JP2019072691A - 洗浄システム及び洗浄方法、並びに、情報処理装置、その制御方法、及びプログラム - Google Patents

Abstract

【課題】気体の洗浄システムにおいて適切な洗浄能力を提供することを目的とする。【解決手段】洗浄液を生成する生成装置と、洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と、気体の温度情報を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、洗浄装置で洗浄液を生成するためのパラメータを記憶し、センサで取得された温度情報に対応するパラメータを特定し、特定されたパラメータで生成装置が洗浄液を生成するよう制御する。【選択図】図１

Description

本発明は、気体の洗浄システムにおいて適切な洗浄能力を提供することのできる洗浄システム及び洗浄方法、並びに、情報処理装置、その制御方法、及びプログラムに関する。

環境意識の高まりとともに、臭気を発生する装置又は施設を稼働する際には、臭気を低減する手段を講じることが必須となっている。排気中の臭気を低減する方法としては、排気を水又は処理液で洗浄することにより、排気中の臭気成分を水に溶解させる方法が知られている。また、この際に脱臭作用を有する処理液を用いることにより、臭気の低減効率を向上させる方法も知られている。例えば、特許文献１には、内部に送り込まれた空気に対して次亜塩素酸水を噴霧することにより空気中の臭気を低減し、臭気が低減された空気を排気する、脱臭装置が開示されている。

特開２０１２−１００７１７号公報

例えば堆肥層から発生される排気は、常に一定の臭気の濃度を保っているわけではない。高濃度の臭気であるときもあれば、低濃度の臭気であるときもあり、一定していない。

上記の特許文献１の仕組みでは、気体を洗浄する際には、洗浄対象の気体の濃度を加味して洗浄能力の調整を行うことはできない。すなわち特許文献１の仕組みでは、洗浄能力は固定であるため、必要以上に高い状態で洗浄能力を維持しつづけなければならず、気体の洗浄に係るコストが高くなってしまうという課題がある。

そこで本発明は、気体の洗浄システムにおいて適切な洗浄能力を提供することのできる仕組みを提供することを目的とする。

上記の目的を達成するために、本発明の洗浄システムは、洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と、前記気体の温度情報を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、前記洗浄装置で前記洗浄液を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段と、前記センサで取得された前記温度情報に対応する前記パラメータを特定する特定手段と、前記特定手段で特定された前記パラメータで前記生成装置が前記洗浄液を生成するよう制御する制御手段とを備えることを特徴とする。

本発明によれば、気体の洗浄システムにおいて適切な洗浄能力を提供することができる。

本実施形態における洗浄システムのシステム構成図の一例を示す模式図である。 脱臭装置２００のハードウェア構成の一例を示す模式図である。 情報処理装置１００のハードウェア構成の一例を示す模式図である。 情報処理装置１００の機能構成の一例を示す模式図である。 第１の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。 設定値テーブル６００の一例を示すデータテーブルである。 第２の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。 設定値テーブル８００の一例を示すデータテーブルである。 第３の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。 設定値テーブル１０００の一例を示すデータテーブルである。 第４の実施形態における詳細な処理の流れを説明するフローチャートである。 設定値テーブル１２００の一例を示すデータテーブルである。 第２の実施形態における脱臭装置２００のハードウェア構成の一例を示す模式図である。

以下、添付図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。なお、以下説明する実施形態は、本発明を具体的に実施した場合の一例を示すもので、特許請求の範囲に記載した構成の具体的な実施例にすぎない。特に、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする装置、システム、及び方法には限定されない。本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体を洗浄するものであり、脱臭以外の様々な目的で使用可能である。例えば、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体中の除菌対象の除菌のために用いることもできる。したがって、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭以外を主目的としているが脱臭に用いることが可能な装置、システム、及び方法を含む。以下、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする（湿式）脱臭装置、脱臭システム、及び脱臭方法を例として、本発明の実施形態を説明する。

図１は、洗浄液の物理量の制御を行う脱臭システム（洗浄システムに相当する）において、その構成の一例を示すシステム構成図である。脱臭システムは、洗浄システムを制御する情報処理装置１００と、洗浄液の生成を行う生成装置４００と、洗浄液を用いて臭気を脱臭する脱臭装置２００とで構成されている。本実施例においては、生成装置４００内で、炭酸ガス混合法を用いて、洗浄液である次亜塩素酸水を生成している。炭酸ガス混合法とは、次亜塩素酸ナトリウムと、二酸化炭素と、水とを混合させて、次亜塩素酸水を生成する方法である。なお、他の方法により次亜塩素酸水を生成するようにしてもよい。生成装置４００は、脱臭装置２００に接続されており、生成装置４００で生成された洗浄液４１０は、脱臭装置２００に流入する。脱臭装置２００の洗浄部にはセンサが備わっている。センサについては図２で詳細に説明する。流入口１０１を介して脱臭対象の気体５００を供給し、脱臭対象の気体５００は脱臭装置２００内の洗浄部で脱臭される。脱臭装置２００で溢れた洗浄液４１０は、流出口１０３を介して、流出される。

以上で、図１に示す制御システムのシステム構成図の説明を終了する。なお、上記のシステム構成については一例であって、目的や用途に応じて適宜変更されうるものである。

次に、図２を用いて本実施形態における脱臭装置２００のハードウェア構成について説明する

［実施形態１］
実施形態１に係る湿式脱臭装置は、流入口と、洗浄部と、流出口と、洗浄液供給部と、気泡供給部と、を備えている。図２（Ａ）（Ｂ）は、それぞれ、実施形態１に係る湿式脱臭装置の一例の構成を示す概略図である。以下、図２（Ａ）（Ｂ）を参照して、本実施形態に係る湿式脱臭装置について説明する。

図２（Ａ）には、本実施形態に係る脱臭装置２００Ａが示されており、図２（Ｂ）には、本実施形態に係る脱臭装置２００Ｂが示されている。これらの脱臭装置２００Ａ，Ｂには流入口１０１を介して洗浄対象（脱臭対象）の気体が流入し、流入した気体は洗浄液１２２を用いた洗浄により脱臭され、流出口１０３を介して流出する。本明細書において、洗浄対象の気体のことを第１の気体と呼ぶ。

流入口１０１からは、脱臭対象の気体が脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部へと流入する。例えば、ポンプ（不図示）を用いて、脱臭対象の気体を流入口１０１へと送ることができる。ここで、気体を流入口１０１に送るためのポンプは、脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部あるいは外部のいずれに配置されていてもよい。脱臭対象の気体の種類は特に限定されない。本実施形態に係る脱臭装置２００Ａ，Ｂが有する高い脱臭性能は、高い臭気濃度を有する気体の脱臭に適している。例えば、脱臭対象の気体としては、食品廃棄物又はし尿を貯蔵する容器からの排気を含む、有機物の発酵により生じた気体が挙げられる。脱臭対象の具体例としては、コンポスト（堆肥製造装置）からの排気が挙げられる。

除去される臭気成分も特に限定されない。ここで、コンポストにおける臭気成分の例としては、アンモニア又はトリメチルアミンのような塩基性成分、メチルメルカプタンのような硫化物成分、アセトアルデヒドのようなアルデヒド成分、又はプロピオン酸のようなカルボン酸成分、等が挙げられる。本実施形態に係る脱臭装置２００Ａ，Ｂは、特にアンモニア濃度の低減に適している。例えば、一実施形態において、脱臭対象の気体が有するアンモニア濃度は、冷却器で冷却された場合は、１００ｐｐｍ以上となり、冷却器で冷却されていない場合は、３０００ｐｐｍ以上である。また、流入口１０１から流入する脱臭対象の気体は、脱臭装置等の他の装置により処理が行われた後の気体であってもよい。

洗浄部１２０は、脱臭装置２００Ａ，Ｂに流入した脱臭対象の気体を第１の洗浄液１２２で洗浄する。洗浄部１２０は、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とが接触する接触部１２１と、第１の洗浄液１２２が貯められている部分と、を有している。一実施形態において、第１の洗浄液１２２は脱臭装置２００Ａ，Ｂの下部に貯められており、したがって洗浄部１２０も脱臭装置２００Ａ，Ｂの下部に位置する。

図１（Ｃ）は、図２（Ａ）の接触部１２１のうち１つの拡大図である。図１（Ｃ）を用いて、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを混合する処理について説明する。まず、脱臭対象の気体は、ポンプによって加速されることにより、流路狭窄部１２３に向かって移動する。図２（Ａ）の例において、脱臭対象の気体は、接触部１２１に設けられ、第１の洗浄液１２２の液面と近接している流路狭窄部１２３を通る。この際、脱臭対象の気体の流れは加速されるために、第１の洗浄液１２２を伴う渦流が流路狭窄部を通過した後に発生する。このため、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とが効率的に混合され、脱臭対象の気体が洗浄される。このように、洗浄部１２０は、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを混合することができ、また一実施形態において脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを互いに攪拌することができる。図２（Ａ）の例において、洗浄部１２０は流路狭窄部を有する接触部１２１を２つ有しているが、接触部１２１の数は特に限定されない。例えば、脱臭装置２００Ａ，Ｂには、より脱臭効率を向上させたい場合には、３以上の接触部（流路狭窄部）を設けてもよい。また、脱臭装置２００Ａ，Ｂを、接触部１２１の数を１つとすることで、複数の接触部を備える場合よりも小型化することができる。

図２（Ｂ）の例では、脱臭対象の気体は、接触部１２１において第１の洗浄液１２２の内部を通り、この際に脱臭対象の気体が洗浄される。なお、図２（Ａ）（Ｂ）の例においては、流入口１０１から流入する脱臭対象の気体の圧力のために、第１の洗浄液１２２の液面の高さは不均一となっている。なお、第１の洗浄液１２２の液面の高さは、流入口１５３及び流出口１５４よりも高く、流出口１８０よりも低くなるように設定される。また、洗浄中における第１の洗浄液１２２の液面の高さは、流路狭窄部１２３と近接している。つまり、流出口１８０により第１の洗浄液１２２が排出されることにより、水位が高くなりすぎることを抑制することができ、洗浄に用いた後の第１の洗浄液１２２を排出することが可能となる。流入口１５３及び流出口１５４よりも水位を高く維持することにより、第１の洗浄液１２２に気泡を供給することが可能となる。

もっとも、洗浄部１２０の構成はこのようなものに限られない。例えば、洗浄部１２０において、第１の洗浄液１２２が噴霧されてもよい。この場合、脱臭対象の気体は、第１の洗浄液１２２のミストを通過する際に洗浄される。また、洗浄部１２０において、流入口１０１から流入した脱臭対象の気体が第１の洗浄液１２２中にバブリングされてもよく、この場合も脱臭対象の気体を第１の洗浄液１２２で洗浄できる。

流出口１０３からは、第１の洗浄液１２２で洗浄された後の気体が流出する。流出口１０３から流出した気体は、大気中に放出されてもよいし、脱臭装置等の他の装置によりさらに処理されてもよい。このように、流出口１０３から排出された後の気体は、流入口１０１から流入する前の脱臭対象の気体と比較して、脱臭対象の臭気成分が低減される。具体的には、脱臭対象の臭気がコンポストからの臭気である場合、脱臭装置２００Ａ，Ｂで洗浄処理されることにより、少なくともアンモニア濃度が低減される。

次に、脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部構造について説明する。脱臭装置２００Ａ，Ｂの内部はいくつかの区画に分類されている。脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流入区画１３１を有しており、この流入区画１３１に流入口１０１が設けられている。流入区画１３１とは、第１の洗浄液１２２による洗浄が行われる洗浄部１２０より上流側の部分、すなわち流入口１０１と洗浄部１２０との間の区画である。また、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流出区画１４１を有しており、この流出区画１４１に流出口１０３が設けられている。流出区画１４１とは、第１の洗浄液１２２による洗浄が行われる洗浄部１２０より下流側の部分、すなわち洗浄部１２０と流出口１０３との間の区画である。

洗浄液供給部１３０，１４０は、第１の洗浄液１２２とは異なる第２の洗浄液を供給する。洗浄液供給部１３０，１４０は、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液１２２に混ざるように、第２の供給液を供給することができる。ここで、洗浄液供給部１３０，１４０は、流入口１０１と洗浄部１２０との間、又は洗浄部１２０と流出口１０３との間、の少なくとも一方において、脱臭対象の気体が第２の洗浄液で洗浄されるように、第２の洗浄液を供給することができる。例えば、洗浄液供給部１３０，１４０は、第２の洗浄液を、流入口１０１と洗浄部１２０との間にある空間（すなわち流入区画１３１）と、洗浄部１２０と流出口１０３との間にある空間（すなわち流出区画１４１）との少なくとも一方に噴霧することができる。噴霧の量や有無は、噴霧を制御するバルブにより、制御される。

一例として、脱臭装置２００Ａは、図２（Ａ）に示すように、第２の洗浄液を流入区画１３１に噴霧する第１の洗浄液供給部１３０と、第２の洗浄液を流出区画１４１に噴霧する第２の洗浄液供給部１４０と、を備えている。第１の洗浄液供給部１３０は、流入口１０１から洗浄部１２０へと向かう気体の流路上で、第２の洗浄液を噴霧する。また、第１の洗浄液供給部１３０は、洗浄部１２０から流出口１０３へと向かう気体の流路上で、第２の洗浄液を噴霧する。もっとも、図２（Ｂ）に示す脱臭装置２００Ｂのように、第２の洗浄液供給部１４０が設けられ、第１の洗浄液供給部１３０は設けられない構成を採用することもできる。また、洗浄液供給部１３０，１４０が第２の洗浄液を噴霧することは必須ではない。例えば、脱臭対象の気体が、第２の洗浄液の内部を気泡として通過するような構成を採用することもできる。

脱臭対象の気体を洗浄した後の第２の洗浄液は、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液に混ざるように、洗浄液供給部１３０，１４０は設けられている。例えば、図２（Ａ）（Ｂ）に示されるように、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３を有する単一の洗浄槽を有することができる。そして、洗浄部１２０における第１の洗浄液１２２の液面が、第２の洗浄液の供給位置（すなわち洗浄液供給部１３０，１４０の位置）よりも低くなるように、洗浄液供給部１３０，１４０を配置することができる。

センサ１１０、１１１は、気体５００の臭気の濃度を測定することのできるセンサである。本実施形態では、アンモニアの濃度を測定するセンサを例として説明をするが、これに限定されず、他の臭気成分の濃度を測定するセンサであってもよいし、複数の臭気成分の濃度を測定するセンサであってもよい。センサ１１０は、流入口１０１の近くに設けられ、洗浄前の気体５００のアンモニアの濃度を測定することができる。センサ１１１は、流出口１０３の近くに設けられ、洗浄前の気体５００のアンモニアの濃度を測定することができる。

洗浄液供給部１３０，１４０は、脱臭装置２００Ａ，Ｂに貯められている第１の洗浄液１２２を供給するのではなく、装置の外部から供給された第２の洗浄液を供給することができる。このような構成によれば、洗浄液供給部１３０，１４０は新鮮な洗浄液を供給することができ、新鮮な洗浄液を用いて脱臭対象の気体を洗浄することができるため、臭気をよりよく低減できる。ここで、新鮮な洗浄液とは、脱臭装置２００Ａ，Ｂにおける脱臭対象の気体の洗浄にまだ用いられていない洗浄液のことを指す。例えば、新鮮な洗浄液は、脱臭対象の気体に含まれる臭気成分が実質的に含有されていない洗浄液でありうる。また、新鮮な洗浄液は、洗浄液自身以外の成分が実質的に含有されていない洗浄水でありうる。もっとも、新鮮な洗浄液は、装置の外部から供給されこの装置においてまだ洗浄に用いられていないのであれば、別の脱臭装置における気体の洗浄に用いられた後の洗浄液であってもよい。このような構成を、第１の洗浄液１２２を用いて脱臭対象の気体を洗浄する洗浄部１２０と組み合わせて用いることにより、臭気の除去能力が向上しうる。とりわけ、第２の洗浄液供給部１４０は、第１の洗浄液１２２を用いて洗浄した後の気体を、さらに新鮮な洗浄液で洗浄することにより、臭気をよりよく除去することを可能とする。以上のように、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液１２２に混ざるように、新鮮な第２の洗浄液を供給しているため、第１の洗浄液１２２における洗浄対象の成分をより低減することができる。また、後述する流出口１８０を有する構成であれば、第１の洗浄液１２２が適宜排出されるため、より新鮮な洗浄液で洗浄することが可能となる。

以下、第１の洗浄液１２２及び第２の洗浄液についてさらに説明する。第２の洗浄液は特に限定されない。例えば、第２の洗浄液は水であってもよい。また、第２の洗浄液は、アンモニア等の塩基性臭気成分の除去能力が向上するように、ｐＨ７未満の弱酸性又は酸性水溶液であってもよい。さらに、脱臭効率を向上させるために、第２の洗浄液は脱臭剤を含有する水溶液であってもよい。脱臭剤の種類は特に限定されず、例えば酸化剤、抗菌剤、又は微生物等でありうる。酸化剤の例としては、オゾン又は次亜塩素酸等が挙げられる。抗菌剤の例としては、キトサン又はカテキン等が挙げられる。

一実施形態において、第２の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第２の洗浄液のｐＨは特に限定されないが、活性が向上するように、第２の洗浄液のｐＨを７以下にすることができる。また、安定性の観点から、第２の洗浄液のｐＨを５以上にすることができる。ｐＨが５以上７以下の次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液は、次亜塩素酸水として知られている。消臭性能の観点から、第２の洗浄液における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上とすることができ、又は１０００ｐｐｍ以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第２の洗浄液における塩素濃度は、１０ｐｐｍ以上であってもよく、また、５００ｐｐｍ以下であってもよい。

第２の洗浄液は、次亜塩素酸と、炭酸水素イオンと、を含有している次亜塩素酸水であってもよい。このような次亜塩素酸水は、緩衝作用のためにｐＨが安定するため、その性質も安定している。このような次亜塩素酸水は、水中で次亜塩素酸ナトリウム及び炭酸ガスを混合及び希釈することにより得ることができる。もっとも、水の電解、又は次亜塩素酸ナトリウムと希塩酸との混合のような、他の方法により得られた次亜塩素酸水を、第２の洗浄液として用いることもできる。

第１の洗浄液１２２は、脱臭対象の気体の洗浄に用いられた後の第２の洗浄液が混合される。このため、一実施形態において、第１の洗浄液１２２の組成は、第２の洗浄液とは異なっている。例えば、第１の洗浄液１２２の臭気成分濃度は、第２の洗浄液よりも高くなりうる。また一例として、洗浄液に次亜塩素酸水を用いる場合には、第１の洗浄液１２２と第２の洗浄液とはｐＨの値が異なる。つまり、洗浄に用いられた第１の洗浄液１２２よりも、新鮮な洗浄液である第２の洗浄液は、より次亜塩素散水の理想的なｐＨの範囲に近い。そのため、第２の洗浄液は、脱臭対象の成分により、次亜塩素散水のｐＨの値が酸性側若しくはアルカリ性側に近くなる。また、第２の洗浄液の脱臭剤濃度（例えば塩素濃度）を、第１の洗浄液よりも高くすることができる。

第１の洗浄液１２２の液性は、洗浄液を追加する方法、又は後述する気泡を供給する方法等を用いて調整することができる。一実施形態において、第１の洗浄液としては、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液が用いられる。この場合、第１の洗浄液のｐＨは特に限定されないが、活性が向上するように、第１の洗浄液のｐＨを７以下にすることができる。また、安定性の観点から、第１の洗浄液のｐＨを５以上にすることができる。消臭性能の観点から、第１の洗浄液における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上とすることができ、又は１０００ｐｐｍ以上とすることができる。一方、経済性の観点から、第１の洗浄液における塩素濃度は、１０ｐｐｍ以上で、且つ、５００ｐｐｍ以下であってもよい。

気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２に、洗浄対象の気体（脱臭対象の気体、あるいは第１の気体）とは異なる第２の気体の泡を混入させる。気泡供給部１５０は、脱臭装置２００Ａ，Ｂの外部から供給された気体の泡を、第２の気体の泡として混入させることができる。気泡供給部１５０の働きにより、洗浄部１２０における第１の洗浄液１２２と脱臭対象の気体との接触面積が増加するため、洗浄効率が向上する。一実施形態において、気泡供給部１５０は、洗浄効率をより向上させるため、第１の洗浄液１２２にナノバブルを供給する。ナノバブルとは、平均気泡径１μｍ未満の気泡のことを指す。ナノバブルを用いることにより、第１の洗浄液１２２を活性化することもできる。また、ナノバブルを用いることにより、第１の洗浄液１２２中における汚泥の発生を抑制することもできる。なお、気泡供給部１５０の機能は、第１の洗浄液１２２と脱臭対象の気体との接触面積を増加させる機能を備えていれば、ナノバブルを供給する機能に限定されるものではない。一実施形態として、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２にマイクロバブルあるいはミリバブルを供給してもよいし、これらが混合された気泡を供給してもよい。

気泡供給部１５０が供給する気体の種類は、特に制限されない。例えば、気泡供給部１５０は、空気を供給してもよい。一方で、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２の液性を調整する作用を有する気体を、第１の洗浄液１２２に混入させることができる。このような気体の例としては、二酸化炭素のような酸性ガスが挙げられる。第１の洗浄液１２２の液性を調整することにより、臭気成分の除去効率を向上させることができる。例えば、第１の洗浄液１２２は、塩基性成分を吸収するとｐＨが上昇するが、酸性ガスを用いて第１の洗浄液１２２のｐＨを低下させることにより、塩基性成分の除去効率を向上させることができる。また、特に第１の洗浄液１２２又は第２の洗浄液として次亜塩素酸水を用いる場合、酸性ガスを用いて第１の洗浄液１２２のｐＨを低下させることにより、脱臭活性を向上させることができる。また、気泡供給部１５０は、脱臭作用を有する気体を、第１の洗浄液１２２に混入させることができる。このような気体の例としては、オゾン等が挙げられる。つまり、脱臭対象の気体がアンモニアを含有し、第１の洗浄液１２２に次亜塩素酸水を用いる場合には、気泡に酸性ガスを用いることが好適である。このような構成の場合、脱臭処理後の第１の洗浄液１２２のｐＨを抑制しつつ、気液接触を増加させることが可能となる。

気泡供給部１５０の具体的な構成については、特に限定されない。図２（Ａ）（Ｂ）には、気泡供給部１５０の具体的な構成の一例が示されている。これらの例において、気泡供給部１５０は、流入口１５３及び流出口１５４を備える循環路１５１と、循環路１５１の中にある第１の洗浄液１２２に泡を混入させる放出部１５２と、を備えている。循環路１５１には、循環路１５１と洗浄部１２０との接続部である流入口１５３を介して、洗浄部１２０から、洗浄部１２０に貯められている第１の洗浄液１２２が流入する。また、循環路１５１からは、循環路１５１と洗浄部１２０との接続部である流出口１５４を介して、流入した第１の洗浄液が再び洗浄部１２０へと供給される。このような構成によれば、第１の洗浄液１２２を攪拌することができる。

脱臭装置２００Ａ，Ｂは、さらなる構成を有していてもよい。例えば、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、第１の洗浄液１２２を投入するための投入部１７０を有していてもよい。また、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、第１の洗浄液１２２が流出する流出口１８０を有していてもよい。一実施形態においては、第１の洗浄液１２２の量は流出口１８０により制限される。すなわち、第２の洗浄液が混合されても、第１の洗浄液１２２はオーバーフローとして流出口１８０から流出するため、第１の洗浄液１２２の量が一定量に保たれる。さらに、脱臭装置２００Ａ，Ｂは、底部に排出口１９０を有していてもよい。排出口１９０を介して、脱臭装置２００Ａ，Ｂに蓄積した汚泥を排出することができる。さらに、図２（Ｂ）に示すように、気液接触効率を向上させるために、第２の洗浄液が噴霧され、脱臭対象の気体が通過する箇所に、充填剤１９５を設けてもよい。

次に、一実施形態に係る脱臭方法について、説明する。この脱臭方法は、例えば、上述した実施形態１に係る湿式脱臭装置を用いて実現可能であるが、他の湿式脱臭装置を用いることも可能である。

まず、脱臭対象の気体が、第１の洗浄液による洗浄を行う洗浄部へと導かれる（ステップＳ１０）。例えば、脱臭対象の気体を、流入口１０１から洗浄部１２０に導入することができる。次に、第１の洗浄液に、脱臭対象の気体とは異なる気体の泡が混合される（ステップＳ２０）。例えば、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２に泡を混合することができる。そして、第１の洗浄液１２２で洗浄された後の気体が、洗浄部の外へ導かれる（ステップＳ３０）。例えば、洗浄部１２０において洗浄された気体を、流出口１０３へと導出することができる。

また、この脱臭方法は、第１の洗浄液１２２とは異なる第２の洗浄液であって、洗浄部１２０での洗浄に用いられる第１の洗浄液１２２に混ざるように、第２の洗浄液を供給する処理を行うステップを有している。この処理を処理Ａと呼ぶことにする。このステップは、例えば、ステップＳ１０とステップＳ３０との少なくとも一方において行うことができる。例えば、ステップＳ１０とステップＳ３０との少なくとも一方において、導かれる気体が第２の洗浄液で洗浄されかつ導かれる気体を洗浄した後の第２の洗浄液が第１の洗浄液に混ざるように、第１の洗浄液とは組成が異なる第２の洗浄液を供給することができる。例えば、第１の洗浄液供給部１３０は、流入口１０１から洗浄部１２０へと導かれる気体を洗浄するように、第２の洗浄液を供給することができる。また、第２の洗浄液供給部１４０は、洗浄部１２０から流出口１０３へと導かれる気体を洗浄するように、第２の洗浄液を供給することができる

［実施形態１の変形例］
脱臭装置の脱臭能力を向上させるという実施形態１に係る構成の目的を達成するためには、実施形態１に示した構成の全てを採用する必要はない。以下、実施形態１の変形例について説明する

［変形例１］
一実施形態に係る湿式脱臭装置は、上述の流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３、及び洗浄液供給部１３０と洗浄液供給部１４０との少なくとも一方を有している。このような構成によれば、洗浄部１２０と、洗浄液供給部１３０，１４０との組み合わせにより、脱臭能力が向上する。このような湿式脱臭装置を用いた脱臭方法は、図４（Ａ）のステップＳ１０及びステップＳ３０を行い、ステップＳ１０とステップＳ３０との少なくとも一方において処理Ａを行うことにより実現できる

［変形例２］
一実施形態に係る湿式脱臭装置は、上述の流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３、及び気泡供給部１５０を有している。ここで、洗浄部１２０は、流入口１０１から流入した脱臭対象の気体と、第１の洗浄液１２２とを混合することにより、脱臭対象の気体を第１の洗浄液１２２で洗浄する。このような構成によれば、第１の洗浄液１２２に混入された気泡のために、脱臭対象の気体と第１の洗浄液１２２とを混合する際に接触面積が増加するため、脱臭能力が向上する。このような湿式脱臭装置を用いた脱臭方法は、図４（Ａ）のステップＳ１０、ステップＳ２０、及びステップＳ３０を行うことにより実現できる。処理Ａを行うことは必須ではない

［変形例３］
一実施形態に係る湿式脱臭装置は、上述の流入口１０１、洗浄部１２０、流出口１０３、及び気泡供給部１５０を有している。ここで、気泡供給部１５０は、第１の洗浄液１２２の液性を調整する作用を有するか又は脱臭作用を有する気体の泡を、第１の洗浄液１２２に混入させる。このような構成によれば、既に説明したように脱臭能力を向上させることができる。このような湿式脱臭装置を用いた脱臭方法は、図４（Ａ）のステップＳ１０、ステップＳ２０、及びステップＳ３０を行うことにより実現できる。処理Ａを行うことは必須ではない。

以上で図２に示す脱臭装置２００Ａ，Ｂのハードウェア構成の説明を終了する。

次に、図３を用いて、図１に示した情報処理装置１００のハードウェア構成に関して説明する。

図３に示すように、情報処理装置１００は、システムバス２０４を介してＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）２０１、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）２０２、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）２０３、入力コントローラ２０５、ビデオコントローラ２０６、メモリコントローラ２０７、通信Ｉ／Ｆコントローラ２０８等が接続された構成を採る。

ＣＰＵ２０１は、システムバス２０４に接続される各デバイスやコントローラを統括的に制御する。

また、ＲＯＭ２０３あるいは外部メモリ２１１（記憶手段に相当する）には、ＣＰＵ２０１の制御プログラムであるＢＩＯＳ（Ｂａｓｉｃ Ｉｎｐｕｔ／Ｏｕｔｐｕｔ Ｓｙｓｔｅｍ）やＯＳ（Ｏｐｅｒａｔｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ）や、各サーバあるいは各ＰＣが実行する機能を実現するために必要な後述する各種プログラム等が記憶されている。また、本発明を実施するために必要な情報が記憶されている。なお外部メモリはデータベースであってもよい。

ＲＡＭ２０２（記憶手段に相当する）は、ＣＰＵ２０１の主メモリ、ワークエリア等として機能する。ＣＰＵ２０１は、処理の実行に際して必要なプログラム等をＲＯＭ２０３あるいは外部メモリ２１１からＲＡＭ２０２にロードし、ロードしたプログラムを実行することで各種動作を実現する。

また、入力コントローラ２０５は、キーボード（ＫＢ）２０９や不図示のマウス等のポインティングデバイス等からの入力を制御する。

ビデオコントローラ２０６は、ディスプレイ２１０等の表示器への表示を制御する。尚、表示器は液晶ディスプレイ等の表示器でもよい。これらは、必要に応じて管理者が使用する。

メモリコントローラ２０７は、ブートプログラム、各種のアプリケーション、フォントデータ、ユーザファイル、編集ファイル、各種データ等を記憶する外部記憶装置（ハードディスク（ＨＤ））や、フレキシブルディスク（ＦＤ）、あるいは、ＰＣＭＣＩＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｍｅｍｏｒｙ Ｃａｒｄ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ）カードスロットにアダプタを介して接続されるコンパクトフラッシュ（登録商標）メモリ等の外部メモリ２１１（記憶手段に相当する）へのアクセスを制御する。

通信Ｉ／Ｆコントローラ２０８は、ネットワークを介して外部機器と接続・通信し、ネットワークでの通信制御処理を実行する。例えば、ＴＣＰ／ＩＰ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ／Ｉｎｔｅｒｎｅｔ Ｐｒｏｔｏｃｏｌ）を用いた通信等が可能である。本実施形態では、ネットワークを介して、生成装置４００や脱臭装置２００と通信可能に接続されているが、有線ケーブルなどで接続されるようにしても構わない。

尚、ＣＰＵ２０１は、例えばＲＡＭ２０２内の表示情報用領域へアウトラインフォントの展開（ラスタライズ）処理を実行することにより、ディスプレイ２１０上に表示することが可能である。また、ＣＰＵ２０１は、ディスプレイ２１０上のマウスカーソル（図示しない）等によるユーザ指示を可能とする。

本発明を実現するための後述する各種プログラムは、外部メモリ２１１に記録されており、必要に応じてＲＡＭ２０２にロードされることによりＣＰＵ２０１によって実行されるものである。

以上で、図３に示す情報処理装置１００のハードウェア構成に関する説明を終了する。上記の構成は一例であって、目的や用途に応じて適宜変更されうる。

次に図４を用いて、情報処理装置１００の機能構成の一例について説明する。

情報処理装置１００は、センサ情報取得部３０１、判断部３０２、通知部３０３、記憶制御部３０４を備えている。

センサ情報取得部３０１は、センサ１１０、１１１から、センサが取得したセンサ情報を取得する機能部である。

判断部３０２は、センサ情報取得部３０１で取得されたセンサ情報に基づいて、センサ情報が所定の条件を満たしているか否かを判断する機能部である。通知部３０３は、判断部３０２での判断に応じて、生成装置４００や脱臭装置２００に対して指示を行う機能部である。記憶制御部３０４は、センサ情報に対応する指示であって、生成装置４００や脱臭装置２００に対する指示の内容を記憶するよう制御する機能部である。

以上で、図４に示す機能構成の一例の説明を終了する。

次に図５のフローチャートを用いて本実施形態における処理の内容を説明する。

ステップＳ５０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、センサ１１０からセンサが測定した気体５００に含まれるアンモニア臭気の濃度の測定値（汚染情報に相当する）を取得する。

ステップＳ５０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、設定値テーブル６００を読み込む。例えば図６に示す設定値テーブル６００である。設定値テーブル６００には、臭気濃度６０１、次亜塩素酸水濃度６０２、次亜塩素酸水流量６０３、炭酸ガス流量６０４が対応付けて記憶されている。臭気濃度６０１は臭気の濃度の基準値を示している。次亜塩素酸水濃度６０２は臭気濃度６０１に対応する、生成装置４００で生成するための次亜塩素酸水の濃度に関するパラメータである。次亜塩素酸水流量６０３は、臭気濃度６０１に対応する、生成装置４００で生成される次亜塩素酸水の流量のパラメータである。炭酸ガス流量６０４は、臭気濃度６０１に対応する、生成装置で生成するために用いられる次亜塩素酸水の炭酸ガスの流量に関するパラメータである。図６に示すように、脱臭対象の気体５００の臭気濃度６０１が高くなればなるほど、次亜塩素酸水の洗浄力が高くなるように、各パラメータ（次亜塩素酸水濃度６０２、次亜塩素酸水流量６０３、炭酸ガス流量６０４）が対応付けて設定値テーブル６００には記憶されている。なお、このパラメータはすべてが必須の構成ではなく、少なくともいずれか１つのパラメータが対応付けられていればよい。また、図６のデータテーブルは一例であって、これに限定されない。

ステップＳ５０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０１で取得された臭気の濃度の測定値が条件内か否かを判定する。条件内であると判定された場合には処理をステップＳ５０６に進め、そうでない場合には処理をステップＳ５０４に進める。例えば、所定内か否かを判断するための閾値としては、３００ｐｐｍであり、３００ｐｐｍ未満の臭気濃度の測定値であれば、ステップＳ５０６に処理を進める。３００ｐｐｍ以上の臭気濃度であれば、処理をステップＳ５０４に進める。この閾値は一例であって、これに限定されない。

ステップＳ５０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０１で取得された気体５００の臭気の濃度の測定値に対応する設定値を臭気濃度６０１を参照し、特定する。例えば、ステップＳ５０１で取得された測定値が１４００ｐｐｍであった場合には、図６の設定値テーブル６００の臭気濃度６０１に対応するパラメータとしては、次亜塩素酸水濃度６０２は８０、次亜塩素酸水流量は４、炭酸ガス流量６０４は５であると特定することができる。

ステップＳ５０５では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ５０４で特定された設定値（パラメータ）を、生成装置４００に対して通知する。

ステップＳ５０６では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、洗浄処理を継続するか否かを判定し、洗浄処理を継続しないと判定された場合には処理を終了し、洗浄処理を継続すると判定された場合には処理をステップＳ５０１に戻す。

ステップＳ５１１では、生成装置４００が、ステップＳ５０５で通知された設定値を受信する。

ステップＳ５１２では、生成装置４００が、ステップＳ５１１で通知された設定値（パラメータ）で、洗浄液を生成する。例えば、ステップＳ５１１で受信した設定値が、次亜塩素酸水濃度６０２は８０、次亜塩素酸水流量は４、炭酸ガス流量６０４は５だった場合には、これらのパラメータを用いて、次亜塩素酸水を生成する。このように、洗浄液である次亜塩素酸水の濃度や流量を、臭気センサで取得された臭気の濃度に応じて決定して、生成することで、一時的に臭気が高い状態となった場合でも、ユーザの手間をかけることなく、適切なパラメータを設定することができ、かつ、必要なときにだけ洗浄力を高めた次亜塩素酸水を供給でき、コスト低減を図ることができる。

本実施形態では、洗浄前の気体の臭気の濃度を測定すべく、センサ１１０からセンサ情報を取得するように制御しているが、洗浄後の気体の臭気の濃度を計測できるセンサ１１０からセンサ情報を取得するように制御しても構わない。センサ１１０とセンサ１１０とからそれぞれセンサ情報を取得して、生成装置４００で生成される洗浄液の洗浄能力を変更するようにしてもよい。このように洗浄前の気体５００と洗浄後の気体５００とのそれぞれの臭気の濃度を測定して、生成装置４００で生成される洗浄液の洗浄能力を変更することで、洗浄後の気体５００の臭気成分の残渣を低減することができる。

以上で第１の実施形態における詳細な処理の説明を終了する。以上、本実施形態によれば、センサ１１０またはセンサ１１１から取得された臭気濃度の測定値（センサ情報）に基づいて、生成装置４００で生成される洗浄液の洗浄能力を変更することができる。結果として、脱臭装置２００が用いる洗浄液の量を減らすことができ、また、脱臭装置から排出される洗浄廃液の量を減らすことができ、脱臭対象の気体の臭気の濃度に応じて適切な洗浄能力を提供することができるだけでなくさらに洗浄液のコストも低減させることができる。

［第２の実施形態］
次に第２の実施形態について説明する。第１の実施形態では、気体５００の臭気の濃度に応じて、生成装置４００で生成される洗浄液の生成のためのパラメータを変更した。第２の実施形態では、第１の実施形態と異なり、気体５００の温度に応じて、生成装置４００で生成される洗浄液の生成のためのパラメータを変更する。第１の実施形態とは、システム構成、機能構成は同様であるため説明は省略する。第１の実施形態と処理の異なる部分について説明し、処理が同様の部分については説明を省略する。

第２の実施形態では、脱臭装置２００のハードウェア構成図について図１３を例として説明する。図１３に示すように、センサ１１０は、洗浄前の気体５００の温度が計測可能な位置に設けられている。センサ１１０は、気体の温度を測定することのできる温度センサである。洗浄後の気体５００は、洗浄液により温度が低下してしまうことから、洗浄前の気体５００の温度を測定する。臭気成分の例であるアンモニアは、温度が高くなればなるほど、アンモニアの濃度が高くなるという傾向があるため、温度に基づいて洗浄液の生成のためのパラメータを変更することで、より適切な洗浄液を、洗浄装置に供給することが可能となる効果がある。

以下、図７のフローチャートを用いて、第２の実施形態の詳細な処理の流れについて説明する。

ステップＳ７０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、センサ１１０からセンサが測定した気体５００の温度の測定値を取得する。

ステップＳ７０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、設定値テーブル８００を読み込む。例えば、図８に示す設定値テーブル８００である。設定値テーブル８００には、臭気温度８０１、次亜塩素酸水濃度６０２、次亜塩素酸水流量６０３、炭酸ガス流量６０４が対応付けて記憶されている。臭気温度８０１は臭気の温度の基準値を示している。図８に示すように、脱臭対象の気体５００の臭気温度８０１が高くなればなるほど、次亜塩素酸水の洗浄力が高くなるように、各パラメータ（次亜塩素酸水濃度６０２、次亜塩素酸水流量６０３、炭酸ガス流量６０４）が対応付けて設定値テーブル８００には記憶されている。なお、このパラメータはすべてが必須の構成ではなく、少なくともいずれか１つのパラメータが対応付けられていればよい。また、図６のデータテーブルは一例であって、これに限定されない。

ステップＳ７０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ７０１で取得された臭気の温度の測定値が条件内か否かを判定する。条件内であると判定された場合には処理をステップＳ５０６に進め、そうでない場合には処理をステップＳ７０４に進める。例えば、条件内か否かを判断するための閾値としては、１５℃であり、１５℃未満の温度の測定値であれば、処理をステップＳ５０６に進める。１５℃以上の温度の測定値であれば、処理をステップＳ７０４に進める。この閾値は一例であって、これに限定されない。

ステップＳ７０４では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ７０１で取得された気体５００の温度の測定値に対応する設定値を臭気温度８０１を参照し、特定する。例えば、ステップＳ７０１で取得された測定値が、４３℃であった場合には、図８の設定値テーブル８００の臭気温度８０１に対応するパラメータとしては、次亜塩素酸水濃度６０２が１２０、次亜塩素酸水流量６０３が５、炭酸ガス流量６０４が５と特定することができる。

ステップＳ５０５、ステップＳ５０６、ステップＳ５１１、ステップＳ５１２は第１の実施形態と処理の内容は同様であるため説明を省略する。

以上で、第２の実施形態の説明を終了する。以上、本実施形態によれば、センサ１１０から取得された気体の温度の測定値（センサ情報）に基づいて、生成装置４００で生成される洗浄液の洗浄能力を変更することができる。これは、温度の臭気の濃度が相関しているためであり、結果として、脱臭装置２００が用いる洗浄液の量を減らすことができ、また、脱臭装置から排出される洗浄廃液の量を減らすことができ、脱臭対象の気体の臭気の濃度に応じて適切な洗浄能力を提供することができるだけでなくさらに洗浄液のコストも低減させることができる。

［第３の実施形態］
次に第３の実施形態について説明する。第１の実施形態では、気体５００の臭気の濃度に応じて、生成装置４００で生成される洗浄液の生成のためのパラメータを変更した。第３の実施形態では、第１の実施形態と異なり、気体５００の臭気の濃度に応じて、洗浄装置で気体５００を洗浄するためのモードを変更する。第１の実施形態とは、システム構成、ハードウェア構成、機能構成は同様であるため説明は省略する。第１の実施形態と処理の異なる部分について説明し、処理が同様の部分については説明を省略する。臭気の濃度に応じて、洗浄装置で気体５００を洗浄するためのモードが制御されることにより、気体５００に含まれる臭気の強さに応じて適切な洗浄力を提供するとともに、洗浄に係るコストも低減させることが可能となる。

以下、図９のフローチャートを用いて、第３の実施形態の詳細な処理の流れについて説明する。

ステップＳ４０１からステップＳ４０３の処理は第１の実施形態と処理の流れは同様であるため、説明は省略する。

ステップＳ９０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、設定値テーブル１０００を読み込む。例えば、図１０に示す設定値テーブル１０００である。設定値テーブル８００には、臭気濃度６０１、噴霧モード１００１が対応付けて記憶されている。臭気濃度６０１は上述のとおりであり、説明は省略する。噴霧モード１００１は、洗浄液供給部１３０、１４０での洗浄液の噴霧の有無を示すモードである。噴霧モード１００１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行う。本実施形態では、噴霧の有無を制御しているが、センサ１１０で取得された臭気の濃度に応じて、噴霧の量を増やすように制御してもよい。すなわち、気体５００の臭気の濃度に応じて脱臭の能力を高めるよう、脱臭装置２００を動作させられれば、ほかのモードでも構わない。なお、本実施形態では、脱臭装置２００の脱臭のモードを噴霧に関するモードを例として説明しているが、必ずしも噴霧に関するモードである必要はなく、例えば、洗浄の回数を増やすなど、他のモードによって脱臭の能力を高めるようにしても構わない。

ステップＳ９０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、測定値に対応する噴霧モード１００１を臭気濃度６０１を参照し、特定する。例えば、測定値が１２００ｐｐｍであった場合には、図１０の設定値テーブル１０００の臭気濃度６０１を参照すると、対応する噴霧モード１００１はＯＮであると特定することができる。

ステップＳ９０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ９０２で特定された噴霧モード１００１を脱臭装置２００に対して通知する。

ステップＳ９０４では、脱臭装置２００が、ステップＳ９０３で通知された噴霧モード１００１を受信する。

ステップＳ９０５では、ステップＳ９０４で受信された噴霧モード１００１に応じて、洗浄液供給部１３０、１４０での洗浄液の噴霧を制御する。すなわち、噴霧モード１００１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行うことで、気体５００を洗浄する箇所を増やすことができ、気体５００の洗浄の能力を上げることができるという効果がある。噴霧モード１００１がＯＦＦの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを閉め、次亜塩素酸水の消費を低減する。

以上で第３の実施形態の説明を終了する。上述のように、本実施形態によれば、洗浄対象の気体５００の臭気濃度６０１が高い場合には、脱臭装置２００の洗浄能力を高くすることで、洗浄対象の気体５００の汚染状態に応じた適切な洗浄力を提供することができる。また、必要に応じて、次亜塩素酸水の消費量を低減することができる

［第４の実施形態］
次に第４の実施形態について説明する。第２の実施形態では、気体５００の臭気の温度に応じて、生成装置４００で生成される洗浄液の生成のためのパラメータを変更した。第４の実施形態では、第２の実施形態と異なり、気体５００の臭気の温度に応じて、洗浄装置で気体５００を洗浄するためのモードを変更する。第２の実施形態とは、システム構成、ハードウェア構成、機能構成は同様であるため説明は省略する。第１の実施形態と処理の異なる部分について説明し、処理が同様の部分については説明を省略する。臭気の温度に応じて、洗浄装置で気体５００を洗浄するためのモードが制御されることにより、気体５００に含まれる臭気の強さに応じて適切な洗浄力を提供するとともに、洗浄に係るコストも低減させることが可能となる。

以下、図１１に示すフローチャートを用いて、第４の実施形態の詳細な処理の流れについて説明する。

ステップＳ７０１からステップＳ７０４については第２の実施形態と処理の内容は同様であるため説明を省略する。

ステップＳ１１０１では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、設定値テーブル１２００を読み込む。例えば、図１２に示す設定値テーブル１２００である。設定値テーブル１２００には、臭気温度８０１、噴霧モード１００１が対応付けて記憶されている。臭気温度８０１は前述のとおりであり、説明は省略する。噴霧モード１００１は、洗浄液供給部１３０、１４０での洗浄液の噴霧の有無を示すモードである。噴霧モード１００１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行う。本実施形態では、噴霧の有無を制御しているが、センサ１１０で取得された臭気の温度に応じて、噴霧の量を増やすように制御してもよい。すなわち、気体５００の臭気の温度に応じて脱臭の能力を高めるよう、脱臭装置２００を動作させられれば、ほかのモードでも構わない。なお、本実施形態では、脱臭装置２００の脱臭のモードを噴霧に関するモードを例として説明しているが、必ずしも噴霧に関するモードである必要はなく、例えば、洗浄の回数を増やすなど、他のモードによって脱臭の能力を高めるようにしても構わない。

ステップＳ１１０２では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、測定値に対応する噴霧モード１００１を臭気温度８０１を参照し、特定する。例えば、測定値が４８℃であった場合には、図１２の設定値テーブル１２００の臭気温度８０１を参照すると、対応する噴霧モード１００１はＯＮであると特定することができる。

ステップＳ１１０３では、情報処理装置１００のＣＰＵ２０１が、ステップＳ１１０２で特定された噴霧モード１００１を脱臭装置２００に対して通知する。

ステップＳ１１０４では、脱臭装置２００が、ステップＳ１１０３で通知された噴霧モード１００１を受信する。

ステップＳ１１０５では、ステップＳ１１０４で受信された噴霧モード１００１に応じて、洗浄液供給部１３０、１４０での洗浄液の噴霧を制御する。すなわち、噴霧モード１００１がＯＮの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを開き、洗浄液の噴霧を行うことで、気体５００を洗浄する箇所を増やすことができ、気体５００の洗浄の能力を上げることができるという効果がある。噴霧モード１００１がＯＦＦの場合には、脱臭装置２００は噴霧を制御するバルブを閉め、洗浄液である次亜塩素酸水の消費を低減する。

以上で第４の実施形態の説明を終了する。上述のように、本実施形態によれば、洗浄対象の気体５００の臭気温度８０１が高い場合には、脱臭装置２００の洗浄能力を高くすることで、洗浄対象の気体５００の汚染状態に応じた適切な洗浄力を提供することができる。また、必要に応じて、次亜塩素酸水の消費量を低減することができる。

以上、本発明によれば、気体の洗浄システムにおいて適切な洗浄能力を提供することができる。

脱臭装置２００は、実施形態１に係る湿式脱臭装置を用いてもよいし、その他の脱臭装置を用いてもよい。例えば図１３に示すように、脱臭装置２００にセンサ１１１を設けず、センサ１１０のみを設けるようにしても構わない。

以上、本実施形態に係る湿式脱臭システムの構成例をいくつか紹介した。しかしながら、本実施形態に係る湿式脱臭システムは、上記の構成には限定されない。すなわち、本実施形態に係る湿式脱臭システムは、１以上の任意の数の冷却装置と、１以上の任意の数の脱臭装置とを備えることができる。例えば、図３の構成において、脱臭装置として第１の脱臭装置２００のみが用いられ、第１の脱臭装置の内部の洗浄液が脱臭対象の気体を冷却するために冷却装置に供給されてもよい。また、図３の構成において、脱臭装置としてさらなる第３の脱臭装置が用いられてもよい。それぞれの冷却装置及び脱臭装置の構成は特に限定されず、冷却装置及び脱臭装置のうちの１以上として実施形態１に係る湿式脱臭装置を採用することもできる。また、互いに異なる構成を有する、１以上の実施形態１に係る湿式脱臭装置を採用することもできる。例えば、第１の脱臭装置２００が図２（Ｂ）に示される構成を有し、第２の脱臭装置２２０が図２（Ａ）に示される構成を有してもよい。

また、本実施形態１〜４についてそれぞれ組み合わせたものについても本発明の範囲内であることは自明である。

本発明は、例えば、システム、装置、方法、プログラム若しくは記憶媒体等としての実施形態も可能であり、具体的には、複数の機器から構成されるシステムに適用してもよいし、また、１つの機器からなる装置に適用してもよい。なお、本発明は、前述した実施形態の機能を実現するソフトウェアのプログラムを、システム或いは装置に直接、或いは遠隔から供給するものを含む。そして、そのシステム或いは装置の情報処理装置が前記供給されたプログラムコードを読み出して実行することによっても達成される場合も本発明に含まれる。

したがって、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するために、前記情報処理装置にインストールされるプログラムコード自体も本発明を実現するものである。つまり、本発明は、本発明の機能処理を実現するためのコンピュータプログラム自体も含まれる。

その場合、プログラムの機能を有していれば、オブジェクトコード、インタプリタにより実行されるプログラム、ＯＳに供給するスクリプトデータ等の形態であってもよい。

プログラムを供給するための記録媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＭＯ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷなどがある。また、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ、ＤＶＤ（ＤＶＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ−Ｒ）などもある。

その他、プログラムの供給方法としては、クライアントコンピュータのブラウザを用いてインターネットのホームページに接続する。そして、前記ホームページから本発明のコンピュータプログラムそのもの、若しくは圧縮され自動インストール機能を含むファイルをハードディスク等の記録媒体にダウンロードすることによっても供給できる。

また、本発明のプログラムを構成するプログラムコードを複数のファイルに分割し、それぞれのファイルを異なるホームページからダウンロードすることによっても実現可能である。つまり、本発明の機能処理を情報処理装置で実現するためのプログラムファイルを複数のユーザに対してダウンロードさせるＷＷＷサーバも、本発明に含まれるものである。

また、本発明のプログラムを暗号化してＣＤ−ＲＯＭ等の記憶媒体に格納してユーザに配布し、所定の条件をクリアしたユーザに対し、インターネットを介してホームページから暗号化を解く鍵情報をダウンロードさせる。そして、ダウンロードした鍵情報を使用することにより暗号化されたプログラムを実行して情報処理装置にインストールさせて実現することも可能である。

また、情報処理装置が、読み出したプログラムを実行することによって、前述した実施形態の機能が実現される。その他、そのプログラムの指示に基づき、情報処理装置上で稼動しているＯＳなどが、実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現され得る。

さらに、記録媒体から読み出されたプログラムが、情報処理装置に挿入された機能拡張ボードや情報処理装置に接続された機能拡張ユニットに備わるメモリに書き込まれる。その後、そのプログラムの指示に基づき、その機能拡張ボードや機能拡張ユニットに備わるＣＰＵなどが実際の処理の一部又は全部を行い、その処理によっても前述した実施形態の機能が実現される。

なお、前述した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。即ち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。

２００：脱臭装置、３００：冷却装置、４１０：洗浄液、５００：脱臭対象の気体

Claims (12)

1. 洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と、前記気体の温度情報を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、
   前記洗浄装置で前記洗浄液を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段と、
   前記センサで取得された前記温度情報に対応する前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータを特定する特定手段と、
   前記特定手段で特定された前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータで前記生成装置が前記洗浄液を生成するよう制御する制御手段と
   を備えることを特徴とする洗浄システム。
2. 前記センサは、前記洗浄装置に前記気体が流入する流入口に設けられていること
   を特徴とする請求項１に記載の洗浄システム。
3. 前記センサは、前記洗浄装置で洗浄後の前記気体が流出する流出口に設けられていること
   を特徴とする請求項１または２に記載の洗浄システム。
4. 前記パラメータは、前記洗浄液の流量に関するパラメータであること
   を特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の洗浄システム。
5. 前記パラメータは、前記洗浄液の濃度に関するパラメータであること
   を特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の洗浄システム。
6. 前記パラメータは、炭酸ガスの流量に関するパラメータであること
   を特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の洗浄システム。
7. 前記洗浄液は、脱臭剤を含有する水溶液であること
   を特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の洗浄システム。
8. 前記洗浄液は、次亜塩素酸又は次亜塩素酸イオンを含有する水溶液であること
   を特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の洗浄システム。
9. 洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と、前記気体の温度情報を取得するセンサとを含む洗浄システムであって、前記洗浄装置で前記洗浄液を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段を備える前記洗浄システムの制御方法であって、
   前記センサで取得された前記温度情報に対応する前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータを特定する特定工程と、
   前記特定工程で特定された前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータで前記生成装置が前記洗浄液を生成するよう制御する制御工程と
   を備えることを特徴とする洗浄システムの制御方法。
10. 洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と、前記気体の温度情報を取得するセンサと通信可能な情報処理装置であって、
    前記洗浄装置で前記洗浄液を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段と、
    前記センサで取得された前記温度情報に対応する前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータを特定する特定手段と、
    前記特定手段で特定された前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータで前記生成装置が前記洗浄液を生成するよう制御する制御手段と
    を備えることを特徴とする情報処理装置。
11. 洗浄液を生成する生成装置と、前記洗浄液で気体を洗浄する洗浄装置と、前記気体の温度情報を取得するセンサと通信可能な情報処理装置であって、前記洗浄装置で前記洗浄液を生成するためのパラメータを記憶する記憶手段を備える前記情報処理装置の制御方法であって、
    前記センサで取得された前記温度情報に対応する前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータを特定する特定工程と、
    前記特定工程で特定された前記洗浄液を生成するためのパラメータパラメータで前記生成装置が前記洗浄液を生成するよう制御する制御工程と
    を含むことを特徴とする情報処理装置の制御方法。
12. コンピュータを、請求項１０に記載の情報処理装置の各手段として機能させることを特徴とするプログラム。

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