substrate for a liquid crystal display device, and then, if necessary, drying, firing or light irradiation. The alignment film material is formed on the substrate by flexographic printing, spin coating, roll coating, slit die coating, silk printing, or the like on the substrate for liquid crystal display device.

【0050】配向膜として好ましく用いられるポリイミ
ド系樹脂としては、特に限定されるものではないが、通
常下記一般式(1)で表される構造単位を主成分とする
ポリアミック酸を、加熱または適当な触媒によってイミ
ド化したものが好適に用いられる。
The polyimide resin preferably used as the alignment film is not particularly limited, but usually, a polyamic acid containing a structural unit represented by the following general formula (1) as a main component is heated or appropriately heated. Those imidized with a catalyst are preferably used.

【0051】[0051]

【化1】 [Chemical 1]

【0052】ここで上記一般式(1)のnは1〜2の数
である。R1は酸成分残基であり、R1 は少なくとも2
個の炭素原子を有する3価または4価の有機基を示す。
耐熱性の面から、R1 は環状炭化水素、芳香族環または
芳香族複素環を含有し、かつ炭素数6から30の3価ま
たは4価の基が好ましい。R1 の例として、フェニル
基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペ
リレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェニルスルフォ
ン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノン基、ビフ
ェニルトリフルオロプロパン基、シクロブチル基、シク
ロペンチル基などから誘導された基が挙げられるがこれ
らに限定されるものではない。
Here, n in the general formula (1) is a number of 1 to 2. R 1 is an acid component residue, and R 1 Is at least 2
Represents a trivalent or tetravalent organic group having 4 carbon atoms.
From the viewpoint of heat resistance, R 1 Is preferably a trivalent or tetravalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocycle and having 6 to 30 carbon atoms. R 1 Examples of phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthalene group, perylene group, diphenyl ether group, diphenylsulfone group, diphenylpropane group, benzophenone group, biphenyltrifluoropropane group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, etc. Groups, but are not limited to.

【0053】R2は少なくとも2個の炭素原子を有する
2価の有機基を示す。耐熱性の面から、R2は環状炭化
水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、かつ炭素
数6から30の2価の基が好ましい。R2の例として、
フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフタレ
ン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェニル
スルフォン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノン
基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニルメ
タン基、シクロヘキシルメタン基などから誘導された基
が挙げられるがこれらに限定されるものではない。前記
一般式(1)で表される構造単位を主成分とするポリマ
ーはR1、R2がこれらのうち各々1個から構成されてい
ても良いし、各々2種以上から構成される共重合体であ
っても良い。
R 2 represents a divalent organic group having at least 2 carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 2 is preferably a divalent group containing a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocycle and having 6 to 30 carbon atoms. As an example of R 2 ,
Examples include groups derived from phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthalene group, perylene group, diphenyl ether group, diphenylsulfone group, diphenylpropane group, benzophenone group, biphenyltrifluoropropane group, diphenylmethane group, cyclohexylmethane group, etc. However, the present invention is not limited to these. In the polymer having the structural unit represented by the general formula (1) as a main component, R 1 and R 2 may each be composed of one of them, or may be composed of two or more kinds of copolymers. It may be a united body.

【0054】本発明の液晶表示装置の構成を実施するた
めに、市販されている配向膜を用いてもよい。例えば、
日産化学社製のSE−130、SE−150、SE−2
110、SE−410、SE−610、SE−118
0、SE−2170、SE−1211、SE−314
0、SE−3210、SE−3310、SE−351
0、SE−5291、SE−6210、SE−749
2、SE−7992、SE−7511L、SE−819
2L、RN−1322、RN−1332、RN−134
9、RN−1358、RN−1386、RN−141
7、RN−1436、RN−1450、RN−1477
や、チッソ社製のPIA−5140、PIA−515
0、PIA−5310、PIA−X322、PIA−2
024、PIA−2700、PIA−2800、PIA
−2900ジェイエスアール社製のAL1000、AL
1068、AL1072、AL1077、AL1F0
0、AL3000、AL4000、AL5000、AL
6000、AL7000、AL8000、JALS−1
46、JALS−212、JALS−246、JALS
−406、JALS−445、JALS−469、JA
LS−550、JALS−552、JALS−553、
JALS−555、JALS−556、JALS−56
6、JALS−725、、JALS−1082、JAL
S−1085、JALS−1216などを単独で用いて
も良いし、これらの内の2種以上を混合して用いても良
いし、また適宜他のポリマー成分を添加しても良いし、
これらの製品に含まれる樹脂成分を適宜選択して用いて
もよい。
In order to implement the constitution of the liquid crystal display device of the present invention, a commercially available alignment film may be used. For example,
Nissan Chemical SE-130, SE-150, SE-2
110, SE-410, SE-610, SE-118
0, SE-2170, SE-1211, SE-314
0, SE-3210, SE-3310, SE-351
0, SE-5291, SE-6210, SE-749
2, SE-7992, SE-7511L, SE-819
2L, RN-1322, RN-1332, RN-134
9, RN-1358, RN-1386, RN-141
7, RN-1436, RN-1450, RN-1477
And PIA-5140 and PIA-515 manufactured by Chisso Corporation
0, PIA-5310, PIA-X322, PIA-2
024, PIA-2700, PIA-2800, PIA
-2900 AL1000, AL manufactured by JSR
1068, AL1072, AL1077, AL1F0
0, AL3000, AL4000, AL5000, AL
6000, AL7000, AL8000, JALS-1
46, JALS-212, JALS-246, JALS
-406, JALS-445, JALS-469, JA
LS-550, JALS-552, JALS-553,
JALS-555, JALS-556, JALS-56
6, JALS-725, JALS-1082, JAL
S-1085, JALS-1216 or the like may be used alone, or two or more of them may be mixed and used, or other polymer component may be appropriately added.
The resin components contained in these products may be appropriately selected and used.

【0055】本発明の配向膜には、配向膜の抵抗値を調
節するために、配向膜中に導電性粒子を含んでもよい。
配向膜に添加する導電性粒子として、酸化インジウム、
酸化錫、酸化亜鉛、酸化カドニウム、酸化インジウム
錫、五酸化アンチモンドープ酸化錫、フッ素ドープ酸化
錫、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、
ガリウムドープ酸化亜鉛、インジウムドープ酸化亜鉛、
カドニウムドープ酸化錫および亜鉛ドープカドニウム、
酸化錫ドープ酸化インジウム、五酸化アンチモン、アン
チモン酸亜鉛、酸化チタン、二酸化チタン、酸化アルミ
ニウム、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸
化銀、酸化ニッケル、酸化銅、ニッケル、金などが挙げ
られるが、特にこれに限定されたものではなく、導電性
を有する粒子であれば使用することができる。またこれ
らの粒子のうちの一種または複数種を使用してもよい。
またアクリルなどの樹脂の表面に、これら金属を被覆し
て用いてもよい。このなかでも、少量の五酸化アンチモ
ンをドープした酸化錫(NESA)および少量の酸化錫
を固溶させた酸化インジウム(ITO)が安定した導電
性を示す点から好ましい。汎用性、経済性、入手性の観
点から、ITOがより好ましい。配向膜に添加する導電
性粒子の粒径としては、5〜50nmであることが好ま
しく、さらには5〜20nmか好ましく、最も5〜10
nmが好ましい。
The alignment film of the present invention may contain conductive particles in order to adjust the resistance value of the alignment film.
As the conductive particles added to the alignment film, indium oxide,
Tin oxide, zinc oxide, cadmium oxide, indium tin oxide, antimony pentoxide-doped tin oxide, fluorine-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide,
Gallium-doped zinc oxide, indium-doped zinc oxide,
Cadmium-doped tin oxide and zinc-doped cadmium,
Examples include tin oxide-doped indium oxide, antimony pentoxide, zinc antimonate, titanium oxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zinc oxide, ruthenium oxide, rhenium oxide, silver oxide, nickel oxide, copper oxide, nickel and gold. The particles are not particularly limited thereto, and any particles having conductivity can be used. Moreover, you may use 1 type or multiple types of these particles.
The surface of a resin such as acrylic may be coated with these metals. Among these, tin oxide (NESA) doped with a small amount of antimony pentoxide and indium oxide (ITO) having a small amount of tin oxide dissolved therein are preferable from the viewpoint of exhibiting stable conductivity. From the viewpoints of versatility, economy and availability, ITO is more preferable. The particle size of the conductive particles added to the alignment film is preferably 5 to 50 nm, more preferably 5 to 20 nm, and most preferably 5 to 10 nm.
nm is preferred.

【0056】配向膜に添加する導電性粒子としては無彩
色であるものが好ましい。導電性粒子を添加した配向膜
は、C光源またはF10光源またはD65光源における
該配向膜の透過光および/または反射光のXYZ表色系
における色度座標(x,y)が、該光源の色度座標(x
0、y0)に対して、(x−x0)2+(y−y0)2
0.01が好ましい。この透過光、反射光の測色方法と
しては、顕微分光光度計で透過率、反射率を測定する方
法がある。これらのスペクトルからC光源またはF10
光源における原刺激値X、Y、Zを計算し、色度座標が
求められる。市販の顕微分光高度計、例えば大塚電子M
CPD−2000にはこれらの計算プログラムが組み込
まれている。
The conductive particles added to the alignment film are preferably achromatic particles. The orientation film to which the conductive particles are added has a chromaticity coordinate (x, y) in the XYZ color system of transmitted light and / or reflected light of the orientation film in the C light source, the F10 light source, or the D65 light source, Degree coordinate (x
0, y0), (x−x0) 2 + (y−y0) 2
0.01 is preferable. As a colorimetric method of the transmitted light and the reflected light, there is a method of measuring the transmittance and the reflectance with a microspectrophotometer. From these spectra C source or F10
The stimulus values X, Y, Z in the light source are calculated, and the chromaticity coordinates are obtained. A commercially available microspectroscope, such as Otsuka Electronics M
These calculation programs are incorporated in the CPD-2000.

【0057】配向膜に添加する導電性粒子としては透明
であることが好ましい。配向膜の透明性を向上させるた
めには、さらに配向膜を構成する樹脂成分と導電性粒子
との屈折率差を小さくすることが好ましい。加えて、配
向膜に添加する導電性粒子、金属アルコキシドにより配
向膜の屈折率を調節し、配向膜の反射率および透過率を
所望の値にすることができる。すなわち、配向膜と接触
する液晶や、液晶表示装置用基板との屈折率を考慮した
光学多層膜としての設計をすることができる。
The conductive particles added to the alignment film are preferably transparent. In order to improve the transparency of the alignment film, it is preferable to further reduce the difference in the refractive index between the resin component forming the alignment film and the conductive particles. In addition, the refractive index of the alignment film can be adjusted by the conductive particles and the metal alkoxide added to the alignment film, and the reflectance and the transmittance of the alignment film can be set to desired values. That is, it is possible to design as an optical multilayer film in consideration of the liquid crystal that comes into contact with the alignment film and the refractive index of the liquid crystal display device substrate.

【0058】導電性粒子を配向膜中に添加する方法とし
ては、(a)粉体をそのまま樹脂溶液に添加する方法、
(b)超微粒子を溶剤に分散した超微粒子ゾルを使用す
る方法があるが、分散安定化の点から(b)が好まし
い。(a)においては分散安定化する目的で、分散溶剤
や分散剤の添加や粒子表面をシリカや有機膜で被覆して
もよい。配向膜樹脂内に分散させる濃度が高い場合に
は、特に有機膜で被覆し、配向膜溶液内で分散安定化さ
せ、導電性粒子が沈降しないようにすることができる。
As the method of adding the conductive particles to the alignment film, (a) the method of directly adding the powder to the resin solution,
(B) Although there is a method of using an ultrafine particle sol in which ultrafine particles are dispersed in a solvent, (b) is preferable from the viewpoint of dispersion stabilization. In the case of (a), for the purpose of stabilizing the dispersion, a dispersion solvent or a dispersant may be added or the particle surface may be coated with silica or an organic film. When the concentration in the alignment film resin is high, it can be covered with an organic film to stabilize the dispersion in the alignment film solution so that the conductive particles do not settle.

【0059】導電性粒子の分散溶剤としては、水、エタ
ノール、メタノール、イソブタノール、3−メチル−3
−メトキシブタノールなどのアルコール類、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン
などのケトン類、ジエチルエーテル、イソプロピルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリ
コールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなど
のエーテル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、エチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラク
トン、N−メチルピロリドンなどのエステル類、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類、2−ピロリドンなどのピロリドン
類、ブチルセロソルブなどを使用することができる。ま
た配向膜溶液の保存安定性を鑑みると、導電性粒子の分
散溶剤は、配向膜に使用される溶剤と同一のもを含むこ
とが好ましい。
As a dispersion solvent for the conductive particles, water, ethanol, methanol, isobutanol, 3-methyl-3 are used.
-Alcohols such as methoxybutanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ketones such as cyclohexanone, diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethers such as diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, N-Butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl acetate Chromatography ether acetate, .gamma.-butyrolactone, esters such as N- methylpyrrolidone, N, N
Amides such as dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, pyrrolidones such as 2-pyrrolidone, and butylcellosolve can be used. Further, in view of the storage stability of the alignment film solution, the dispersion solvent of the conductive particles preferably contains the same solvent as that used for the alignment film.

【0060】また金属アルコキシドを用いて、配向膜の
抵抗値を調節してもよい。金属アルコキシドの添加も、
電気抵抗値を調節する方法として有効な手段であり、化
学的に導電性物質を分散させることができる。シリコン
系アルコキシド以外の金属アルコキシドは、水やアルコ
ールと酸性触媒との存在下で、加水分解物を生成し、縮
合反応により重合していくことが知られている。そのた
め、水や酸性触媒の存在する系では、塗液の保存安定性
が悪化する場合がある。しかしながら、β−ジケトンや
β−ケト酸エステル類と金属アルコキシド類の反応で生
成する金属錯体は、加水分解および縮合反応を抑制する
ことができるため、保存安定性が向上することが可能と
なる。したがって、金属アルコキシドを添加する場合
は、使用する樹脂や溶剤により、金属アルコキシドを直
接添加する方法、あるいは、金属アルコキシドを金属錯
体に変換してから添加する方法のどちらかを選択するこ
とが重要である。β−ジケトン、β−ケト酸エステル類
の具体例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセ
トン、ジベンゾイルメタン、メチルアセトアセテート、
エチルアセトアセテート、ベンゾイルアセトアセテー
ト、エチルベンゾイルアセテート、メチルベンゾイルア
セテートなどを使用することができる。
Further, the resistance value of the alignment film may be adjusted by using a metal alkoxide. Addition of metal alkoxide
This is an effective means for adjusting the electric resistance value, and a conductive substance can be chemically dispersed. It is known that metal alkoxides other than silicon-based alkoxides produce a hydrolyzate in the presence of water or alcohol and an acidic catalyst, and are polymerized by a condensation reaction. Therefore, in a system containing water or an acidic catalyst, the storage stability of the coating liquid may deteriorate. However, since the metal complex formed by the reaction of the β-diketone or β-keto acid ester and the metal alkoxide can suppress the hydrolysis and condensation reactions, the storage stability can be improved. Therefore, when adding a metal alkoxide, it is important to select either a method of directly adding the metal alkoxide or a method of adding the metal alkoxide after converting it into a metal complex, depending on the resin and solvent used. is there. Specific examples of β-diketone and β-keto acid esters include acetylacetone, benzoylacetone, dibenzoylmethane, methylacetoacetate,
Ethyl acetoacetate, benzoyl acetoacetate, ethyl benzoyl acetate, methyl benzoyl acetate and the like can be used.

【0061】本発明の金属アルコキシドとしては、Mm
(OR)nと表される。ここでm、nは1以上の正の整
数である。Mとしては特に限定されないが、In、S
n、Zn、Cdなどが好ましい。Rは炭化水素基または
ハロゲン化炭化水素基である。
The metal alkoxide of the present invention includes Mm
It is expressed as (OR) n. Here, m and n are positive integers of 1 or more. The M is not particularly limited, but In, S
N, Zn, Cd and the like are preferable. R is a hydrocarbon group or a halogenated hydrocarbon group.

【0062】金属アルコキシドの具体例としては、In
(OCH(CH323、Sn(OCH(CH324
Zn(OCH(CH322、Cd(OCH(C
322、In(OCH2CH2CH2CH33、Sn
(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OCH2CH2
2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH32、In
(OC 253、Sn(OC254、Zn(OC25
2、Cd(OC252、などが好ましい。高導電性、汎
用性、入手性の点から、In、Sn、Zn、Cdなどを
用いた金属アルコキシドを用いた方が好ましい。少量の
五酸化アンチモンをドープした酸化錫(NESA)およ
び少量の酸化錫を固溶させた酸化インジウム(ITO)
とカドニウムドープ酸化錫のような複酸化物の作製方法
は、2種類の金属アルコキシドを所定の当量比になるよ
うに添加する方法で作製することができる。本発明で用
いられる、β−ジケトンやβ−ケト酸エステル類と金属
アルコキシド類の反応で生成する金属錯体の具体例とし
て、インジウムアセチルアセトネート、インジウムベン
ゾイルアセトネート、インジウムアセチルアセテート、
錫アセチルアセトネート、錫ベンゾイルアセトネート、
錫アセチルアセテート、亜鉛アセチルアセトネート、亜
鉛ベンゾイルアセトネート、亜鉛アセチルアセテート、
カドニウムアセチルアセトネート、カドニウムベンゾイ
ルアセトネート、カドニウムアセチルアセテートなどが
挙げられる。保存安定性などの問題が生じない場合に
は、金属アルコキシドのみを直接添加しても構わない。
金属アルコキシドを用いることで安定した電気特性を得
ることができる。
Specific examples of the metal alkoxide include In
(OCH (CH3)2)3, Sn (OCH (CH3)2)Four,
Zn (OCH (CH3)2)2, Cd (OCH (C
H3)2)2, In (OCH2CH2CH2CH3)3, Sn
(OCH2CH2CH2CH3)Four, Zn (OCH2CH2C
H2CH3)2, Cd (OCH2CH2CH2CH3)2, In
(OC 2HFive)3, Sn (OC2HFive)Four, Zn (OC2HFive)
2, Cd (OC2HFive)2, And the like are preferable. High conductivity, pan
In terms of usability and availability, In, Sn, Zn, Cd, etc.
It is preferable to use the metal alkoxide used. A small amount
Tin oxide (NESA) doped with antimony pentoxide and
And indium oxide (ITO) containing a small amount of tin oxide as a solid solution
For the preparation of complex oxides such as copper and cadmium-doped tin oxide
Is the equivalent ratio of two kinds of metal alkoxide
It can be produced by a method of adding soybeans. For use in the present invention
Β-diketones and β-keto acid esters and metals
Specific examples of metal complexes formed by the reaction of alkoxides
Indium acetylacetonate, indium benzene
Zoyl acetonate, indium acetyl acetate,
Tin acetylacetonate, tin benzoylacetonate,
Tin acetyl acetate, zinc acetylacetonate, sub
Lead benzoylacetonate, zinc acetylacetate,
Cadmium acetylacetonate, cadmium benzoi
Luacetonate, cadmium acetylacetate, etc.
Can be mentioned. When problems such as storage stability do not occur
As for, the metal alkoxide alone may be directly added.
Stable electrical properties are obtained by using metal alkoxide
You can

【0063】本発明の配向膜において、前記の導電性粒
子の含有量は、該配向膜の樹脂組成物の樹脂成分100
重量部に対し、好ましくは400重量部以下である。か
かる導電性粒子の含有量がこれより大きいと、液晶の配
向特性が悪くなる恐れがでてくる。
In the alignment film of the present invention, the content of the conductive particles is such that the resin component of the resin composition of the alignment film is 100%.
It is preferably 400 parts by weight or less with respect to parts by weight. If the content of the conductive particles is larger than this, the alignment characteristics of the liquid crystal may be deteriorated.

【0064】本発明の配向膜の膜厚は、0.001〜2
μmが好ましい。配向膜の膜厚が厚くなると、配向膜に
よる電圧損失分が大きくなり、液晶表示装置の駆動の点
から好ましくない。また配向膜の膜厚が0.001μm
より薄くなると液晶を配向させる能力が著しく低下す
る。
The thickness of the alignment film of the present invention is 0.001 to 2
μm is preferred. When the film thickness of the alignment film is large, the voltage loss due to the alignment film becomes large, which is not preferable from the viewpoint of driving the liquid crystal display device. The thickness of the alignment film is 0.001 μm
The thinner it is, the more significantly the ability to orient the liquid crystals decreases.

【0065】配向膜には、配向膜の塗布性を良好にする
ために、配向膜の樹脂組成物に界面活性剤を添加しても
よい。かかる界面活性剤の添加量は、樹脂100重量部
に対して、好ましくは10重量部以下、さらに好ましく
は1重量部以下である。
In order to improve the coatability of the alignment film, a surfactant may be added to the resin composition of the alignment film. The amount of such a surfactant added is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 1 part by weight or less, relative to 100 parts by weight of the resin.

【0066】かかる界面活性剤の具体例としては、ジメ
チルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイ
ルなどのシリコーンオイル類、アルキル、フッ素変性シ
リコーンオイル、ポリエーテル、アルコール変性シリコ
ーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、エポキシ変
性シリコーンオイル、フェノール、カルボキシ、メルカ
プト変性シリコーンオイルなどの変性シリコーンオイル
類、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンア
ルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオ
ン界面活性剤、ラウリルトリメチルアンモニウムクロラ
イドなどの陽イオン界面活性剤、ラウリルジメチルアミ
ンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエ
チルイミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤、ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレートな
どの非イオン界面活性剤などを使用することができる。
かかる界面活性剤は、1種または2種以上組み合わせて
用いることができる。かかる界面活性剤は、導電性粒子
あるいは金属アルコキシドの添加前後の、どの時点で添
加してもよい。
Specific examples of such a surfactant include silicone oils such as dimethyl silicone oil and methylphenyl silicone oil, alkyl, fluorine-modified silicone oil, polyether, alcohol-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, epoxy-modified silicone. Modified silicone oils such as oil, phenol, carboxy, mercapto-modified silicone oil, anionic surfactants such as ammonium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether triethanolamine sulfate, cationic surfactants such as lauryl trimethyl ammonium chloride, lauryl Amphoteric surfactants such as dimethylamine oxide, lauryl carboxymethyl hydroxyethyl imidazolium betaine, polyoxyethylene Uri ether, polyoxyethylene stearyl ether, etc. can be used nonionic surfactants such as sorbitan monostearate.
These surfactants can be used alone or in combination of two or more. Such a surfactant may be added at any time before or after the conductive particles or the metal alkoxide is added.

【0067】配向膜の溶液に使用される溶剤としては、
水、エタノール、メタノール、イソブタノール、3−メ
チル−3−メトキシブタノールなどのアルコール類、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノンなどのケトン類、ジエチルエーテル、イソプロ
ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テルなどのエーテル類、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、
3−メトキシ−3−メチルブチルアセテート、エチレン
グリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリ
コールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリ
コールモノエチルエーテルアセテート、γ−ブチロラク
トンなどのエステル類、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、2
−ピロリドン、N−メチルピロリドンなどのピロリドン
類、ブチルセロソルブなどを使用することができる。
As the solvent used for the alignment film solution,
Water, alcohols such as ethanol, methanol, isobutanol, 3-methyl-3-methoxybutanol, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diethyl ether, isopropyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol Ethers such as diethyl ether and diethylene glycol diethyl ether, ethyl acetate, n-butyl acetate,
3-Methoxy-3-methylbutyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl Esters such as ether acetate and γ-butyrolactone, amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, 2
-Pyrrolidones, pyrrolidones such as N-methylpyrrolidone, butyl cellosolve and the like can be used.

【0068】本発明液晶表示装置用基板としては、カラ
ーフィルターを用いてもよい。
A color filter may be used as the liquid crystal display device substrate of the present invention.

【0069】カラーフィルターは、液晶表示装置の開口
部相当する箇所に画素を形成する3原色の着色層、必要
に応じてブラックマトリックスや額縁、透明保護膜、透
明導電膜を有する基板である。
The color filter is a substrate having a colored layer of three primary colors forming a pixel at a position corresponding to an opening of the liquid crystal display device, and if necessary, a black matrix, a frame, a transparent protective film and a transparent conductive film.

【0070】ブラックマトリックスや額縁は、クロムや
ニッケルなどの金属またはそれらの酸化物などで形成し
てもよいが、樹脂および遮光剤からなる樹脂ブラックマ
トリックス層を形成することが製造コストや廃棄物処理
コストの面から好ましい。また、樹脂ブラックマトリッ
クス層は、液晶表示装置の表示に問題のない遮光性能を
保ちつつ、その厚さを0.5μm〜2.0μmの範囲で
形成することができる。
The black matrix and the frame may be formed of a metal such as chromium or nickel or an oxide thereof, but it is necessary to form a resin black matrix layer composed of a resin and a light-shielding agent for manufacturing cost and waste treatment. It is preferable in terms of cost. Further, the resin black matrix layer can be formed with a thickness in the range of 0.5 μm to 2.0 μm while maintaining the light-shielding performance that does not cause a problem in the display of the liquid crystal display device.

【0071】本発明の配向膜、液晶は、樹脂および遮光
剤からなる樹脂遮光層を用いたカラーフィルターを有す
る場合に、特に好適に用いられる。樹脂遮光層は、通常
金属またはそれらの酸化物で形成されたブラックマトリ
ックスや額縁にくらべて、抵抗値が高く、基板上の電荷
が蓄積しやすく、表示不良が発生しやすい。そこで、樹
脂遮光層によって形成された、ブラックマトリックスや
額縁を有する液晶表示装置に、本発明の液晶、液晶配向
膜を用いることが好ましい。
The alignment film and liquid crystal of the present invention are particularly preferably used when having a color filter using a resin light-shielding layer composed of a resin and a light-shielding agent. The resin light-shielding layer has a higher resistance value than that of a black matrix or a frame which is usually formed of a metal or an oxide thereof, a charge is easily accumulated on the substrate, and a display defect is likely to occur. Therefore, it is preferable to use the liquid crystal or liquid crystal alignment film of the present invention in a liquid crystal display device having a black matrix or a frame formed of a resin light shielding layer.

【0072】樹脂遮光層に用いられる樹脂としては、特
に限定されないが、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、
ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂、ゼラチンなどの感光性また
は非感光性の材料が好ましく用いられる。樹脂遮光層用
樹脂は、カラーフィルタの着色層や保護膜に用いられる
樹脂よりも高い耐熱性を有する樹脂が好ましく、また、
ブラックマトリクスや額縁形成後の工程で使用される有
機溶剤に耐性を持つ樹脂が好ましいことからポリイミド
系樹脂が特に好ましく用いられる。
The resin used for the resin light-shielding layer is not particularly limited, but an epoxy resin, an acrylic resin,
Photosensitive or non-photosensitive materials such as urethane type resin, polyester type resin, polyimide type resin, polyolefin type resin and gelatin are preferably used. The resin for the resin light-shielding layer is preferably a resin having higher heat resistance than the resin used for the colored layer or the protective film of the color filter,
A polyimide resin is particularly preferably used because a resin having resistance to an organic solvent used in a step after forming a black matrix or a frame is preferable.

【0073】ポリイミド系樹脂としては、特に限定され
ないが、通常下記一般式(1)で表される構造単位を主
成分とするポリイミド前駆体(n=1〜2)を、加熱も
しくは適当な触媒によってイミド化したものが好適に用
いられる。
The polyimide-based resin is not particularly limited, but a polyimide precursor (n = 1 to 2) containing a structural unit represented by the following general formula (1) as a main component is usually heated or heated with a suitable catalyst. An imidized product is preferably used.

【0074】[0074]

【化2】 [Chemical 2]

【0075】また、ポリイミド系樹脂には、イミド結合
の他に、アミド結合、スルホン結合、エーテル結合、カ
ルボニル結合などのイミド結合以外の結合が含まれてい
ても差支えない。
In addition to the imide bond, the polyimide resin may contain a bond other than the imide bond such as an amide bond, a sulfone bond, an ether bond and a carbonyl bond.

【0076】上記一般式(1)中、R1 は少なくとも2
個以上の炭素原子を有する3価または4価の有機基であ
る。耐熱性の面から、R1 は環状炭化水素、芳香族環ま
たは芳香族複素環を含有し、かつ、炭素数6〜30の3
価または4価の基が好ましい。
In the general formula (1), R 1 is at least 2
It is a trivalent or tetravalent organic group having one or more carbon atoms. From the viewpoint of heat resistance, R 1 contains a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and has 3 to 30 carbon atoms.
A valent or tetravalent group is preferred.

【0077】R1 の例として、フェニル基、ビフェニル
基、ターフェニル基、ナフタレン基、ペリレン基、ジフ
ェニルエーテル基、ジフェニルスルホン基、ジフェニル
プロパン基、ベンゾフェノン基、ビフェニルトリフルオ
ロプロパン基、シクロブチル基、シクロペンチル基など
が挙げられるが、これらに限定されない。
Examples of R 1 are phenyl group, biphenyl group, terphenyl group, naphthalene group, perylene group, diphenyl ether group, diphenyl sulfone group, diphenylpropane group, benzophenone group, biphenyltrifluoropropane group, cyclobutyl group, cyclopentyl group. However, the present invention is not limited to these.

【0078】R2 は少なくとも2個以上の炭素原子を有
する2価の有機基であるが、耐熱性の面から、R2 は環
状炭化水素、芳香族環または芳香族複素環を含有し、か
つ炭素数6〜30の2価の基が好ましい。R2 の例とし
て、フェニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ナフ
タレン基、ペリレン基、ジフェニルエーテル基、ジフェ
ニルスルホン基、ジフェニルプロパン基、ベンゾフェノ
ン基、ビフェニルトリフルオロプロパン基、ジフェニル
メタン基、ジシクロヘキシルメタン基などが挙げられる
が、これらに限定されない。構造単位(1)を主成分と
するポリマは、R1 、R2 がこれらのうち各々1種から
構成されていてもよいし、各々2種以上から構成される
共重合体であってもよい。さらに、基板との接着性を向
上させるために、耐熱性を低下させない範囲でジアミン
成分として、シロキサン構造を有するビス(3−アミノ
プロピル)テトラメチルジシロキサンなどを共重合する
のが好ましい。
R 2 is a divalent organic group having at least 2 carbon atoms, but from the viewpoint of heat resistance, R 2 contains a cyclic hydrocarbon, an aromatic ring or an aromatic heterocycle, and A divalent group having 6 to 30 carbon atoms is preferable. Examples of R 2 include a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group, a naphthalene group, a perylene group, a diphenyl ether group, a diphenyl sulfone group, a diphenylpropane group, a benzophenone group, a biphenyltrifluoropropane group, a diphenylmethane group and a dicyclohexylmethane group. Examples include, but are not limited to: In the polymer having the structural unit (1) as a main component, R 1 and R 2 may each be composed of one type, or may be a copolymer composed of two or more types. . Further, in order to improve the adhesiveness with the substrate, it is preferable to copolymerize bis (3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane having a siloxane structure as a diamine component within a range that does not lower the heat resistance.

【0079】構造単位(1)を主成分とするポリマーの
具体的な例として、ピロメリット酸二無水物、3、3
´,4、4´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、3、3´,4、4´−ビフェニルトリフルオロプロ
パンテトラカルボン酸二無水物、3、3´,4、4´−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、3、3
´,4、4´−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二
無水物、2,3,5,−トリカルボキシシクロペンチル
酢酸二無水物などからなる群から選ばれた1種以上のカ
ルボン酸二無水物と、パラフェニレンジアミン、3、3
´−ジアミノジフェニルエーテル、4、4´−ジアミノ
ジフェニルエーテル、3、4´ジアミノジフェニルエー
テル、3、3´−ジアミノジフェニルスルホン、4、4
´−ジアミノジフェニルスルホン、4、4´−ジアミノ
ジシクロヘキシルメタン、4、4´−ジアミノジフェニ
メタンなどの群から選ばれた1種以上のジアミンから合
成されたポリイミド前駆体が挙げられるが、これらに限
定されない。これらのポリイミド前駆体は公知の方法す
なわち、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを選択的
に組み合わせ、溶媒中で反応させることにより合成され
る。
Specific examples of the polymer containing the structural unit (1) as a main component include pyromellitic dianhydride, 3,3
′, 4,4′-Benzophenonetetracarboxylic dianhydride 3,3 ′, 4,4′-biphenyltrifluoropropanetetracarboxylic dianhydride 3,3 ′, 4,4′-
Biphenyl sulfone tetracarboxylic acid dianhydride 3,3,3
Paraphenylene and one or more carboxylic acid dianhydrides selected from the group consisting of ', 4,4'-diphenyl ether tetracarboxylic acid dianhydride, 2,3,5, -tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride, and the like. Diamine, 3, 3
'-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4
Examples include polyimide precursors synthesized from one or more diamines selected from the group consisting of ′ -diaminodiphenyl sulfone, 4,4′-diaminodicyclohexylmethane, 4,4′-diaminodiphenymethane, and the like. Not limited. These polyimide precursors are synthesized by a known method, that is, by selectively combining tetracarboxylic dianhydride and diamine and reacting them in a solvent.

【0080】樹脂遮光層用の遮光剤としては、カーボン
ブラック、酸化チタン、酸化窒化チタン、四酸化鉄など
の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉、顔料やこれら
の混合物などを用いることができる。この中でも、特に
カーボンブラックや酸化窒化チタンは遮光性が優れてお
り、特に好ましい。分散のよい粒径の小さいカーボンブ
ラックは主として茶系統の色調を呈するので、カーボン
ブラックに対する補色の顔料を混合させて無彩色にする
のが好ましい。
As the light-shielding agent for the resin light-shielding layer, metal oxide powder such as carbon black, titanium oxide, titanium oxynitride, iron tetroxide, etc., metal sulfide powder, metal powder, pigment or a mixture thereof is used. You can Among these, carbon black and titanium oxynitride are particularly preferable because they have excellent light-shielding properties. Since carbon black having a good dispersion and a small particle size mainly exhibits a brownish color tone, it is preferable to mix a pigment having a complementary color with the carbon black to make it an achromatic color.

【0081】酸化窒化チタン、酸化チタンは、カーボン
ブラックに比べて体積抵抗値が高い。ブラックマトリッ
クスや額縁の抵抗値が高くなると、配向膜に電荷が漏洩
しにくくなり、焼き付きの原因になりやすい。従って、
本発明の液晶、配向膜は、特に樹脂遮光層用の遮光剤に
酸化窒化チタンや酸化チタンを用いたカラーフィルター
を有する液晶表示装置に特に好適に用いられる。
Titanium oxynitride and titanium oxide have higher volume resistance values than carbon black. When the resistance value of the black matrix or the frame becomes high, it becomes difficult for the electric charge to leak to the alignment film, which is likely to cause burn-in. Therefore,
The liquid crystal and alignment film of the present invention are particularly suitably used for a liquid crystal display device having a color filter using titanium oxynitride or titanium oxide as a light shielding agent for a resin light shielding layer.

【0082】本発明で使用される酸化窒化チタン、酸化
チタンは以下の方法で製造されるが、特にこれらに限定
されるものではない。 (1) 二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で
加熱し還元させる方法(特開昭49−5432号公
報)。 (2) 四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸
化チタンを水素を含む還元雰囲気中で還元する方法(特
開昭57−205322号公報)。 (3) 二酸化チタンまたは水酸化チタンをアンモニア存在
下で高温還元する方法(特開昭60−65069号公
報、特開昭61−201610号公報)。 (4) 二酸化チタンまたは水酸化チタンにバナジウム化合
物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法
(特開昭61−201610号公報)。
The titanium oxynitride and titanium oxide used in the present invention are manufactured by the following methods, but the invention is not limited thereto. (1) A method of heating and reducing a mixture of titanium dioxide and metallic titanium in a reducing atmosphere (JP-A-49-5432). (2) A method of reducing ultrafine titanium dioxide obtained by high-temperature hydrolysis of titanium tetrachloride in a reducing atmosphere containing hydrogen (JP-A-57-205322). (3) A method of reducing titanium dioxide or titanium hydroxide at high temperature in the presence of ammonia (JP-A-60-65069 and JP-A-61-201610). (4) A method in which a vanadium compound is attached to titanium dioxide or titanium hydroxide and reduced at a high temperature in the presence of ammonia (Japanese Patent Laid-Open No. 61-201610).

【0083】樹脂ブラックマトリクスに用いられる樹脂
としては、特に限定されないが、エポキシ系樹脂、アク
リル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ゼラチンなど
の感光性または非感光性の材料が好ましく用いられる。
ブラックマトリクス用樹脂は、カラーフィルタの着色層
や保護膜に用いられる樹脂よりも高い耐熱性を有する樹
脂が好ましく、また、ブラックマトリクス形成後の工程
で使用される有機溶剤に耐性を持つ樹脂が好ましいこと
からポリイミド系樹脂が特に好ましく用いられる。
The resin used for the resin black matrix is not particularly limited, but it is a photosensitive or non-photosensitive resin such as epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, polyester resin, polyimide resin, polyolefin resin, gelatin or the like. A material having sexuality is preferably used.
The resin for the black matrix is preferably a resin having higher heat resistance than the resin used for the colored layer of the color filter or the protective film, and the resin having resistance to the organic solvent used in the step after forming the black matrix is preferable. Therefore, a polyimide resin is particularly preferably used.

【0084】またブラックマトリックスや額縁は画素を
構成する着色層を積み重ねることで作製しても良い。着
色層を重ねた部分が遮光性を持つことになるから、黒色
遮光膜の必要性が比較的高くない液晶パネル体、特にノ
ーマリーブラック方式の液晶パネル体や、特に反射型液
晶表示装置や反射透過型液晶表示装置には好適である。
画素を構成する着色層の内2色を積み重ねることでブラ
ックマトリックスや額縁を作製しても良いし、着色層の
内3色を積み重ねて作製しても良い。
Further, the black matrix and the frame may be produced by stacking colored layers forming pixels. Since the portion where the colored layers are stacked has a light-shielding property, the liquid crystal panel body in which the need for the black light-shielding film is not relatively high, particularly the normally black type liquid crystal panel body, particularly the reflective liquid crystal display device and the reflection type It is suitable for a transmissive liquid crystal display device.
A black matrix or a frame may be manufactured by stacking two colors of the colored layers forming the pixel, or three colors of the colored layers may be stacked.

【0085】画素を構成する着色層は、カーボンブラッ
クを分散した樹脂遮光層に比べて抵抗値が高い。したが
って、本発明の液晶、配向膜は、特に額縁またはブラッ
クマトリックスに着色層を用いたカラーフィルターを有
する液晶表示装置に特に好適に用いられる。
The colored layer forming the pixel has a higher resistance value than the resin light-shielding layer in which carbon black is dispersed. Therefore, the liquid crystal and alignment film of the present invention are particularly preferably used for a liquid crystal display device having a color filter using a colored layer in a frame or a black matrix.

【0086】本発明の液晶表示装置を構成する基板につ
いて、カラーフィルタ基板について以下にさらに詳細に
説明する。
Regarding the substrate constituting the liquid crystal display device of the present invention, the color filter substrate will be described in more detail below.

【0087】カラーフィルタは、液晶表示装置の開口部
相当する箇所に画素を形成する3原色の着色層および透
明導電膜、必要に応じてブラックマトリックスや額縁、
透明保護膜を有する基板である。
The color filter comprises a colored layer of three primary colors forming a pixel and a transparent conductive film at a position corresponding to the opening of the liquid crystal display device, a black matrix or a frame as necessary,
It is a substrate having a transparent protective film.

【0088】画素を構成する着色層は一般に有機膜から
なり、樹脂成分としてはポリイミド系樹脂、アクリル系
樹脂、エポキシ系樹脂などが好適に用いられる。これら
の樹脂に顔料や染料といった着色剤を用いて画素を構成
する。顔料や染料は3原色を表すために適当なものを組
み合わせて使用することができる。使用できる色素とし
ては、赤、橙、黄、緑、青、紫などの顔料や染料が挙げ
られる。
The colored layer forming the pixel is generally made of an organic film, and polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin or the like is preferably used as the resin component. Pixels are formed by using colorants such as pigments and dyes in these resins. The pigments and dyes can be used in combination as appropriate for expressing the three primary colors. Examples of pigments that can be used include pigments and dyes such as red, orange, yellow, green, blue and purple.

【0089】画素を形成する着色層は、3原色の、赤
(R)、緑(G)、青(B)が選ばれる。一般には、こ
れらの3原色を含んだ要素を1単位としてカラー表示の
絵素とすることができる。着色層には、着色剤により着
色された樹脂が用いられる。
The three primary colors of red (R), green (G) and blue (B) are selected for the colored layer forming the pixel. In general, an element including these three primary colors can be regarded as a unit to form a color display picture element. A resin colored with a colorant is used for the colored layer.

【0090】着色層に用いられる着色剤としては、有機
顔料、無機顔料、染料等を好適に用いることができ、さ
らには、紫外線吸収剤、分散剤などの種々の添加剤を添
加してもよい。分散剤としては界面活性剤、顔料の中間
体、染料の中間体、高分子分散剤などの広範囲のものが
使用される。また、塗布性やレベリング性向上のために
種々の添加剤を加えても良い。
As the colorant used in the colored layer, organic pigments, inorganic pigments, dyes and the like can be preferably used, and various additives such as an ultraviolet absorber and a dispersant may be added. . A wide variety of dispersants such as surfactants, pigment intermediates, dye intermediates, and polymeric dispersants are used. Further, various additives may be added in order to improve coating properties and leveling properties.

【0091】顔料の具体的な例としては、 ピグメントレッド(PR−)2、3、9、22、38、
81、97、122、123、144、146、14
9、166、168、169、177、179、18
0、190、192、206、207、209、21
5、216、224、242、254、266、 ピグメントグリーン(PG−)7、10、36、37、
38、47、 ピグメントブルー(PB−)15(15:1、15:
2、15:3、15:4、15:6)、16、17、2
1、22、60、64、 ピグメントイエロー(PY−)12、13、14、1
7、20、24、83、86、93、94、95、10
9、110、117、125、129、137、13
8、139、147、148、150、153、15
4、155、166、173、180、185、 ピグメントバイオレット(PV−)19、23、29、
30、32、33、36、37、38、40、50、 ピグメントオレンジ(PO−)5、13、17、31、
36、38、40、42、43、51、55、59、6
1、64、65、71、 などが挙げられる。これらの顔料は1種類のみで使用し
ても良く、2種類以上で組み合わせて使用しても良い。
Specific examples of the pigment include Pigment Red (PR-) 2, 3, 9, 22, 38,
81, 97, 122, 123, 144, 146, 14
9, 166, 168, 169, 177, 179, 18
0, 190, 192, 206, 207, 209, 21
5, 216, 224, 242, 254, 266, Pigment Green (PG-) 7, 10, 36, 37,
38, 47, Pigment Blue (PB-) 15 (15: 1, 15:
2, 15: 3, 15: 4, 15: 6), 16, 17, 2
1, 22, 60, 64, Pigment Yellow (PY-) 12, 13, 14, 1
7, 20, 24, 83, 86, 93, 94, 95, 10
9, 110, 117, 125, 129, 137, 13
8, 139, 147, 148, 150, 153, 15
4, 155, 166, 173, 180, 185, Pigment Violet (PV-) 19, 23, 29,
30, 32, 33, 36, 37, 38, 40, 50, Pigment Orange (PO-) 5, 13, 17, 31,
36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 6
1, 64, 65, 71, and the like. These pigments may be used alone or in combination of two or more.

【0092】上記顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸
性基処理、塩基性処理、顔料誘導体処理などの表面処理
がされてもよい。なお、PR(ピグメントレッド)、P
G(ピグメントグリーン)、PB(ピグメントブルー)
等は、カラーインデックス(C.I.;The Society of
Dyers and Colourrists社発行)の記号であり、正式に
は頭にC.I.を付するもの(例えば、C.I.PR2
54など)である。これは染料や染色の標準を規定した
ものであり、それぞれの記号は特定の標準となる染料と
その色を指定するものでもある。なお、以下の本発明の
説明においては前記C.I.の表記は省略(例えば、
C.I.PR254ならば、PR254)する。
The above-mentioned pigment may be subjected to surface treatment such as rosin treatment, acidic group treatment, basic treatment and pigment derivative treatment, if necessary. In addition, PR (Pigment Red), P
G (Pigment Green), PB (Pigment Blue)
Are color indexes (C.I .; The Society of
Dyers and Colorrists Inc.), the official form is C. I. With a suffix (for example, CIPR2
54). It defines dyes and dyeing standards, and each symbol also designates a specific standard dye and its color. In the following description of the present invention, the above C. I. Is omitted (for example,
C. I. If it is PR254, PR254) is performed.

【0093】また、透明電極は、通常、インジウム・錫
酸化物(ITO)、酸化亜鉛、酸化スズなど、およびそ
の合金が使用されるが、これらを鑑みるとなかでもIT
Oが好ましい。透明電極は、液晶を駆動させるために必
要なものであるが、横電界駆動の表示方式(IPSモー
ド)の液晶表示装置では、駆動用の透明電極はカラーフ
ィルターの配向膜に接する面の側には必要でないため、
透明電極を設けないカラーフィルターが使用される。透
明電極は、ディッピング法、化学気相成長、真空蒸着
法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの
方法を経て作製されるが、均一性の高い電極を得るため
には、スパッタリング法が好ましい。なかでも高い成膜
レートが得られるDCマグネトロンスパッタがさらに好
ましいが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The transparent electrode is usually made of indium tin oxide (ITO), zinc oxide, tin oxide, or the alloy thereof, and in view of these, IT
O is preferred. The transparent electrode is necessary for driving the liquid crystal, but in a liquid crystal display device of a horizontal electric field driving display system (IPS mode), the transparent electrode for driving is on the side of the surface in contact with the alignment film of the color filter. Is not necessary,
Color filters without transparent electrodes are used. The transparent electrode is produced by a method such as a dipping method, a chemical vapor deposition method, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method and an ion plating method, but the sputtering method is preferable in order to obtain an electrode with high uniformity. Of these, DC magnetron sputtering is more preferable because a high film formation rate can be obtained, but the present invention is not limited thereto.

【0094】透明導電膜と着色層の間には透明保護膜を
設けてもよい。
A transparent protective film may be provided between the transparent conductive film and the colored layer.

【0095】透明保護膜としては、エポキシ系樹脂、ア
クリル系樹脂、ポリイミド系樹脂を適宜用いることがで
きる。透明保護膜の屈折率は透光性の対向電極と異なっ
ていれば、特に限定されるものではない。
As the transparent protective film, an epoxy resin, an acrylic resin or a polyimide resin can be appropriately used. The refractive index of the transparent protective film is not particularly limited as long as it is different from that of the transparent counter electrode.

【0096】垂直配向モードの液晶表示装置では、必要
に応じてカラーフィルター基板上に配向分割用突起を形
成する場合がある。配向分割用突起はITOを形成した
後に樹脂膜を用いてパターニングすることが好ましい。
ITOを形成した後に配向分割用突起を形成し、続いて
配向膜を形成するのが好ましい。
In a vertical alignment mode liquid crystal display device, projections for alignment division may be formed on the color filter substrate as occasion demands. It is preferable that the alignment division projections are patterned by using a resin film after forming ITO.
It is preferable to form the projections for alignment division after forming ITO, and then to form the alignment film.

【0097】液晶表示装置の液晶層の厚み(セルギャッ
プ)は、スペーサーを用いて保持される。スペーサ、球
形のポリマビーズを基板間に分散して基板間隔を保持す
る方法を用いても良いし、液晶表示装置を構成する少な
くとも一方の液晶表示装置用基板上にフォトリソグラフ
ィなどを用いて柱状物を形成することで基板を基板間間
隔を保持する方法を用いても良い。配向膜の形成は、柱
状物を形成した後に行っても良いし、柱状物を形成する
前に行っても良い。
The thickness (cell gap) of the liquid crystal layer of the liquid crystal display device is maintained by using a spacer. Spacers or spherical polymer beads may be dispersed between the substrates to maintain the substrate spacing, or columns may be formed on at least one of the substrates for the liquid crystal display device using photolithography or the like. A method of holding the gap between the substrates by forming them may be used. The alignment film may be formed after the columnar material is formed or before the columnar material is formed.

【0098】アクティブ素子を備えた基板の具体例とし
て、薄膜トランジスタ素子を備えた基板の製造方法の一
例を以下に示す。
As a specific example of a substrate having an active element, an example of a method of manufacturing a substrate having a thin film transistor element will be shown below.

【0099】無アルカリガラス基板上にスパッタリング
によりクロム薄膜を形成し、フォトリソグラフィーにて
ゲート電極をパターニングする。次に、プラズマCVD
により、絶縁膜として窒化珪素膜、アモルファスシリコ
ン膜およびエッチングストッパとして窒化珪素膜を連続
形成する。次に、フォトリソグラフィーにてエッチング
ストッパの窒化珪素膜をパターニングする。TFT端子
が金属電極とオーミックコンタクトをとるためのn+ア
モルファスシリコン膜の成膜とパターニングをした。こ
のとき同時にチャンネル層のアモルファスシリコン膜も
パターニングした。さらに、表示電極となるITO膜を
成膜しパターニングする。さらに配線材料としてアルミ
ニウムをスパッタリングにより膜付けし、フォトリソグ
ラフィーにて信号配線およびTFTの金属電極を作製す
る。ドレイン電極とソース電極をマスクとしてチャンネ
ル部のn+アモルファスシリコン膜をエッチング除去
し、TFT素子備えた電極基板を得る。反射型の液晶表
示素子の場合は、表示電極をアルミニウムや銀などの反
射率の高い材料とする。
A chromium thin film is formed on an alkali-free glass substrate by sputtering, and the gate electrode is patterned by photolithography. Next, plasma CVD
Thus, a silicon nitride film, an amorphous silicon film as an insulating film and a silicon nitride film as an etching stopper are continuously formed. Next, the silicon nitride film of the etching stopper is patterned by photolithography. An n + amorphous silicon film was formed and patterned so that the TFT terminal could make ohmic contact with the metal electrode. At this time, the amorphous silicon film of the channel layer was also patterned at the same time. Further, an ITO film to be a display electrode is formed and patterned. Further, aluminum is deposited as a wiring material by sputtering, and a signal wiring and a metal electrode of the TFT are manufactured by photolithography. Using the drain electrode and the source electrode as a mask, the n + amorphous silicon film in the channel portion is removed by etching to obtain an electrode substrate having a TFT element. In the case of a reflective liquid crystal display element, the display electrode is made of a material having high reflectance such as aluminum or silver.

【0100】次に液晶表示装置について説明する。着色
層とブラックマトリックス層を形成した液晶表示装置用
基板(カラーフィルタ)と対向する液晶表示装置用基板
とを貼り合わせて作製する。カラーフィルターと対向す
る液晶表示装置用基板上には、補助容量、画素電極以外
に、薄膜トランジスタ(TFT)素子やおよびゲート電
極、信号線などを設ける。一対の液晶表示装置用基板上
には配向膜が設けられ、ラビングなどによる配向処理が
施される。配向処理後にシール剤を用いてカラーフィル
タおよび対向基板を貼り合わせ、シール部に設けられた
注入口から液晶を注入した後に、注入口を封止する。偏
光板を基板の外側に貼り合わせ後にICドライバーなど
を実装することにより液晶表示装置が完成する。
Next, the liquid crystal display device will be described. A substrate for a liquid crystal display device (color filter) on which a colored layer and a black matrix layer are formed and a substrate for a liquid crystal display device facing each other are attached to each other. In addition to the auxiliary capacitance and the pixel electrode, a thin film transistor (TFT) element, a gate electrode, a signal line, and the like are provided on the substrate for the liquid crystal display device facing the color filter. An alignment film is provided on the pair of substrates for a liquid crystal display device, and an alignment process such as rubbing is performed. After the alignment treatment, the color filter and the counter substrate are attached to each other using a sealant, and liquid crystal is injected through the injection port provided in the seal portion, and then the injection port is sealed. The liquid crystal display device is completed by attaching the polarizing plate to the outside of the substrate and then mounting an IC driver or the like.

【0101】本発明の液晶表示装置は、ノートPC、モ
ニター、TV、プロジェクター用のライトバルブや小型
のビューファインダー、携帯電話、携帯情報端末などに
用いられる。
The liquid crystal display device of the present invention is used for light valves for notebook PCs, monitors, TVs, projectors, small viewfinders, mobile phones, personal digital assistants, and the like.

【0102】[0102]

【実施例】以下、実施例によって本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

【0103】実施例1 横電界(IPS)方式の液晶表示装置において実施し
た。 [液晶表示装置の作製]基板として厚みが0.7mmで表
面を研磨した透明なガラス基板(2)を2枚用いる。 (アクティブ素子および画素電極を有する基板の作製)
2枚のガラス基板のうち一方の基板の上に薄膜トランジ
スタ、画素電極(5)等を形成しアクティブ駆動用の液
晶表示装置用基板とした。本TFTアレイの構造は横電
界(IPS)方式の構造をしており、スリット状のコモ
ン電極(共通電極とも呼ぶ)(12)と画素電極(5)
を開口部領域に形成している。この電極を用いてコモン
電極−画素電極間でガラス基板に対し平行に電圧をかけ
ることができる。 (カラーフィルター基板の作製)アクティブ駆動用の液
晶表示装置用基板と対向する基板上には、カラーフィル
タを形成した。 <樹脂ブラックマトリクスの作成>温度計、乾燥窒素導
入口、温水・冷却水による加熱・冷却装置、および、攪
拌装置を付した20Lの反応釜に、γ−ブチロラクトン
16644.1g、4,4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル 600.7g、3,3’−ジアミノジフェニル
スルホン 670.2g、ビス−3−(アミノプロピ
ル)テトラメチルシロキサン 74.6gを投入し、釜
を30℃に加熱した。30分後、3,3’,4,4’−
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物 644.4
g、ピロメリット酸二無水物 641.3g、3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
294.2gを投入し、釜を58℃に加熱した。3時
間後、無水マレイン酸 11.8gを添加し、58℃で
さらに1時間加熱することにより、ポリアミック酸のN
MP溶液(B1)を得た。
Example 1 A liquid crystal display device of the in-plane switching (IPS) system was used. [Production of Liquid Crystal Display Device] Two transparent glass substrates (2) having a thickness of 0.7 mm and having a polished surface are used as substrates. (Preparation of substrate having active element and pixel electrode)
A thin film transistor, a pixel electrode (5) and the like were formed on one of the two glass substrates to obtain a liquid crystal display device substrate for active driving. The structure of this TFT array is a lateral electric field (IPS) type structure, and includes a slit-shaped common electrode (also referred to as a common electrode) (12) and a pixel electrode (5).
Are formed in the opening region. By using this electrode, a voltage can be applied in parallel to the glass substrate between the common electrode and the pixel electrode. (Production of Color Filter Substrate) A color filter was formed on the substrate facing the active driving liquid crystal display substrate. <Preparation of resin black matrix> γ-butyrolactone 16644.1 g, 4,4′-in a 20 L reaction kettle equipped with a thermometer, a dry nitrogen inlet, a heating / cooling device with hot / cooling water, and a stirrer. 600.7 g of diaminodiphenyl ether, 670.2 g of 3,3′-diaminodiphenylsulfone, and 74.6 g of bis-3- (aminopropyl) tetramethylsiloxane were added, and the kettle was heated to 30 ° C. After 30 minutes, 3,3 ', 4,4'-
Benzophenone tetracarboxylic dianhydride 644.4
g, pyromellitic dianhydride 641.3 g, 3,
294.2 g of 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride was added and the kettle was heated to 58 ° C. After 3 hours, 11.8 g of maleic anhydride was added, and the mixture was heated at 58 ° C. for another hour to give N of polyamic acid.
An MP solution (B1) was obtained.

【0104】カーボンブラック 4.6g、ポリアミッ
ク酸溶液(B1) 24.0g、N−メチルピロリドン
61.4gをガラスビーズ 90gとともにホモジナ
イザーを用い、7000rpmで30分間分散処理後、
ガラスビーズを濾過により除去し、カーボンブラックミ
ルベースを得た。
Carbon black (4.6 g), polyamic acid solution (B1) (24.0 g) and N-methylpyrrolidone (61.4 g) were dispersed together with glass beads (90 g) using a homogenizer at 7,000 rpm for 30 minutes, and then dispersed.
The glass beads were removed by filtration to obtain a carbon black mill base.

【0105】また、ピグメントブルー15:6 2.2
g、ポリアミック酸溶液(A1)24.0g、N−メチ
ルピロリドン 63.8gをガラスビーズ 90gとと
もにホモジナイザーを用い、7000rpmで30分間
分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、青顔料
ミルベースを得た。
Pigment Blue 15: 6 2.2
g, polyamic acid solution (A1) 24.0 g, N-methylpyrrolidone 63.8 g together with glass beads 90 g using a homogenizer, after the dispersion treatment at 7,000 rpm for 30 minutes, the glass beads were removed by filtration to obtain a blue pigment mill base. .

【0106】得られた両ミルベースを全量混合すること
により、樹脂ブラックマトリクス用ペーストを得た。
By mixing all the obtained mill bases, a resin black matrix paste was obtained.

【0107】樹脂ブラックマトリクス用ぺーストをガラ
ス基板上にスピンコートし、50℃で10分間、90℃
で10分間、110℃で20分間オーブンを用いて空気
中で加熱乾燥して、膜厚1.1μmのポリイミド前駆体
着色膜を得た。この膜上にポジ型フォトレジスト(東京
応化社製OFPR−800)を塗布し、80℃で20分
間加熱乾燥して膜厚1μmのレジスト膜を得た。キャノ
ン社製紫外線露光機PLA−501Fを用い、クロム製
のフォトマスクを介して、波長365nmでの強度が5
0mJ/cm2 の紫外線を照射した。露光後、テトラメ
チルアンモニウムハイドロオキサイドの2.38wt%
の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォトレジストおよ
びポリイミド前駆体着色被膜の現像を同時に行った。エ
ッチング後、不要となったフォトレジスト層をメチルセ
ロソルブアセテートで剥離した。さらにこのようにして
得られたポリイミド前駆体着色被膜を窒素雰囲気中で3
00℃で30分間熱処理し、格子状の画素部とそれらを
囲む額縁部からなる膜厚0.9μmのポリイミド着色パ
ターン被膜を得た。 <着色層および透明保護膜の形成>赤、緑、青の顔料と
して、それぞれ、ピグメントレッド177、ピグメント
グリーン36、ピグメントブルー15:6を用意し、ポ
リアミック酸溶液(P1)と混合分散し、赤、青、緑の
3種類の着色ペーストを得た。
A resin black matrix paste was spin-coated on a glass substrate and heated at 50 ° C. for 10 minutes at 90 ° C.
10 minutes at 110 ° C. for 20 minutes in an oven using an oven, and dried in air to obtain a polyimide precursor colored film having a thickness of 1.1 μm. A positive photoresist (OFPR-800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was applied on this film and dried by heating at 80 ° C. for 20 minutes to obtain a resist film having a film thickness of 1 μm. Using a UV exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc., the intensity at a wavelength of 365 nm is 5 through a photomask made of chromium.
It was irradiated with ultraviolet rays of 0 mJ / cm 2 . 2.38 wt% of tetramethylammonium hydroxide after exposure
The photoresist and the polyimide precursor colored coating film were developed at the same time by immersing in a developing solution consisting of the above aqueous solution. After etching, the unnecessary photoresist layer was peeled off with methyl cellosolve acetate. Further, the polyimide precursor colored film thus obtained was applied in a nitrogen atmosphere for 3 hours.
A heat treatment was carried out at 00 ° C. for 30 minutes to obtain a polyimide colored pattern coating film having a film thickness of 0.9 μm, which was composed of lattice-shaped pixel portions and a frame portion surrounding them. <Formation of Colored Layer and Transparent Protective Film> Pigment Red 177, Pigment Green 36, and Pigment Blue 15: 6 are prepared as red, green, and blue pigments, respectively, and mixed and dispersed with a polyamic acid solution (P1) to obtain red. Three kinds of colored pastes of blue, green and green were obtained.

【0108】得られた赤ペーストを樹脂ブラックマトリ
クス基板上にスピンコートし、50℃で10分間、90
℃で10分間、110℃で20分間オーブンを用いて空
気中で加熱乾燥して、膜厚1.2μmのポリイミド前駆
体着色膜を得た。この膜上にポジ型フォトレジスト(東
京応化社製OFPR−800)を塗布し、80℃で20
分間加熱乾燥して、膜厚1.1μmのレジスト膜を得
た。キャノン社製紫外線露光機PLA−501Fを用
い、クロム製のフォトマスクを介して、波長365nm
での強度が50mJ/cm2の紫外線を照射した。露光
後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの
2.38wt%の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォ
トレジストおよびポリイミド前駆体着色被膜の現像を同
時に行った。エッチング後、不要となったフォトレジス
ト層をメチルセロソルブアセテートで剥離した。さら
に、このようにして得られたポリイミド前駆体着色被膜
を窒素雰囲気中で300℃で30分間熱処理し、膜厚
1.0μmのポリイミド赤色パターン被膜を得た。
The obtained red paste was spin-coated on a resin black matrix substrate, and the mixture was heated at 50 ° C. for 10 minutes for 90 minutes.
The polyimide precursor colored film having a thickness of 1.2 μm was obtained by heating and drying in air using an oven at 10 ° C. for 10 minutes and 110 ° C. for 20 minutes. A positive photoresist (OFPR-800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is applied onto this film, and the photoresist is applied at 80 ° C. for 20 minutes.
After heating and drying for 1 minute, a resist film having a film thickness of 1.1 μm was obtained. Using a UV exposure machine PLA-501F manufactured by Canon Inc., a wavelength of 365 nm through a chrome photomask.
UV light having an intensity of 50 mJ / cm 2 was irradiated. After the exposure, the photoresist and the colored film of the polyimide precursor were developed at the same time by immersing in a developing solution composed of a 2.38 wt% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide. After etching, the unnecessary photoresist layer was peeled off with methyl cellosolve acetate. Further, the polyimide precursor colored film thus obtained was heat-treated at 300 ° C. for 30 minutes in a nitrogen atmosphere to obtain a polyimide red pattern film having a film thickness of 1.0 μm.

【0109】その後、同様にして、緑ペースト、青ペー
ストのパターンを形成し、赤、緑、青の3原色を有する
カラーフィルターを得た。
Thereafter, in the same manner, patterns of green paste and blue paste were formed to obtain a color filter having three primary colors of red, green and blue.

【0110】得られたカラーフィルターにアクリル系樹
脂溶液をスピンコートし、100℃で5分、260℃で
30分加熱することにより、厚さ1.0μmのカラーフ
ィルター用透明保護膜としカラーフィルターを得た。透
明保護膜上に透明導電膜は形成しなかった。 (配向処理・液晶表示装置作成)カラーフィルター基板
およびアクティブ駆動用の液晶表示装置用基板の上の最
表面に配向膜(6,13)を印刷し、乾燥し、焼成し
た。
The resulting color filter was spin-coated with an acrylic resin solution and heated at 100 ° C. for 5 minutes and at 260 ° C. for 30 minutes to form a color filter transparent protective film having a thickness of 1.0 μm. Obtained. No transparent conductive film was formed on the transparent protective film. (Alignment Treatment / Creation of Liquid Crystal Display Device) An alignment film (6, 13) was printed on the outermost surface of the color filter substrate and the liquid crystal display device substrate for active drive, dried and baked.

【0111】本実施例では配向膜の樹脂成分として2,
2−ビス[4−(p−アミノフェノキノン)フェニルプ
ロパン]とピロメリット酸2無水物を主成分とするポリ
イミドを採用した。
In this embodiment, the resin component of the alignment film is 2,
A polyimide containing 2-bis [4- (p-aminophenoquinone) phenylpropane] and pyromellitic dianhydride as main components was adopted.

【0112】該ポリイミドに必要に応じて金属粒子の酸
化インジウム錫の種類、濃度を変えて、配向膜の抵抗値
を変えた。配向膜に添加した酸化インジウム錫の粒径は
5〜20nmのものを選択した。添加した金属粒子には
必要に応じて表面処理を施した。各配向膜を液晶表示装
置用基板上に印刷、その後を液晶を配向させるためのラ
ビング処理を配向膜に施した。
The resistance value of the alignment film was changed by changing the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles in the polyimide as needed. The particle size of the indium tin oxide added to the alignment film was selected to be 5 to 20 nm. The added metal particles were surface-treated as required. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device, and then a rubbing treatment for aligning the liquid crystal was applied to the alignment film.

【0113】液晶(7)は市販されているフッ素系のネ
マチック液晶などを用いた。
As the liquid crystal (7), commercially available fluorine nematic liquid crystal or the like was used.

【0114】上下界面上のラビング方向は互いにほぼ平
行で、かつ印加電界方向とのなす角度を75°とした。
これらの基板間に誘電率異方性Δεが正でその値が7.
1であるネマチック液晶組成物を挟んだ。
The rubbing directions on the upper and lower interfaces were substantially parallel to each other, and the angle with the direction of the applied electric field was 75 °.
Dielectric anisotropy Δε is positive between these substrates and its value is 7.
The nematic liquid crystal composition of No. 1 was sandwiched.

【0115】セルギャップは球形のポリマビーズ(8)
を基板間に分散して挾持し、液晶封入状態で4.0μm
とした。2枚の偏光板〔日東電工社製G1220DU〕
(1)でパネルを挾み、一方の偏光板の偏光透過軸をラ
ビング方向に設定し、他方をそれに直交、即ち印加電界
方向とのなす角度15°とした。本実施例では低電圧
(電圧オフ)で暗状態、高電圧(電圧オン)で明状態を
とるノーマリブラック特性を採用した。
Cell gap has spherical polymer beads (8)
Dispersed between the substrates and sandwiched between them, 4.0 μm
And Two polarizing plates [G1220DU manufactured by Nitto Denko Corporation]
In (1), the panel was sandwiched, the polarization transmission axis of one of the polarizing plates was set in the rubbing direction, and the other was set at a right angle, that is, an angle of 15 ° with the direction of the applied electric field. In this embodiment, a normally black characteristic is adopted in which a dark state is obtained at a low voltage (voltage off) and a bright state is obtained at a high voltage (voltage on).

【0116】液晶の体積抵抗は7.00×1014Ω・c
mであった。このようにして図1に示すようなアクティ
ブ駆動型液晶表示装置を得た。 [焼き付き官能評価]得られた液晶表示装置を用いて焼き
付きの官能評価をおこなった。各水準の液晶表示装置を
それぞれ10台用意し、10人の観察者が交互に表示を
みて採点する方式をとった。焼き付きなしを1点、焼き
付きの程度が悪くなるにつれ点を高くし、酷い焼き付き
を5点とした。10人の観察者の平均点を各水準の焼き
付きを表す点数とした。平均点3点以上が製品としての
OKレベルの焼き付きである。すなわち、表示品位焼き
付きレベルが、1点〜3点の間ならば製品としてOKレ
ベルである。 焼き付きは画面に白黒チェッカーフラッ
グを連続1時間表示した後、中間調表示に変更し、焼き
付きを上記方法で採点した。
The volume resistance of the liquid crystal is 7.00 × 10 14 Ω · c.
It was m. Thus, the active drive type liquid crystal display device as shown in FIG. 1 was obtained. [Sensory evaluation of image sticking] A sensory evaluation of image sticking was performed using the obtained liquid crystal display device. Ten liquid crystal display devices of each level were prepared, and ten observers alternately observed the display and scored. No seizure was scored as 1 point, and as the degree of seizure became worse, the score was increased, and severe seizure was scored as 5 points. The average score of 10 observers was used as the score representing each level of burn-in. The average score of 3 or more is the seizure of OK level as a product. That is, if the display quality burn-in level is between 1 and 3 points, the product is an OK level. After the black and white checkered flag was continuously displayed on the screen for 1 hour, the image sticking was changed to halftone display and the image sticking was scored by the above method.

【0117】採点した結果を表1に示す。ここで表中の
例えば1.50E+15とは、1.50×1015Ω・c
mの意である。液晶の体積抵抗値をRlc、アクティブ素
子および画素電極を有している基板上の配向膜の体積抵
抗値をRal1、対向する基板上の配向膜の体積抵抗値を
Ral2としたとき、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満
たす水準2〜水準10において焼き付きがOKレベルで
あった。なかでも水準3〜水準10が表示品位が良好で
あった。
The scored results are shown in Table 1. Here, for example, 1.50E + 15 means 1.50 × 10 15 Ω · c.
It means m. When the volume resistance value of the liquid crystal is Rlc, the volume resistance value of the alignment film on the substrate having the active element and the pixel electrode is Ral1, and the volume resistance value of the alignment film on the opposing substrate is Ral2, 0.98 In the level 2 to the level 10 where xRlc ≧ Ral1 ≧ Ral2 was satisfied, the image sticking was OK. Among them, Level 3 to Level 10 had good display quality.

【0118】[0118]

【表1】 [Table 1]

【0119】実施例2 実施例1と同様にIPS方式の液晶表示装置を作製し
た。ただし、使用する液晶をシアノ系液晶を含む混合液
晶を用いた。液晶の抵抗値を測定したところ5.00×
1013Ω・cmであった。採点した結果を表2に示す。
0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準13〜水準
21において焼き付きがOKレベルであった。なかでも
水準14〜水準21が表示品位が良好であった。
Example 2 Similar to Example 1, an IPS type liquid crystal display device was produced. However, the liquid crystal used was a mixed liquid crystal containing a cyano liquid crystal. When the resistance value of the liquid crystal was measured, it was 5.00 ×
It was 10 13 Ω · cm. The results of scoring are shown in Table 2.
The seizure was OK level 13 to 21 satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality of Level 14 to Level 21 was good.

【0120】[0120]

【表2】 [Table 2]

【0121】実施例3 実施例1と2と同様にIPS方式の液晶表示装置を作製
した。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、カドニ
ウムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸化亜
鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に分散さ
せ、それぞれ抵抗値を表1、2の抵抗値に一致するよう
に調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は5〜2
0nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて表
面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評
価結果は表1、表2の結果に一致し、0.98×Rlc≧
Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベルであ
った。
Example 3 Similar to Examples 1 and 2, an IPS type liquid crystal display device was produced. Indium oxide, tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide, zinc oxide, and mixtures thereof were dispersed in the alignment film as metal particles, and the respective resistance values correspond to the resistance values shown in Tables 1 and 2. Was prepared as follows. The particle size of the metal particles added to the alignment film is 5 to 2
The one with 0 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. The results of the sensory evaluation of burn-in at each resistance value agree with the results of Table 1 and Table 2, and 0.98 × Rlc ≧
The display quality was OK level when Ral1 ≧ Ral2 was satisfied.

【0122】実施例4 実施例1と2と同様にIPS方式の液晶表示装置を作製
した。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシドを含む
ものを用いた。金属アルコキシドとしては、In(OC
H(CH323、Sn(OCH(CH324、Zn
(OCH(CH322、Cd(OCH(CH322
In(OCH2CH2CH2CH33、Sn(OCH2CH
2CH2CH34、Zn(OCH2CH2CH2CH32
Cd(OCH2CH2CH2CH32、In(OC
253、Sn(OC254、Zn(OC252、C
d(OC252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持つも
のを用い、それぞれ抵抗値を表1、表2の抵抗値に一致
するように調合した。それぞれの抵抗値での焼き付き官
能評価結果は表1、表2の結果に一致し、0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベル
であった。
Example 4 Similar to Examples 1 and 2, an IPS type liquid crystal display device was produced. However, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. As the metal alkoxide, In (OC
H (CH 3 ) 2 ) 3 , Sn (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 , Zn
(OCH (CH 3 ) 2 ) 2 , Cd (OCH (CH 3 ) 2 ) 2 ,
In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 3 , Sn (OCH 2 CH
2 CH 2 CH 3) 4, Zn (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 2,
Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 2 , In (OC
2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn (OC 2 H 5 ) 2 , C
Those having d (OC 2 H 5 ) 2 in the resin composition of the alignment film were used, and the resistance values were respectively adjusted so as to match the resistance values in Tables 1 and 2. The results of the sensory evaluation of burn-in at each resistance value agree with the results of Tables 1 and 2, and are 0.98 × R.
The display quality was an OK level at a level satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0123】実施例5 実施例1〜4のカラーフィルターの作製において、透明
保護膜の形成後、感光性アクリル樹脂を用いて該基板上
に高さが4μm、面積100μmの柱状物(14)を周
期的に形成し、セルギャップ保持用のスペーサとした。
さらにその上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥し、焼成
した。張り合わせの際には球形のポリマビーズを用いな
かった。実施例1〜4と同様に図2に示すようなIPS
方式の液晶表示装置を作成し、焼き付き官能評価を行っ
た。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表1、表
2の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満
たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 5 In the production of the color filters of Examples 1 to 4, after forming a transparent protective film, a columnar article (14) having a height of 4 μm and an area of 100 μm was formed on the substrate using a photosensitive acrylic resin. The spacers were formed periodically to serve as spacers for maintaining the cell gap.
Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination. The IPS as shown in FIG. 2 as in the first to fourth embodiments.
A liquid crystal display device of the type was prepared, and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluation at each resistance value was in agreement with the results of Table 1 and Table 2, and the display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0124】実施例6 ツイステッドネマチック(TN)方式の液晶表示装置に
おいて実施した。 [液晶表示装置の作製]基板として厚みが0.7mmの透
明なガラス基板(2)を2枚用いる。 (アクティブ素子および画素電極を有する基板の作製)
2枚のガラス基板のうち一方の基板の上に薄膜トランジ
スタ、画素電極(5)等を形成しアクティブ駆動用の液
晶表示装置用基板とした。本TFTアレイの構造はTN
方式の構造をしており、カラーフィルター側のコモン電
極を用いることでガラス基板に対し垂直に電圧をかける
ことができる。 (カラーフィルター基板の作製)実施例1と同様に作製
した。ただし、透明保護膜(11)を形成した後、スパ
ッタリング法により透明導電膜としてITO膜(15)
を形成した。カラーフィルター上のITO膜がコモン電
極としての役割をになう。 (配向処理・液晶表示装置作成)カラーフィルター基板
およびアクティブ駆動用の液晶表示装置用基板の上の最
表面に配向膜(6,13)を印刷し、乾燥し、焼成し
た。
Example 6 A liquid crystal display device of the twisted nematic (TN) system was used. [Production of Liquid Crystal Display Device] Two transparent glass substrates (2) having a thickness of 0.7 mm are used as substrates. (Preparation of substrate having active element and pixel electrode)
A thin film transistor, a pixel electrode (5) and the like were formed on one of the two glass substrates to obtain a liquid crystal display device substrate for active driving. The structure of this TFT array is TN
It has a system structure, and by using the common electrode on the color filter side, a voltage can be applied vertically to the glass substrate. (Production of Color Filter Substrate) The color filter substrate was produced in the same manner as in Example 1. However, after forming the transparent protective film (11), an ITO film (15) is formed as a transparent conductive film by a sputtering method.
Was formed. The ITO film on the color filter serves as a common electrode. (Alignment Treatment / Creation of Liquid Crystal Display Device) An alignment film (6, 13) was printed on the outermost surface of the color filter substrate and the liquid crystal display device substrate for active drive, dried and baked.

【0125】本実施例では配向膜の樹脂成分としてポリ
イミド系配向膜を採用した。
In this embodiment, a polyimide type alignment film is used as the resin component of the alignment film.

【0126】該配向膜に必要に応じて金属粒子の酸化イ
ンジウム錫の種類、濃度を変えて、配向膜の抵抗値を変
えた。配向膜に添加した酸化インジウム錫の粒径は5〜
20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて
表面処理を施した。各配向膜を液晶表示装置用基板上に
印刷、その後を液晶を配向させるためのラビング処理を
配向膜に施した。
The resistance value of the alignment film was changed by changing the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles in the alignment film as needed. The grain size of indium tin oxide added to the alignment film is 5 to
20 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device, and then a rubbing treatment for aligning the liquid crystal was applied to the alignment film.

【0127】液晶(7)は市販されているネマチック液
晶などを用いた。
As the liquid crystal (7), a commercially available nematic liquid crystal or the like was used.

【0128】上下界面上のラビング方向は互いにほぼ垂
直で、かつ印加電界方向とのなす角度を平行となる。こ
れらの基板間に誘電率異方性Δεが正のネマチック液晶
組成物を挟んだ。
The rubbing directions on the upper and lower interfaces are substantially perpendicular to each other, and the angle with the direction of the applied electric field is parallel. A nematic liquid crystal composition having a positive dielectric anisotropy Δε was sandwiched between these substrates.

【0129】セルギャップは球形のポリマビーズ(8)
を基板間に分散して挾持し、液晶封入状態で4.5μm
とした。2枚の偏光板(1)〔日東電工社製G1220
DU〕でパネルを挾み、一方の偏光板の偏光透過軸をラ
ビング方向に設定し、他方をそれに直交とした。本実施
例では低電圧(電圧オフ)で明状態、高電圧(電圧オ
ン)で暗状態をとるノーマリホワイト特性を採用した。
Cell gap is spherical polymer beads (8)
4.5 μm with the liquid crystal enclosed in a liquid crystal
And Two polarizing plates (1) [G1220 manufactured by Nitto Denko Corporation]
DU] to sandwich the panel, and set the polarization transmission axis of one of the polarizing plates in the rubbing direction and the other at right angles. In this embodiment, a normally white characteristic is adopted in which a bright state is obtained at a low voltage (voltage off) and a dark state is obtained at a high voltage (voltage on).

【0130】液晶の体積抵抗は3.42×1014Ω・c
mであった。このようにしてアクティブ駆動型液晶表示
装置を得た。 [焼き付き官能評価]焼き付きの官能評価は実施例1と同
様におこなった。
The volume resistance of the liquid crystal is 3.42 × 10 14 Ω · c.
It was m. Thus, an active drive type liquid crystal display device was obtained. [Sensory evaluation of image sticking] The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0131】採点した結果を表3に示す。0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準23〜水準31において
焼き付きがOKレベルであった。なかでも水準24〜水
準31が表示品位が良好であった。
The scored results are shown in Table 3. 0.98 x R
The seizure was OK level in the levels 23 to 31 satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality of Level 24 to Level 31 was good.

【0132】[0132]

【表3】 [Table 3]

【0133】実施例7 実施例6と同様にTN方式の液晶表示装置を作製した。
但し使用する液晶を変更した。また配向膜も変更した。
液晶の抵抗値を測定したところ、5.12×1013Ω・
cmであった。採点した結果を表4に示す。0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準34〜水準42におい
て焼き付きがOKレベルであった。なかでも水準35〜
水準42が表示品位が良好であった。
Example 7 A TN type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 6.
However, the liquid crystal used was changed. The alignment film was also changed.
When the resistance value of the liquid crystal was measured, it was 5.12 × 10 13 Ω.
It was cm. The scored results are shown in Table 4. 0.98 x
The seizure was OK in the levels 34 to 42 satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, level 35-
Level 42 had a good display quality.

【0134】[0134]

【表4】 [Table 4]

【0135】実施例8 実施例6と7と同様にTN方式の液晶表示装置を作製し
た。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、カドニウ
ムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸化亜
鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に分散さ
せ、それぞれ抵抗値を表3、4の抵抗値に一致するよう
に調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は5〜2
0nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて表
面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評
価結果は表3、表4の結果に一致し、0.98×Rlc≧
Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベルであ
った。
Example 8 A TN type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 6 and 7. Indium oxide, tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide, zinc oxide, and a mixture thereof were dispersed in the alignment film as metal particles, and the resistance values thereof correspond to the resistance values of Tables 3 and 4, respectively. Was prepared as follows. The particle size of the metal particles added to the alignment film is 5 to 2
The one with 0 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. The results of the sensory evaluation of burn-in at each resistance value agree with the results of Table 3 and Table 4, and 0.98 × Rlc ≧
The display quality was OK level when Ral1 ≧ Ral2 was satisfied.

【0136】実施例9 実施例6と7と同様にTN方式の液晶表示装置を作製し
た。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシドを含むも
のを用いた。金属アルコキシドとしては、In(OCH
(CH323、Sn(OCH(CH324、Zn(O
CH(CH322、Cd(OCH(CH322、In
(OCH2CH2CH2CH33、Sn(OCH2CH2
2CH34、Zn(OCH2CH2CH2CH32、Cd
(OCH 2CH2CH2CH32、In(OC253、S
n(OC254、Zn(OC2 52、Cd(OC
252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持つものを用
い、それぞれ抵抗値を表3、表4の抵抗値に一致するよ
うに調合した。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価
結果は表3、表4の結果に一致し、0.98×Rlc≧R
al1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベルであっ
た。
Example 9 A TN type liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Examples 6 and 7.
It was However, if the alignment film material contains a metal alkoxide,
Was used. As the metal alkoxide, In (OCH
(CH3)2)3, Sn (OCH (CH3)2)Four, Zn (O
CH (CH3)2)2, Cd (OCH (CH3)2)2, In
(OCH2CH2CH2CH3)3, Sn (OCH2CH2C
H2CH3)Four, Zn (OCH2CH2CH2CH3)2, Cd
(OCH 2CH2CH2CH3)2, In (OC2HFive)3, S
n (OC2HFive)Four, Zn (OC2H Five)2, Cd (OC
2HFive)2Each having a resin composition in the alignment film
The resistance values match those in Table 3 and Table 4, respectively.
I prepared it like this. Burn-in sensory evaluation at each resistance value
The results are in agreement with those of Tables 3 and 4, and 0.98 × Rlc ≧ R
The display quality is OK level when al1 ≧ Ral2 is satisfied.
It was

【0137】実施例10 実施例6〜9のカラーフィルターの作製において、透明
保護膜および透明導電膜の形成後、感光性アクリル樹脂
を用いて該基板上に高さが4μm、面積100μmの柱
状物(14)を周期的に形成し、セルギャップ保持用の
スペーサとした。さらにその上の最表面に配向膜を印刷
し、乾燥し、焼成した。張り合わせの際には球形のポリ
マビーズを用いなかった。実施例6〜9と同様にTN方
式の液晶表示装置を作成し、焼き付き官能評価を行っ
た。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表3、表
4の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満
たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 10 In the production of the color filters of Examples 6 to 9, after forming a transparent protective film and a transparent conductive film, a columnar article having a height of 4 μm and an area of 100 μm was formed on the substrate using a photosensitive acrylic resin. (14) was periodically formed to serve as a spacer for maintaining the cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination. A liquid crystal display device of the TN system was prepared in the same manner as in Examples 6 to 9 and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluation at each resistance value was in agreement with the results of Tables 3 and 4, and the display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0138】実施例11 垂直配向方式の液晶表示装置において実施した。 [液晶表示装置の作製]基板として厚みが0.7mm の
透明なガラス基板(1)を2枚用いる。 (アクティブ素子および画素電極を有する基板の作製)
2枚のガラス基板のうち一方の基板の上に薄膜トランジ
スタ、画素電極(5)等を形成しアクティブ駆動用の液
晶表示装置用基板とした。構造は垂直配向方式の構造の
電極をしている。画素電極がジグザグ状になっている。
カラーフィルター側のコモン電極(15)との間でガラ
ス基板に対しほぼ垂直に電圧をかけることができる。ジ
グザク状電極の形状と分割配向用の突起によって、液晶
表示装置に電圧をかけた際の液晶分子のダイレクターの
方向が制御できる。 (カラーフィルター基板の作製)クロム系金属を用いて
ブラックマトリックスを形成後、実施例1と同様に画素
を形成した。画素を形成した後、透明導電膜(15)と
してITOを成膜した。次に感光性樹脂を用いて、分割
配向用の突起(16)を形成した。 (配向処理・液晶表示装置作成)分割配向用の突起のつ
いたカラーフィルター基板およびアクティブ駆動用の液
晶表示装置用基板の上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥
し、焼成した。
Example 11 This was carried out in a vertical alignment type liquid crystal display device. [Production of Liquid Crystal Display Device] Two transparent glass substrates (1) having a thickness of 0.7 mm are used as substrates. (Preparation of substrate having active element and pixel electrode)
A thin film transistor, a pixel electrode (5) and the like were formed on one of the two glass substrates to obtain a liquid crystal display device substrate for active driving. The structure is an electrode of a vertical alignment type structure. The pixel electrode has a zigzag shape.
A voltage can be applied almost perpendicularly to the glass substrate between the common electrode (15) on the color filter side. The shape of the zigzag electrodes and the projections for divided alignment can control the direction of directors of liquid crystal molecules when a voltage is applied to the liquid crystal display device. (Production of Color Filter Substrate) After forming a black matrix using a chromium-based metal, pixels were formed in the same manner as in Example 1. After forming pixels, ITO was formed as a transparent conductive film (15). Next, the protrusions (16) for split orientation were formed using a photosensitive resin. (Alignment Treatment / Preparation of Liquid Crystal Display Device) An alignment film was printed on the outermost surface of the color filter substrate with projections for divided alignment and the substrate for liquid crystal display device for active driving, dried and baked.

【0139】本実施例では配向膜の樹脂成分としてポリ
イミド系の垂直配向膜を採用した。
In this embodiment, a polyimide vertical alignment film is used as the resin component of the alignment film.

【0140】該配向膜に必要に応じて金属粒子の酸化イ
ンジウム錫の種類、濃度を変えて、配向膜の抵抗値を変
えた。配向膜に添加した酸化インジウム錫の粒径は5〜
20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて
表面処理を施した。各配向膜を液晶表示装置用基板上に
印刷した。ラビング処理は施さなかった。
The resistance value of the alignment film was changed by changing the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles in the alignment film as needed. The grain size of indium tin oxide added to the alignment film is 5 to
20 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device. No rubbing treatment was applied.

【0141】液晶(7)は市販されている負の誘電異方
性をもつネマチック液晶等を用いた。
As the liquid crystal (7), a commercially available nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy or the like was used.

【0142】液晶は基板の表面形状に沿ってほぼ垂直に
配向している。配向分割ようの突起が形成された部分
は、その突起の形状に沿ってほぼ垂直に配向する。
The liquid crystal is aligned almost vertically along the surface shape of the substrate. The portion on which the protrusion for alignment division is formed is oriented almost vertically along the shape of the protrusion.

【0143】セルギャップは球形のポリマビーズ(8)
を基板間に分散して挾持し、液晶封入状態で4.5μm
とした。2枚の偏光板〔日東電工社製G1220DU〕
でパネルを挾み、一方の偏光板と他方とがなす角を直交
とした。本実施例では低電圧(電圧オフ)で暗状態、高
電圧(電圧オン)で明状態をとるノーマリブラック特性
を採用した。
Cell gap is spherical polymer beads (8)
4.5 μm with the liquid crystal enclosed in a liquid crystal
And Two polarizing plates [G1220DU manufactured by Nitto Denko Corporation]
The panel was sandwiched between, and the angle formed by one polarizing plate and the other was orthogonal. In this embodiment, a normally black characteristic is adopted in which a dark state is obtained at a low voltage (voltage off) and a bright state is obtained at a high voltage (voltage on).

【0144】液晶の体積抵抗は7.63×1013Ω・c
mであった。このようにして図5に示すようなアクティ
ブ駆動型液晶表示装置を得た。 [焼き付き官能評価]焼き付きの官能評価は実施例1と同
様におこなった。
The volume resistance of liquid crystal is 7.63 × 10 13 Ω · c.
It was m. In this way, an active drive type liquid crystal display device as shown in FIG. 5 was obtained. [Sensory evaluation of image sticking] The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0145】採点した結果を表5に示す。0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準44〜水準52において
焼き付きがOKレベルであった。なかでも水準45〜水
準52が表示品位が良好であった。
Table 5 shows the scored results. 0.98 x R
The seizure was OK level in the levels 44 to 52 satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality was good in the levels 45 to 52.

【0146】[0146]

【表5】 [Table 5]

【0147】実施例12 実施例11と同様に垂直配向方式の液晶表示装置を作製
した。ただし、使用する液晶に添加物を加えた。液晶の
抵抗値を測定したところ1.30×1013Ω・cmであ
った。採点した結果を表6に示す。0.98×Rlc≧R
al1≧Ral2を満たす水準55〜水準63において焼き付
きがOKレベルであった。なかでも水準56〜水準63
が表示品位が良好であった。
Example 12 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 11. However, an additive was added to the liquid crystal used. When the resistance value of the liquid crystal was measured, it was 1.30 × 10 13 Ω · cm. The scored results are shown in Table 6. 0.98 × Rlc ≧ R
The seizure was OK level in the levels 55 to 63 satisfying al1 ≧ Ral2. Above all, level 56 to level 63
The display quality was good.

【0148】[0148]

【表6】 [Table 6]

【0149】実施例13 実施例11と12と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作製した。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、
カドニウムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、
酸化亜鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に
分散させ、それぞれ抵抗値を表5、6の抵抗値に一致す
るように調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は
5〜20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応
じて表面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き
官能評価結果は表5、表6の結果に一致し、0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベ
ルであった。
Example 13 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 11 and 12. Indium oxide, tin oxide as metal particles,
Cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide,
Zinc oxide and a mixture thereof were dispersed in the alignment film, and the resistance values were adjusted so as to match the resistance values shown in Tables 5 and 6, respectively. The metal particles added to the alignment film had a particle size of 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. The burn-in sensory evaluation results at each resistance value agree with the results of Tables 5 and 6, and are 0.98 ×
The display quality was OK level at the level satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0150】実施例14 実施例11と12と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作製した。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシド
を含むものを用いた。金属アルコキシドとしては、In
(OCH(CH323、Sn(OCH(CH324
Zn(OCH(CH322、Cd(OCH(C
322、In(OCH2CH2CH2CH33、Sn
(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OCH2CH2
2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH32、In
(OC253、Sn(OC254、Zn(OC25
2、Cd(OC252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持
つものを用い、それぞれ抵抗値を表1、表2の抵抗値に
一致するように調合した。それぞれの抵抗値での焼き付
き官能評価結果は表5、表6の結果に一致し、0.98
×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレ
ベルであった。
Example 14 A vertical alignment type liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Examples 11 and 12. However, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. As the metal alkoxide, In
(OCH (CH 3 ) 2 ) 3 , Sn (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 ,
Zn (OCH (CH 3) 2 ) 2, Cd (OCH (C
H 3) 2) 2, In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 3, Sn
(OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , Zn (OCH 2 CH 2 C
H 2 CH 3) 2, Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 2, In
(OC 2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn (OC 2 H 5 )
2 and Cd (OC 2 H 5 ) 2 were respectively used in the resin composition of the alignment film, and the resistance values were respectively adjusted so as to match the resistance values shown in Tables 1 and 2. The burn-in sensory evaluation results at the respective resistance values agree with the results of Table 5 and Table 6, and are 0.98.
× Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2, and the display quality was OK.

【0151】実施例15 実施例11〜14のカラーフィルターの作製において、
配向分割用突起の形成後、感光性樹脂を用いて該基板上
に高さが4μm、面積100μmの柱状物を周期的に形
成し、セルギャップ保持用のスペーサとした。さらにそ
の上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥し、焼成した。張
り合わせの際には球形のポリマビーズを用いなかった。
実施例11〜14と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作成し、焼き付き官能評価を行った。それぞれの抵抗
値での焼き付き官能評価は表5、表6の結果に一致し、
0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位
がOKレベルであった。
Example 15 In the production of the color filters of Examples 11-14,
After forming the alignment division projections, a columnar material having a height of 4 μm and an area of 100 μm was periodically formed on the substrate using a photosensitive resin to form a spacer for maintaining a cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination.
A vertical alignment type liquid crystal display device was prepared in the same manner as in Examples 11 to 14, and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluations at the respective resistance values agree with the results of Tables 5 and 6,
The display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0152】実施例16 (垂直配向)方式の液晶表示装置において実施した。 [液晶表示装置の作製]基板として厚みが0.7mmで表
面を研磨した透明なガラス基板(2)を2枚用いる。 (アクティブ素子および画素電極を有する基板の作製)
実施例11と同様にしてアクティブ駆動用の液晶表示装
置用基板を作製した。 (カラーフィルター基板の作製)実施例11とは異な
り、遮光膜を用いてブラックマトリックスは形成しなか
った。ブラックマトリックスは青、赤、緑の画素を形成
する着色層のうち2色を積層(17)して作製した。画
素およびブラックマトリックスを形成した後、透明導電
膜(15)としてITOを成膜した。次に感光性樹脂を
用いて、分割配向用の突起を形成した。 (配向処理・液晶表示装置作成)分割配向用の突起のつ
いたカラーフィルター基板およびアクティブ駆動用の液
晶表示装置用基板の上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥
し、焼成した。
Example 16 This was carried out in a (vertical alignment) type liquid crystal display device. [Production of Liquid Crystal Display Device] Two transparent glass substrates (2) having a thickness of 0.7 mm and having a polished surface are used as substrates. (Preparation of substrate having active element and pixel electrode)
A substrate for a liquid crystal display device for active driving was produced in the same manner as in Example 11. (Production of Color Filter Substrate) Unlike Example 11, the black matrix was not formed using the light shielding film. The black matrix was prepared by stacking (17) two colors of the colored layers forming the blue, red and green pixels. After forming pixels and a black matrix, ITO was formed as a transparent conductive film (15). Next, a protrusion for split orientation was formed using a photosensitive resin. (Alignment Treatment / Preparation of Liquid Crystal Display Device) An alignment film was printed on the outermost surface of the color filter substrate with projections for divided alignment and the substrate for liquid crystal display device for active driving, dried and baked.

【0153】本実施例では配向膜の樹脂成分としてポリ
イミド系の垂直配向膜を採用した。
In this embodiment, a polyimide vertical alignment film is used as the resin component of the alignment film.

【0154】該配向膜に必要に応じて金属粒子の酸化イ
ンジウム錫の種類、濃度をかえて、配向膜の抵抗値をか
えた。配向膜に添加した酸化インジウム錫の粒径は5〜
20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて
表面処理を施した。各配向膜を液晶表示装置用基板上に
印刷した。ラビング処理は施さなかった。
If necessary, the resistance value of the alignment film was changed by changing the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles in the alignment film. The grain size of indium tin oxide added to the alignment film is 5 to
20 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device. No rubbing treatment was applied.

【0155】液晶(7)は市販されている負の誘電異方
性をもつネマチック液晶等を用いた。
As the liquid crystal (7), a commercially available nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy or the like was used.

【0156】液晶は基板の表面形状に沿ってほぼ垂直に
配向している。配向分割ようの突起が形成された部分
は、その突起の形状に沿ってほぼ垂直に配向している。
The liquid crystal is aligned almost vertically along the surface shape of the substrate. The portion on which the projection for splitting the orientation is formed is oriented substantially vertically along the shape of the projection.

【0157】セルギャップは球形のポリマビーズを基板
間に分散して挾持し、液晶封入状態で4.5μmとし
た。2枚の偏光板〔日東電工社製G1220DU〕でパ
ネルを挾み、一方の偏光板と他方とがなす角を直交とし
た。本実施例では低電圧(電圧オフ)で暗状態、高電圧
(電圧オン)で明状態をとるノーマリブラック特性を採
用した。
The cell gap was 4.5 μm when spherical polymer beads were dispersed and sandwiched between the substrates and the liquid crystal was sealed. The panel was sandwiched between two polarizing plates [G1220DU manufactured by Nitto Denko Corporation], and the angle formed by one polarizing plate and the other was orthogonal. In this embodiment, a normally black characteristic is adopted in which a dark state is obtained at a low voltage (voltage off) and a bright state is obtained at a high voltage (voltage on).

【0158】液晶の体積抵抗は5.42×1014Ω・c
mであった。このようにして図7に示すようなアクティ
ブ駆動型液晶表示装置を得た。 [焼き付き官能評価]焼き付きの官能評価は実施例1と同
様におこなった。
The volume resistance of the liquid crystal is 5.42 × 10 14 Ω · c.
It was m. Thus, an active drive type liquid crystal display device as shown in FIG. 7 was obtained. [Sensory evaluation of image sticking] The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0159】採点した結果を表7に示す。0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準65〜水準73において
焼き付きがOKレベルであった。なかでも水準66〜水
準73が表示品位が良好であった。
The scored results are shown in Table 7. 0.98 x R
The seizure was OK level in the levels 65 to 73 satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality was good in the levels 66 to 73.

【0160】[0160]

【表7】 [Table 7]

【0161】実施例17 実施例16と同様に垂直配向方式の液晶表示装置を作製
した。ただし、使用する液晶の組成を変えた。液晶の抵
抗値を測定したところ、3.40×1013 Ω・cmで
あった。採点した結果を表8に示す。0.98×Rlc≧
Ral1≧Ral2を満たす水準76〜水準84において焼き
付きがOKレベルであった。なかでも水準77〜水準8
4が表示品位が良好であった。
Example 17 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 16. However, the composition of the liquid crystal used was changed. When the resistance value of the liquid crystal was measured, it was 3.40 × 10 13 Ω · cm. The scored results are shown in Table 8. 0.98 × Rlc ≧
The seizure was OK in the level 76 to the level 84 satisfying Ral1 ≧ Ral2. Above all, level 77 to level 8
No. 4 had a good display quality.

【0162】[0162]

【表8】 [Table 8]

【0163】実施例18 実施例16と17と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作製した。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、
カドニウムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、
酸化亜鉛およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に分
散させ、それぞれ抵抗値を表7、表8の抵抗値に一致す
るように調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は
5〜20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応
じて表面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き
官能評価結果は表7、表8の結果に一致し、0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベ
ルであった。
Example 18 A vertical alignment type liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Examples 16 and 17. Indium oxide, tin oxide as metal particles,
Cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide,
Zinc oxide and a mixture thereof were dispersed in the alignment film, and the resistance values were adjusted so as to match the resistance values shown in Tables 7 and 8. The metal particles added to the alignment film had a particle size of 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. The burn-in sensory evaluation results at the respective resistance values agree with the results of Tables 7 and 8 and are 0.98 ×
The display quality was OK level at the level satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0164】実施例19 実施例16と17と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作製した。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシド
を含むものを用いた。金属アルコキシドとしては、In
(OCH(CH323、Sn(OCH(CH324
Zn(OCH(CH322、Cd(OCH(C
322、In(OCH2CH2CH2CH33、Sn
(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OCH2CH2
2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH32、In
(OC253、Sn(OC254、Zn(OC25
2、Cd(OC252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持
つものを用い、それぞれ抵抗値を表7、表8の抵抗値に
一致するように調合した。それぞれの抵抗値での焼き付
き官能評価結果は表7、表8の結果に一致し、0.98
×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレ
ベルであった。
Example 19 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 16 and 17. However, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. As the metal alkoxide, In
(OCH (CH 3 ) 2 ) 3 , Sn (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 ,
Zn (OCH (CH 3) 2 ) 2, Cd (OCH (C
H 3) 2) 2, In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 3, Sn
(OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , Zn (OCH 2 CH 2 C
H 2 CH 3) 2, Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 2, In
(OC 2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn (OC 2 H 5 )
2 and Cd (OC 2 H 5 ) 2 were used in the resin composition of the alignment film, and the resistance values were adjusted so as to match the resistance values shown in Tables 7 and 8. The burn-in sensory evaluation results at the respective resistance values agree with the results of Tables 7 and 8, and are 0.98.
× Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2, and the display quality was OK.

【0165】実施例20 実施例16〜19のカラーフィルターの作製において、
画素の2層を積層させてブラックマトリックスとした箇
所の他に、画素を構成する着色層の3色を重ねる箇所を
もうけた。感光性樹脂を用いて該基板上の着色層を3色
重ねた上に柱状体と開口部上に配向分割用突起(20)
を形成した。3色の着色層と感光性樹脂を形成した箇所
が柱状体となるようにして、セルギャップ保持用のスペ
ーサーとした。該柱状体は高さが4μm、面積100μ
mの柱状物(19)を周期的になるように形成した。
Example 20 In the production of the color filters of Examples 16 to 19,
In addition to the place where two layers of pixels were laminated to form a black matrix, a place where the three colors of the colored layers constituting the pixels were overlapped was provided. Alignment division projections (20) on columnar bodies and openings on which three colored layers on the substrate are stacked using a photosensitive resin
Was formed. The spacers for maintaining the cell gap were formed by forming the columnar bodies at the locations where the three colored layers and the photosensitive resin were formed. The columnar body has a height of 4 μm and an area of 100 μm.
m columnar objects (19) were formed to be periodic.

【0166】カラーフィルター基板およびアクティブ素
子を形成した基板の最表面に配向膜を印刷し、乾燥し、
焼成した。張り合わせの際には球形のポリマビーズを用
いなかった。実施例16〜19と同様に図8に示すよう
な垂直配向方式の液晶表示装置を作成し、焼き付き官能
評価を行った。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価
は表7、表8の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1
≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベルであっ
た。
An alignment film is printed on the outermost surface of the color filter substrate and the substrate on which the active element is formed, dried,
Baked. Spherical polymer beads were not used during lamination. Similarly to Examples 16 to 19, a vertical alignment type liquid crystal display device as shown in FIG. 8 was prepared and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluations at the respective resistance values agree with the results of Table 7 and Table 8, and 0.98 × Rlc ≧ Ral1
The display quality was OK level when ≧ Ral2 was satisfied.

【0167】実施例21 SRAMを画素内に内蔵した反射型低温ポリシリコンT
FT−ツイステッドネマチック(TN)方式の液晶表示
装置において実施した。 [液晶表示装置の作製]基板として厚みが0.5mm の
透明なガラス基板を2枚用いる。 (アクティブ素子および画素電極を有する基板の作製)
2枚のガラス基板のうち一方の基板の上に薄膜トランジ
スタ、SRAM、鏡面反射画素電極等を形成しアクティ
ブ駆動用の液晶表示装置用基板とした。本TFTアレイ
の構造はTN方式の構造をしており、カラーフィルター
側のコモン電極を用いることでガラス基板に対し垂直に
電圧をかけることができる。 (カラーフィルター基板の作製)実施例1と同様に作製
した。ただし透明保護膜を形成した後、スパッタリング
法により透明導電膜としてITO膜を形成した。カラー
フィルター上のITO膜がコモン電極としての役割をに
なう。 (配向処理・液晶表示装置作成)カラーフィルター基板
およびアクティブ駆動用の液晶表示装置用基板の上の最
表面に配向膜を印刷し、乾燥し、焼成した。
Example 21 Reflective low-temperature polysilicon T having an SRAM incorporated in a pixel
An FT-Twisted Nematic (TN) liquid crystal display device was used. [Production of Liquid Crystal Display Device] Two transparent glass substrates having a thickness of 0.5 mm are used as substrates. (Preparation of substrate having active element and pixel electrode)
A thin film transistor, an SRAM, a specular reflection pixel electrode and the like were formed on one of the two glass substrates to prepare a substrate for a liquid crystal display device for active driving. The structure of this TFT array is a TN type structure, and a voltage can be applied vertically to the glass substrate by using the common electrode on the color filter side. (Production of Color Filter Substrate) The color filter substrate was produced in the same manner as in Example 1. However, after forming the transparent protective film, an ITO film was formed as a transparent conductive film by a sputtering method. The ITO film on the color filter serves as a common electrode. (Alignment Treatment / Production of Liquid Crystal Display Device) An alignment film was printed on the outermost surface of the color filter substrate and the substrate for the liquid crystal display device for active driving, dried and baked.

【0168】本実施例では配向膜の樹脂成分としてポリ
イミド系の配向膜を採用した。
In this embodiment, a polyimide type alignment film is used as the resin component of the alignment film.

【0169】該配向膜に必要に応じて金属粒子の酸化イ
ンジウム錫の種類、濃度を変えて、配向膜の抵抗値を変
えた。配向膜に添加した酸化インジウム錫の粒径は5〜
20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて
表面処理を施した。各配向膜を液晶表示装置用基板上に
印刷、その後を液晶を配向させるためのラビング処理を
配向膜に施した。
The resistance value of the alignment film was changed by changing the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles in the alignment film as needed. The grain size of indium tin oxide added to the alignment film is 5 to
20 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device, and then a rubbing treatment for aligning the liquid crystal was applied to the alignment film.

【0170】液晶は市販されているネマチック液晶等を
用いた。
As the liquid crystal, a commercially available nematic liquid crystal or the like was used.

【0171】上下界面上のラビング方向は互いにほぼ垂
直で、かつ印加電界方向とのなす角度を平行となる。こ
れらの基板間に誘電率異方性Δεが正のネマチック液晶
組成物を挟んだ。
The rubbing directions on the upper and lower interfaces are substantially perpendicular to each other, and the angle with the direction of the applied electric field is parallel. A nematic liquid crystal composition having a positive dielectric anisotropy Δε was sandwiched between these substrates.

【0172】セルギャップは球形のポリマビーズを基板
間に分散して挾持し、液晶封入状態で3.5μmとし
た。2枚の偏光板〔日東電工社製G1220DU〕でパ
ネルを挾み、一方の偏光板の偏光透過軸をラビング方向
に設定し、他方をそれに直交とした。本実施例では低電
圧(電圧オフ)で明状態、高電圧(電圧オン)で暗状態
をとるノーマリホワイト特性を採用した。
The cell gap was set to 3.5 μm in a state where liquid crystal was sealed by holding spherical polymer beads dispersed between substrates. The panel was sandwiched between two polarizing plates [G1220DU manufactured by Nitto Denko Corporation], the polarization transmission axis of one polarizing plate was set in the rubbing direction, and the other was orthogonal thereto. In this embodiment, a normally white characteristic is adopted in which a bright state is obtained at a low voltage (voltage off) and a dark state is obtained at a high voltage (voltage on).

【0173】液晶の体積抵抗は3.12×1014Ω・c
mであった。このようにしてアクティブ駆動型液晶表示
装置を得た。 [焼き付き官能評価]焼き付きの官能評価は実施例1と同
様におこなった。
The volume resistance of liquid crystal is 3.12 × 10 14 Ω · c.
It was m. Thus, an active drive type liquid crystal display device was obtained. [Sensory evaluation of image sticking] The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0174】採点した結果を表9に示す。0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準86〜水準94において
焼き付きがOKレベルであった。なかでも水準87〜水
準94が表示品位が良好であった。
Table 9 shows the scored results. 0.98 x R
The seizure was OK level in the levels 86 to 94 satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality was good in the levels 87 to 94.

【0175】[0175]

【表9】 [Table 9]

【0176】実施例22 実施例21と同様にSRAMを画素内に内蔵した反射型
低温ポリシリコンTFT−ツイステッドネマチック(T
N)方式の液晶表示装置において実施した。ただし、使
用する液晶を変更した。また配向膜も変更した。液晶の
抵抗値を測定したところ4.13×1011Ω・cmであ
った。採点した結果を表10に示す。0.98×Rlc≧
Ral1≧Ral2を満たす水準97〜水準105において焼
き付きがOKレベルであった。なかでも水準96〜水準
105が表示品位が良好であった。
Embodiment 22 Similar to Embodiment 21, a reflection type low temperature polysilicon TFT having a built-in SRAM in a pixel-twisted nematic (T).
This was carried out in the N) type liquid crystal display device. However, the liquid crystal used was changed. The alignment film was also changed. When the resistance value of the liquid crystal was measured, it was 4.13 × 10 11 Ω · cm. The scored results are shown in Table 10. 0.98 × Rlc ≧
The seizure was OK level from level 97 to level 105 satisfying Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality was good in the levels 96 to 105.

【0177】[0177]

【表10】 [Table 10]

【0178】実施例23 実施例21と22と同様にSRAMを画素内に内蔵した
反射型低温ポリシリコンTFT−ツイステッドネマチッ
ク(TN)方式の液晶表示装置において実施した。ただ
し、金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、カドニウ
ムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸化亜
鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に分散さ
せ、それぞれ抵抗値を表9、10の抵抗値に一致するよ
うに調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は5〜
20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応じて
表面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き官能
評価結果は表9、表10の結果に一致し、0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベル
であった。
Embodiment 23 Similar to Embodiments 21 and 22, the present invention was carried out in a reflective low temperature polysilicon TFT-twisted nematic (TN) type liquid crystal display device in which an SRAM was incorporated in a pixel. However, indium oxide, tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide, zinc oxide, and a mixture thereof were dispersed in the alignment film as metal particles, and the resistance values were changed to the resistance values shown in Tables 9 and 10. Formulated to match. The particle size of the metal particles added to the alignment film is 5 to
20 nm was selected. The metal particles were surface-treated as needed. The results of the sensory evaluation of image sticking at the respective resistance values agree with the results of Tables 9 and 10, and are 0.98 × R.
The display quality was an OK level at a level satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0179】実施例24 実施例21と22と同様にTN方式の液晶表示装置を作
製した。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシドを含
むものをもちいた。金属アルコキシドとしては、In
(OCH(CH323、Sn(OCH(CH324
Zn(OCH(CH322、Cd(OCH(C
322、In(OCH2CH2CH2CH33、Sn
(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OCH2CH2
2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH32、In
(OC253、Sn(OC254、Zn(OC25
2、Cd(OC252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持
つものを用い、それぞれ抵抗値を表9、10の抵抗値に
一致するように調合した。それぞれの抵抗値での焼き付
き官能評価結果は表9、表10の結果に一致し、0.9
8×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOK
レベルであった。
Example 24 A TN type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 21 and 22. However, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. As the metal alkoxide, In
(OCH (CH 3 ) 2 ) 3 , Sn (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 ,
Zn (OCH (CH 3) 2 ) 2, Cd (OCH (C
H 3) 2) 2, In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 3, Sn
(OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , Zn (OCH 2 CH 2 C
H 2 CH 3) 2, Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 2, In
(OC 2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn (OC 2 H 5 )
2 and Cd (OC 2 H 5 ) 2 were used in the resin composition of the alignment film, and the resistance values were respectively adjusted so as to match the resistance values shown in Tables 9 and 10. The burn-in sensory evaluation results at the respective resistance values agree with the results of Tables 9 and 10, and are 0.9
Display quality is OK at a level satisfying 8 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2
It was a level.

【0180】実施例25 実施例21〜24のカラーフィルターの作製において、
透明保護膜および透明導電膜の形成後、感光性アクリル
樹脂をもちいて該基板上に高さが4μm、面積100μ
mの柱状物を周期的に形成し、セルギャップ保持用のス
ペーサとした。さらにその上の最表面に配向膜を印刷
し、乾燥し、焼成した。張り合わせの際には球形のポリ
マビーズを用いなかった。実施例21〜24と同様に液
晶表示装置を作成し、焼き付き官能評価を行った。それ
ぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表9、表10の結
果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水
準で表示品位がOKレベルであった。
Example 25 In the production of the color filters of Examples 21 to 24,
After forming the transparent protective film and the transparent conductive film, a photosensitive acrylic resin is used to form a height of 4 μm on the substrate and an area of 100 μm.
Columnar objects of m were periodically formed to serve as spacers for maintaining the cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination. Liquid crystal display devices were prepared in the same manner as in Examples 21 to 24, and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluation at each resistance value was in agreement with the results of Table 9 and Table 10, and the display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0181】実施例26 横電界(IPS)方式の液晶表示装置において実施し
た。 [液晶表示装置の作製]実施例1と同様に作製した。但し
額縁およびブラックマトリックスは、酸窒化チタンを分
散した樹脂をもちいた。その作製は次の様に行った。
Example 26 An in-plane switching (IPS) liquid crystal display device was used. [Fabrication of Liquid Crystal Display Device] A liquid crystal display device was fabricated in the same manner as in Example 1. However, the frame and the black matrix used a resin in which titanium oxynitride was dispersed. The production was performed as follows.

【0182】酸窒化チタン10g、N−メチル−2−ピ
ロリドン57g、ブチルセロソルブ13gをガラスビー
ズ100gとともにホモジナイザーを用い、7000r
pmで30分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により
除去し、顔料濃度12.5重量%の分散液を得た。
Using a homogenizer, 10 g of titanium oxynitride, 57 g of N-methyl-2-pyrrolidone and 13 g of butyl cellosolve were used together with 100 g of glass beads at 7,000 r.
After dispersion treatment for 30 minutes at pm, the glass beads were removed by filtration to obtain a dispersion liquid having a pigment concentration of 12.5% by weight.

【0183】該分散液40gに、前記のポリマー濃度1
0重量%のポリイミド前駆体溶液15gを添加混合し、
黒色ペーストを作製した。本ペーストをガラス上に塗布
後、125℃で20分セミキュアした。この後、ポジ型
レジストをスピナーで塗布後、80℃で20分間乾燥し
た。フォトマスクを用いてフォトレジストを露光し、ア
ルカリ現像液に基板を浸漬して、ポジ型レジストの現像
およびポリイミド前駆体のエッチングを同時に行った。
その後、ポジ型フォトレジストをメチルセルソルブアセ
テートで剥離し、さらに、280℃で30分間キュアし
た。 [焼き付き官能評価]実施例1と同様に、官能評価を行っ
た。
40 g of the dispersion was added to the above-mentioned polymer concentration 1
15 g of 0 wt% polyimide precursor solution was added and mixed,
A black paste was prepared. After applying this paste on glass, it was semi-cured at 125 ° C. for 20 minutes. After that, a positive resist was applied with a spinner and dried at 80 ° C. for 20 minutes. The photoresist was exposed using a photomask, and the substrate was dipped in an alkali developing solution to simultaneously develop the positive resist and etch the polyimide precursor.
Then, the positive photoresist was peeled off with methyl cellosolve acetate and further cured at 280 ° C. for 30 minutes. [Sensing evaluation by burn-in] Sensory evaluation was performed in the same manner as in Example 1.

【0184】採点した結果を表11に示す。0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準2〜水準10において
焼き付きがOKレベルであった。なかでも水準3〜水準
10が表示品位が良好であった。
Table 11 shows the results of scoring. 0.98 x
The seizure was OK level from level 2 to level 10 satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Among them, Level 3 to Level 10 had good display quality.

【0185】[0185]

【表11】 [Table 11]

【0186】実施例27 実施例26と同様にIPS方式の液晶表示装置を作製し
た。ただし、使用する液晶をシアノ系液晶を含む混合液
晶を用いた。液晶の抵抗値を測定したところ5.00×
1013Ω・cmであった。採点した結果を表12に示
す。0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準13〜
水準21において焼き付きがOKレベルであった。なか
でも水準14〜水準21が表示品位が良好であった。
Example 27 An IPS liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 26. However, the liquid crystal used was a mixed liquid crystal containing a cyano liquid crystal. When the resistance value of the liquid crystal was measured, it was 5.00 ×
It was 10 13 Ω · cm. The scored results are shown in Table 12. Level 13 that satisfies 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2
The seizure was OK level 21. Above all, the display quality of Level 14 to Level 21 was good.

【0187】[0187]

【表12】 [Table 12]

【0188】実施例28 実施例27と28と同様にIPS方式の液晶表示装置を
作製した。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、カ
ドニウムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸
化亜鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に分
散させ、それぞれ抵抗値を表11、12の抵抗値に一致
するように調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径
は5〜20nmのものを選択した。金属粒子には必要に
応じて表面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付
き官能評価結果は表11、表12の実施例26,実施例
27の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を
満たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 28 An IPS type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 27 and 28. Indium oxide, tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide, zinc oxide, and a mixture thereof were dispersed in the alignment film as metal particles, and the respective resistance values correspond to the resistance values in Tables 11 and 12. Was prepared as follows. The metal particles added to the alignment film had a particle size of 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. The results of the burn-in sensory evaluations at the respective resistance values agree with the results of Examples 26 and 27 of Table 11 and Table 12, and the display quality is OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2. It was

【0189】実施例29 実施例27と28と同様にIPS方式の液晶表示装置を
作製した。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシドを
含むものを用いた。金属アルコキシドとしては、In
(OCH(CH323、Sn(OCH(CH324
Zn(OCH(CH322、Cd(OCH(C
322、In(OCH2CH2CH2CH33、Sn
(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OCH2CH2
2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH32、In
(OC253、Sn(OC254、Zn(OC25
2、Cd(OC252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持
つものを用い、それぞれ抵抗値を表11、表12の抵抗
値に一致するように調合した。それぞれの抵抗値での焼
き付き官能評価結果は表11、表12の実施例26,実
施例27の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ra
l2を満たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 29 An IPS type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 27 and 28. However, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. As the metal alkoxide, In
(OCH (CH 3 ) 2 ) 3 , Sn (OCH (CH 3 ) 2 ) 4 ,
Zn (OCH (CH 3) 2 ) 2, Cd (OCH (C
H 3) 2) 2, In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 3, Sn
(OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , Zn (OCH 2 CH 2 C
H 2 CH 3) 2, Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3) 2, In
(OC 2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn (OC 2 H 5 )
2 and Cd (OC 2 H 5 ) 2 were used in the resin composition of the alignment film, and the resistance values were adjusted so as to match the resistance values in Tables 11 and 12. The results of the organoleptic evaluation at each resistance value agree with the results of Examples 26 and 27 in Table 11 and Table 12, and 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ra.
The display quality was an OK level at a level satisfying l2.

【0190】実施例30 実施例26〜29のカラーフィルターの作製において、
透明保護膜の形成後、感光性アクリル樹脂を用いて該基
板上に高さが4μm、面積100μmの柱状物(14)
を周期的に形成し、セルギャップ保持用のスペーサとし
た。さらにその上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥し、
焼成した。張り合わせの際には球形のポリマビーズを用
いなかった。実施例1〜4と同様に図2に示すようなI
PS方式の液晶表示装置を作成し、焼き付き官能評価を
行った。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表1
1、表12の実施例26、実施例27の結果に一致し、
0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位
がOKレベルであった。
Example 30 In the production of the color filters of Examples 26 to 29,
After forming the transparent protective film, a columnar article (14) having a height of 4 μm and an area of 100 μm is formed on the substrate by using a photosensitive acrylic resin.
Were periodically formed to serve as spacers for maintaining the cell gap. Then print an alignment film on the outermost surface and dry it.
Baked. Spherical polymer beads were not used during lamination. As in Examples 1 to 4, I as shown in FIG.
A PS type liquid crystal display device was prepared and a burn-in sensory evaluation was performed. Table 1 shows the burn-in sensory evaluation at each resistance value.
1, in accordance with the results of Example 26, Example 27 in Table 12,
The display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0191】実施例31 実施例1と同様にツイステッドネマチック(TN)方式
の液晶表示装置において実施した。ただし、額縁および
ブラックマトリックスの形成に、酸窒化チタンを分散し
た樹脂をもちいた。実施例6と同様に配向膜を変更した
水準で液晶表示装置を作製し、官能評価をした。焼き付
きの官能評価は実施例1と同様におこなった。採点した
結果を表13に示す。0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を
満たす水準23〜水準31において焼き付きがOKレベ
ルであったが、画面の周縁部が中央部に比して、若干焼
き付きの傾向があった。水準24〜水準31が特に表示
品位が良好であった。
Example 31 The same operation as in Example 1 was carried out in a twisted nematic (TN) type liquid crystal display device. However, a resin in which titanium oxynitride was dispersed was used for forming the frame and the black matrix. Similar to Example 6, a liquid crystal display device was produced at a level in which the alignment film was changed, and sensory evaluation was performed. The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1. The scored results are shown in Table 13. Although the image sticking was OK in the levels 23 to 31 satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2, the peripheral portion of the screen tended to be slightly burned in compared with the central portion. Levels 24 to 31 were particularly good in display quality.

【0192】[0192]

【表13】 [Table 13]

【0193】実施例32 実施例31と同様にTN方式の液晶表示装置を作製し
た。但し使用する液晶を変更した。また配向膜も変更し
た。採点した結果を表14に示す。0.98×Rlc≧R
al1≧Ral2を満たす水準34〜水準42において焼き付
きがOKレベルであったが、画面の周縁部が中央部に比
して焼き付きの傾向があった。水準35〜水準42が表
示品位が良好であった。
Example 32 A TN type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 31. However, the liquid crystal used was changed. The alignment film was also changed. The scored results are shown in Table 14. 0.98 × Rlc ≧ R
The seizure was OK at the level 34 to the level 42 satisfying al1 ≧ Ral2, but the peripheral portion of the screen tended to be seized compared to the central portion. Level 35 to level 42 were good in display quality.

【0194】[0194]

【表14】 [Table 14]

【0195】実施例33 実施例31と32と同様にTN方式の液晶表示装置を作
製した。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、カド
ニウムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸化
亜鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に分散
させ、それぞれ抵抗値を表31、14の抵抗値に一致す
るように調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は
5〜20nmのものを選択した。金属粒子には必要に応
じて表面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き
官能評価結果は表13、表14の実施例31、実施例3
2の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満
たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 33 A TN type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 31 and 32. Indium oxide, tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide, zinc oxide, and a mixture thereof were dispersed in the alignment film as metal particles, and the resistance values thereof corresponded to those of Tables 31 and 14, respectively. Was prepared as follows. The metal particles added to the alignment film had a particle size of 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. The results of the burn-in sensory evaluation at the respective resistance values are shown in Tables 13 and 14 as Example 31 and Example 3.
In accordance with the result of No. 2, the display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0196】実施例34 実施例31と32と同様にTN方式の液晶表示装置を作
製した。ただし、配向膜材料中に金属アルコキシドを含
むものを用いた。金属アルコキシドとしては、In(O
CH(CH323、Sn(OCH(CH324、Zn
(OCH(CH 322、Cd(OCH(CH322
In(OCH2CH2CH2CH33、Sn(OCH2CH
2CH2CH34、Zn(OCH2CH2CH2CH32
Cd(OCH2CH2CH2CH32、In(OC
253、Sn(OC254、Zn(OC252、C
d(OC252をそれぞれ配向膜樹脂組成中に持つも
のを用い、それぞれ抵抗値を表3、表4の抵抗値に一致
するように調合した。それぞれの抵抗値での焼き付き官
能評価結果は表13、表14の実施例31、実施例32
の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満た
す水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 34 Similar to Examples 31 and 32, a TN type liquid crystal display device was manufactured.
Made However, the alignment film material does not contain metal alkoxide.
I used Mumu. As the metal alkoxide, In (O
CH (CH3)2)3, Sn (OCH (CH3)2)Four, Zn
(OCH (CH 3)2)2, Cd (OCH (CH3)2)2,
In (OCH2CH2CH2CH3)3, Sn (OCH2CH
2CH2CH3)Four, Zn (OCH2CH2CH2CH3)2,
Cd (OCH2CH2CH2CH3)2, In (OC
2HFive)3, Sn (OC2HFive)Four, Zn (OC2HFive)2, C
d (OC2HFive)2Each in the resin composition of the alignment film
The resistance values of Table 3 and Table 4 respectively.
It was prepared to do. Burn-in officer at each resistance value
The performance evaluation results are shown in Tables 13 and 14 as Examples 31 and 32.
And 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2 is satisfied.
The display quality was OK level.

【0197】実施例35 実施例31〜34のカラーフィルターの作製において、
透明保護膜および透明導電膜の形成後、感光性アクリル
樹脂を用いて該基板上に高さが4μm、面積100μm
の柱状物(14)を周期的に形成し、セルギャップ保持
用のスペーサとした。さらにその上の最表面に配向膜を
印刷し、乾燥し、焼成した。張り合わせの際には球形の
ポリマビーズを用いなかった。実施例6〜9と同様にT
N方式の液晶表示装置を作成し、焼き付き官能評価を行
った。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表1
3、表14の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧
Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 35 In the production of the color filters of Examples 31 to 34,
After forming the transparent protective film and the transparent conductive film, a photosensitive acrylic resin is used to form a height of 4 μm and an area of 100 μm on the substrate.
The columnar bodies (14) were periodically formed to serve as spacers for maintaining the cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination. T as in Examples 6-9
An N-type liquid crystal display device was prepared and a burn-in sensory evaluation was performed. Table 1 shows the burn-in sensory evaluation at each resistance value.
3, in agreement with the result of Table 14, 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧
The display quality was OK level when Ral2 was satisfied.

【0198】実施例36 垂直配向方式の液晶表示装置において実施した。 [液晶表示装置の作製]実施例11と同様に作製した。但
し、カラーフィルター基板の作製において、酸窒化チタ
ンを含有する樹脂を用いてブラックマトリックスを形成
した。配向処理・液晶表示装置においても、実施例11
と同様に行い、図5に示すようなアクティブ駆動型液晶
表示装置を得た。 [焼き付き官能評価]焼き付きの官能評価は実施例1と同
様におこなった。
Example 36 This was carried out in a vertical alignment type liquid crystal display device. [Production of Liquid Crystal Display Device] A liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 11. However, in the production of the color filter substrate, the black matrix was formed using the resin containing titanium oxynitride. Example 11 is also applied to the alignment treatment / liquid crystal display device.
The same operation as described above was performed to obtain an active drive type liquid crystal display device as shown in FIG. [Sensory evaluation of image sticking] The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0199】採点した結果を表15に示す。0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準44〜水準52におい
て焼き付きがOKレベルであったが、画面の周縁部が中
央部に比して焼き付きの傾向があった。なかでも水準4
5〜水準52が表示品位が良好であった。
Table 15 shows the scored results. 0.98 x
The image sticking was OK at the level 44 to the level 52 satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2, but there was a tendency for the image sticking in the peripheral portion of the screen as compared with the central portion. Above all, level 4
The display quality of 5 to 52 was good.

【0200】[0200]

【表15】 [Table 15]

【0201】実施例37 実施例36と同様に垂直配向方式の液晶表示装置を作製
した。ただし、使用する液晶に実施例12と同様に添加
物を加え、液晶の抵抗値を調整した。採点した結果を表
16に示す。0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水
準55〜水準63において焼き付きがOKレベルであっ
た。なかでも水準56〜水準63が表示品位が良好であ
った。
Example 37 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Example 36. However, the resistance value of the liquid crystal was adjusted by adding the additive to the liquid crystal to be used as in Example 12. The scored results are shown in Table 16. The seizure was OK level in the levels 55 to 63 satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2. Above all, the display quality was good in the levels 56 to 63.

【0202】[0202]

【表16】 [Table 16]

【0203】実施例38 実施例36と37と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作製した。金属粒子として酸化インジウム、酸化錫、
カドニウムドープ酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、
酸化亜鉛、およびそれらの混合物をそれぞれ配向膜中に
分散させ、それぞれ抵抗値を表15、16の抵抗値に一
致するように調合した。配向膜に添加した金属粒子の粒
径は5〜20nmのものを選択した。金属粒子には必要
に応じて表面処理を施した。それぞれの抵抗値での焼き
付き官能評価結果は表15、表16の結果に一致し、
0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位
がOKレベルであった。
Example 38 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 36 and 37. Indium oxide, tin oxide as metal particles,
Cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide,
Zinc oxide and a mixture thereof were dispersed in the alignment film, and the resistance values were adjusted so as to match the resistance values shown in Tables 15 and 16. The metal particles added to the alignment film had a particle size of 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. The burn-in sensory evaluation results at the respective resistance values agree with the results of Tables 15 and 16,
The display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0204】実施例39 実施例36と37と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作製した。ただし、実施例14と同様に配向膜材料中
に金属アルコキシドを含むものを用いた。金属アルコキ
シドとしては、In(OCH(CH323、Sn(O
CH(CH324、Zn(OCH(CH322、Cd
(OCH(CH322、In(OCH2CH2CH2CH
33、Sn(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OC
2CH2CH2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH
32、In(OC253、Sn(OC254、Zn
(OC252、Cd(OC252をそれぞれ配向膜樹
脂組成中に持つものを用い、それぞれ抵抗値を表11、
表12の抵抗値に一致するように調合した。それぞれの
抵抗値での焼き付き官能評価結果は表15、表16の実
施例36および実施例37の結果に一致し、0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベ
ルであった。
Example 39 A vertical alignment type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 36 and 37. However, as in Example 14, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. Examples of the metal alkoxide include In (OCH (CH 3 ) 2 ) 3 and Sn (O
CH (CH 3 ) 2 ) 4 , Zn (OCH (CH 3 ) 2 ) 2 , Cd
(OCH (CH 3 ) 2 ) 2 , In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH
3 ) 3 , Sn (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , Zn (OC
H 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 2 , Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH
3 ) 2 , In (OC 2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn
A resin having (OC 2 H 5 ) 2 and Cd (OC 2 H 5 ) 2 in the resin composition of the alignment film was used, and the resistance values are shown in Table 11.
Formulation was performed so as to match the resistance values in Table 12. The results of the organoleptic evaluation at the respective resistance values agree with the results of Example 36 and Example 37 in Tables 15 and 16, and 0.98 ×
The display quality was OK level at the level satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0205】実施例30 実施例36〜39のカラーフィルターの作製において、
配向分割用突起の形成後、感光性樹脂を用いて該基板上
に高さが4μm、面積100μmの柱状物を周期的に形
成し、セルギャップ保持用のスペーサとした。さらにそ
の上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥し、焼成した。張
り合わせの際には球形のポリマビーズを用いなかった。
実施例36〜39と同様に垂直配向方式の液晶表示装置
を作成し、焼き付き官能評価を行った。それぞれの抵抗
値での焼き付き官能評価は表15、表16の結果に一致
し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示
品位がOKレベルであった。
Example 30 In the production of the color filters of Examples 36 to 39,
After forming the alignment division projections, a columnar material having a height of 4 μm and an area of 100 μm was periodically formed on the substrate using a photosensitive resin to form a spacer for maintaining a cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination.
A vertical alignment type liquid crystal display device was prepared in the same manner as in Examples 36 to 39, and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluation at each resistance value was in agreement with the results of Tables 15 and 16, and the display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0206】実施例31 駆動回路をガラス基板上形成した反射型低温ポリシリコ
ンTFT−ツイステッドネマチック(TN)方式の液晶
表示装置において実施した。
Example 31 A driving circuit was formed in a reflective low temperature polysilicon TFT-twisted nematic (TN) liquid crystal display device formed on a glass substrate.

【0207】液晶表示装置の作製は実施例21と同様に
行った。カラーフィルター基板の作製は実施例26と同
様に作製したが、透明保護膜を形成した後、スパッタリ
ング法により透明導電膜としてITO膜を形成した。カ
ラーフィルター上のITO膜がコモン電極としての役割
をになう。
A liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 21. The color filter substrate was manufactured in the same manner as in Example 26, but after forming the transparent protective film, the ITO film was formed as the transparent conductive film by the sputtering method. The ITO film on the color filter serves as a common electrode.

【0208】実施例21と同様に該配向膜に必要に応じ
て金属粒子の酸化インジウム錫の種類、濃度を変えて、
配向膜の抵抗値を変えた。配向膜に添加した酸化インジ
ウム錫の粒径は5〜20nmのものを選択した。金属粒
子には必要に応じて表面処理を施した。各配向膜を液晶
表示装置用基板上に印刷、その後を液晶を配向させるた
めのラビング処理を配向膜に施し、液晶表示装置を作製
した。
In the same manner as in Example 21, the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles in the orientation film were changed as necessary,
The resistance value of the alignment film was changed. The particle size of the indium tin oxide added to the alignment film was selected to be 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device, and then a rubbing treatment for aligning liquid crystals was applied to the alignment film to manufacture a liquid crystal display device.

【0209】焼き付きの官能評価は実施例1と同様にお
こなった。
The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0210】採点した結果を表17に示す。0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準86〜水準94におい
て焼き付きがOKレベルであったが、画面の周縁部が中
央部に比して焼き付きの傾向があった。水準87〜水準
94が表示品位が良好であった。
Table 17 shows the scored results. 0.98 x
The image sticking was OK at the level 86 to the level 94 satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2, but there was a tendency for the image sticking in the peripheral portion of the screen compared to the central portion. Level 87 to level 94 had good display quality.

【0211】[0211]

【表17】 [Table 17]

【0212】実施例32 実施例31と同様に反射型低温ポリシリコンTFT−ツ
イステッドネマチック(TN)方式の液晶表示装置にお
いて実施した。ただし、使用する液晶を変更した。また
配向膜も変更した。液晶の抵抗値を測定したところ4.
13×1011Ω・cmであった。採点した結果を表18
に示す。0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準9
7〜水準105において焼き付きがOKレベルであった
が、画面の周縁部が中央部に比して焼き付きの傾向があ
った。水準96〜水準105が表示品位が良好であっ
た。
Example 32 The same operation as in Example 31 was carried out in a reflective low temperature polysilicon TFT-twisted nematic (TN) type liquid crystal display device. However, the liquid crystal used was changed. The alignment film was also changed. When the resistance value of the liquid crystal was measured, 4.
It was 13 × 10 11 Ω · cm. Table 18 shows the scored results.
Shown in. Level 9 satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2
Although the image sticking was OK in the range of 7 to 105, the peripheral portion of the screen had a tendency of image sticking as compared with the central portion. Level 96 to level 105 had good display quality.

【0213】[0213]

【表18】 [Table 18]

【0214】実施例33 実施例31と32と同様に反射型低温ポリシリコンTF
T−ツイステッドネマチック(TN)方式の液晶表示装
置において実施した。ただし、実施例23と同様に金属
粒子として酸化インジウム、酸化錫、カドニウムドープ
酸化錫、酸化チタン、二酸化チタン、酸化亜鉛、および
それらの混合物をそれぞれ配向膜中に分散させ、それぞ
れ抵抗値を表17、18の抵抗値に一致するように調合
した。配向膜に添加した金属粒子の粒径は5〜20nm
のものを選択した。金属粒子には必要に応じて表面処理
を施した。それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価結果
は表17、表18の実施例31、32の結果に一致し、
0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位
がOKレベルであった。
Example 33 Similar to Examples 31 and 32, reflective low temperature polysilicon TF was used.
It was carried out in a liquid crystal display device of T-Twisted Nematic (TN) system. However, in the same manner as in Example 23, indium oxide, tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide, zinc oxide, and mixtures thereof were dispersed in the alignment film as metal particles, and the respective resistance values were set in Table 17. , 18 resistance values were prepared. The particle size of the metal particles added to the alignment film is 5 to 20 nm.
I chose one. The metal particles were surface-treated as needed. The burn-in sensory evaluation results at the respective resistance values agree with the results of Examples 31 and 32 in Tables 17 and 18,
The display quality was OK level at a level satisfying 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0215】実施例34 実施例31と32と同様にTN方式の液晶表示装置を作
製した。ただし、実施例24と同様に、配向膜材料中に
金属アルコキシドを含むものをもちいた。金属アルコキ
シドとしては、In(OCH(CH323、Sn(O
CH(CH324、Zn(OCH(CH322、Cd
(OCH(CH322、In(OCH2CH2CH2CH
33、Sn(OCH2CH2CH2CH34、Zn(OC
2CH2CH2CH32、Cd(OCH2CH2CH2CH
32、In(OC253、Sn(OC254、Zn
(OC252、Cd(OC252をそれぞれ配向膜樹
脂組成中に持つものを用い、それぞれ抵抗値を表9、1
0の抵抗値に一致するように調合した。それぞれの抵抗
値での焼き付き官能評価結果は表17、表18の実施例
31、32の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧
Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 34 A TN type liquid crystal display device was produced in the same manner as in Examples 31 and 32. However, as in Example 24, an alignment film material containing a metal alkoxide was used. Examples of the metal alkoxide include In (OCH (CH 3 ) 2 ) 3 and Sn (O
CH (CH 3 ) 2 ) 4 , Zn (OCH (CH 3 ) 2 ) 2 , Cd
(OCH (CH 3 ) 2 ) 2 , In (OCH 2 CH 2 CH 2 CH
3 ) 3 , Sn (OCH 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 4 , Zn (OC
H 2 CH 2 CH 2 CH 3 ) 2 , Cd (OCH 2 CH 2 CH 2 CH
3 ) 2 , In (OC 2 H 5 ) 3 , Sn (OC 2 H 5 ) 4 , Zn
(OC 2 H 5 ) 2 and Cd (OC 2 H 5 ) 2 were used in the orientation film resin composition, and the resistance values are shown in Tables 9 and 1, respectively.
Formulated to match a resistance value of 0. The results of the burn-in sensory evaluation at the respective resistance values agree with the results of Examples 31 and 32 in Tables 17 and 18, and 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧
The display quality was OK level when Ral2 was satisfied.

【0216】実施例35 実施例31〜34のカラーフィルターの作製において、
透明保護膜および透明導電膜の形成後、感光性アクリル
樹脂をもちいて該基板上に高さが4μm、面積100μ
mの柱状物を周期的に形成し、セルギャップ保持用のス
ペーサとした。さらにその上の最表面に配向膜を印刷
し、乾燥し、焼成した。張り合わせの際には球形のポリ
マビーズを用いなかった。実施例31〜34と同様に液
晶表示装置を作成し、焼き付き官能評価を行った。それ
ぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表17、表18の
実施例31、実施例32の結果に一致し、0.98×R
lc≧Ral1≧Ral2を満たす水準で表示品位がOKレベル
であった。
Example 35 In the production of the color filters of Examples 31 to 34,
After forming the transparent protective film and the transparent conductive film, a photosensitive acrylic resin is used to form a height of 4 μm on the substrate and an area of 100 μm.
Columnar objects of m were periodically formed to serve as spacers for maintaining the cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination. Liquid crystal display devices were prepared in the same manner as in Examples 31 to 34, and a burn-in sensory evaluation was performed. The burn-in sensory evaluation at each resistance value was in agreement with the results of Example 31 and Example 32 in Table 17 and Table 18, and was 0.98 × R.
The display quality was an OK level at a level satisfying lc ≧ Ral1 ≧ Ral2.

【0217】実施例36 駆動回路をガラス基板上形成した反射型低温ポリシリコ
ンTFT−ツイステッドネマチック(TN)方式の液晶
表示装置において実施した。
Example 36 A driving circuit was formed in a reflective low temperature polysilicon TFT-twisted nematic (TN) type liquid crystal display device formed on a glass substrate.

【0218】液晶表示装置の作製は実施例21と同様に
行った。カラーフィルター基板の作製は実施例26と同
様に作製したが、ブラックマトリックスは形成しなかっ
た。ただし額縁は形成した。額縁には実施例26と同様
に酸窒化チタンを分散した樹脂をもちいている。また透
明保護膜を形成した後、スパッタリング法により透明導
電膜としてITO膜を形成した。カラーフィルター上の
ITO膜がコモン電極としての役割をになう。
A liquid crystal display device was manufactured in the same manner as in Example 21. A color filter substrate was produced in the same manner as in Example 26, but no black matrix was formed. However, the frame was formed. As in Example 26, a resin in which titanium oxynitride is dispersed is used for the frame. After forming a transparent protective film, an ITO film was formed as a transparent conductive film by a sputtering method. The ITO film on the color filter serves as a common electrode.

【0219】実施例21と同様に該配向膜に必要に応じ
て金属粒子の酸化インジウム錫の種類、濃度を変えて、
配向膜の抵抗値を変えた。配向膜に添加した酸化インジ
ウム錫の粒径は5〜20nmのものを選択した。金属粒
子には必要に応じて表面処理を施した。各配向膜を液晶
表示装置用基板上に印刷、その後を液晶を配向させるた
めのラビング処理を配向膜に施し、液晶表示装置を作製
した。
In the same manner as in Example 21, the kind and concentration of indium tin oxide of the metal particles were changed in the orientation film as needed,
The resistance value of the alignment film was changed. The particle size of the indium tin oxide added to the alignment film was selected to be 5 to 20 nm. The metal particles were surface-treated as needed. Each alignment film was printed on a substrate for a liquid crystal display device, and then a rubbing treatment for aligning liquid crystals was applied to the alignment film to manufacture a liquid crystal display device.

【0220】焼き付きの官能評価は実施例1と同様にお
こなった。
The sensory evaluation of image sticking was performed in the same manner as in Example 1.

【0221】採点した結果を表19に示す。0.98×
Rlc≧Ral1≧Ral2を満たす水準86〜水準94におい
て焼き付きがOKレベルであったが、画面の周縁部が中
央部に比して焼き付きの傾向があった。水準87〜水準
94が表示品位が良好であった。
The results of scoring are shown in Table 19. 0.98 x
The image sticking was OK at the level 86 to the level 94 satisfying Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2, but there was a tendency for the image sticking in the peripheral portion of the screen compared to the central portion. Level 87 to level 94 had good display quality.

【0222】[0222]

【表19】 [Table 19]

【0223】実施例37 実施例36のカラーフィルターの作製において、透明保
護膜および透明導電膜の形成後、感光性アクリル樹脂を
もちいて該基板上に高さが4μm、面積100μmの柱
状物を周期的に形成し、セルギャップ保持用のスペーサ
とした。さらにその上の最表面に配向膜を印刷し、乾燥
し、焼成した。張り合わせの際には球形のポリマビーズ
を用いなかった。実施例36と同様に偏光板等を貼り付
け液晶表示装置を作製し、焼き付き官能評価を行った。
それぞれの抵抗値での焼き付き官能評価は表19の実施
例36の結果に一致し、0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2
を満たす水準で表示品位がOKレベルであった。
Example 37 In the manufacture of the color filter of Example 36, after the transparent protective film and the transparent conductive film were formed, the photosensitive acrylic resin was used to form columnar objects having a height of 4 μm and an area of 100 μm on the substrate. To form a spacer for maintaining the cell gap. Further, an alignment film was printed on the outermost surface, dried and fired. Spherical polymer beads were not used during lamination. Similarly to Example 36, a polarizing plate or the like was attached to manufacture a liquid crystal display device, and a burn-in sensory evaluation was performed.
The burn-in sensory evaluation at each resistance value was in agreement with the result of Example 36 in Table 19, and 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.
The display quality was an OK level at a level satisfying the above conditions.

【0224】[0224]

【発明の効果】本発明によれば、焼き付きの低減された
液晶表示装置を提供することができる。
According to the present invention, a liquid crystal display device with reduced image sticking can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1〜4、26〜29を説明する液晶表示
装置を示す断面概略図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 1 to 4 and 26 to 29.

【図2】実施例5、30を説明する液晶表示装置を示す
断面概略図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 5 and 30.

【図3】実施例6〜9、31〜34を説明する液晶表示
装置を示す断面概略図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 6 to 9 and 31 to 34.

【図4】実施例10、35を説明する液晶表示装置を示
す断面概略図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 10 and 35.

【図5】実施例11〜14、36〜39を説明する液晶
表示装置を示す断面概略図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 11 to 14 and 36 to 39.

【図6】実施例15、30を説明する液晶表示装置を示
す断面概略図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 15 and 30.

【図7】実施例16〜19を説明する液晶表示装置を示
す断面概略図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a liquid crystal display device for explaining Examples 16 to 19.

【図8】実施例20を説明する液晶表示装置を示す断面
概略図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing a liquid crystal display device for explaining an twentieth embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:偏光板 2:ガラス基板 3:ゲート電極 4:層間絶縁膜 5:画素電極 6:アクティブ素子付き基板側配向膜 7:液晶 8:ビーズスペーサ 9:着色画素層 10:ブラックマトリックス 11:透明保護膜 12:共通電極 13:アクティブ素子付き基板の対向側基板上の配向膜 14:柱状物 15:透明導電膜 16:配向分割用突起 17:着色層を2層積層して形成したブラックマトリッ
クス 18:着色層を3層積層して形成した箇所 19:感光性樹脂で作製した柱状体 20:19と同じ感光性樹脂で19と同時形成した配向
分割用突起
1: Polarizing plate 2: Glass substrate 3: Gate electrode 4: Interlayer insulating film 5: Pixel electrode 6: Alignment film on substrate side with active element 7: Liquid crystal 8: Bead spacer 9: Colored pixel layer 10: Black matrix 11: Transparent protection Film 12: Common electrode 13: Alignment film 14 on the opposite side of the substrate with active elements 14: Columns 15: Transparent conductive film 16: Alignment division projections 17: Black matrix 18 formed by stacking two colored layers: Location 19 formed by stacking three colored layers: Alignment division projections formed simultaneously with 19 using the same photosensitive resin as the columnar body 20:19 made of photosensitive resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H090 HA03 HB07Y HB08Y HB18Y HC05 LA05 LA15 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB13 GA06 HA06 LA01 2H092 GA14 HA04 HA11 JA24 PA02 PA08 PA09 QA06    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F-term (reference) 2H090 HA03 HB07Y HB08Y HB18Y                       HC05 LA05 LA15                 2H091 FA02Y FA35Y FB02 FB13                       GA06 HA06 LA01                 2H092 GA14 HA04 HA11 JA24 PA02                       PA08 PA09 QA06

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】2枚の液晶表示装置用基板間に液晶を介し
てなり、該液晶表示装置用基板の液晶に接する面の側に
配向膜を有している液晶表示装置において、液晶の体積
抵抗値をRlc、配向膜の体積抵抗値をRalとすると、 0.98×Rlc≧Ral の関係を満足することを特徴とする液晶表示装置。
Claim: What is claimed is: 1. A liquid crystal display device comprising a liquid crystal display device substrate and a liquid crystal layer between the two liquid crystal display device substrates. A liquid crystal display device characterized by satisfying the relationship of 0.98 × Rlc ≧ Ral, where Rlc is the resistance value and Ral is the volume resistance value of the alignment film.
【請求項2】2枚の液晶表示装置用基板間に液晶を介し
てなり、該液晶表示装置用基板の液晶に接する面の側に
配向膜を有しており、一方の液晶表示装置用基板の液晶
に接する面の側にアクティブ素子および画素電極を有し
ている液晶表示装置において、液晶の体積抵抗値をRl
c、アクティブ素子および画素電極を有している基板上
の配向膜の体積抵抗値をRal1、対向する基板上の配向
膜の体積抵抗値をRal2とすると、 0.98×Rlc≧Ral1,および、 0.98×Rlc≧Ral2 の関係を満足することを特徴とする液晶表示装置。
2. A liquid crystal display device substrate comprising two liquid crystal display device substrates with a liquid crystal interposed therebetween and having an alignment film on the side of the liquid crystal display device substrate in contact with the liquid crystal. In the liquid crystal display device having the active element and the pixel electrode on the side in contact with the liquid crystal, the volume resistance value of the liquid crystal is Rl.
c, the volume resistance value of the alignment film on the substrate having the active element and the pixel electrode is Ral1, and the volume resistance value of the alignment film on the opposing substrate is Ral2, 0.98 × Rlc ≧ Ral1, and A liquid crystal display device characterized by satisfying the relationship of 0.98 × Rlc ≧ Ral2.
【請求項3】0.98×Rlc≧Ral1≧Ral2であること
を特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。
3. A liquid crystal display device according to claim 2, wherein 0.98 × Rlc ≧ Ral1 ≧ Ral2.
【請求項4】配向膜中に導電性粒子を含むことを特徴と
する請求項1から3のいずれかに記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the alignment film contains conductive particles.
【請求項5】導電性粒子として、酸化インジウム、酸化
錫、酸化インジウム錫、カドニウムドープ酸化錫、酸化
チタン、二酸化チタン、酸化亜鉛のうちの一種または複
数種を使用することを特徴とする請求項4に記載の液晶
表示装置。
5. The conductive particles are one or more of indium oxide, tin oxide, indium tin oxide, cadmium-doped tin oxide, titanium oxide, titanium dioxide and zinc oxide. 4. The liquid crystal display device according to item 4.
【請求項6】配向膜中に金属アルコキシドを含むことを
特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の液晶表示
装置。
6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the alignment film contains a metal alkoxide.
【請求項7】液晶表示方式がIPS方式であることを特
徴とする請求項1から6のいずれかに記載の液晶表示装
置。
7. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display system is an IPS system.
【請求項8】液晶表示方式が垂直配向方式であることを
特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の液晶表示
装置。
8. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display system is a vertical alignment system.
【請求項9】低温多結晶シリコンTFTまたは連続粒界
結晶シリコンTFTを用いたことを特徴とする請求項1
から8のいずれかに記載の液晶表示装置。
9. A low temperature polycrystalline silicon TFT or a continuous grain boundary crystalline silicon TFT is used.
9. The liquid crystal display device according to any one of items 8 to 8.
【請求項10】2枚の液晶表示装置用基板のうちの少な
くとも一方が、着色画素を有するカラーフィルタ基板で
あることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載
の液晶表示装置。
10. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein at least one of the two liquid crystal display device substrates is a color filter substrate having colored pixels.
【請求項11】カラーフィルタ基板が額縁またはブラッ
クマトリックスを有し、該額縁またはブラックマトリッ
クスが、顔料を含有した樹脂であることを特徴とする請
求項10に記載の液晶表示装置。
11. The liquid crystal display device according to claim 10, wherein the color filter substrate has a frame or a black matrix, and the frame or the black matrix is a resin containing a pigment.
【請求項12】額縁またはブラックマトリックスを構成
する顔料が、金属酸化物であることを特徴とする請求項
11に記載の液晶表示装置。
12. The liquid crystal display device according to claim 11, wherein the pigment constituting the frame or the black matrix is a metal oxide.
【請求項13】金属酸化物として、少なくとも酸窒化チ
タンを含有することを特徴とする請求項12に記載の液
晶表示装置。
13. The liquid crystal display device according to claim 12, wherein the metal oxide contains at least titanium oxynitride.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106165A (en) * 2004-10-01 2006-04-20 Victor Co Of Japan Ltd Liquid crystal display
JP2006267882A (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Sharp Corp Liquid crystal display panel and liquid crystal display device equipped with the same
JP2007003980A (en) * 2005-06-27 2007-01-11 Seiko Epson Corp Liquid crystal device, and method for manufacturing the liquid crystal device
JP2007292893A (en) * 2006-04-21 2007-11-08 Fujimura Tadamasa Liquid crystal alignment layer and application liquid for liquid crystal alignment layer
JP2010160529A (en) * 2010-04-26 2010-07-22 Sharp Corp Liquid crystal display panel and liquid crystal display equipped with the same
JP2011085613A (en) * 2009-10-13 2011-04-28 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
WO2012118006A1 (en) * 2011-02-28 2012-09-07 シャープ株式会社 Liquid crystal display
JP2013218080A (en) * 2012-04-06 2013-10-24 Japan Display Inc Liquid crystal display device
US8632862B2 (en) 2011-02-01 2014-01-21 Samsung Display Co., Ltd. Vertical alignment layer and liquid crystal display including the same
JP2014044430A (en) * 2013-10-24 2014-03-13 Japan Display Inc Liquid crystal display device, and alignment film material for photo-alignment film
CN104656311A (en) * 2013-11-15 2015-05-27 Jsr株式会社 Manufacturing method for liquid crystal alignment film, substrate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof, and liquid crystal display device
US9285636B2 (en) 2008-05-27 2016-03-15 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
JP2017223796A (en) * 2016-06-14 2017-12-21 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
CN111655801A (en) * 2018-01-30 2020-09-11 株式会社Lg化学 Coating composition

Cited By (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006106165A (en) * 2004-10-01 2006-04-20 Victor Co Of Japan Ltd Liquid crystal display
JP4519691B2 (en) * 2005-03-25 2010-08-04 シャープ株式会社 Liquid crystal display panel and liquid crystal display device including the same
JP2006267882A (en) * 2005-03-25 2006-10-05 Sharp Corp Liquid crystal display panel and liquid crystal display device equipped with the same
JP2007003980A (en) * 2005-06-27 2007-01-11 Seiko Epson Corp Liquid crystal device, and method for manufacturing the liquid crystal device
JP4701869B2 (en) * 2005-06-27 2011-06-15 セイコーエプソン株式会社 Liquid crystal device
JP4659668B2 (en) * 2006-04-21 2011-03-30 藤村 忠正 Liquid crystal alignment film and coating liquid for liquid crystal alignment film
JP2007292893A (en) * 2006-04-21 2007-11-08 Fujimura Tadamasa Liquid crystal alignment layer and application liquid for liquid crystal alignment layer
US9285636B2 (en) 2008-05-27 2016-03-15 Japan Display Inc. Liquid crystal display device
JP2011085613A (en) * 2009-10-13 2011-04-28 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
JP2010160529A (en) * 2010-04-26 2010-07-22 Sharp Corp Liquid crystal display panel and liquid crystal display equipped with the same
US9244309B2 (en) 2011-02-01 2016-01-26 Samsung Display Co., Ltd. Vertical alignment layer and liquid crystal display including the same
US8632862B2 (en) 2011-02-01 2014-01-21 Samsung Display Co., Ltd. Vertical alignment layer and liquid crystal display including the same
WO2012118006A1 (en) * 2011-02-28 2012-09-07 シャープ株式会社 Liquid crystal display
JP2013218080A (en) * 2012-04-06 2013-10-24 Japan Display Inc Liquid crystal display device
JP2014044430A (en) * 2013-10-24 2014-03-13 Japan Display Inc Liquid crystal display device, and alignment film material for photo-alignment film
JP2015118363A (en) * 2013-11-15 2015-06-25 Jsr株式会社 Method of producing liquid crystal alignment film, substrate for liquid crystal display element and method of producing the same, and liquid crystal display element
CN104656311A (en) * 2013-11-15 2015-05-27 Jsr株式会社 Manufacturing method for liquid crystal alignment film, substrate for liquid crystal display device and manufacturing method thereof, and liquid crystal display device
CN104656311B (en) * 2013-11-15 2018-11-23 Jsr株式会社 The manufacturing method of liquid crystal orientation film, substrate used for liquid crystal display element and its manufacturing method and liquid crystal display element
TWI642704B (en) * 2013-11-15 2018-12-01 Jsr股份有限公司 Method for producing liquid crystal alignment film, substrate for liquid crystal display element and method for producing the same, and liquid crystal display element
JP2017223796A (en) * 2016-06-14 2017-12-21 株式会社ジャパンディスプレイ Display device
CN111655801A (en) * 2018-01-30 2020-09-11 株式会社Lg化学 Coating composition
JP2021512350A (en) * 2018-01-30 2021-05-13 エルジー・ケム・リミテッド Coating composition
JP7225507B2 (en) 2018-01-30 2023-02-21 エルジー・ケム・リミテッド coating composition
US11629292B2 (en) 2018-01-30 2023-04-18 Lg Chem, Ltd. Coating composition

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