JP2019099873A - ニッケル皮膜の製造方法 - Google Patents
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Description
陽極と、陰極としての基材と、ニッケルイオンを含有するニッケル溶液を含む固体電解質膜とを、前記固体電解質膜が前記陽極と前記基材との間に位置するように、且つ前記固体電解質膜が前記基材の表面に接触するように配置する工程と、
前記陽極と前記基材との間に電圧を印加することにより、前記基材上にニッケル皮膜を形成する工程と、
を含むニッケル皮膜の製造方法であって、
60〜80℃の温度かつ50〜100mA/cm2の電流密度の成膜条件下にて前記電圧を印加する、ニッケル皮膜の製造方法。
<ニッケル溶液の作製>
ニッケル溶液として、塩化ニッケルを0.95mol/Lの濃度及び酢酸ニッケルを0.05mo/Lの濃度で含む水溶液を用意し、この水溶液に酢酸を適量滴下してpHを4.0に調整し、ニッケル溶液を調製した。
上述した図1A及び図1Bに示す成膜装置1Aを用いてニッケル皮膜を成膜した。
ニッケル溶液の温度を75℃に一定に保ったこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
電流密度が95mA/cm2となるように電圧を印加したこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
ニッケル溶液の温度を75℃に一定に保ち、また、電流密度が95mA/cm2となるように電圧を印加したこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
ニッケル溶液の温度を40℃に一定に保ち、また、電流密度が75mA/cm2となるように電圧を印加したこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
ニッケル溶液の温度を70℃に一定に保ち、また、電流密度が40mA/cm2となるように電圧を印加したこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
ニッケル溶液の温度を70℃に一定に保ち、また、電流密度が125mA/cm2となるように電圧を印加したこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
ニッケル溶液の温度を90℃に一定に保ち、また、電流密度が75mA/cm2となるように電圧を印加したこと以外は、実施例1と同様にしてニッケル皮膜を形成した。
成膜異常(ニッケル皮膜の密着及びニッケル皮膜の成膜不良)の有無について、実施例1〜4及び比較例1〜4にて得られたニッケル皮膜の外観を評価した。表1に、成膜時の温度と電流密度、及び成膜異常の有無の結果を示す。
11 陽極
13 固体電解質膜
16 電源部
20 ハウジング
21 第1収容室
22 第1開口部
30A 押圧部
40 載置台
41 第2収容室
42 第2開口部
43 薄膜
45 流体
L ニッケル溶液
B 基材(陰極)
Ba 基材の表面
Bb 基材の裏面
F ニッケル皮膜
Claims (1)
- 陽極と、陰極としての基材と、ニッケルイオンを含有するニッケル溶液を含む固体電解質膜とを、前記固体電解質膜が前記陽極と前記基材との間に位置するように、且つ前記固体電解質膜が前記基材の表面に接触するように配置する工程と、
前記陽極と前記基材との間に電圧を印加することにより、前記基材上にニッケル皮膜を形成する工程と、
を含むニッケル皮膜の製造方法であって、
60〜80℃の温度かつ50〜100mA/cm2の電流密度の成膜条件下にて前記電圧を印加する、ニッケル皮膜の製造方法。
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JP2013540207A (ja) * | 2010-10-21 | 2013-10-31 | ポスコ | 金属コーティング鋼板、溶融亜鉛めっき鋼板及びこれらの製造方法 |
JP2015092012A (ja) * | 2013-10-03 | 2015-05-14 | トヨタ自動車株式会社 | 成膜用ニッケル溶液およびこれを用いた成膜方法 |
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- 2017-12-04 JP JP2017232461A patent/JP6933116B2/ja active Active
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