JP2019066473A - 測定室、測定室の動作方法、測定室の化学発光測定方法及び化学発光検出装置 - Google Patents

測定室、測定室の動作方法、測定室の化学発光測定方法及び化学発光検出装置 Download PDF

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Abstract

【課題】測定速度を向上させ、測定が正確である測定室、測定室の動作方法、測定室の化学発光測定方法及び化学発光検出装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、測定室、測定室の動作方法、測定室の化学発光測定方法及び化学発光検出装置に関し、上記測定室は暗室、第１の基質ノズル、光電子増倍管検出組立体、廃液吸引針組立体、キュベット回転トレイ及び複数のキュベット処理ステーションを含み、前記キュベット回転トレイが前記測定室内に自転可能に設置され、前記複数のキュベット処理ステーションの間は互いに遮光密封される。装置が動作すると、キュベット回転トレイ内のキュベットが暗室内に移動し、キュベットが対応する処理用キュベット処理ステーションに移動した後、複数の異なるキュベット処理ステーションは対応するキュベット処理ステーションに移動したキュベットを同時に処理することができ、装置の測定速度を大幅に向上させる。【選択図】図１

Description

本発明は、医療機器の技術分野に関し、特に化学発光検出装置に関するものである。
生物化学発光免疫検出法は、放射免疫検出技術の理論に基づいて確立され、標識法光学機器をトレーサー信号として確立された非放射標識免疫検出方法であり、感度が高く、制限範囲が広く、操作しやすく、自動化を達成しやすい等の利点を有する。現在、生物医学設備の高速な発展に伴い、生体化学発光検出装置の全自動化を達成することについて一定の条件が備えられ、生物化学発光免疫測定法に基づく生物化学発光検出装置は徐々に主流の医療診断設備となっている。
測定室は、化学発光検出装置の測定結果の精度及び測定速度に影響する主要な部材であり、特に測定室の密封性が測定結果の精度及び測定速度を決定する。例えば、中国実用新案第２０５４４９８０７号明細書に開示された測定室は、直列動作のみを行うことができ、すなわち毎回に１つのみのキュベットを測定室に取り入れ、かつフリップカバーを閉じて測定を行い、測定が完了した後にフリップカバーを開いてキュベットを取り出すことができ、測定室の１つのキュベット処理ステーションが動作する場合、他のキュベット処理ステーションがアイドル状態にあるため、キュベットの出入り、励起基質のポンピング、光子測定、廃液処理等の操作を同時に並列処理することができず、装置の測定速度を大きく低減する。
中国実用新案第２０５４４９８０７号明細書
これに基づいて、上記技術的課題に対して、測定速度を向上させ、測定が正確である測定室、測定室の動作方法、測定室の化学発光測定方法及び化学発光検出装置を提供する必要がある。
本発明は、暗室、第１の基質ノズル、光電子増倍管検出組立体、廃液吸引針組立体、キュベット回転トレイ及び複数のキュベット処理ステーションを含み、前記キュベット回転トレイが測定室内に自転可能に設置され、前記複数のキュベット処理ステーションの間は互いに遮光密封されるマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室を提供する。
本発明は、キュベットを測定室に対して取り入れるか又は取り出す第１のキュベット処理ステーションと、第１の基質ノズルを設置して前記キュベットに励起基質Iを添加する第２のキュベット処理ステーションと、光電子増倍管検出組立体を設置する第３のキュベット処理ステーションと、廃液吸引針組立体を設置して前記キュベットの廃液を吸引する第４のキュベット処理ステーションとを含み、前記第３のキュベット処理ステーションと、それに隣接した第２のキュベット処理ステーション、第４のキュベット処理ステーションとの間は、互いに遮光密封されるマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室を提供する。
本発明は、底板、外部シェル、上部カバー、第１の基質ノズル、光電子増倍管検出組立体、廃液吸引針組立体及びキュベット回転トレイを含み、前記底板、外部シェル及び上部カバーにより収容空間が囲まれ、前記キュベット回転トレイが前記収容空間内に自転可能に設置され、前記キュベット回転トレイと前記上部カバーとの間に複数の遮光組立体が設置され、前記複数の遮光組立体が前記キュベット回転トレイと共に前記上部カバーに対して回転して、前記キュベット回転トレイを互いに遮光密封された複数のキュベット収納領域に分割するマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室を提供する。
本発明は、
１）第１のキュベット処理ステーションで測定対象サンプルを入れた第１のキュベットをキュベット回転トレイの第１のキュベット収納キャビティに取り入れるステップと、
２）前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第２のキュベット処理ステーションに移動させ、前記キュベット回転トレイの第２のキュベット収納キャビティを前記第１のキュベット処理ステーションに移動させ、次に、
（１）第１の基質ノズルにより前記第２のキュベット処理ステーションで前記第１のキュベットに励起基質Iを添加するステップと、
（２）第２のキュベットを前記第１のキュベット処理ステーションで前記第２のキュベット収納キャビティに取り入れるステップとを同期に実行するステップと、
３）前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第３のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第２のキュベット収納キャビティを前記第２のキュベット処理ステーションに移動させ、前記キュベット回転トレイの第３のキュベット収納キャビティを前記第１のキュベット処理ステーションに移動させ、次に、
（１）第２の基質ノズルにより前記第１のキュベットに励起基質IIを添加し、光電子増倍管検出組立体により前記第１のキュベットの光子数を測定するステップと、
（２）前記第１の基質ノズルにより前記第２のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップと、
（３）第３のキュベットを前記第１のキュベット処理ステーションで前記第３のキュベット収納キャビティに取り入れるステップとを同期に実行するステップと、
４）前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第４のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第２のキュベット収納キャビティを前記第３のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第３のキュベット収納キャビティを前記第２のキュベット処理ステーションに移動させ、キュベット回転トレイの第４のキュベット収納キャビティを前記第１のキュベット処理ステーションに移動させ、次に、
（１）前記廃液吸引針組立体により前記第１のキュベットの廃液を吸引するステップと、
（２）前記第２の基質ノズルにより前記第２のキュベットに前記励起基質IIを添加し、前記光電子増倍管検出組立体により前記第２のキュベットの光子数を測定するステップと、
（３）前記第１の基質ノズルにより前記第３のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップと、
（４）第４のキュベットを前記第１のキュベット処理ステーションで前記第４のキュベット収納キャビティに取り入れるステップとを同期に実行するステップと、
５）前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを前記第１のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第２のキュベット収納キャビティを前記第４のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第３のキュベット収納キャビティを前記第３のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第４のキュベット収納キャビティを前記第２のキュベット処理ステーションに移動させ、次に、
（１）前記第１のキュベット処理ステーションで前記第１のキュベットを取り出し、かつ第５のキュベットを取り入れるステップと、
（２）前記廃液吸引針組立体により前記第２のキュベットの廃液を吸引するステップと、
（３）前記第２の基質ノズルにより前記第３のキュベットに前記励起基質IIを添加し、前記光電子増倍管検出組立体により前記第３のキュベットの光子数を測定するステップと、
（４）前記第１の基質ノズルにより前記第４のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップとを同期に実行するステップとを含む測定室の動作方法を提供する。
本発明は、第１のキュベット処理ステーションで測定対象サンプルを入れた第１のキュベットをキュベット回転トレイの第１のキュベット収納キャビティに取り入れるステップと、前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第２のキュベット処理ステーションに移動させ、第１の基質ノズルにより前記第２のキュベット処理ステーションで前記第１のキュベットに励起基質Iを添加するステップと、前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第３のキュベット処理ステーションに移動させ、第２の基質ノズルにより前記第１のキュベットに励起基質IIを添加し、光電子増倍管検出組立体により前記第１のキュベットの光子数を測定するステップと、前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第４のキュベット処理ステーションに移動させ、前記廃液吸引針組立体により前記第１のキュベットの廃液を吸引するステップと、前記キュベット回転トレイが回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第１のキュベット処理ステーションに移動させ、前記第１のキュベット処理ステーションで前記第１のキュベットを取り出し、かつ新たなキュベットを取り入れるステップとを含む測定室の化学発光測定方法を提供する。
本発明は、暗室、第１の基質ノズル、光電子増倍管検出組立体、廃液吸引針組立体、キュベット回転トレイ及び複数のキュベット処理ステーションを含み、前記キュベット回転トレイが測定室内に自転可能に設置され、前記複数のキュベット処理ステーションの間は互いに遮光密封される測定室を含む化学発光測定装置を提供する。
本発明は、キュベットを測定室に対して取り入れるか又は取り出す第１のキュベット処理ステーションと、第１の基質ノズルを設置して前記キュベットに励起基質Iを添加する第２のキュベット処理ステーションと、光電子増倍管検出組立体を設置する第３のキュベット処理ステーションと、廃液吸引針組立体を設置して前記キュベットの廃液を吸引する第４のキュベット処理ステーションとを含み、前記第３のキュベット処理ステーションと、それに隣接した第２のキュベット処理ステーション、第４のキュベット処理ステーションとの間は、互いに遮光密封される測定室を含む化学発光測定装置を提供する。
本発明は、底板、外部シェル、上部カバー、第１の基質ノズル、光電子増倍管検出組立体、廃液吸引針組立体及びキュベット回転トレイを含み、前記底板、外部シェル及び上部カバーにより収容空間が囲まれ、前記キュベット回転トレイが前記収容空間内に自転可能に設置され、前記キュベット回転トレイと前記上部カバーとの間に複数の遮光組立体が設置され、前記複数の遮光組立体が前記キュベット回転トレイと共に前記上部カバーに対して回転して、前記キュベット回転トレイを互いに遮光密封された複数のキュベット収納領域に分割する測定室を含む化学発光測定装置を提供する。
本発明は、同期に実行される、
キュベット入りステーションで、測定対象サンプルを入れた第１のキュベットを前記測定室に取り入れるステップＳ１と、
キュベット測定ステーションで、光電子増倍管検出組立体により第２のキュベットの光子数を測定するステップＳ２とを含む測定室の動作方法を提供する。
上記測定室、測定室の動作方法、測定室の化学発光測定方法及び化学発光検出装置において、駆動機構はキュベット回転トレイを暗室内に回転させるように駆動すると、複数のキュベット収納キャビティ内のキュベットがキュベット回転トレイに伴って暗室内に同時に移動し、キュベットが対応する処理用キュベット処理ステーションに搬送された後、複数の異なる処理用キュベット処理ステーションは対応するキュベット処理ステーションに搬送されたキュベットを同時に並列処理することにより、上記測定室はキュベットの出入り、励起基質添加、光子測定、廃液処理の異なるキュベット処理ステーションでの同時動作を達成し、装置の測定速度を大幅に向上させる。
さらに、第３のキュベット処理ステーション（測定用キュベット処理ステーション）とそれに隣接したキュベット処理ステーションとの間は遮光密封され、第３のキュベット処理ステーション（測定用キュベット処理ステーション）のキュベットが測定過程で他のキュベット処理ステーションのキュベットが発生した光線の干渉を受けない。
さらに、複数の遮光組立体により上記測定室のキュベット回転トレイを複数の独立した領域に分割し、この複数の独立した領域間の光線隔離効果に優れているため、測定室のマルチキュベット処理ステーションの並列動作手順で、各キュベット処理ステーションで並列作業する複数のキュベットの間は互いに光干渉しない。
さらに、折り曲げ式ラビリンス構造も動的密封効果を有し、外界光線の測定精度への干渉を排除し、さらに同一測定室内のマルチキュベットの同時並列処理による残留発光干渉の問題を解決する。
本発明の実施例又は従来の技術における技術手段をより明確に説明するために、以下、実施例又は従来の技術の説明に必要な図面を簡単に説明し、明らかに、以下の説明における図面は本発明のいくつかの実施例に過ぎず、当業者にとっては、創造的努力をしない前提で、これらの図面に基づいて他の実施例の図面をも取得することができる。
１つの実施例に係る測定室の構造模式図である。 図１に示した測定室の断面図である。 図２に示した測定室の底板の構造模式図である。 図２に示した測定室の内部シェルの構造模式図である。 図２に示した測定室の外部シェルの構造模式図である。 図２に示した測定室の上部カバーの構造模式図である。 図２に示した測定室のキュベット回転トレイの１つの方向での構造模式図である。 図２に示した測定室のキュベット回転トレイの他の方向での構造模式図である。 図２に示した測定室の第１のキュベット処理ステーション、第２のキュベット処理ステーション、第３のキュベット処理ステーション及び第４のキュベット処理ステーションの構造模式図である。 他の実施例における測定室の底板、内部シェル及び外部シェルの一体成形構造模式図である。
本発明を容易に理解するために、以下、関連図面を参照しながら測定室、測定室のマルチキュベット処理ステーション並列動作方法、化学発光測定方法及び化学発光検出装置について詳細に説明する。図面は、測定室、測定室のマルチキュベット処理ステーション並列動作方法、化学発光測定方法及び化学発光検出装置の最適な実施例を示す。しかしながら、測定室、測定室のマルチキュベット処理ステーション並列動作方法、化学発光測定方法及び化学発光検出装置は、多くの異なる形態で達成可能であり、ここで述べられた実施例に限定されるものではない。逆に、測定室、測定室のマルチキュベット処理ステーション並列動作方法、化学発光測定方法及び化学発光検出装置の開示内容を明らかで、全面的にすることは、これらの実施例を提供する目的である。
特に定義されない限り、ここで使用されたすべての技術的及び科学的な用語は、当業者に一般的に理解される意味と同義である。ここで、測定室、測定室のマルチキュベット処理ステーション並列動作方法、化学発光測定方法及び化学発光検出装置の明細書に使用される用語は、具体的な実施例を説明するためのものに過ぎず、本発明を限定するものではない。ここで使用される用語「及び／又は」は１つ以上の挙げられた項目のうちの任意及びすべての組み合わせを含む。
図１と図２と図９を組み合わせて、１つの実施形態に係る測定室１０００は、底板１１１０、内部シェル１１２０、外部シェル１１３０、上部カバー１１４０、キュベット回転トレイ１７００、駆動機構１２００、第１の基質ノズル１３００、第２の基質ノズル１９００、光電子増倍管検出組立体１４００及び廃液吸引針組立体１５００を含む。底板１１１０、外部シェル１１３０及び上部カバー１１４０により測定室１０００の収容空間（図示せず）が囲まれ、キュベット回転トレイ１７００、内部シェル１１２０が収容空間内に位置し、底板１１１０、外部シェル１１３０、内部シェル１１２０、上部カバー１１４０及びキュベット回転トレイ１７００は暗室（図示せず）を構成する。測定室１０００は、
キュベットを前記測定室１０００に対して取り入れるか又は取り出す第１のキュベット処理ステーションM1（キュベット入りステーション）と、
第１の基質ノズル１３００を設置してキュベットに励起基質Iを添加する第２のキュベット処理ステーションM2（励起基質I添加ステーション）と、
第２の基質ノズル１９００を設置して前記キュベットに励起基質IIを添加し、光電子増倍管検出組立体１４００を設置する第３のキュベット処理ステーションM3（キュベット測定ステーション）と、
廃液吸引針組立体１５００を設置して前記キュベットの廃液を吸引する第４のキュベット処理ステーション（廃液吸引ステーション）との、互いに遮光密封された４つのキュベット処理ステーションM4を含む。
第１のキュベット処理ステーションM1、第２のキュベット処理ステーションM2、第３のキュベット処理ステーションM3及び第４のキュベット処理ステーションM4は、キュベット回転トレイ１７００の自転方向に沿って順に配列され、かつ互いに遮光密封され、第１のキュベット処理ステーションM1と第３のキュベット処理ステーションM3が対角に設置され、第２のキュベット処理ステーションM2と第４のキュベット処理ステーションM4が対角に設置される。
図３を組み合わせて、１つの実施例において、底板１１１０に第１の貫通孔１１１２が開設され、底板１１１０に第１の貫通孔１１１２の径方向に沿って第４の環状ボス１１１６及び第５の環状ボス１１１４が内向きに順に形成される。第４の環状ボス１１１６が底板１１１０の外縁を上向きに延伸させて形成され、第５の環状ボス１１１４、第４の環状ボス１１１６、第１の貫通孔１１１２及びキュベット回転トレイ１７００の中心軸線が同じであり、第５の環状ボス１１１４の内径が第４の環状ボス１１１６よりも小さい。第４の環状ボス１１１６と第５の環状ボス１１１４との間に第１の収容溝１１１５が形成され、第５の環状ボス１１１４と第１の貫通孔１１１２との間に第２の収容溝１１１７が形成される。底板１１１０に開口１１１８がさらに設置され、開口１１１８が廃液吸引針組立体１５００を取り付けるために用いられる。
図４を組み合わせて、１つの実施例において、内部シェル１１２０は円筒状を呈し、内部シェル１１２０の上部の外縁に環状溝１１２１が開設され、それにより内部シェル１１２０の上部に第２の環状ボス１１２２（すなわち、第２の環状ボス１１２２が内部シェル１１２０の前記キュベット回転トレイ１７００に接近した端に位置する）が形成され、内部シェル１１２０に第２の貫通孔１１２４が開設される。内部シェル１１２０の内壁に第２の貫通孔１１２４に対応して光源が取り付けられる。第２の貫通孔１１２４は光源から放出された光を通過させるために用いられる。
図５を組み合わせて、１つの実施例において、外部シェル１１３０は円筒状を呈し、外部シェル１１３０の底部の外縁に第４の環状凹溝１１３２が開設され、それにより外部シェルの底部に第１の頸部１１３１及び第１の肩部１１３３が形成される。外部シェル１１３０の上部の外縁に第３の環状凹溝１１３４が開設され、それにより外部シェルの上部に第３の頸部１１３７及び第３の肩部１１３５が形成され、外部シェル１１３０のキャビティが段差孔１１３６であり、該段差孔１１３６は第１の孔１１３６１及び第２の孔１１３６２を含み、第１の孔１１３６１と第２の孔１１３６２がそれぞれ外部シェル１１３０の頂端と底端に位置し、第１の孔１１３６１の直径が第２の孔１１３６２の直径よりも大きく、それにより第１の孔１１３６１と第２の孔１１３６２の接合部に第１の環状凹溝１１３６３が形成される。
さらに、外部シェル１１３０の側壁に第３の貫通孔１１３８が開設され、同時に図１に示すとおり、外部シェル１１３０に第３の貫通孔１１３８に対応して光電子増倍管検出組立体１４００が取り付けられる。光電子増倍管検出組立体１４００は第３の貫通孔１１３８により暗室（図示せず）において行われた化学発光免疫反応による光子数を検出する。外部シェル１１３０に光結合素子１６００を取り付けるための第４の貫通孔１１３９がさらに開設される。光結合素子１６００が暗室（図示せず）における第２のキュベット処理ステーションM2でキュベットを有するか否かを検出するために用いられる。
図６を組み合わせて、１つの実施例において、上部カバー１１４０は円形のカバープレート１１４１及び第３の環状ボス１１４２を含み、カバープレート１１４１の外縁が下向きに突出して第３の環状ボス１１４２が形成され、第３の環状ボス１１４２がカバープレート１１４１の中心軸線を取り囲み、カバープレート１１４１は対向して設置された第１の表面（すなわちカバープレートの底面）及び第２の表面（すなわちカバープレートの頂面）を含み、第１の表面が底部に位置し、第２の表面が上部に位置する。カバープレート１１４１の第１の表面の中央に第１のブラインドホール１１４３が開設され、第１のブラインドホール１１４３の底面中央に第１の円柱台１１４５及び第２の円柱台１１４６が順に下向きに突出して形成され、第１の円柱台１１４５が第１のブラインドホール１１４３の底面に接近し、第２の円柱台１１４６が第１のブラインドホール１１４３の底面から離れ、第１の円柱台１１４５の直径が第２の円柱台１１４６の直径よりも大きく、第１の円柱台１１４５、第２の円柱台１１４６、第１のブラインドホール１１４３及びカバープレート１１４１の中心軸線が同一軸線である。カバープレート１１４１の第１の表面にカバープレート１１４１の周方向に沿って対称に分布した４つの第１の遮光組立体収容溝１１４７が開設され、第１の遮光組立体収容溝１１４７が第１の表面の径方向に沿って延伸し、かつ第１のブラインドホール１１４３と第３の環状ボス１１４２との間に接続され、該４つの第１の遮光組立体収容溝１１４７が第３の環状ボス１１４２の中心軸線に対して対称に分布し、それによりカバープレート１１４１を４つの領域に分割する。さらに、１つの実施例において、上部カバー１１４０にキュベット出入口１１４４がさらに開設される。
図７及び図８を組み合わせて、１つの実施例において、キュベット回転トレイ１７００がキュベット回転トレイ１７００の径方向に沿って内部シェル１１２０と外部シェル１１３０との間に設置され、キュベット回転トレイ１７００がキュベット回転トレイ１７００の軸方向に沿って上部カバー１１４０と底板１１１０との間に位置する。キュベット回転トレイ１７００は上板１７２０、周壁１７４０及び回転軸１７６０を含み、上板１７２０は円板状を呈し、かつ対向して設置された第１の表面及び第２の表面を含み、第１の表面が底部に位置し、第２の表面が上部に位置し、第２の表面と上部カバー１１４０とが隙間嵌めする。
さらに、周壁１７４０は円筒状を全体的に呈し、上板１７２０の第１の表面で鉛直に下向きに延伸して形成され、周壁１７４０がキュベット回転トレイ１７００のキャビティを取り囲んで形成する。上板１７２０の直径は周壁１７４０の外径よりも大きく、それにより上板１７２０に周壁１７４０に対して径方向に沿って第１の環状ボス１７３０が外向きに突出して形成される。周壁１７４０は第１の端及び第２の端を含み、第１の端が上板１７２０の第１の表面に接近し、第２の端が上板１７２０の第１の表面から離れ、周壁１７４０の第２の端の内側（周壁の底面）に第５の環状凹溝１７９０が開設され、第５の環状凹溝１７９０がキュベット回転トレイの回転中心軸線を取り囲む。
さらに、回転軸１７６０が上板１７２０の第１の表面の中央で鉛直に下向きに延伸して形成される。回転軸１７６０は第１の端及び第２の端を含み、第１の端が上板１７２０の第１の表面に接近し、第２の端が上板１７２０の第１の表面から離れる。回転軸１７６０の第２の端に切欠溝１７６２が開設され、該切欠溝１７６２が水平方向に沿って該回転軸１７６０の第２の端を貫通し、かつ２つの対向して設置されたバンプ１７６４を形成し、該２つのバンプ１７６４がそれぞれ該切欠溝１７６２の両側に対称に設置され、切欠溝１７６２の頂面に第２のブラインドホール１７６６が開設され、第２のブラインドホール１７６６の中心軸線が回転軸１７６０の中心軸線と同じである。
さらに、上板１７２０の第１の表面は周壁１７４０の内縁に沿って下向きに延伸して第１の環状台１７８０が形成され、第１の環状台１７８０の高さが周壁１７４０の高さよりも小さく、第１の環状台１７８０がキュベット回転トレイ１７００の中心軸線を取り囲む。第１の環状台１７８０は対向して設置された第１の端及び第２の端を含み、第１の端が上板１７２０の第１の表面に接近し、第２の端が上板１７２０の第１の表面から離れ、第１の環状台１７８０の第２の端（第１の環状台の底面）に第１の環状台１７８０の周方向に沿って第２の環状凹溝１７７０が開設され、それにより第１の環状台１７８０を互いに離間された第１の部分１７８２及び第２の部分１７８４に分け、第１の部分１７８２及び第２の部分１７８４がそれぞれ円環状であり、かつそれぞれキュベット回転トレイ１７００の回転中心軸線を取り囲み、第２の部分１７８４が第１の部分１７８２の径方向外側に位置する。
さらに、上板１７２０の第２の表面中央に段差孔１７２２が開設され、段差孔１７２２は大きな孔及び小さな孔を含み、大きな孔が小さな孔の上方に位置し、大きな孔と小さな孔との接続部に段差面が形成され、段差面が環状であり、かつキュベット回転トレイ１７００の回転中心軸線を取り囲む。第２の表面は大きな孔の周縁で上向きに突出して第２の環状台１７２４が形成され、第２の環状台１７２４が円環状を呈し、かつキュベット回転トレイ１７００の回転中心軸線を取り囲む。第２の表面に４つのキュベット収納キャビティ１７２６が開設され、キュベットを収納するために用いられ、キュベット回転トレイ１７００の周壁１７４０の外表面に４つの測定ウィンドウ１７４２が開設され、該４つの測定ウィンドウ１７４２が４つのキュベット収納キャビティ１７２６と一対一に対応し、かつそれに連通し、キュベット回転トレイ１７００の周壁１７４０の内表面に透光孔１７４４が開設され、透光孔１７４４が測定ウィンドウ１７４２に連通し、透光孔１７４４がキュベット回転トレイ１７００のキャビティ及び測定ウィンドウ１７４２に連通する。キュベットのヘッド部がキュベット収納キャビティ１７２６に掛けられると、キュベットの本体が測定ウィンドウ１７４２に伸び、それによりキュベットの本体を観察することができる。第２の表面に４つの第２の遮光組立体収容溝１７２８が開設され、第２の遮光組立体収容溝１７２８に上板１７２０の径方向に沿って延伸し、かつ大きな孔と上板１７２０の外縁との間に接続され、該４つの第２の遮光組立体収容溝１７２８がキュベット回転トレイ１７００の回転中心軸線に対して対称に分布し、それにより上板１７２０を４つのキュベット収納領域に分割し、それに応じてキュベット回転トレイ１７００を４つのキュベット収納領域に分割し、各キュベット収納領域にキュベット収納キャビティ１７２６が対応的に設置される。４つの第２の遮光組立体収容溝１７２８、４つの第１の遮光組立体収容溝１１４７、４つの遮光組立体、４つのキュベット処理ステーション、４つのキュベット収納領域が一対一に対応する。キュベット回転トレイ１７００が回転して４つのキュベット収納領域を対応するキュベット処理ステーションに回線させると、４つの第２の遮光組立体収容溝１７２８が４つの第１の遮光組立体収容溝１１４７と一対一に対応し、各第１の遮光組立体収容溝１１４７が対応する第２の遮光組立体収容溝１７２８と共に遮光組立体を収納する空間を構成する。
図２〜４を組み合わせて、１つの実施例において、内部シェル１１２０は前記測定室の収容空間（図示せず）に設置され、内部シェル１１２０が底板１１１０の第２の収容溝１１１７に固定的に取り付けられ、かつ内部シェル１１２０の外壁が底板１１１０の第５の環状ボス１１１４の第１の貫通孔１１１２に接近した側に当接する。内部シェル１１２０はキュベット回転トレイ１７００のキャビティに位置し、内部シェル１１２０は軸方向に沿ってキュベット回転トレイ１７００の上板１７２０の前記第１の表面と底板１１１０との間に位置する。
同時に図８に示すとおり、第２の環状ボス１１２２は内部シェル１１２０のキュベット回転トレイ１７００に接近した端に位置し、キュベット回転トレイ１７００の上板の前記第１の表面に第１の環状台１７８０が突出して形成され、前記第１の環状台１７８０に周方向に沿って前記第２の環状凹溝１７７０が開設して形成され、内部シェル１１２０の第２の環状ボス１１２２がキュベット回転トレイ１７００の第２の環状凹溝１７７０と互いに嵌めし、第２の環状ボス１１２２が第２の環状凹溝１７７０に嵌め込まれ、第２のラビリンス構造を形成し、キュベット回転トレイを回転させると、第２の環状ボス１１２２と第２の環状凹溝１７７０とが相対的にスライドすることができる。内部シェル１１２０はキュベット回転トレイ１７００のキャビティに取り付けられ、かつ内部シェル１１２０の外壁とキュベット回転トレイ１７００の周壁１７４０の内壁との間に一定の隙間が存在し、該隙間がキュベット回転トレイ１７００の暗室（図示せず）における回転を満たすとよい。他の実施例において、第２の環状ボス１１２２は環状凹溝であってもよく、第２の環状ボス１１２２に嵌合した第２の環状凹溝１７７０が環状ボスであってもよく、第２の環状ボス１１２２及び第２の環状凹溝１７７０がラビリンス折り曲げ面を形成することができるとよい。
図３及び図５を組み合わせて、１つの実施例において、外部シェル１１３０は底板１１１０の第１の収容溝１１１５に固定的に取り付けられ、外部シェル１１３０の第４の環状凹溝１１３２が前記外部シェル１１３０の前記底板１１１０に接近した端に位置し、第４の環状凹溝１１３２が底板１１１０の第４の環状ボス１１１６に嵌合し、外部シェル１１３０の第１の頸部１１３１が第４の環状ボス１１１６の第１の収容溝１１１５に接近した側面に当接し、第１の肩部１１３３が第４の環状ボス１１１６の頂面に架設され、第４のラビリンス構造を形成する。他の実施例において、第４の環状ボス１１１６は環状凹溝であってもよく、第４の環状ボス１１１６に嵌合した第４の環状凹溝１１３２が環状ボスであってもよく、第４の環状ボス１１１６及び第４の環状凹溝１１３２がラビリンス折り曲げ面を形成することができるとよい。さらに、外部シェル１１３０上の第３の貫通孔１１３８は内部シェル１１２０上の第２の貫通孔１１２４に対応し、第３の貫通孔１１３８と第２の貫通孔１１２４の中心軸線が同じであり、キュベット回転トレイ１７００がキュベットを第３のキュベット処理ステーションに搬送するM3￥と、第３の貫通孔１１３８、第２の貫通孔１１２４がキュベット回転トレイ１７００上の透光孔１７４４及び測定ウィンドウ１７４２と互いに連通する。
図５及び図６を組み合わせて、１つの実施例において、上部カバー１１４０は外部シェル１１３０に固定的に取り付けられ、第３の環状ボス１１４２の上部カバー１１４０の中心軸線に接近した側面が外部シェル１１３０の第３の頸部１１３７に当接し、第３の環状ボス１１４２の底面が第３の肩部１１３５に架設され、それにより第３の環状ボス１１４２が第３の環状凹溝１１３４に嵌合し、第３のラビリンス構造を形成する。すなわち、カバープレート１１４１の外縁が突出して前記第３の環状ボス１１４２が形成され、前記第３の環状凹溝１１３４が前記外部シェル１１３０の前記上部カバー１１４０に接近した端に位置し、前記第３の環状ボス１１４２が前記第３の環状凹溝１１３４に嵌合し当接し、第３のラビリンス構造を形成する。他の実施例において、第３の環状ボス１１４２は環状凹溝であってもよく、第３の環状ボス１１４２に嵌合した第３の環状凹溝１１３４が環状ボスであってもよく、第３の環状ボス１１４２及び第３の環状凹溝１１３４がラビリンス折り曲げ面を形成することができるとよい。
図２、図５及び図７を組み合わせて、１つの実施例において、キュベット回転トレイ１７００の第１の環状ボス１７３０が外部シェル１１３０の第１の環状凹溝１１３６３に嵌合し、第１のラビリンス構造を形成し、第１の環状ボス１７３０の側面と第１の孔１１３６１の孔壁との間に一定の隙間が存在し、該隙間がキュベット回転トレイ１７００の測定室の収容空間（図示せず）における回転を満たすとよく、第１の環状ボス１７３０の底面が第１の環状凹溝１１３６３の底面に当接し、キュベット回転トレイ１７００が回転すると、第１の環状ボス１７３０と第１の環状凹溝１１３６３とが相対的にスライドすることができる。すなわち、前記キュベット回転トレイ１７００の上板１７２０に径方向に沿って前記第１の環状ボス１７３０が外向きに突出して形成され、前記外部シェル１１３０の第１の孔と第２の孔との接合部に第１の環状凹溝１１３６３が形成され、前記第１の環状ボス１７３０が前記第１の環状凹溝１１３６３に嵌め込まれて相対的にスライド可能であり、それにより第１のラビリンス構造を形成する。他の実施例において、第１の環状ボス１７３０は環状凹溝であってもよく、第１の環状ボス１７３０に嵌合した第１の環状凹溝１１３６３が環状ボスであってもよく、第１の環状ボス１７３０及び第１の環状凹溝１１３６３がラビリンス折り曲げ面を形成することができるとよい。キュベット回転トレイ１７００の周壁１７４０は底板１１１０、内部シェル１１２０及び外部シェル１１３０により囲まれた空間内に設置され、周壁１７４０の第２の端と底板１１１０との間に一定の隙間が存在し、該隙間がキュベット回転トレイ１７００の測定室の収容空間（図示せず）における回転を満たすとよい。
図４及び図８を組み合わせて、１つの実施例において、周壁１７４０上の第５の環状凹溝１７９０は底板１１１０上の第５の環状ボス１１１４に嵌合し、第５のラビリンス構造を形成し、キュベット回転トレイ１７００が回転すると、第５の環状凹溝１７９０と第５の環状ボス１１１４とが相対的にスライドすることができる。他の実施例において、第５の環状ボス１１１４は環状凹溝であってもよく、第５の環状ボス１１１４に嵌合した第５の環状凹溝１７９０が環状ボスであってもよく、第５の環状ボス１１１４及び第５の環状凹溝１７９０がラビリンス折り曲げ面を形成することができるとよい。
図２、図６及び図７を組み合わせて、１つの実施例において、キュベット回転トレイ１７００の第２の環状台１７２４は上部カバー１１４０上の第１のブラインドホール内に嵌着され、第２の環状台１７２４のキュベット回転トレイ１７００の中心軸線から離れた側面が第１のブラインドホール１１４３の孔壁に当接し、第２の環状台１７２４の頂面が第１のブラインドホール１１４３の底面に当接する。段差孔１７２２は軸受１８００を取り付けるために用いられ、軸受１８００が段差孔１７２２の大きな孔内に設置され、大きな孔と小さな孔で形成された段差面に受け取られる。上部カバー１１４０の第２の円柱台１１４６は段差孔１７２２に伸び、軸受１８００内に嵌着され、上部カバー１１４０の第１の円柱台１１４５と第２の円柱台１１４６との接続部に位置制限段差が形成され、軸受１８００に位置制限を行うために用いられる。すなわち、軸受１８００は軸方向に沿って前記位置制限段差と前記段差面との間に位置制限される。
さらに、１つの実施例において、遮光組立体（図示省略）は弾性部材１７２９及び遮光プレートを含む。弾性部材１７２９はねじにより第２の遮光組立体収容溝１７２８に固定的に接続され、遮光プレートが弾性部材１７２９に置かれる。キュベット回転トレイ１７００は第１の遮光組立体収容溝１１４７の位置に回転して第２の遮光組立体収容溝１７２８の位置と完全に重ね合わせると、弾力部材が弾み上げ状態にあり、弾性部材１７２９が遮光プレートを第１の遮光組立体収容溝１１４７に当接させ、遮光組立体（図中省略）が第１の遮光組立体収容溝１１４７と対応する第２の遮光組立体収容溝１７２８で構成された遮光組立体収容キャビティにあり、それにより上部カバー１１４０及びキュベット回転トレイ１７００が密封され、キュベット回転トレイ１７００上のキュベットがキュベット処理ステーションに位置すると、キュベットの対応処理を行うことができる。キュベット回転トレイ１７００は第２の遮光組立体収容溝１７２８の位置に回転して第１の遮光組立体収容溝１１４７の位置とずらすと、弾性部材１７２９が圧縮状態にあり、上部カバー１１４０が遮光プレート（図中省略）を第２の遮光組立体収容溝１７２８に圧着し、それにより上部カバー１１４０とキュベット回転トレイ１７００とが相対的に回転することができる。
図２を組み合わせて、１つの実施例において、駆動機構１２００は底板１１１０上の第１の貫通孔を貫通して底板１１１０に固定的に取り付けられ、駆動機構１２００は接続ブロック１２２０、回転プラットフォーム１２４０及びモータ１２６０を含む。接続ブロック１２２０が回転プラットフォーム１２４０に固定的に接続され、例えばねじにより固定的に接続される。モータ１２６０は回転プラットフォーム１２４０に固定的に接続され、モータ１２６０は回転プラットフォーム１２４０を回転させるように駆動する。接続ブロック１２２０はキュベット回転トレイ１７００の切欠溝１７６２と係止する。回転プラットフォーム１２４０は回転すると、回転プラットフォーム１２４０に固定的に接続された接続ブロック１２２０を移動させるように駆動し、それにより接続ブロック１２２０に接続されたキュベット回転トレイ１７００を移動させるように駆動し、駆動機構１２００はキュベット回転トレイ１７００を暗室内に回転させるように駆動することを達成する。
具体的には、１つの実施例において、光電子増倍管検出組立体１４００は外部シェル１１３０に取り付けられ、かつ前記第３のキュベット処理ステーションM3に設置され、キュベット出入口１１４４と対向して設置され、暗室（図示せず）において行われた化学発光免疫反応による光子数を検出するために用いられる。上部カバー１１４０に２つの基質ノズルが設置され、測定対象キュベットに励起基質を添加するために用いられ、第１の基質ノズル１３００が光結合素子１６００に対応して上部カバー１１４０に取り付けられ、かつ第２のキュベット処理ステーションM2に位置し、第２の基質ノズル１９００が光電子増倍管検出組立体１４００に対して上部カバー１１４０に取り付けられ、かつ第３のキュベット処理ステーションM3に位置し、第１の基質ノズル１３００と第２の基質ノズル１９００とが直角を呈して上部カバー１１４０に設置される。測定室１０００は、廃液吸引針組立体１５００及び光結合素子１６００をさらに含むことができ、廃液吸引針組立体１５００が底板１１１０に取り付けられ、かつ第４のキュベット処理ステーションM4に位置し、既に検出されたキュベット内の廃液を吸引するために用いられる。光結合素子１６００は暗室（図示せず）の外部シェル１１３０に取り付けられ、暗室における第２のキュベット処理ステーションM2にキュベットが存在するか否かを検出するために用いられる。
さらに、本発明の測定室は、金属材料で製造された接地組立体（図示せず）をさらに含み、接地組立体が底板１１１０の第２の収容溝１１１７に取り付けられ、かつキュベット回転トレイ１７００のキャビティに位置し、接地組立体の上部が上部カバー１１４０と一定の距離離間され、接地組立体の上部に下向きに弾性的に湾曲可能なばね板が設置され、ばね板がキュベット回転トレイ１７００の上板１７２０と接地組立体との間に予圧される。キュベット回転トレイ１７００の回転過程で静電気が発生し、接地組立体が静電気を放出するために用いられ、それにより測定室１０００の動作への影響を回避する。
他の実施例において、例えば図10に示すとおり、測定室１０００の底板１１１０、外部シェル１１３０、内部シェル１１２０は一体成形される。上部カバー１１４０は外部シェル１１３０に固定され、外部シェル１１３０の上部とキュベット回転トレイ１７００との接続部に第１のラビリンス構造が形成され、内部シェル１１２０の上部とキュベット回転トレイ１７００との接続部に第２のラビリンス構造が形成される。好ましくは、外部シェル１１３０と上部カバー１１４０との接続部に第３のラビリンス構造が形成される。測定室、第１のラビリンス構造、第２のラビリンス構造及び第３のラビリンス構造は前記のような内容であり、ここで繰り返して説明しない。
具体的には、１つの実施例において、測定室１０００のマルチキュベット処理ステーションの並列動作方法は、
１）上部カバー１１４０のキュベット出入口１１４４により、第１のキュベット処理ステーションでM1測定対象サンプルを入れた第１のキュベットをキュベット回転トレイ１７００の第１のキュベット収納キャビティ１７２６に取り入れるステップと、
２）駆動機構１２００によりキュベット回転トレイ１７００を９０°回転させ、第１のキュベット収納キャビティ１７２６を第２のキュベット処理ステーションM2に移動させ、第２のキュベット収納キャビティ１７２６を第１のキュベット処理ステーションM1に移動させるように駆動し、次に、
（１）光結合素子１６００によりキュベット回転トレイ１７００にキュベットを有すると検出すると、第１の基質ノズルにより前記第２のキュベット処理ステーションM2で第１のキュベットに励起基質Iを添加するステップと、
（２）第２のキュベットを前記第１のキュベット処理ステーションM1で前記第２のキュベット収納キャビティ１７２６に取り入れるステップとを同期に実行するステップと、
３）駆動機構１２００によりキュベット回転トレイ１７００を９０°回転させ、第１のキュベット収納キャビティ１７２６を第３のキュベット処理ステーションM3に移動させ、第２のキュベット収納キャビティ１７２６を第２のキュベット処理ステーションM2に移動させ、第３のキュベット収納キャビティ１７２６を第１のキュベット処理ステーションM1に移動させるように駆動し、次に、
（１）第２の基質ノズル１９００により第１のキュベットに励起基質IIを添加し、励起基質IIの作用で、測定対象サンプル中の特異性物質が発光し、光電子増倍管検出組立体１４００により光子数を受信し、かつ記録し検出を行うステップと、
（２）前記第１の基質ノズル１３００により前記第２のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップと、
（３）第３のキュベットを前記第１のキュベット処理ステーションM1で前記第３のキュベット収納キャビティ１７２６に取り入れるステップとを同期に実行するステップと、
４）駆動機構１２００によりキュベット回転トレイ１７００を９０°回転させ、第１のキュベット収納キャビティ１７２６を第４のキュベット処理ステーションM4に移動させ、第２のキュベット収納キャビティ１７２６を第３のキュベット処理ステーションM3に移動させ、第３のキュベット収納キャビティ１７２６を第２のキュベット処理ステーションM2に移動させ、第４のキュベット収納キャビティ１７２６を前記第１のキュベット処理ステーションM1に移動させるように駆動し、次に、
（１）廃液吸引針組立体１５００により検出が完了した第１のキュベット中の廃液を吸引するステップと、
（２）前記第２の基質ノズル１９００により前記第２のキュベットに前記励起基質IIを添加し、励起基質IIの作用で、測定対象サンプル中の特異性物質が発光し、光電子増倍管検出組立体１４００により光子数を受信し、かつ記録し検出を行うステップと、
（３）前記第１の基質ノズル１３００により前記第３のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップと、
（４）第４のキュベットを前記第１のキュベット処理ステーションM1で前記第４のキュベット収納キャビティ１７２６に取り入れるステップとを同期に実行するステップと、
５）駆動機構１２００によりキュベット回転トレイ１７００を９０°回転させ、第１のキュベット収納キャビティ１７２６を第１のキュベット処理ステーションM1に移動させ、第２のキュベット収納キャビティ１７２６を第４のキュベット処理ステーションM4に移動させ、第３のキュベット収納キャビティ１７２６を第３のキュベット処理ステーションM3に移動させ、第４のキュベット収納キャビティ１７２６を第２のキュベット処理ステーションM2に移動させるように駆動し、次に、
（１）前記第１のキュベット処理ステーションM1で前記第１のキュベットを取り出し、かつ第５のキュベットを取り入れるステップと、
（２）前記廃液吸引針組立体１５００により前記第２のキュベットの廃液を吸引するステップと、
（３）前記第２の基質ノズル１９００により前記第３のキュベットに前記励起基質IIを添加し、励起基質IIの作用で、測定対象サンプル中の特異性物質が発光し、光電子増倍管検出組立体１４００により光子数を受信し、かつ記録し検出を行うステップと、
（４）前記第１の基質ノズル１３００により前記第４のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップとを同期に実行するステップとを含む。
具体的には、他の実施例において、測定室１０００のマルチキュベット処理ステーションの並列動作方法は、
キュベット入りステーションで、測定対象サンプルを入れた第１のキュベットを前記測定室１０００に取り入れるステップＳ１と、
キュベット測定ステーションで、光電子増倍管検出組立体１４００により第２のキュベットの光子数を測定するステップＳ２とを含む。
好ましくは、同期に実行される、廃液吸引ステーションで、廃液吸引針組立体１５００により光子数測定が終了した第３のキュベットの廃液を吸引するステップをさらに含む。
好ましくは、同期に実行される、励起基質I添加ステーションで、第１の基質ノズル１３００により光子数測定対象の第４のキュベットに前記励起基質Iを添加するステップをさらに含む。
好ましくは、ステップＳ２で、第２の基質ノズル１９００により前記第２のキュベットに前記励起基質IIを先に添加するステップをさらに含む。
好ましくは、ステップＳ１で、廃液が吸引された第５のキュベットを前記キュベット入りステーションで測定室１０００から先に取り出すステップをさらに含む。
具体的には、１つの実施例において、測定室１０００の化学発光測定方法は、
１）第１のキュベット処理ステーションM1で測定対象サンプルを入れた第１のキュベットをキュベット回転トレイ１７００の第１のキュベット収納キャビティに取り入れるステップと、
２）前記キュベット回転トレイ１７００が回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第２のキュベット処理ステーションM2に移動させ、第１の基質ノズル１３００により前記第２のキュベット処理ステーションM2で前記第１のキュベットに励起基質Iを添加するステップと、
３）前記キュベット回転トレイ１７００が回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第３のキュベット処理ステーションM3に移動させ、第２の基質ノズル１９００により前記第１のキュベットに励起基質IIを添加し、励起基質IIの作用で、測定対象サンプル中の特異性物質が発光し、光電子増倍管検出組立体１４００により光子数を受信し、かつ記録し検出を行うステップと、
４）前記キュベット回転トレイ１７００が回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第４のキュベット処理ステーションM4に移動させ、前記廃液吸引針組立体１５００により前記第１のキュベットの廃液を吸引するステップと、
５）前記キュベット回転トレイ１７００が回転して前記第１のキュベット収納キャビティを第１のキュベット処理ステーションM1に移動させ、前記第１のキュベット処理ステーションM1で前記第１のキュベットを取り出し、かつ新たなキュベットを取り入れるステップとを含む。
本発明は、上記図１〜図８に示した測定室１０００を含む１つの実施形態における化学発光検出装置をさらに提供する。
本発明の測定室１０００に複数の上記折り曲げ式ラビリンス構造が形成され、例えば、底板１１１０と外部シェル１１３０との接続部に形成された第４のラビリンス構造、底板１１１０とキュベット回転トレイ１７００との接続部に形成された第５のラビリンス構造、外部シェル１１３０と上部カバー１１４０との接続部に形成された第３のラビリンス構造、外部シェル１１３０とキュベット回転トレイ１７００との接続部に形成された第１のラビリンス構造、内部シェル１１２０とキュベット回転トレイ１７００との接続部に形成された第２のラビリンス構造であり、外界の自然光が測定室１０００に照射し、かつ暗室（図示せず）に伝達されると、複数の折り曲げ面の反射により、自然光除去の程度に接近し強度が低減され、それにより自然光の検出への影響を排除し、検出結果の精度を向上させる。
また、本発明の上記折り曲げ式ラビリンス構造も動的密封効果を有し、マルチキュベット処理ステーション並列処理測定室１０００内のマルチキュベットの同時並列処理による残留発光干渉の問題を解決する。駆動機構１２００はキュベット回転トレイ１７００を暗室（図示せず）内に回転させるように駆動すると、複数のキュベット収納キャビティ１７２６内のキュベットがキュベット回転トレイ１７００に伴って暗室（図示せず）内に同時に移動し、キュベットが対応する処理用キュベット処理ステーションに搬送された後、複数の異なる処理用キュベット処理ステーションは対応するキュベット処理ステーションに搬送されたキュベットを同時に並列処理することにより、上記測定室はキュベットの出入り、励起基質添加、光子測定、廃液処理の異なるキュベット処理ステーションでの同時動作を達成し、装置の測定速度を大幅に向上させる。
それと同時に、本発明の複数の遮光組立体はキュベット回転トレイ１７００と上部カバー１１４０との間に設置され、複数の遮光組立体はキュベット回転トレイ１７００と共に前記上部カバー１１４０に対して回転して、前記キュベット回転トレイ１７００を互いに遮光密封された複数のキュベット収納領域に分割し、この複数のキュベット収納領域の互いの間の光線隔離効果に優れているため、測定室のマルチキュベット処理ステーションの並列動作手順で、各キュベット処理ステーションで並列動作した複数のキュベットの間が互いに光干渉せず、特に第３のキュベット処理ステーションM3（キュベット測定ステーション）のキュベットが測定過程で他のキュベット処理ステーションのキュベットによる光線干渉を受けないように確保する。このように検出結果を精度を向上させるだけでなく、同一測定室内のマルチキュベットの同時並列処理による残留発光干渉の問題も解決し、それにより上記測定室はキュベットの出入り、励起基質添加、光子測定、廃液処理の異なるキュベット処理ステーションでの同時動作を達成し、装置の測定速度を大幅に向上させる。
前記のような実施例の各技術的特徴を任意に組み合わせることができ、簡単に説明するために、上記実施例における各技術的特徴のすべての可能性のある組み合わせをすべて説明しないが、これらの技術的特徴の組み合わせに矛盾が存在しないと、いずれも本明細書に記載の範囲に属するべきであると考えられる。
上述した実施例は本発明のいくつかの実施形態だけを表現し、それらの説明が具体的で詳細的であるが、それにより本発明の特許の範囲を限定するものであると理解することができない。指摘すべきものとして、当業者にとっては、本発明の思想から逸脱しない前提で、さらにいくつかの変形及び修正を行うこともでき、これらがいずれも本発明の保護範囲に属する。したがって、本発明の特許の保護範囲は特許請求の範囲を基準とする。
１０００ 測定室（マルチキュベット処理ステーション並列処理測定室）
１１１０ 底板
１１１２ 第１の貫通孔
１１１４ 第５の環状ボス
１１１５ 第１の収容溝
１１１６ 第４の環状ボス
１１１７ 第２の収容溝
１１１８ 開口
１１２０ 内部シェル
１１２１ 環状溝
１１２２ 第２の環状ボス
１１２４ 第２の貫通孔
１１３０ 外部シェル
１１３１ 第１の頸部
１１３２ 第４の環状凹溝
１１３３ 第１の肩部
１１３４ 第３の環状凹溝
１１３５ 第３の肩部
１１３６ 段差孔
１１３７ 第３の頸部
１１３８ 第３の貫通孔
１１３９ 第４の貫通孔
１１４０ 上部カバー
１１４１ カバープレート
１１４２ 第３の環状ボス
１１４３ 第１のブラインドホール
１１４４ キュベット出入口
１１４５ 第１の円柱台
１１４６ 第２の円柱台
１１４７ 第１の遮光組立体収容溝
１２００ 駆動機構
１２２０ 接続ブロック
１２４０ 回転プラットフォーム
１２６０ モータ
１３００ 第１の基質ノズル
１４００ 光電子増倍管検出組立体
１５００ 廃液吸引針組立体
１６００ 光結合素子
１７００ キュベット回転トレイ
１７２０ 上板
１７２２ 段差孔
１７２４ 第２の環状台
１７２６ キュベット収納キャビティ
１７２８ 第２の遮光組立体収容溝
１７２９ 弾性部材
１７３０ 第１の環状ボス
１７４０ 周壁
１７４２ 測定ウィンドウ
１７４４ 透光孔
１７６０ 回転軸
１７６２ 切欠溝
１７６４ バンプ
１７６６ 第２のブラインドホール
１７７０ 第２の環状凹溝
１７８０ 第１の環状台
１７８２ 第１の部分
１７８４ 第２の部分
１７９０ 第５の環状凹溝
１８００ 軸受
１９００ 第２の基質ノズル
１１３６１ 第１の孔
１１３６２ 第２の孔
１１３６３ 第１の環状凹溝

Claims (20)

  1. 暗室、第１の基質ノズル、光電子増倍管検出組立体、廃液吸引針組立体、キュベット回転トレイ及び複数のキュベット処理ステーションを含み、前記キュベット回転トレイが測定室内に自転可能に設置されたマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室であって、
    前記複数のキュベット処理ステーションの間は互いに遮光密封されることを特徴とするマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室。
  2. 底板、内部シェル、外部シェル及び上部カバーをさらに含み、前記底板、外部シェル及び上部カバーにより収容空間が囲まれ、前記キュベット回転トレイ及び前記内部シェルが前記収容空間内に設置され、前記キュベット回転トレイが前記キュベット回転トレイの径方向に沿って前記内部シェルと前記外部シェルとの間に設置され、前記キュベット回転トレイが前記キュベット回転トレイの軸方向に沿って前記上部カバーと前記底板との間に位置し、前記底板、前記外部シェル、前記内部シェル、前記キュベット回転トレイ及び前記上部カバーが前記暗室を構成することを特徴とする請求項１に記載の測定室。
  3. 上部カバーをさらに含み、前記キュベット回転トレイは上板及び周壁を含み、前記上部カバーが前記上板の上方に位置し、前記上板は対向して設置された第１の表面及び第２の表面を含み、前記周壁が前記第１の表面に位置し、前記周壁が前記キュベット回転トレイの中心軸線を取り囲んで前記キュベット回転トレイのキャビティを形成し、前記第２の表面が前記上部カバーに向き、前記第２の表面が前記上部カバーと隙間嵌めし、前記第２の表面に複数の第１の遮光組立体収容溝が開設され、各前記第１の遮光組立体収容溝内に遮光組立体が設置され、前記遮光組立体が前記第１の遮光組立体収容溝と前記上部カバーとの間に弾性的に挟んで設置されていることを特徴とする請求項１に記載の測定室。
  4. 前記キュベット回転トレイは複数のキュベット収納領域を含み、前記上部カバーのカバープレートに複数の第２の遮光組立体収容溝が開設され、前記複数の第２の遮光組立体収容溝が複数の前記第１の遮光組立体収容溝と一対一に対応し、前記キュベット収納領域が対応する前記キュベット処理ステーションに回転すると、前記第２の遮光組立体収容溝と前記第１の遮光組立体収容溝は一対一に対応して前記遮光組立体を収納する空間を形成することを特徴とする請求項３に記載の測定室。
  5. 複数の前記第２の遮光組立体収容溝、複数の前記第１の遮光組立体収容溝、複数の前記キュベット収納領域及び複数の前記キュベット処理ステーションが一対一に対応し、前記遮光組立体は弾性部材及び遮光プレートを含み、前記弾性部材が前記第１の遮光組立体収容溝内に収容され、前記キュベット回転トレイが回転すると、前記弾性部材は前記遮光プレートを前記上部カバーの底板又は前記第２の遮光組立体収容溝内に当接させることを特徴とする請求項４に記載の測定室。
  6. 前記上部カバーのカバープレートの底面中央に第１のブラインドホールが開設され、前記第１のブラインドホールの底面中央に順に第１の円柱台及び第２の円柱台が下向きに突出して形成され、前記第１の円柱台の直径が前記第２の円柱台の直径よりも大きく、前記第１の円柱台と前記第２の円柱台との接続部に位置制限段差が形成され、前記キュベット回転トレイの前記上板の前記第２の表面の中央に段差孔が開設され、前記段差孔は大きな孔及び小さな孔を含み、前記大きな孔が前記小さな孔の上方に位置し、前記大きな孔と前記小さな孔との接続部に段差面が形成され、前記大きな孔内に軸受が設置され、前記第２の円柱台が前記軸受内に嵌着され、前記軸受が軸方向に沿って前記位置制限段差と前記段差面との間に位置制限されることを特徴とする請求項３に記載の測定室。
  7. 前記キュベット回転トレイの前記上板の前記第２の表面は前記大きな孔の周縁で突出して第２の環状台が形成され、前記第２の環状台が前記第１のブラインドホール内に嵌着されることを特徴とする請求項６に記載の測定室。
  8. 前記外部シェルの上部と前記キュベット回転トレイとの接続部に第１のラビリンス構造が形成され、前記第１のラビリンス構造は第１の環状ボス及び第１の環状凹溝を含み、前記外部シェルに前記第１の環状ボス及び前記第１の環状凹溝の一方が形成され、前記キュベット回転トレイに前記第１の環状ボス及び前記第１の環状凹溝の他方が形成されることを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  9. 前記外部シェルは円筒形を呈し、前記キュベット回転トレイの上板に径方向に沿って外向きに前記第１の環状ボスが突出して形成され、前記外部シェルのキャビティが段差孔であり、前記外部シェルの段差孔は第１の孔及び第２の孔を含み、前記第１の孔と前記第２の孔との接合部に第１の環状凹溝が形成され、前記第１の環状ボスが前記第１の環状凹溝内に嵌め込まれて相対的にスライドすることができることを特徴とする請求項８に記載の測定室。
  10. 前記内部シェルの上部と前記キュベット回転トレイとの接続部に第２のラビリンス構造が形成され、前記第２のラビリンス構造は第２の環状ボス及び第２の環状凹溝を含み、前記キュベット回転トレイに前記第２の環状ボス及び前記第２の環状凹溝の一方が形成され、前記内部シェルの上部に前記第２の環状ボス及び前記第２の環状凹溝の他方が形成されることを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  11. 前記キュベット回転トレイは円板状の上板及び周壁を含み、前記上板は対向して設置された第１の表面及び第２の表面を含み、前記周壁が前記上板の外縁を鉛直下向きに延伸させて形成され、前記周壁が前記キュベット回転トレイの中心軸線を取り囲んで前記キュベット回転トレイのキャビティを形成し、前記内部シェルが前記キュベット回転トレイの前記キャビティ内に位置し、前記内部シェルが軸方向に沿って前記キュベット回転トレイの前記上板の前記第１の表面と前記底板との間に位置し、前記第２の環状ボスが前記内部シェルの前記キュベット回転トレイに接近した端に位置し、前記キュベット回転トレイの上板の前記第１の表面に第１の環状台が突出して形成され、前記第１の環状台に周方向に沿って前記第２の環状凹溝が開設して形成され、前記第２の環状ボスが前記第２の環状凹溝に嵌め込まれて相対的にスライドすることができることを特徴とする請求項１０に記載の測定室。
  12. 前記上部カバーは前記外部シェルに固定され、前記外部シェルの上部と前記上部カバーとの接続部に第３のラビリンス構造が形成され、前記第３のラビリンス構造は第３の環状ボス及び第３の環状凹溝を含み、前記上部カバーに前記第３の環状ボス及び前記第３の環状凹溝の一方が形成され、前記外部シェルに前記第３の環状ボス及び前記第３の環状凹溝の他方が形成されることを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  13. 前記外部シェルは円筒状を呈し、前記上部カバーは円形のカバープレート及び第３の環状ボスを含み、前記カバープレートの外縁が突出して前記第３の環状ボスが形成され、前記第３の環状凹溝が前記外部シェルの前記上部カバーに接近した端に位置し、前記第３の環状ボスが前記第３の環状凹溝に嵌合して当接することを特徴とする請求項１２に記載の測定室。
  14. 前記外部シェルは円筒状を呈し、前記底板と前記外部シェルとの接続部に第４のラビリンス構造が形成され、前記第４のラビリンス構造は第４の環状ボス及び第４の環状凹溝を含み、前記底板に前記第４の環状ボス及び前記第４の環状凹溝の一方が形成され、前記外部シェルに前記第４の環状ボス及び前記第４の環状凹溝の他方が形成され、前記底板の外縁が突出して前記第４の環状ボスが形成され、前記第４の環状凹溝が前記外部シェルの前記底板に接近した端に位置し、前記第４の環状ボスが前記第４の環状凹溝に嵌合して当接することを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  15. 前記底板と前記キュベット回転トレイとの接続部に第５のラビリンス構造が形成され、前記第５のラビリンス構造は第５の環状ボス及び第５の環状凹溝を含み、前記底板に前記第５の環状ボス及び前記第５の環状凹溝の一方が形成され、前記キュベット回転トレイに前記第５の環状ボス及び前記第５の環状凹溝の他方が形成され、前記第５の環状ボスが前記底板に位置し、前記底板の外縁が突出して前記第４の環状ボスが形成され、前記第５の環状ボスの内径が前記第４の環状ボスよりも小さく、前記第５の環状ボスと前記第４の環状ボスの中心軸線が同じであり、前記第５の環状凹溝が前記キュベット回転トレイの前記底板に接近した端に位置し、前記第５の環状ボスが前記第５の環状凹溝に嵌め込まれて相対的にスライドすることができることを特徴とする請求項１４に記載の測定室。
  16. 駆動機構をさらに含み、前記外部シェル、前記内部シェル及び前記底板が一体成形され、前記底板に第１の貫通孔が開設され、前記内部シェルが前記第１の貫通孔を取り囲み、前記外部シェルが前記内部シェルを取り囲み、前記外部シェルと前記内部シェルが離間して設置され、前記駆動機構は前記第１の貫通孔を貫通して前記キュベット回転トレイに接続されて前記キュベット回転トレイを自転させるように駆動することを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  17. 前記上部カバーが前記外部シェルに固定され、前記外部シェルの上部と前記キュベット回転トレイとの接続部に第１のラビリンス構造が形成され、及び／又は前記内部シェルの上部と前記キュベット回転トレイとの接続部に第２のラビリンス構造が形成されることを特徴とする請求項１６に記載の測定室。
  18. 駆動機構をさらに含み、前記底板に第１の貫通孔が開設され、前記底板に前記第１の貫通孔の径方向に沿って第４の環状ボス及び第５の環状ボスが内向きに順に形成され、前記第４の環状ボスが前記底板の外縁を上向きに延伸させて形成され、前記第５の環状ボス、第４の環状ボス及び前記第１の貫通孔の中心軸線が同じであり、前記第５の環状ボスの内径が前記第４の環状ボスよりも小さく、前記第４の環状ボスと前記第５の環状ボスとの間に第１の収容溝が形成され、前記第５の環状ボスと前記第１の貫通孔との間に第２の収容溝が形成され、前記外部シェル及び前記キュベット回転トレイの底部が前記第１の収容溝に位置し、前記内部シェルの底部が前記第２の収容溝に位置し、前記駆動機構は前記第１の貫通孔を貫通して前記キュベット回転トレイに接続されて前記キュベット回転トレイを自転させるように駆動することを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  19. 前記外部シェル、前記内部シェルが前記底板に固定され、前記上部カバーが前記外部シェルに固定され、前記底板と前記外部シェルとの接続部に第１のラビリンス構造が形成され、前記底板と前記キュベット回転トレイとの接続部に第２のラビリンス構造が形成され、前記外部シェルと前記上部カバーとの接続部に第３のラビリンス構造が形成され、前記外部シェルと前記キュベット回転トレイとの接続部に第４のラビリンス構造が形成され、前記内部シェルと前記キュベット回転トレイとの接続部に第５のラビリンス構造が形成されることを特徴とする請求項２に記載の測定室。
  20. キュベットを測定室に対して取り入れるか又は取り出す第１のキュベット処理ステーションと、
    第１の基質ノズルを設置して前記キュベットに励起基質Iを添加する第２のキュベット処理ステーションと、
    光電子増倍管検出組立体を設置する第３のキュベット処理ステーションと、
    廃液吸引針組立体を設置して前記キュベットの廃液を吸引する第４のキュベット処理ステーションとを含むマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室であって、
    前記第３のキュベット処理ステーションと、それに隣接した第２のキュベット処理ステーション、第４のキュベット処理ステーションとの間は、互いに遮光密封されることを特徴とするマルチキュベット処理ステーション並列処理測定室。
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