JP2019073426A - プラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末、その製造方法、炭化ハフニウム焼結体及びプラズマ電極 - Google Patents
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Abstract
Description
本実施形態の炭化ハフニウム粉末はプラズマ電極を得るための粉末であって、化学式HfCx(但し、x=0.5〜1.0)で表される炭化ハフニウムの粉末であり、不純物としての炭素粒子(フリーカーボン)の含有量が0.03質量%以下のものである。炭化ハフニウムは下記の反応式(1)に基づいて酸化ハフニウム(HfO2)を炭素(C)で還元することにより得られる。この場合、炭素配合量(原子量)が3以上になると炭素粒子の残存量が多く、一方炭素配合量(原子量)が2未満になると未還元の酸化ハフニウムが残存するため、酸化ハフニウムに対する炭素の分子量(原子量)の比は2〜3が好ましい。
この炭化ハフニウム粉末はプラズマ電極用のものであって、炭化ハフニウム粉末が焼結された焼結体からプラズマ電極が調製される。炭化ハフニウム粉末は不純物が少なく純度が高い方がよいが、製造工程において不純物として粒子径5〜50μm程度の炭素粒子が含まれる。その炭素粒子の含有量は、炭化ハフニウム粉末中に0.03質量%以下である。炭素粒子の含有量が0.03質量%を超えると、炭化ハフニウム粉末の焼結体及びその焼結体から得られるプラズマ電極の品質にばらつきが生じるとともに、プラズマ電極の耐久性が低下して寿命が短くなる。
まず、第1の製造方法について説明する。
図4(a)に示すように、ミリング処理のための遊星式ボールミル20を構成する円盤状の公転体21は例えば図4(a)の矢印に示す反時計方向へ公転する。この公転体21には、周方向へ90度間隔をおいて有底円筒状をなす4つのポット22が配置され、各ポット22は例えば図4(a)の矢印に示す時計方向へ自転するようになっている。なお、公転体21の公転方向とポット22の自転方向は任意に設定することができる。
次に、炭化ハフニウム粉末24の焼結について説明する。
図6(a)に示すように、プラズマ切断トーチ50の先端部には略円柱状をなすプラズマ電極52が取り付けられ、その端部にはプラズマアーク53を放出する電極チップ54が嵌入されている。プラズマ電極52の外周部にはプラズマガスを噴出するためのプラズマガス通路55が設けられるとともに、その外周部には窒素ガス等のアシストガスを噴出するためのアシストガス通路56が設けられている。
さて、炭化ハフニウム粉末24を製造する場合には、前述した第1の製造方法と第2の製造方法とがある。第1の製造方法では第1ルツボ12内に第2ルツボ17を配置し、その第2ルツボ17内で炭化ハフニウム粉末24を製造することから、高周波誘導加熱炉11内から密閉された第2ルツボ17を取り出した後にその第2ルツボ17から炭化ハフニウム粉末24を回収することができる。このため、炭素製の第1ルツボ12や断熱材としての炭素粉末13の影響を受けることがなく、炭化ハフニウム粉末24への炭素粒子の混入を回避することができる。
(1)この実施形態のプラズマ電極52用の炭化ハフニウム粉末24は、化学式HfCx(但し、x=0.5〜1.0)で表される炭化ハフニウムの粉末であって、不純物としての炭素粒子の含有量が0.03質量%以下のものである。
(2)前記炭化ハフニウム粉末24の平均粒子径が0.5〜2μmである。このため、炭化ハフニウム粉末24は粒子が微細で粒子径分布が狭く、均質であり、緻密な焼結体47を得ることができる。
(5)前記生成した炭化ハフニウム粉末24にミリング処理を施して炭化ハフニウム粉末24の粒度を調整する。このミリング処理により、炭化ハフニウム粉末24を微細化及び均質化することができる。
(実施例1)
この実施例1では、前述した第1の製造方法で炭化ハフニウム粉末24を製造した。
続いて、ミリング処理後の炭化ハフニウム粉末24をパルス通電加圧焼結装置40で70〜90MPaの加圧下に1800〜1900℃に加熱して焼結し、直径30mm、長さ6mmの焼結体47を調製した。この焼結体47を放電加工して直径2mm、長さ6mmのプラズマ電極52の電極チップ54を得た。この電極チップ54を用い、銀ろう付け、切削加工、面取りなどの操作を行ってプラズマ電極52を製造した。
この比較例1では、従来法により炭化ハフニウム粉末24を製造した。すなわち、前記第2の製造方法における第1の加熱処理により炭化ハフニウム粉末24を製造した。
この実施例2では、前述した第2の製造方法で炭化ハフニウム粉末24を製造した。炭化ハフニウム粉末24の原料となるペレット16は実施例1と同様にして調製した。
この実施例3では、前記実施例2において、第3ルツボ26内の炭化ハフニウム粉末24をカーボン製の第5ルツボ33内に装填して第2の加熱処理を行った以外は実施例2と同様にして炭化ハフニウム粉末24を調製した。
この比較例2では、従来使用されている金属ハフニウム電極について、電流300Aの条件下でプラズマアーク53のアーク時間(min)と電極消耗深さ(mm)との関係及びプラズマアーク53のアーク時間(min)と電極消耗質量(mg)との関係を求め、図10(a)及び図10(b)に示した。なお、各図中の□印はサンプル1、×印はサンプル2の結果を示す。
・前記ミリング処理として、振動式ボールミル、湿式ボールミル等を使用した処理方法を採用することもできる。
・前記第4ルツボ29又は第5ルツボ33の材質をアルミナ、マグネシア、ジルコニア等のセラミックスに変更してもよい。
Claims (7)
- 化学式HfCx(但し、x=0.5〜1.0)で表される炭化ハフニウムの粉末であって、不純物としての炭素粒子の含有量が0.03質量%以下であるプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末。
- 前記炭化ハフニウム粉末の平均粒子径が0.5〜2μmである請求項1に記載のプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末。
- 請求項1又は請求項2に記載のプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末の製造方法であって、
酸化ハフニウムと炭素の混合粉を炭化ケイ素製のルツボ内に収容し、そのルツボを炭素製のルツボ内に配置して1800〜2000℃で加熱処理を行い、炭化ハフニウム粉末を生成させるプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末の製造方法。 - 請求項1又は請求項2に記載のプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末の製造方法であって、
酸化ハフニウムと炭素の混合粉を炭素製のルツボ内に収容するとともに、そのルツボを高周波誘導加熱炉内に配置し、該高周波誘導加熱炉内にルツボを覆うように炭素粉末を充填した状態で、ルツボ内に不活性ガスを供給して1800〜2000℃で第1の加熱処理を行って炭化ハフニウム粉末を得た後、前記ルツボ内の炭化ハフニウム粉末を炭化ケイ素製又は炭素製のルツボに移し替え、そのルツボを真空加熱炉内に配置して真空状態にて1800〜2000℃で第2の加熱処理を行い、炭化ハフニウム粉末を生成させるプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末の製造方法。 - 前記生成した炭化ハフニウム粉末にミリング処理を施して炭化ハフニウム粉末の粒度を調整する請求項3又は請求項4に記載のプラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末の製造方法。
- 請求項1又は請求項2に記載の炭化ハフニウム粉末が焼結されたプラズマ電極用の炭化ハフニウム焼結体。
- 請求項6に記載のプラズマ電極用の炭化ハフニウム焼結体より構成されるプラズマ電極。
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WO2020213033A1 (ja) * | 2019-04-15 | 2020-10-22 | 中部電力株式会社 | プラズマ電極用の炭化ハフニウム粉末、その製造方法、炭化ハフニウム焼結体及びプラズマ電極 |
CN116854092A (zh) * | 2023-07-28 | 2023-10-10 | 北京华威锐科化工有限公司 | 一种碳化铪前驱体生产系统及制备方法 |
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