JP2019087576A - 成膜装置、及び成膜方法 - Google Patents
成膜装置、及び成膜方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019087576A JP2019087576A JP2017213062A JP2017213062A JP2019087576A JP 2019087576 A JP2019087576 A JP 2019087576A JP 2017213062 A JP2017213062 A JP 2017213062A JP 2017213062 A JP2017213062 A JP 2017213062A JP 2019087576 A JP2019087576 A JP 2019087576A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film forming
- film
- substrate
- thin film
- mounting table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/52—Controlling or regulating the coating process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
- C23C16/45527—Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
- C23C16/45536—Use of plasma, radiation or electromagnetic fields
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/458—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for supporting substrates in the reaction chamber
- C23C16/4582—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs
- C23C16/4583—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally
- C23C16/4584—Rigid and flat substrates, e.g. plates or discs the substrate being supported substantially horizontally the substrate being rotated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
【課題】円形の基板に対し、周方向に沿って見た特性の均一性が高い薄膜の形成に寄与する成膜装置などを提供する。【解決手段】原料ガスと反応ガスとを反応させて薄膜を形成する成膜装置1において、回転駆動部22は、基板Wを水平に保持する載置台21を中心軸周りに回転させ、ガス吐出部4は、載置台21上の基板Wと対向する位置から複数のガス吐出孔44を介して原料ガス、反応ガスを交互に吐出する。制御部6は原料ガス、反応ガスを吐出するサイクル中に、予め設定された回転角度だけ前記載置台を回転させるように回転駆動部22に制御信号を出力し、前記回転角度は、前記載置台21を停止して基板Wに薄膜を形成した場合に、周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる要因領域を特定した結果に基づいて設定される。【選択図】図1
Description
本発明は、円形の基板に薄膜を形成する技術に関する。
半導体装置の製造工程にて円形の基板である半導体ウエハ(以下、「ウエハ」という)に成膜を行う手法として、互いに反応する原料ガスと反応ガスとを交互に供給し、これら原料ガスと反応ガスとの反応生成物をウエハに堆積させて薄膜を形成する、いわゆるALD(Atomic Layer Deposition)法やMLD(Molecular Layer Deposition)法(以下、これらを総合してALD法と称する)などと呼ばれる方法が知られている。
ALD法は、ウエハの表面に吸着した原料ガスと反応ガスとを反応させることにより、反応生成物である単分子層や単原子層を堆積させていくので、ウエハの面内で膜厚などの特性が均一な薄膜を形成することが可能な技術である。
その一方で、ALD法といえども原料ガスや反応ガスの流れの偏りや、活性の高い反応ガスを得るために用いるプラズマ形成領域の偏りなどの影響を受け、ウエハの面内で薄膜の特性がわずかながら不均一になる場合もある。
この点、近年の半導体装置の微細化の要求から、ますます面内均一性の高い薄膜の形成が求められている。
この点、近年の半導体装置の微細化の要求から、ますます面内均一性の高い薄膜の形成が求められている。
ここで例えば薄膜の膜厚分布がお椀を伏せたような形状となっている場合のように、ウエハの径方向に沿って見た薄膜の特性に分布が生じている一方、周方向に沿って見た特性は均一である場合には、後段の処理(膜厚分布の場合はエッチング処理など)により特性の分布を補正できる場合がある。
一方で、ウエハの周方向に沿って特性の分布が生じている場合には、後段の処理を利用した分布の補正はより困難となってしまう。
一方で、ウエハの周方向に沿って特性の分布が生じている場合には、後段の処理を利用した分布の補正はより困難となってしまう。
この点、特許文献1には、回転テーブルに複数枚のウエハを載置し、これらのウエハを回転テーブルの回転軸周りに公転させて、互いに離間して設けられた吸着領域及び酸化領域を繰り返し通過させて成膜を行うにあたり、例えば吸着領域を通過させる際に、ウエハを保持するウエハホルダを自転させる技術が記載されている。
また特許文献2には、ウエハを水平姿勢で多段に積載したボートと、ボートの高さ方向に沿って伸びるように配設されたノズルとを反応管内に配置し、ボート(ウエハ)を回転させながらノズルからガスを供給してウエハを加熱することにより膜を形成する縦型熱処理炉が記載されている。
また特許文献2には、ウエハを水平姿勢で多段に積載したボートと、ボートの高さ方向に沿って伸びるように配設されたノズルとを反応管内に配置し、ボート(ウエハ)を回転させながらノズルからガスを供給してウエハを加熱することにより膜を形成する縦型熱処理炉が記載されている。
上述の特許文献1に記載の技術では、回転テーブルの回転とウエハホルダの自転とを同期させないことにより、また特許文献2に記載の技術ではガスの供給タイミングとウエハの回転周期とを同期させないことにより、各々、ウエハに形成される膜の周方向の面内均一性を向上させている。
一方で特許文献1、2には、基板に形成される膜の特性を周方向に沿って見たときに、その均一性を低下させている要因を具体的に特定して基板の回転の決定に反映する技術は記載されていない。
一方で特許文献1、2には、基板に形成される膜の特性を周方向に沿って見たときに、その均一性を低下させている要因を具体的に特定して基板の回転の決定に反映する技術は記載されていない。
本発明はこのような事情の下になされたものであり、円形の基板に対し、周方向に沿って見た特性の均一性が高い薄膜の形成に寄与する成膜装置及び、成膜方法を提供する。
本発明の成膜装置は、真空容器内に、原料ガスと、前記原料ガスと反応する反応ガスとを交互に供給して円形の基板の表面に反応生成物層を形成するサイクルを複数回実施することにより、前記反応生成物層を堆積させて薄膜を形成する成膜装置において、
基板を水平に保持する載置台と、
前記載置台に保持された基板を中心軸周りに回転させるために、当該載置台を回転駆動する回転駆動部と、
前記原料ガスを供給する原料ガス供給部、及び前記反応ガスを供給する反応ガス供給部に接続されると共に、前記載置台上に保持された基板と対向する位置に設けられ、複数のガス吐出孔が形成されたガス吐出部と、
前記サイクル中に、予め設定された回転角度だけ前記載置台を回転駆動させるように回転駆動部に制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記回転角度は、前記載置台の回転駆動を停止して基板に対する薄膜の形成を行った場合に、当該基板の周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる領域である要因領域を特定した結果に基づいて設定されていることを特徴とする。
基板を水平に保持する載置台と、
前記載置台に保持された基板を中心軸周りに回転させるために、当該載置台を回転駆動する回転駆動部と、
前記原料ガスを供給する原料ガス供給部、及び前記反応ガスを供給する反応ガス供給部に接続されると共に、前記載置台上に保持された基板と対向する位置に設けられ、複数のガス吐出孔が形成されたガス吐出部と、
前記サイクル中に、予め設定された回転角度だけ前記載置台を回転駆動させるように回転駆動部に制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記回転角度は、前記載置台の回転駆動を停止して基板に対する薄膜の形成を行った場合に、当該基板の周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる領域である要因領域を特定した結果に基づいて設定されていることを特徴とする。
本発明は、基板の回転を停止した状態で薄膜の形成を行った場合に、基板の周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる要因領域と対応させて基板の回転角度を決定する。この結果、基板の面内で要因領域を適切に移動させながら薄膜を形成することが可能となり、前記周方向に均一性の高い薄膜を得ることができる。
本発明の実施の形態に係る成膜装置について、例えば円形の基板であるウエハWに対し、プラズマALDにより成膜を行う例について説明する。
図1に示すように、例えば成膜装置1は、金属製の天井部材101及び容器本体102により構成された、横断面形状が矩形の処理容器(真空容器)10を備えている。処理容器10の側壁には、ウエハWを搬入出するために設けられ、ゲートバルブ12により開閉自在な搬入出口11が形成されている。
図1に示すように、例えば成膜装置1は、金属製の天井部材101及び容器本体102により構成された、横断面形状が矩形の処理容器(真空容器)10を備えている。処理容器10の側壁には、ウエハWを搬入出するために設けられ、ゲートバルブ12により開閉自在な搬入出口11が形成されている。
処理容器10の底面には、処理容器10内の真空排気を行うための排気口15が設けられている。排気口15は、圧力調整部18が介設された排気管16を介して真空ポンプ17に接続されている。
処理容器10内には、搬入出口11から見て、手前側に配置された成膜部13a(13b)と、奥手側配置された成膜部14a(14b)との組が、搬入出口11から見て左右に並べて2組配置されている。
即ち、本例の成膜装置1は、4つの成膜部13a、13b、14a、14bを備えている。
即ち、本例の成膜装置1は、4つの成膜部13a、13b、14a、14bを備えている。
成膜部13a、13b、14a、14bは共通の構成を備えているので、成膜部13aを例に挙げて説明する。
図1に示すように、成膜部13aは、ウエハWを水平に保持する載置台21と、当該載置台21を回転駆動する駆動部22と、載置台21に保持されたウエハWに対して、原料ガス及び反応ガスを供給するガス吐出部であるガスシャワーヘッド4と、を備えている。
図1に示すように、成膜部13aは、ウエハWを水平に保持する載置台21と、当該載置台21を回転駆動する駆動部22と、載置台21に保持されたウエハWに対して、原料ガス及び反応ガスを供給するガス吐出部であるガスシャワーヘッド4と、を備えている。
本例の載置台21は、扁平な円板状に形成された金属からなり、薄膜を形成する対象のウエハWを水平に保持する。載置台21には、ウエハWを加熱するための、抵抗発熱体より構成されるヒータ23が埋設され、ウエハWを60℃〜450℃程度の範囲内の温度に加熱することができる。
また載置台21は、反応ガスをプラズマ化するための平行平板の下部電極としての機能を備え、図示しない接地ラインを介して接地されている。
また載置台21は、反応ガスをプラズマ化するための平行平板の下部電極としての機能を備え、図示しない接地ラインを介して接地されている。
駆動部22は、載置台21の下面側中央部に接続された駆動軸221を介して載置台21を鉛直軸回りに回転駆動する。この結果、前記鉛直軸とウエハWの中心とを揃え、載置台21に載置されたウエハWを中心軸周りに回転させることができる。載置台21を回転させる機能に関し、駆動部22は本例の回転駆動部を構成している。
また駆動部22は、ウエハWの処理を行う処理位置と、外部の搬送機構との間でウエハWの受け渡しを行う受け渡し位置(図1中に破線で示してある)との間で載置台21を昇降させることもできる。
また駆動部22は、ウエハWの処理を行う処理位置と、外部の搬送機構との間でウエハWの受け渡しを行う受け渡し位置(図1中に破線で示してある)との間で載置台21を昇降させることもできる。
処理容器10の底面には、ウエハWの受け渡し用の受け渡しピン20が設けられている。載置台21を受け渡し位置まで下降させると、載置台21に形成された貫通孔24を突き抜けて、受け渡しピン20が突出した状態となり、外部の搬送機構との間でのウエハWの受け渡しを行うことができる。
図1中の符号25は、処理容器10内を気密に保ちつつ、駆動軸221を回転自在に保持する軸受部である。
図1中の符号25は、処理容器10内を気密に保ちつつ、駆動軸221を回転自在に保持する軸受部である。
ガスシャワーヘッド4は、後述の区画部材26を介して容器本体102に支持され、処理位置にある載置台21(載置台21に保持されたウエハW)と対向する位置に配置されている。ガスシャワーヘッド4は、扁平な金属製の皿状のシャワープレート42の上面側を金属製の蓋体41で塞ぎ、その内部にガスの通流室43を形成した構成となっている。ガスシャワーヘッド4の周囲に設けられた天井部材101と容器本体102との間は、絶縁部材31により絶縁されている。
蓋体41には、ガス供給路5が接続される一方、シャワープレート42には、多数のガス吐出孔44が形成され、通流室43内に流入したガス(原料ガスや反応ガス、パージガス)を下方側に向けて吐出する。
蓋体41には、ガス供給路5が接続される一方、シャワープレート42には、多数のガス吐出孔44が形成され、通流室43内に流入したガス(原料ガスや反応ガス、パージガス)を下方側に向けて吐出する。
さらにガスシャワーヘッド4は、既述の平行平板の上部電極を構成し、整合器32を介して高周波電源33に接続されている。ガスシャワーヘッド(上部電極)4と載置台(下部電極)21との間に高周波電力を印加すると、容量結合によりガス(本例では反応ガス)をプラズマ化することができる。
ガスシャワーヘッド4(蓋体41)に接続されたガス供給路5は上流側で分岐し、原料ガス供給部51、パージガス供給部52、反応ガス供給部53に接続されている。図1中V1〜V3は開閉バルブであり、M1〜M3は流量調整部である。
成膜される膜に応じて、原料ガス、反応ガスは適宜、適切な物質が選択される。SiO2膜の薄膜を形成する場合、原料ガスとしては、例えばSi2Cl6、Si2H6、HCDS(ヘキサクロロジシラン)、TDMAS(トリジメチルアミノシラン)、BDEAS(ビスジエチルアミノシラン)などのシリコン(Si)を含むガスが用いられる。反応ガスとして、酸化ガスである酸素(O2)ガスやオゾン(O3)ガスなどが用いられる。パージガスとしては、アルゴン(Ar)ガスなどの不活性ガスが用いられる。
成膜される膜に応じて、原料ガス、反応ガスは適宜、適切な物質が選択される。SiO2膜の薄膜を形成する場合、原料ガスとしては、例えばSi2Cl6、Si2H6、HCDS(ヘキサクロロジシラン)、TDMAS(トリジメチルアミノシラン)、BDEAS(ビスジエチルアミノシラン)などのシリコン(Si)を含むガスが用いられる。反応ガスとして、酸化ガスである酸素(O2)ガスやオゾン(O3)ガスなどが用いられる。パージガスとしては、アルゴン(Ar)ガスなどの不活性ガスが用いられる。
図1においては、成膜部13a(または13b)側の各ガス供給部51、52、53と、成膜部14a(または14b)側の各ガス供給部51、52、53とを、別々に設けた例を示してある。但し、共通の各ガス供給部51、52、53から、各成膜部13a、13b、14a、14bのガスシャワーヘッド4にガスの供給を行う構成を採用してもよい。
さらに図1、2に示すように、各成膜部13a、13b、14a、14bには、処理位置にある載置台21の上面(ウエハWの載置面)とガスシャワーヘッド4の下面との間に互いに区画された処理領域A1〜A4を形成すると共に、シャワープレート42と容器本体102とを絶縁する絶縁部材製の区画部材26が設けられている。
また、搬入出口11から見て手前側と奥手側とに配置された成膜部13a、14aを収容する空間の間、及び成膜部13b、14bを収容する空間は、各々、連通路19を介して連通している。
また、搬入出口11から見て手前側と奥手側とに配置された成膜部13a、14aを収容する空間の間、及び成膜部13b、14bを収容する空間は、各々、連通路19を介して連通している。
上述の構成により、例えば前後に2枚のウエハWを保持可能なウエハ保持部を備えた外部の搬送機構(不図示)を用い、搬入出口11、及び連通路19を介して手前側の成膜部13a(13b)、及び奥手側の成膜部14a(14b)が収容された空間にウエハ保持部を進入させ、各載置台21との間で2枚のウエハWの受け渡し動作を並行して行うことができる。
例えばウエハの搬送機構は、2組のウエハ保持部を備え、各ウエハ保持部は前後に2枚ずつウエハWを保持し、合計4枚のウエハWを保持可能なものを用いてもよい。
例えばウエハの搬送機構は、2組のウエハ保持部を備え、各ウエハ保持部は前後に2枚ずつウエハWを保持し、合計4枚のウエハWを保持可能なものを用いてもよい。
成膜装置1には、制御部6が設けられている。制御部6は、プログラムを格納した記憶媒体及びCPUからなるコンピュータとして構成されている。プログラムには制御部6から成膜装置1の各部に制御信号を送り、各成膜部13a、13b、14a、14bの載置台21に保持されたウエハWの表面にプラズマALDにより薄膜を形成する処理を実行するための命令(ステップ群)が組まれている。
具体的には、載置台21の昇降及び回転、各開閉バルブV1〜V3の開閉、高周波電源33のオンオフ、ヒータ23によるウエハWの温度制御などが、上記のプログラムによって制御される。これらプログラムは、例えば、コンパクトディスク、ハードディスク、MO(光磁気ディスク)などの記憶媒体に格納されて制御部6にインストールされる。
具体的には、載置台21の昇降及び回転、各開閉バルブV1〜V3の開閉、高周波電源33のオンオフ、ヒータ23によるウエハWの温度制御などが、上記のプログラムによって制御される。これらプログラムは、例えば、コンパクトディスク、ハードディスク、MO(光磁気ディスク)などの記憶媒体に格納されて制御部6にインストールされる。
上述の構成を備えた成膜装置1は、各成膜部13a、13b、14a、14bにて形成される薄膜の特性がウエハWの面内で変化する分布を有している場合であっても、ウエハWの周方向に沿って見たときには均一な特性が得られるように、ウエハWを予め設定された回転角度で回転させながら薄膜の形成を行う。
ウエハWを回転させることにより、周方向の均一性を高めることが可能な特性としては、薄膜の膜厚、誘電率、膜密度からなる特性群から選択されたものを例示することができる。
ウエハWを回転させることにより、周方向の均一性を高めることが可能な特性としては、薄膜の膜厚、誘電率、膜密度からなる特性群から選択されたものを例示することができる。
以下、図3、4を参照しながら薄膜の特性の一種である膜厚に着目して回転角度を決定する手法について説明する。なお、回転角度の設定手法は、いずれの成膜部13a、13b、14a、14bにおいても同様なので、以下、成膜部13aの例を挙げて説明する。
図3(a)は、成膜部13aに設けられたウエハWの回転(載置台21の回転駆動)を停止して薄膜の形成を行ったときに得られる膜厚の分布の一例を模式的に示している。
図3(a)に示す膜厚分布では、同図に向かってウエハWの右下の領域に、膜厚の厚い部分が形成されている。このため、ウエハWの周方向に沿って見たとき、均一な膜厚分布となっていない。
図3(a)に示す膜厚分布では、同図に向かってウエハWの右下の領域に、膜厚の厚い部分が形成されている。このため、ウエハWの周方向に沿って見たとき、均一な膜厚分布となっていない。
一方で、膜厚分布の形状は、機器の特性などの影響を受けて成膜装置1毎に相違し、また各成膜装置1内おいても成膜部13a、13b、14a、14b毎に相違することもある。このような場合に、異なる成膜装置1間で一律の回転角度を設定しても、周方向の膜厚の均一性を十分に向上させることができないおそれもある。
そこで本例の成膜装置1は、ウエハWの回転を停止した状態で実際に薄膜を形成し、この薄膜から測定した膜厚分布を元に当該薄膜の評価を行い、回転角度を決定する。
そこで本例の成膜装置1は、ウエハWの回転を停止した状態で実際に薄膜を形成し、この薄膜から測定した膜厚分布を元に当該薄膜の評価を行い、回転角度を決定する。
図3〜5を参照しながら薄膜の評価手法について説明する。
始めに、成膜装置1を用いてウエハWを静止させた状態で、後段の動作説明にて詳述するプラズマALDを実施し、薄膜の形成を実施する(静止成膜工程)。次いで、ウエハWに形成された薄膜の各位置における膜厚を計測して、ウエハWの面内の膜厚分布(特性値分布)を得る(図3(a)、特性値分布取得工程)。
始めに、成膜装置1を用いてウエハWを静止させた状態で、後段の動作説明にて詳述するプラズマALDを実施し、薄膜の形成を実施する(静止成膜工程)。次いで、ウエハWに形成された薄膜の各位置における膜厚を計測して、ウエハWの面内の膜厚分布(特性値分布)を得る(図3(a)、特性値分布取得工程)。
ここで図3(a)のウエハW内に記した閉曲線は、膜厚が等しい箇所を結んだ等膜厚線を示し、その内部領域の膜厚は、図3中に併記した凡例に基づいて異なっている。
また、符号R1を付した領域は、予め設定したしきい値(例えば膜厚の平均値や、最小膜厚と最大膜厚との間の中間値、工程管理上、設定されている膜厚の上限値など)よりも膜厚が厚い領域を示している。
また、符号R1を付した領域は、予め設定したしきい値(例えば膜厚の平均値や、最小膜厚と最大膜厚との間の中間値、工程管理上、設定されている膜厚の上限値など)よりも膜厚が厚い領域を示している。
得られた膜厚分布について、図3(b)に矢印を示す、ウエハWの半径方向に沿って膜厚の平均値を取り、この結果得られた膜厚平均値をウエハWの周方向に沿って並べた平均値分布を求める(平均値分布取得工程)。
図3(b)は、図3(a)に示す膜厚分布について半径方向に沿って膜厚の平均値を取り、環状の平均値分布として視覚的に示した模式図である。
図3(b)は、図3(a)に示す膜厚分布について半径方向に沿って膜厚の平均値を取り、環状の平均値分布として視覚的に示した模式図である。
図3(b)に模式的に示した平均値分布をグラフにしたものが図4である。図4の横軸は、ウエハW内の所定の位置に設定した半径からの角度、縦軸は半径方向に沿って取った膜厚平均値を示している。
図4に示すグラフにしきい値kの横線を引くと、当該平均値分布において膜厚平均値がしきい値より大きくなる領域を特定することができる。本例の薄膜の評価方法では、膜厚平均値がしきい値より大きくなる領域を、ウエハWの周方向に沿って見た薄膜の膜厚の均一性を低下させる要因となる要因領域Fとして特定する(要因領域特定工程)。
図4に示すグラフにしきい値kの横線を引くと、当該平均値分布において膜厚平均値がしきい値より大きくなる領域を特定することができる。本例の薄膜の評価方法では、膜厚平均値がしきい値より大きくなる領域を、ウエハWの周方向に沿って見た薄膜の膜厚の均一性を低下させる要因となる要因領域Fとして特定する(要因領域特定工程)。
図5中にハッチを付して示したように、ウエハW面内の要因領域は扇形の領域として特定することができる。そして当該扇形(要因領域F)と接する2つの半径が成す中心角度Δθと揃えて、ALDの1サイクルあたりのウエハW(載置台21)の回転角度を設定する。
ここで本実施の形態において、「中心角度Δθと揃うように回転角度を設定する」とは、これらの角度が厳密に一致している場合に加えて、要因領域Fの扇形の中心角度Δθに対し、ウエハWの回転角度が±5%の範囲内でずれている場合(0.95Δθ≦回転角度≦1.05Δθ)も含んでいる(後述する他の実施形態においても同じ)。
また回転角度は、例えば同じ条件下で複数枚のウエハWに対して薄膜の形成を行い、上述の手法で求めた複数の中心角度Δθの平均値を採用してよい。
また回転角度は、例えば同じ条件下で複数枚のウエハWに対して薄膜の形成を行い、上述の手法で求めた複数の中心角度Δθの平均値を採用してよい。
ここで既述のように、図4に示す膜厚の分布は、ウエハWの半径方向に沿って取った平均値なので、要因領域Fに対し、しきい値よりも膜厚が厚い領域R1を重ねて示すと、図5に示すように領域R1は要因領域Fからはみ出した状態となる。
制御部6は、上述の手法により求めた回転角度Δθに基づいてウエハWの回転(載置台21の回転駆動)を実行するように駆動部22に対して制御信号を出力する。
制御部6は、上述の手法により求めた回転角度Δθに基づいてウエハWの回転(載置台21の回転駆動)を実行するように駆動部22に対して制御信号を出力する。
以下、図6〜8も参照しながら、本例の成膜装置1の作用について説明する。
先ず、処理容器10内が所定の圧力となるまで真空排気を行うと共に、各成膜部13a、13b、14a、14bの載置台21を受け渡し位置まで降下させる。次いで、ゲートバルブ12を開き、処理容器10に隣接する真空雰囲気の搬送室から搬送機構のウエハ保持部(不図示)を処理容器10内に進入させ、ウエハ保持部に前後に並べて保持されたウエハWを各載置台21の上方位置まで搬送する。
先ず、処理容器10内が所定の圧力となるまで真空排気を行うと共に、各成膜部13a、13b、14a、14bの載置台21を受け渡し位置まで降下させる。次いで、ゲートバルブ12を開き、処理容器10に隣接する真空雰囲気の搬送室から搬送機構のウエハ保持部(不図示)を処理容器10内に進入させ、ウエハ保持部に前後に並べて保持されたウエハWを各載置台21の上方位置まで搬送する。
次いで、受け渡しピン20を介して載置台21にウエハWを受け渡し、処理容器10内からウエハ保持部を退出させた後、ゲートバルブ12を閉じる。次いで、各載置台21を処理位置まで上昇させて処理領域A1〜A4を形成する。また、載置台21のヒータ23によってウエハWを所定の温度に加熱する。
以下、本例の成膜装置1は、図6に示すタイムチャートに基づきプラズマALDを実施する。
本例のプラズマALDは、ウエハWに原料ガスを吸着させる原料供給ステップS1と、処理領域A1〜A4から原料ガスをパージする第1のパージステップS2と、プラズマにより反応ガスの活性種を発生させて原料ガスと反応させる反応ステップS3と、原料ガスを供給する前に処理領域A1〜A4をパージする第2のパージステップS4との4つのステップを一つのサイクルとして構成される。そして、これらのステップS1〜S4よりなるサイクルを予め設定された回数だけ繰り返して行うことで、原料ガスと反応ガスとの交互供給により生成する反応生成物(本例ではシリコン酸化物の層)をウエハWの表面に堆積させて、所定の膜厚の薄膜(本例ではSiO2膜)を形成する。
本例のプラズマALDは、ウエハWに原料ガスを吸着させる原料供給ステップS1と、処理領域A1〜A4から原料ガスをパージする第1のパージステップS2と、プラズマにより反応ガスの活性種を発生させて原料ガスと反応させる反応ステップS3と、原料ガスを供給する前に処理領域A1〜A4をパージする第2のパージステップS4との4つのステップを一つのサイクルとして構成される。そして、これらのステップS1〜S4よりなるサイクルを予め設定された回数だけ繰り返して行うことで、原料ガスと反応ガスとの交互供給により生成する反応生成物(本例ではシリコン酸化物の層)をウエハWの表面に堆積させて、所定の膜厚の薄膜(本例ではSiO2膜)を形成する。
上述のプラズマALDのシーケンスを実施するため、成膜部13a、13b、14a、14bでは、各々パージガス供給用の開閉バルブV2及び反応ガス供給用の開閉バルブV3を開き、パージガス供給部52から例えばArガス、反応ガス供給部53から例えばO2ガスを供給する。続いて、原料ガス供給用の開閉バルブV1を開き、原料ガス供給部51から、ガスシャワーヘッド4を介して処理領域A1〜A4に原料ガスを吐出し、ウエハWに原料ガス分子(シリコン原子を含み、シリコンプリカーサとなる分子)を吸着させる(原料供給ステップS1)。
続いて、開閉バルブV1を閉じ、ウエハWへの原料ガスの供給を停止する一方で、Arガス、O2ガスの供給は継続する。これらArガス、O2ガスにより、ウエハWに吸着されないまま各処理領域A1〜A4に残留していた原料ガスは、処理領域A1〜A4からパージされる(第1のパージステップS2)。
しかる後、高周波電源33をオンにすると、処理領域A1〜A4に継続供給されているO2ガスやArガスがプラズマ化され、O2の活性種が生成する。当該活性種がウエハWの表面に到達すると、ウエハWに吸着されている原料ガスが酸化されて、反応生成物としてシリコン酸化物が形成される(反応ステップS3)。
然る後、高周波電源33をオフにすると共に、引き続きArガス、O2ガスの供給が続けられることにより、処理領域A1〜A4に残留している活性種がパージされる(第2のパージステップS4)。
然る後、高周波電源33をオフにすると共に、引き続きArガス、O2ガスの供給が続けられることにより、処理領域A1〜A4に残留している活性種がパージされる(第2のパージステップS4)。
上述のステップS1〜S4よりなるサイクルを予め設定された回数である数十回〜数百回、繰り返して行うことで、ウエハWの表面に薄膜(SiO2膜)を形成する。
そして、本例の成膜装置1においては、上述のサイクルの期間中に、中心軸周りにウエハWを回転させることにより、薄膜の膜厚を周方向に均一にする動作を実行する。
即ち制御部6の記憶媒体には、図3〜5を用いて説明した回転角度ΔθでウエハWを回転させるための載置台21の単位時間当たりの回転数の設定情報が記憶されている。そして、当該設定情報に基づいて駆動部22に対し回転数の設定が行われる。
即ち制御部6の記憶媒体には、図3〜5を用いて説明した回転角度ΔθでウエハWを回転させるための載置台21の単位時間当たりの回転数の設定情報が記憶されている。そして、当該設定情報に基づいて駆動部22に対し回転数の設定が行われる。
例えば、図6に示す1サイクルの期間中、継続してウエハWの回転を継続する場合には、当該1サイクルの開始(原料供給ステップS1)から終了(第2のパージステップS4)までに要する時間をtcycle[秒]としたとき、ウエハWの単位時間当たりの回転数r1[rpm]は、下記(1)式から求められる。
r1=(Δθ/360°)/(tcycle/60) …(1)
r1=(Δθ/360°)/(tcycle/60) …(1)
また、図3(a)に示す膜厚分布の形成に最も影響がある期間に限定してウエハWを回転させてもよい。例えば、ウエハWに原料ガスを吸着させる原料供給ステップS1の期間中にのみウエハWを回転させ、残りの期間中はウエハWの回転を停止することもできる。
この場合に、原料供給ステップS1の時間をtS1[秒]としたとき、ウエハWの単位時間当たりの回転数r2[rpm]は、下記(2)式から求められる。
r2=(Δθ/360°)/(tS1/60) …(2)
この場合に、原料供給ステップS1の時間をtS1[秒]としたとき、ウエハWの単位時間当たりの回転数r2[rpm]は、下記(2)式から求められる。
r2=(Δθ/360°)/(tS1/60) …(2)
各サイクルにて、上述の回転数でウエハWを回転させるとき、例えば1回目のサイクルでは、図7(a)に模式的に示すように、膜厚が厚くなる領域R1が回転角度Δθ分だけ回転移動して形成される軌跡に対応した領域R’において、相対的に膜厚が厚くなる。
次いで、2回目のサイクルでは、図7(b)に示すように、さらに領域R1が回転角度Δθ分だけ回転移動することにより、膜厚が厚くなる領域R’はウエハWの周方向に向けて広がる。
こうして、ウエハWを回転角度θだけ回転させながら、サイクルを数十回〜数百回、繰り返して行うと、図8に模式的に示すように膜厚が厚くなる領域R’は、ウエハWの中心周りに円環状に広がり、周方向に均一な膜厚の分布を形成することができる。
こうして、ウエハWを回転角度θだけ回転させながら、サイクルを数十回〜数百回、繰り返して行うと、図8に模式的に示すように膜厚が厚くなる領域R’は、ウエハWの中心周りに円環状に広がり、周方向に均一な膜厚の分布を形成することができる。
なお、図7、8を用いて説明した例では、ALDのサイクル中にウエハWを回転させることにより、領域R1をウエハWの中心周りに回転させた軌跡に対応して、膜厚が厚くなる領域R’が形成される場合について説明した。
但し、ウエハWの回転をパージステップS2、S3の期間中にのみ行う場合などでは、ウエハWの回転方向に向けて領域R1が広がる軌跡を描かない場合もある。
但し、ウエハWの回転をパージステップS2、S3の期間中にのみ行う場合などでは、ウエハWの回転方向に向けて領域R1が広がる軌跡を描かない場合もある。
この場合においても、図7(a)、(b)中に破線で示すように、スタンプを押すように膜厚が厚くなる領域R1が少しずつ重ね合わせられながら、当該領域R1の形成位置が環状に移動することにより、図8に示す円環に近い形状の膜厚が厚い領域R’を形成することができる。
以上に説明したウエハWの回転動作(載置台21の回転駆動動作)を実施しながら、予め設定された回数のサイクルを実行し、所定の膜厚(ウエハWの面内の平均膜厚)を有する薄膜を形成したら、最後のパージステップS4の後、ウエハWの回転、及び載置台21の加熱を停止し、処理位置から受け渡し位置まで各載置台21を降下させる。
しかる後、ゲートバルブ12を開いて外部のウエハ保持部を進入させ、搬入時とは反対の動作により、薄膜が形成されたウエハWを搬出して次のウエハWの搬入を待つ。
しかる後、ゲートバルブ12を開いて外部のウエハ保持部を進入させ、搬入時とは反対の動作により、薄膜が形成されたウエハWを搬出して次のウエハWの搬入を待つ。
本実施の形態に係る成膜装置1によれば以下の効果がある。ウエハWの回転を停止した状態で薄膜の形成を行った場合に、ウエハWの周方向に沿って見た薄膜の特性(例えば膜厚)の均一性を低下させる要因となる要因領域Fと対応させてウエハWの回転角度を決定する。この結果、ウエハWの面内で要因領域Fを適切に移動させながら薄膜を形成することが可能となり、周方向に均一性の高い薄膜を得ることができる。
ここで、図3〜5を用いて説明した例では、平均値分布内おける膜厚などの平均値がしきい値より大きくなる領域を薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる要因領域Fとして特定した例について説明した。
但し、平均値がしきい値より大きくなる領域を要因領域Fとすることは必須の要件ではない。例えば、ウエハWの周方向に沿って見たとき、一部分に、薄膜の特性が小さくなる領域(例えば膜厚が薄くなる領域)が形成される場合には、平均値がしきい値より小さくなる領域を要因領域Fとして設定し、回転角度Δθを求めてもよい。
但し、平均値がしきい値より大きくなる領域を要因領域Fとすることは必須の要件ではない。例えば、ウエハWの周方向に沿って見たとき、一部分に、薄膜の特性が小さくなる領域(例えば膜厚が薄くなる領域)が形成される場合には、平均値がしきい値より小さくなる領域を要因領域Fとして設定し、回転角度Δθを求めてもよい。
図9は、ALDのサイクル中に回転角度ΔθだけウエハWを回転させる際のバリエーションを示している。
例えばALDの1サイクルの期間中のウエハWの正味の回転角度がΔθとなるように、一旦、回転角度がΔθとなる位置を行き過ぎてから、逆回転させてもよい(図9(a))。
例えばALDの1サイクルの期間中のウエハWの正味の回転角度がΔθとなるように、一旦、回転角度がΔθとなる位置を行き過ぎてから、逆回転させてもよい(図9(a))。
また、1サイクルの一部(例えば原料供給ステップS1の期間中)に、回転角度Δθの一部(同図中に実線の矢印で示す回転角度)を回転させ、同サイクルの一部(例えば反応ステップS3の期間中)に、残り(同図中に実線の矢印で示す回転角度)を回転させてもよい(図9(b))。
さらにここで、図10、11に例示するように、ウエハWの回転を停止した状態で形成した薄膜より得られた特性値分布に基づき、既述の平均値分布を求めたところ、平均値の値がしきい値以上(またはしきい値以下でもよい。図10にはしきい値以上の例を示してある)の領域である要因領域Fが複数個生じる場合がある。
この場合には、各要因領域Fについて求めた扇形の中心角度(図10、11(a)に示す例ではΔθ1、Δθ2)のうち、最も角度の小さい中心角度(同図に示す例ではΔθ2)と揃うように回転角度が設定される。
この場合には、各要因領域Fについて求めた扇形の中心角度(図10、11(a)に示す例ではΔθ1、Δθ2)のうち、最も角度の小さい中心角度(同図に示す例ではΔθ2)と揃うように回転角度が設定される。
最も角度の小さい中心角度と揃えて回転角度を設定することにより、ウエハWに形成される薄膜の特性値(例えば膜厚)が大きくなる、または小さくなる2つの領域R11、R12が形成されるとき、面積が小さい方の領域R12について、前後のサイクルで形成された領域R12を確実に重ね合わせながら移動させることができる。この結果、双方の領域R11、R12について、各サイクルにて形成された膜厚の厚い領域が離れ離れにならず、周方向に見て膜厚の均一性が高い円環状の領域R’(図8参照)を形成することが可能となる。
一方で、ALDのサイクルの総実施回数Nと、回転角度Δθとの積が360°よりも小さいときは、図8に示す円環状の領域R’を形成することができない。この場合には、制御部6は、図12に示すように、予め決められた回数n(但し、総実施回数Nより少ない回数)のサイクルを実施する毎に、回転角度Δθより大きい角度に予め設定された分散移動角度ΔΘだけ載置台21を回転させてもよい。
ALDのサイクルの総実施回数Nに対して、予め設定された回数「n=N/X(但し、Xは2以上の整数)」毎に分散移動角度ΔΘ分の移動を実施する場合には、分散移動角度ΔΘは「ΔΘ=(360°/X)−(Δθ×n)」より求めることができる。
ここで、ウエハWの周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる要因領域は、ウエハWの回転を停止した状態で実際に薄膜の形成を行うこと以外の手法によっても特定することができる。
図13、14は、実際の薄膜形成に替えて、成膜装置1の設計データを用いて要因領域の特定を行う手法に係る説明図である。
図13、14は、実際の薄膜形成に替えて、成膜装置1の設計データを用いて要因領域の特定を行う手法に係る説明図である。
図13は、成膜装置1の成膜部13a、13b、14a、14bに設けられているガスシャワーヘッド4のシャワープレート42の設計データ(例えば三次元CAD(Computer-Aided Design)データ)のX−Y平面図である。
ウエハWに原料ガス分子を吸着させるALDを用いた薄膜形成においては、ウエハWの表面に吸着した後の原料ガス分子の単位面積あたりの濃度分布や反応ガスの流れが成膜後の薄膜の特性に影響を与える場合がある。そして、これらの影響要因は、シャワープレート42におけるガス吐出孔44の配置位置に応じて変化することもある。
ウエハWに原料ガス分子を吸着させるALDを用いた薄膜形成においては、ウエハWの表面に吸着した後の原料ガス分子の単位面積あたりの濃度分布や反応ガスの流れが成膜後の薄膜の特性に影響を与える場合がある。そして、これらの影響要因は、シャワープレート42におけるガス吐出孔44の配置位置に応じて変化することもある。
即ち、ウエハWの回転を停止した状態で、当該ウエハWと対向する位置に配置されたガスシャワーヘッド4(シャワープレート42)から原料ガスが吐出されると、原料ガスや反応ガスは流れの勢いを保ったままウエハWの表面に到達する。この結果、ガス吐出孔44の直下の領域では、ウエハWの表面に吸着する原料ガスの濃度が高く、また反応ガスも比較的高い濃度で供給されることにより、吸着後の原料ガス分子と反応ガスの活性種との反応も進行しやすい。
一方、ガス吐出孔44の直下の周囲領域では、ウエハWとの衝突により原料ガスや反応ガスの流れの勢いが減殺され。直下領域と比べると、原料ガス分子と活性種との反応が進行しにくい場合もある。
上述のメカニズムにより、ガス吐出孔44の直下領域では薄膜の膜厚が厚く、膜密度が大きくなる一方、その周囲領域では、直下領域と比較して膜厚が薄く、膜密度が小さくなる傾向を示す成膜装置1もある。
このような場合には、シャワープレート42内におけるガス吐出孔44の配置位置を示す設計データが、ウエハWの表面に形成される薄膜の特性を示すことになるので、当該設計データを用いて薄膜の特性値分布を推定することができる。
このような場合には、シャワープレート42内におけるガス吐出孔44の配置位置を示す設計データが、ウエハWの表面に形成される薄膜の特性を示すことになるので、当該設計データを用いて薄膜の特性値分布を推定することができる。
即ち、予備実験や流体シミュレーションなどにより、ガス吐出孔44の配置の他、開孔径やシャワープレート42の下面とウエハWとの距離、隣り合って配置されるガス吐出孔44間の距離などの設計因子と、ウエハWの表面に形成される薄膜の特性値の関係を予め把握しておく。そして、シャワープレート42の設計データに基づき、ウエハWの表面に形成される薄膜の特性値分布を推定する。
特性値分布を推定したら、図3〜5を用いて説明した手法と同じ要領で、ウエハWの半径方向に沿って特性値の平均値を取り、この結果得られた平均値をウエハWの周方向に沿って並べた平均値分布を求める。
図13に示すように、例えばシャワープレート42が円板状の部材から構成されている場合には、シャワープレート42内におけるガス吐出孔44の配置がそのままウエハWの表面の特性値の分布に対応すること(既述のようにガス吐出孔44の直下にて薄膜が厚く、高密度となるなど)もある。
図13に示すように、例えばシャワープレート42が円板状の部材から構成されている場合には、シャワープレート42内におけるガス吐出孔44の配置がそのままウエハWの表面の特性値の分布に対応すること(既述のようにガス吐出孔44の直下にて薄膜が厚く、高密度となるなど)もある。
図14は、上述の手法により、例えば薄膜の誘電率平均値εについて求めた平均値分布のイメージを示す模式図である(図13を用いて実際に得られた平均値分布ではない)。図14に示すグラフにしきい値k’の横線を引き、誘電率平均値がしきい値より大きくなる領域(または小さくなる領域)を特定することにより、要因領域Fの中心角度Δθを求め、ウエハWの回転角度を決定することができる。図14においては、平均誘電率がしきい値k’よりも多くなる領域を要因領域として特定した例を示してある。
図14に示すように、複数の要因領域が特定される場合には、これらの要因領域のうち、最も角度の小さい中心角度と揃うように回転角度の設定を行ってもよい点は、図10、11を用いて説明した例と同様である。
この他、成膜装置1の設計データは、ウエハWの周方向に沿って並べた平均値分布を求める手法以外の要因領域の特定にも活用できる。
図15は、図1を用いて説明した成膜装置1の横断平面を示している。当該横断の設計データからは、載置台21(載置台21に載置されたウエハW、以下、図15の説明において同じ)の半径方向に沿って見た、載置台21の外周から、処理容器10の内側壁面までの離間距離を求めることができる。
図15は、図1を用いて説明した成膜装置1の横断平面を示している。当該横断の設計データからは、載置台21(載置台21に載置されたウエハW、以下、図15の説明において同じ)の半径方向に沿って見た、載置台21の外周から、処理容器10の内側壁面までの離間距離を求めることができる。
平行平板間に反応ガスのプラズマを形成する成膜装置1においては、前記離間距離がプラズマの強度分布に影響を及ぼす場合がある。即ち、処理容器10の内側壁面が近い領域ではウエハWの面内で見たとき、相対的にプラズマが強く、内壁面が遠い領域ではプラズマが弱くなる傾向を示す場合がある。このプラズマ強度の分布は、ウエハWの表面に形成される薄膜の特性値分布に影響を及ぼす。
そこで図15に示す例では、載置台21から処理容器10の側壁までの離間距離が予め設定された設定離間距離Dよりも小さくなる領域を要因領域FA1、FA2として特定している。同図中に破線で示す円は、載置台21の外周から前記設定離間距離Dだけ離れた位置を示している。
本例においても、各要因領域FA1、FA2と接する2つの半径が成す中心角度ΔθA1、ΔθA2と揃えて、成膜部13a、14aにおけるウエハW(載置台21)の回転角度の設定が行われる。
本例においても、各要因領域FA1、FA2と接する2つの半径が成す中心角度ΔθA1、ΔθA2と揃えて、成膜部13a、14aにおけるウエハW(載置台21)の回転角度の設定が行われる。
ここで、図15を用いて説明した例のように、各成膜部13a、13b、14a、14bに対して特定される回転角度が互いに異なる場合がある。また、ウエハWの回転を停止した状態で形成した薄膜より得た特性値分布を用いて回転角度を求める場合においても、成膜部13a、13b、14a、14b毎に回転角度が異なる状況は発生し得る。
このような場合には、成膜部13a、13b、14a、14b毎に異なる回転角度を設定して薄膜の形成を行ってよい。
このような場合には、成膜部13a、13b、14a、14b毎に異なる回転角度を設定して薄膜の形成を行ってよい。
一方で、多数の成膜部13a、13b、14a、14bにて、異なる回転角度の設定を行うことは、載置台21の回転数の設定管理などが煩雑になり過ぎるおそれもある。特に、共通の搬送室に複数の成膜装置1を接続した成膜システムにおいては、システム内に設けられる載置台21の台数が数十台にも及ぶ場合があり、回転数の設定管理の問題がますます大きくなってしまう。
そこで、例えば共通の成膜装置1内に設けられた成膜部13a、13b、14a、14bにおいては、各々について特定された回転角度が異なっている場合であっても、これらに共通の回転角度を設定してもよい。
共通の回転角度を選択するルールとして、例えば図16に示すように、各成膜部13a、13b、14a、14bの中心角度Δθ1〜Δθ4を求めた結果、少なくとも一つの成膜部(図16に示す例では成膜部13a)について、薄膜を形成する際に実施されるサイクルの総実施回数Nと、中心角度Δθ1との積が360°以下であるとき、中心角度が最大ΔθMAXである成膜部(図16に示す例では成膜部14a)と揃うように各成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度Δθ3を設定する。
上記ルールに基づいて全ての成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度を設定することにより、中心角度Δθ1が小さい成膜部13aにおける特性値が大きくなる/小さくなる領域R1が移動する範囲を狭い範囲に集中させないようにすることができる。この結果、当該領域R1がウエハWの中心の周りを分散して移動することにより、ウエハWの周方向に均一性の高い特性値分布を有する環状の領域R’(図8参照)を得ることができる。
一方で、例えば図17に示すように、各成膜部13a、13b、14a、14bの中心角度Δθ1〜Δθ4を求めた結果、全ての成膜部13a、13b、14a、14bについて、薄膜を形成する際に実施されるサイクルの総実施回数Nと、中心角度Δθ1〜Δθ4との積が360°よりも大きいとき、中心角度が最小ΔθMINである成膜部(図17に示す例では、成膜部13a)と揃うように各成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度Δθ1を設定する。
最小の回転角度Δθ1を選択し、各ウエハWにて特性値が大きくなる/小さくなる領域R1の重なりをできるだけ大きくすることにより、ウエハWの周方向の均一性がさらに高い特性値分布を有する環状の領域R’(図8参照)を形成することができる。
上述の図16、17を用いて説明した手法において、全ての成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度を揃える基準となった中心角度ΔθMAXやΔθMINは、ウエハWの周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる領域を前記周方向に分散させながら薄膜を形成するための回転角度に相当している。
ここで、前記回転角度を決定する手法は、図3〜5、13〜15を用いて説明した各手法に限定されない。例えば成膜部13a、13b、14a、14bにてウエハWの回転を停止した状態で薄膜の形成を行い、各薄膜について膜厚分布を求める(後述の図18参照)。
そして、各薄膜について、予め設定したしきい値より膜厚が厚くなる領域R2、またはしきい値より膜厚が薄くなる領域R2’を特定し、例えば面積が最小の領域R2またはR2’について、当該領域R2、R2’の面積が50%ずつ重なるように、膜厚が厚くなる領域R2、または膜厚が薄くなる領域R2’をウエハWの周方向へ向けて分散させるための回転角度Δθ1〜Δθ4を算出する。そして、これらの回転角度Δθ1〜Δθ4について、図16、17を用いて説明した判断基準に基づき、ΔθMAXまたはΔθMINとなる回転角度を選択し、全ての成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度を揃えて薄膜の形成を行ってもよい。
そして、各薄膜について、予め設定したしきい値より膜厚が厚くなる領域R2、またはしきい値より膜厚が薄くなる領域R2’を特定し、例えば面積が最小の領域R2またはR2’について、当該領域R2、R2’の面積が50%ずつ重なるように、膜厚が厚くなる領域R2、または膜厚が薄くなる領域R2’をウエハWの周方向へ向けて分散させるための回転角度Δθ1〜Δθ4を算出する。そして、これらの回転角度Δθ1〜Δθ4について、図16、17を用いて説明した判断基準に基づき、ΔθMAXまたはΔθMINとなる回転角度を選択し、全ての成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度を揃えて薄膜の形成を行ってもよい。
また、図16、17を用いて説明した手法に限定されず、例えば成膜部13a、13b、14a、14bの中心角度Δθ1〜Δθ4の平均値と揃うように各成膜部13a、13b、14a、14bの回転角度ΔθAVEを設定するなど、他の手法により求めた回転角度に基づいて各載置台21の回転角度を揃えてもよいことは勿論である。
ここでウエハWの回転(載置台21の回転駆動)は、全てのサイクルにて実施しなくてもよい。例えばALDのサイクルを複数回実施する毎に、当該複数回のサイクルの組内の特定のサイクルの実施中のみに、ウエハWを回転角度Δθだけ回転をさせてもよい。
図7〜15を用いて説明した回転角度Δθの決定手法は、複数の成膜部13a、13b、14a、14bを備えた成膜装置1だけではなく。1つの成膜部13aのみを備えた成膜装置1にも適用することができる。
また本法は、プラズマALDに限らず、熱ALDにも適用することができる。
また本法は、プラズマALDに限らず、熱ALDにも適用することができる。
この他、成膜部13a、13b、14a、14bに設ける吐出部の構成は、図1、13を用いて説明した円板状のガスシャワーヘッド4に限定されない。
例えば、特開2009−224775に記載されている、小型の半球状や小型の扁平な円板状のガス吐出部をウエハWの中心部上方位置に配置してもよい。また、特開2017−155339、特開2016−156094に記載されているように、ウエハWと対向する位置に複数個設けられ、各々、ガスの吐出を行う小型の円筒状のヘッド部を覆うように、円板状、あるいは円環状のガスシャワーヘッドを設ける2段吐出型の構成を採用してもよい。
例えば、特開2009−224775に記載されている、小型の半球状や小型の扁平な円板状のガス吐出部をウエハWの中心部上方位置に配置してもよい。また、特開2017−155339、特開2016−156094に記載されているように、ウエハWと対向する位置に複数個設けられ、各々、ガスの吐出を行う小型の円筒状のヘッド部を覆うように、円板状、あるいは円環状のガスシャワーヘッドを設ける2段吐出型の構成を採用してもよい。
さらには、特開2016−92156に記載されている回転テーブルに設けられたウエハWの載置台21を回転(自転)させる際に、上述の回転角度Δθの設定手法を採用してもよい。
この他、本例の成膜装置1を用いて実施可能な処理は、ウエハWへの成膜に限られない。
一般に成膜装置1のプロセスの運用において、成膜プロセスの均一性向上や、パーティクル発生量の低減を行う目的で、初めて成膜を行う処理容器10や、クリーニングを実施した直後の処理容器10内に配置されている機器の表面(例えば処理容器10の内壁面や載置台21の上面)に、数百ナノメートル〜数マイクロメートルの薄膜を形成するプリコート処理を行う場合がある。
一般に成膜装置1のプロセスの運用において、成膜プロセスの均一性向上や、パーティクル発生量の低減を行う目的で、初めて成膜を行う処理容器10や、クリーニングを実施した直後の処理容器10内に配置されている機器の表面(例えば処理容器10の内壁面や載置台21の上面)に、数百ナノメートル〜数マイクロメートルの薄膜を形成するプリコート処理を行う場合がある。
このプリコート処理時において、載置台21の表面に形成される薄膜の膜厚にばらつきがあると、載置台21を平行平板の下部電極として用いた反応ガスのプラズマ形成が不均一となり、ウエハWの成膜結果に悪影響を及ぼすおそれもある。特に、クリーニングを実施してから、次のクリーニングを実施するまでの期間中、ウエハWで覆われていない載置台21の表面では、累積的に膜厚が増加する。このため、プリコート処理時に載置台21の表面に形成される膜厚のばらつきの影響が増幅されて、より不均一なプラズマが形成されてしまうおそれもある。
そこで、図3〜17を用いて説明した各実施の形態に係る手法を成膜装置1に対するプリコート処理の実施時に適用してもよい。即ち、事前に載置台21の回転を停止した状態でプリコート処理を実施した結果や、成膜装置1の設計データに基づき、載置台21に形成される薄膜の均一性を低下させる要因領域を特定し、当該要因領域と対応させてプリコート処理の期間中の載置台21の回転角度を特定する。そして、ALD法により薄膜を形成する場合には、プリコート処理中の各サイクル実施時に、前記回転角度分ずつ載置台21を回転させることにより、載置台21の周方向に沿って均一な薄膜を形成することができる。
また、成膜装置1においては、処理容器10に反応性の高いクリーニングガスを供給することにより、処理容器10内に配置された機器の表面に堆積した薄膜の除去を行うクリーニング処理が実施される。
このクリーニング処理の際に載置台21の面内で不均一に薄膜の除去反応が進行すると、載置台21の表面の一部の領域だけオーバーエッチングが進行したり、反対に一部の領域にだけ薄膜が残存したりするおそれもある。
このクリーニング処理の際に載置台21の面内で不均一に薄膜の除去反応が進行すると、載置台21の表面の一部の領域だけオーバーエッチングが進行したり、反対に一部の領域にだけ薄膜が残存したりするおそれもある。
そこで、「反応生成物を形成するサイクル」に替えて、ウエハWに対する成膜の合間に、所定のインターバルで繰り返し実施される各クリーニング処理を「サイクル」と見立てて本発明を適用してもよい。この場合には、事前に載置台21の回転を停止した状態でクリーニング処理を実施した結果や設計データに基づき載置台21の面内でクリーニング処理の面内均一性を低下させる要因領域を特定し、当該要因領域と対応させてクリーニング処理の期間中の載置台21の回転角度を特定する。
そして、繰り返し実施されるクリーニング処理の各実施期間中に、前記回転角度分ずつ載置台21を回転させることにより、載置台21の周方向に沿って均一なクリーニング処理を実施することが可能となる。
そして、繰り返し実施されるクリーニング処理の各実施期間中に、前記回転角度分ずつ載置台21を回転させることにより、載置台21の周方向に沿って均一なクリーニング処理を実施することが可能となる。
なお、インターバルで繰り返し実施される処理を「サイクル」と見立てて当該処理の実施期間中に回転角度分だけ載置台21を回転させる手法は、処理容器10内のクリーニング処理に限らず、プリコート処理に適用してもよい。この場合には、プリコート処理がALD法を採用しているか、連続的に原料ガスや反応ガスを供給して薄膜の形成を行うCVD(Chemical Vapor Deposition)法を採用しているかによらず、各プリコート処理の実施期間中に、前記回転角度分ずつ載置台21を回転させる。
(実験)
ウエハWの回転を停止した状態でプラズマALDを行い、形成された薄膜の膜厚について、平均値分布を求めた。
A.実験条件
(実施例1)
図1を用いて説明した例と同様に、載置台21とガスシャワーヘッド4とを備える枚葉式の成膜装置を用い、プラズマALD法によりウエハWの表面にSiO2膜を形成した。形成されたSiO2膜について、ウエハWの面内の膜厚分布を測定したのち、当該膜厚分布について、ウエハWの半径方向に沿って膜厚の平均値を取り、得られた膜厚平均値をウエハWの周方向に沿って並べた平均値分布を求め、要因領域Fの中心角度を特定した。
ウエハWの回転を停止した状態でプラズマALDを行い、形成された薄膜の膜厚について、平均値分布を求めた。
A.実験条件
(実施例1)
図1を用いて説明した例と同様に、載置台21とガスシャワーヘッド4とを備える枚葉式の成膜装置を用い、プラズマALD法によりウエハWの表面にSiO2膜を形成した。形成されたSiO2膜について、ウエハWの面内の膜厚分布を測定したのち、当該膜厚分布について、ウエハWの半径方向に沿って膜厚の平均値を取り、得られた膜厚平均値をウエハWの周方向に沿って並べた平均値分布を求め、要因領域Fの中心角度を特定した。
B.実験結果
図18にSiO2膜の膜厚分布を示す。実際の膜厚分布図は、膜厚に応じて異なる色彩が割り当てられたカラー図面となっているが、図示の制約上、ここではグレースケールパターンで示してある。
当該膜厚分布図によると、図面に向かってウエハWの左下側に膜厚の厚い領域、ウエハWの右上側に膜厚の薄い領域が形成され、ウエハWの周方向に沿って見たとき不均一な膜厚分布となっている。
図18にSiO2膜の膜厚分布を示す。実際の膜厚分布図は、膜厚に応じて異なる色彩が割り当てられたカラー図面となっているが、図示の制約上、ここではグレースケールパターンで示してある。
当該膜厚分布図によると、図面に向かってウエハWの左下側に膜厚の厚い領域、ウエハWの右上側に膜厚の薄い領域が形成され、ウエハWの周方向に沿って見たとき不均一な膜厚分布となっている。
図18に示す膜厚分布についての平均膜厚分布図を図19に示す。同図においては、図18のウエハW面内において12時の方向(図18に向かってウエハWの中心から上向きの方向)を0°としている。
当該平均膜厚分布図によれば、ウエハWの左下側の膜厚の厚い領域とほぼ対応して、しきい値(平均膜厚k=376.6Å)よりも平均膜厚が大きい領域が存在することを確認できる。そこでこの領域を、ウエハWの周方向に沿って見た場合の、SiO2膜の膜厚の均一性を低下させる要因領域Fとして特定することにより、要因領域の中心角度Δθと揃えて、ウエハW(載置台21)の回転角度を設定できることが確認できた。
当該平均膜厚分布図によれば、ウエハWの左下側の膜厚の厚い領域とほぼ対応して、しきい値(平均膜厚k=376.6Å)よりも平均膜厚が大きい領域が存在することを確認できる。そこでこの領域を、ウエハWの周方向に沿って見た場合の、SiO2膜の膜厚の均一性を低下させる要因領域Fとして特定することにより、要因領域の中心角度Δθと揃えて、ウエハW(載置台21)の回転角度を設定できることが確認できた。
F 要因領域
W ウエハ
1 成膜装置
13a、13b、14a、14b
成膜部
21 載置台
22 駆動部
4 ガスシャワーヘッド
44 ガス吐出孔
6 制御部
W ウエハ
1 成膜装置
13a、13b、14a、14b
成膜部
21 載置台
22 駆動部
4 ガスシャワーヘッド
44 ガス吐出孔
6 制御部
Claims (20)
- 真空容器内に、原料ガスと、前記原料ガスと反応する反応ガスとを交互に供給して円形の基板の表面に反応生成物層を形成するサイクルを複数回実施することにより、前記反応生成物層を堆積させて薄膜を形成する成膜装置において、
基板を水平に保持する載置台と、
前記載置台に保持された基板を中心軸周りに回転させるために、当該載置台を回転駆動する回転駆動部と、
前記原料ガスを供給する原料ガス供給部、及び前記反応ガスを供給する反応ガス供給部に接続されると共に、前記載置台上に保持された基板と対向する位置に設けられ、複数のガス吐出孔が形成されたガス吐出部と、
前記サイクル中に、予め設定された回転角度だけ前記載置台を回転駆動させるように回転駆動部に制御信号を出力する制御部と、を備え、
前記回転角度は、前記載置台の回転駆動を停止して基板に対する薄膜の形成を行った場合に、当該基板の周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる領域である要因領域を特定した結果に基づいて設定されていることを特徴とする成膜装置。 - 前記回転角度は、前記要因領域と接するように円形の基板の半径方向に引いた2本の直線が成す扇形の中心角度と揃うように設定されていることを特徴とする請求項1に記載の成膜装置。
- 前記載置台の回転駆動を停止して形成された薄膜に複数の前記要因領域が生じるとき、各要因領域について求めた前記扇形の中心角度のうち、最も角度の小さい中心角度と揃うように前記回転角度が設定されていることを特徴とする請求項1または2に記載の成膜装置。
- 前記要因領域は、前記載置台の回転駆動を停止して基板に対する薄膜の形成を実施し、当該薄膜の特性を計測して得られた基板の面内の特性値分布に基づいて特定したものであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の成膜装置。
- 前記要因領域は、前記成膜装置内の機器の構成または配置に係る設計データに基づいて特定したものであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の成膜装置。
- 前記要因領域は、前記載置台の回転駆動を停止して基板に対する薄膜の形成を行った場合に得られる前記基板の面内の特性値分布を、前記設計データを用いて推定した結果に基づいて特定したものであることを特徴とする請求項5に記載の成膜装置。
- 前記設計データは、前記ガス吐出部における前記複数のガス吐出孔の配置位置であることを特徴とする請求項6に記載の成膜装置。
- 前記特性値分布について、前記基板の中心から半径方向に沿って前記特性値の平均を取り、この結果得られた平均値を基板の周方向に沿って並べた平均値分布を求めたとき、前記要因領域は、前記平均値分布内の平均値が予め設定されたしきい値より大きくなる領域、または前記しきい値より小さくなる領域であることを特徴とする請求項4、6または7のいずれか一つに記載の成膜装置。
- 前記設計データは、前記載置台に保持された基板の半径方向に沿って見た、当該基板の外周から、前記真空容器の内側壁面までの離間距離であり、前記要因領域は、前記離間距離が予め設定された設定離間距離より小さくなる領域であることを特徴とする請求項5に記載の成膜装置。
- 前記薄膜を形成する際に実施される前記サイクルの総実施回数と、前記回転角度との積が360°よりも小さいとき、前記制御部は、予め決められた回数(但し、前記総実施回数より少ない回数)の前記サイクルを実施する毎に、前記回転角度より大きい角度に予め設定された分散移動角度だけ前記載置台を回転させるように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし9のいずれか一つに記載の成膜装置。
- 各々、前記載置台と回転駆動部とガス吐出部とが設けられた複数組の成膜部を備え、
前記制御部は、これら複数組の成膜部から選択した1つの成膜部について求めた前記回転角度と揃えて、全ての成膜部の載置台を回転させるように制御信号を出力することを特徴とする請求項1ないし10のいずれか一つに記載の成膜装置。 - 前記複数組の成膜部について前記中心角度を求めた結果、少なくとも一つの成膜部について、薄膜を形成する際に実施される前記サイクルの総実施回数と、前記中心角度との積が360°以下であるとき、前記中心角度が最大である成膜部と揃うように各成膜部の回転角度を設定し、
前記中心角度を求めた結果、全ての成膜部について、薄膜を形成する際に実施される前記サイクルの総実施回数と、前記中心角度との積が360°よりも大きいとき、前記中心角度が最小である成膜部と揃うように各成膜部の回転角度を設定したことを特徴とする請求項11に記載の成膜装置。 - 前記特性は、薄膜の膜厚、誘電率、膜密度からなる特性群から選択されたものであることを特徴とする請求項1ないし12のいずれか一つに記載の成膜装置。
- 円形の基板に対して薄膜を形成する成膜方法において、
真空容器内に配置された基板に対し、原料ガスと、前記原料ガスと反応する反応ガスとを交互に供給して、前記基板の表面に反応生成物層を形成するサイクルを複数回実施することにより、前記反応生成物層を堆積させて薄膜を形成する工程と、
前記サイクル中に、予め設定された回転角度だけ前記基板を中心軸周りに回転させる工程と、を含み
前記回転角度は、前記基板の回転を停止して薄膜の形成を行った場合に、当該基板の周方向に沿って見た薄膜の特性の均一性を低下させる要因となる領域である要因領域を特定した結果に基づいて設定されていることを特徴とする成膜方法 - 前記回転角度は、前記要因領域と接するように円形の基板の半径方向に引いた2本の直線が成す扇形の中心角度と揃うように設定されていることを特徴とする請求項14に記載の成膜方法。
- 前記基板の回転を停止して形成された薄膜に複数の前記要因領域が生じるとき、各要因領域について求めた前記扇形の中心角度のうち、最も角度の小さい中心角度と揃うように前記回転角度が設定されていることを特徴とする請求項14または15に記載の成膜方法。
- 前記基板の回転を停止して基板に対する薄膜の形成を実施し、当該薄膜の特性を計測して得られた基板の面内の特性値分布について、前記基板の中心から半径方向に沿って前記特性値の平均を取り、この結果得られた平均値を基板の周方向に沿って並べた平均値分布を求めたとき、前記要因領域は、前記平均値分布内の平均値が予め設定されたしきい値より大きくなる領域、または前記しきい値より小さくなる領域であることを特徴とする請求項14ないし16のいずれか一つに記載の成膜方法。
- 前記真空容器内に設けられ、各々、前記薄膜を形成する工程が実施される基板を収容した複数組の成膜部に対し、これら複数組の成膜部から選択した1つの成膜部について求めた前記回転角度と揃えて、全ての成膜部に収容された基板に対して、前記基板を中心軸周りに回転させる工程を実施することを特徴とする請求項14ないし17のいずれか一つに記載の成膜方法。
- 前記複数組の成膜部について前記中心角度を求めた結果、少なくとも一つの成膜部について、前記薄膜を形成する工程にて実施される前記サイクルの総実施回数と、前記中心角度との積が360°以下であるとき、前記中心角度が最大である成膜部と揃うように各成膜部の回転角度を設定し、
前記中心角度を求めた結果、全ての成膜部について、前記薄膜を形成する工程にて実施される前記サイクルの総実施回数と、前記中心角度との積が360°よりも大きいとき、前記中心角度が最小である成膜部と揃うように各成膜部の回転角度を設定したことを特徴とする請求項18に記載の成膜方法。 - 前記特性は、薄膜の膜厚、誘電率、膜密度からなる特性群から選択されたものであることを特徴とする請求項14ないし19のいずれか一つに記載の成膜方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017213062A JP2019087576A (ja) | 2017-11-02 | 2017-11-02 | 成膜装置、及び成膜方法 |
PCT/JP2018/037719 WO2019087715A1 (ja) | 2017-11-02 | 2018-10-10 | 成膜装置、及び成膜方法 |
TW107137464A TW201933484A (zh) | 2017-11-02 | 2018-10-24 | 成膜裝置,及成膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017213062A JP2019087576A (ja) | 2017-11-02 | 2017-11-02 | 成膜装置、及び成膜方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019087576A true JP2019087576A (ja) | 2019-06-06 |
Family
ID=66333513
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017213062A Pending JP2019087576A (ja) | 2017-11-02 | 2017-11-02 | 成膜装置、及び成膜方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019087576A (ja) |
TW (1) | TW201933484A (ja) |
WO (1) | WO2019087715A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110592553A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-20 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 工艺腔室及半导体设备 |
WO2021130600A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、半導体装置の作製方法 |
KR20220099089A (ko) | 2021-01-05 | 2022-07-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프로세스 모듈, 기판 처리 시스템 및 처리 방법 |
KR20220141835A (ko) | 2020-02-26 | 2022-10-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 및 플라스마 처리 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7291663B2 (ja) * | 2020-04-24 | 2023-06-15 | Towa株式会社 | 位置決め装置、位置決め方法、樹脂成形システムおよび樹脂成形品の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100273473B1 (ko) * | 1999-04-06 | 2000-11-15 | 이경수 | 박막 형성 방법 |
JP2001155998A (ja) * | 1999-11-25 | 2001-06-08 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体処理装置および半導体処理方法 |
JP2009529223A (ja) * | 2005-11-22 | 2009-08-13 | ジーナス インコーポレーテッド | 小体積対称流れシングルウェハald装置 |
JP5837290B2 (ja) * | 2010-08-31 | 2015-12-24 | 信越半導体株式会社 | エピタキシャルウェーハの製造方法及びエピタキシャル成長装置 |
JP5447632B2 (ja) * | 2012-11-29 | 2014-03-19 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
JP6330623B2 (ja) * | 2014-10-31 | 2018-05-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 |
-
2017
- 2017-11-02 JP JP2017213062A patent/JP2019087576A/ja active Pending
-
2018
- 2018-10-10 WO PCT/JP2018/037719 patent/WO2019087715A1/ja active Application Filing
- 2018-10-24 TW TW107137464A patent/TW201933484A/zh unknown
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110592553A (zh) * | 2019-10-24 | 2019-12-20 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 工艺腔室及半导体设备 |
WO2021130600A1 (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-01 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、半導体装置の作製方法 |
KR20220141835A (ko) | 2020-02-26 | 2022-10-20 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 플라스마 처리 장치 및 플라스마 처리 방법 |
KR20220099089A (ko) | 2021-01-05 | 2022-07-12 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 프로세스 모듈, 기판 처리 시스템 및 처리 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019087715A1 (ja) | 2019-05-09 |
TW201933484A (zh) | 2019-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2019087715A1 (ja) | 成膜装置、及び成膜方法 | |
US10475641B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
US11674225B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP6330623B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | |
TWI531019B (zh) | 基板處理裝置、基板處理方法及儲存媒體 | |
KR101425253B1 (ko) | 성막 장치, 성막 방법 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 | |
JP5068780B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法、プログラム、およびコンピュータ可読記憶媒体 | |
US20120199067A1 (en) | Film-forming apparatus | |
US10319585B2 (en) | Film forming method | |
US9136133B2 (en) | Method of depositing film | |
JP2010126797A (ja) | 成膜装置、半導体製造装置、これらに用いられるサセプタ、プログラム、およびコンピュータ可読記憶媒体 | |
JP2010073823A (ja) | 成膜装置、成膜方法、及びコンピュータ可読記憶媒体 | |
CN105937023B (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
US11492702B2 (en) | Film-forming apparatus and film-forming method | |
TW201333251A (zh) | 成膜方法(二) | |
JP6685216B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体 | |
CN105938796A (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
JP2016156066A (ja) | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | |
US10796902B2 (en) | Film deposition method | |
CN110218989B (zh) | 成膜方法和成膜装置 | |
KR20150129618A (ko) | 성막 방법 | |
JP2017152430A (ja) | 成膜装置、成膜方法、プログラム及びコンピュータ可読記憶媒体 | |
JP6512063B2 (ja) | 成膜装置 | |
US20230097539A1 (en) | Film forming apparatus and film forming method | |
JP6447393B2 (ja) | 成膜処理装置、成膜処理方法及び記憶媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20181029 |