JP2019090935A - 反射型液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】黒表示の品質を向上させるのに適した反射型液晶表示装置を提供すること。【解決手段】反射型液晶表示装置は、行列状に区画された複数の画素配置領域A1に複数の画素がそれぞれ配置された画像表示部11と、画像表示部11の外周を囲むようにして設けられ、行列状に区画された複数の電極配置領域A2に複数の額縁電極G1がそれぞれ配置された額縁部21と、を備え、各電極配置領域A2には、各画素配置領域A1に占める画素の反射電極PEの面積率を基準にして、差分が5%以内の面積率となるように額縁電極G1が配置されている。【選択図】図10

Description

本発明は、反射型液晶表示装置に関し、黒表示の品質を向上させるのに適した反射型液晶表示装置に関する。
液晶表示装置における中間調表示方式の1つとして、サブフレーム駆動方式が知られている。時間軸変調方式の一種であるサブフレーム駆動方式では、所定の期間(例えば、動画の場合には1画像の表示単位である1フレーム)を複数のサブフレームに分割し、表示すべき階調に応じたサブフレームの組み合わせにより画素を駆動する。表示される階調は、所定の期間に占める画素の駆動期間の割合によって決まり、この割合は、サブフレームの組み合わせによって特定される。
サブフレーム駆動方式が採用された液晶表示装置の中には、各画素が、マスターラッチ及びスレーブラッチと、液晶表示素子と、複数のスイッチングトランジスタと、によって構成されているものがある。
この画素では、マスターラッチの入力端子に1ビットの第1のデータが第1のスイッチングトランジスタを通して印加され、行走査線を介して印加される行選択信号がアクティブになると、第1のスイッチングトランジスタがオン状態になり、第1のデータがマスターラッチに書き込まれる。
全ての画素に設けられたマスターラッチへのデータの書き込みが完了すると、そのサブフレーム期間内において、全ての画素に設けられた第2のスイッチングトランジスタがオン状態になる。それにより、全ての画素に設けられたマスターラッチのデータが一斉に読み出されてスレーブラッチに書き込まれるとともに、当該スレーブラッチに書き込まれたデータが液晶表示素子の画素電極に印加される。各サブフレーム期間において、全ての画素に対して同様の処理が行われる。その結果、各画素は、1フレームを構成する複数のサブフレームの組み合わせにより所望の階調表示を行うことができる。
なお、1フレームを構成する複数のサブフレームの期間は、それぞれ同一又は異なる所定の期間に予め割り当てられている。例えば、各画素において、最大階調表示を行う(白を表示させる)場合には1フレームを構成する複数のサブフレームの全てにおいて表示を行い、最小階調表示を行う(黒を表示させる)場合には1フレームを構成する複数のサブフレームの全てにおいて表示を行わず、それ以外の階調表示を行う場合には、表示する階調に応じて表示するサブフレームを選択する。この従来からの手法を採用した液晶表示装置は、階調を示すデジタルデータを入力データとしており、また、2段ラッチ構成のデジタル駆動方式を採用している(例えば、特許文献1参照)。
特許第5733154号公報
しかしながら、特許文献1に開示された液晶表示装置では、画像表示部の外周を囲むように設けられた額縁部の額縁電極がベタ電極であると考えられ、その影響で、画像表示部に設けられた各画素によって表示される黒のレベルと、額縁部によって表示される黒のレベルと、が異なってしまう可能性があった。そのため、額縁部によって表示される黒が、画像表示部に設けられた各画素によって表示される黒よりも黒く強調されてしまう可能性があった。それにより、例えばプロジェクターを視聴している場合、同じレベルの黒を表示しているつもりでも、額縁部によって表示される黒が、画像表示部によって表示される黒よりも強調され過ぎてしまい、その結果、映像の品質が低下してしまう、という問題があった。
本発明は以上の点に鑑みなされたもので、黒表示の品質を向上させることが可能な反射型液晶表示装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様にかかる反射型液晶表示装置は、行列状に区画された複数の画素配置領域に複数の画素がそれぞれ配置された画像表示部と、前記画像表示部の外周を囲むようにして設けられ、行列状に区画された複数の電極配置領域に複数の額縁電極がそれぞれ配置された額縁部と、を備え、各前記電極配置領域には、各前記画素配置領域に占める前記画素の反射電極の面積率を基準にして、差分が5%以内の面積率となるように前記額縁電極が配置されている。
本発明の一態様にかかる反射型液晶表示装置は、行列状に区画された複数の画素配置領域に複数の画素がそれぞれ配置された画像表示部と、前記画像表示部の外周を囲むようにして設けられ、行列状に区画された複数の電極配置領域に複数の額縁電極がそれぞれ配置された額縁部と、を備え、各前記電極配置領域には、各前記画素配置領域に占める前記画素の反射電極の周囲長を基準にして、差分が30%以内の周囲長となるように前記額縁電極が配置されている。
本発明によれば、黒表示の品質を向上させることが可能な反射型液晶表示装置を提供することができる。
実施の形態1にかかる液晶表示装置を示すブロック図である。 図1に示す液晶表示装置に設けられた画素の具体的構成を示す回路図である。 図2に示す画素に設けられた第1データ保持部を構成するインバータの具体的構成を示す回路図である。 図2に示す画素の概略断面図である。 図1に示す液晶表示装置の動作を示すタイミングチャートである。 液晶の印加電圧(RMS電圧)と液晶のグレースケール値との関係を示す図である。 図1に示す液晶表示装置の概略平面図である。 比較例にかかる液晶表示装置に設けられた画素の反射電極、及び、額縁電極の概略平面図である。 図8に示す画素の反射電電極、及び、額縁電極を拡大した概略平面図である。 図1に示す液晶表示装置に設けられた画素の反射電極、及び、額縁電極の概略平面図である。 図10に示す画素の反射電極、及び、額縁電極の概略断面図である。 図10に示す画素の反射電極、及び、額縁電極を拡大した概略平面図である。 反射電極及び額縁電極のそれぞれの開口率の差と、画像表示部及び額縁部のそれぞれによって表示される黒レベルの差と、の関係を示す図である。 実施の形態2にかかる液晶表示装置に設けられた画素の反射電極、及び、額縁電極の概略平面図である。 図14に示す画素の反射電極、及び、額縁電極の概略断面図である。 図14に示す画素の反射電極、及び、額縁電極を拡大した概略平面図である。 実施の形態3にかかる液晶表示装置に設けられた画素の反射電極、及び、額縁電極の概略平面図である。 図17に示す画素の反射電極、及び、額縁電極を拡大した概略平面図である。 反射電極及び額縁電極のそれぞれの周囲長の差と、画像表示部及び額縁部のそれぞれによって表示される黒レベルの差と、の関係を示す図である。
<実施の形態1>
以下、図面を用いて本発明の実施形態について説明する。
図1は、実施の形態1に係る反射型液晶表示装置10を示すブロック図である。
図1に示すように、反射型液晶表示装置10は、画像表示部11と、タイミングジェネレータ13と、垂直シフトレジスタ14と、データラッチ回路15と、水平ドライバ16と、を備える。水平ドライバ16は、水平シフトレジスタ161と、ラッチ部162と、レベルシフタ/画素ドライバ163と、により構成される。
画像表示部11は、行列状に区画された複数の画素配置領域のそれぞれに規則的に配置された複数の画素12を有する。
複数の画素12は、垂直シフトレジスタ14に一端が接続されて行方向(X方向)に延在するm本(mは2以上の自然数)の行走査線g1〜gmと、レベルシフタ/画素ドライバ163に一端が接続されて列方向(Y方向)に延在するn本(nは2以上の自然数)の列データ線d1〜dnと、がそれぞれ交差する複数の交差部に二次元マトリクス状に配置されている。画像表示部11内の全ての画素12は、一端がタイミングジェネレータ13に接続されたトリガ線trig,trigbに共通接続されている。
なお、正転トリガパルス用トリガ線trigが伝送する正転トリガパルスTRIと、反転トリガパルス用トリガ線trigbが伝送する反転トリガパルスTRIBとは、常に逆論理値の関係(相補的な関係)にある。
タイミングジェネレータ13は、上位装置20から出力された垂直同期信号Vst、水平同期信号Hst、及び、基本クロックCLK等の外部信号を入力信号として受け取り、これら外部信号に基づいて、交流化信号FR、VスタートパルスVST、HスタートパルスHST、クロック信号VCK,HCK、ラッチパルスLT、及び、トリガパルスTRI,TRIB等の各種の内部信号を生成する。
交流化信号FRは、1サブフレーム毎に極性反転する信号であり、画像表示部11を構成する画素12内の液晶表示素子の共通電極に、後述する共通電極電圧Vcomとして供給される。
スタートパルスVSTは、後述する各サブフレームの開始タイミングで出力されるパルス信号であり、このスタートパルスVSTによって、サブフレームの切替わりが制御される。
スタートパルスHSTは、水平シフトレジスタ161の開始タイミングで当該水平シフトレジスタ161に対して出力されるパルス信号である。
クロック信号VCKは、垂直シフトレジスタ14における1水平走査期間(1H)を規定するシフトクロックであり、クロック信号VCKのタイミングで垂直シフトレジスタ14がシフト動作を行う。
クロック信号HCKは、水平シフトレジスタ161におけるシフトクロックであり、32ビット幅でデータをシフトさせるための信号である。
ラッチパルスLTは、水平シフトレジスタ161が水平方向の1行の画素数分のデータをシフトし終わったタイミングで出力されるパルス信号である。
正転トリガパルスTRI及び反転トリガパルスTRIBは、それぞれトリガ線trig,trigbを介して、画像表示部11内の全ての画素12に供給されるパルス信号である。
ここで、正転トリガパルスTRI及び反転トリガパルスTRIBは、あるサブフレーム期間において、画像表示部11内の全ての画素12内の第1データ保持部にデータが書き込まれた後にタイミングジェネレータ13から出力される。それにより、そのサブフレーム期間において、画像表示部11内の全ての画素12内の第1データ保持部に保持されたデータが、それぞれ対応する画素12内の第2データ保持部に一斉に転送される。
垂直シフトレジスタ14は、各サブフレームの開始タイミングで供給されるVスタートパルスVSTをクロック信号VCKに従って転送し、行走査信号を行走査線g1〜gmに対して1H単位で順次排他的に供給する。それにより、画像表示部11の最も上にある行走査線g1から最も下にある行走査線gmにかけて、行走査線が1本ずつ1H単位で順次選択されていく。
データラッチ回路15は、図示しない外部回路から供給される1サブフレーム単位の32ビット幅のデータを、上位装置20からの基本クロックCLKに基づいてラッチした後、基本クロックCLKに同期して水平シフトレジスタ161へ出力する。
なお、反射型液晶表示装置10は、映像信号の1フレームを、その映像信号の1フレーム期間より短い表示期間を持つ複数のサブフレームに分割し、これらサブフレームの組み合わせにて階調表示を行っている。そのため、上記の外部回路は、各画素の階調を示す階調データを、複数のサブフレームに対応する複数の1ビットのサブフレームデータに変換している。さらに、上記の外部回路は、同じサブフレームに属する32画素分のサブフレームデータをまとめて32ビット幅のデータとしてデータラッチ回路15に供給している。
水平シフトレジスタ161は、1ビットシリアルデータの処理系としてみた場合、タイミングジェネレータ13から1Hの初期に供給されるスタートパルスHSTによりシフトを開始し、データラッチ回路15から供給される32ビット幅のデータをクロック信号HCKに同期してシフトする。
ラッチ部162は、水平シフトレジスタ161が画像表示部11の1行分の画素数nと同じnビット分のデータをシフトし終わると、タイミングジェネレータ13から供給されるラッチパルスLTに同期して、水平シフトレジスタ161から並列に供給されるnビット分のデータ(即ち、n画素分のサブフレームデータ)をラッチし、レベルシフタ/画素ドライバ163のレベルシフタへ出力する。なお、ラッチ部162のデータ転送が終了すると、タイミングジェネレータ13からスタートパルスHSTが再び出力され、水平シフトレジスタ161はクロック信号HCKに従ってデータラッチ回路15からの32ビット幅のデータのシフトを再開する。
レベルシフタ/画素ドライバ163のレベルシフタは、ラッチ部162から転送された1行のn画素に対応するn個のサブフレームデータの信号レベルを液晶駆動電圧振幅までレベルシフトする。レベルシフタ/画素ドライバ163の画素ドライバは、レベルシフト後の1行のn画素に対応したn個のサブフレームデータをn本の列データ線d1〜dnに並列に出力する。
水平ドライバ16は、1水平走査期間において、データ書き込み対象として選択されている行の画素に向けたサブフレームデータの出力と、次の1水平走査期間にデータ書き込み対象として選択される行の画素のためのサブフレームデータのシフトと、を並行して行っている。そして、ある水平走査期間において、1行のn画素に対応するn個のサブフレームデータが、データ信号としてそれぞれn本の列データ線d1〜dnに並列に、かつ、一斉に出力される。
画像表示部11を構成する複数の画素12のうち、垂直シフトレジスタ14からの行走査信号により選択された1行のn個の画素12は、レベルシフタ/画素ドライバ163から一斉に出力された1行分のn個のサブフレームデータをn本の列データ線d1〜dnを介してサンプリングして各画素12内の後述する第1データ保持部に書き込む。
画素12の詳細については後述するが、画素12では、記憶部SM1に保持された入力データの反転データが反射電極PEに印加される。つまり、画素12は、レベルシフタ/画素ドライバ163から供給された入力データを反転する機能を有している。
(画素12の具体的構成)
続いて、画素12の具体的構成について説明する。
図2は、画素12の具体的構成を示す回路図である。
図2に示すように、画素12は、行走査線g1〜gmの何れか(以下、行走査線gと称す)と、列データ線d1〜dnの何れか(以下、列データ線dと称す)と、が交差する交差部分に設けられている。
画素12は、SRAMセル201と、DRAMセル202と、液晶表示素子LCと、を備える。SRAMセル201は、第1スイッチであるスイッチSW1と、第1データ保持部である記憶部SM1と、により構成されている。DRAMセル202は、第2スイッチであるスイッチSW2と、第2データ保持部である記憶部DM2と、により構成されている。液晶表示素子LCは、離間対向配置された光反射特性を有する画素電極である反射電極PEと、光透過性を有する共通電極CEとの間の空間に、液晶LCMが充填封入された公知の構造である。
(SRAMセル201の構成)
スイッチSW1は、例えばNチャネルMOS型トランジスタ(以下、NMOSトランジスタという)MN1により構成されている。スイッチSW1を構成するNMOSトランジスタMN1では、ソースが記憶部SM1の入力端子(ノードa)に接続され、ドレインが列データ線dに接続され、ゲートが行走査線gに接続されている。
記憶部SM1は、一方の出力端子が他方の入力端子に接続された2つのインバータINV11,INV12からなる自己保持型メモリである。より具体的には、インバータINV11の入力端子は、インバータINV12の出力端子及びスイッチSW1を構成するNMOSトランジスタMN1のソースに接続されている。インバータINV12の入力端子は、スイッチSW2及びインバータINV11の出力端子に接続されている。
図3は、インバータINV11の具体的構成を示す回路図である。
図3に示すように、インバータINV11は、直列接続されたPチャネルMOS型トランジスタ(以下、PMOSトランジスタという)MP11及びNMOSトランジスタMN11を有し、それぞれのゲートに供給された入力信号を反転してそれぞれのドレインから出力する公知のCMOSインバータである。同じく、インバータINV12は、直列接続されたPMOSトランジスタMP12及びNMOSトランジスタMN12を有し、それぞれのゲートに供給された入力信号を反転してそれぞれのドレインから出力する公知のCMOSインバータである。
ここで、インバータINV11,INV12の駆動能力は異なる。具体的には、記憶部SM1を構成するインバータINV11,INV12のうち、スイッチSW1から見て入力側となるインバータINV11内のトランジスタMP11,MN11の駆動能力は、スイッチSW1から見て出力側となるインバータINV12内のトランジスタMP12,MN12の駆動能力よりも大きい。それにより、列データ線dからスイッチSW1を介して記憶部SM1にデータが伝搬しやすくなり、一方で、スイッチSW2を介して記憶部DM2から記憶部SM1にデータが伝搬しにくくなる。
さらに、スイッチSW1を構成するNMOSトランジスタMN1の駆動能力は、インバータINV12を構成するNMOSトランジスタMN12の駆動能力よりも大きい。それにより、例えば、列データ線d上でHレベルを示すデータを記憶部SM1に記憶させる場合、列データ線dからスイッチSW1を介して記憶部SM1の入力端子(ノードa)に流れる電流が、記憶部SM1の入力端子からNMOSトランジスタMN12を介して接地電圧端子GNDに流れる電流よりも大きくなるため、データを正確に記憶部SM1に記憶させることができる。
(DRAMセル202の構成)
スイッチSW2は、並列接続されたNMOSトランジスタMN2及びPMOSトランジスタMP2からなる公知のトランスミッションゲートである。より具体的には、NMOSトランジスタMN2及びPMOSトランジスタMP2では、それぞれのソースが記憶部SM1の出力端子に共通接続され、それぞれのドレインが記憶部DM2の入力端子及び液晶表示素子LCの反射電極PEに共通接続されている。そして、NMOSトランジスタMN2のゲートは、正転トリガパルス用トリガ線trigに接続され、PMOSトランジスタMP2のゲートは、反転トリガパルス用トリガ線trigbに接続されている。
例えば、スイッチSW2は、トリガ線trigを介して供給される正転トリガパルスがHレベル(トリガ線trigbを介して供給される反転トリガパルスがLレベル)の場合にオン状態となり、記憶部SM1から読み出されたデータを記憶部DM2及び反射電極PEへ転送する。また、スイッチSW2は、トリガ線trigを介して供給される正転トリガパルスがLレベル(トリガ線trigbを介して供給される反転トリガパルスがHレベル)の場合にオフ状態となり、記憶部SM1の記憶データの読み出しは行わない。
スイッチSW2は、公知のトランスミッションゲートであるため、オン状態において接地電圧GNDから電源電圧VDDまでの広範囲の電圧を転送することができる。より具体的には、記憶部SM1からトランジスタMN2,MP2のソースに印加される電圧が接地電圧GNDレベル(Lレベル)の場合、PMOSトランジスタMP2のソース・ドレインが導通しない代わりに、NMOSトランジスタMN2のソース・ドレインは低抵抗で導通することができる。一方、記憶部SM1からトランジスタMN2,MP2のソースに印加される電圧が電源電圧VDDレベル(Hレベル)の場合、NMOSトランジスタMN2のソース・ドレインが導通しない代わりに、PMOSトランジスタMP2のソース・ドレインは低抵抗で導通することができる。このように、スイッチSW2では、トランスミッションゲートのソース・ドレインが低抵抗で導通することができるため、オン状態において接地電圧GNDから電源電圧VDDまでの広範囲の電圧を転送することができる。
記憶部DM2は、容量C1により構成されている。容量C1には、例えば、配線間で容量を形成するMIM(Metal Insulator Metal)容量、基板−ポリシリコン間で容量を形成するDiffusion容量、又は、2層ポリシリコン間で容量を形成するPIP(Poly Insulator Poly)容量等を用いることができる。
スイッチSW2がオンすると、記憶部SM1に記憶されたデータが読み出され、スイッチSW2を介して、記憶部DM2内の容量C1及び反射電極PEへ転送される。それにより、記憶部DM2に記憶されたデータが書き換えられる。
ここで、スイッチSW2がオンしている場合、容量C1に保持されたデータは記憶部SM1を構成するインバータINV12の入力ゲートにも影響を与える。しかしながら、インバータINV11の駆動能力をインバータINV12の駆動能力より大きくしているため、インバータINV12が容量C1のデータの影響を受ける前に、インバータINV11が容量C1のデータを書き換えてしまう。したがって、容量C1の保持データによって記憶部SM1のデータが意図せず書き換えられてしまうことはない。
このように、本実施の形態に係る反射型液晶表示装置10は、SRAMセル及びDRAMセルを1つずつ備えた画素12を用いることにより、SRAMセルを2つ備えた画素を用いる場合よりも、画素を構成するトランジスタの数を少なくして、画素の小型化を実現している。
本実施の形態では、スイッチSW2がPMOSトランジスタMP2及びNMOSトランジスタMN2により構成される場合について説明したが、これに限られない。スイッチSW2は、PMOSトランジスタMP2及びNMOSトランジスタMN2の何れか一つが設けられた構成に適宜変更可能である。その場合、トリガ線trig,trigbの一方のみが設けられることとなる。
なお、反射型液晶表示装置10は、画素を構成するトランジスタの数を少なくすることで画素の小型化を実現できるだけでなく、以下に説明するように記憶部SM1,DM2及び反射電極PEを素子の高さ方向に有効に配置することによっても画素の小型化を実現することができる。以下、図4を用いて、詳細に説明する。
(画素12の断面構造)
図4は、画素12の要部を示す概略断面図である。また、図4では、容量C1が配線間で容量を形成するMIMにより構成された場合を例に説明する。
図4に示すように、シリコン基板100上にはNウエル101及びPウエル102が形成されている。
Nウエル101上には、スイッチSW2のPMOSトランジスタMP2、及び、インバータINV11のPMOSトランジスタMP11が形成されている。より具体的には、Nウエル101上には、PMOSトランジスタMP2,MP11のそれぞれのソースとなる共通拡散層、及び、ドレインとなる2つの拡散層が形成され、共通拡散層と2つの拡散層との間のチャネル領域上には、PMOSトランジスタMP2,MP11のそれぞれのゲートとなるポリシリコンがゲート酸化膜を介して形成されている。
Pウエル102上には、スイッチSW2のNMOSトランジスタMN2、及び、インバータINV11のNMOSトランジスタMN11が形成されている。より具体的には、Pウエル102上には、NMOSトランジスタMN2,MN11のそれぞれのソースとなる共通拡散層、及び、ドレインとなる2つの拡散層が形成され、共通拡散層と2つの拡散層との間のチャネル領域上には、NMOSトランジスタMN2,MN11のそれぞれのゲートとなるポリシリコンがゲート酸化膜を介して形成されている。
なお、Nウエル上の活性領域(拡散層及びチャネル領域)と、Pウエル上の活性領域と、の間には、素子分離酸化膜103が形成されている。
トランジスタMP2,MP11,MN2,MN11の上方には、層間絶縁膜105をメタル間に介在させて第1メタル106、第2メタル108、第3メタル110、MIM電極112、第4メタル114、及び、第5メタル116が積層されている。
第5メタル116は、画素毎に形成される反射電極PEを構成している。
トランジスタMN2,MP2の各ドレインを構成する各拡散層は、コンタクト118、第1メタル106、スルーホール119a、第2メタル108、スルーホール119b、第3メタル110、スルーホール119c、第4メタル114、及び、スルーホール119eを介して、第5メタル116に電気的に接続されている。さらに、トランジスタMN2,MP2の各ドレインを構成する各拡散層は、コンタクト118、第1メタル106、スルーホール119a、第2メタル108、スルーホール119b、第3メタル110、スルーホール119c、第4メタル114、及び、スルーホール119dを介してMIM電極112に電気的に接続されている。即ち、スイッチSW2を構成するトランジスタMN2,MP2の各ソースは、反射電極PE及びMIM電極112に電気的に接続されている。
反射電極PE(第5メタル116)は、その上面に形成された保護膜であるパッシベーション膜(PSV)117を介して、透明電極である共通電極CEに離間対向配置されている。反射電極PEと共通電極CEとの間には、液晶LCMが充填封止されている。反射電極PE、共通電極CE、及び、それらの間の液晶LCMによって液晶表示素子LCが構成される。
ここで、MIM電極112は、第3メタル110上に層間絶縁膜105を介して形成されている。このMIM電極112、第3メタル110、及び、それらの間の層間絶縁膜105によって容量C1が構成される。そのため、スイッチSW1,SW2及び記憶部SM1が、第1,2層配線である第1メタル106及び第2メタル108と、トランジスタと、を用いて形成されるのに対し、記憶部DM2は、それらの上層である第3メタル110及びMIM電極112を用いて形成されることとなる。つまり、スイッチSW1,SW2及び記憶部SM1と、記憶部DM2とは、それぞれ異なる層にて形成されることとなる。
図示しない光源からの光は、共通電極CE及び液晶LCMを透過して反射電極PE(第5メタル116)に入射して反射され、元の入射経路を逆進して共通電極CEを通して出射される。
このように、反射型液晶表示装置10は、第5層配線である第5メタル116を反射電極PEとして用い、第3層配線である第3メタル110を記憶部DM2の一部として用い、第1,2層配線である第1メタル106及び第2メタル108とトランジスタとを記憶部SM1等として用いることで、記憶部SM1、記憶部DM2及び反射電極PEを高さ方向に有効に配置することが可能になるため、画素をさらに小型化することができる。それにより、例えば、3μm以下のピッチの画素を電源電圧3.3Vのトランジスタで構成できる。この3μm以下のピッチの画素を用いることで、対角の長さ0.55インチの横方向4000画素、縦方向2000画素の液晶表示パネルを実現できる。
(反射型液晶表示装置10の動作)
次に、図5を用いて、反射型液晶表示装置10の動作について説明する。
図5は、反射型液晶表示装置10の動作を示すタイミングチャートである。
前述したように、反射型液晶表示装置10では、垂直シフトレジスタ14からの行走査信号により、行走査線g1〜gmが1本ずつ1H単位で順次選択されていくため、画像表示部11を構成する複数の画素12には、選択された行走査線に共通に接続された1行のn個の画素単位でデータが書き込まれる。そして、画像表示部11を構成する複数の画素12の全てにデータが書き込まれると、その後、トリガパルスTRI,TRIBに基づき、全ての画素12のデータが一斉に読み出される(より具体的には、全ての画素12内の記憶部SM1のデータが一斉に記憶部DM2及び反射電極PEに転送される)。
図5の(A)は、各画素12に記憶されるサブフレームデータの変化を示している。なお、縦軸が行番号を表し、横軸が時間を表している。図5の(A)に示すように、サブフレームデータの境界線は右下がりとなっている。これは、行番号の大きな画素ほどサブフレームデータが遅れて書き込まれることを表している。この境界線の一端から他端までの期間がサブフレームデータの書き込み期間に相当する。なお、B0b,B1b,B2bは、それぞれビットB0,B1,B2のサブフレームデータの反転データを示している。
図5の(B)は、トリガパルスTRIの出力タイミング(立ち上がりタイミング)を示している。なお、トリガパルスTRIBは、常にトリガパルスTRIを論理反転した値を示すため、省略されている。図5の(C)は、反射電極PEに印加されるサブフレームデータのビットを模式的に示している。図5の(D)は、共通電極電圧Vcomの値の変化を示している。図5の(E)は、液晶LCMに印加される電圧の変化を示している。
まず、行走査信号により選択された画素12では、スイッチSW1がオンするため、水平ドライバ16から列データ線dに出力されたビットB0の正転サブフレームデータが、スイッチSW1によりサンプリングされて記憶部SM1に書き込まれる。同様にして、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対してビットB0の正転サブフレームデータが書き込まれる。その後、画像表示部11を構成する全ての画素12に対してHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB)が同時に供給される(時刻T1)。
これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶されているビットB0の正転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に一斉に転送されて保持されるとともに、ビットB0の正転サブフレームデータが反射電極PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビットB0の正転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB0の正転サブフレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T1)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T2)の1サブフレーム期間である。
ここで、サブフレームデータのビット値が「1」、すなわちHレベルのときには反射電極PEには電源電圧VDD(ここでは3.3V)が印加され、ビット値が「0」、すなわちLレベルのときには反射電極PEには接地電圧GND(0V)が印加される。一方、共通電極CEには、接地電圧GND及び電源電圧VDDに制限されることなく、自由な電圧が共通電極電圧Vcomとして印加できるようになっており、Hレベルの正転トリガパルスTRIの入力に同期して共通電極電圧Vcomが所定電圧に切り替わるように制御される。本例では、共通電極電圧Vcomは、ビットB0の正転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間中、図5(D)に示すように、0Vよりも液晶の閾値電圧Vttだけ低い電圧に設定される。
液晶表示素子LCは、反射電極PEの印加電圧と共通電極電圧Vcomとの差電圧の絶対値である液晶LCMの印加電圧に応じた階調表示を行う。したがって、ビットB0の正転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T1〜T2)では、液晶LCMの印加電圧は、図5(E)に示すように、サブフレームデータのビット値が「1」のときは3.3V+Vtt(=3.3V−(−Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「0」のときは+Vtt(=0V−(−Vtt))となる。
図6は、液晶の印加電圧(RMS電圧)と液晶のグレースケール値との関係を示す。
図6を参照すると、グレースケール値曲線は、黒のグレースケール値が液晶の閾値電圧VttのRMS電圧に対応し、かつ、白のグレースケール値が液晶の飽和電圧Vsat(=3.3V+Vtt)のRMS電圧に対応するようにシフトされる。グレースケール値を液晶応答曲線の有効部分に一致させることが可能である。したがって、液晶表示素子LCは上記のように液晶LCMの印加電圧が(3.3V+Vtt)のときは白を表示し、+Vttのときは黒を表示する。
図5に戻り、液晶表示素子LCがビットB0の正転サブフレームデータを表示しているサブフレーム期間(時刻T1〜T2)において、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対するビットB0の反転サブフレームデータの書き込みが順次開始される。そして、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対してビットB0の反転サブフレームデータが書き込まれると、その後、画像表示部11を構成する全ての画素12に対してHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB)が同時に供給される(時刻T2)。
これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶されているビットB0の反転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に一斉に転送されて保持されるとともに、ビットB0の反転サブフレームデータが反射電極PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビットB0の反転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB0の反転サブフレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T2)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T3)の1サブフレーム期間である。ここで、ビットB0の反転サブフレームデータはビットB0の正転サブフレームデータと常に逆論理値の関係にあるため、ビットB0の正転サブフレームデータが「1」のときは「0」、ビットB0の正転サブフレームデータが「0」のときは「1」である。
一方、共通電極電圧Vcomは、ビットB0の反転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間中、図5(D)に示すように、3.3Vよりも液晶の閾値電圧Vttだけ高い電圧に設定される。したがって、ビットB0の反転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T2〜T3)では、液晶LCMの印加電圧は、サブフレームデータのビット値が「1」のときは−Vtt(=3.3V−(3.3V+Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「0」のときは−3.3V−Vtt(=0V−(3.3V+Vtt))となる。
例えば、ビットB0の正転サブフレームデータのビット値が「1」であった場合には続いて印加されるビットB0の反転サブフレームデータのビット値は「0」となる。このとき、液晶LCMの印加電圧は、−(3.3V+Vtt)となり、ビットB0の正転サブフレームデータが印加されたときと比較して、電位の方向が逆になるが絶対値が同じになる。そのため、画素12は、ビットB0の反転サブフレームデータが印加されたときも、ビットB0の正転フレームデータが印加されたときと同様に、白を表示する。また、ビットB0の正転サブフレームデータのビット値が「0」であった場合には続いて印加されるビットB0の反転サブフレームデータのビット値は「1」となる。このとき、液晶LCMの印加電圧は、−Vttとなり、ビットB0の正転サブフレームデータが印加されたときと比較して、電位の方向が逆になるが絶対値が同じになる。そのため、画素12は、ビットB0の反転サブフレームデータが印加されたときも、ビットB0の正転フレームデータが印加されたときと同様に、黒を表示する。
したがって、画素12は、図5の(E)に示すように、時刻T1〜T3の2サブフレーム期間中、ビットB0とビットB0の相補ビットB0bとで同じ階調を表示するとともに、液晶LCMの電位方向がサブフレーム毎に反転する交流駆動を行うため、液晶LCMの焼き付きを防止することができる。
続いて、液晶表示素子LCがビットB0の反転サブフレームデータを表示しているサブフレーム期間(時刻T2〜T3)において、全ての画素12の記憶部SM1に対するビットB1の正転サブフレームデータの書き込みが順次開始される。そして、画像表示部11の全画素12の記憶部SM1に対してビットB1の正転サブフレームデータが書き込まれると、その後、画像表示部11を構成するすべての画素12に対してHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB)が同時に供給される(時刻T3)。
これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶されているビットB1の正転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に一斉に転送されて保持されるととともに、ビットB1の正転サブフレームデータが反射電極PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビットB1の正転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB1の正転サブフレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T3)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T4)の1サブフレーム期間である。
一方、共通電極電圧Vcomは、ビットB1の正転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間は、図5(D)に示すように、0Vよりも液晶の閾値電圧Vttだけ低い電圧に設定される。したがって、ビットB1の正転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T3〜T4)では、液晶LCMの印加電圧は、図5(E)に示すように、サブフレームデータのビット値が「1」のときは3.3V+Vtt(=3.3V−(−Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「0」のときは+Vtt(=0V−(−Vtt))となる。
続いて、液晶表示素子LCがビットB1の正転サブフレームデータを表示しているサブフレーム期間(時刻T3〜T4)において、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対するビットB1の反転サブフレームデータの書き込みが順次開始される。そして、画像表示部11を構成する全ての画素12の記憶部SM1に対してビットB1の反転サブフレームデータが書き込まれると、その後、画像表示部11を構成する全ての画素12に対してHレベルのトリガパルスTRI(及びLレベルのトリガパルスTRIB)が同時に供給される(時刻T4)。
これにより、全ての画素12のスイッチSW2がオンするため、記憶部SM1に記憶されているビットB1の反転サブフレームデータがスイッチSW2を通して記憶部DM2に一斉に転送されて保持されるとともに、ビットB1の反転サブフレームデータが反射電極PEに印加される。ここで、図5の(C)を見てもわかるように、記憶部DM2によるビットB1の反転サブフレームデータの保持期間(反射電極PEへのビットB1の反転サブフレームデータの印加期間)は、トリガパルスTRIがHレベルとなってから(時刻T4)、次に再びHレベルとなるまで(時刻T5)の1サブフレーム期間である。ここで、ビットB1の反転サブフレームデータはビットB1の正転サブフレームデータと常に逆論理値の関係にある。
一方、共通電極電圧Vcomは、ビットB1の反転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間中、図5(D)に示すように、3.3Vよりも液晶の閾値電圧Vttだけ高い電圧に設定される。したがって、ビットB1の反転サブフレームデータが反射電極PEに印加されるサブフレーム期間(時刻T4〜T5)では、液晶LCMの印加電圧は、サブフレームデータのビット値が「1」のときは−Vtt(=3.3V−(3.3V+Vtt))となり、サブフレームデータのビット値が「0」のときは−3.3V−Vtt(=0V−(3.3V+Vtt))となる。
これにより、画素12は、図5の(E)に示すように、時刻T3〜T5の2サブフレーム期間中、ビットB1とビットB1の相補ビットB1bとで同じ階調を表示するとともに、液晶LCMの電位方向がサブフレーム毎に反転する交流駆動を行うため、液晶LCMの焼き付きを防止することができる。ビットB2以降についても同様の動作が繰り返される。
このようにして、反射型液晶表示装置10は、複数のサブフレームの組み合わせにて階調表示を行っている。
なお、ビットB0と相補ビットB0bの各表示期間は同じ第1のサブフレーム期間であり、また、ビットB1と相補ビットB1bの各表示期間も同じ第2のサブフレーム期間であるが、第1のサブフレーム期間と第2のサブフレーム期間とは同一であるとは限らない。ここでは、一例として第2のサブフレーム期間は第1のサブフレーム期間の2倍に設定されている。また、図5(E)に示すように、ビットB2と相補ビットB2bの各表示期間である第3のサブフレーム期間は、第2のサブフレーム期間の2倍に設定されている。他のサブフレーム期間についても同様のことが言える。システムの仕様等に応じて、各サブフレーム期間の長さ、及び、サブフレーム数を任意に設定することができる。
(額縁部21の詳細な説明)
続いて、額縁部21について説明する。額縁部21は、例えばプロジェクター等によって画像を拡大投影する場合において、画像表示部11によって表示される画像の外枠領域(額縁領域)に黒を表示する部である。
図7は、反射型液晶表示装置10の概略平面図である。図7に示すように、反射型液晶表示装置10では、チップCHP1上に、画像表示部11が設けられるとともに、画像表示部11の外周を囲むようにして額縁部21が設けられている。なお、図示されていないが、額縁部21の額縁電極G1の下位階層には、各画素12を駆動する水平ドライバ16、垂直シフトレジスタ14、タイミングジェネレータ13、データラッチ回路15等が形成されている。また、チップCHP1の外周辺には、複数のパッドPD1が設けられている。チップCHP1上の各機能ブロックは、複数のパッドPD1及びボンディングワイヤを介して、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)に接続されており、FPCによって構成された上位装置からの制御信号により、画像表示部11によって映像を表示したり、額縁部21によって黒を表示したりする。
まず、額縁部21の比較例である額縁部51について説明する。
図8は、比較例にかかる反射型液晶表示装置に設けられた画像表示部11の各画素12の反射電極PE、及び、額縁部51の額縁電極G5の概略平面図である。図8の例では、画像表示部11の角部に設けられた複数の画素12のそれぞれの反射電極PE、及び、その周辺に設けられた額縁部51の額縁電極G5のみが示されている。
図8に示すように、額縁電極G5は、額縁部51の全面にわたって隙間なく広がるベタ電極であって、画素12の反射電極PEと同一階層に形成されている。なお、額縁電極G5の上層には、共通電極CEが離間対向配置され、共通電極CEと額縁電極G5との間には液晶LCMが充填封止されている。これら共通電極CE、額縁電極G5、及び、液晶LCMによって液晶表示素子LC_Bが構成されている。
ここで、額縁電極G5には、共通電極CEと同じ電圧Vcomが印加されている。それにより、額縁電極G5と共通電極CEとの間の電位差が0Vになるため、額縁部51には黒が表示される。
なお、画像表示部11によって表示される画像の品質向上の妨げとならないように、額縁部51によって表示される黒のレベルは、画像表示部11によって表示される黒のレベルと同じであることが好ましい。しかしながら、実際には、額縁部51によって表示される黒は、画像表示部11によって表示される黒よりも黒く表示されてしまう。そのため、額縁部51が搭載された反射型液晶表示装置では、例えば額縁部51によって表示される黒が強調され過ぎてしまう等の理由により、映像品質が劣化してしまうという問題があった。
この問題は、画素12の反射電極PEの開口率(画素配置領域A1に占める反射電極PEの配置面積の割合)と、額縁部51の額縁電極G5の開口率(画素配置領域A1と等価の電極配置領域A5に占める額縁電極G5の配置面積の割合)と、が違うことに起因する。以下、図9を参照しつつ説明する。
まず、画素12の反射電極PEは、隣接する画素12の反射電極PEと分離して形成される必要があるため、反射電極PE間には画素間隙が形成される。それにより、画素12の反射電極PEの開口率は低下する。具体的には、画素12の反射電極PEの開口率は、正方形状の画素配置領域A1の一辺の長さ(即ち、画素ピッチ)L1が3.8μm、画素間隙L2が0.2μmである場合、89.75%となる(図9の左図参照)。
それに対し、額縁部51の額縁電極G5は、既に説明したように、額縁部51の全体にわたって隙間なく広がるベタ電極である。そのため、額縁電極G5の開口率は、100%になる(図9の右図参照)。
そのため、反射電極PE及び額縁電極G5のそれぞれに同じレベルの黒階調の電圧を印加した場合でも、開口率の違いにより、画像表示部11の各画素12によって表示される黒のレベルと、額縁部51によって表示される黒のレベルと、が異なってしまう。
より具体的には、液晶表示素子LC,LC_Bに垂直に入射された光は、液晶LCMを通過して、反射電極PEや額縁電極G5において垂直に反射し、液晶LCMによって変調された後、出射される。例えば、黒の表示を行う場合、液晶LCMによる変調によって、光の偏向方向を位相差にして90度ずらす。それにより、光の進行が遮られるため、黒が表示される。ここで、画像表示部11の各画素12と額縁部51とでは、光を反射する反射電極PE及び額縁電極G5のそれぞれの開口率が異なるため、液晶LCMによって変調される光の量が異なってしまい、その結果、表示される黒のレベルが互いに異なってしまう。
次に、本実施の形態にかかる額縁部21について具体的に説明する。
図10は、反射型液晶表示装置10に設けられた画像表示部11の各画素12の反射電極PE、及び、額縁部21の複数の額縁電極G1の概略平面図である。なお、図10の例では、画像表示部11の角部に設けられた複数の画素12のそれぞれの反射電極PE、及び、その周辺に設けられた額縁部21の複数の額縁電極G1のみが示されている。
図10に示すように、額縁部21は、行列状に区画された複数の電極配置領域A2のそれぞれに規則的に配置された複数の額縁電極G1を有する。なお、電極配置領域A2は、画素12が配置される画素配置領域A1と同一サイズ(ピッチ)である。これら複数の額縁電極G1は、画素12の反射電極PEと同一階層に形成されている。
なお、各額縁電極G1の上層には、共通電極CEが離間対向配置され、共通電極CEと各額縁電極G1との間には液晶LCMが充填封止されている。これら共通電極CE、額縁電極G1、及び、液晶LCMによって液晶表示素子LC_Bが構成されている。
各額縁電極G1は、平面視上、矩形状の本体部G1aと、本体部の一辺及びそれに直交する他の一辺からそれぞれ突出するようにして設けられた2つの連結部G1bと、によって構成されている。各額縁電極G1は、隣接する額縁電極G1と、連結部G1bにより電気的に接続されている。それにより、額縁部21の全ての額縁電極G1の印加電圧を同じにすることができる。
ここで、各額縁電極G1には、共通電極CEと同じ電圧Vcomが印加されている。それにより、各額縁電極G1と共通電極CEとの間の電位差が0Vになるため、額縁部21には黒が表示される。
図11は、図10に示す概略平面図のA−A’部分を切り出した概略断面図である。
図11に示すように、額縁部21では、額縁電極G1を含む液晶表示素子と、額縁電極G1より下位階層の回路部分とが、電気的に分離して形成されている。そのため、額縁電極G1には、額縁電極G1より下位階層の回路部分に関係なく、共通電極CEと同じ電圧Vcomを供給することができる。その他の断面構造については、図4で説明した内容と同様であるため、その説明を省略する。
なお、画像表示部11によって表示される画像の品質向上の妨げとならないように、額縁部21によって表示される黒のレベルは、画像表示部11によって表示される黒のレベルにできるだけ近い(理想的には同じ)ことが好ましい。
そこで、本実施の形態では、額縁電極G1の開口率(画素配置領域A1と等価の電極配置領域A2に占める額縁電極G1の配置面積の割合)を、各画素12の反射電極PEの開口率(画素配置領域A1に占める反射電極PEの配置面積の割合)にできるだけ近づけている(理想的には同じにしている)。以下、図12を参照しつつ説明する。
まず、画素12の反射電極PEの開口率は、正方形状の画素配置領域A1の一辺の長さ(即ち、画素ピッチ)L1が3.8μm、画素間隙L2が0.2μmとすると、89.75%となる(図12の左図参照)。
それに対し、額縁電極G1の開口率は、正方形状の電極配置領域A2の一辺の長さL1が3.8μm、間隙L3が0.28μm、連結部G1bの幅L4が1μmとすると、89.68%となる(図12の右図参照)。これは、画素12の反射電極PEの開口率89.75%に近い。
このように、本実施の形態にかかる反射型液晶表示装置10は、各額縁電極G1の開口率を、各画素12の反射電極PEの開口率にできるだけ近づけている。それにより、本実施の形態にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部21によって表示される黒のレベルを、画像表示部11によって表示される黒のレベルに近づけることができるため、映像品質の劣化を防ぐことができる。換言すると、本実施の形態にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部21及び画像表示部11のそれぞれによって表示される黒のレベルを均一化することができるため、ユーザにとって違和感のない映像を表示させることができる。
(実験結果)
図13は、反射電極PE及び額縁電極G1のそれぞれの開口率の差と、画像表示部11及び額縁部21のそれぞれによって表示される黒レベルの差と、の関係を示す実験結果である。図13の実験結果に示すように、反射電極PE及び額縁電極G1のそれぞれの開口率の差が小さくなるほど、画像表示部11及び額縁部21のそれぞれによって表示される黒レベルの差は小さくなる。そして、反射電極PE及び額縁電極G1のそれぞれの開口率の差(反射電極PEの開口率を基準にした場合の額縁電極G1の開口率の差分)が5%以下になると、画像表示部11及び額縁部21のそれぞれによって表示される黒レベルの差は、見かけ上、無くなった。
<実施の形態2>
図14は、実施の形態2に係る反射型液晶表示装置10に設けられた画像表示部11の各画素12の反射電極PE、及び、額縁部31の複数の額縁電極G2の概略平面図である。額縁部31は、額縁部21に対応し、額縁電極G2は、額縁電極G1に対応する。なお、図14の例では、画像表示部11の角部に設けられた複数の画素12のそれぞれの反射電極PE、及び、その周辺に設けられた額縁部31の複数の額縁電極G2のみが示されている。
図14に示すように、額縁部31は、行列状に区画された複数の電極配置領域A2のそれぞれに規則的に配置された複数の額縁電極G2を有する。なお、電極配置領域A2は、画素12が配置される画素配置領域A1と同一サイズ(ピッチ)である。これら複数の額縁電極G2は、画素12の反射電極PEと同一階層に形成されている。
なお、各額縁電極G2の上層には、共通電極CEが離間対向配置され、共通電極CEと各額縁電極G2との間には液晶LCMが充填封止されている。これら共通電極CE、額縁電極G2、及び、液晶LCMによって液晶表示素子LC_Bが構成されている。
各額縁電極G2は、平面視上、画素12の反射電極PEと同一形状を有している。各額縁電極G2は、隣接する額縁電極G2と、これら額縁電極G2の下位階層に形成された回路部の配線によって電気的に接続されている。それにより、額縁部31の全ての額縁電極G2の印加電圧を同じにすることができる。
ここで、各額縁電極G2には、共通電極CEと同じ電圧Vcomが印加されている。それにより、各額縁電極G2と共通電極CEとの間の電位差が0Vになるため、額縁部31には黒が表示される。
図15は、図14に示す概略平面図のB−B’部分を切り出した概略断面図である。
図15に示すように、額縁部31では、隣接する額縁電極G2同士が、これら額縁電極G2の下位階層に形成された第4メタル114及びスルーホール119eを介して、電気的に接続されている。それにより、額縁部31の全ての額縁電極G2の印加電圧を同じにすることができる。なお、第4メタル114とそれより下位階層の回路部分とは、電気的に分離して形成されている。そのため、額縁電極G2には、下位階層の回路部分に関係なく、共通電極CEと同じ電圧Vcomを供給することができる。その他の断面構造については、図4で説明した内容と同様であるため、その説明を省略する。
なお、画像表示部11によって表示される画像の品質向上の妨げとならないように、額縁部31によって表示される黒のレベルは、画像表示部11によって表示される黒のレベルにできるだけ近い(理想的には同じ)ことが好ましい。
そこで、本実施の形態では、額縁電極G2の開口率(画素配置領域A1と等価の電極配置領域A2に占める額縁電極G2の配置面積の割合)を、各画素12の反射電極PEの開口率(画素配置領域A1に占める反射電極PEの配置面積の割合)にできるだけ近づけている(理想的には同じにしている)。以下、図16を参照しつつ説明する。
まず、画素12の反射電極PEの開口率は、正方形状の画素配置領域A1の一辺の長さ(即ち、画素ピッチ)L1が3.8μm、画素間隙L2が0.2μmとすると、89.75%となる(図16の左図参照)。
また、額縁電極G2の開口率は、正方形状の電極配置領域A2の一辺の長さL1が3.8μm、画素間隙L2が0.2μmとすると、89.75%となる(図16の右図参照)。これは、画素12の反射電極PEの開口率89.75%と同じである。
このように、実施の形態2にかかる反射型液晶表示装置10は、各額縁電極G2の開口率を、各画素12の反射電極PEの開口率にできるだけ近づけている。それにより、実施の形態2にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部31によって表示される黒のレベルを、画像表示部11によって表示される黒のレベルに近づけることができるため、映像品質の劣化を防ぐことができる。換言すると、実施の形態2にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部31及び画像表示部11のそれぞれによって表示される黒のレベルを均一化することができるため、ユーザにとって違和感のない映像を表示させることができる。
<実施の形態3>
実施の形態3にかかる反射型液晶表示装置10に設けられた額縁部41について説明する前に、再び額縁部51について説明する。
既に説明しているように、画像表示部11によって表示される画像の品質向上の妨げとならないように、額縁部51によって表示される黒のレベルは、画像表示部11によって表示される黒のレベルと同じであることが好ましい。しかしながら、実際には、額縁部51によって表示される黒は、画像表示部11によって表示される黒よりも黒く表示されてしまう。そのため、額縁部51が搭載された液晶表示装置では、例えば額縁部51によって表示される黒が強調され過ぎてしまう等の理由により、映像品質が劣化してしまうという問題があった。
この問題は、画素12の反射電極PEの開口率と、額縁部51の額縁電極G5の開口率と、が違うことに起因するだけでなく、画素配置領域A1当たりの反射電極PEの周囲長(エッジ部分の長さ)と、電極配置領域A5当たりの額縁電極G5の周囲長と、が違うことに起因する。以下、図9を参照しつつ説明する。
まず、画素12の反射電極PEは、隣接する画素12の反射電極PEと分離して形成される必要があるため、画素12の反射電極PE間には画素間隙が形成される。それにより、画素12の反射電極PEの周囲長は増加する。具体的には、画素12の反射電極PEのエッジ部分の周囲長は、正方形状の画素配置領域A1の一辺の長さ(即ち、画素ピッチ)L1が3.8μm、画素間隙L2が0.2μmである場合、14.44μmとなる(図9の左図参照)。
それに対し、額縁部51の額縁電極G5は、既に説明したように、額縁部51の全体にわたって隙間なく広がるベタ電極である。そのため、額縁電極G5のエッジ部分の周囲長は、0μmである(図9の右図参照)。
そのため、反射電極PE及び額縁電極G5のそれぞれに同じレベルの黒階調の電圧を印加した場合でも、周囲長の違いにより、画像表示部11の各画素12によって表示される黒のレベルと、額縁部51によって表示される黒のレベルと、が異なってしまう。
より具体的には、液晶表示素子LC,LC_Bに垂直に入射された光は、液晶LCMを通過して、反射電極PEや額縁電極G5において垂直に反射し、液晶LCMによって変調された後、出射される。例えば、黒の表示を行う場合、液晶LCMによる変調によって、光の偏向方向を位相差にして90度ずらす。それにより、光の進行が遮られるため、黒が表示される。ここで、画像表示部11の各画素12と額縁部51とでは、光を反射する反射電極PE及び額縁電極G5のそれぞれの周囲長(エッジ部分の長さ)が異なるため、エッジ部分における乱反射の度合いが異なってしまい、その結果、表示される黒のレベルが互いに異なってしまう。例えば、エッジ部分の長さが長いと、乱反射の量が多くなるため、光の偏向方向とは異なる反射光が増加し、その結果、表示される黒は明るくなる。他方、エッジ部分の長さが短いと、乱反射の量が少なくなるため、光の偏向方向とは異なる反射光が減少し、その結果、表示される黒は暗くなる。
次に、本実施の形態にかかる額縁部41について具体的に説明する。
図17は、反射型液晶表示装置10に設けられた画像表示部11の各画素12の反射電極PE、及び、額縁部41の複数の額縁電極G3の概略平面図である。なお、図17の例では、画像表示部11の角部に設けられた複数の画素12のそれぞれの反射電極PE、及び、その周辺に設けられた額縁部41の複数の額縁電極G3のみが示されている。
図17に示すように、額縁部41は、行列状に区画された複数の電極配置領域A2のそれぞれに規則的に配置された複数の額縁電極G3を有する。なお、電極配置領域A2は、画素12が配置される画素配置領域A1と同一サイズ(ピッチ)である。これら複数の額縁電極G3は、画素12の反射電極PEと同一階層に形成されている。
なお、各額縁電極G3の上層には、共通電極CEが離間対向配置され、共通電極CEと各額縁電極G3との間には液晶LCMが充填封止されている。これら共通電極CE、額縁電極G3、及び、液晶LCMによって液晶表示素子LC_Bが構成されている。
各額縁電極G3は、平面視上、矩形状の本体部G3aと、本体部の一辺及びそれに直交する他の一辺からそれぞれ突出するようにして設けられた2つの連結部G3bと、によって構成されている。各額縁電極G3は、隣接する額縁電極G3と、連結部G3bにより電気的に接続されている。それにより、額縁部41の全ての額縁電極G3の印加電圧を同じにすることができる。
ここで、各額縁電極G3には、共通電極CEと同じ電圧Vcomが印加されている。それにより、各額縁電極G3と共通電極CEとの間の電位差が0Vになるため、額縁部41には黒が表示される。
なお、画像表示部11によって表示される画像の品質向上の妨げとならないように、額縁部41によって表示される黒のレベルは、画像表示部11によって表示される黒のレベルにできるだけ近い(理想的には同じ)ことが好ましい。
そこで、本実施の形態では、額縁電極G3の周囲長を、各画素12の反射電極PEの周囲長にできるだけ近づけている(理想的には同じにしている)。以下、図18を参照しつつ説明する。
まず、画素12の反射電極PEの周囲長は、正方形状の画素配置領域A1の一辺の長さ(即ち、画素ピッチ)L1が3.8μm、画素間隙L2が0.2μmとすると、14.44μmとなる(図18の左図参照)。
それに対し、額縁電極G1の開口率は、正方形状の電極配置領域A2の一辺の長さL1が3.8μm、間隙L3が0.28μm、連結部G1bの幅L4が1μmとすると、14.44μmとなる(図18の右図参照)。これは、画素12の反射電極PEの周囲長と同じ長さである。
このように、実施の形態3にかかる反射型液晶表示装置10は、各額縁電極G3の周囲長(エッジ部分の長さ)を、各画素12の反射電極PEの周囲長にできるだけ近づけている。それにより、実施の形態3にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部41によって表示される黒のレベルを、画像表示部11によって表示される黒のレベルに近づけることができるため、映像品質の劣化を防ぐことができる。換言すると、実施の形態3にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部31及び画像表示部11のそれぞれによって表示される黒のレベルを均一化することができるため、ユーザにとって違和感のない映像を表示させることができる。
(実験結果)
図19は、反射電極PE及び額縁電極G3のそれぞれの周囲長の差と、画像表示部11及び額縁部41のそれぞれによって表示される黒レベルの差と、の関係を示す実験結果である。図19の実験結果に示すように、反射電極PE及び額縁電極G3のそれぞれの周囲長の差が小さくなるほど、画像表示部11及び額縁部41のそれぞれによって表示される黒レベルの差は小さくなる。そして、反射電極PE及び額縁電極G3のそれぞれの周囲長の差(反射電極PEの周囲長を基準にした場合の額縁電極G3の周囲長の差分)が30%以下になると、画像表示部11及び額縁部41のそれぞれによって表示される黒レベルの差は、見かけ上、無くなった。
以上のように、実施の形態1〜3にかかる反射型液晶表示装置10は、各額縁電極の開口率を、各画素12の反射電極PEの開口率にできるだけ近づけている。それにより、実施の形態3にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部によって表示される黒のレベルを、画像表示部によって表示される黒のレベルに近づけることができるため、映像品質の劣化を防ぐことができる。換言すると、実施の形態3にかかる反射型液晶表示装置10は、額縁部及び画像表示部のそれぞれによって表示される黒のレベルを均一化することができるため、ユーザにとって違和感のない映像を表示させることができる。
10 反射型液晶表示装置
11 画像表示部
12 画素
13 タイミングジェネレータ
14 垂直シフトレジスタ
15 データラッチ回路
16 水平ドライバ
20 上位装置
21 額縁部
31 額縁部
41 額縁部
100 シリコン基板
101 Nウエル
102 Pウエル
103 素子分離酸化膜
105 層間絶縁膜
106 第1メタル
108 第2メタル
110 第3メタル
112 MIM電極
114 第4メタル
116 第5メタル
117 パッシベーション膜(PSV)
118 コンタクト
119a〜119e スルーホール
161 水平シフトレジスタ
162 ラッチ部
163 レベルシフタ/画素ドライバ
164 ラッチ回路
1641〜1643 ラッチ回路群
201 SRAMセル
202 DRAMセル
d1〜dn 列データ線
dL,dM,dR 列データ線群
g1〜gm 行走査線
trig,trigb トリガ線
BF1 バッファ
C1 容量
CE 共通電極
CHP1 チップ
DM2 記憶部
G1〜G3 額縁電極
G1a,G3a 本体部
G1b,G3b 連結部
INV11,INV12 インバータ
LC,LC_B 液晶表示素子
LCM 液晶
MN1,MN2 NMOSトランジスタ
MN11,MN12 NMOSトランジスタ
MN21,MN22 NMOSトランジスタ
MP2 PMOSトランジスタ
MP11,MP12 PMOSトランジスタ
MP21,MP22 PMOSトランジスタ
PE 反射電極
SM1 記憶部
SW1,SW2 スイッチ
SW21,SW22 スイッチ

Claims (6)

  1. 行列状に区画された複数の画素配置領域に複数の画素がそれぞれ配置された画像表示部と、
    前記画像表示部の外周を囲むようにして設けられ、行列状に区画された複数の電極配置領域に複数の額縁電極がそれぞれ配置された額縁部と、
    を備え、
    各前記電極配置領域には、各前記画素配置領域に占める前記画素の反射電極の面積率を基準にして、差分が5%以内の面積率となるように前記額縁電極が配置されている、
    反射型液晶表示装置。
  2. 各前記額縁電極は、各前記反射電極の面積率と同一の面積率となるように形成されている、
    請求項1に記載の反射型液晶表示装置。
  3. 行列状に区画された複数の画素配置領域に複数の画素がそれぞれ配置された画像表示部と、
    前記画像表示部の外周を囲むようにして設けられ、行列状に区画された複数の電極配置領域に複数の額縁電極がそれぞれ配置された額縁部と、
    を備え、
    各前記電極配置領域には、各前記画素配置領域に占める前記画素の反射電極の周囲長を基準にして、差分が30%以内の周囲長となるように前記額縁電極が配置されている、
    反射型液晶表示装置。
  4. 各前記額縁電極は、各前記反射電極の周囲長と同一の周囲長となるように形成されている、
    請求項3に記載の反射型液晶表示装置。
  5. 各前記額縁電極は、
    矩形状の本体部と、
    前記本体部の外周辺の一部から突出するようにして設けられた連結部と、
    を有し、
    前記連結部によって、隣接する他の前記額縁電極と電気的に接続されている、
    請求項1〜4の何れか一項に記載の反射型液晶表示装置。
  6. 各前記額縁電極は、
    前記反射電極と同じ平面形状を有し、
    下位階層に形成された配線によって、隣接する他の前記額縁電極と電気的に接続されている、
    請求項1〜4の何れか一項に記載の反射型液晶表示装置。
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