JP2019066842A

JP2019066842A - Liquid crystal panel and method for manufacturing liquid crystal panel

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Publication number: JP2019066842A
Application number: JP2018178918A
Authority: JP
Inventors: 浩幸森田; Hiroyuki Morita; 昌司志摩; Masashi Shima; 賢人土屋; Kento Tsuchiya
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2017-10-02
Filing date: 2018-09-25
Publication date: 2019-04-25
Anticipated expiration: 2038-09-25
Also published as: JP7147413B2; CN209433151U

Abstract

To provide a liquid crystal panel and a method for manufacturing a liquid crystal panel capable of preventing reflection and suppressing reduction in glossiness.SOLUTION: The liquid crystal panel includes a display part 2 formed in a portion of a substrate and having light-transmitting property, a peripheral part 4 forming an outer peripheral portion of the display part 2 on the substrate in a plan view, and an opening 6 penetrating the peripheral part 4 in a thickness direction of the substrate. An antiglare treatment is applied to the portion forming the display part 2 on one surface of the substrate; an embossing process using a UV-curing resin is performed in the portion forming the peripheral part 4 on one surface of the substrate; and a chamfered portion on an inner wall side is formed from a UV curing resin in a portion where the one surface of the substrate is connected to the inner part of the opening 6.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、例えば、カーナビゲーションシステムに用いる液晶パネルと、液晶パネルの製造方法に関する。 The present invention relates to, for example, a liquid crystal panel used in a car navigation system, and a method of manufacturing the liquid crystal panel.

カーナビゲーションシステムに用いる液晶パネルには、車室内外に存在する物の像が映って画面が見にくくなることの防止、すなわち、映り込みの防止が要求される。
映り込みを防止するための技術としては、例えば、特許文献１に記載されているように、液晶パネルを形成する透明な基板の全面に、アンチグレア層を形成する技術がある。 The liquid crystal panel used in the car navigation system is required to prevent the image from being obscured by an image of an object present inside the vehicle interior, that is, to prevent the reflection.
As a technique for preventing reflection, for example, as described in Patent Document 1, there is a technique of forming an anti-glare layer on the entire surface of a transparent substrate forming a liquid crystal panel.

特開２００２−１９６１１６号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-196116

特許文献１に記載されている技術のように、透明な基板の全面にアンチグレア層を形成すると、液晶パネルの全体がマット調となり、画像の表示部以外の部分（例えば、スイッチ等を配置する部分）の光沢度が低下するという問題点がある。
本発明は、上記のような問題点に着目してなされたもので、映り込みを防止することが可能であるとともに、光沢度の低下を抑制することが可能な、液晶パネル及び液晶パネルの製造方法を提供することを目的とする。 When an antiglare layer is formed on the entire surface of a transparent substrate as in the technique described in Patent Document 1, the entire liquid crystal panel has a matte tone, and portions other than the display portion of the image (for example, portions where switches etc. are arranged) There is a problem that the glossiness of) is lowered.
The present invention has been made focusing on the above problems, and it is possible to prevent glare and to suppress the decrease in glossiness, and to manufacture a liquid crystal panel and a liquid crystal panel. Intended to provide a method.

上記課題を解決するために、本発明の一態様は、基板の一部に形成され、且つ光透過性を有する表示部と、基板のうち平面視で表示部よりも外周側の部分を形成する外周部と、外周部を基板の厚さ方向に貫通する開口部を備える液晶パネルである。基板の一方の面のうち表示部を形成する部分には、アンチグレア処理が施されている。基板の一方の面のうち外周部を形成する部分には、紫外線硬化性樹脂を用いた型押し加工が施されている。基板の一方の面と開口部の内部が連続する部分には、紫外線硬化性樹脂で形成された内壁側面取り部が形成されている。 In order to solve the above problems, one aspect of the present invention forms a display portion which is formed on a part of a substrate and has light transmittance, and a portion of the substrate which is on the outer peripheral side of the display portion in plan view. It is a liquid crystal panel provided with an outer peripheral part and an opening part which penetrates an outer peripheral part in the thickness direction of a substrate. An anti-glare process is performed on a portion of the one surface of the substrate which forms the display unit. The part which forms an outer peripheral part among one side of a board | substrate is stamped and processed using ultraviolet curable resin. In a portion where one surface of the substrate and the inside of the opening portion are continuous, an inner wall side surface chamfered portion formed of an ultraviolet curable resin is formed.

また、本発明の一態様は、基板の一部に形成され、且つ光透過性を有する表示部と、基板のうち平面視で表示部よりも外周側の部分を形成する外周部と、外周部を基板の厚さ方向に貫通する開口部を備える液晶パネルの製造方法である。液晶パネルの製造方法は、凹部形成工程と、アンチグレア処理工程と、型押し工程と、開口部形成工程を含む。凹部形成工程は、基板のうち開口部を形成する位置に開口部の形状に応じた凹部を形成する工程である。アンチグレア処理工程は、凹部形成工程の後工程であり、基板の一方の面のうち表示部を形成する部分にアンチグレア処理を施す工程である。型押し工程は、アンチグレア処理工程の後工程であり、基板の一方の面のうち外周部を形成する部分に紫外線硬化性樹脂を用いた型押し加工を施す工程である。開口部形成工程は、型押し工程の後工程であり、基板の一方の面と開口部の内部が連続する部分に紫外線硬化性樹脂により内壁側面取り部が形成されるように、凹部を含む基板の一部及び紫外線硬化性樹脂の一部を除去する工程である。 Further, according to one embodiment of the present invention, a display portion which is formed on a part of a substrate and has light transparency, an outer peripheral portion which forms a portion on the outer peripheral side of the display portion in plan view of the substrate, and an outer peripheral portion It is a manufacturing method of a liquid crystal panel provided with the opening which penetrates in the thickness direction of a substrate. The method of manufacturing a liquid crystal panel includes a recess forming step, an antiglare processing step, a embossing step, and an opening forming step. The recess forming step is a step of forming a recess corresponding to the shape of the opening at a position on the substrate where the opening is to be formed. The antiglare treatment step is a step subsequent to the recess formation step, and is a step of performing antiglare treatment on a portion of the one surface of the substrate on which the display portion is to be formed. The embossing process is a process subsequent to the antiglare process, and is a process of performing embossing using a UV curable resin on a portion of the one surface of the substrate which forms the outer peripheral portion. The opening forming step is a step subsequent to the embossing step, and the substrate including the concave portion so that the inner wall side surface chamfered portion is formed of the ultraviolet curable resin in a portion where one surface of the substrate and the inside of the opening are continuous. And a part of the ultraviolet curable resin.

本発明の一態様によれば、映り込みを防止することが可能であるとともに、光沢度の低下を抑制することが可能な、液晶パネル及び液晶パネルの製造方法を提供することが可能となる。 According to one aspect of the present invention, it is possible to provide a liquid crystal panel and a method of manufacturing a liquid crystal panel that can prevent reflection and can suppress a decrease in glossiness.

本発明の第一実施形態の液晶パネルを表す平面図である。It is a top view showing the liquid crystal panel of a first embodiment of the present invention. 図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。It is the II-II sectional view taken on the line of FIG. 外周部に施す型押し加工の説明図である。It is explanatory drawing of the embossing which is given to an outer peripheral part. 液晶パネルの材料となる基板を表す平面図である。It is a top view showing the substrate used as the material of a liquid crystal panel. 凹部形成工程の説明図である。It is explanatory drawing of a recessed part formation process. アンチグレア処理工程の説明図である。It is explanatory drawing of an anti-glare process process. 型押し工程の説明図であり、図６のＶＩＩ−ＶＩＩ線断面図である。It is explanatory drawing of a embossing process, and is a VII-VII sectional view taken on the line of FIG. 塗装工程の説明図である。It is explanatory drawing of a painting process.

以下に、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。以下の説明で参照する図面の記載において、同一または類似の部分には、同一または類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、厚さと平面寸法との関係等は、現実のものとは異なることに留意すべきである。したがって、具体的な厚さや寸法は、以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
さらに、以下に示す実施形態は、本発明の技術的思想を例示するものであって、本発明の技術的思想は、構成部品の材質、形状、構造、配置等を下記のものに特定するものでない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることが可能である。また、以下の説明における「左右」や「上下」の方向は、単に説明の便宜上の定義であって、本発明の技術的思想を限定するものではない。よって、例えば、紙面を９０度回転すれば「左右」と「上下」とが交換され、紙面を１８０度回転すれば「左」が「右」に、「右」が「左」になることは勿論である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the description of the drawings referred to in the following description, the same or similar parts are given the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between thickness and planar dimensions is different from the actual one. Therefore, specific thicknesses and dimensions should be determined in consideration of the following description. Moreover, it is needless to say that parts having different dimensional relationships and ratios are also included among the drawings.
Furthermore, the embodiments shown below illustrate the technical idea of the present invention, and the technical idea of the present invention specifies the material, shape, structure, arrangement and the like of the components as follows. Not The technical idea of the present invention can be modified in various ways within the technical scope defined by the claims. Further, the directions of “left and right” and “upper and lower” in the following description are merely definitions for convenience of description, and do not limit the technical idea of the present invention. Thus, for example, if the paper is rotated 90 degrees, "left and right" and "up and down" are exchanged, and if the paper is rotated 180 degrees, "left" becomes "right" and "right" becomes "left". Of course.

（第一実施形態）
以下、本発明の第一実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
（構成）
図１から図３を参照して、液晶パネル１の構成について説明する。
第一実施形態では、一例として、液晶パネル１を、カーナビゲーションシステムが備え、地図情報等の情報を表示するパネルとした場合について説明する。
図１中に表すように、液晶パネル１は、表示部２と、外周部４と、複数の開口部６を備えている。
表示部２は、液晶パネル１の材料となる基板１０（図２及び図３参照）の一部に形成されている。 First Embodiment
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Constitution)
The configuration of the liquid crystal panel 1 will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
In the first embodiment, as an example, the case where the liquid crystal panel 1 is a panel provided with a car navigation system and displaying information such as map information will be described.
As shown in FIG. 1, the liquid crystal panel 1 includes a display unit 2, an outer peripheral portion 4, and a plurality of openings 6.
The display unit 2 is formed on part of a substrate 10 (see FIGS. 2 and 3) which is a material of the liquid crystal panel 1.

第一実施形態では、一例として、表示部２の構成を、平面視で長方形に形成された構成とした場合について説明する。
なお、「平面視」とは、図１における、液晶パネル１に対する視点であり、液晶パネル１を、液晶パネル１の厚さ方向（板厚方向）から見た視点である。
基板１０は、例えば、ポリカーボネートを材料として形成されている。このため、表示部２は、光透過性を有している。
基板１０の一方の面（第一実施形態では、図１中で紙面に表す面）のうち、表示部２を形成する部分には、アンチグレア処理（ＡＧ処理）が施されている。 In the first embodiment, as an example, a case where the configuration of the display unit 2 is formed in a rectangular shape in plan view will be described.
The “plan view” is a viewpoint with respect to the liquid crystal panel 1 in FIG. 1 and is a viewpoint when the liquid crystal panel 1 is viewed from the thickness direction (plate thickness direction) of the liquid crystal panel 1.
The substrate 10 is made of, for example, polycarbonate. For this reason, the display unit 2 has light transparency.
The anti-glare process (AG process) is given to the part which forms the display part 2 among one side (In 1st embodiment, the surface represented on a paper surface in FIG. 1) of the board | substrate 10.

第一実施形態では、一例として、アンチグレア処理が、ショットブラスト加工を用いて施されている場合について説明する。
ショットブラスト加工の加工条件は、例えば、投射材としてガラスビーズを用い、ガラスビーズの吐出圧を２［ｋｇｆ］とし、ワーク（基板１０）との距離を５０［ｃｍ］に設定する。
外周部４は、基板１０のうち、平面視で表示部２よりも外周側の部分を形成している。 In the first embodiment, as an example, a case where anti-glare processing is performed using shot blasting will be described.
The processing conditions of the shot blasting process are, for example, using glass beads as a shot material, setting the discharge pressure of the glass beads to 2 kgf, and setting the distance to the work (substrate 10) to 50 cm.
The outer peripheral portion 4 forms a portion of the substrate 10 on the outer peripheral side of the display unit 2 in a plan view.

第一実施形態では、一例として、外周部４の構成を、基板１０のうち、平面視で表示部２を包囲している構成とした場合について説明する。
したがって、基板１０は、光透過性を有する表示部２を形成する第一領域と、平面視で第一領域よりも外周側に配置されている表示部２を形成する第二領域とを有している。
また、基板１０の一方の面のうち、外周部４を形成する部分には、紫外線硬化性樹脂（ＵＶ樹脂）を用いた型押し加工が施されている。
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂を主成分とした微黄色透明液体のＵＶ硬化剤を用いる。
なお、型押し加工の説明は、後述する。 In the first embodiment, as an example, the case where the configuration of the outer peripheral portion 4 is configured to surround the display unit 2 in a plan view of the substrate 10 will be described.
Therefore, the substrate 10 has a first region for forming the light transmitting display unit 2 and a second region for forming the display unit 2 disposed on the outer peripheral side of the first region in plan view. ing.
Further, in one of the surfaces of the substrate 10, the portion forming the outer peripheral portion 4 is subjected to embossing using an ultraviolet curable resin (UV resin).
As an ultraviolet curable resin, for example, a UV curable agent of a slightly yellow transparent liquid containing an acrylic resin as a main component is used.
The description of the embossing will be described later.

また、図２中に表すように、基板１０の一方の面１０ａ（図２中では、上側の面）と基板１０の外周面１０ｃが連続する部分には、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲにより外周側面取り部８ｏｕｔが形成されている。
外周側面取り部８ｏｕｔは、基板１０の一方の面１０ａと基板１０の外周面１０ｃとを連続するＲ面取り形状に形成されている。
さらに、基板１０の他方の面１０ｂ（図２中では、下側の面）のうち、外周部４を形成する部分には、遮光性を有する塗料が塗装されている。
遮光性を有する塗料としては、例えば、ウレタン系／２液イソシアネート硬化型の黒インクを用いる。
また、遮光性を有する塗料は、基板１０の他方の面のうち、外周部４に印刷する文字の形状及び位置に対応する領域を除く部分に塗装されている。これにより、外周部４には、遮光性を有する塗料を塗装しない領域を用いて、文字が印刷されている。 Further, as shown in FIG. 2, on the portion where one surface 10a (the upper surface in FIG. 2) of the substrate 10 and the outer peripheral surface 10c of the substrate 10 are continuous, the outer peripheral side surface is removed by the ultraviolet curable resin UVR. A portion 8out is formed.
The outer peripheral side chamfered portion 8 out is formed in an R-chamfered shape in which one surface 10 a of the substrate 10 and the outer peripheral surface 10 c of the substrate 10 are continuous.
Furthermore, a paint having a light shielding property is applied to a portion of the other surface 10 b of the substrate 10 (the lower surface in FIG. 2) which forms the outer peripheral portion 4.
For example, a urethane-based / two-liquid isocyanate-curable black ink is used as the light-shielding paint.
Further, the paint having a light shielding property is applied to the other surface of the substrate 10 except for the area corresponding to the shape and position of the characters to be printed on the outer peripheral portion 4. As a result, characters are printed on the outer peripheral portion 4 using an area where the light-shielding paint is not applied.

外周部４に印刷する文字は、液晶パネル１を用いる装置等に応じた文字である。
ここで、第一実施形態では、液晶パネル１が、カーナビゲーションシステムが備える表示パネルとして用いられる。このため、外周部４に印刷する文字は、例えば、「ＰＯＷＥＲ」、「ＨＯＭＥ」、「ＭＥＮＵ」、「ＡＵＤＩＯ」、「ＭＡＰ」等となる。
各開口部６は、それぞれ、基板１０のうち、外周部４に形成されている。
また、各開口部６は、型押し加工の後に行う抜き加工やプレス加工等により、基板１０のうち開口部６を形成する部分を除去して形成されている。 The characters to be printed on the outer peripheral portion 4 are characters corresponding to the device using the liquid crystal panel 1 or the like.
Here, in the first embodiment, the liquid crystal panel 1 is used as a display panel provided in a car navigation system. Therefore, characters printed on the outer peripheral portion 4 are, for example, "POWER", "HOME", "MENU", "AUDIO", "MAP", and the like.
Each of the openings 6 is formed in the outer peripheral portion 4 of the substrate 10.
Each opening 6 is formed by removing a portion of the substrate 10 where the opening 6 is to be formed by punching, pressing, or the like performed after the stamping.

したがって、各開口部６は、それぞれ、外周部４を基板１０の厚さ方向に貫通している。
また、各開口部６は、基板１０のうち、カーナビゲーションシステムが備える機能に応じたスイッチ（ボタンやダイヤル等）や、データ（音楽、映像、地図等のデータ）を記録した記録媒体（光ディスク等）の出入り口を配置する位置に形成されている。
また、図２中に表すように、基板１０の一方の面１０ａと開口部６の内部が連続する部分には、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲにより内壁側面取り部８ｉｎが形成されている。
内壁側面取り部８ｉｎは、基板１０の一方の面１０ａと開口部６の内壁面６ａとを連続するＲ面取り形状に形成されている。 Therefore, each opening 6 penetrates the outer peripheral portion 4 in the thickness direction of the substrate 10.
Further, each opening 6 is a switch (a button, a dial, etc.) corresponding to the function of the car navigation system in the substrate 10, and a recording medium (optical disc etc.) recording data (data such as music, video, map etc.) It is formed in the position which arranges the entrance and exit of).
Further, as shown in FIG. 2, in a portion where one surface 10 a of the substrate 10 and the inside of the opening 6 are continuous, an inner wall side surface chamfered portion 8 in is formed of the ultraviolet curable resin UVR.
The inner wall side surface chamfered portion 8 in is formed in an R-chamfered shape in which the one surface 10 a of the substrate 10 and the inner wall surface 6 a of the opening 6 are continuous.

（外周部４に施す型押し加工）
図１及び図２を参照しつつ、図３を用いて、外周部４に施す型押し加工について説明する。
型押し加工は、基板１０のうち開口部６を形成する部分を除去する前に行う加工であり、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを用いる加工である。
具体的には、基板１０のうち開口部６を形成する部分に、開口部６の形状に対応する凹部が形成されている状態で、基板１０の一方の面１０ａのうち外周部４を形成する部分（第二領域）に、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを塗布する。そして、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを塗布した基板１０の一方の面１０ａに、開口部６の形状に対応する突出部が形成された型板を載せた状態で、ローラー等を用いて基板１０を型板に押し付ける。さらに、基板１０から型板を外し、基板１０に塗布した紫外線硬化性樹脂ＵＶＲに紫外線を照射して、硬化させる。なお、型板に形成されている、開口部６の形状に対応する突出部は、Ｒ面取りを有する形状に形成されている。 (Impressing process applied to the outer peripheral part 4)
Impressing processing applied to the outer peripheral portion 4 will be described with reference to FIG. 3 with reference to FIGS. 1 and 2.
The embossing is a process performed before removing a portion of the substrate 10 for forming the opening 6, and is a process using the ultraviolet curable resin UVR.
Specifically, the outer peripheral portion 4 of one surface 10 a of the substrate 10 is formed in a state in which a recess corresponding to the shape of the opening 6 is formed in a portion of the substrate 10 where the opening 6 is formed. A UV curable resin UVR is applied to the portion (second region). Then, in a state where a template having a protrusion corresponding to the shape of the opening 6 is placed on one surface 10a of the substrate 10 coated with the ultraviolet curable resin UVR, the substrate 10 is molded using a roller or the like. Press on the board. Further, the template is removed from the substrate 10, and the ultraviolet curable resin UVR applied to the substrate 10 is irradiated with ultraviolet rays to be cured. In addition, the protrusion part corresponding to the shape of the opening 6 currently formed in the template is formed in the shape which has R chamfering.

このとき、基板１０の一方の面１０ａに塗布した紫外線硬化性樹脂ＵＶＲは、図３中に表すように、基板１０の一方の面１０ａに加え、開口部６の形状に対応する凹部１２の内部にも塗布される。
したがって、型押し加工の後に行う加工により、基板１０のうち開口部６を形成する部分を除去すると、開口部６の形状に対応する凹部１２の内部に塗布されて硬化した紫外線硬化性樹脂ＵＶＲも除去される。このため、基板１０には、開口部６が形成されるとともに、硬化した紫外線硬化性樹脂ＵＶＲによる内壁側面取り部８ｉｎも形成される。 At this time, the ultraviolet curable resin UVR applied to one surface 10 a of the substrate 10 is added to the one surface 10 a of the substrate 10 as shown in FIG. 3 and the inside of the recess 12 corresponding to the shape of the opening 6 Is also applied.
Therefore, when the portion of the substrate 10 for forming the opening 6 is removed by processing performed after the embossing, the UV curable resin UVR applied and cured inside the recess 12 corresponding to the shape of the opening 6 is also used. It is removed. Therefore, the opening 6 is formed in the substrate 10, and the inner wall side surface chamfered portion 8in is also formed by the cured ultraviolet curable resin UVR.

（液晶パネルの製造方法）
図１から図３を参照しつつ、図４から図８を用いて、第一実施形態の液晶パネル１を用いた、液晶パネル１の製造方法（以降の説明では、「パネル製造方法」と記載する場合がある）について説明する。
パネル製造方法は、凹部形成工程と、アンチグレア処理工程と、型押し工程と、塗装工程と、開口部形成工程とを含む。
凹部形成工程は、図４中に表す基板１０のうち開口部６を形成する位置に対して、図５中に表すように、開口部６の形状に応じた凹部１２を形成する工程である。
なお、第一実施形態では、液晶パネル１の輪郭を、基板１０の一方の面１０ａに形成した凹部により形成する場合について説明する。これに伴い、図５中では、液晶パネル１の輪郭を形成する凹部を、符号１２ｏｕｔで表す。 (Method of manufacturing liquid crystal panel)
A manufacturing method of the liquid crystal panel 1 using the liquid crystal panel 1 of the first embodiment with reference to FIG. 1 to FIG. 3 and using FIG. 4 to FIG. May be described).
The panel manufacturing method includes a recess forming step, an antiglare processing step, a embossing step, a coating step, and an opening forming step.
The recess forming step is a step of forming the recess 12 corresponding to the shape of the opening 6 as shown in FIG. 5 with respect to the position of forming the opening 6 in the substrate 10 shown in FIG.
In the first embodiment, the case where the contour of the liquid crystal panel 1 is formed by a recess formed on one surface 10 a of the substrate 10 will be described. Along with this, in FIG. 5, a recess that forms the contour of the liquid crystal panel 1 is denoted by reference numeral 12 out.

アンチグレア処理工程は、凹部形成工程の後工程である。
また、アンチグレア処理工程は、図６中に表すように、基板１０の一方の面１０ａのうち、表示部２を形成する部分にアンチグレア処理を施す工程である。なお、図６中では、基板１０の一方の面１０ａのうち、アンチグレア処理を施した領域であるアンチグレア処理領域を、符号１４で表す。
第一実施形態では、一例として、アンチグレア処理工程において、基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分に、ショットブラスト加工を用いてアンチグレア処理を施す場合を説明する。
型押し工程は、アンチグレア処理工程の後工程である。 The antiglare process is a process after the recess forming process.
In addition, as shown in FIG. 6, the antiglare processing step is a step of performing antiglare processing on a portion of the one surface 10 a of the substrate 10 in which the display unit 2 is to be formed. In FIG. 6, an anti-glare processing region, which is a region subjected to anti-glare processing, of one surface 10 a of the substrate 10 is denoted by reference numeral 14.
In the first embodiment, as an example, in the anti-glare processing step, a case where anti-glare processing is performed using shot blasting on a portion of the surface 10 a of the substrate 10 where the display unit 2 is to be formed will be described.
The embossing process is a process after the antiglare process.

また、型押し工程は、図７中に表すように、基板１０の一方の面１０ａのうち、外周部４を形成する部分に紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを用いた型押し加工を施す工程である。
塗装工程は、型押し工程と開口部形成工程との間に行う工程である。
また、塗装工程は、図８中に表すように、基板１０の他方の面１０ｂのうち、外周部４を形成する部分に、遮光性を有する塗料を塗装する工程である。なお、図８中では、基板１０うち、遮光性を有する塗料を塗装した領域である着色領域を、符号１６で表す。また、図８中では、説明のために、外周部４に印刷する文字の図示を省略している。 In addition, as shown in FIG. 7, the embossing process is a process of performing embossing using the ultraviolet curable resin UVR on a portion of the one surface 10 a of the substrate 10 where the outer peripheral portion 4 is to be formed.
The coating process is a process performed between the embossing process and the opening forming process.
Further, as shown in FIG. 8, the coating process is a process of applying a paint having a light shielding property to the portion of the other surface 10 b of the substrate 10 where the outer peripheral portion 4 is to be formed. In FIG. 8, in the substrate 10, a colored region which is a region coated with a light-shielding paint is denoted by reference numeral 16. Moreover, in FIG. 8, illustration of the character printed on the outer peripheral part 4 is abbreviate | omitted for description.

開口部形成工程は、型押し工程の後工程である。
また、開口部形成工程は、凹部形成工程で形成した凹部１２を含む基板１０の一部と、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲの一部を除去する工程である。これにより、開口部形成工程を行うと、基板１０の一方の面１０ａと開口部６の内部が連続する部分に、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲにより内壁側面取り部８ｉｎが形成される（図２を参照）。
なお、上述した第一実施形態は、本発明の一例であり、本発明は、上述した第一実施形態に限定されることはなく、この実施形態以外の形態であっても、本発明に係る技術的思想を逸脱しない範囲であれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。 The opening formation process is a process subsequent to the embossing process.
Further, the opening forming step is a step of removing a part of the substrate 10 including the recess 12 formed in the recess forming step and a part of the ultraviolet curable resin UVR. Thereby, when the opening forming step is performed, the inner wall side surface chamfered portion 8in is formed of the ultraviolet curable resin UVR in a portion where the one surface 10a of the substrate 10 and the inside of the opening 6 are continuous (see FIG. 2). ).
The above-described first embodiment is an example of the present invention, and the present invention is not limited to the above-described first embodiment, and the embodiment according to the present invention is applicable to any form other than this embodiment. Various modifications can be made according to the design and the like without departing from the technical concept.

（第一実施形態の効果）
第一実施形態の液晶パネル１であれば、以下に記載する効果を奏することが可能となる。
（１）基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分には、アンチグレア処理が施されており、基板１０の一方の面１０ａのうち外周部４を形成する部分には、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを用いた型押し加工が施されている。これに加え、基板１０の一方の面１０ａと開口部６の内部が連続する部分には、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲにより内壁側面取り部８ｉｎが形成されている。
このため、アンチグレア処理が施されている部分である、基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分において、映り込みを防止することが可能となる。これに加え、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを用いた型押し加工が施されている部分である、基板１０の一方の面１０ａのうち外周部４を形成する部分において、光沢度の低下を抑制することが可能となる。 (Effect of the first embodiment)
With the liquid crystal panel 1 of the first embodiment, the effects described below can be exhibited.
(1) Anti-glare treatment is applied to a portion of the surface 10 a of the substrate 10 that forms the display unit 2, and ultraviolet light is applied to a portion of the surface 10 a of the substrate 10 that forms the outer peripheral portion 4. The embossing process using the curable resin UVR is performed. In addition to this, in a portion where one surface 10 a of the substrate 10 and the inside of the opening 6 are continuous, an inner wall side surface chamfered portion 8 in is formed of the ultraviolet curable resin UVR.
For this reason, it is possible to prevent glare on a portion of the one surface 10a of the substrate 10, which is the portion subjected to the antiglare processing, which forms the display unit 2. In addition to this, in the portion of the one surface 10a of the substrate 10, which is the portion subjected to embossing processing using the ultraviolet curable resin UVR, in the portion forming the outer peripheral portion 4, suppression of the decrease in glossiness Is possible.

その結果、映り込みを防止することが可能であるとともに、光沢度の低下を抑制することが可能な、液晶パネル１を提供することが可能となる。
また、切削加工によって内壁側面取り部８ｉｎを形成する場合と比較して、品質の安定性を向上させることが可能であるとともに、作業工程を減少させることが可能な、液晶パネル１を提供することが可能となる。 As a result, it is possible to provide the liquid crystal panel 1 capable of preventing the reflection and suppressing the decrease in the glossiness.
Further, it is possible to provide the liquid crystal panel 1 capable of improving the stability of quality and reducing the number of working processes as compared with the case where the inner wall side chamfered portion 8in is formed by cutting. Is possible.

（２）外周部４が、平面視で表示部２を包囲している。
その結果、情報を表示する表示部２の周囲を、スイッチ等を配置する外周部４で包囲した構成の液晶パネル１を形成することが可能となる。
（３）基板１０の一方の面１０ａと基板１０の外周面が連続する部分に、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲにより外周側面取り部８ｏｕｔが形成されている。
その結果、液晶パネル１に使用者等が接触しても、使用者や液晶パネル１の損傷を抑制することが可能となる。 (2) The outer peripheral portion 4 surrounds the display unit 2 in plan view.
As a result, it becomes possible to form the liquid crystal panel 1 of the structure which surrounded the circumference | surroundings of the display part 2 which displays information by the outer peripheral part 4 which arrange | positions a switch etc. FIG.
(3) The outer peripheral side chamfered portion 8 out is formed of the ultraviolet curable resin UVR in a portion where the one surface 10 a of the substrate 10 and the outer peripheral surface of the substrate 10 are continuous.
As a result, even if the user or the like contacts the liquid crystal panel 1, it is possible to suppress the damage to the user or the liquid crystal panel 1.

（４）アンチグレア処理が、ショットブラスト加工を用いて施されている。
その結果、基板１０のうち表示部２を形成する位置に、アンチグレア処理を施したフィルムを貼り付けて液晶パネルを形成する構成と比較して、フィルム及び液晶パネルに発生する反りを抑制することが可能となる。なお、フィルム及び液晶パネルに発生する反りは、例えば、フィルムの収縮率と液晶パネルの収縮率との違いにより発生する。
また、金型を用いて部分的にシボ（ブラスト）処理を行うことで、基板１０に部分的なアンチグレア処理が施された表示部２を形成する構成と比較して、寸法の安定性を向上させることが可能となる。 (4) Anti-glare treatment is applied using shot blasting.
As a result, it is possible to suppress the warpage generated in the film and the liquid crystal panel as compared with the configuration in which the film subjected to antiglare processing is attached to the position of the display unit 2 in the substrate 10 to form the liquid crystal panel. It becomes possible. In addition, the curvature which generate | occur | produces to a film and a liquid crystal panel generate | occur | produces, for example by the difference of the contraction | shrinkage percentage of a film, and the contraction | shrinkage percentage of a liquid crystal panel.
In addition, by performing embossing (blasting) treatment partially using a mold, dimensional stability is improved as compared with a configuration in which the display unit 2 is partially antiglare-treated on the substrate 10. It is possible to

（５）基板１０の他方の面１０ｂのうち外周部４を形成する部分に、遮光性を有する塗料が塗装されている。
その結果、表示部２に表示する地図等の情報と外周部４とのコントラストを明確にすることが可能となり、表示部２に表示する情報の見やすさを向上させることが可能となる。これに加え、スイッチ等を配置する外周部４において、光の反射を抑制することが可能となる。
第一実施形態の液晶パネル１の製造方法であれば、以下に記載する効果を奏することが可能となる。 (5) A paint having a light shielding property is applied to a portion of the other surface 10 b of the substrate 10 which forms the outer peripheral portion 4.
As a result, the contrast between the information such as the map displayed on the display unit 2 and the outer peripheral portion 4 can be clarified, and the visibility of the information displayed on the display unit 2 can be improved. In addition to this, it is possible to suppress the reflection of light in the outer peripheral portion 4 in which a switch or the like is disposed.
With the method of manufacturing the liquid crystal panel 1 of the first embodiment, it is possible to obtain the effects described below.

（６）基板１０のうち開口部６を形成する位置に開口部６の形状に応じた凹部１２を形成する凹部形成工程と、凹部形成工程の後工程であり、基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分にアンチグレア処理を施すアンチグレア処理工程を含む。これに加え、アンチグレア処理工程の後工程であり、基板１０の一方の面１０ａのうち外周部４を形成する部分に紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを用いた型押し加工を施す型押し工程を含む。さらに、型押し工程の後工程であり、凹部１２を含む基板１０の一部及び紫外線硬化性樹脂ＵＶＲの一部を除去する開口部形成工程を含む。開口部形成工程は、基板１０の一方の面１０ａと開口部６の内部が連続する部分に紫外線硬化性樹脂ＵＶＲにより内壁側面取り部８ｉｎが形成されるように行う。 (6) A recess forming step of forming a recess 12 corresponding to the shape of the opening 6 at a position where the opening 6 is to be formed in the substrate 10, and a step after the recess forming step, of one surface 10 a of the substrate 10 Among them, an anti-glare processing step of performing anti-glare processing on a portion forming the display unit 2 is included. In addition to this, it is a post-process of the anti-glare treatment process, and includes a embossing process of embossing the portion of the one surface 10a of the substrate 10 which forms the outer peripheral portion 4 using the ultraviolet curable resin UVR. Furthermore, this is a step after the embossing step, and includes an opening forming step of removing a part of the substrate 10 including the recess 12 and a part of the ultraviolet curable resin UVR. The opening forming step is performed such that the inner wall side surface chamfered portion 8 in is formed of the ultraviolet curable resin UVR in a portion where the one surface 10 a of the substrate 10 and the inside of the opening 6 are continuous.

このため、アンチグレア処理が施されている部分である、基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分において、映り込みを防止することが可能となる。これに加え、紫外線硬化性樹脂ＵＶＲを用いた型押し加工が施されている部分である、基板１０の一方の面１０ａのうち外周部４を形成する部分において、光沢度の低下を抑制することが可能となる。
その結果、映り込みを防止することが可能であるとともに、光沢度の低下を抑制することが可能な、液晶パネル１の製造方法を提供することが可能となる。
また、切削加工によって内壁側面取り部８ｉｎを形成する場合と比較して、品質の安定性を向上させることが可能であるとともに、作業工程を減少させることが可能な、液晶パネル１の製造方法を提供することが可能となる。 For this reason, it is possible to prevent glare on a portion of the one surface 10a of the substrate 10, which is the portion subjected to the antiglare processing, which forms the display unit 2. In addition to this, in the portion of the one surface 10a of the substrate 10, which is the portion subjected to embossing processing using the ultraviolet curable resin UVR, in the portion forming the outer peripheral portion 4, suppression of the decrease in glossiness Is possible.
As a result, it is possible to provide a method of manufacturing the liquid crystal panel 1 that is capable of preventing reflection and capable of suppressing a decrease in glossiness.
In addition, it is possible to improve the stability of quality as compared with the case where the inner wall side chamfered portion 8in is formed by cutting, and to reduce the number of working processes. It becomes possible to offer.

（７）アンチグレア処理工程では、基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分に、ショットブラスト加工を用いてアンチグレア処理を施す。
その結果、基板１０のうち表示部２を形成する位置に、アンチグレア処理を施したフィルムを貼り付けて液晶パネルを形成する構成と比較して、フィルム及び液晶パネルに発生する反りを抑制することが可能となる。
また、金型を用いて部分的にシボ（ブラスト）処理を行うことで、基板１０に部分的なアンチグレア処理が施された表示部２を形成する構成と比較して、寸法の安定性を向上させることが可能となる。 (7) In the anti-glare processing step, anti-glare processing is performed on a portion of the one surface 10 a of the substrate 10 where the display unit 2 is to be formed, using shot blast processing.
As a result, it is possible to suppress the warpage generated in the film and the liquid crystal panel as compared with the configuration in which the film subjected to antiglare processing is attached to the position of the display unit 2 in the substrate 10 to form the liquid crystal panel. It becomes possible.
In addition, by performing embossing (blasting) treatment partially using a mold, dimensional stability is improved as compared with a configuration in which the display unit 2 is partially antiglare-treated on the substrate 10. It is possible to

（８）型押し工程と開口部形成工程との間に行う工程であり、基板１０の他方の面１０ｂのうち外周部４を形成する部分に遮光性を有する塗料を塗装する塗装工程を含む。
その結果、表示部２に表示する地図等の情報と外周部４とのコントラストを明確にすることが可能となり、表示部２に表示する情報の見やすさを向上させることが可能となる。これに加え、スイッチ等を配置する外周部４において、光の反射を抑制することが可能となる。 (8) This is a step performed between the embossing step and the opening forming step, and includes a coating step of applying a light-shielding paint to the portion of the other surface 10b of the substrate 10 on which the outer peripheral portion 4 is to be formed.
As a result, the contrast between the information such as the map displayed on the display unit 2 and the outer peripheral portion 4 can be clarified, and the visibility of the information displayed on the display unit 2 can be improved. In addition to this, it is possible to suppress the reflection of light in the outer peripheral portion 4 in which a switch or the like is disposed.

（変形例）
（１）第一実施形態では、型押し加工を、基板１０のうち開口部６を形成する部分に、開口部６の形状に対応する凹部が形成されている状態で行ったが、これに限定するものではない。すなわち、型押し加工は、例えば、基板１０のうち開口部６を形成する部分に、開口部６の輪郭に沿って溝が形成されている状態で行ってもよい。
この場合、型押し加工の後に行う加工により、開口部６の輪郭に沿って形成された溝に加え、開口部６の輪郭に沿って形成された溝の内側を切除することで、開口部６を形成する。 (Modification)
(1) In the first embodiment, the embossing is performed in the state where the recess corresponding to the shape of the opening 6 is formed in the portion of the substrate 10 where the opening 6 is to be formed, but is limited to this It is not something to do. That is, the embossing may be performed, for example, in a portion where the opening 6 is formed in the substrate 10 in a state where a groove is formed along the outline of the opening 6.
In this case, the opening 6 is formed by cutting the inside of the groove formed along the outline of the opening 6 in addition to the groove formed along the outline of the opening 6 by processing performed after the embossing process. Form

（第二実施形態）
以下、本発明の第二実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
（構成）
図１から図３を参照して、液晶パネル１の構成について説明する。
第二実施形態の液晶パネル１は、基板１０の一方の面のうち、表示部２を形成する部分の構成と、表示部２を形成する部分にアンチグレア処理を施すために用いるショットブラスト加工の加工条件を除き、第一実施形態と同様である。このため、以降の説明では、表示部２を形成する部分の構成と、ショットブラスト加工の加工条件を主体に説明する。
基板１０の一方の面のうち、表示部２を形成する部分には、アンチグレア処理が施されている。
第二実施形態では、第一実施形態と同様、一例として、アンチグレア処理が、ショットブラスト加工を用いて施されている場合について説明する。 Second Embodiment
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Constitution)
The configuration of the liquid crystal panel 1 will be described with reference to FIGS. 1 to 3.
The liquid crystal panel 1 according to the second embodiment has a configuration of a portion forming the display unit 2 on one surface of the substrate 10 and a shot blasting process used to apply anti-glare processing to the portion forming the display unit 2 Except for the conditions, it is the same as the first embodiment. For this reason, in the following description, the configuration of the portion forming the display unit 2 and the processing conditions of the shot blast processing will be mainly described.
An antiglare process is performed on a portion of the one surface of the substrate 10 where the display unit 2 is to be formed.
In the second embodiment, as in the first embodiment, a case where anti-glare processing is performed using shot blasting will be described as an example.

また、表示部２を形成する部分は、表示部２を形成する部分に対する透過拡散分布の測定値の標準偏差が、０以上１５以下の範囲内となるように形成されている。
ここで、透過拡散分布の測定値の標準偏差は、変角光度計の光源から表示部２を形成する部分への光の入射角を６０°とし、透過拡散のピークを０以上６０以下の範囲内としたときの値である。
また、透過拡散分布の測定は、例えば、村上色彩技術研究所製の自動変角光度計（ゴニオフォトメーター）「ＧＰ−２００」を用いて行う。なお、透過拡散分布を測定する際には、例えば、感度を９５０、電圧の上限値を４６１［Ｖ］、光源のビーム径を７［ｍｍ］、受光部の開口を６．８［ｍｍ］、角度の分解能を０．１［ｄｅｇ］に設定する。 Further, the portion forming the display unit 2 is formed such that the standard deviation of the measured values of the transmission diffusion distribution with respect to the portion forming the display unit 2 is in the range of 0 or more and 15 or less.
Here, the standard deviation of the measured values of the transmission diffusion distribution is such that the incident angle of light from the light source of the variable angle photometer to the portion forming the display unit 2 is 60 ° and the peak of the transmission diffusion is in the range of 0 to 60. It is the value when it is inside.
Further, the measurement of the transmission diffusion distribution is performed using, for example, an automatic variable-angle photometer (goniophotometer) "GP-200" manufactured by Murakami Color Research Laboratory. When measuring the transmission diffusion distribution, for example, the sensitivity is 950, the upper limit value of the voltage is 461 [V], the beam diameter of the light source is 7 [mm], the opening of the light receiving portion is 6.8 [mm], Set the angle resolution to 0.1 [deg].

また、表示部２を形成する部分は、輝度の標準偏差が５．５３以下である。
具体的に、表示部２を形成する部分は、二乗平均平方根傾斜角（ＲΔｑ）が２８．６°以上であり、粗さ曲線の展開長さ率の値に１００を乗じて％表示した値（Ｒｌｒ）が１．２以上であり、輪郭曲線の断面レベル差（Ｒδｃ）が３．４［μｍ］以上である。これに加え、表示部２を形成する部分は、二乗平均平方根傾斜角（ＲΔｑ）の平均値が０．７以上であり、粗さ曲線のクルトシス（Ｒｋｕ）が３．５［μｍ］以下であり、算術平均傾斜角（ＲΔａ）が２２．６°以上である。
なお、クルトシス（Ｒｋｕ）とは、表示部２を形成する部分に山と谷で形成された凸部の尖り度である。
ここで、輝度は、例えば、ＪＩＳＣ６１０１−１（１９９８）に準拠して測定した。
また、表面粗さは、例えば、表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用い、ＪＩＳＢ０６０１：２００１に準拠して測定した。 Further, in the portion forming the display unit 2, the standard deviation of luminance is 5.53 or less.
Specifically, in the portion forming the display portion 2, the root mean square inclination angle (RΔq) is 28.6 ° or more, and the value of the development length ratio of the roughness curve multiplied by 100 and displayed as% ( Rlr) is 1.2 or more, and the cross-sectional level difference (Rδc) of the contour curve is 3.4 [μm] or more. In addition to this, in the portion forming the display portion 2, the average value of the root mean square inclination angle (RΔq) is 0.7 or more, and the roughness curve has a kurtosis (Rku) of 3.5 μm or less. The arithmetic mean inclination angle (RΔa) is 22.6 ° or more.
In addition, kurtosis (Rku) is the sharpness of the convex part formed by the peak and the valley in the part which forms the display part 2. FIG.
Here, the luminance was measured, for example, in accordance with JIS C6101-1 (1998).
Moreover, surface roughness was measured based on JISB0601: 2001, for example using a surface roughness measuring device (model number: SE-3400 / Kosaka research institute make).

また、表示部２を形成する部分は、反射像鮮明度（ＤＯＩ）が３．６以上２０．７以下の範囲内である。
なお、反射像鮮明度は、表示部２を形成する部分の表面に写る物体の像が、どの程度鮮明に歪みなく見えるかの度合いである。また、反射像鮮明度は、物体の像が全く歪んでいない場合にはＤＯＩ＝１００となり、ＤＯＩの値が小さくなるほど物体の像がぼやけることとなる。
具体的に、表示部２を形成する部分は、有効負荷粗さ（Ｒｋ）が５．６［μｍ］以上７．２［μｍ］以下の範囲内であり、平均高さ（Ｒｃ）が８．０［μｍ］以上１０．２［μｍ］以下の範囲内である。これに加え、表示部２を形成する部分は、平均粗さ（Ｒａ）が２．０［μｍ］以上２．４［μｍ］以下の範囲内であり、二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）が２．５［μｍ］以上３．０［μｍ］以下の範囲内である。
なお、平均高さ（Ｒｃ）とは、表示部２を形成する部分に山と谷で形成された凸部の平均高さである。 Further, the portion forming the display unit 2 has a reflection image sharpness (DOI) in the range of 3.6 or more and 20.7 or less.
The reflection image definition is a degree of how clearly the image of an object appearing on the surface of the portion forming the display unit 2 looks undistorted. In addition, when the image of the object is not distorted at all, the reflected image definition is DOI = 100, and the image of the object is blurred as the value of DOI decreases.
Specifically, in the portion forming the display portion 2, the effective load roughness (Rk) is in the range of not less than 5.6 μm and not more than 7.2 μm, and the average height (Rc) is 8. It is in the range of 0 [μm] or more and 10.2 [μm] or less. In addition to this, the portion forming the display portion 2 has an average roughness (Ra) in the range of 2.0 [μm] or more and 2.4 [μm] or less, and a root mean square roughness (Rq) of 2 .5 [.mu.m] or more and 3.0 [.mu.m] or less.
In addition, average height (Rc) is the average height of the convex part formed by the peak and the valley in the part which forms the display part 2. FIG.

（液晶パネルの製造方法）
図１から図８を参照して、第二実施形態の液晶パネル１を用いたパネル製造方法について説明する。
パネル製造方法は、凹部形成工程と、アンチグレア処理工程と、型押し工程と、塗装工程と、開口部形成工程とを含む。
凹部形成工程と、型押し工程と、塗装工程と、開口部形成工程は、上述した第一実施形態と同様であるため、説明を省略する。
アンチグレア処理工程は、基板１０の一方の面１０ａのうち、表示部２を形成する部分にアンチグレア処理を施す工程である。
第二実施形態では、一例として、アンチグレア処理工程において、基板１０の一方の面１０ａのうち表示部２を形成する部分に、ショットブラスト加工を用いてアンチグレア処理を施す場合を説明する。 (Method of manufacturing liquid crystal panel)
A panel manufacturing method using the liquid crystal panel 1 of the second embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 8.
The panel manufacturing method includes a recess forming step, an antiglare processing step, a embossing step, a coating step, and an opening forming step.
The recess forming process, the embossing process, the coating process, and the opening forming process are the same as those in the first embodiment described above, and thus the description thereof is omitted.
The anti-glare processing step is a step of performing anti-glare processing on a portion of the one surface 10 a of the substrate 10 where the display unit 2 is to be formed.
In the second embodiment, as an example, in the anti-glare processing step, a case where anti-glare processing is performed using shot blasting on a portion of the surface 10 a of the substrate 10 where the display unit 2 is to be formed will be described.

第二実施形態におけるショットブラスト加工の加工条件は、投射材としてビーズ（例えば、ガラスビーズ）を用い、ビーズの外径を１５０［μｍ］以上２００［μｍ］以下の範囲内に設定する。これに加え、加工条件は、ビーズの吐出圧力を０．３５［ＭＰａ］以上０．５［ＭＰａ］以下の範囲内とし、ビーズのショット回数を４回以上８回以下の範囲内とし、ビーズの吐出距離を２００［ｍｍ］以上３００［ｍｍ］以下の範囲内に設定する。
なお、第二実施形態では、一例として、ショットブラスト加工の加工条件を、ビーズの外径を１５０［μｍ］、ビーズの吐出圧力を０．３５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数を６回、ビーズの吐出距離を２５０［ｍｍ］に設定した場合について説明する。 The processing conditions of the shot blasting processing in the second embodiment use beads (for example, glass beads) as a shot material and set the outer diameter of the beads within the range of 150 μm or more and 200 μm or less. In addition to this, as processing conditions, the discharge pressure of the beads is in the range of 0.35 [MPa] to 0.5 [MPa], and the number of shots of the beads is in the range of 4 times to 8 times, The discharge distance is set in the range of 200 mm or more and 300 mm or less.
In the second embodiment, as an example, the processing conditions for shot blasting are: bead outer diameter 150 [μm], bead discharge pressure 0.35 [MPa], bead shot 6 times, bead The case where the discharge distance of the above is set to 250 [mm] will be described.

（第二実施形態の効果）
第二実施形態の液晶パネル１であれば、以下に記載する効果を奏することが可能となる。
（１）変角光度計の光源から表示部２を形成する部分への光の入射角を６０°とし、透過拡散のピークを０以上６０以下の範囲内としたときに、表示部２を形成する部分に対する透過拡散分布の測定値の標準偏差が、０以上１５以下の範囲内である。
その結果、液晶パネル１のギラツキを抑制することが可能となる。
なお、「ギラツキ」は、カーナビゲーションシステムが備え、液晶パネル１により覆われているバックライトが発光する光が液晶パネル１で屈折することで、チラついて見えることで発生する。
また、「ギラツキ」は、表示部２を形成する部分に山と谷で形成された凹凸構造がレンズとして作用することで、表示部２に表示する画像（ナビゲーション画像等）を形成する表示体のＲＧＢ画素が視認されることで発生する。 (Effect of the second embodiment)
With the liquid crystal panel 1 of the second embodiment, the effects described below can be exhibited.
(1) The display unit 2 is formed when the incident angle of light from the light source of the variable angle photometer to the portion forming the display unit 2 is 60 ° and the peak of the transmission diffusion is in the range of 0 to 60. The standard deviation of the measured values of the transmission diffusion distribution with respect to the portion to be cut is within the range of 0 or more and 15 or less.
As a result, it is possible to suppress glare of the liquid crystal panel 1.
"Glare" is generated in a car navigation system, in which light emitted by the backlight covered by the liquid crystal panel 1 is refracted by the liquid crystal panel 1 to make it appear flickering.
In addition, “Glaring” is a display that forms an image (such as a navigation image) to be displayed on the display unit 2 by a convex-concave structure formed of peaks and valleys acting as a lens in a portion forming the display unit 2. It occurs when an RGB pixel is visually recognized.

（２）表示部２を形成する部分は、輝度の標準偏差が５．５３以下である。
その結果、表示部２を形成する部分の、輝度の標準偏差が５．５３を超える構成と比較して、液晶パネル１のギラツキを抑制することが可能となる。
（３）表示部２を形成する部分は、二乗平均平方根傾斜角が２８．６°以上であり、粗さ曲線の展開長さ率の値に１００を乗じて％表示した値が１．２以上であり、輪郭曲線の断面レベル差が３．４［μｍ］以上である。これに加え、表示部２を形成する部分は、二乗平均平方根傾斜角の平均値が０．７以上であり、粗さ曲線のクルトシスが３．５［μｍ］以下であり、算術平均傾斜角が２２．６°以上である。
その結果、各パラメータが条件を満たさない構成と比較して、液晶パネル１のギラツキを抑制することが可能となる。 (2) The standard deviation of luminance is 5.53 or less in the portion forming the display unit 2.
As a result, it is possible to suppress the glare of the liquid crystal panel 1 as compared with the configuration in which the standard deviation of luminance exceeds 5.53 in the portion forming the display unit 2.
(3) The portion forming the display unit 2 has a root mean square inclination angle of 28.6 ° or more, and the value of the development length ratio of the roughness curve multiplied by 100 and displayed as a percentage is 1.2 or more And the cross-sectional level difference of the contour curve is 3.4 [μm] or more. In addition to this, in the portion forming the display portion 2, the mean value of the root mean square inclination angle is 0.7 or more, the kurtosis of the roughness curve is 3.5 [μm or less, and the arithmetic average inclination angle is It is 22.6 degrees or more.
As a result, it is possible to suppress the glare of the liquid crystal panel 1 as compared with the configuration in which each parameter does not satisfy the conditions.

（４）表示部２を形成する部分は、反射像鮮明度が３．６以上２０．７以下の範囲内である。
その結果、液晶パネル１の防眩性を向上させることが可能となる。
なお、「防眩性」は、蛍光灯や太陽光等、外部から液晶パネル１に入射して乱反射した光が表示部２に映り込むことで発生する。 (4) The portion forming the display unit 2 has a reflection image sharpness within the range of 3.6 or more and 20.7 or less.
As a result, the antiglare property of the liquid crystal panel 1 can be improved.
The “anti-glare property” is generated when light, such as a fluorescent lamp or sunlight, which is incident on the liquid crystal panel 1 from the outside and irregularly reflected is reflected in the display unit 2.

（５）表示部２を形成する部分は、有効負荷粗さが５．６［μｍ］以上７．２［μｍ］以下の範囲内であり、平均高さが８．０［μｍ］以上１０．２［μｍ］以下の範囲内である。これに加え、表示部２を形成する部分は、平均粗さが２．０［μｍ］以上２．４［μｍ］以下の範囲内であり、二乗平均平方根粗さが２．５［μｍ］以上３．０［μｍ］以下の範囲内である。
その結果、各パラメータが条件を満たさない構成と比較して、液晶パネル１の防眩性を向上させることが可能となる。
第一実施形態の液晶パネル１の製造方法であれば、以下に記載する効果を奏することが可能となる。 (5) The portion forming the display portion 2 has an effective load roughness in the range of 5.6 μm or more and 7.2 μm or less, and an average height of 8.0 μm or more. Within 2 [μm] or less. In addition to this, the portion forming the display unit 2 has an average roughness within the range of 2.0 μm or more and 2.4 μm or less, and a root mean square roughness of 2.5 μm or more It is within the range of 3.0 [μm] or less.
As a result, the antiglare property of the liquid crystal panel 1 can be improved as compared with a configuration in which each parameter does not satisfy the conditions.
With the method of manufacturing the liquid crystal panel 1 of the first embodiment, it is possible to obtain the effects described below.

（６）ビーズの外径を１５０［μｍ］以上２００［μｍ］以下の範囲内とし、ビーズの吐出圧力を０．３５［ＭＰａ］以上０．５［ＭＰａ］以下の範囲内に設定する。これに加え、ビーズのショット回数を４回以上８回以下の範囲内とし、ビーズの吐出距離を２００［ｍｍ］以上３００［ｍｍ］以下の範囲内に設定する。そして、設定した条件で、ショットブラスト加工を行う。
その結果、各パラメータが条件を満たさない条件でショットブラスト加工を行った場合と比較して、液晶パネル１のギラツキを抑制することが可能となるとともに、液晶パネル１の防眩性を向上させることが可能となる。 (6) The outer diameter of the beads is in the range of 150 [μm] to 200 [μm], and the discharge pressure of the beads is set in the range of 0.35 [MPa] to 0.5 [MPa]. In addition to this, the number of shots of the beads is in the range of 4 to 8 and the discharge distance of the beads is set in the range of 200 mm to 300 mm. Then, shot blasting is performed under the set conditions.
As a result, it is possible to suppress glare of the liquid crystal panel 1 and to improve the antiglare property of the liquid crystal panel 1 as compared to the case where shot blasting is performed under the conditions where each parameter does not satisfy the conditions. Is possible.

第一実施形態及び第二実施形態を参照しつつ、以下、実施例の液晶パネルと、比較例の液晶パネルについて説明する。
（実施例１）
実施例１の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：１５０［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．３５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：６回、ビーズの吐出距離：２５０［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：６．２［μｍ］、Ｒｃ：１０．１３［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．７１、Ｒｌｒ：１．２、ＲΔａ：２３．２°、ＲΔｑ：２９．０２°、Ｒａ：２．４［μｍ］、Ｒｑ：３．０［μｍ］、Ｒｋｕ：３．６３［μｍ］、Ｒδｃ：３．９［μｍ］である。 Hereinafter, the liquid crystal panel of the example and the liquid crystal panel of the comparative example will be described with reference to the first embodiment and the second embodiment.
Example 1
As shown in Table 1 and Table 2, the liquid crystal panel of Example 1 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blasting The outer diameter of the bead: 150 [μm], the ejection pressure of the bead: 0.35 [MPa], the number of shots of the bead: 6 times, the ejection distance of the bead: 250 [mm].
-Configuration Rk: 6.2 [μm], Rc: 10.13 [μm], the average value of RΔq: 0.71, Rlr: 1.2, RΔa: 23.2 °, RΔq: 29.02 °, Ra Rq: 3.0 [μm], Rku: 3.63 [μm], Rδc: 3.9 [μm].

（実施例２）
実施例２の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：１５０［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：８回、ビーズの吐出距離：３００［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：７．３７［μｍ］、Ｒｃ：１１．５［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．９２、Ｒｌｒ：１．３１、ＲΔａ：２８．８°、ＲΔｑ：３４．７３°、Ｒａ：２．８［μｍ］、Ｒｑ：３．４［μｍ］、Ｒｋｕ：３．２２［μｍ］、Ｒδｃ：４．８［μｍ］である。 (Example 2)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Example 2 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blasting The outer diameter of beads: 150 [μm], ejection pressure of beads: 0.5 [MPa], number of shots of beads: 8 times, ejection distance of beads: 300 [mm].
-Configuration Rk: 7.37 [μm], Rc: 11.5 [μm], average value of RΔq: 0.92, Rlr: 1.31, RΔa: 28.8 °, RΔq: 34.73 °, Ra It is 2.8 [μm], Rq: 3.4 [μm], Rku: 3.22 [μm], Rδc: 4.8 [μm].

（実施例３）
実施例３の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：１８０［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：４回、ビーズの吐出距離：２５０［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：８．３３［μｍ］、Ｒｃ：１１．４７［μｍ］、ＲΔｑの平均値：１．０１、Ｒｌｒ：１．３５、ＲΔａ：２９．１７°、ＲΔｑ：３４．６１°、Ｒａ：２．９［μｍ］、Ｒｑ：３．６［μｍ］、Ｒｋｕ：２．９８［μｍ］、Ｒδｃ：５．２［μｍ］である。 (Example 3)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Example 3 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blasting The outer diameter of beads: 180 [μm], ejection pressure of beads: 0.5 [MPa], number of shots of beads: 4 times, ejection distance of beads: 250 [mm].
-Configuration Rk: 8.33 [μm], Rc: 11.47 [μm], the average value of RΔq: 1.01, Rlr: 1.35, RΔa: 29.17 °, RΔq: 34.61 °, Ra It is 2.9 [μm], Rq: 3.6 [μm], Rku: 2.98 [μm], Rδc: 5.2 [μm].

（実施例４）
実施例４の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：１８０［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．３５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：８回、ビーズの吐出距離：２００［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：６．３７［μｍ］、Ｒｃ：１０．５［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．８８、Ｒｌｒ：１．２７、ＲΔａ：２６．９２°、ＲΔｑ：３２．９３°、Ｒａ：２．５［μｍ］、Ｒｑ：３．１［μｍ］、Ｒｋｕ：３．４７［μｍ］、Ｒδｃ：４．１［μｍ］である。 (Example 4)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Example 4 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blasting The outer diameter of the bead: 180 [μm], the discharge pressure of the bead: 0.35 [MPa], the number of shots of the bead: 8 times, the discharge distance of the bead: 200 [mm].
-Configuration Rk: 6.37 [μm], Rc: 10.5 [μm], the average value of RΔq: 0.88, Rlr: 1.27, RΔa: 26.92 °, RΔq: 32.93 °, Ra Rq: 3.1 [μm], Rku: 3.47 [μm], Rδc: 4.1 [μm].

（実施例５）
実施例５の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：２００［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．３５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：４回、ビーズの吐出距離：３００［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：５．９［μｍ］、Ｒｃ：９．３７［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．８３、Ｒｌｒ：１．２５、ＲΔａ：２５．３５°、ＲΔｑ：３１．５６°、Ｒａ：２．２［μｍ］、Ｒｑ：２．７［μｍ］、Ｒｋｕ：３．２６［μｍ］、Ｒδｃ：３．７［μｍ］である。 (Example 5)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Example 5 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blast processing The outer diameter of beads: 200 [μm], discharge pressure of beads: 0.35 [MPa], number of shots of beads: 4 times, discharge distance of beads: 300 [mm].
-Configuration Rk: 5.9 [μm], Rc: 9.37 [μm], the average value of RΔq: 0.83, Rlr: 1.25, RΔa: 25.35 °, RΔq: 31.56 °, Ra It is 2.2 [μm], Rq: 2.7 [μm], Rku: 3.26 [μm], Rδc: 3.7 [μm].

（実施例６）
実施例６の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：２００［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：６回、ビーズの吐出距離：２００［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：８．４７［μｍ］、Ｒｃ：１２．２３［μｍ］、ＲΔｑの平均値：１．１３、Ｒｌｒ：１．４２、ＲΔａ：３１３６８°、ＲΔｑ：３７．６７°、Ｒａ：３．０［μｍ］、Ｒｑ：３．７［μｍ］、Ｒｋｕ：０．６１［μｍ］、Ｒδｃ：５．４［μｍ］である。 (Example 6)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Example 6 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blasting The outer diameter of the bead: 200 [μm], the discharge pressure of the bead: 0.5 [MPa], the number of shots of the bead: 6 times, the discharge distance of the bead: 200 [mm].
-Configuration Rk: 8.47 [μm], Rc: 12.23 [μm], the average value of RΔq: 1.13, Rlr: 1.42, RΔa: 31368 °, RΔq: 37.67 °, Ra: 3 .0 [.mu.m], Rq: 3.7 [.mu.m], Rku: 0.61 [.mu.m], R.delta.c: 5.4 [.mu.m].

（比較例１）
比較例１の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：１５０［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．３５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：４回、ビーズの吐出距離：３００［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：４．５７［μｍ］、Ｒｃ：６．３７［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．５１、Ｒｌｒ：１．１１、ＲΔａ：１７．８３°、ＲΔｑ：２３．１２°、Ｒａ：１．７［μｍ］、Ｒｑ：２．２［μｍ］、Ｒｋｕ：３．７１［μｍ］、Ｒδｃ：２．９［μｍ］である。 (Comparative example 1)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Comparative Example 1 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blasting The outer diameter of the bead: 150 [μm], the ejection pressure of the bead: 0.35 [MPa], the number of shots of the bead: 4 times, the ejection distance of the bead: 300 [mm].
-Configuration Rk: 4.57 [μm], Rc: 6.37 [μm], average value of RΔq: 0.51, Rlr: 1.11, RΔa: 17.83 °, RΔq: 23.12 °, Ra It is 1.7 [μm], Rq: 2.2 [μm], Rku: 3.71 [μm], Rδc: 2.9 [μm].

（比較例２）
比較例２の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：１８０［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．２５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：６回、ビーズの吐出距離：３００［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：３．７３［μｍ］、Ｒｃ：６．３［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．５４、Ｒｌｒ：１．１２、ＲΔａ：１８．４２°、ＲΔｑ：２３．８２°、Ｒａ：１．６［μｍ］、Ｒｑ：２．２［μｍ］、Ｒｋｕ：３．５１［μｍ］、Ｒδｃ：２．７［μｍ］である。 (Comparative example 2)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Comparative Example 2 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blast processing The outer diameter of beads: 180 [μm], discharge pressure of beads: 0.25 [MPa], number of shots of beads: 6 times, discharge distance of beads: 300 [mm].
-Configuration Rk: 3.73 [μm], Rc: 6.3 [μm], average value of RΔq: 0.54, Rlr: 1.12, R Δa: 18.42 °, R Δq: 23.82 °, Ra It is 1.6 [μm], Rq: 2.2 [μm], Rku: 3.51 [μm], Rδc: 2.7 [μm].

（比較例３）
比較例３の液晶パネルは、表１及び表２中に示すように、以下の構成とした。
・ショットブラスト加工の加工条件
ビーズの外径：２００［μｍ］、ビーズの吐出圧力：０．２５［ＭＰａ］、ビーズのショット回数：８回、ビーズの吐出距離：２５０［ｍｍ］に設定した。
・構成
Ｒｋ：４．９７［μｍ］、Ｒｃ：７．６７［μｍ］、ＲΔｑの平均値：０．７２、Ｒｌｒ：１．２、ＲΔａ：２３．６２°、ＲΔｑ：２９．４５°、Ｒａ：１．８［μｍ］、Ｒｑ：２．２［μｍ］、Ｒｋｕ：０．６７［μｍ］、Ｒδｃ：３．０［μｍ］である。 (Comparative example 3)
As shown in Tables 1 and 2, the liquid crystal panel of Comparative Example 3 had the following configuration.
-Processing conditions for shot blast processing The outer diameter of beads: 200 [μm], discharge pressure of beads: 0.25 [MPa], number of shots of beads: 8 times, discharge distance of beads: 250 [mm].
-Configuration Rk: 4.97 [μm], Rc: 7.67 [μm], the average value of RΔq: 0.72, Rlr: 1.2, RΔa: 23.62 °, RΔq: 29.45 °, Ra It is 1.8 [μm], Rq: 2.2 [μm], Rku: 0.67 [μm], Rδc: 3.0 [μm].

（性能評価）
実施例の液晶パネルと、比較例の液晶パネルに対し、それぞれ、防眩性とギラツキに対する性能試験を行った。性能試験の結果は、表３中に示す。
防眩性は、反射像鮮明度が３．６以上２０．７以下の範囲内であるか否かと、反射像鮮明度が３０．０を超えているか否かで評価した。その際、反射像鮮明度が３．６以上２０．７以下を「○」とし、反射像鮮明度が１．１以上３．６未満の範囲内と、２０．７を超えているとともに２８．９以下を「△」とし、反射像鮮明度が１．１未満と、２８．９を超えていると「×」とした。
ギラツキは、輝度の標準偏差が５．５３以下であるか否かで評価した（標準偏差が５．５３以下を「○」、５．５３を超えていると「×」）。 (Performance evaluation)
The performance test for antiglare property and glare was conducted on the liquid crystal panel of the example and the liquid crystal panel of the comparative example. The results of the performance test are shown in Table 3.
The antiglare property was evaluated based on whether the reflection image sharpness was in the range of 3.6 or more and 20.7 or less and whether or not the reflection image sharpness was over 30.0. At that time, the reflective image definition is 3.6 or more and 20.7 or less as “o”, and the reflective image definition is within the range of 1.1 or more and less than 3.6 and exceeds 20.7. 9 or less was made into "(triangle | delta)", and it was set as "x", when reflected image definition is less than 1.1 and exceeds 28.9.
Glaring was evaluated based on whether the standard deviation of luminance was 5.53 or less (the standard deviation is 5.5 or less as “「 ”, and 5.53 or more,“ × ”).

（評価結果）
表３中に表されるように、実施例の液晶パネルは、比較例の液晶パネルと比較して、ギラツキを抑制する性能が高いことが確認された。
さらに、実施例の液晶パネルは、比較例の液晶パネルと比較して、防眩性が高いことが確認された。特に、実施例１の液晶パネルは、他の液晶パネルと比較して、防眩性が高いことが確認された。 (Evaluation results)
As shown in Table 3, it was confirmed that the liquid crystal panel of the example has a high performance to suppress glare as compared with the liquid crystal panel of the comparative example.
Furthermore, it was confirmed that the liquid crystal panel of the example has high antiglare property as compared with the liquid crystal panel of the comparative example. In particular, it was confirmed that the liquid crystal panel of Example 1 has high antiglare property as compared with other liquid crystal panels.

１…液晶パネル、２…表示部、４…外周部、６…開口部、６ａ…開口部の内壁面、８ｏｕｔ…外周側面取り部、８ｉｎ…内壁側面取り部、１０…基板、１０ａ…基板の一方の面、１０ｂ…基板の他方の面、１０ｃ…基板の外周面、１２…凹部、１４…アンチグレア処理領域、１６…着色領域、ＵＶＲ…紫外線硬化性樹脂 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Liquid crystal panel, 2 ... Display part, 4 ... Outer peripheral part, 6 ... Opening part, 6a ... Inner wall surface of opening, 8out ... Outer peripheral side chamfering part, 8in ... Inner wall side taking part, 10 ... Substrate, 10a One surface, 10b: the other surface of the substrate, 10c: the outer peripheral surface of the substrate, 12: recess, 14: antiglare processing region, 16: colored region, UVR: UV curable resin

Claims

A display unit formed on a part of the substrate and having light transparency;
An outer peripheral portion forming a portion on the outer peripheral side than the display portion in plan view among the substrates;
A liquid crystal panel including an opening penetrating the outer peripheral portion in the thickness direction of the substrate,
An anti-glare process is performed on a portion of the one surface of the substrate which forms the display unit.
A portion of the one surface forming the outer peripheral portion is subjected to embossing using an ultraviolet curable resin,
A liquid crystal panel characterized in that an inner wall side surface chamfered portion is formed of the ultraviolet curable resin at a portion where the one surface and the inside of the opening portion are continuous.

The liquid crystal panel according to claim 1, wherein the outer peripheral portion surrounds the display portion in the plan view.

The liquid crystal panel according to claim 1 or 2, wherein an outer peripheral side chamfered portion is formed of the ultraviolet curable resin in a portion where the one surface and the outer peripheral surface of the substrate are continuous.

The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 3, wherein the antiglare treatment is performed using a shot blasting process.

The liquid crystal according to any one of claims 1 to 4, wherein a paint having a light shielding property is applied to a portion of the other surface of the substrate which forms the outer peripheral portion. panel.

When the incident angle of light from the light source of the variable angle photometer to the portion forming the display portion is 60 ° and the peak of the transmission diffusion is in the range of 0 to 60, the portion forming the display portion The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 5, wherein a standard deviation of measured values of transmission diffusion distribution is in a range of 0 to 15.

The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 6, wherein a standard deviation of luminance of the portion forming the display portion is 5.53 or less.

In the portion forming the display portion, the root mean square inclination angle is 28.6 ° or more, and the value of the development length ratio of the roughness curve multiplied by 100 and% is 1.2 or more, The cross-sectional level difference of the contour curve is 3.4 μm or more, the average value of the root mean square inclination angle is 0.7 or more, the kurtosis of the roughness curve is 3.5 μm or less, the arithmetic average inclination angle is 22. The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 7, which is 6 ° or more.

The liquid crystal panel according to any one of claims 1 to 8, wherein a portion forming the display portion has a reflection image sharpness within a range of 3.6 to 20.7. .

In the portion forming the display portion, the effective load roughness is in the range of 5.6 μm to 7.2 μm, the average height is in the range of 8.0 μm to 10.2 μm, and the average roughness is The method according to any one of claims 1 to 9, wherein the root mean square roughness is in the range of 2.0 μm to 2.4 μm and the root mean square roughness is in the range of 2.5 μm to 3.0 μm. The liquid crystal panel described in the item.

A display unit formed on a part of the substrate and having light transparency;
An outer peripheral portion forming a portion on the outer peripheral side than the display portion in plan view among the substrates;
And an opening passing through the outer peripheral portion in the thickness direction of the substrate.
A recess forming step of forming a recess corresponding to the shape of the opening at a position where the opening is formed in the substrate;
An anti-glare processing step of performing an anti-glare processing on a portion of the one surface of the substrate which forms the display portion, which is a step after the recess forming step;
A post-processing step of the anti-glare processing step, in which a portion of the one surface forming the outer peripheral portion is subjected to embossing using an ultraviolet curable resin;
One of the substrates including the concave portion so that an inner wall side surface chamfered portion is formed of the ultraviolet curable resin in a portion where the one surface and the inside of the opening portion are continuous after the embossing step. And an opening forming step of removing a part of the UV curable resin.

The method of manufacturing a liquid crystal panel according to claim 11, wherein in the anti-glare processing step, a portion forming the display portion on the one surface is subjected to anti-glare processing using shot blast processing.

In the shot blasting process, the outer diameter of the bead is in the range of 150 μm to 200 μm, the discharge pressure of the bead is in the range of 0.35 MPa to 0.5 MPa, and the number of shots of the bead is 4 times to 8 times The method for manufacturing a liquid crystal panel according to claim 12, wherein the bead is discharged within the range of 200 mm to 300 mm within the following range.

It is a process to be performed between the embossing process and the opening forming process, and includes a coating process of applying a paint having a light shielding property to a portion forming the outer peripheral part on the other surface of the substrate. The method of manufacturing a liquid crystal panel according to any one of claims 11 to 13.