JP7135799B2 - Oriented substrate with electrodes and liquid crystal display element - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示素子、及び液晶表示素子に用いられる電極付き配向基板に関する。 The present invention relates to a liquid crystal display element and an alignment substrate with electrodes used for the liquid crystal display element.

液晶表示素子は、薄型、軽量、低消費電力などの特性を有していることから、携帯電話、コンピュータ及びテレビの表示素子等の幅広い領域に用途が拡大している。液晶表示素子の表示原理として、TN(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)等様々な表示モードが提案されているが、そのほとんどは、配向基板によって液晶分子の配向方向を予め規制する必要がある。 Liquid crystal display devices have characteristics such as thinness, light weight, and low power consumption, and their applications are expanding in a wide range of fields such as display devices for mobile phones, computers, and televisions. Various display modes such as TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), and FLC (Ferroelectric Liquid Crystal) have been proposed as the display principle of liquid crystal display elements. It is necessary to regulate the alignment direction in advance.

液晶分子の配向方向を規制する方法として、基板上にポリイミド又はポリイミド前駆体を含む溶液を用いて形成される配向膜を形成した後に、レーヨンや綿などの布を巻いたローラーを、回転数並びにローラー及び基板の距離を一定に保った状態で回転させ、配向膜の表面を一方向に擦る手法(ラビング法)や、直線偏光紫外線を照射してポリイミドの分子配向に異方性を発生させる手法(光配向法)等が採用されている。これらの配向処理により、液晶分子は配向膜付き基板表面に強く束縛され、一定方向に配向するようになる。以下、この液晶分子が配向膜付き基板表面に束縛され、配向する方向を、「配向容易軸」と表記する。 As a method for regulating the alignment direction of liquid crystal molecules, an alignment film formed using a solution containing polyimide or a polyimide precursor is formed on a substrate, and then a roller wound with cloth such as rayon or cotton is rotated at different speeds. A method in which the surface of the alignment film is rubbed in one direction (rubbing method) by rotating the roller while maintaining a constant distance between the substrate and the substrate, or a method in which linearly polarized ultraviolet rays are irradiated to generate anisotropy in the molecular orientation of the polyimide. (photo-alignment method) and the like are adopted. By these alignment treatments, the liquid crystal molecules are strongly bound to the surface of the substrate with the alignment film and oriented in a certain direction. Hereinafter, the direction in which the liquid crystal molecules are bound by the surface of the substrate with the alignment film and aligned is referred to as the "easy alignment axis".

近年、液晶表示素子の低駆動電圧性を高めるための改善策として、基板の一方に強アンカリング膜を有し、他方に弱アンカリング膜を有する液晶表示素子(例えば、特許文献1参照)が提案されている。尚、本明細書では、上述の配向膜のような液晶分子の配向方向を規制する膜を「強アンカリング膜」と表記し、規制する能力を「強アンカリング能」と表記する。同様に、基板表面の配向規制力(アンカリング)が弱く、膜近傍でも電界等によって液晶分子の向きを変化させることができる膜を「弱アンカリング膜」と表記し、膜近傍でも電界等によって液晶分子の向きを変化させることができる能力を「弱アンカリング能」と表記する。即ち、「強アンカリング膜」とは「強アンカリング能を有する膜」である。「弱アンカリング膜」とは「弱アンカリング能を有する膜」である。又、強アンカリング能を有する膜を形成可能な材料「強アンカリング膜形成用材料」と表記し、弱アンカリング能を有する膜を形成可能な材料を「弱アンカリング膜形成用材料」と表記する。 In recent years, as an improvement measure for improving the low driving voltage property of a liquid crystal display element, a liquid crystal display element having a strong anchoring film on one side of a substrate and a weak anchoring film on the other side (see, for example, Patent Document 1) has been proposed. Proposed. In this specification, a film that regulates the orientation direction of liquid crystal molecules, such as the alignment film described above, is referred to as a "strong anchoring film", and the ability to regulate is referred to as a "strong anchoring ability". Similarly, a film that has a weak orientation regulating force (anchoring) on the substrate surface and can change the direction of the liquid crystal molecules by an electric field or the like even in the vicinity of the film is referred to as a "weak anchoring film." The ability to change the orientation of liquid crystal molecules is referred to as "weak anchoring ability". That is, a "strong anchoring film" is a "film having strong anchoring ability". A "weak anchoring membrane" is a "membrane having weak anchoring ability". A material capable of forming a film having a strong anchoring ability is referred to as a "strong anchoring film-forming material", and a material capable of forming a film having a weak anchoring ability is referred to as a "weak anchoring film-forming material". write.

又、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する層のことを「両アンカリング層」と表記する。尚、通常、液晶表示素子用「配向膜」とは上述の強アンカリング膜を表すが、本明細書では両アンカリング層も「配向膜」の一つの形態であるとする。 A layer having both a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability is referred to as "both anchoring layers". Although the term "alignment film" for a liquid crystal display device usually indicates the strong anchoring film described above, both anchoring layers are considered to be one form of the "alignment film" in this specification.

特許文献1の実施例では、一方に基板表面にポリマーブラシを形成した弱アンカリング膜、及び他方にラビング処理を施したポリイミド膜である強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が記載されている。弱アンカリング膜は、液晶分子の配向規制力が弱いため、一方に弱アンカリング膜、他方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子は、両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子と比較して、低駆動電圧性が高いというメリットがあるが、同時に電圧OFF時の表示応答性が低いというデメリットがある。 An example of Patent Document 1 describes a liquid crystal display element having a weak anchoring film on one side of which a polymer brush is formed on the surface of a substrate and a strong anchoring film which is a rubbed polyimide film on the other side. . Since the weak anchoring film has a weak alignment regulating force of the liquid crystal molecules, a liquid crystal display element having a weak anchoring film on one side and a strong anchoring film on the other side is different from a liquid crystal display element having strong anchoring films on both sides. In comparison, it has the merit of being high in low driving voltage, but at the same time has the demerit of low display responsiveness when the voltage is turned off.

情報端末に用いられる液晶表示素子では、動画を再生する等の電圧OFF時の表示応答性を重視する領域、及び時刻を表示する等の電圧OFF時の表示応答性はさほど重要ではないが、使用時間が長く省電力性を重視する領域が存在する。 In the liquid crystal display element used for information terminals, the display responsiveness when the voltage is off is not so important, such as when reproducing moving images, and when the voltage is off, such as when displaying the time. There is an area where the time is long and power saving is emphasized.

電圧OFF時の表示応答性が高いことに対しては両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が有効であり、省電力性に優れることに対しては一方に強アンカリング膜、他方に弱アンカリング膜を備えた液晶表示素子が有効である。 A liquid crystal display element having a strong anchoring film on both sides is effective for high display responsiveness when the voltage is off, and a strong anchoring film on one side and a strong anchoring film on the other side for excellent power saving. A liquid crystal display device having a weak anchoring film is effective.

通常、単一の液晶表示素子中において、電圧OFF時の表示応答性及び省電力性をそれぞれ重視する2種類の領域が存在する場合には、電圧OFF時の表示応答性を優先し、両方に強アンカリング膜を備えた液晶表示素子が用いられている。そのため、弱アンカリング膜を備えていることによる液晶表示素子の低駆動電圧性向上のメリットは知られていたが、電圧OFF時の表示応答性低下が障壁となり、その特性を重視する領域の存在する液晶表示素子には弱アンカリング膜を使用できない状況であった。 Usually, in a single liquid crystal display element, when there are two types of regions where the display responsiveness when the voltage is off and the power saving are emphasized respectively, priority is given to the display responsiveness when the voltage is off, and A liquid crystal display device having a strong anchoring film is used. Therefore, the advantage of improving the low driving voltage property of the liquid crystal display element by providing the weak anchoring film has been known, but the deterioration of the display response when the voltage is off becomes a barrier, and there is an area where the property is emphasized. However, it was not possible to use a weak anchoring film for liquid crystal display elements.

特開2017-010030JP 2017-010030

本発明の課題は、単一の液晶表示素子中において、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域が存在する液晶表示素子、及びその液晶表示素子に用いられる電極付き配向基板を提供することである。 An object of the present invention is to provide a liquid crystal display element in which both a region having a high low driving voltage property and a region having a high display response when the voltage is off exist in a single liquid crystal display device, and to the liquid crystal display device. An object of the present invention is to provide an oriented substrate with electrodes that can be used.

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、基板上に電極並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた電極付き配向基板であって、電極が前記基板と平行な電界を生成可能であり、且つ基板と平行な電界を生成する電極領域上における両アンカリング層の面積に占める弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40~100%である画素を備えた電極付き配向基板を備えた液晶表示素子により、上記目的を達することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the inventors of the present invention have found that an electrode provided on a substrate and both anchoring layers having both a region having a weak anchoring ability and a region having a strong anchoring ability An oriented substrate with electrodes capable of generating an electric field parallel to the substrate, and a region having weak anchoring ability occupying the area of both anchoring layers on the electrode region generating the electric field parallel to the substrate The present inventors have found that the above object can be achieved by a liquid crystal display device having an electrode-attached alignment substrate having pixels with an area ratio of 40 to 100%, and have completed the present invention.

本発明は以下の構成を含む。
[1] 基板上に、少なくとも電極、並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた、電極付き配向基板であって;
前記電極は前記基板と平行な電界を生成可能であり;
前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40~100%である画素を備えた電極付き配向基板。
The present invention includes the following configurations.
[1] An electrode-attached oriented substrate comprising, on a substrate, at least an electrode and both anchoring layers having both a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability;
the electrodes are capable of generating an electric field parallel to the substrate;
An electrode provided with a pixel, wherein the ratio of the area of the area having the weak anchoring ability to the area of the two anchoring layers is 40 to 100% on the electrode area that generates an electric field parallel to the substrate. Oriented substrate.

[2] 前記電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0~20%である画素を更に備えた、[1]項に記載の電極付き配向基板。 [2] The pixel according to item [1], further comprising a pixel in which the ratio of the area of the region having the weak anchoring ability to the area of the two anchoring layers on the electrode region is 0 to 20%. oriented substrate with electrodes.

[3] 前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、両アンカリング層の面積に占める、弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40~100%である画素において、前記電極領域以外の、非電極領域上の前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0~20%である、[1]項に記載の電極付き配向基板。 [3] In a pixel in which the ratio of the area of the region having weak anchoring ability to the area of both anchoring layers on the electrode region that generates an electric field parallel to the substrate is 40 to 100%, The oriented substrate with electrodes according to item [1], wherein the ratio of the area of the area having the weak anchoring ability to the area of both the anchoring layers on the non-electrode area other than the area is 0 to 20%. .

[4] [1]~[3]のいずれか1項に記載の電極付き配向基板、及び液晶層を挟んでこれと対向する第2の配向基板を備えた液晶表示素子であって;
前記第2の配向基板が強アンカリング膜を備えた液晶表示素子。
[4] A liquid crystal display device comprising the alignment substrate with electrodes according to any one of [1] to [3] and a second alignment substrate facing the alignment substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween;
A liquid crystal display device, wherein the second alignment substrate is provided with a strong anchoring film.

本発明の好ましい態様に係る電極付き配向基板は、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する。そのために低駆動電圧性に優れる領域及び電圧OFF時の表示応答性に優れる領域の両方の領域を有する液晶表示素子を作製することができる。特に、IPS表示モードの液晶表示素子の2枚の強アンカリング膜の内、一方を両アンカリング層に置き換えた液晶表示素子として有用である。 An oriented substrate with electrodes according to a preferred embodiment of the present invention has both regions having weak anchoring ability and regions having strong anchoring ability. Therefore, a liquid crystal display element having both a region excellent in low driving voltage property and a region excellent in display response when the voltage is turned off can be produced. In particular, it is useful as a liquid crystal display element in which one of the two strong anchoring films of an IPS display mode liquid crystal display element is replaced with both anchoring layers.

画素、電極領域、及び非電極領域の例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing examples of pixels, electrode regions, and non-electrode regions; 本発明の電極付き配向基板の領域パターン例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an example of a region pattern of the oriented substrate with electrodes of the present invention. 本発明の電極付き配向基板の領域パターン例において、電極形状に合わせた前記領域パターンの形状の具体例を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a specific example of the shape of the region pattern matched to the shape of the electrode in the example of the region pattern of the oriented substrate with electrodes of the present invention. 本発明の液晶表示素子10の第1実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット11、偏光板12A、及び偏光板12Bの概略構成を示す断面図である。尚、両アンカリング層13が、弱アンカリング能を有する領域13Aである場合及び強アンカリング能を有する領域13Bである場合の、いずれの場合も図4のように表される。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is sectional drawing which shows schematic structure of 1st Embodiment of the liquid crystal display element 10 of this invention, and the backlight unit 11 for a display, polarizing plate 12A, and polarizing plate 12B. It should be noted that both the cases where both anchoring layers 13 are regions 13A having weak anchoring ability and regions 13B having strong anchoring ability are represented as shown in FIG. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す断面図である。In the first embodiment, the liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy is used, the liquid crystal in the state where the electric field E is applied, and in the case where both the anchoring layers 13 are the regions 13A having a weak anchoring ability FIG. 4 is a cross-sectional view showing the distribution of orientation directions of molecules; 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す断面図である。In the first embodiment, the liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy is used, the liquid crystal in the state where the electric field E is applied, and in the case where both the anchoring layers 13 are the regions 13B having a strong anchoring ability FIG. 4 is a cross-sectional view showing the distribution of orientation directions of molecules; 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界を印加しない状態における、電極線の配線方向及び弱アンカリング膜近傍の液晶分子の配向方向の関係を示す平面図である。尚、両アンカリング層13が、弱アンカリング能を有する領域13Aである場合及び強アンカリング能を有する領域13Bである場合の、いずれの場合も図7のように表される。A plane showing the relationship between the wiring direction of the electrode lines and the orientation direction of the liquid crystal molecules in the vicinity of the weak anchoring film when the liquid crystal compound Lp having positive dielectric anisotropy is used in the first embodiment and no electric field is applied. It is a diagram. FIG. 7 shows both the cases where both anchoring layers 13 are regions 13A having weak anchoring ability and regions 13B having strong anchoring ability. 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す平面図である。In the first embodiment, the liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy is used, the electrode is in a state where an electric field E is applied, and both the anchoring layers 13 are the regions 13A having a weak anchoring ability. FIG. 3 is a plan view showing the relationship between the wiring direction of lines and the orientation of liquid crystal molecules; 前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す平面図である。In the first embodiment, the liquid crystal compound Lp having a positive dielectric anisotropy is used, and the electrode in the state where the electric field E is applied and in the case where both the anchoring layers 13 are the regions 13B having a strong anchoring ability. FIG. 3 is a plan view showing the relationship between the wiring direction of lines and the orientation of liquid crystal molecules; 実施例のIPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び二区画パターンの両アンカリング層の配置の関係を示す平面図である。1つの電極付き配向基板上に画素18が2つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。FIG. 4 is a plan view showing the relationship between the arrangement of Cr comb-teeth electrodes for an IPS cell and the arrangement of both anchoring layers in a two-partition pattern of an example. Two pixels 18 are formed on one alignment substrate with electrodes. The comb-teeth electrodes are arranged in a plane parallel to the substrate along the direction X at regular intervals. 実施例のIPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び第1のストライプパターンの両アンカリング層の配置の関係を示す平面図である。1つの電極付き配向基板上に画素18が2つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。FIG. 4 is a plan view showing the relationship between the arrangement of Cr comb-teeth electrodes for an IPS cell and the arrangement of both anchoring layers of the first stripe pattern in the example. Two pixels 18 are formed on one alignment substrate with electrodes. The comb-teeth electrodes are arranged in a plane parallel to the substrate along the direction X at regular intervals. 実施例のIPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び第2のストライプパターンの両アンカリング層の配置の関係を示す平面図である。1つの電極付き配向基板上に画素18が2つ形成されている。櫛歯電極は基板に平行な面内に、方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。FIG. 4 is a plan view showing the relationship between the arrangement of Cr comb-teeth electrodes for an IPS cell and the arrangement of both anchoring layers of a second stripe pattern in the example. Two pixels 18 are formed on one alignment substrate with electrodes. The comb-teeth electrodes are arranged in a plane parallel to the substrate along the direction X at regular intervals.

<1.本発明の電極付き配向基板>
本発明の電極付き配向基板は、基板上に少なくとも電極並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えることを特徴とする配向基板である。
<1. Oriented substrate with electrodes of the present invention>
The oriented substrate with electrodes of the present invention is an oriented substrate comprising at least an electrode and both anchoring layers having both a region having weak anchoring ability and a region having strong anchoring ability on the substrate. be.

<1-1.電極付き配向基板の構成>
前記電極付き配向基板における基板、電極、及び両アンカリング層の構成は、基板上に前記電極、前記両アンカリング層の順に積層された構成である。
<1-1. Configuration of Oriented Substrate with Electrodes>
The configuration of the substrate, electrodes, and both anchoring layers in the oriented substrate with electrodes is a configuration in which the electrodes and the two anchoring layers are laminated in this order on the substrate.

前記電極は、画素に分割されている。尚、本明細書では、例えばR(赤)、G(緑)、B(青)の3原色の表示用の場合、各色それぞれを「1画素」、R、G、B合わせて「3画素」のように表記することとする。更に、液晶表示素子で表示される画素に対応する、電極付き配向基板の領域も「画素」と表記することとする。 The electrodes are divided into pixels. In this specification, for example, in the case of displaying the three primary colors of R (red), G (green), and B (blue), each color is "1 pixel", and R, G, and B together are "3 pixels". It should be written as Furthermore, the regions of the alignment substrate with electrodes corresponding to the pixels displayed by the liquid crystal display element are also referred to as "pixels".

前記電極は、1画素当り複数本の櫛歯電極で構成されていることが好ましい。この櫛歯電極上及び櫛歯電極間で構成される基板に平行な電界を生成可能な領域を「電極領域」と表記し、電極領域以外の領域を「非電極領域」と表記することとする。即ち、本発明の電極付き配向基板における画素は、電極領域及び非電極領域の両方を有する。 It is preferable that the electrode is composed of a plurality of comb-teeth electrodes per pixel. A region that can generate an electric field parallel to the substrate on and between the comb-teeth electrodes is referred to as an "electrode region", and a region other than the electrode region is referred to as a "non-electrode region". . That is, the pixels in the electrode-attached oriented substrate of the present invention have both electrode regions and non-electrode regions.

前記画素、前記電極領域、及び前記非電極領域の例を図1に示す。なお、図1中の画素電極は一部省略している。 Examples of the pixels, the electrode regions, and the non-electrode regions are shown in FIG. Part of the pixel electrodes in FIG. 1 is omitted.

本発明の電極付き配向基板に用いられる電極の例は、実施例で用いられたCr等の金属電極;並びにITO(Indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、AZO(aluminum doped zinc oxide)、GZO(gallium doped zinc oxide)、及びATO(antimony tin oxide)等の透明電極である。金属電極は透明電極より安価に電極を形成可能である。透明電極を用いることで、金属電極を用いる場合より液晶表示素子の光透過率を向上させることができる。 Examples of electrodes used in the textured substrate with electrodes of the present invention include metal electrodes such as Cr used in the examples; Transparent electrodes such as GZO (gallium doped zinc oxide) and ATO (antimony tin oxide). A metal electrode can be formed at a lower cost than a transparent electrode. By using a transparent electrode, the light transmittance of the liquid crystal display element can be improved more than when using a metal electrode.

<1-2.両アンカリング層の面積に占める弱アンカリング能を有する領域の面積の割合>
本発明の電極付き配向基板は、電極領域上における前記両アンカリング層の面積に占める前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合(以下「弱アンカリング面積割合」と表記)が40~100%である画素を備える。
<1-2. Ratio of area of region having weak anchoring ability to area of both anchoring layers>
In the oriented substrate with electrodes of the present invention, the ratio of the area of the region having the weak anchoring ability to the area of the two anchoring layers on the electrode region (hereinafter referred to as "weak anchoring area ratio") is 40 to 100. % pixels.

電極領域上において、弱アンカリング面積割合の大きい領域は、対応する液晶表示素子の領域の低駆動電圧性が高く、弱アンカリング面積割合の小さい領域は電圧OFF時の表示応答性が高い。 On the electrode region, regions with a large weak anchoring area ratio have a high low driving voltage characteristic of the corresponding regions of the liquid crystal display element, and regions with a small weak anchoring area ratio have a high display response when the voltage is turned off.

そのため、電極領域上の弱アンカリング面積割合の大きい画素及び電極領域上の弱アンカリング面積割合の小さい画素の両方の画素を有する電極付き配向基板を用いることで、単一の液晶表示素子中において、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域が存在する液晶表示素子を作製可能である。 Therefore, by using an oriented substrate with electrodes having both pixels with a large weak anchoring area ratio on the electrode region and pixels with a small weak anchoring area ratio on the electrode region, a single liquid crystal display element can be obtained. , it is possible to manufacture a liquid crystal display element in which both a region having a high low driving voltage property and a region having a high display response when the voltage is turned off exist.

低駆動電圧性が高い領域を有する液晶表示素子を作製するためには、電極領域上の弱アンカリング面積割合が40~100%である画素を備えることが好ましく、電圧OFF時の表示応答性が高い領域を作製するためには、電極領域上の弱アンカリング面積割合が0~20%である画素を備えることが好ましい。低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域を有する液晶表示素子の好ましい例は、電極領域上の弱アンカリング面積割合が80~100%である画素、及び電極領域上の弱アンカリング面積割合が0~20%である画素の両方の画素を備える液晶表示素子である。 In order to produce a liquid crystal display element having a region with a high low driving voltage property, it is preferable to have a pixel having a weak anchoring area ratio of 40 to 100% on the electrode region, and the display response when the voltage is OFF is improved. To create a high area, it is preferable to have pixels with a weak anchoring area percentage on the electrode area of 0-20%. A preferred example of a liquid crystal display element having both a region with high low driving voltage and a region with high display response when voltage is off is a pixel having a weak anchoring area ratio on the electrode region of 80 to 100%, and a pixel having a weak anchoring area ratio on the electrode region of 0 to 20%.

更に、電極領域上の弱アンカリング面積割合の大きい画素の周辺部において、非電極領域の弱アンカリング面積割合を小さくすることで、低駆動電圧性及び電圧OFF時の表示応答性のバランスの良好な領域を有する液晶表示素子を作製可能である。 Furthermore, by reducing the weak anchoring area ratio of the non-electrode region in the peripheral portion of the pixel where the weak anchoring area ratio on the electrode region is large, a good balance between the low drive voltage property and the display response when the voltage is off is achieved. It is possible to manufacture a liquid crystal display element having a wide area.

好ましくは、電極領域上の弱アンカリング面積割合が60~100%であり、非電極領域上の弱アンカリング面積割合が0~20%である。 Preferably, the weak anchoring area percentage on the electrode region is 60-100%, and the weak anchoring area percentage on the non-electrode region is 0-20%.

<1-3.電極付き配向基板の領域パターン>
本発明の電極付き配向基板の両アンカリング層の領域のパターン(以下、「領域パターン」と表記)は、弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域が、1次元又は2次元に規則的に構成されていることが望ましい。領域パターンの規則性があることで、領域パターン作製時の生産性、再現性に優れたものとなる。
<1-3. Region Pattern of Oriented Substrate with Electrodes>
In the pattern of regions of both anchoring layers of the oriented substrate with electrodes of the present invention (hereinafter referred to as “region pattern”), the region having weak anchoring ability and the region having strong anchoring ability are one-dimensional or two-dimensional. It is desirable that the Due to the regularity of the area pattern, the productivity and reproducibility when producing the area pattern are excellent.

前記領域パターンの形状の例は、二区画形状(2a)、ストライプ形状(2b)、格子形状(2c)、水玉形状(2d)である。これらの例を図2に示す。図2の領域(2α)及び(2β)がそれぞれ弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域、又は強アンカリング能を有する領域及び弱アンカリング能を有する領域である。 Examples of the shape of the region pattern are a two-part shape (2a), a stripe shape (2b), a lattice shape (2c), and a polka dot shape (2d). Examples of these are shown in FIG. Regions (2α) and (2β) in FIG. 2 are regions with weak anchoring ability and regions with strong anchoring ability, or regions with strong anchoring ability and regions with weak anchoring ability, respectively.

電極形状に合わせた前記領域パターンの形状の具体例として、電極領域上の弱アンカリング面積割合が100%である画素、及び電極領域上の弱アンカリング面積割合が0%である画素の両方の画素を有する二区画形状の例(3a)、並びに電極領域上の弱アンカリング面積割合が80%であり、且つ非電極領域の弱アンカリング面積割合が0%である画素を有するストライプ形状の例(3b)及び(3c)を図3に示す。図3の領域(3α)及び(3β)は、それぞれ弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域である。 As a specific example of the shape of the region pattern that matches the shape of the electrode, both a pixel having a weak anchoring area ratio on the electrode region of 100% and a pixel having a weak anchoring area ratio of 0% on the electrode region. Example (3a) of a two-part shape with pixels and an example of a stripe shape with pixels in which the area ratio of weak anchoring on the electrode region is 80% and the area ratio of weak anchoring on the non-electrode region is 0% (3b) and (3c) are shown in FIG. Regions (3α) and (3β) in FIG. 3 are regions having weak anchoring ability and strong anchoring ability, respectively.

<2.電極付き配向基板の作製方法>
本発明の電極付き配向基板の作製では、少なくとも電極を備えた基板(以下「電極付き基板」と表記する)上に、両アンカリング層を形成する。
<2. Method for Producing Oriented Substrate with Electrodes>
In the preparation of the oriented substrate with electrodes of the present invention, both anchoring layers are formed on a substrate provided with at least electrodes (hereinafter referred to as "substrate with electrodes").

電極付き配向基板の作製方法の例は、
電極付き基板上に弱アンカリング能を有するベタ膜を形成した後に、紫外線のパターン照射等を用いて部分的にベタ膜のリコート性を変化させ、リコート性の良好な領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで、電極付き配向基板を作製する方法(以下、「作製方法A」と表記);
電極付き基板上にグラビアオフセット印刷及びフレキソ印刷等の印刷方法を用いて弱アンカリング能を有するパターン体を形成した後に、弱アンカリング能を有しない領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで電極付き配向基板を作製する方法(以下、「作製方法B」と表記);
電極付き基板上に弱アンカリング能を有するベタ膜を形成した後に、フォトレジストを使用し、エッチング工程を経ることで弱アンカリング能を有するパターン体を形成し、弱アンカリング能を有しない領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで電極付き配向基板を作製する方法;
電極付き基板上に感光性材料を使用し、フォトリソグラフィ法において弱アンカリング能を有するパターン体を形成した後に、弱アンカリング能を有しない領域に強アンカリング能を有するパターン体を形成することで電極付き配向基板を作製する方法(以下、「作製方法C」と表記);
並びに、電極付き基板上に強アンカリング能を有するベタ膜を形成した後に、インクジェット法において弱アンカリング能を有するパターン体を形成することで、電極付き配向基板を作製する方法である。
An example of a method for producing an oriented substrate with electrodes is
After forming a solid film having weak anchoring ability on a substrate with electrodes, the recoating property of the solid film is partially changed by using patterned irradiation of ultraviolet rays, etc., and strong anchoring property is applied to the regions with good recoating property. A method of producing an oriented substrate with electrodes by forming a pattern body having
After forming a pattern body having weak anchoring ability on a substrate with electrodes by using a printing method such as gravure offset printing or flexo printing, a pattern body having strong anchoring ability is formed in the region not having weak anchoring ability. a method of producing an oriented substrate with electrodes by
After forming a solid film having weak anchoring ability on a substrate with electrodes, a pattern body having weak anchoring ability is formed by using a photoresist and undergoing an etching process, and a region not having weak anchoring ability is formed. A method for producing an oriented substrate with electrodes by forming a pattern body having a strong anchoring ability in
Using a photosensitive material on a substrate with electrodes, forming a pattern body having weak anchoring ability by photolithography, and then forming a pattern body having strong anchoring ability in areas not having weak anchoring ability. (hereinafter referred to as "manufacturing method C");
Another method is to form a solid film having a strong anchoring ability on a substrate with electrodes, and then form a pattern body having a weak anchoring ability by an ink jet method to produce an oriented substrate with electrodes.

いずれの方法においても、強アンカリング能を有するパターン体又は強アンカリング能を有するベタ膜に対して、配向処理工程を行うことで、強アンカリング能を有する領域近傍の液晶分子が一定方向に配向するようになる。 In any of these methods, the liquid crystal molecules in the vicinity of the region with strong anchoring ability are oriented in a certain direction by performing an orientation treatment process on the pattern body with strong anchoring ability or the solid film with strong anchoring ability. become oriented.

本明細書中の「リコート性」とは、膜上への塗液の塗布に対する膜の特性であり、膜が塗液をはじくことで、塗膜が形成できない膜の状態を「リコート性が不良である」と表し、膜上の塗液の塗れ広がり性が高く、塗膜が形成できる膜の状態を「リコート性が良好である」と表す。上述の作製方法Aでは、リコート性の不良なベタ膜上に紫外線を照射することにより、リコート性を向上させている。 As used herein, the term “recoating property” refers to the properties of a film with respect to the application of a coating liquid onto the film. The state of the film in which the coating liquid spreads well on the film and a coating film can be formed is expressed as “good recoating property”. In the manufacturing method A described above, the recoating property is improved by irradiating ultraviolet rays onto a solid film having poor recoating property.

これらの電極付き配向基板の作製方法の例の内、領域パターン作製時の生産性を考慮すると、現像工程を用いない作製方法A及び作製方法Bが好ましく、領域パターンの精細性を考慮すると、パターン露光工程を用いる作製方法A及び作製方法Cが好ましい。尚、後述の実施例では、作製方法A、作製方法B、及び作製方法Cの3つの作製方法を用いている。 Among these examples of methods for producing an oriented substrate with electrodes, production method A and production method B, which do not use a development step, are preferable in consideration of productivity in producing an area pattern. Fabrication method A and fabrication method C using an exposure process are preferred. In addition, three manufacturing methods, manufacturing method A, manufacturing method B, and manufacturing method C, are used in the examples described later.

<2-1.弱アンカリング能を発現させる方法>
弱アンカリング能を発現させる方法の例は、フッ素含有材料等の低表面自由エネルギー材料を用いることにより形成膜表面の液晶材料に対する相互作用を低減させる方法(例えば、特開平6-202086、以下「低表面自由エネルギー材料使用方法」と表記)、並びにポリマーブラシを形成し、ポリマーブラシ及び液晶材料の共存部のTg(ガラス転移温度)よりも高く、且つ共存部の形状を自由に変動させ得る温度に加熱することにより共存部の液晶材料に対する相互作用を低減させる方法(例えば、特開2014-215421、以下「ポリマーブラシ形成方法」と表記)である。尚、後述の実施例では低表面自由エネルギー材料使用方法を用いている。
<2-1. Method for expressing weak anchoring ability>
An example of a method for exhibiting weak anchoring ability is a method of using a low surface free energy material such as a fluorine-containing material to reduce the interaction of the surface of the formed film with the liquid crystal material (for example, JP-A-6-202086, hereinafter " A temperature that forms a polymer brush, is higher than the Tg (glass transition temperature) of the coexisting portion of the polymer brush and the liquid crystal material, and allows the shape of the coexisting portion to be freely varied. (for example, JP-A-2014-215421, hereinafter referred to as "method for forming a polymer brush") to reduce the interaction of the coexisting portion with the liquid crystal material by heating to . It should be noted that the method of using a low surface free energy material is used in the examples described later.

低表面自由エネルギー材料使用方法の具体例は、多官能カルボキシル化合物、多官能エポキシ化合物、及び重合性界面活性剤を含有する弱アンカリング膜形成用材料を調製し、該材料を基板上に塗布し、焼成することで、弱アンカリング能を有する膜を形成する方法、並びに多官能カルボキシル化合物、多官能エポキシ化合物、重合性界面活性剤、多官能アクリレート化合物、及び光重合開始剤を含有する弱アンカリング膜形成用材料を調製し、該材料を基板上に塗布し、露光し、焼成することで、弱アンカリング能を有する膜を形成する方法である。尚、多官能アクリレート化合物及び光重合開始剤を含む弱アンカリング膜形成用材料を使用する場合には、該材料を基板上に塗布し、パターン露光し、現像し、焼成することで弱アンカリング能を有するパターン体を形成可能である。 A specific example of the method of using a low surface free energy material is to prepare a weak anchoring film-forming material containing a polyfunctional carboxyl compound, a polyfunctional epoxy compound, and a polymerizable surfactant, and apply the material on a substrate. , a method of forming a film having weak anchoring ability by baking, and a weak anchor containing a polyfunctional carboxyl compound, a polyfunctional epoxy compound, a polymerizable surfactant, a polyfunctional acrylate compound, and a photopolymerization initiator. In this method, a ring film-forming material is prepared, the material is applied on a substrate, exposed to light, and baked to form a film having weak anchoring ability. When using a material for forming a weak anchoring film containing a polyfunctional acrylate compound and a photopolymerization initiator, the material is coated on a substrate, pattern-exposed, developed, and baked to form a weak anchoring film. It is possible to form a pattern body having the ability.

ポリマーブラシ形成方法の具体例は、基板をラジカル重合性モノマー含有液に浸漬し、基板表面にリビングラジカル重合させることによりポリマーブラシを形成することで、弱アンカリング能を有する膜を形成する方法である。 A specific example of the method for forming a polymer brush is a method of forming a film having weak anchoring ability by immersing a substrate in a liquid containing a radically polymerizable monomer and subjecting the surface of the substrate to living radical polymerization to form a polymer brush. be.

これらの弱アンカリング能を発現させる方法の例の内、上述の作製方法A、作製方法B、又は作製方法Cで電極付き配向基板を作製する場合に、強アンカリング能を有するパターン体を形成しやすい低表面自由エネルギー材料使用方法が好ましい。 Among these examples of methods for exhibiting weak anchoring ability, a pattern body having strong anchoring ability is formed when an oriented substrate with electrodes is manufactured by the above-described manufacturing method A, manufacturing method B, or manufacturing method C. A method of using low surface free energy materials that are easy to use is preferred.

<2-2.強アンカリング能を発現させる方法>
強アンカリング能は、液晶表示素子用配向膜の既知の形成方法で発現可能である。液晶表示素子用配向膜の形成方法の例は、上述のラビング法及び光配向法である。これらの2つの方法の内、配向処理工程時に本発明の配向基板の弱アンカリング能を有する領域の弱アンカリング能の低下を抑えることのできる光配向法が好ましい。
<2-2. Method for Expressing Strong Anchoring Ability>
A strong anchoring ability can be expressed by a known method for forming alignment films for liquid crystal display elements. Examples of methods for forming alignment films for liquid crystal display elements are the above-described rubbing method and photo-alignment method. Of these two methods, the photo-alignment method is preferable because it can suppress the deterioration of the weak anchoring ability of the region of the alignment substrate of the present invention having the weak anchoring ability during the alignment treatment process.

光配向法の例は、光異性化型の材料を使用する方法(例えば、特開2005-275364)、光二量化型の材料を使用する方法(例えば、特開平10-251646)、及び光分解型の材料を使用する方法(例えば、特開平9-297313)である。弱アンカリング能を有する領域の弱アンカリング能を保つためには、これらの光配向法の内、露光波長300nm以上で感度の高い光異性化型の材料を使用する方法及び光二量化型の材料を使用する方法が好ましく、露光波長350nm以上で感度の高い光異性化型の材料を使用する方法が特に好ましい。尚、後述の実施例では光異性化型の材料を使用する方法を用いている。 Examples of the photo-alignment method include a method using a photoisomerization type material (eg, JP-A-2005-275364), a method using a photodimerization-type material (eg, JP-A-10-251646), and a photodegradation type (for example, JP-A-9-297313). In order to maintain the weak anchoring ability of the region having the weak anchoring ability, among these photo-alignment methods, a method using a photoisomerization type material having high sensitivity at an exposure wavelength of 300 nm or more and a photodimerization type material. is preferred, and a method of using a photoisomerizable material having high sensitivity at an exposure wavelength of 350 nm or more is particularly preferred. Incidentally, in the examples described later, a method using a photoisomerizable material is used.

<3.本発明の電極付き配向基板を用いた液晶表示素子>
液晶化合物には誘電率異方性が正であるポジ型、及び誘電率異方性が負であるネガ型が存在する。ポジ型の液晶化合物は、誘電的性質が液晶分子の長軸方向に大きく、長軸方向に直交する方向に小さい。ネガ型の液晶化合物は、誘電的性質が液晶分子の長軸方向に小さく、長軸方向に直交する方向に大きい。以下の液晶表示素子の説明では、ポジ型の液晶化合物を用いた事例について説明する。
<3. Liquid crystal display element using the alignment substrate with electrodes of the present invention>
Liquid crystal compounds include a positive type with positive dielectric anisotropy and a negative type with negative dielectric anisotropy. A positive liquid crystal compound has a large dielectric property in the long axis direction of liquid crystal molecules and a small dielectric property in a direction orthogonal to the long axis direction. A negative-type liquid crystal compound has a dielectric property that is small in the longitudinal direction of liquid crystal molecules and large in a direction orthogonal to the longitudinal direction. In the following description of the liquid crystal display element, an example using a positive liquid crystal compound will be described.

液晶表示素子には液晶分子の配向方向を制御するための配向膜として、上述の強アンカリング膜、上述の弱アンカリング膜、及び上述の両アンカリング層が存在する。本発明の液晶表示素子は、互いに対向する2つの配向膜の一方が強アンカリング膜であり、他方が両アンカリング層である。 The liquid crystal display element has the above-described strong anchoring film, the above-described weak anchoring film, and both of the above-described anchoring layers as alignment films for controlling the alignment direction of liquid crystal molecules. In the liquid crystal display element of the present invention, one of two alignment films facing each other is a strong anchoring film and the other is both anchoring layers.

本発明の電極付き配向基板は、上記の両アンカリング層を有する基板として使用することができる。 The oriented substrate with electrodes of the present invention can be used as a substrate having both of the above anchoring layers.

<3-1.第1実施形態>
図4は、本発明の液晶表示素子10の第1実施形態、並びに表示のためのバックライトユニット11、偏光板12A、及び偏光板12Bの概略構成を示す断面図である。図5は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す図である。図6は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、液晶分子の配向方向の分布を示す図である。図7は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界を印加しない状態における電極線の配線方向、及び両アンカリング層近傍の液晶分子の配向方向の関係を示す図である。図8は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が弱アンカリング能を有する領域13Aである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す図である。図9は、前記第1実施形態において、誘電率異方性が正の液晶化合物Lpを用い、電界Eを印加した状態における、且つ両アンカリング層13が強アンカリング能を有する領域13Bである場合における、電極線の配線方向及び液晶分子の配向の関係を示す図である。
<3-1. First Embodiment>
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the liquid crystal display element 10 of the present invention, and a schematic configuration of a backlight unit 11, a polarizing plate 12A, and a polarizing plate 12B for display. FIG. 5 shows the region 13A in which both the anchoring layers 13 have a weak anchoring ability in the state where the liquid crystal compound Lp with the positive dielectric anisotropy is used and the electric field E is applied in the first embodiment. FIG. 10 is a diagram showing the distribution of orientation directions of liquid crystal molecules in the case. FIG. 6 shows the region 13B in which both the anchoring layers 13 have a strong anchoring ability in the state where the liquid crystal compound Lp with the positive dielectric anisotropy is used and the electric field E is applied in the first embodiment. FIG. 10 is a diagram showing the distribution of orientation directions of liquid crystal molecules in the case. FIG. 7 shows the wiring direction of electrode lines and the alignment direction of liquid crystal molecules in the vicinity of both anchoring layers when the liquid crystal compound Lp with positive dielectric anisotropy is used and no electric field is applied in the first embodiment. FIG. 4 is a diagram showing relationships; FIG. 8 shows the region 13A in which both the anchoring layers 13 have weak anchoring ability in the state where the liquid crystal compound Lp with the positive dielectric anisotropy is used and the electric field E is applied in the first embodiment. FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the wiring direction of electrode lines and the alignment of liquid crystal molecules in the case. FIG. 9 shows the region 13B in which both the anchoring layers 13 have a strong anchoring ability in the state where the liquid crystal compound Lp with the positive dielectric anisotropy is used and the electric field E is applied in the first embodiment. FIG. 10 is a diagram showing the relationship between the wiring direction of electrode lines and the alignment of liquid crystal molecules in the case.

図4に示すように、本発明の液晶表示素子は、両アンカリング層13が形成された第1基板(LCP-1)、前記両アンカリング層との間に間隔を空けて対向配置される強アンカリング膜14が形成された第2基板(LCP-2)、前記両アンカリング層及び前記強アンカリング膜の間に配置され、液晶分子が駆動されることによって前記光を透過又は遮断する液晶層(LCP-3)、並びに前記液晶分子に前記第1基板(LCP-1)及び第2基板(LCP-2)に沿った方向の電界を印加する駆動電極層(LCP-4)を備えている。 As shown in FIG. 4, in the liquid crystal display element of the present invention, a first substrate (LCP-1) on which both anchoring layers 13 are formed is arranged to face the two anchoring layers with a gap therebetween. A second substrate (LCP-2) on which a strong anchoring film 14 is formed, disposed between the two anchoring layers and the strong anchoring film, and transmits or blocks the light by driving liquid crystal molecules. A liquid crystal layer (LCP-3) and a driving electrode layer (LCP-4) for applying an electric field to the liquid crystal molecules in a direction along the first substrate (LCP-1) and the second substrate (LCP-2). ing.

第1基板(LCP-1)及び第2基板(LCP-2)は、それぞれガラス等の基板からなり、所定の間隔を空けて互いに平行に配置されている。 The first substrate (LCP-1) and the second substrate (LCP-2) are made of substrates such as glass, respectively, and are arranged parallel to each other with a predetermined interval.

偏光板12A及び12Bは、クロスニコルに配置されている。例えば、偏光板12Aの偏光方向は方向Yであり、偏光板12Bの偏光方向は方向Xである。 The polarizing plates 12A and 12B are arranged in crossed Nicols. For example, the polarizing direction of the polarizing plate 12A is the Y direction, and the polarizing direction of the polarizing plate 12B is the X direction.

駆動電極層(LCP-4)は、前記第1基板(LCP-1)及び第2基板(LCP-2)のいずれか一方に設けられる。図4に示すように、第1実施形態において駆動電極層(LCP-4)は、前記第1基板(LCP-1)に設けられている。駆動電極層(LCP-4)は、前記第1基板(LCP-1)の表面に沿って、複数本の電極線15Aが並設されることで形成されている。図4において、各電極線15Aは、その配線方向が第1基板(LCP-1)表面に平行な面内で方向Yに沿って延びるよう直線状に形成されている。駆動電極層(LCP-4)は、このような電極線15Aが、第1基板(LCP-1)の表面に平行な面内で方向Xに沿って一定間隔で並んでいる。 A drive electrode layer (LCP-4) is provided on either one of the first substrate (LCP-1) and the second substrate (LCP-2). As shown in FIG. 4, in the first embodiment, the drive electrode layer (LCP-4) is provided on the first substrate (LCP-1). The driving electrode layer (LCP-4) is formed by arranging a plurality of electrode lines 15A in parallel along the surface of the first substrate (LCP-1). In FIG. 4, each electrode line 15A is formed linearly so that its wiring direction extends along the direction Y within a plane parallel to the surface of the first substrate (LCP-1). In the drive electrode layer (LCP-4), such electrode lines 15A are arranged at regular intervals along the direction X in a plane parallel to the surface of the first substrate (LCP-1).

次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、何ら限定されるものではない。 EXAMPLES Next, the present invention will be specifically described by examples, but the present invention is not limited in any way.

<実施例1:二区画パターン電極付き配向基板を備えた液晶表示素子>
[弱アンカリング膜形成用材料(W1)の調製]
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた1,000mLの4つ口フラスコに、重合溶剤として脱水精製したプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下PGMEAと表記)を604.80g、テトラカルボン酸二無水物である1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物を34.47g、スチレン-無水マレイン酸共重合体であるSMA1000(商品名、川原油化株式会社)を164.11g、1価アルコールであるベンジルアルコールを50.17g、多価ヒドロキシ化合物である1,4-ブタンジオールを10.45g仕込み、乾燥窒素気流下130℃で3時間攪拌した。その後、反応後の溶液を25℃まで冷却し、ジアミンである3,3’-ジアミノジフェニルスルホンを10.80g、PGMEAを25.20g投入し、20~30℃で2時間攪拌した後、115℃で1時間攪拌、30℃以下に冷却することにより淡黄色透明な固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA-1)を得た。GPCで測定した固形分の重量平均分子量は10,000であった。
<Example 1: Liquid crystal display element provided with alignment substrate with two-section pattern electrode>
[Preparation of weak anchoring film forming material (W1)]
A 1,000 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material inlet and a nitrogen gas inlet was charged with 604.80 g of dehydrated and purified propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA) as a polymerization solvent. 34.47 g of carboxylic acid dianhydride, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, and 164 g of styrene-maleic anhydride copolymer, SMA1000 (trade name, Kawaseki Co., Ltd.) .11 g, 50.17 g of benzyl alcohol which is a monohydric alcohol, and 10.45 g of 1,4-butanediol which is a polyhydric hydroxy compound were charged, and stirred at 130° C. for 3 hours under a stream of dry nitrogen. After that, the solution after the reaction was cooled to 25°C, 10.80 g of 3,3'-diaminodiphenylsulfone as a diamine and 25.20 g of PGMEA were added, and the mixture was stirred at 20 to 30°C for 2 hours, and then cooled to 115°C. The mixture was stirred for 1 hour and cooled to 30° C. or less to obtain a pale yellow, transparent polyesteramic acid solution (PEA-1) having a solid content concentration of 30% by weight. The weight average molecular weight of the solid content measured by GPC was 10,000.

本明細書中の重量平均分子量は、GPC法(カラム温度:35℃、流速:1mL/min)により求めたポリスチレン換算での値である。標準のポリスチレンには分子量が645~132,900のポリスチレン(例えば、アジレント・テクノロジー株式会社のポリスチレンキャリブレーションキットPL2010-0102)、カラムにはPLgel MIXED-D(商品名、アジレント・テクノロジー株式会社)を用い、移動相としてテトラヒドロフランを使用して測定することができる。尚、本明細書中の市販品の重量平均分子量はカタログ掲載値である。 The weight-average molecular weight in this specification is a value in terms of polystyrene obtained by the GPC method (column temperature: 35° C., flow rate: 1 mL/min). Polystyrene with a molecular weight of 645 to 132,900 as standard polystyrene (for example, polystyrene calibration kit PL2010-0102 from Agilent Technologies Inc.), and PLgel MIXED-D (trade name, Agilent Technologies Inc.) for the column. can be measured using tetrahydrofuran as a mobile phase. The weight-average molecular weights of commercially available products in this specification are values listed in catalogues.

弱アンカリング膜形成用材料(W1)を以下の重量で仕込んで調製した。多官能カルボキシル化合物として、固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA-1)1.00g、多官能エポキシ化合物として、テクモアVG3101L(商品名、株式会社プリンテック、以下「VG3101L」と略記)0.30g、重合性界面活性剤として、メガファックRS-72-K(商品名、DIC株式会社、以下「RS-72-K」と略記)0.20g、及び溶剤として、PGMEA24.90g。 A material for forming a weak anchoring film (W1) was prepared by adding the following weight. As a polyfunctional carboxyl compound, 1.00 g of polyesteramic acid solution (PEA-1) having a solid content concentration of 30% by weight, and as a polyfunctional epoxy compound, Techmore VG3101L (trade name, Printec Co., Ltd., hereinafter abbreviated as "VG3101L") ) 0.30 g, Megafac RS-72-K (trade name, DIC Corporation, hereinafter abbreviated as "RS-72-K") 0.20 g as a polymerizable surfactant, and PGMEA 24.90 g as a solvent.

[強アンカリング膜形成用材料(S1)の調製]
温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた200mLの4つ口フラスコに、4,4’-ジアミノアゾベンゼン1.4184g、1,4-ビス(4-アミノフェニル)ブタン0.5736g、1,4-ビス(4-アミノフェニル)ピペラジン0.1281g、及び脱水N-メチルピロリドン(以下「NMP」と略記)44.0gを仕込み、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。次いで、1,8-ビス(3,4-ジカルボン酸)オクタン二無水物3.8799g及び脱水NMP20.0gを仕込み、室温で24時間攪拌を続け、反応溶液を得た。この反応溶液にエチレングリコールモノブチルエーテル20.0gを加えて、固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液を(PA1)とする。(PA1)に含まれるポリアミド酸の重量平均分子量は10,000であった。
[Preparation of strong anchoring film forming material (S1)]
1.4184 g of 4,4′-diaminoazobenzene, 0.4184 g of 1,4-bis(4-aminophenyl)butane were added to a 200 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material inlet and a nitrogen gas inlet. 5736 g, 0.1281 g of 1,4-bis(4-aminophenyl)piperazine, and 44.0 g of dehydrated N-methylpyrrolidone (hereinafter abbreviated as "NMP") were charged and dissolved with stirring under a stream of dry nitrogen. Next, 3.8799 g of 1,8-bis(3,4-dicarboxylic acid)octane dianhydride and 20.0 g of dehydrated NMP were added and stirred at room temperature for 24 hours to obtain a reaction solution. 20.0 g of ethylene glycol monobutyl ether was added to this reaction solution to obtain a polyamic acid solution having a solid concentration of 6% by weight. Let this polyamic acid solution be (PA1). The weight average molecular weight of the polyamic acid contained in (PA1) was 10,000.

温度計、攪拌機、原料投入仕込み口及び窒素ガス導入口を備えた200mLの4つ口フラスコに、1,4-ビス(4-アミノフェニル)ピペラジン1.9123g、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル0.8561g、1,4-フェニレンジアミン0.3082g、及び脱水NMP44.0gを入れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物1.8354g、ピロメリット酸二無水物1.0880g、さらに脱水NMP20.0gを入れ、室温で24時間攪拌を続けた。この反応溶液にエチレングリコールモノブチルエーテル30.0gを加えて、ポリマー固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液を得た。このポリアミド酸溶液を(PA2)とする。(PA2)に含まれるポリアミド酸の重量平均分子量は50,000であった。 1.9123 g of 1,4-bis(4-aminophenyl)piperazine, 0.9123 g of 4,4′-diaminodiphenyl ether were placed in a 200 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer, a raw material inlet and a nitrogen gas inlet. 8561 g, 0.3082 g of 1,4-phenylenediamine, and 44.0 g of dehydrated NMP were added and dissolved with stirring under a dry nitrogen stream. 1.8354 g of 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1.0880 g of pyromellitic dianhydride and 20.0 g of dehydrated NMP were added and stirred at room temperature for 24 hours. 30.0 g of ethylene glycol monobutyl ether was added to this reaction solution to obtain a polyamic acid solution having a polymer solid concentration of 6% by weight. Let this polyamic acid solution be (PA2). The weight average molecular weight of the polyamic acid contained in (PA2) was 50,000.

ポリアミド酸溶液(PA1)、ポリアミド酸溶液(PA2)、及びNMPを下記の重量で仕込み、混合溶解することでポリマー固形分濃度4重量%の強アンカリング膜形成用材料(S1)を調製した。

固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液(PA1) 9.00g
固形分濃度が6重量%のポリアミド酸溶液(PA2) 21.00g
NMP 15.00g
A polyamic acid solution (PA1), a polyamic acid solution (PA2), and NMP were charged in the following weights and mixed and dissolved to prepare a strong anchoring film-forming material (S1) having a polymer solid concentration of 4% by weight.

9.00 g of polyamic acid solution (PA1) having a solid concentration of 6% by weight
21.00 g of polyamic acid solution (PA2) having a solid concentration of 6% by weight
NMP 15.00g

[液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aの作製]
上述の作製方法Aを用いて、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aを以下のように作製した。
[Production of Alignment Substrate 1a with Electrode for Liquid Crystal Display Device Production]
Using the manufacturing method A described above, an alignment substrate 1a with electrodes for manufacturing a liquid crystal display element was manufactured as follows.

前記の弱アンカリング膜形成用材料(W1)をIPSセル用Cr櫛歯電極付き基板上に2,000rpmで10秒間スピンコートし、100℃のホットプレート上で2分間プリベークし、次に、230℃のオーブン中で30分間ポストベークすることで、膜厚略40nmである弱アンカリング能を有する膜付き基板を得た。 The material for forming a weak anchoring film (W1) was spin-coated on a substrate with a Cr comb-teeth electrode for IPS cells at 2,000 rpm for 10 seconds, pre-baked on a hot plate at 100° C. for 2 minutes, and then heated at 230° C. C. for 30 minutes in an oven to obtain a film-coated substrate having a film thickness of approximately 40 nm and having a weak anchoring ability.

得られた膜付き基板に、波長185nmの光及び波長254nmの光を含む紫外線を照射する低圧水銀灯EUV200WS-60(商品名、セン特殊光源株式会社)を備えた露光装置PHOTO SURFACE PROCESSOR PL2003N-12(商品名、セン特殊光源株式会社)及び二区画パターンのフォトマスクを使用してパターン露光し、露光部及び未露光部でリコート性が異なるパターン露光膜付き基板を得た。露光量は紫外線積算光量計UIT-150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD-S254(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長254nmの光換算で10J/cmとした。 An exposure apparatus PHOTO SURFACE PROCESSOR PL2003N-12 equipped with a low-pressure mercury lamp EUV200WS-60 (trade name, Sen Special Light Source Co., Ltd.) that irradiates the obtained film-coated substrate with ultraviolet light containing light with a wavelength of 185 nm and light with a wavelength of 254 nm ( (trade name, SEN Special Light Source Co., Ltd.) and a photomask having a two-section pattern were used for pattern exposure to obtain a substrate with a pattern-exposed film having different recoating properties between the exposed area and the unexposed area. The amount of exposure was measured with an ultraviolet integrating photometer UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a photodetector UVD-S254 (trade name, Ushio Inc.), and was converted to 10 J/cm 2 at a wavelength of 254 nm. .

得られた露光部及び未露光部でリコート性が異なるパターン露光膜付き基板上に、前記の強アンカリング膜形成用材料(S1)を3,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、パターン露光膜付き基板の露光領域上に強アンカリング膜形成用材料の塗膜を形成した。 On the substrate with the patterned exposure film having different recoating properties in the exposed and unexposed areas, the material for forming a strong anchoring film (S1) was spin-coated at 3,000 rpm for 10 seconds, followed by a hot plate at 70°C. A coating film of the material for forming a strong anchoring film was formed on the exposed region of the substrate with the patterned exposure film by pre-baking for 80 seconds.

次に超高圧水銀灯を備えたマルチライトML-501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)及び偏光板を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT-150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD-S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で2J/cmとした。直線偏光紫外線の偏光方向は、Cr櫛歯電極の配線方向に垂直とした。この方向にすることで、作製される液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸は、Cr櫛歯電極の配線方向に平行となる。 Next, using Multilight ML-501C/B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp and a polarizing plate, the coated substrate was irradiated with linearly polarized ultraviolet light in the vertical direction. The amount of exposure was measured with a UV integrated light meter UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a photodetector UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.), and was converted to 2 J/cm 2 at a wavelength of 365 nm. . The polarization direction of the linearly polarized ultraviolet rays was perpendicular to the wiring direction of the Cr comb-teeth electrode. By setting this direction, the alignment easy axis of the region having a strong anchoring ability in both anchoring layers of the alignment substrate 1a with electrodes for manufacturing a liquid crystal display element is parallel to the wiring direction of the Cr comb-teeth electrode. becomes.

更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークすることで、二区画パターンの両アンカリング層を有する電極付き配向基板(以下、「液晶表示素子作製用電極付き配向基板1a」という)を得た。IPSセル用Cr櫛歯電極の配置及び二区画パターンの両アンカリング層の配置の関係、並びに2箇所の光透過率測定箇所(T1)及び(T2)を、図10に示す。図10に記載のパターンは、図3における(3a)に対応している。 Further, post-baking was performed in an oven at 230° C. for 20 minutes to obtain an alignment substrate with electrodes having both anchoring layers in a two-section pattern (hereinafter referred to as “alignment substrate 1a with electrodes for manufacturing liquid crystal display element”). FIG. 10 shows the relationship between the arrangement of the Cr comb-teeth electrode for the IPS cell and the arrangement of both anchoring layers of the two-section pattern, and the two light transmittance measurement points (T1) and (T2). The pattern shown in FIG. 10 corresponds to (3a) in FIG.

図10に記載のパターンの内、光透過率測定箇所(T1)のある画素における弱アンカリング面積割合は、電極領域及び非電極領域のいずれも0%であり、光透過率測定箇所(T2)のある画素における弱アンカリング面積割合は、電極領域及び非電極領域のいずれも100%である。 In the pattern shown in FIG. 10, the weak anchoring area ratio in the pixel with the light transmittance measurement point (T1) is 0% for both the electrode region and the non-electrode region, and the light transmittance measurement point (T2) is 0%. The weak anchoring area ratio in a certain pixel is 100% for both the electrode region and the non-electrode region.

[液晶表示素子作製用配向基板2の作製]
強アンカリング膜形成用材料(S1)をガラス基板上に2,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、塗膜付き基板を得た。次いで、超高圧水銀灯を備えたマルチライトML-501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)及び偏光板を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT-150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD-S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で2J/cmとした。更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークし、膜厚略100nmの強アンカリング膜付き基板を得た。以下、得られたこの強アンカリング膜付き基板を、「液晶表示素子作製用配向基板2」という。
[Fabrication of alignment substrate 2 for fabricating liquid crystal display element]
A strong anchoring film-forming material (S1) was spin-coated on a glass substrate at 2,000 rpm for 10 seconds, and prebaked on a hot plate at 70° C. for 80 seconds to obtain a substrate with a coating film. Next, using Multilight ML-501C/B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp and a polarizing plate, the coated substrate was irradiated with linearly polarized ultraviolet light in the vertical direction. The amount of exposure was measured with a UV integrated light meter UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a photodetector UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.), and was converted to 2 J/cm 2 at a wavelength of 365 nm. . Further, the substrate was post-baked in an oven at 230° C. for 20 minutes to obtain a substrate with a strong anchoring film having a thickness of approximately 100 nm. The obtained substrate with the strong anchoring film is hereinafter referred to as "orientation substrate 2 for manufacturing a liquid crystal display element".

[ポジ型液晶組成物(LC-1)の調製]
下記一般式(2-1)~(2-9)の化合物を記載の重量比で混合溶解することで、ポジ型液晶組成物(LC-1)を調製した。

Figure 0007135799000001
[Preparation of positive liquid crystal composition (LC-1)]
A positive liquid crystal composition (LC-1) was prepared by mixing and dissolving the compounds represented by the following general formulas (2-1) to (2-9) at the indicated weight ratios.
Figure 0007135799000001

[液晶表示素子1a1の作製]
液晶表示素子作製用電極付き配向基板1a及び液晶表示素子作製用配向基板2の2枚の基板を、それぞれ両アンカリング層側及び強アンカリング膜側を向き合わせ、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aのCr櫛歯電極の配線方向及び液晶表示素子作製用配向基板2の強アンカリング膜の配向容易軸が平行になるように配置した。このように配置することで、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸及び液晶表示素子作製用配向基板2の強アンカリング膜の配向容易軸が平行となる。更に両アンカリング層及び強アンカリング膜の間にポジ型液晶組成物(LC-1)を注入させるための空隙を形成して貼り合わせ、セル厚4μmの空セルを作製した。作製した空セルにポジ型液晶組成物(LC-1)を真空注入し、120℃で5分間のアニール処理をすることで、液晶表示素子1a1を作製した。尚、この液晶表示素子を図4に対応させると、電極線15Aの配線方向及び強アンカリング膜14の配向容易軸が方向Yである。
[Production of liquid crystal display element 1a1]
Two substrates, an alignment substrate 1a with electrodes for liquid crystal display element fabrication and an alignment substrate 2 for liquid crystal display element fabrication, were aligned with both anchoring layer sides and strong anchoring film sides facing each other, and alignment with electrodes for liquid crystal display element fabrication was performed. The wiring direction of the Cr comb-teeth electrode of the substrate 1a and the easy alignment axis of the strong anchoring film of the alignment substrate 2 for manufacturing the liquid crystal display element were arranged so as to be parallel to each other. By arranging in this way, among both anchoring layers of the alignment substrate 1a with an electrode for manufacturing a liquid crystal display element, the alignment easy axis of the region having a strong anchoring ability and the strong anchoring of the alignment substrate 2 for manufacturing a liquid crystal display element. The orientation easy axes of the films are parallel. Further, a space was formed between the two anchoring layers and the strong anchoring film for injecting the positive liquid crystal composition (LC-1), and the two films were bonded together to prepare an empty cell with a cell thickness of 4 μm. A positive liquid crystal composition (LC-1) was vacuum-injected into the prepared empty cell and annealed at 120° C. for 5 minutes to prepare a liquid crystal display element 1a1. 4, the wiring direction of the electrode lines 15A and the orientation easy axis of the strong anchoring film 14 are the direction Y. As shown in FIG.

[低駆動電圧性の評価]
作製した液晶表示素子1a1の光透過率測定箇所(T1)及び(T2)における、最大光透過率となる電圧(以下、「Vmax」と表記)を測定した。測定にはハロゲンランプを備えた大塚電子株式会社製LCD5100型輝度計を用いた。測定時、液晶表示素子1a1はクロスニコルに配置した2枚の偏光板の間に挟持されており、偏光子の偏光方向に対する液晶表示素子1a1の櫛歯電極の配線方向のなす角度は、電圧無印加時の光透過率が最小となる角度であった。印加電圧は矩形波(60Hz)である。Vmaxが8.0V未満の場合を、低駆動電圧特性「高」、8.0V以上の場合を「低」と評価した。測定結果及び評価結果を表1に示す。
[Evaluation of low drive voltage]
A voltage (hereinafter referred to as “Vmax”) at which the maximum light transmittance is obtained was measured at the light transmittance measurement points (T1) and (T2) of the manufactured liquid crystal display element 1a1. For the measurement, an LCD5100 luminance meter manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. equipped with a halogen lamp was used. At the time of measurement, the liquid crystal display element 1a1 was sandwiched between two polarizing plates arranged in crossed nicols. was the angle at which the light transmittance of was the minimum. The applied voltage is a rectangular wave (60 Hz). A case where Vmax was less than 8.0V was evaluated as "high", and a case where Vmax was 8.0V or more was evaluated as "low". Table 1 shows the measurement results and evaluation results.

[電圧OFF時の表示応答性の評価]
作製した液晶表示素子1a1の光透過率測定箇所(T1)及び(T2)における、立下り時間τf(fall time)を測定した。測定には光源にハロゲンランプを備えた大塚電子株式会社製LCD5100型輝度計を用いた。測定時、液晶表示素子1a1はクロスニコルに配置した2枚の偏光板の間に挟持されており、偏光子の偏光方向及び液晶表示素子1a1のCr櫛歯電極の配線方法のなす角度は、電圧無印加時の光透過率が最小となる角度であった。印加電圧は矩形波(60Hz、上述のVmax)である。ここでτfは、最大透過率電圧時の光透過率を100%、無印加時の透過率を0%とした際の、光透過率90%から10%に変化するまでの時間である。立下り時間τfが23.5ms未満の場合を、電圧OFF時の表示応答性「高」、23.5ms以上の場合を「低」と評価した。測定結果及び評価結果を表1に示す。
[Evaluation of display responsiveness when voltage is off]
The fall time τf (fall time) was measured at the light transmittance measurement points (T1) and (T2) of the manufactured liquid crystal display element 1a1. For the measurement, an LCD5100 luminance meter manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd. equipped with a halogen lamp as a light source was used. At the time of measurement, the liquid crystal display element 1a1 was sandwiched between two polarizing plates arranged in crossed nicols. It was the angle at which the light transmittance at the time was the minimum. The applied voltage is a square wave (60 Hz, Vmax as described above). Here, τf is the time required for the light transmittance to change from 90% to 10% when the light transmittance at the maximum transmittance voltage is 100% and the transmittance at no voltage is 0%. When the fall time τf was less than 23.5 ms, the display responsiveness when the voltage was off was evaluated as “high”, and when it was 23.5 ms or more, it was evaluated as “low”. Table 1 shows the measurement results and evaluation results.

<実施例2:第1のストライプパターン電極付き配向基板を備えた液晶表示素子>
二区画パターンのフォトマスクを図11に示すようなパターンを形成可能な第1のストライプパターンのフォトマスクに変更した以外は、実施例1と同様にして液晶表示素子1a2を作製した。図11に記載のパターンは、図3における(3b)に対応している。
<Example 2: Liquid crystal display element provided with alignment substrate with first stripe pattern electrode>
A liquid crystal display element 1a2 was fabricated in the same manner as in Example 1, except that the two-partition pattern photomask was changed to a first stripe pattern photomask capable of forming a pattern as shown in FIG. The pattern shown in FIG. 11 corresponds to (3b) in FIG.

図11に記載のパターンの電極領域における弱アンカリング面積割合は(7.0mm/9.8mm)=71%であり、非電極領域における弱アンカリング面積割合は0%である。 The weak anchoring area ratio in the electrode region of the pattern shown in FIG. 11 is (7.0 mm/9.8 mm)=71%, and the weak anchoring area ratio in the non-electrode region is 0%.

得られた液晶表示素子1a2の測定箇所(T3)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。評価には液晶表示素子1a1と同様の評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。 At the measurement point (T3) of the obtained liquid crystal display element 1a2, measurement of Vmax, measurement of fall time τf, evaluation of low drive voltage property, and evaluation of display response when voltage is off were performed. For the evaluation, the same evaluation method as that for the liquid crystal display element 1a1 was used. Table 1 shows the respective measurement results and evaluation results.

<実施例3:第2のストライプパターン電極付き配向基板を備えた液晶表示素子>
二区画パターンのフォトマスクを図12に示すようなパターンを形成可能な第2のストライプパターンのフォトマスクに変更した以外は、実施例1と同様にして液晶表示素子1a3を作製した。図12に記載のパターンは、図3における(3c)に対応している。
<Example 3: Liquid crystal display element provided with alignment substrate with second stripe pattern electrode>
A liquid crystal display element 1a3 was fabricated in the same manner as in Example 1, except that the two-partition pattern photomask was changed to a second stripe pattern photomask capable of forming a pattern as shown in FIG. The pattern shown in FIG. 12 corresponds to (3c) in FIG.

図12に記載のパターンの電極領域における弱アンカリング面積割合は[(9.8mm-5.0mm)/9.8mm]=49%であり、非電極領域における弱アンカリング面積割合は[(2×3.5mm+5.0mm-9.8mm)/(23.8mm-9.8mm)]=16%である。 The weak anchoring area ratio in the electrode region of the pattern shown in FIG. ×3.5 mm+5.0 mm−9.8 mm)/(23.8 mm−9.8 mm)]=16%.

得られた液晶表示素子1a3の測定箇所(T4)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。評価には液晶表示素子1a1と同様の評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。 At the measurement point (T4) of the obtained liquid crystal display element 1a3, measurement of Vmax, measurement of fall time τf, evaluation of low driving voltage property, and evaluation of display response when voltage is off were performed. For the evaluation, the same evaluation method as that for the liquid crystal display element 1a1 was used. Table 1 shows the respective measurement results and evaluation results.

<実施例4:作製方法Bを用いて作製した液晶表示素子>
[弱アンカリング膜形成用材料(W2)の調製]
弱アンカリング膜形成用材料(W2)を以下の重量で仕込んで調製した。多官能カルボキシル化合物として、固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA-1)1.00g、多官能エポキシ化合物として、VG3101L0.30g、重合性界面活性剤として、RS-72-K0.20g、並びに溶剤として、PGMEA12.03g、及びジエチレングリコールモノブチルエーテル12.87g。
<Example 4: Liquid crystal display element manufactured using manufacturing method B>
[Preparation of weak anchoring film forming material (W2)]
A material for forming a weak anchoring film (W2) was prepared by adding the following weight. 1.00 g of polyesteramic acid solution (PEA-1) having a solid concentration of 30% by weight as a polyfunctional carboxyl compound, 0.30 g of VG3101L as a polyfunctional epoxy compound, and RS-72-K0. 20 g, and as solvents 12.03 g PGMEA and 12.87 g diethylene glycol monobutyl ether.

[液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bの作製]
前記の弱アンカリング膜形成用材料(W2)をIPSセル用Cr櫛歯電極付き基板上にグラビアオフセット法で図10に示すような二区画パターンを形成するようにパターン印刷し、100℃のホットプレート上で2分間プリベークすることで、パターン塗膜付き電極付き基板を得た。次に、230℃のオーブン中で30分間ポストベークし、膜厚略40nmである弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板を得た。
[Production of Alignment Substrate 1b with Electrode for Liquid Crystal Display Device Production]
The weak anchoring film forming material (W2) was pattern-printed on a substrate with a Cr comb-teeth electrode for IPS cells by a gravure offset method so as to form a two-section pattern as shown in FIG. By pre-baking on the plate for 2 minutes, a substrate with pattern coated film and electrodes was obtained. Next, it was post-baked in an oven at 230° C. for 30 minutes to obtain a substrate with patterned electrodes having a film thickness of about 40 nm and weak anchoring ability.

得られた弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板上に、前記の強アンカリング膜形成用材料(S1)を3,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板における、パターン体未形成領域上に強アンカリング膜形成用材料(S1)の塗膜を形成した。 On the obtained substrate with electrodes and a patterned body having weak anchoring ability, the material for forming a strong anchoring film (S1) was spin-coated at 3,000 rpm for 10 seconds, followed by heating on a hot plate at 70° C. for 80 seconds. By pre-baking, a coating film of the material for forming a strong anchoring film (S1) was formed on the pattern body unformed region of the patterned body-attached substrate having weak anchoring ability.

次に超高圧水銀灯を備えたマルチライトML-501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT-150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD-S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し2J/cmとした。直線偏光紫外線の偏光方向は、Cr櫛歯電極の配線方向に垂直とした。この方向にすることで、作製される液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bの両アンカリング層の内、強アンカリング能を有する領域の配向容易軸は、Cr櫛歯電極の配線方向に平行となる。 Next, using Multilight ML-501C/B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp, the coated substrate was irradiated with linearly polarized ultraviolet rays from the vertical direction. The amount of exposure was measured with an ultraviolet integrating photometer UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a photodetector UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.) and was set to 2 J/cm 2 . The polarization direction of the linearly polarized ultraviolet rays was perpendicular to the wiring direction of the Cr comb-teeth electrode. By setting this direction, the alignment easy axis of the region having a strong anchoring ability in both anchoring layers of the alignment substrate 1b with electrodes for manufacturing a liquid crystal display element is parallel to the wiring direction of the Cr comb-teeth electrode. becomes.

更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークすることで、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bを得た。 Further, by post-baking in an oven at 230° C. for 20 minutes, an alignment substrate 1b with electrodes for manufacturing a liquid crystal display device was obtained.

[液晶表示素子1b1の作製]
液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aを液晶表示素子作製用電極付き配向基板1bに変更した以外は、液晶表示素子1a1と同様の作製方法を用いて液晶表示素子1b1を作製した。
[Fabrication of liquid crystal display element 1b1]
A liquid crystal display element 1b1 was manufactured using the same manufacturing method as the liquid crystal display element 1a1, except that the alignment substrate 1a with electrodes for liquid crystal display element fabrication was changed to the alignment substrate 1b with electrodes for liquid crystal display element fabrication.

得られた液晶表示素子1b1の測定箇所(T1)及び(T2)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。測定及び評価には液晶表示素子1a1と同様の測定方法及び評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。 At the measurement points (T1) and (T2) of the obtained liquid crystal display element 1b1, Vmax was measured, the fall time τf was measured, the low drive voltage property was evaluated, and the display response when the voltage was turned off was evaluated. . For measurement and evaluation, the same measurement method and evaluation method as those for the liquid crystal display element 1a1 were used. Table 1 shows the respective measurement results and evaluation results.

<実施例5:作製方法Cを用いて作製した液晶表示素子>
[弱アンカリング膜形成用材料(W3)の調製]
弱アンカリング膜形成用材料(W3)を以下の重量で仕込んで調製した。多官能カルボキシル化合物として、固形分濃度が30重量%のポリエステルアミド酸溶液(PEA-1)1.00g、多官能エポキシ化合物として、VG3101L0.30g、重合性界面活性剤として、RS-72-K0.30g、多官能アクリレート化合物として、アロニックス M-402(商品名、東亞合成株式会社)0.30g、光重合開始剤として、アデカアークルズ NCI-930(商品名、株式会社ADEKA)0.09g、並びに溶剤として、PGMEA24.36g。
<Example 5: Liquid crystal display element manufactured using manufacturing method C>
[Preparation of weak anchoring film forming material (W3)]
A material for forming a weak anchoring film (W3) was prepared by adding the following weight. 1.00 g of polyesteramic acid solution (PEA-1) having a solid concentration of 30% by weight as a polyfunctional carboxyl compound, 0.30 g of VG3101L as a polyfunctional epoxy compound, and RS-72-K0. 30 g, as a polyfunctional acrylate compound, Aronix M-402 (trade name, Toagosei Co., Ltd.) 0.30 g, as a photopolymerization initiator, Adeka Arcles NCI-930 (trade name, ADEKA Co., Ltd.) 0.09 g, and 24.36 g of PGMEA as solvent.

[液晶表示素子作製用電極付き配向基板1cの作製]
前記の弱アンカリング膜形成用材料(W3)をIPSセル用Cr櫛歯電極付き基板上に1,000rpmで10秒間スピンコートし、100℃のホットプレート上で2分間プリベークすることで、塗膜付き電極付き基板を得た。次に、空気中にて、超高圧水銀灯を備えたプロキシミティー露光機TME-150PRC(商品名、株式会社トプコン)を使用して、図10に示すような二区画パターンを形成するようなフォトマスクを介してパターン露光した。露光量は積算光量計UIT-102(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD-365PD(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で100mJ/cmとした。続いて25℃の2.38%TMAH水溶液で10秒間現像し、超純水で60秒間流水リンスし、更に230℃のオーブン中で30分間ポストベークすることで、露光部の膜厚略100nm、未露光部の膜厚略50nmである弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板(以下、「液晶表示素子作製用電極付き配向基板1c」)を得た。
[Production of Alignment Substrate 1c with Electrode for Liquid Crystal Display Device Production]
The material for forming a weak anchoring film (W3) was spin-coated at 1,000 rpm for 10 seconds on a substrate with a Cr comb-teeth electrode for IPS cells, and pre-baked on a hot plate at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a coating film. A substrate with attached electrodes was obtained. Next, a photomask forming a two-part pattern as shown in FIG. was pattern-exposed through The exposure amount was measured with an integrating photometer UIT-102 (trade name, Ushio Inc.) and a photodetector UVD-365PD (trade name, Ushio Inc.), and was converted to 100 mJ/cm 2 at a wavelength of 365 nm. Subsequently, the film was developed with a 2.38% TMAH aqueous solution at 25°C for 10 seconds, rinsed with running ultrapure water for 60 seconds, and post-baked in an oven at 230°C for 30 minutes to obtain a film thickness of approximately 100 nm at the exposed portion. A pattern body-attached electrode-attached substrate having a weak anchoring ability and a film thickness of approximately 50 nm in the unexposed portion (hereinafter referred to as "an electrode-attached alignment substrate 1c for manufacturing a liquid crystal display element") was obtained.

得られた弱アンカリング能を有するパターン体付き電極付き基板上に、前記の強アンカリング形成用材料(S1)を3,000rpmで10秒間スピンコートし、70℃のホットプレート上で80秒間プリベークすることで、弱アンカリング能を有するパターン体付き基板における、未露光部上に強アンカリング膜形成用材料(S1)の塗膜を形成した。 On the obtained substrate with electrodes and patterned body having weak anchoring ability, the strong anchoring forming material (S1) was spin-coated at 3,000 rpm for 10 seconds, and prebaked on a hot plate at 70° C. for 80 seconds. Thus, a coating film of the material for forming a strong anchoring film (S1) was formed on the unexposed portion of the substrate with a patterned body having weak anchoring ability.

次に超高圧水銀灯を備えたマルチライトML-501C/B(商品名、ウシオ電機株式会社)及び偏光板を用い、塗膜付き基板に対して鉛直方向から、直線偏光紫外線を照射した。露光量は紫外線積算光量計UIT-150(商品名、ウシオ電機株式会社)、受光器UVD-S365(商品名、ウシオ電機株式会社)で測定し、波長365nmの光換算で2J/cmとした。 Next, using Multilight ML-501C/B (trade name, Ushio Inc.) equipped with an ultra-high pressure mercury lamp and a polarizing plate, the coated substrate was irradiated with linearly polarized ultraviolet light in the vertical direction. The amount of exposure was measured with a UV integrated light meter UIT-150 (trade name, Ushio Inc.) and a photodetector UVD-S365 (trade name, Ushio Inc.), and was converted to 2 J/cm 2 at a wavelength of 365 nm. .

更に230℃のオーブン中で20分間ポストベークすることで、液晶表示素子作製用電極付き配向基板1cを得た。 Further, by post-baking in an oven at 230° C. for 20 minutes, an alignment substrate 1c with electrodes for manufacturing a liquid crystal display device was obtained.

[液晶表示素子1c1の作製]
液晶表示素子作製用電極付き配向基板1aを液晶表示素子作製用電極付き配向基板1cに変更した以外は同様の作製方法を用いて液晶表示素子1c1を作製した。
[Fabrication of liquid crystal display element 1c1]
A liquid crystal display element 1c1 was produced using the same production method except that the alignment substrate 1a with electrodes for liquid crystal display element production was changed to the alignment substrate 1c with electrodes for liquid crystal display element production.

得られた液晶表示素子1c1の測定箇所(T1)及び(T2)において、Vmaxの測定、立下り時間τfの測定、低駆動電圧性の評価、及び電圧OFF時の表示応答性の評価を行った。測定及び評価には液晶表示素子1a1と同様の測定方法及び評価方法を用いた。それぞれの測定結果及び評価結果を表1に示す。 At the measurement points (T1) and (T2) of the obtained liquid crystal display element 1c1, measurement of Vmax, measurement of fall time τf, evaluation of low driving voltage performance, and evaluation of display response when voltage is off were performed. . For measurement and evaluation, the same measurement method and evaluation method as those for the liquid crystal display element 1a1 were used. Table 1 shows the respective measurement results and evaluation results.

Figure 0007135799000002
Figure 0007135799000002

実施例1、4及び5から明らかなように、本発明の電極付き配向基板を備えた液晶表示素子は、単一液晶表示素子中で、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方の領域が存在することが分かる。 As is clear from Examples 1, 4 and 5, the liquid crystal display element provided with the alignment substrate with electrodes of the present invention has a high low driving voltage region and a display response when the voltage is off, among the single liquid crystal display elements. It can be seen that there are both regions of high volatility.

実施例2の光透過率測定箇所(T3)の結果、実施例3の光透過率測定箇所(T4)の結果、及び実施例1の光透過率測定箇所(T2)の結果から明らかなように、本発明の電極付き配向基板を備えた液晶表示素子において、電極領域上の弱アンカリング面積割合が大きく且つ非電極領域上の弱アンカリング面積割合が小さい場合は、電極領域上の弱アンカリング面積割合が大きく且つ非電極領域上の弱アンカリング面積割合も大きい場合と比較して、Vmaxはさほど増加せず、電圧OFF時の表示応答性が改善することが分かる。 As is clear from the results of the light transmittance measurement point (T3) in Example 2, the results of the light transmittance measurement point (T4) in Example 3, and the results of the light transmittance measurement point (T2) in Example 1, In the liquid crystal display device comprising the oriented substrate with electrodes of the present invention, when the area ratio of weak anchoring on the electrode region is large and the area ratio of weak anchoring on the non-electrode region is small, weak anchoring on the electrode region Compared to the case where the area ratio is large and the weak anchoring area ratio on the non-electrode region is also large, it can be seen that Vmax does not increase so much and the display response when the voltage is turned off is improved.

本発明の電極付き配向基板を備えた液晶表示素子は、低駆動電圧性が高い領域及び電圧OFF時の表示応答性が高い領域の両方が存在する単一液晶表示素子を作製可能である。更に、それらの領域のパターンを制御することにより、弱アンカリング能を有する領域の電圧OFF時の表示応答性を調整可能である。 A liquid crystal display element provided with the oriented substrate with electrodes of the present invention can be manufactured as a single liquid crystal display element having both a region with high low driving voltage characteristics and a region with high display response when the voltage is off. Furthermore, by controlling the pattern of these areas, it is possible to adjust the display responsiveness of the areas having weak anchoring ability when the voltage is off.

10 液晶表示素子
11 バックライトユニット
12A、12B 偏光板
LCP-1 第1基板
LCP-2 第2基板
LCP-3 液晶層
LCP-4 駆動電極層
13 両アンカリング層
13A 両アンカリング層の弱アンカリング能を有する領域
13B 両アンカリング層の強アンカリング能を有する領域
14 強アンカリング膜
15A 電極線
16 画素電極
17 共通電極
18 画素
19 電極領域
20 非電極領域
Lp 液晶化合物
X、Y 第1基板及び第2基板に平行な平面上に仮想する座標軸
10 Liquid crystal display element 11 Backlight unit 12A, 12B Polarizing plate LCP-1 First substrate LCP-2 Second substrate LCP-3 Liquid crystal layer LCP-4 Drive electrode layer 13 Both anchoring layers 13A Weak anchoring of both anchoring layers region 13B having strong anchoring capability region 14 of both anchoring layers strong anchoring film 15A electrode line 16 pixel electrode 17 common electrode 18 pixel 19 electrode region 20 non-electrode region Lp liquid crystal compound X, Y first substrate and Coordinate axes imaginary on a plane parallel to the second substrate

Claims (3)

基板上に、少なくとも電極、並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた、電極付き配向基板であって;
前記電極は前記基板と平行な電界を生成可能であり;
前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40~100%である画素と0~20%である画素を備えた電極付き配向基板。
An oriented substrate with electrodes, comprising on the substrate at least electrodes and both anchoring layers having both regions with weak anchoring ability and regions with strong anchoring ability;
the electrodes are capable of generating an electric field parallel to the substrate;
A pixel in which the area ratio of the area having the weak anchoring ability to the area of the two anchoring layers on the electrode area that generates an electric field parallel to the substrate is 40 to 100% and 0 to 20%. and an alignment substrate with electrodes.
基板上に、少なくとも電極、並びに弱アンカリング能を有する領域及び強アンカリング能を有する領域の両方の領域を有する両アンカリング層を備えた、電極付き配向基板であって;
前記電極は前記基板と平行な電界を生成可能であり;
前記基板と平行な電界を生成する電極領域上の、前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が、40~100%である画素を備え;
前記画素において、前記電極領域以外の、非電極領域上の前記両アンカリング層の面積に占める、前記弱アンカリング能を有する領域の面積の割合が0~20%である電極付き配向基板。
An oriented substrate with electrodes, comprising on the substrate at least electrodes and both anchoring layers having both regions with weak anchoring ability and regions with strong anchoring ability;
the electrodes are capable of generating an electric field parallel to the substrate;
a pixel in which the ratio of the area of the area having the weak anchoring ability to the area of the two anchoring layers is 40 to 100% on the electrode area that generates an electric field parallel to the substrate;
In the pixel, the oriented substrate with electrodes, wherein the ratio of the area of the region having weak anchoring ability to the area of both the anchoring layers on the non-electrode region other than the electrode region is 0 to 20%.
請求項1または2に記載の電極付き配向基板、及び液晶層を挟んでこれと対向する第2の配向基板を備えた液晶表示素子であって;
前記第2の配向基板が強アンカリング膜を備えた液晶表示素子。
A liquid crystal display device comprising the alignment substrate with electrodes according to claim 1 or 2 and a second alignment substrate facing the alignment substrate with a liquid crystal layer interposed therebetween;
A liquid crystal display device, wherein the second alignment substrate is provided with a strong anchoring film.
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