JP2019070839A - 流体ハンドリング構造、液浸リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】流体抽出コンジット内の流れの不安定性を低減する流体ハンドリング構造、液浸リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】流体ハンドリング構造は、使用済み流体１０６をコンジット内に受け入れるように構成された回収ポート７３を伴う流体抽出コンジット１０２を有する。各々がコンジットの少なくとも一部を横切って延在する、複数のフローブレーカ１０８が提供される。フローブレーカ１０８は回収ポート７３の下流に位置決めされる。フローブレーカ１０８は、共通面が２つ又はそれ以上のフローブレーカ１０８の少なくとも一部を通過するように配置される。共通面は、共通面の位置にあるコンジット内で、流れの平均方向に垂直になるように位置合わせされる。【選択図】図６

Description

[0001] 本発明は、流体ハンドリング構造、液浸リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法に関する。

[0002] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが付与される隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行或いは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板上にインプリントすることによって、パターンをパターニングデバイスから基板に転写することも可能である。

[0003] 液浸リソグラフィ装置では、液浸流体は流体ハンドリングシステム又は装置によって処理される。実施形態において、流体ハンドリングシステム又は装置は液浸流体を供給できるため、流体供給システム又は装置を備えるか或いは流体供給システムからなる。実施形態において、流体ハンドリングシステム又は装置は液浸流体を少なくとも部分的に閉じ込めることができる。実施形態において、流体ハンドリングシステム又は装置は液浸流体に対してバリアを提供できるため、流体閉じ込め構造などのバリア部材を備えるか或いはバリア部材からなる。実施形態において、流体ハンドリングシステム又は装置は、例えば液浸流体の流れ及び／又は位置を制御する際の助けとするために、気体の流れを作るか又は用いることができる。気体の流れは液浸流体を閉じ込めるためのシールを形成できるため、流体ハンドリングシステム又は装置はシール部材とも呼ばれ、こうしたシール部材は流体閉じ込め構造であってよい。実施形態において、液浸流体として液浸液が使用される。その場合、流体ハンドリングシステム又は装置は液体ハンドリングシステム又は装置であってよい。本説明において流体に関して定義される特徴への言及は、液体に関して定義される特徴を含むものと理解してよい。

[0004] 流体ハンドリングシステム又は装置は、投影システムと基板との間の空間又は領域から液浸流体を取り去るように構成可能である。取り去られた液浸流体は使用済み流体と呼ぶことができる。使用済み流体は流体抽出コンジットを介して取り去ることができる。流体抽出コンジット内の使用済み流体の流れは不安定な可能性がある。不安定な流れは、流れが多相流の場合に特に一般的である。多相流は、例えば気体と液体の混合物を含む可能性がある。流体抽出コンジット内の不安定な流れは、圧力変動を作るか又は含む。圧力変動は、液浸リソグラフィ装置の他の要素に振動を伝える可能性がある。振動は性能の態様、例えば焦点又はオーバーレイなどに、悪影響を及ぼす可能性がある。

[0005] 例えば、流体抽出コンジット内の流れの不安定性を低減することが望ましい。

[0006] 態様によれば、液浸リソグラフィ装置内で使用するための流体ハンドリング構造が提供され、流体ハンドリング構造は、投影システムの最終要素と投影システムの最終要素に対して移動可能な反対面との間の空間に液浸流体を提供するように構成され、流体ハンドリング構造は、空間から使用済み流体を取り去るように構成された流体抽出コンジットを備え、流体抽出コンジットは、使用済み流体をコンジット内に受け入れるように構成された回収ポートと、各々がコンジットの少なくとも一部を横切って延在する複数のフローブレーカ（ｆｌｏｗ ｂｒｅａｋｅｒ）とを備え、フローブレーカは回収ポートの下流に位置決めされ、フローブレーカは、共通面が２つ又はそれ以上のフローブレーカの少なくとも一部を通過するように配置され、共通面は、共通面の位置にあるコンジット内で、使用中、流れの平均方向に垂直になるように位置合わせされる。

[0007] 態様によれば、液浸リソグラフィ装置内で使用するための流体ハンドリング構造が提供され、流体ハンドリング構造は、投影システムの最終要素と投影システムの最終要素に対して移動可能な反対面との間の空間に液浸流体を提供するように構成され、流体ハンドリング構造は、空間から使用済み流体を取り去るように構成された流体抽出コンジットを備え、流体抽出コンジットは、流体をコンジット内に受け入れるように構成された回収ポート、回収ポートより下流の第１の長さのコンジット、及び第１の長さのコンジットより下流の第２の長さのコンジットを備え、第２の長さのコンジットはコンジットの少なくとも一部を横切って延在するフローブレーカを備え、第１の長さのコンジットは、平均流れ方向に垂直な少なくとも１方向に見ると細長く、第１の長さのコンジット内のすべての位置で、平均流れ方向に垂直なコンジットの断面積は、第１の長さのコンジットの上流端でのコンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい。

[0008] 態様によれば、液浸流体を介してパターンが付与された放射ビームを基板に投影するために投影システムを使用すること、投影システムの最終要素と基板又は基板を支持している支持体との間の空間に液浸流体を提供すること、及び、空間から使用済み流体を取り去るために流体抽出コンジットを使用することを含む、デバイス製造方法が提供され、流体抽出コンジットは、使用済み流体をコンジット内に受け入れるように構成された回収ポートと、各々がコンジットの少なくとも一部を横切って延在する複数のフローブレーカとを備え、フローブレーカは回収ポートの下流に位置決めされ、フローブレーカは、共通面が２つ又はそれ以上のフローブレーカの少なくとも一部を通過するように配置され、共通面は、共通面の位置にあるコンジット内で、流れの平均方向に垂直になるように位置合わせされる。

[0009] 態様によれば、液浸流体を介してパターンが付与された放射ビームを基板に投影するために投影システムを使用すること、投影システムの最終要素と基板又は基板を支持している支持体との間の空間に液浸流体を提供すること、及び、空間から使用済み流体を取り去るために流体抽出コンジットを使用することを含む、デバイス製造方法が提供され、流体抽出コンジットは、流体をコンジット内に受け入れるように構成された回収ポート、回収ポートより下流の第１の長さのコンジット、及び第１の長さのコンジットより下流の第２の長さのコンジットを備え、第２の長さのコンジットはコンジットの少なくとも一部を横切って延在するフローブレーカを備え、第１の長さのコンジットは、平均流れ方向に垂直な少なくとも１方向に見ると細長く、第１の長さのコンジット内のすべての位置で、平均流れ方向に垂直なコンジットの断面積は、第１の長さのコンジットの上流端でのコンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい。

[0010] 次に本発明の実施形態を、 対応する参照記号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら、単なる例として説明する。

[0011]本発明の実施形態に従ったリソグラフィ装置を示す図である。 [0012]リソグラフィ装置内で使用するための液体供給システムを示す図である。 [0013]実施形態に従った、メニスカスピン止めシステムを示す概略平面図である。 [0014]実施形態に従った、メニスカスピン止めシステムを、投影システムの光軸にほぼ平行な面の断面で示す図である。 [0015]実施形態に従った、さらなる液体供給システムを示す側断面図である。 [0016]実施形態に従った、流体ハンドリング構造内の流体抽出コンジットを示す第１の概略側断面図である。 [0017]図６の流体抽出コンジットを示す第２の概略側断面図である。 [0018]図６及び図７の実施形態で使用するための、第１セットのフローブレーカの流れ方向に沿った概略断面図である。 [0019]代替の第１セットのフローブレーカを示す図である。 [0020]図６及び図７の実施形態で使用するための、第２セットのフローブレーカの流れ方向に沿った概略断面図である。 [0021]代替の第２セットのフローブレーカを示す図である。 [0022]図６及び図７の実施形態で使用するための、第３セットのフローブレーカの流れ方向に沿った概略断面図である。 [0023]代替の第３セットのフローブレーカを示す図である。 [0024]別の実施形態に従った、流体ハンドリング構造の流体抽出コンジットを示す第１の概略側面図である。 [0025]図１４の流体抽出コンジットを示す第２の概略側面図である。 [0026]フローブレーカの例示的断面を示す図である。 [0027]フローブレーカのさらなる例示的断面を示す図である。 [0028]フローブレーカのさらに別の例示的断面を示す図である。 [0029]渦がフローブレーカから離脱するのを抑制するように構成された表面構造を有する、フローブレーカを示す概略側面図である。 [0030]第１の長さのコンジット及び第２の長さのコンジットの相対的位置を示す、実施形態に従った流体抽出コンジットを示す概略側断面図である。 [0031]図２０に示されたタイプの代替構成を示す図である。 [0032]図２０に示されたタイプのさらなる代替構成を示す図である。 [0033]分岐を含むフローブレーカの流れ方向に沿った概略断面図である。 [0034]内側に突出しているが流体抽出コンジットを横切って渡されない、フローブレーカの流れ方向に沿った概略側断面図である。

[0035] 図１は、本発明の一実施形態に従ったリソグラフィ装置を概略的に示す。装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又は任意の他の好適な放射）を調整するように構成された照明システム（イルミネータ）と、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構築され、あるパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続された、マスク支持構造（例えば、マスクテーブル）とを含む。装置は、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、あるパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された、基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴ又は「基板支持体」も含む。装置は、パターニングデバイスＭＡによって、放射ビームＢに付与されたパターンを基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ以上のダイを含む）に投影するように構成された、投影システム（例えば、屈折投影レンズシステム）ＰＳをさらに含む。

[0036] 照明システムは、放射を誘導、整形、又は制御するための、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、静電型、又は他のタイプの光学コンポーネント、或いはそれらの任意の組み合わせなどの、様々なタイプの光学コンポーネントを含むことができる。

[0037] マスク支持構造は、パターニングデバイスを支持する、すなわちその重みを支える。マスク支持構造は、パターニングデバイスの向き、リソグラフィ装置の設計、及び、例えばパターニングデバイスが真空環境内で保持されるか否かなどの他の条件に応じた様式で、パターニングデバイスを保持する。マスク支持構造は、パターニングデバイスを保持するために、機械、真空、静電、又は他のクランプ技法を使用することができる。マスク支持構造は、例えば必要に応じて固定式又は可動式であってよい、フレーム又はテーブルとすることができる。マスク支持構造は、パターニングデバイスが、例えば投影システムに関して所望の位置にある旨を保証することができる。本明細書で使用される「レチクル」又は「マスク」という用語はいずれも、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義であると見なすことができる。

[0038] 本明細書で使用される「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを作成するように放射ビームの断面にパターンを付与するために使用可能な、任意のデバイスを指すものと広義に解釈されるべきである。放射ビームに付与されるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分内の所望のパターンに正確に対応していない場合もあることに留意されたい。一般に、放射ビームに付与されるパターンは、集積回路などの、ターゲット部分に作成されるデバイス内の特定の機能層に対応する。

[0039] パターニングデバイスは、透過性又は反射性であってよい。パターニングデバイスの例は、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルを含む。マスクはリソグラフィにおいて周知であり、バイナリ、レベンソン型（ａｌｔｅｒｎａｔｉｎｇ）位相シフト、及びハーフトーン型（ａｔｔｅｎｕａｔｅｄ）位相シフト、並びに様々なハイブリッドマスクタイプなどの、マスクタイプを含む。プログラマブルミラーアレイの例は、マトリクス配列の小型ミラーを採用し、その各々が、入射してくる放射ビームを異なる方向に反射するように個々に傾斜可能である。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射される放射ビーム内にパターンを付与する。

[0040] 本明細書で使用される「投影システム」という用語は、使用される露光放射、或いは液浸液の使用又は真空の使用などの他の要因に対して適宜、屈折型、反射型、反射屈折型、磁気型、電磁型、及び静電型の光学システム、又はそれらの任意の組み合わせを含む、任意のタイプの投影システムを包含するものと、広義に解釈されるべきである。本明細書で使用される「投影レンズ」という用語はいずれも、より一般的な用語である「投影システム」と同義であるものと見なすことができる。

[0041] 本明細書で示されるように、装置は透過型である（例えば、透過性マスクを採用している）。代替として、装置は反射型であってよい（例えば、前述のようなタイプのプログラマブルミラーアレイを採用しているか、又は反射型マスクを採用している）。

[0042] リソグラフィ装置は、２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル又は「基板支持体」（及び／又は、２つ又はそれ以上のマスクテーブル又は「マスク支持体」）を有するタイプであってよい。こうした「マルチステージ」機械において、追加のテーブル又は支持体を並列に使用することが可能であるか、或いは、１つ以上のテーブル又は支持体が露光に使用されている間に、１つ以上の他のテーブル又は支持体上で予備ステップを実施することができる。

[0043] リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を満たすように、基板の少なくとも一部を、例えば水などの相対的に高い屈折率を有する液体で覆うことが可能なタイプであってもよい。リソグラフィ装置内の他の空間、例えばマスクと投影システムの間に、液浸液を適用することも可能である。投影システムの開口数を増やすために、液浸技法を使用することも可能である。本明細書で使用される「液浸」という用語は、基板などの構造を液体内に沈めなければならないということを意味するものではなく、むしろ、露光中に投影システムと基板との間に液体があることを単に意味するものである。

[0044] 図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受信する。放射源とリソグラフィ装置は、例えば放射源がエキシマレーザーである場合、別々のエンティティであり得る。こうしたケースでは、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成するとは見なされず、放射ビームは、例えば好適な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダを含むビームデリバリシステムＢＤの助けを借りて、放射源ＳＯからイルミネータＩＬに渡される。他のケースでは、例えば放射源が水銀ランプの場合、放射源はリソグラフィ装置の一体部分であってよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要であればビームデリバリシステムＢＤと共に、放射システムと呼ぶことができる。

[0045] イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調節するように構成されたアジャスタＡＤを含むことができる。一般に、イルミネータの瞳面における強度分布の少なくとも外側及び／又は外側半径範囲（一般に、それぞれσ−ｏｕｔｅｒ及びσ−ｉｎｎｅｒと呼ばれる）を調節することができる。加えて、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの様々な他のコンポーネントを含むことができる。イルミネータは、その断面に所望の均一性及び強度分布を有するように放射ビームを調整するために使用することができる。放射源ＳＯと同様に、イルミネータＩＬはリソグラフィ装置の一部を形成するものと見なされる場合、又は見なされない場合がある。例えばイルミネータＩＬは、リソグラフィ装置の一体部分であるか、又はリソグラフィ装置とは別のエンティティであるとすることができる。後者の場合、リソグラフィ装置は、イルミネータＩＬをその上に取り付けることができるように構成可能である。任意選択として、イルミネータＩＬは着脱可能であり、（例えば、リソグラフィ装置製造業者又は別のサプライヤによって）別々に提供することができる。

[0046] 放射ビームＢは、マスク支持構造（例えば、マスクテーブルＭＴ）上に保持されるパターニングデバイス（例えば、マスクＭＡ）上に入射し、パターニングデバイスによってパターンが付与される。マスクＭＡをトラバースすると、放射ビームＢは投影システムＰＳを通過し、投影システムＰＳは基板Ｗのターゲット部分Ｃ上にビームを合焦させる。第２の位置決めデバイスＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉計デバイス、リニアエンコーダ、又は容量センサ）の助けを借りて、例えば異なるターゲット部分Ｃを放射ビームＢの経路内に位置決めするように、基板テーブルＷＴを正確に移動することができる。同様に、第１の位置決めデバイスＰＭ及び別の位置センサ（図１には明示的に示されていない）を使用して、例えばマスクライブラリからの機械的な取り外し後、又はスキャン中に、放射ビームＢの経路に関してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、第１の位置決めデバイスＰＭの一部を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けを借りて、マスクテーブルＭＴの動きを認識することができる。同様に、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」の動きは、第２のポジショナＰＷの一部を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを使用して認識することができる。（スキャナとは対照的に）ステッパの場合、マスクテーブルＭＴはショートストロークアクチュエータのみに接続するか、固定することができる。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスクアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図に示すように、基板アライメントマークは専用ターゲット部分を占有しているが、ターゲット部分間の空間に位置することができる（これらはスクライブレーンアライメントマークとして既知である）。同様に、複数のダイがマスクＭＡ上に提供される状況において、マスクアライメントマークはダイ間に位置することができる。

[0047] 投影システムＰＳの最終要素と基板との間に液体を提供するための構成は、３つの汎用カテゴリにクラス分けすることができる。それは、溶液槽タイプ構成、いわゆる局所的液浸システム、及びオールウェット液浸システムである。溶液槽タイプ構成において、基板Ｗのほぼ全体及び任意選択で基板テーブルＷＴの一部が、液体の槽内に沈められる。

[0048] 提案されている構成は、液体供給システムに、投影システムの最終要素と基板、基板テーブル、又はその両方との間の空間の境界の少なくとも一部に沿って延在する、液体閉じ込め構造を提供するものである。こうした構成が図２に示されている。図２に示され、以下で説明する構成は、上記で説明され、図１に示されたリソグラフィ装置に適用可能である。

[0049] 図２は、投影システムＰＳの最終要素と基板テーブルＷＴ又は基板Ｗとの間の空間１１の境界の少なくとも一部に沿って延在する、液体閉じ込め構造ＩＨを伴う、局所的液体供給システム又は流体ハンドリングシステムを概略的に示す。（以下の文章で、基板Ｗの表面への言及は、明示的に述べられていない限り、追加して又は代替として、基板テーブルＷＴの表面も指していることに留意されたい。）実施形態において、液体閉じ込め構造ＩＨと基板Ｗの表面との間にシールが形成され、これは気体シール１６などの非接触シール（欧州特許出願公開第ＥＰ−Ａ−１，４２０，２９８号に開示されている気体シールを備えたシステムなど）又は英気体シールとすることができる。

[0050] 液体閉じ込め構造ＩＨは少なくとも部分的に、投影システムＰＳの最終要素と基板Ｗとの間の空間１１内に液体を含む。空間１１は、投影システムＰＳの最終要素の下及びその周囲に位置決めされた、液体閉じ込め構造ＩＨによって、少なくとも部分的に形成される。液体は、投影システムＰＳの下及び液体閉じ込め構造ＩＨ内の空間に、液体入口１３によって持ち込まれる。液体は液体出口１３によって除去することができる。

[0051] 液体は、気体シール１６によって空間１１に含めることができ、気体シール１６は、使用中、液体閉じ込め構造ＩＨの下部と基板Ｗの表面との間に形成される。気体シール１６内の気体は、入口１５を介して圧力下で液体閉じ込め構造ＩＨと基板Ｗとの間のギャップに提供される。気体は、出口１４（回収ポートと呼ばれることもある）に関連付けられたチャネル（流体抽出コンジットと呼ばれることもある）を介して抽出される。気体入口１５の過度の圧力、出口１４の真空レベル、及びギャップのジオメトリは、液体を閉じ込める内側への高速な気体流れが存在するように構成される。液体閉じ込め構造ＩＨと基板Ｗとの間の液体にかかる気体の力が、液体を空間１１内に含める。こうしたシステムは、米国特許出願公開第ＵＳ２００４−０２０７８２４号に開示されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。実施形態において、液体閉じ込め構造ＩＨは気体シール１６を有さない。

[0052] 局所域液体供給システムにおいて、基板Ｗは投影システムＰＳ及び液体供給システムの下で移動される。例えば基板Ｗの縁部又は基板テーブルＷＴ上（又は測定テーブル上）のセンサが、例えば基板スワップを実行できるようにするためにダミー基板又はいわゆる塞ぎ板を液体供給システムの下に位置決めできるように想像される場合、或いは基板テーブルＷＴがそのように移動される場合、基板Ｗ（又は他の物体）の縁部は空間１１の下を通ることになる。液体は、基板Ｗと基板テーブルＷＴとの間のギャップに漏入することができる。この液体は、静水圧又は動圧或いは気体ナイフ（ガスナイフ）又は他の気体流れ（ガスフロー）作成デバイスの力によって、押し込むことができる。

[0053] 実施形態において、空間１１内の液体閉じ込め構造ＩＨの下にある液体（すなわち、メニスカス）の縁部をピン止めする、メニスカスピン止めシステムが提供される。メニスカスピン止めシステムは、例えばＵＳ２００８０２１２０４６Ａ１に記載された、いわゆる空気抗力（空気抵抗）抽出器原理に依拠することができる。そのシステムにおいて、回収ポート（すなわち開口部）がコーナーの形で配置される。コーナーはステッピング方向及びスキャニング方向と位置合わせされる。これによって、ステップ又はスキャン方向の所与の速度に対して２つの回収ポート間のメニスカスにかかる力は、２つの回収ポートがスキャンの方向に対して垂直に位置合わせされた場合に比べて低減される。

[0054] 図３は、メニスカスピン止めシステムを有する流体ハンドリング構造又はシステムを示す概略平面図である。図示されたメニスカスピン止めシステムは、例えば、空間１１内に液体を閉じ込める図２の構成１４、１５、１６の代わりとすることができる。図３のメニスカスピン止めシステムは、複数の離散回収ポート７３（開口部と呼ばれることもある）を備える。これらの回収ポート７３の各々は円形として示されているが、必ずしもこの限りではない。実際、１つ以上の回収ポート７３は、四角形、矩形、楕円形、三角形、長スリットなどから選択される１つ以上とすることができる。各回収ポート７３は、図では、０．２ｍｍより大きい長さ寸法（すなわち、１つの回収ポート７３から隣接する回収ポート７３への方向で）を有し、望ましくは０．５ｍｍ又は１ｍｍより大きく、一実施形態では０．１ｍｍから１０ｍｍの間、一実施形態では０．２５ｍｍから２ｍｍの間である。一実施形態において、各回収ポート７３の幅は０．１ｍｍから２ｍｍの間である。別の実施形態において、各回収ポート７３の幅は０．２５ｍｍから１ｍｍの間である。

[0055] 図３のメニスカスピン止めシステムの回収ポート７３の各々は、別々の加圧源に接続することができる。代替又は追加として、各々又は複数の回収ポート７３を、それ自体が圧力下で保持される共通チャンバ（環状であってよい）に接続可能である。このように、各々又は複数の回収ポート７３で、圧力下均一が達成可能である。回収ポート７３は真空源に接続可能であり、且つ／又は、流体ハンドリング構造又はシステム（或いは、閉じ込め構造、バリア部材、又は液体供給システム）の周囲の大気は、所望の圧力差を生成するように圧力を上げることができる。

[0056] 回収ポート７３は、流体ハンドリング構造の表面内（例えば、液体閉じ込め構造ＩＨの表面内）に形成可能である。この方面は、使用中、基板Ｗ及び／又は基板テーブルＷＴに対面し得る。一実施形態において、回収ポート７３は流体ハンドリング構造の平面内にある。別の実施形態において、流体ハンドリング構造の下面に隆起が存在し得、回収ポート７３は隆起内にあり得る。実施形態において、回収ポート７３は針によって定義され得る。何本かの針、例えば隣接する針の本体は連結可能である。針は単一の本体を形成するように結合可能である。単一の本体はコーナー形状を形成し得る。

[0057] 図４を見るとわかるように、回収ポート７３は流体抽出コンジット１０２の端部に（例えばチューブ又は細長い通路の形で）設けられる。望ましくは、回収ポート７３は使用中、基板Ｗに対面するように位置決めされる。

[0058] この実施形態において、各回収ポート７３は液体と気体の混合物を抽出するように設計される。液体は空間１１から抽出されるが、気体は液体に対して回収ポート７３の反対側の大気から抽出される。これにより、矢印１５０によって示されるような液体流れと、矢印１００によって示されるような気体流れが作られる。気体流れ１００は、回収ポート７３間のメニスカス９０を、図３に示されるようにほぼ定位置にピン止めするのに効果的である。気体流れ１００は、運動量阻止によって、気体流れが誘発する圧力勾配によって、及び／又は液体にかかる空気流の抗力（せん断）によって、液体の閉じ込めを維持するのに役立つ。

[0059] 回収ポート７３は、流体ハンドリング構造が液体を供給する空間１１を取り囲む。すなわち、回収ポート７３は、空間１１の周囲にほぼ連続的に間隔を空けて置かれる（隣接する回収ポート７３の間隔は規則的であるか又は変化することができる）。これは、抽出開口部（回収ポート）が、コーナーのある形状（コーナー間の縁部の一部に沿った開口部は存在しない）ではなく、４本の別々のコーナーのある線で形成される、ＵＳ特許公開第ＵＳ２００８００７７０４号とは異なる。これは、ＵＳ２００８００７７０４では、気体ナイフによって抽出されるコーナーに向かって、ほぼ接線方向の力が液体に掛けられるためである。本発明の実施形態において、液体はコーナーのある形状の周囲全体で抽出され、ほぼコーナーのある形状に衝突する地点で抽出される。これは、回収ポート７３が（コーナーのある形状内の）空間１１の周囲全体で形成されるために達成される。

[0060] 図３を見ればわかるように、回収ポート７３は、図内でコーナーのある形状（すなわち、コーナー５２を伴う形状）を形成するように位置決めされる。図３の場合、これは、湾曲した縁部又は側面５４を伴う四角形の形状である。縁部５４は負の半径を有する。すなわち、コーナー５２から離れた区域で、コーナーのある形状の中心に向かって湾曲している。

[0061] 四角形は、投影システムＰＳの下の基板Ｗの主な移動方向と位置合わせされた主軸２１０、２２０を有する。これにより、回収ポート７３が円形に構成された場合よりも最大スキャン速度が速いことを保証するのに役立つ。これは、２つの回収ポート７３の間のメニスカス９０にかかる力が係数ｃｏｓθで減少するためである。ここでθは、基板Ｗが移動する方向に対する、２つの回収ポート７３を接続する線の角度である。

[0062] したがって、四角形を使用することで、ステップ及びスキャン方向の動きを等しい最大速度とすることができる。１方向、例えばスキャン方向の動きがステップ方向の動きよりも速いことが好ましい場合は、ひし形形状を使用することができる。こうした構成において、ひし形の主軸はスキャン方向と位置合わせ可能である。ひし形形状の場合、コーナーの各々は鋭角であり得るが、ひし形の２つの隣接する側面間の角度は、例えばステップ方向では鈍角であり得、すなわち９０°を超える（例えば、約９０°から１２０°の間、或る実施形態では９０°から１０５°の間、或る実施形態ではこの角度は８５°から１０５°の間である）。

[0063] したがって、回収ポート７３の形状の主軸を基板Ｗの移動の主方向（通常は、スキャン方向）と位置合わせすること、及び、第２の軸を基板Ｗの移動の他方の主方向（通常はステップ方向）と位置合わせすることによって、スループットを最適化することができる。θが９０°とは異なる任意の構成が有利であることを理解されよう。したがって、主軸と移動の主方向とを正確に位置合わせすることは必須ではない。形状が円形の場合、移動の方向に垂直に位置合わせされた２つの回収ポート７３が常に存在するため、それら２つの回収ポート７３間のメニスカス９０が基板Ｗの動きによって利用可能な最大力を受け取ることをさらに理解されよう。

[0064] 図４は、回収ポート７３が液体閉じ込め構造ＩＨの下面４０に設けられることを示している。しかしながら必ずしもこの限りではなく、回収ポート７３は下面４０の上、又は下面４０から突出して設けられても良い。

[0065] 回収ポート７３の半径方向内側に向かうメニスカスピン止め機構は存在しない場合がある。回収ポート７３の半径方向外側に向かう他のコンポーネント又はメニスカスピン止め機構は存在しない場合がある。したがって図２の液体閉じ込めシステムと比較して、気体入口１５又は等価物が存在せず、出口１４は各々が例えば加圧源に接続された幾つかの離散回収ポート７３に分割されている。メニスカス９０は、気体流れ１００によって回収ポート７３内に誘導される抗力を用いて、回収ポート７３間でピン止めされる。気体抗力速度は約１５ｍ／ｓより大きいこと、望ましくは２０ｍ／ｓで十分である。気体ナイフの必要性を回避することにより、基板からの液体の蒸発量が削減され、それによって液体の飛散並びに熱膨張／収縮効果が削減される。しかしながら、本発明の実施形態は例示された構造に限定されないため、さらなるメニスカスピン止め機構が回収ポート７３の半径方向内側及び／又は半径方向外側に向かって存在することが可能である。

[0066] 図５は、さらなる実施形態に従った、さらなる液体供給システム又は流体ハンドリングシステムを示す側断面図である。図５に示され下記で説明する構成は、上記で説明され図１に示されるリソグラフィ装置に適用可能である。液体供給システムには、投影システムＰＳの最終要素と基板テーブルＷＴ又は基板Ｗとの間の空間１１の境界の少なくとも一部に沿って延在する、液体閉じ込め構造ＩＨが提供される。（以下の文章で、基板Ｗの表面への言及は、明示的に述べられていない限り、追加して又は代替として、基板テーブルＷＴの表面も指していることに留意されたい。）

[0067] 液体閉じ込め構造ＩＨは少なくとも部分的に、投影システムＰＳの最終要素と基板Ｗとの間の空間１１内に液体を含む。空間１１は、投影システムＰＳの最終要素の下及びその周囲に位置決めされた、液体閉じ込め構造ＩＨによって、少なくとも部分的に形成される。実施形態において、液体閉じ込め構造ＩＨは、主本体部材５３及び多孔質部材８３を備える。多孔質部材８３は板状であり、複数の穴（すなわち開口部又は細孔）を有する。実施形態において、多孔質部材８３はメッシュ板であり、多数の小さい穴８４がメッシュ状に形成されている。こうしたシステムは米国特許出願公開第ＵＳ２０１０／００４５９４９Ａ１号に開示されており、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。

[0068] 主本体部材５３は、液体を空間１１に供給できる供給ポート７２と、液体を空間１１から回収できる回収ポート７３とを備える。供給ポート７２は、通路７４を介して液体供給装置７５に接続される。液体供給装置７５は、液体を供給ポート７２に供給することができる。液体供給装置７５から送られた液体は、対応する通路７４を介して各々の供給ポート７２に供給される。供給ポート７２は、光路に対面する主本体部材５３の指示された位置で、光路付近に配設される。回収ポート７３は、空間１１から液体を回収することができる。回収ポート７３は、通路７９を介して液体回収装置８０に接続される。液体回収装置８０は真空システムを備え、回収ポート７３を介して液体を吸引することによって、液体を回収することができる。液体回収装置８０は、通路７９を介して、回収ポート７３を介して回収された液体ＬＱを回収する。多孔質部材８３は回収ポート７３内に配設される。

[0069] 実施形態において、投影システムＰＳと一方の側の液体閉じ込め構造ＩＨ及び他方の側の基板Ｗとの間に液体を伴う、空間１１を形成するために、供給ポート７２から空間１１へと液体が供給され、液体閉じ込め構造ＩＨ内の回収チャンバ８１内の圧力が、多孔質部材８３の穴８４（すなわち回収ポート７３）を介して液体を回収するように、負圧に調節される。供給ポート７２を使用する液体供給動作及び多孔質部材８３を使用する液体回収動作を実行することで、投影システムＰＳと一方の側の液体閉じ込め構造ＩＨ及び他方の側の基板Ｗとの間に液体を伴う空間１１を形成する。

[0070] 次に、流体ハンドリング構造の実施形態を説明する。流体ハンドリング構造は、液浸リソグラフィ装置で使用するために構成することができる。流体ハンドリング構造は、液浸リソグラフィ装置の一部を形成することができる。液浸リソグラフィ装置は、図１を参照しながら上記で説明したように構成することができる。流体ハンドリング構造は、上記で説明し図２又は図５に示したように、流体供給システム又は液体供給システムの一部を形成するか、これらを構成することができる。流体ハンドリング構造は、局所域液体供給システム内の流体閉じ込め構造の一部を形成するか、又はこれらを備えるか、又はこれらを構成することができる。流体ハンドリング構造は、上記で説明し図３及び図４に示したようなメニスカスピン止めシステムを備えることができる。

[0071] 実施形態において、投影システムＰＳの最終要素と反対面との間の空間に液浸流体を提供するように構成された、流体ハンドリング構造が提供される。反対面は、投影システムＰＳの最終要素に対して移動可能とすることができる。流体ハンドリング構造は、例えば、図２又は図５に示されたような、或いは、図３及び図４に示されたようなメニスカスピン止めシステムを備える、液体供給システムの一部を形成することができる。投影システムＰＳの最終要素と反対面との間の空間は、図２、図３、図４、又は図５を参照しながら上記で説明したように、投影システムＰＳの最終要素と基板Ｗとの間の空間１１に対応することができる。基板Ｗの上面は、投影システムＰＳの最終要素に対して移動可能な反対面の例である。基板テーブルＷＴの上面は、投影システムＰＳの最終要素に対して移動可能な反対面の別の例である。

[0072] 実施形態において、流体ハンドリング構造は流体抽出コンジットを備える。流体抽出コンジットは、投影システムＰＳの最終要素と反対面との間の空間１１から使用済み流体を取り去るように構成される。図２の実施形態において、流体抽出コンジットは出口１４に関連付けられたチャネルであってよい。図３及び図４の実施形態において、流体抽出コンジット１０２は、回収ポート７３と加圧状態で保持される共通チャンバとの間で動作するように構成可能である。図５の実施形態において、流体抽出コンジットは、例えば回収ポート７３と液体回収装置８０との間で動作するように構成可能である。回収ポート７３を介して抽出された流体は、流体抽出コンジットを介して液体回収装置８０へと取り去ることができる。

[0073] 図６〜図１３は、実施形態に従った流体抽出コンジット１０２を示す。図６は、第１の軸に沿って見た場合の流体抽出コンジット１０２の概略側断面図である。図７は、第２の軸に沿って見た場合の流体抽出コンジット１０２の概略側断面図である。第１の軸は第２の軸に対して垂直である。この実施形態において、及び他の実施形態において、流体抽出コンジット１０２は回収ポート７３を備える。回収ポート７３は、使用済み流体をコンジット１０２内に受け取るように構成される（矢印１０６）。この実施形態において、及び他の実施形態において、複数のフローブレーカ１０８が提供される。フローブレーカ１０８の各々は、コンジット１０２の少なくとも一部を横切って延在する。フローブレーカ１０８は回収ポート７３の下流に位置決めされる。この実施形態において、及び他の実施形態において、フローブレーカ１０８は、共通面が２つ又はそれ以上のフローブレーカ１０８の少なくとも一部を通過するように構成される。共通面は、共通面の位置にあるコンジット１０２内で、使用中、流れの平均方向に垂直になるように位置合わせされる。第１の実施形態において、複数のフローブレーカ１０８は、３セットのフローブレーカ１０８を含む。フローブレーカ１０８の各セットが複数のフローブレーカ１０８を含む。第１セットのフローブレーカ１０８は、第１の共通面１１０が、第１セット内のあらゆるフローブレーカ１０８の少なくとも一部を通過するように構成される。図６及び図７において、第１セット内のフローブレーカ１０８は上列内のフローブレーカ１０８である。この実施形態において、第２セットのフローブレーカ１０８は、第２の共通面１１２が、第２セット内のあらゆるフローブレーカ１０８の少なくとも一部を通過するように構成される。図６及び図７において、第２セット内のフローブレーカ１０８は中列内のフローブレーカ１０８である。この実施形態において、第３セットのフローブレーカ１０８は、第３の共通面１１４が、第３セット内のあらゆるフローブレーカ１１４の少なくとも一部を通過するように構成される。図６及び図７において、第３セット内のフローブレーカ１０８は下列内のフローブレーカ１０８である。

[0074] 図６及び図７の配向において、フローブレーカ１０８が配置されている領域内の流れの平均方向は垂直に上向きである。第１の共通面１１０、第２の共通面１１２、及び第３の共通面１１４は、すべて流れの平均方向に対して垂直であるため、この例では水平である。

[0075] 図６及び図７の実施形態において、及び他の実施形態において、フローブレーカ１０８は円筒形を有する。円筒形を有するフローブレーカ１０８は容易に製造可能であり、相対的に抗力が低い。フローブレーカ１０８は、図１６から図１８を参照しながら以下で詳細に論じるように他の形を有することができる。

[0076] 図８から図１３は、フローブレーカ１０８の位置での流れの平均方向に沿って見た（すなわち、図６及び図７の配向において垂直に下向き）、図６及び図７の実施形態に適合可能な例示的フローブレーカ１０８の概略断面図である。図８及び図９は第１の共通面１１０の位置での断面である。図１０及び図１１は第２の共通面１１２の位置での断面である。図１２及び図１３は第３の共通面１１４の位置での断面である。図６及び図７と一致して、第１の共通面１１０及び第３の共通面１１４は３つのフローブレーカ１０８を通過することがわかる。第２の共通面１１２は４つのフローブレーカ１０８を通過する。

[0077] 実施形態において、流体抽出コンジット１０２は周壁１１６を備える。周壁１１６は、流体抽出コンジット１０２内の周囲に流体を含むように構成される。流体を周囲に含むことは、流体抽出コンジット１０２内の平均流れ方向に垂直な方向に流体を含むことを含み得る（すなわち、流体が、流体抽出コンジット１０２から平均流れ方向に垂直な１つ以上の方向に逃れるのを防ぐ）。例えば、流体抽出コンジット１０２が円筒形である場合、周壁は半径方向の流体を含み得る。実施形態において、複数のフローブレーカ１０８は、周壁１１６から内側に突出し得る。代替又は追加として、複数のフローブレーカ１０８は、周壁１１６上の１つの領域から周壁１１６上の別の領域へ、流体抽出コンジット１０２を横切って渡され得る。

[0078] 図６〜図１３を参照しながら論じる実施形態は、周壁１１６から内側に突出する複数のフローブレーカ１０８が提供される例である。これらの実施形態において、フローブレーカ１０８は同じく、周壁１１６の１つの領域１０１から別の領域１０３へ流体抽出コンジット１０２を横切って渡される（領域１０１及び１０３の例がマーク付けされた図７及び図８を参照のこと）。フローブレーカ１０８にとって、同じく流体抽出コンジット１０２を横切って渡されるように内側に突出することは不可欠ではない。図２４は、複数のフローブレーカ１０８が内側に突出するが、流体抽出コンジット１０２を横切って渡されることはない、例示的な流体抽出コンジット１０２を示す。フローブレーカ１０８の先端１０７と対面する周壁１１６の内面との間にはギャップ１０５が存在する。

[0079] このように内側に突出する複数のフローブレーカ１０８を提供することで、流れの不安定性のために利用可能な空間が減少する。流れの不安定性のために利用可能な空間が減少することで、流れの不安定性の最大サイズが減少する。大規模な流れの不安定性（流れの変動と呼ばれることもある）は、複数の小規模な流れの不安定性に分割される。小規模な流れの不安定性に含まれるエネルギーは相対的に小さい。さらに、複数の小規模な流れの不安定性は、互いに打ち消し合うことができる。したがってリソグラフィ装置の性能は、流れの不安定性にそれほど悪影響を与えない可能性がある。

[0080] 実施形態において、フローブレーカ１０８のうちの少なくとも１つは離散要素である。このタイプの実施形態において、フローブレーカ１０８と任意の他のフローブレーカ１０８との間の接続のみを、周壁１１６を介して行うことができる。図６〜図１３におけるすべてのフローブレーカ１０８は、この意味で離散要素であるフローブレーカ１０８の例である。図８に概略的に示されるように、例示のフローブレーカ１０８Ａは（経路１０９を介して）周壁１１６のみを介してフローブレーカ１０８Ｂに接続される。

[0081] フローブレーカ１０８を離散要素として形成することによって、ダメージを与える流れの不安定性を低減させること（望ましい）と、流れの抵抗を過度に上昇させること（望ましくない）との間に、最適なバランスを提供することをより容易にする。フローブレーカ１０８の数を増加することで、異なるフローブレーカ１０８間の平均的な距離が短くなる傾向にある。異なるフローブレーカ１０８間の平均的な距離が短くなることで、流れの不安定性の平均サイズが減少する傾向にある。平均サイズの小さな流れの不安定性は、より大きな流れの不安定性よりもリソグラフィ性能に与えるダメージが少ない傾向にある。しかしながら、フローブレーカ１０８の数を増加させることは、流れの抵抗を上昇させる傾向もある。実施形態において、フローブレーカ１０８の数及び／又は形状は、納得のいくバランスを達成するように選択される。納得のいくバランスは、最小抗力を適用するフローブレーカ１０８のセットを使用して、流れの不安定性の長さスケールを限界長さスケールよりも圧倒的又は完全に下に維持することを含む。限界長さスケールは、それを超えると、流れの不安定性から生じる振動がリソグラフィ装置の性能に所定量のダメージを与えることが知られている、長さスケールとすることができる。

[0082] 他の実施形態において、複数のフローブレーカ１０８のうちの２つ又はそれ以上を互いに直接（すなわち、周壁１１６を介さずに）接続することができる。実施形態において、すべてのフローブレーカ１０８が互いに直接接続される。２つの異なるフローブレーカ１０８間の接続は、分岐点１１１と呼ばれることもある。分岐点１１１を介して互いに接続された複数のフローブレーカ１０８を含む流体抽出コンジットの例が、図２３に示されている。例示のフローブレーカ１０８Ａ、１０８Ｂ、１０８Ｃ、及び１０８Ｄは、単一の分岐点１１１によって互いに接続される。したがって、フローブレーカ１０８Ａは、分岐点１１１でフローブレーカ１０８Ｂ、フローブレーカ１０８Ｃ、及びフローブレーカ１０８Ｄに分岐する。分岐点１１１を介して互いに接続されたフローブレーカ１０８を提供することで、フローブレーカ１０８の取り付けを容易にすることができる。追加又は代替として、このように互いに接続されたフローブレーカ１０８を提供することで、（非平行方向に延在するフローブレーカを提供することによって）共通面１１０、１１２、１１４内で複数の方向の流れの不安定性のために利用可能な空間の削減を望ましく容易にすることができる。これは、互いに同一平面内にあり且つ平行な複数のフローブレーカ１０８の代替ケースと比較することによって理解できる。ここで、フローブレーカ１０８の平面内での流れの不安定性のために利用可能な空間は、フローブレーカ１０８に垂直な方向が（フローブレーカ１０８間の距離によって）制限される一方で、フローブレーカ１０８の平面内での流れの不安定性のために利用可能な空間は、フローブレーカ１０８に平行方向はそれほど（又はまったく）制限されない。複数のフローブレーカ１０８に平行な方向はより少ないか又は存在しないため、非平行方向に延在するフローブレーカ１０８を提供することは、流れの不安定性のための空間をより多くの方向で制限する。

[0083] 流れに垂直な共通面１１０、１１２、１１４内に（すなわち、共通面１１０、１１２、１１４が通過する）複数のフローブレーカ１０８を提供することで、流れの不安定性をコンパクトな方法で効果的に抑制することができる。こうした構成のフローブレーカ１０８は、流れ方向（すなわち、共通面１１０、１１２、１１４内の方向）に垂直な方向の流れの不安定性のために利用可能な空間を減少させるのに効果的である。フローブレーカ１０８は、フローブレーカ１０８の伸長軸（細長いフローブレーカの場合）又は回転対称軸（回転対称なフローブレーカの場合）に垂直な方向の流れの不安定性のために利用可能な空間を減少させるのに、特に効果的である。回転対称軸とは、フローブレーカ１０８がそれを中心として回転対称を有する軸である。したがって回転対称なフローブレーカ１０８は、回転対称軸を中心に３６０°／ｎの角度だけ回転した場合、同じように見え、ｎは２に等しいか又はこれより大きい整数である。整数ｎは回転対称の次数である。例えば、次数２の回転対称を有するフローブレーカ１０８は、対象軸を中心に１８０°回転された場合、同じに見えることになる。

[0084] 実施形態において、複数のフローブレーカ１０８のうちの少なくともサブセット（任意選択ですべて）が細長い。このタイプの実施形態において、細長い複数のフローブレーカ１０８の各々が、関連付けられた伸長軸を有する。任意選択で、細長い複数のフローブレーカ１０８の各々は回転対称であり、関連付けられた回転対称軸を有する。伸長軸又は回転対称軸は、共通面内に存在することができる。図６〜図１３に示される実施形態において、フローブレーカ１０８はすべて細長く回転対称である。フローブレーカ１０８は円筒形である。伸長軸の各々は回転対称軸（円筒形の縦軸）でもある。

[0085] 図６〜図１３の特定の実施形態では、３つの共通面１１０、１１２、及び１１４が存在する。他の実施形態では、３つより少ないか又は多い共通面が存在する場合がある。第１セットのフローブレーカ１０８では、すべてのフローブレーカ１０８の伸長軸及び回転対称軸が共通面１１０内に存在する。第２セットのフローブレーカでは、すべてのフローブレーカ１０８の伸長軸及び回転対称軸が共通面１１２内に存在する。第３セットのフローブレーカ１０８では、すべてのフローブレーカ１０８の伸長軸及び回転対称軸が共通面１１４内に存在する。

[0086] フローブレーカ１０８を、その伸長軸及び回転対称軸が共通面内に存在するように構成することによって、流れ抵抗を過度に増加させることなく、流れの不安定性が効果的に低減される。さらに、複数のフローブレーカ１０８がコンパクトに維持される。フローブレーカ１０８は、流れの方向に沿って最小限の空間を占有する。さらに、複数のフローブレーカ１０８をより効率的に流体抽出コンジット１０２に取り付けることができる。例えば、流体抽出コンジット１０２の長さに沿って、１か所に提供された取り付け要素（図示せず）を使用して、取り付け要素の位置にある共通面内に取り付けられるすべてのフローブレーカ１０８を取り付けることができる。

[0087] 複数の共通面１１０、１１２、１１４を、（図６〜図１３の実施形態のように）流体抽出コンジット１０２に沿って複数の位置に提供することで、平均流れ方向に平行な（すなわち、共通面１１０、１１２、１１４に垂直な）方向の流れの不安定性のために利用可能な空間を減少させることによって、流れの不安定性がさらに低減される。

[0088] 実施形態において、フローブレーカ１０８の少なくともサブセットは、互いに規則的に間隔を空けて（すなわち、フローブレーカ１０８の異なる隣接ペア間にほぼ同じ間隔を空けて）配置される。例えば図６〜図１３の特定の実施形態において、第１セットのフローブレーカ１０８内のすべてのフローブレーカ１０８は、互いに規則的に間隔を空けて配置される。第２セットのフローブレーカ１０８内のすべてのフローブレーカ１０８は、互いに規則的に間隔を空けて配置される。第３セットのフローブレーカ１０８内のすべてのフローブレーカ１０８は、互いに規則的に間隔を空けて配置される。規則的に間隔を空けてフローブレーカ１０８を配置することで、ダメージを与える流れの不安定性を低減させることと、フローブレーカ１０８によって生じる流れ抵抗のいかなる上昇をも最小限にすることとの間に、効果的なバランスが提供される。実施形態において、１つの共通面内のフローブレーカ１０８を、少なくとも１つの隣接する共通面内のフローブレーカ１０８に対してシフトさせることができる。例えばフローブレーカ１０８は、１つの共通面内の各フローブレーカ１０８を、少なくとも１つの隣接する共通面内のフローブレーカ１０８間のギャップに対面するように（例えば図６及び図７に示されるように）シフトさせることができる。

[0089] 実施形態において、流体抽出コンジット１０２は多孔質部材８３を備える。多孔質部材８３は、フローブレーカ１０８より上流の位置で流体抽出コンジット１０２に渡されることができる。図６〜図１３の実施形態は、例えばこうした多孔質部材８３を備える。しかしながら、多孔質部材８３は図６〜図１３の実施形態から省略してもよい。多孔質部材８３は他の実施形態から省略してもよい。多孔質部材８３は、流体抽出コンジット１０２内の流れの不安定性によって生じる空間１１内の液浸流体の乱れを、防止するか又は減少させることができる。

[0090] 上記で論じた実施形態において、フローブレーカ１０８は円形の断面形状を有し得る。これは不可欠ではない。他の実施形態において、フローブレーカ１０８は他の断面形状を有し得る。例えばフローブレーカ１０８は、任意選択で、フローブレーカ１０８の位置での平均流れ方向に平行な伸長軸を備える、細長い断面を有し得る。伸長軸は、それに沿ってフローブレーカ１０８の断面が最も長い軸である。したがって、伸長軸がフローブレーカ１０８の位置での平均流れ方向に平行な場合、フローブレーカ１０８は平均流れ方向に沿って細長いことになる。フローブレーカ１０８はなだらかな断面（例えば、円形又は楕円形）を有し得る。代替又は追加として、フローブレーカ１０８は粗い部分を有するか、又は隆起などの構造を有し得る。フローブレーカ１０８は多角形の断面を有し得る。フローブレーカ１０８の断面の非限定的な（例えば、フローブレーカ１０８の伸長軸又は回転対称軸に沿って見た）例が、図１６〜図１８に概略的に示されている。図示された例において、フローブレーカ１０８は次数２の回転対称を有するが、これは不可欠ではない。フローブレーカ１０８を通過する流れの平均方向が、矢印２０６によってマーク付けされている。フローブレーカ１０８の断面形状の選択は、製造の容易さ、及び／又はフローブレーカ１０８が流れに適用する結果として生じる抗力に依存し得る。したがって多くの場合、円柱又は他のなだらかな断面が好まれる。

[0091] 図６〜図１３の実施形態において、フローブレーカ１０８はすべて、フローブレーカ１０８を通過する流れの平均方向に垂直に位置合わせされる。これは不可欠ではない。他の実施形態において、フローブレーカ１０８は、フローブレーカ１０８を通過する流れの平均方向に対して斜角で傾斜し得る。こうした実施形態の例が、図１４及び図１５に示されている。ここでは、図６〜図１３の実施形態と同様に３セットのフローブレーカ１０８が提供されている。各セットのフローブレーカ１０８を、異なる共通面１１０、１１２、１１４が通過している。図６〜図１３の実施形態とは対照的に、フローブレーカ１０８は、共通面内に存在する伸長軸又は回転対称軸を有さない。伸長軸及び回転対称軸は、共通面１１０、１１２、１１４に対して斜角で傾斜する。

[0092] 実施形態において、１つ以上のフローブレーカ１０８を周壁１１６と一体に形成することができる。こうした実施形態において、周壁１１６と、周壁１１６と一体に形成されるフローブレーカ１０８との間には、接触面が存在しない場合がある。こうした実施形態において、周壁１１６と一体に形成されるフローブレーカ１０８は、周壁１１６と同じ材料で形成可能である。周壁１１６と一体に形成されるフローブレーカ１０８の例は、例えば図９、図１１、及び図１３に示されている。代替又は追加として、１つ以上のフローブレーカ１０８を周壁１１６と非一体に形成することができる。周壁１１６と非一体に形成されるフローブレーカ１１６は、周壁１１６に接着させるか、又は他の固定方法を使用して周壁１１６に取り付けることができる。周壁１１６と非一体に形成されるフローブレーカ１０８の例は、図８、図１０、及び図１２に示されている。

[0093] 実施形態において、少なくとも１つのフローブレーカ１０８は、渦がフローブレーカ１０８から離脱するのを抑制するように構成された表面構造を備える。渦の離脱は、流体の流れの中にある物体の下流側に作られる渦が、定期的に物体から切り離される場合に生じる。フローブレーカ１０８からのこうした定期的な渦の分離によって、フローブレーカ１０８に振動が伝わる可能性がある。フローブレーカ１０８に伝わった振動がリソグラフィ装置の他のコンポーネントに伝わり、性能に悪影響を及ぼす可能性がある。渦の離脱を抑制する表面構造を提供することで振動の伝達を減少させ、それによって性能を向上させることができる。

[0094] 実施形態において、表面構造を有する少なくとも１つのフローブレーカ１０８は伸長軸又は回転対称軸を有し、表面構造は、表面構造の伸長軸又は回転対称軸に対して斜めに配向された隆起を備える。こうした表面構造を有するフローブレーカ１０８の例は、図１９に示されている。伸長軸は１２４とマーク付けされ、隆起は１２０とマーク付けされている。隆起１２０と伸長軸１２４との間の斜角は、１２２とマーク付けされている。

[0095] 実施形態において、表面構造は、フローブレーカ１０８の少なくとも一部の周囲に巻き付いているらせんの一部である。図１９の実施形態はこのタイプの例である。

[0096] 実施形態において、表面構造はフローブレーカ１０８の周囲に巻き付けられた細長い要素を含み、細長い要素はフローブレーカ１０８と非一体であるか又は一体である。図１９の隆起１２０はこのように形成され得る。

[0097] 実施形態において、図２０〜図２２の非限定的な例に示されるように、流体抽出コンジット１０２は、回収ポート７３より下流に第１の長さのコンジット１２６を備える。流体抽出コンジット１０２は、第１の長さのコンジット１２６より下流に第２の長さのコンジット１２８をさらに備えることができる。第２の長さのコンジット１２８は複数のフローブレーカ１０８を備える。複数のフローブレーカ１０８は、例えば上記で論じた実施形態のうちの任意の１つ以上に従って構成可能である。平均流れ方向に垂直な少なくとも１つの方向で見た場合、第１の長さのコンジット１２６は細長い。第１の長さのコンジット１２６内のすべての位置での平均流れ方向に垂直なコンジットの断面積は、第１の長さのコンジット１２６の上流端でのコンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい。このように、第１の長さのコンジット１２６には、フローブレーカ１０８が、特に上記で論じた実施形態のいずれかに従ったフローブレーカ１０８がまったくない。例えば実施形態において、第１の長さのコンジット１２６は、周壁１１６から内側に突出するか、又は周壁１１６上の１つの領域から周壁１１６上の別の領域へと流体抽出コンジット１０２を横切って渡される、いずれのフローブレーカ１０８も含まない。

[0098] 少なくともフローブレーカのない第１の長さのコンジット１２６の分だけ回収ポート７３から離れた第２の長さのコンジット１２８内に、フローブレーカ１０８を提供することによって、流体抽出コンジット１０２内のダメージを与える流れの不安定性を効率的に抑制することと、フローブレーカ１０８によって生じる流れ抵抗の上昇などのいかなる悪影響をも最小限にすることとの間に、効果的なバランスが提供される。

[0099] 例えば図２０及び図２１に示されるような実施形態において、第１の長さのコンジット１２６は回収ポート７３のすぐ下流に提供される。このタイプの実施形態において、第１の長さのコンジット１２６内のすべての位置での平均流れ方向に垂直なコンジットの断面積は、回収ポート７３よりすぐ下流のコンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい。図２２に示されるような他の実施形態において、第１の長さのコンジット１２６は回収ポート７３のすぐ下流ではない位置に提供される。こうした実施形態において、回収ポート７３と第１の長さのコンジット１２６との間にさらなる長さのコンジット１３０が提供される。図２２の実施形態において、さらなる長さのコンジット１３０は、断面が下流方向に減少するじょうご型である。したがって、さらなる長さのコンジット１３０の断面積が、さらなる長さのコンジット１３０の上流端でのさらなる長さのコンジット１３０の断面積に等しくないか又はこれより大きくないため、さらなる長さのコンジット１３０を第１の長さのコンジット１２６の範囲内に入れることはできない。代替又は追加として、フローブレーカ１０８はコンジット内の断面積を減少させる効果を有するため、大量のフローブレーカ１０８を備える長さのコンジットは第１の長さのコンジット１３０の範囲内に入らない。

[00100] 上記の実施形態は、使用済み流体が、例えば気体と液体の混合物を含む多相流である場合、特に効果的である。液体は液浸液であってよい。多相流は、特に、ダメージを与える振動をリソグラフィ装置の他の部分に伝える可能性がある流れの不安定性を起こしやすい。したがって、こうした流れの不安定性のために利用可能な空間の制約は、リソグラフィ装置の性能を向上させるために特に効果的である。

[00101] 本書ではリソグラフィ装置をＩＣの製造に使用することについて特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置は、集積光学システムの製造、磁気ドメインメモリに関するパターンのガイダンス及び検出、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの、他の適用例を有することを理解されたい。当業者であれば、こうした代替適用例との関連において、本明細書における「ウェーハ」又は「ダイ」という用語の使用は、それぞれ「基板」又は「ターゲット部分」というより一般的な用語と同義であると見なされ得ることを理解されよう。本明細書で言及される基板は、例えばトラック（典型的には、レジストの層を基板に適用し、露光レジストを現像するツール）、計測ツール、及び／又は検査ツールで、露光の前又は後に処理され得る。適用可能であれば、本明細書の開示はこうした、且つ他の基板処理ツールに適用可能である。さらに基板は、例えば多層ＩＣを作成するために複数回処理可能であるため、本明細書で使用される基板という用語は、すでに複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。

[00102] 本明細書で使用される「放射」及び「ビーム」という用語は、（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍの、或いは約３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍの波長を有する）紫外（ＵＶ）放射、及び（例えば、５〜２０ｎｍの範囲内の波長を有する）極端紫外（ＥＵＶ）放射、並びに、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含む、すべてのタイプの電磁放射を包含する。

[00103] 「レンズ」という用語は、文脈が許せば、屈折型、反射型、磁気型、電磁型、及び静電型の光学コンポーネントを含む、様々なタイプの光学コンポーネントのうちのいずれか１つ又はそれらの組み合わせを指すことができる。

[00104] 本発明の特定の実施形態について上記で説明してきたが、本発明は説明した以外の方法で実施可能であることが明らかとなろう。上記の説明は、限定的ではなく例示的であるものと意図される。したがって当業者であれば、以下に示される特許請求の範囲から逸脱することなく、説明した本発明に対する改変が可能であることが明らかとなろう。

Claims (15)

1. 液浸リソグラフィ装置内で使用するための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造は、投影システムの最終要素と前記投影システムの前記最終要素に対して移動可能な反対面との間の空間に液浸流体を提供するように構成され、前記流体ハンドリング構造は、
   前記空間から使用済み流体を取り去るように構成された流体抽出コンジット、
   を備え、
   前記流体抽出コンジットは、前記使用済み流体を前記コンジット内に受け入れるように構成された回収ポートと、各々が前記コンジットの少なくとも一部を横切って延在する複数のフローブレーカとを備え、
   前記フローブレーカは、前記回収ポートの下流に位置決めされ、
   前記フローブレーカは、共通面が２つ又はそれ以上の前記フローブレーカの少なくとも一部を通過するように配置され、
   前記共通面は、前記共通面の位置にある前記コンジット内で、使用中、流れの平均方向に垂直になるように位置合わせされる、
   流体ハンドリング構造。
2. 前記流体抽出コンジットは、前記コンジット内の周囲に前記流体を含むように構成された周壁を備え、前記フローブレーカは、前記周壁から内側に突出するか、又は前記周壁上の１つの領域から前記周壁上の別の領域へと前記コンジットを横切って渡され、
   前記フローブレーカのうちの少なくとも１つは、前記フローブレーカと任意の他の前記フローブレーカとの間の接続のみが前記周壁を介して行われる、離散要素である、
   請求項１に記載の構造。
3. 前記複数のフローブレーカのうちの少なくともサブセットは細長く、関連付けられた伸長軸を有するか、又は、回転対称であり、関連付けられた回転対称軸を有し、前記伸長軸又は前記回転対称軸は前記共通面内に存在する、請求項１又は２に記載の構造。
4. 前記フローブレーカのうちの少なくともサブセットは、互いに規則的に間隔を空けて配置される、請求項１から３のいずれか一項に記載の構造。
5. 前記流体抽出コンジットは、前記フローブレーカより上流の位置で前記流体抽出コンジットに渡される多孔質部材を備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の構造。
6. 少なくとも１つの前記フローブレーカは、渦が前記フローブレーカから離脱するのを抑制するように構成された表面構造を備える、請求項１から５のいずれか一項に記載の構造。
7. 前記表面構造を有する前記少なくとも１つのフローブレーカは伸長軸又は回転対称軸を有し、前記表面構造は、前記表面構造の前記伸長軸又は前記回転対称軸に対して斜めに配向された隆起を備える、請求項６に記載の構造。
8. 前記表面構造は、前記フローブレーカの少なくとも一部の周囲に巻き付いているらせんの一部である、請求項６又は７に記載の構造。
9. 前記表面構造は、前記フローブレーカの周囲に巻き付けられた細長い要素を備え、前記細長い要素は前記フローブレーカと非一体であるか又は一体である、請求項６から８のいずれか一項に記載の構造。
10. 前記液浸流体は液浸液を含み、前記使用済み流体は前記液浸液と気体との混合物を含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の構造。
11. 前記流体抽出コンジットは、前記回収ポートより下流の第１の長さのコンジット、及び前記第１の長さのコンジットより下流の第２の長さのコンジットを備え、
    前記第２の長さのコンジットは前記複数のフローブレーカを備え、
    前記第１の長さのコンジットは、前記平均流れ方向に垂直な少なくとも１方向に見ると細長く、
    前記第１の長さのコンジット内のすべての位置で、前記平均流れ方向に垂直な前記コンジットの断面積は、前記第１の長さのコンジットの上流端での前記コンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい、
    請求項１から１０のいずれか一項に記載の流体ハンドリング構造。
12. 液浸リソグラフィ装置内で使用するための流体ハンドリング構造であって、前記流体ハンドリング構造は、投影システムの最終要素と前記投影システムの前記最終要素に対して移動可能な反対面との間の空間に液浸流体を提供するように構成され、前記流体ハンドリング構造は、
    前記空間から使用済み流体を取り去るように構成された流体抽出コンジット、
    を備え、
    前記流体抽出コンジットは、前記流体を前記コンジット内に受け入れるように構成された回収ポートと、前記回収ポートより下流の第１の長さのコンジットと、前記第１の長さのコンジットより下流の第２の長さのコンジットとを備え
    前記第２の長さのコンジットは前記コンジットの少なくとも一部を横切って延在するフローブレーカを備え、
    前記第１の長さのコンジットは、平均流れ方向に垂直な少なくとも１方向に見ると細長く、
    前記第１の長さのコンジット内のすべての位置で、前記平均流れ方向に垂直な前記コンジットの断面積は、前記第１の長さのコンジットの上流端での前記コンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい、
    流体ハンドリング構造。
13. 基板を支持するように構成された支持体と、
    パターンが付与された放射ビームを前記基板に投影するように構成された投影システムと、
    反対面が前記基板、前記支持体、又はその両方である、請求項１から１２のいずれか一項に記載の流体ハンドリング構造と、
    を備える、液浸リソグラフィ装置。
14. 液浸流体を介してパターンが付与された放射ビームを基板に投影するために投影システムを使用すること、
    前記投影システムの最終要素と前記基板又は前記基板を支持している支持体との間の空間に、前記液浸流体を提供すること、及び、
    前記空間から使用済み流体を取り去るために流体抽出コンジットを使用すること、
    を含む、デバイス製造方法であって、
    前記流体抽出コンジットは、前記使用済み流体を前記コンジット内に受け入れるように構成された回収ポートと、各々が前記コンジットの少なくとも一部を横切って延在する複数のフローブレーカとを備え、
    前記フローブレーカは、前記回収ポートの下流に位置決めされ、
    前記フローブレーカは、共通面が２つ又はそれ以上の前記フローブレーカの少なくとも一部を通過するように配置され、
    前記共通面は、前記共通面の位置にある前記コンジット内で、流れの平均方向に垂直になるように位置合わせされる、
    デバイス製造方法。
15. 液浸流体を介してパターンが付与された放射ビームを基板に投影するために投影システムを使用すること、
    前記投影システムの最終要素と前記基板又は前記基板を支持している支持体との間の空間に、前記液浸流体を提供すること、及び、
    前記空間から使用済み流体を取り去るために流体抽出コンジットを使用すること、
    を含む、デバイス製造方法であって、
    前記流体抽出コンジットは、前記流体を前記コンジット内に受け入れるように構成された回収ポート、前記回収ポートより下流の第１の長さのコンジット、及び前記第１の長さのコンジットより下流の第２の長さのコンジットを備え、
    前記第２の長さのコンジットは、前記コンジットの少なくとも一部を横切って延在するフローブレーカを備え、
    前記第１の長さのコンジットは、平均流れ方向に垂直な少なくとも１方向に見ると細長く、
    前記第１の長さのコンジット内のすべての位置で、前記平均流れ方向に垂直な前記コンジットの断面積は、前記第１の長さのコンジットの上流端での前記コンジットの断面積に等しいか又はこれより大きい、
    デバイス製造方法。